JP5233232B2 - Transfer foil, transferred material and method for producing the same - Google Patents

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Description

本発明は、転写材層を基材から物品上へと転写する転写技術に関する。   The present invention relates to a transfer technique for transferring a transfer material layer from a base material onto an article.

キャッシュカード、クレジットカード及びパスポートなどの認証媒体並びに商品券及び株券などの有価証券媒体には、偽造が困難であることが望まれる。そのため、従来から、そのような媒体には、その偽造を抑止すべく、偽造が困難なラベルが貼り付けられている。   It is desired that counterfeiting is difficult for authentication media such as cash cards, credit cards and passports, and securities media such as gift certificates and stock certificates. Therefore, conventionally, a label that is difficult to forge is attached to such a medium in order to prevent the forgery.

また、近年では、認証媒体及び有価証券媒体以外の物品についても、偽造品の流通が問題視されている。そのため、このような物品に、認証媒体及び有価証券媒体に関して上述した偽造防止技術を適用する機会が増えている。   In recent years, the distribution of counterfeit products has been regarded as a problem for articles other than authentication media and securities media. Therefore, the opportunity to apply the above-described anti-counterfeiting technology for authentication media and securities media to such articles is increasing.

偽造防止技術は、オバート技術とコバート技術とに分類することができる。
オバート技術は、一般のユーザが物品への適用を容易に認めることができ且つ容易に真偽判定をすることができる偽造防止技術である。代表的なオバート技術では、ホログラムなどの回折構造又はOptically Variable Ink(OVI)などの多層干渉膜を利用する。
The forgery prevention technology can be classified into an overt technology and a covert technology.
The overt technique is an anti-counterfeiting technique that allows a general user to easily recognize application to an article and easily determine whether it is authentic. In a typical overt technique, a diffractive structure such as a hologram or a multilayer interference film such as Optically Variable Ink (OVI) is used.

コバート技術は、物品への適用が一般のユーザに分かり難く、物品へのコバート技術の適用を知っている特定のユーザのみが真偽判定できることを狙った偽造防止技術である。代表的なコバート技術では、蛍光印刷又は万線モアレを利用する。   The covert technique is an anti-counterfeiting technique aimed at making it possible for only a specific user who knows the application of the covert technique to an article to make an authenticity determination because it is difficult for a general user to apply to the article. Typical covert techniques use fluorescent printing or line moire.

特許文献1には、他のコバート技術が記載されている。このコバート技術では、反射層と配向膜と高分子液晶材料からなる複屈折性層とを含んだ表示体を使用する。複屈折性層は、遅相軸の方向が異なる2つの部分を含んでいる。これら2つの部分は、肉眼で互いから識別することは不可能又は困難であり、偏光フィルムを介して観察することにより互いから容易に区別できるようになる。即ち、これら2つの部分は、偏光フィルムを介して観察することにより可視化する潜像を形成している。   Patent Document 1 describes another covert technique. In this covert technique, a display body including a reflective layer, an alignment film, and a birefringent layer made of a polymer liquid crystal material is used. The birefringent layer includes two portions having different slow axis directions. These two parts are impossible or difficult to distinguish from each other with the naked eye, and can be easily distinguished from each other by observing through a polarizing film. That is, these two portions form a latent image that is visualized by observing through a polarizing film.

ところで、この表示体は、例えば、粘着ラベル又は転写箔の形態で利用する。表示体は、転写箔の形態で利用した場合、粘着ラベルの形態で利用した場合と比較してより薄くすることができる。表示体を薄くすると、物品に貼り付けられた表示体を剥離する際に、その破壊を容易に生じさせることができる。即ち、表示体の再使用を不可能とすることができる。従って、上記の表示体は、特に偽造防止の目的で利用する場合は、転写箔の形態とすることが多い。   By the way, this display body is utilized in the form of, for example, an adhesive label or a transfer foil. When used in the form of a transfer foil, the display can be made thinner than when used in the form of an adhesive label. If the display body is thinned, the display body attached to the article can be easily broken when it is peeled off. That is, it is possible to make it impossible to reuse the display body. Therefore, the display body is often in the form of a transfer foil, particularly when used for the purpose of preventing forgery.

しかしながら、高分子液晶材料は高強度である。そのため、転写箔の転写材層を基材から物品上へと部分的に転写させる場合、基材を物品から剥離する際に、転写材層が熱及び圧力印加部と非印加部との境界で容易に破断せず、基材の剥離に大きな力が必要となる。また、高分子液晶材料を含んだ転写材層は、基材から物品上へと転写させた場合に、バリや欠けなどの不良を生じ易い。
特開平8−43804号公報
However, the polymer liquid crystal material has high strength. Therefore, when the transfer material layer of the transfer foil is partially transferred from the substrate onto the article, the transfer material layer is at the boundary between the heat and pressure application part and the non-application part when the substrate is peeled from the article. It does not break easily and requires a large force to peel off the substrate. In addition, a transfer material layer containing a polymer liquid crystal material is liable to cause defects such as burrs and chips when transferred from a substrate onto an article.
JP-A-8-43804

本発明の目的は、高分子液晶材料を含んだ転写材層を基材から物品上へと部分的に転写させる場合に、より小さな力で基材を剥離可能とするか又はバリや欠けなどの不良を生じ難くする技術を提供することにある。   It is an object of the present invention to enable a substrate to be peeled off with a smaller force when a transfer material layer containing a polymer liquid crystal material is partially transferred from a substrate to an article, The object is to provide a technique that makes it difficult to cause defects.

本発明の第1側面によると、基材と、前記基材と向き合い且つ高分子液晶材料を含有した複屈折性層を備え、前記基材に剥離可能に支持された転写材層と、前記転写材層を被覆した接着層とを具備し、前記転写材層は、前記複屈折性層に潜像が記録されており、前記基材から被転写体へと転写される表示領域と、前記表示領域を縁取っており、前記表示領域の転写の際にその輪郭に沿った破断を生じる縁取り領域とを含み、前記縁取り領域のうち、前記表示領域を転写する際に破断の起点となる破断開始部において、前記高分子液晶材料のメソゲン基は前記表示領域の剥離方向と交差する方向に配向していることを特徴とする転写箔が提供される。 According to the first aspect of the present invention, a transfer material layer comprising a base material, a birefringent layer facing the base material and containing a polymer liquid crystal material, and releasably supported by the base material, and the transfer An adhesive layer coated with a material layer, wherein the transfer material layer has a display area in which a latent image is recorded on the birefringent layer and is transferred from the substrate to the transfer target, and the display A rupture start which is a starting point of rupture when transferring the display area out of the edging area. The transfer foil is characterized in that the mesogenic group of the polymer liquid crystal material is oriented in a direction crossing the peeling direction of the display region.

本発明の第2側面によると、基材と、前記基材と向き合い且つ高分子液晶材料を含有した複屈折性層を備え、前記基材に剥離可能に支持された転写材層と、前記転写材層を被覆した接着層とを具備し、前記転写材層は、前記複屈折性層に潜像が記録されている表示領域と、前記表示領域を縁取っている縁取り領域とを含み、前記縁取り領域内において前記高分子液晶材料のメソゲン基は前記表示領域の全周に亘り前記表示領域の輪郭に沿って配向していることを特徴とする転写箔が提供される。 According to a second aspect of the present invention, a transfer material layer comprising a base material, a birefringent layer facing the base material and containing a polymer liquid crystal material, and releasably supported by the base material, and the transfer An adhesive layer covering the material layer, and the transfer material layer includes a display area in which a latent image is recorded in the birefringent layer, and a border area bordering the display area, A transfer foil is provided in which the mesogenic groups of the polymer liquid crystal material are aligned along the outline of the display region over the entire periphery of the display region in the border region .

本発明の第3側面によると、被転写体としての物品と、第1側面に係る転写箔を用いた転写によって前記物品上に貼り付けられ、前記表示領域と前記縁取り領域の一部とを含んだ表示体とを具備したことを特徴とする転写物が提供される。   According to a third aspect of the present invention, an article as a transfer object, and affixed on the article by transfer using the transfer foil according to the first side, including the display area and a part of the border area. There is provided a transcript comprising the display body.

本発明の第4側面によると、表示体と、これを支持している物品とを具備し、前記表示体は、高分子液晶材料を含有した複屈折性層を備えると共に、前記複屈折性層に潜像が記録されている表示領域と、前記表示領域を縁取っている縁取り領域とを含み、前記縁取り領域内において前記高分子液晶材料のメソゲン基は前記表示領域の全周に亘り前記表示領域の輪郭に沿って配向していることを特徴とする転写物が提供される。 According to a fourth aspect of the present invention, a display body and an article supporting the display body are provided, and the display body includes a birefringent layer containing a polymer liquid crystal material and the birefringent layer. a display area where a latent image is recorded on, the display includes a border area that bordering regions, mesogenic groups of the polymer liquid crystal material at said edging region is the display over the entire periphery of the display region A transcript is provided that is oriented along the contour of the region .

本発明の第5側面によると、転写箔を用いた転写によって転写物を製造する方法であって、前記転写箔は、基材と、前記基材と向き合い且つ高分子液晶材料を含有した複屈折性層を備え、前記基材に剥離可能に支持された転写材層と、前記転写材層を被覆した接着層とを具備し、前記転写材層は、可視像及び/又は潜像が記録されている表示領域と、前記表示領域を縁取っている縁取り領域とを含み、前記転写は、前記表示領域が前記接着層を間に挟んで前記被転写体と向き合うように前記転写箔と前記被転写体とを配置し、前記表示領域と前記縁取り領域のうち前記表示領域に隣接した部分とに前記基材側から熱及び圧力を印加してそれらを前記被転写体に接着させ、次いで、前記転写箔と前記被転写体とを互いから引き離すことにより前記縁取り領域において前記表示領域の輪郭に沿った破断を生じさせると共に前記表示領域を前記基材から剥離させることを含み、前記縁取り領域のうち前記破断の起点となる破断開始部及び/又は前記破断の終点となる破断終了部において、前記高分子液晶材料のメソゲン基の配向方向が前記表示領域の剥離方向と交差するように前記転写箔と前記被転写体とを互いから引き離すことを特徴とする転写物の製造方法が提供される。   According to a fifth aspect of the present invention, there is provided a method of producing a transfer product by transfer using a transfer foil, wherein the transfer foil is a birefringence containing a base material, the base material facing the base material, and containing a polymer liquid crystal material A transfer material layer that is releasably supported on the base material, and an adhesive layer that covers the transfer material layer. The transfer material layer records a visible image and / or a latent image. The transfer foil and the transfer foil so that the display area faces the transfer target body with the adhesive layer interposed therebetween. Placing the transfer object, applying heat and pressure from the base material side to the display area and the portion of the border area adjacent to the display area to adhere them to the transfer object; By separating the transfer foil and the transfer object from each other, A break along the outline of the display area in the edging area, and peeling the display area from the substrate, wherein the rupture start portion and / or the rupture starting point of the rupture in the edging area is included. The transfer foil and the transfer target are separated from each other so that the orientation direction of the mesogenic group of the polymer liquid crystal material intersects with the peeling direction of the display region at the end of the break which is the end point A method of manufacturing an article is provided.

本発明によると、高分子液晶材料を含んだ転写材層を基材から物品上へと部分的に転写させる場合に、より小さな力で基材を剥離すること又はバリや欠けなどの不良を生じ難くすることが可能となる。   According to the present invention, when a transfer material layer containing a polymer liquid crystal material is partially transferred from a base material onto an article, the base material is peeled off with a smaller force, or defects such as burrs and chips occur. It becomes possible to make it difficult.

以下、本発明の態様について、図面を参照しながら詳細に説明する。なお、全ての図面を通じて同様又は類似した機能を発揮する構成要素には同一の参照符号を付し、重複する説明は省略する。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. In addition, the same referential mark is attached | subjected to the component which exhibits the same or similar function through all the drawings, and the overlapping description is abbreviate | omitted.

図1は、本発明の一態様に係る転写箔を概略的に示す平面図である。図2は、図1に示す転写箔の一部を拡大して示す平面図である。図3は、図2に示す転写箔のIII−III線に沿った断面図である。図4は、図2に示す転写箔が含んでいる高分子液晶材料のメソゲン基の配向状態を概略的に示す平面図である。   FIG. 1 is a plan view schematically showing a transfer foil according to one embodiment of the present invention. FIG. 2 is an enlarged plan view showing a part of the transfer foil shown in FIG. FIG. 3 is a cross-sectional view taken along line III-III of the transfer foil shown in FIG. FIG. 4 is a plan view schematically showing the alignment state of mesogenic groups of the polymer liquid crystal material included in the transfer foil shown in FIG.

なお、図4では、後述する反射層を省略している。また、図4において、矢印は、後述するメソゲン基の配向方向を示している。   In FIG. 4, a reflective layer described later is omitted. Moreover, in FIG. 4, the arrow has shown the orientation direction of the mesogenic group mentioned later.

図1乃至図4に示す転写箔10は、長さ方向がX方向に平行であり、幅方向がX方向と直交するY方向に平行であり、厚さ方向がX方向及びY方向と直交するZ方向に平行な帯形状を有している。ここでは、一例として、後述する剥離方向は、X方向に平行であるとしている。   The transfer foil 10 shown in FIGS. 1 to 4 has a length direction parallel to the X direction, a width direction parallel to the Y direction orthogonal to the X direction, and a thickness direction orthogonal to the X direction and the Y direction. It has a strip shape parallel to the Z direction. Here, as an example, the peeling direction described later is assumed to be parallel to the X direction.

この転写箔10は、図3に示すように、基材110と転写材層120と接着層130とを含んでいる。   As shown in FIG. 3, the transfer foil 10 includes a base material 110, a transfer material layer 120, and an adhesive layer 130.

基材110は、例えば、樹脂からなるフィルム又はシートである。基材110は、単層構造を有していてもよく、多層構造を有していてもよい。基材110の材料としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエチレンナフタレート、ポリプロピレン、ポリエーテルサルフォン又はポリイミドを使用することができる。   The base material 110 is, for example, a film or sheet made of resin. The substrate 110 may have a single layer structure or a multilayer structure. As a material of the substrate 110, for example, polyethylene terephthalate (PET), polyethylene naphthalate, polypropylene, polyethersulfone, or polyimide can be used.

基材110に多層構造を採用する場合、基材110は、転写材層120側の最表面層として、剥離抵抗の調節に利用可能な離型層を含んでいてもよい。離型層の材料としては、例えば、メラミン若しくはイソシアネートを硬化剤として用いた熱硬化性樹脂又はアクリレート若しくはエポキシ樹脂を含んだ紫外線又は電子線硬化樹脂に、離型剤としてフッ素系又はシリコン系のモノマー又はポリマーを添加してなるものを使用することができる。   When employing a multilayer structure for the substrate 110, the substrate 110 may include a release layer that can be used for adjusting the peeling resistance as the outermost surface layer on the transfer material layer 120 side. As a material for the release layer, for example, a thermosetting resin using melamine or isocyanate as a curing agent, an ultraviolet ray or an electron beam curable resin containing an acrylate or an epoxy resin, and a fluorine-based or silicon-based monomer as a release agent Or what added a polymer can be used.

基材110上には、転写材層120が形成されている。転写剤層120は、剥離保護層1201と複屈折性層1202と回折構造形成層1203と反射層1204とマスク層1205とを含んでいる。剥離保護層1201、回折構造形成層1203、反射層1204及びマスク層1205の各々は、省略することができる。   A transfer material layer 120 is formed on the substrate 110. The transfer agent layer 120 includes a peeling protective layer 1201, a birefringent layer 1202, a diffraction structure forming layer 1203, a reflective layer 1204, and a mask layer 1205. Each of the peeling protective layer 1201, the diffraction structure forming layer 1203, the reflective layer 1204, and the mask layer 1205 can be omitted.

剥離保護層1201は、転写剤層120の基材110からの剥離を安定化すると共に、転写後に複屈折性層1202を保護する役割を果たす。剥離保護層1201の材料としては、例えば、アクリル樹脂、スチレン樹脂、硝化綿及び酢酸セルロースなどの熱可塑性樹脂、紫外線硬化型アクリル樹脂及び焼付け型メラミン樹脂などの硬化性樹脂を使用することができる。剥離保護層1201は、例えば、グラビアコータ、マイクログラビアコータ又はロールコータなどのコータを用いて基材110上に形成することができる。   The peeling protective layer 1201 plays a role of stabilizing the peeling of the transfer agent layer 120 from the substrate 110 and protecting the birefringent layer 1202 after transfer. As a material for the peeling protection layer 1201, for example, a thermoplastic resin such as acrylic resin, styrene resin, nitrified cotton, and cellulose acetate, a curable resin such as an ultraviolet curable acrylic resin, and a baked melamine resin can be used. The peeling protective layer 1201 can be formed on the substrate 110 using a coater such as a gravure coater, a micro gravure coater, or a roll coater.

剥離保護層1201には、例えば、ポリエチレンワックス及びステアリン酸亜鉛などの滑剤を添加してもよい。こうすると、剥離保護層1201の耐摩耗性が向上する。   For example, a lubricant such as polyethylene wax and zinc stearate may be added to the peeling protective layer 1201. This improves the wear resistance of the peel protection layer 1201.

複屈折性層1202は、高分子液晶材料を含有している。複屈折性層1202は、複屈折性を有している複数の領域を含んでいる。各領域は、例えば、位相差層としての役割を果たす。これら領域の一部と他の一部とは、屈折率異方性及び/又は遅相軸の向きが互いに異なっており、典型的には、肉眼で観察した場合には互いからの識別が不可能又は困難な潜像を形成している。   The birefringent layer 1202 contains a polymer liquid crystal material. The birefringent layer 1202 includes a plurality of regions having birefringence. Each region serves as a retardation layer, for example. Some of these regions and others are different in refractive index anisotropy and / or slow axis direction, and are typically indistinguishable from each other when observed with the naked eye. A possible or difficult latent image is formed.

複屈折性層1202は、例えば、以下の方法により形成する。
まず、複屈折性層1201の下地として利用する層に、光配向処理又はラビング処理などの配向処理を施す。これにより、下地表面に、メソゲン基を異なる方向に配向させる複数の領域を形成する。
The birefringent layer 1202 is formed by the following method, for example.
First, an alignment process such as a photo-alignment process or a rubbing process is performed on the layer used as the base of the birefringent layer 1201. Thereby, a plurality of regions for orienting mesogenic groups in different directions are formed on the underlying surface.

光配向処理は、複屈折性層1201の下地に、偏光を照射するか又は非偏光を斜めに照射して、下地内の分子の再配列又は異方的な化学反応を誘起する配向処理である。即ち、光配向処理によると、光学的手法によって下地に異方性が与えられ、メソゲン基の配向方向は、この異方性によって制御される。   The photo-alignment process is an alignment process in which the base of the birefringent layer 1201 is irradiated with polarized light or non-polarized light obliquely to induce rearrangement of molecules in the base or an anisotropic chemical reaction. . That is, according to the photo-alignment treatment, anisotropy is given to the base by an optical method, and the orientation direction of the mesogenic group is controlled by this anisotropy.

光配向処理には、アゾベンゼン誘導体の光異性化反応、桂皮酸エステル、クマリン、カルコン及びベンゾフェノンなどの光二量化若しくは架橋反応、又はポリイミドなどの光分解反応を利用することができる。即ち、光配向処理を行う場合、典型的には、まず、これらの反応を生じる材料からなる配向膜を下地として形成する。この配向膜は、例えば、グラビアコーティング法及びマイクログラビアコーティング法などのコーティング法を用いて形成することができる。   For photo-alignment treatment, photoisomerization reaction of azobenzene derivatives, photodimerization or crosslinking reaction of cinnamate ester, coumarin, chalcone and benzophenone, or photodecomposition reaction of polyimide or the like can be used. That is, when performing photo-alignment treatment, typically, an alignment film made of a material that causes these reactions is first formed as a base. This alignment film can be formed using, for example, a coating method such as a gravure coating method and a micro gravure coating method.

次に、この配向膜に、フォトマスクを介して第1偏光を照射する第1露光を行い、次いで、他のフォトマスクを介して第1偏光とは偏光面が異なる第2偏光を照射する第2露光を行う。或いは、この配向膜に、フォトマスクを介して第1斜め方向から非偏光を照射する第1露光を行い、次いで、他のフォトマスクを介して第1斜め方向とは被照射面への正射影の向きが異なる第2斜め方向から非偏光を照射する第2露光を行う。こうすると、複屈折性層1201のうち、第1露光を行った部分に隣接した領域と、第2露光を行った部分に隣接した領域とで、メソゲン基を異なる方向に配向させることができる。   Next, the alignment film is subjected to first exposure for irradiating the first polarized light through the photomask, and then the second polarized light having a polarization plane different from that of the first polarized light is irradiated through the other photomask. Two exposures are performed. Alternatively, the alignment film is subjected to a first exposure in which non-polarized light is irradiated from a first oblique direction through a photomask, and then the first oblique direction is orthogonally projected onto the irradiated surface through another photomask. Second exposure is performed to irradiate non-polarized light from a second oblique direction with different directions. In this way, in the birefringent layer 1201, the mesogenic groups can be oriented in different directions in the region adjacent to the portion subjected to the first exposure and the region adjacent to the portion subjected to the second exposure.

メソゲン基を異なる方向に配向させる複数の部分を形成する場合、又は、メソゲン基の配向方向を連続的に変化させる場合、旋光子を利用することができる。例えば、旋光子に直線偏光を入射させた場合、入射光の偏光面と旋光子が射出する直線偏光の偏光面とが為す角度は、旋光子の厚さに応じて変化する。例えば、水晶Z板は、21.7°/mmの旋光能を有している。従って、例えば、厚さが異なる複数の部分を含んだ水晶Z板を介して直線偏光を照射すると、メソゲン基を異なる方向に配向させる複数の部分を形成することができる。また、厚さが連続的に変化している部分を含んだ水晶Z板を介して直線偏光を照射すると、メソゲン基の配向方向を連続的に変化させることができる。   An optical rotator can be used when forming a plurality of portions in which mesogenic groups are oriented in different directions, or when changing the orientation direction of mesogenic groups continuously. For example, when linearly polarized light is incident on the optical rotator, the angle formed by the plane of polarization of the incident light and the plane of linearly polarized light emitted from the optical rotator changes according to the thickness of the optical rotator. For example, the quartz Z plate has an optical rotation ability of 21.7 ° / mm. Therefore, for example, when linearly polarized light is irradiated through a quartz crystal Z plate including a plurality of portions having different thicknesses, a plurality of portions for aligning mesogenic groups in different directions can be formed. Further, when linearly polarized light is irradiated through a quartz crystal Z plate including a portion where the thickness is continuously changed, the orientation direction of the mesogenic group can be continuously changed.

ラビング処理は、下地である樹脂層の表面をラビング布で擦る配向処理である。ラビング処理を行うと、樹脂層の表面の性質が変化する。これにより、メソゲン基の配向方向は、ラビング方向とほぼ等しい方向に制御される。   The rubbing process is an alignment process in which the surface of the resin layer as a base is rubbed with a rubbing cloth. When the rubbing treatment is performed, the properties of the surface of the resin layer change. As a result, the orientation direction of the mesogenic group is controlled to be approximately equal to the rubbing direction.

ラビング処理を行う場合、まず、例えば、樹脂からなる配向膜を下地として形成する。この樹脂としては、例えば、ポリイミド又はポリビニルアルコールを使用することができる。また、この配向膜は、例えば、グラビアコーティング法及びマイクログラビアコーティング法などのコーティング法を用いて形成することができる。   When performing the rubbing process, first, for example, an alignment film made of a resin is formed as a base. As this resin, for example, polyimide or polyvinyl alcohol can be used. Moreover, this alignment film can be formed using coating methods, such as a gravure coating method and a micro gravure coating method, for example.

次に、この配向膜の全面をラビング布で一方向に擦る。続いて、配向膜をマスクで覆い、これをラビング布で別の方向に擦る。これにより、複屈折性層1201のうち、マスクで覆った部分に隣接した領域と、マスクの開口に対応した領域とで、メソゲン基を異なる方向に配向させることができる。なお、マスクの開口の輪郭が曲線を含んでいる場合、この曲線に沿ってラビング処理を行えば、メソゲン基の配向方向を先の曲線に沿って連続的に変化させることができる。   Next, the entire surface of the alignment film is rubbed in one direction with a rubbing cloth. Subsequently, the alignment film is covered with a mask, and this is rubbed in another direction with a rubbing cloth. Thereby, in the birefringent layer 1201, mesogenic groups can be oriented in different directions in a region adjacent to the portion covered with the mask and a region corresponding to the opening of the mask. In addition, when the outline of the opening of the mask includes a curve, if the rubbing process is performed along this curve, the orientation direction of the mesogen group can be continuously changed along the previous curve.

配向膜は、光学的に等方性であってもよく、光学的に異方性であってもよい。後者の場合、配向膜を複屈折性層1201の一部として利用することができる。また、剥離保護層1201を省略する場合、基材110の最表面層を配向膜として利用することができる。   The alignment film may be optically isotropic or optically anisotropic. In the latter case, the alignment film can be used as a part of the birefringent layer 1201. When the peeling protective layer 1201 is omitted, the outermost surface layer of the substrate 110 can be used as an alignment film.

上述した配向処理を終えた後、配向膜上に、複屈折性層1202の材料として、例えば、メソゲン基の両端にアクリレートを有する光硬化型液晶モノマーを塗布する。複屈折性層1202の材料としては、電子線又は紫外線を照射することにより硬化するものを使用する。硬化後の材料は、主鎖にメソゲン基を含んだ主鎖型の高分子液晶材料であってもよく、側鎖にメソゲン基を含んだ側鎖型の高分子液晶材料であってもよい。   After finishing the alignment treatment described above, for example, a photocurable liquid crystal monomer having acrylates at both ends of the mesogenic group is applied onto the alignment film as the material of the birefringent layer 1202. As a material for the birefringent layer 1202, a material that is cured by irradiation with an electron beam or ultraviolet rays is used. The cured material may be a main chain type polymer liquid crystal material containing a mesogen group in the main chain, or a side chain type polymer liquid crystal material containing a mesogen group in a side chain.

次いで、必要に応じ、これを、ネマチック相から等方性液体への相転移温度よりも僅かに低い温度で熱処理する。こうすると、メソゲン基の配向を促進することができる。   Then, if necessary, this is heat-treated at a temperature slightly lower than the phase transition temperature from the nematic phase to the isotropic liquid. In this way, the orientation of the mesogenic group can be promoted.

その後、塗膜を硬化させる。以上のようにして、複屈折性層1202を得る。   Thereafter, the coating film is cured. As described above, the birefringent layer 1202 is obtained.

複屈折性層1202上には、回折構造形成層1203及び反射層1204がこの順に形成されている。回折構造形成層1203の一方の主面は、凸パターン又は凹パターンを含んでいる。回折構造形成層1203と反射層1204との界面であって凸パターン又は凹パターンに対応した領域は、回折構造としてホログラム又は回折格子を形成している。   On the birefringent layer 1202, a diffractive structure forming layer 1203 and a reflective layer 1204 are formed in this order. One main surface of the diffractive structure forming layer 1203 includes a convex pattern or a concave pattern. A region corresponding to the convex pattern or the concave pattern at the interface between the diffractive structure forming layer 1203 and the reflective layer 1204 forms a hologram or a diffraction grating as a diffractive structure.

ホログラムは、例えば、以下の方法により形成することができる。まず、光学的な撮影方法を利用して、微細な凸パターン又は凹パターンからなるレリーフ型のマスター版を作製する。次いで、電気メッキ法を利用して、マスター版から凹パターン又は凸パターンを複製したニッケル製のプレス版を作製する。その後、回折構造形成層1203に、プレス版を加熱しながら押し付ける。これにより、回折構造形成層1203に、凸パターン又は凹パターンを転写する。更に、回折構造形成層1203上に反射層1204を形成する。以上のようにして、ホログラムを形成することができる。   The hologram can be formed by the following method, for example. First, a relief master plate composed of a fine convex pattern or a concave pattern is produced by using an optical photographing method. Next, by using an electroplating method, a nickel press plate in which a concave pattern or a convex pattern is duplicated from the master plate is produced. Thereafter, the press plate is pressed against the diffractive structure forming layer 1203 while heating. Thereby, the convex pattern or the concave pattern is transferred to the diffractive structure forming layer 1203. Further, a reflective layer 1204 is formed on the diffractive structure forming layer 1203. As described above, a hologram can be formed.

ホログラムは、他の方法で形成することも可能である。即ち、まず、平坦な回折構造形成層1203上に、反射層1204を形成する。次に、反射層1204に、プレス版を加熱しながら押し付ける。これにより、反射層1204及び回折構造形成層1203に、凸パターン又は凹パターンを転写する。以上のようにして、ホログラムを形成することができる。
なお、このタイプのホログラムは、レリーフ型ホログラムと呼ぶ。
The hologram can be formed by other methods. That is, first, the reflective layer 1204 is formed on the flat diffractive structure forming layer 1203. Next, the press plate is pressed against the reflective layer 1204 while being heated. Thereby, the convex pattern or the concave pattern is transferred to the reflective layer 1204 and the diffractive structure forming layer 1203. As described above, a hologram can be formed.
This type of hologram is called a relief hologram.

回折格子は、光学的な撮影方法を利用しないこと以外はホログラムに関して説明したのと同様の方法により形成することができる。回折格子を形成する場合、各々が回折格子を含んだ複数の画素を配置することにより、グレーティングイメージ又はドットマトリクス(ピクセルグラム等)と呼ばれる画像を表示させてもよい。   The diffraction grating can be formed by a method similar to that described for the hologram, except that no optical imaging method is used. In the case of forming a diffraction grating, an image called a grating image or a dot matrix (pixelgram or the like) may be displayed by arranging a plurality of pixels each including a diffraction grating.

回折構造形成層1203の材料としては、例えば、熱可塑性樹脂又は光若しくは熱硬化性樹脂を使用することができる。   As a material of the diffractive structure forming layer 1203, for example, a thermoplastic resin or a light or thermosetting resin can be used.

回折構造形成層1203は、複屈折性層1202上に形成する代わりに、複屈折性層1202と剥離保護層1201との間に設置してもよい。この場合、典型的には、回折構造形成層1203と複屈折性層1202との間に、複屈折性層1202に平坦な下地を提供する平坦化層を設ける。平坦化層は、配向膜の下地であってもよく、配向膜自体であってもよい。   The diffractive structure forming layer 1203 may be provided between the birefringent layer 1202 and the peeling protection layer 1201 instead of being formed on the birefringent layer 1202. In this case, a planarization layer that provides a flat base for the birefringent layer 1202 is typically provided between the diffractive structure forming layer 1203 and the birefringent layer 1202. The planarization layer may be the base of the alignment film or the alignment film itself.

反射層1204は、例えば、金属層、合金層、又は高屈折率層である。金属層の材料としては、例えば、アルミニウム、錫、銀、クロム、ニッケル又は金を使用することができる。合金層の材料としては、例えば、ニッケル−クロム−鉄合金、青銅又はアルミ青銅を使用することができる。高屈折率層の材料としては、例えば、二酸化チタン、硫化亜鉛及び三酸化二鉄などの無機誘電体を使用することができる。反射層1204として、高屈折率層と低屈折率層とを交互に積層してなる誘電体多層膜を使用してもよい。   The reflective layer 1204 is, for example, a metal layer, an alloy layer, or a high refractive index layer. As a material for the metal layer, for example, aluminum, tin, silver, chromium, nickel, or gold can be used. As a material of the alloy layer, for example, a nickel-chromium-iron alloy, bronze, or aluminum bronze can be used. As a material for the high refractive index layer, for example, an inorganic dielectric such as titanium dioxide, zinc sulfide, and ferric trioxide can be used. As the reflective layer 1204, a dielectric multilayer film in which high refractive index layers and low refractive index layers are alternately stacked may be used.

反射層1204は、例えば、蒸着、スパッタリング、又はイオンプレーティングにより形成することができる。反射層1204の厚さは、例えば、約10nm乃至約100nmの範囲内とする。   The reflective layer 1204 can be formed by, for example, vapor deposition, sputtering, or ion plating. The thickness of the reflective layer 1204 is, for example, in the range of about 10 nm to about 100 nm.

反射層1204は、例えば、水洗シーライト加工、エッチング加工又はレーザ加工を利用することによりパターニングされた層として形成することができる。即ち、反射層1204は、回折構造形成層1203の全体を被覆していてもよく、或いは、回折構造形成層1203の一部のみを被覆していてもよい。   The reflective layer 1204 can be formed as a layer patterned by using, for example, water-washed celite processing, etching processing, or laser processing. That is, the reflective layer 1204 may cover the entire diffractive structure forming layer 1203, or may cover only a part of the diffractive structure forming layer 1203.

水洗シーライト加工を利用すると、以下の方法により、反射層1204をパターニングされた層として形成することができる。まず、反射層1204の成膜に先立って、例えば水洗インキを用いた印刷により、形成すべき反射層1204のネガパターンを回折構造形成層1203上に形成する。次に、回折構造形成層1203及びネガパターン上に、反射層1204の材料を堆積させる。その後、水洗インキを、その上に堆積させた材料と共に洗い流す。これにより、パターニングされた反射層1204を得る。   When water-washed celite processing is used, the reflective layer 1204 can be formed as a patterned layer by the following method. First, prior to the formation of the reflective layer 1204, a negative pattern of the reflective layer 1204 to be formed is formed on the diffraction structure forming layer 1203, for example, by printing using water washing ink. Next, the material of the reflective layer 1204 is deposited on the diffractive structure forming layer 1203 and the negative pattern. Thereafter, the water-washing ink is washed away with the material deposited thereon. As a result, a patterned reflective layer 1204 is obtained.

エッチング加工を利用すると、以下の方法により、反射層1204をパターニングされた層として形成することができる。まず、反射層1204を連続膜として成膜する。次に、反射層1204上に、例えばマスキング剤を用いた印刷により、形成すべき反射層1204のポジパターンを回折構造形成層1203上に形成する。次に、ポジパターンをマスクとして用いて、反射層1204をウェットエッチングする。これにより、パターニングされた反射層1204を得る。   When etching is used, the reflective layer 1204 can be formed as a patterned layer by the following method. First, the reflective layer 1204 is formed as a continuous film. Next, on the reflective layer 1204, a positive pattern of the reflective layer 1204 to be formed is formed on the diffraction structure forming layer 1203, for example, by printing using a masking agent. Next, the reflective layer 1204 is wet etched using the positive pattern as a mask. As a result, a patterned reflective layer 1204 is obtained.

また、レーザ加工を利用すると、以下の方法により、反射層1204をパターニングされた層として形成することができる。まず、反射層1204を連続膜として成膜する。次に、反射層1204にレーザビームを部分的に照射して、その照射部を除去する。レーザとしては、例えば、Nd:YAGレーザ又はCO2ガスレーザを使用することができる。 When laser processing is used, the reflective layer 1204 can be formed as a patterned layer by the following method. First, the reflective layer 1204 is formed as a continuous film. Next, the reflective layer 1204 is partially irradiated with a laser beam, and the irradiated portion is removed. As the laser, for example, an Nd: YAG laser or a CO 2 gas laser can be used.

反射層1204の形成に伴う熱によって回折構造形成層1203などに劣化を生じる可能性がある場合は、回折構造形成層1203上に、これよりも耐熱性に優れた耐熱層を設け、この耐熱層上に反射層1204を形成してもよい。耐熱層は、例えば、マイクログラビア法及びダイレクトグラビア法などのウェットコーティング法を用いて形成することができる。   When there is a possibility that the diffractive structure forming layer 1203 or the like is deteriorated by the heat accompanying the formation of the reflective layer 1204, a heat resistant layer having higher heat resistance than this is provided on the diffractive structure forming layer 1203. A reflective layer 1204 may be formed thereon. The heat-resistant layer can be formed using, for example, a wet coating method such as a micro gravure method or a direct gravure method.

マスク層1205は、反射層1204のうち、回折構造形成層1203の凸パターン又は凹パターンに対応した部分を被覆している。マスク層1205は、例えば、連続膜をエッチングすることにより反射層1204を形成する場合、エッチングマスクとしての役割を果たす。或いは、マスク層1205は、凸パターン又は凹パターンの複製を困難とする役割を果たす。マスク層1205の材料としては、例えば、樹脂を使用することができる。なお、マスク層1205の材料として熱可塑性樹脂を使用した場合、マスク層1205を接着層130の一部として利用することができる。   The mask layer 1205 covers a portion of the reflective layer 1204 corresponding to the convex pattern or concave pattern of the diffractive structure forming layer 1203. For example, when the reflective layer 1204 is formed by etching a continuous film, the mask layer 1205 serves as an etching mask. Alternatively, the mask layer 1205 serves to make it difficult to reproduce the convex pattern or the concave pattern. As a material of the mask layer 1205, for example, a resin can be used. Note that when a thermoplastic resin is used as the material of the mask layer 1205, the mask layer 1205 can be used as a part of the adhesive layer 130.

転写材層120は、他の層を更に含むことができる。例えば、転写材層120は、偏光層を更に含むことができる。偏光層としては、例えば、一方向に配向させた二色性染料を含み、直線偏光子としての役割を果たす層、又は、コレステリック液晶層を含み、選択反射性を示す層を使用することができる。   The transfer material layer 120 can further include other layers. For example, the transfer material layer 120 can further include a polarizing layer. As the polarizing layer, for example, a layer containing a dichroic dye oriented in one direction and serving as a linear polarizer, or a layer containing a cholesteric liquid crystal layer and exhibiting selective reflectivity can be used. .

転写材層120は、図2及び図3に示すように、領域R1a、R1b、R2及びR3を含んでいる。なお、図2において、破線B1a1bは、領域R1aと領域R1bとの境界を示している。破線B1b2は、領域R1bと領域R2との境界を示している。破線B23は、領域R2と領域R3との境界を示している。   As shown in FIGS. 2 and 3, the transfer material layer 120 includes regions R1a, R1b, R2, and R3. In FIG. 2, a broken line B1a1b indicates a boundary between the region R1a and the region R1b. A broken line B1b2 indicates a boundary between the region R1b and the region R2. A broken line B23 indicates the boundary between the region R2 and the region R3.

領域R1aと領域R1bとは、表示領域を構成している。領域R2は、表示領域を縁取っている縁取り領域である。領域R3は、領域R2を間に挟んで表示領域と隣接した周辺領域である。この転写箔10では、図2に示す構造は、図1に示すようにX方向に配列している。   The region R1a and the region R1b constitute a display region. The region R2 is a border region that borders the display region. The region R3 is a peripheral region adjacent to the display region with the region R2 interposed therebetween. In this transfer foil 10, the structure shown in FIG. 2 is arranged in the X direction as shown in FIG.

領域R1aと領域R1bとでは、メソゲン基が異なる方向に配向し且つ複屈折性層1202の厚さが等しいか、メソゲン基が同じ方向に配向し且つ複屈折性層1202の厚さが異なっているか、又はメソゲン基が異なる方向に配向し且つ複屈折性層1202の厚さが異なっている。領域R2では、メソゲン基はX方向と交差する方向に配向している。領域R3では、メソゲン基は配向していないか、又は、任意の方向に配向している。   In the region R1a and the region R1b, are the mesogenic groups oriented in different directions and the thickness of the birefringent layer 1202 is equal, or the mesogenic groups are oriented in the same direction and the thickness of the birefringent layer 1202 is different? Or the mesogenic groups are oriented in different directions and the thickness of the birefringent layer 1202 is different. In the region R2, the mesogenic group is oriented in a direction crossing the X direction. In the region R3, the mesogenic group is not oriented or oriented in an arbitrary direction.

図4には、一例として、領域R1a及びR1bは複屈折性層1202の厚さが等しく、領域R1aにおいてメソゲン基がX方向に対して平行に配向し、領域R1bにおいてメソゲン基がX方向に対して45°の角度を為すように配向し、領域R2においてメソゲン基がX方向に対して垂直に配向し、領域R3においてメソゲン基がX方向に対して斜めに配向している構造を示している。   In FIG. 4, as an example, the regions R1a and R1b have the same birefringent layer 1202 thickness, the mesogenic groups are oriented parallel to the X direction in the region R1a, and the mesogenic groups are aligned in the X direction in the region R1b. In the region R2, the mesogenic groups are oriented perpendicular to the X direction, and in the region R3, the mesogenic groups are oriented obliquely with respect to the X direction. .

転写材層120上には、図3に示す接着層130が形成されている。接着層130は、例えば、熱を印加したときに粘着性を発現する感熱接着剤を含んでいる。感熱接着剤としては、例えば、アクリル樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、エポキシ樹脂及びエチレン−ビニルアルコール共重合体などの熱可塑性樹脂を使用することができる。接着層130は、例えば、上述した樹脂を、グラビアコータ、マイクログラビアコータ及びロールコータなどのコータを用いて転写材層120上に塗布することにより得られる。   An adhesive layer 130 shown in FIG. 3 is formed on the transfer material layer 120. The adhesive layer 130 includes, for example, a heat-sensitive adhesive that develops tackiness when heat is applied. As the heat-sensitive adhesive, for example, thermoplastic resins such as acrylic resin, vinyl chloride-vinyl acetate copolymer, epoxy resin, and ethylene-vinyl alcohol copolymer can be used. The adhesive layer 130 is obtained, for example, by applying the above-described resin onto the transfer material layer 120 using a coater such as a gravure coater, a micro gravure coater, or a roll coater.

接着層130は、着色剤を更に含有していてもよい。反射層1204が光透過性を有している場合、又は、反射層1204がパターニングされている場合、可視化した潜像又は回折構造が表示する像の視認性が向上することがある。   The adhesive layer 130 may further contain a colorant. When the reflective layer 1204 is light transmissive or when the reflective layer 1204 is patterned, the visibility of the visualized latent image or the image displayed by the diffractive structure may be improved.

図5は、図1に示す転写箔を用いて製造することが可能な転写物の一例を概略的に示す平面図である。   FIG. 5 is a plan view schematically showing an example of a transfer product that can be manufactured using the transfer foil shown in FIG. 1.

この転写物20は、表示体210と、被転写体としての物品220とを含んでいる。図5に示す例では、転写物20は、ID(identification)カード、磁気カード及び無線カードなどのカードである。   The transfer product 20 includes a display body 210 and an article 220 as a transfer target. In the example shown in FIG. 5, the transcript 20 is a card such as an ID (identification) card, a magnetic card, and a wireless card.

表示体210は、図2乃至図4を参照しながら説明した領域R1a及びR1bからなる表示領域と、縁取り領域R2のうち領域R1bに隣接した部分とを含んでいる。表示体210は、図3に示す接着層130の一部を介して、物品220に貼り付けられている。   The display body 210 includes a display region composed of the regions R1a and R1b described with reference to FIGS. 2 to 4 and a portion adjacent to the region R1b in the border region R2. The display body 210 is attached to the article 220 through a part of the adhesive layer 130 shown in FIG.

物品220は、この例では、プラスチック基材を含んでいる。この物品220は、典型的には、プラスチック基材上に設けられた印刷層を更に含んでいる。   Article 220 includes a plastic substrate in this example. This article 220 typically further includes a printed layer provided on a plastic substrate.

転写物20は、例えば、キャッシュカード、クレジットカード及びパスポートなどの認証媒体であってもよく、商品券及び株券などの有価証券媒体であってもよい。或いは、転写物20は、美術品、工芸品、タグ、包装材料、玩具又は学習教材であってもよい。   The transcript 20 may be an authentication medium such as a cash card, a credit card, and a passport, or may be a securities medium such as a gift certificate or stock certificate. Alternatively, the transcript 20 may be a work of art, a craft, a tag, a packaging material, a toy, or a learning material.

物品220は、プラスチック基材の代わりに、紙、ガラス及び金属などの他の基材を含んでいてもよい。物品220は、典型的には層形状を有しているが、他の形状を有していてもよい。   Article 220 may include other substrates such as paper, glass and metal instead of plastic substrates. The article 220 typically has a layer shape, but may have other shapes.

物品220は、転写材層120について説明した層のうち、複屈折性層1202以外の層を含んでいてもよい。即ち、転写材層120に反射層1204や偏光層などを設ける代わりに、物品220に反射層1204や偏光層などを設けてもよい。   The article 220 may include a layer other than the birefringent layer 1202 among the layers described for the transfer material layer 120. That is, instead of providing the reflective layer 1204 or the polarizing layer on the transfer material layer 120, the article 220 may be provided with the reflective layer 1204 or the polarizing layer.

次に、肉眼で観察した場合に表示体210が表示する像について説明する。
領域R1a及びR1bは、複屈折性を有している。複屈折は、光学的異方性を有している媒質に光を入射させた場合に電場ベクトルの振動面が互いに垂直な2つの屈折光、例えば異常光線及び常光線が現われる現象である。
Next, an image displayed on the display body 210 when observed with the naked eye will be described.
The regions R1a and R1b have birefringence. Birefringence is a phenomenon in which, when light is incident on a medium having optical anisotropy, two refracted lights whose electric field vector oscillation planes are perpendicular to each other, such as extraordinary rays and ordinary rays, appear.

複屈折性を示す媒質の異常光線に関する屈折率neと常光線に関する屈折率noとの差Δn=ne−noは屈折率異方性と呼ばれている。また、屈折率異方性Δnと、光が通過する媒質の距離dとの積δ=Δndは、リターデイションと呼ばれている。 The difference [Delta] n = n e -n o between the refractive index n o relates to the refractive index n e and ordinary ray regarding extraordinary ray medium exhibiting birefringence is called the refractive index anisotropy. The product δ = Δnd of the refractive index anisotropy Δn and the distance d of the medium through which the light passes is called retardation.

領域R1a及びR1bは、屈折率異方性Δnが互いに等しく、距離dも互いに等しい。即ち、領域R1a及びR1bは、リターデイションδが互いに等しい。そして、領域R1a及びR1bは、図4に示すように、メソゲン基の配向方向が45°異なっている。即ち、領域R1a及びR1bは、それらが射出する異常光線又は常光線の電場ベクトルの振動面が45°異なっている。   The regions R1a and R1b have the same refractive index anisotropy Δn and the same distance d. That is, the regions R1a and R1b have the same retardation δ. Then, as shown in FIG. 4, the regions R1a and R1b differ in the orientation direction of mesogenic groups by 45 °. That is, the regions R1a and R1b differ in the plane of vibration of the extraordinary ray or ordinary ray electric field vector emitted by them by 45 °.

領域R1a及びR1bを肉眼で観察した場合、観察者は、領域R1a及びR1bの各々が射出する異常光線及び常光線の双方を知覚する。観察者は、電場ベクトルの振動面の相違を判別することはできない。それゆえ、表示体210を肉眼で観察した場合、反射層1204の位置では、領域R1a及びR1bを互いから識別することは不可能又は困難である。   When the regions R1a and R1b are observed with the naked eye, the observer perceives both an extraordinary ray and an ordinary ray emitted from each of the regions R1a and R1b. The observer cannot discriminate between the vibration planes of the electric field vector. Therefore, when the display body 210 is observed with the naked eye, it is impossible or difficult to distinguish the regions R1a and R1b from each other at the position of the reflective layer 1204.

なお、反射層1204の前面には、回折構造形成層1203の凸パターン又は凹パターンに対応した凹パターン又は凸パターンが設けられており、この凹パターン又は凸パターンは、回折構造としてホログラム又は回折格子を形成している。従って、表示体210を肉眼で観察した場合、その反射層1204に対応した領域は、可視像として回折像を表示する。   Note that a concave pattern or a convex pattern corresponding to the convex pattern or the concave pattern of the diffractive structure forming layer 1203 is provided on the front surface of the reflective layer 1204. The concave pattern or the convex pattern is a hologram or a diffraction grating as a diffractive structure. Is forming. Therefore, when the display body 210 is observed with the naked eye, the region corresponding to the reflective layer 1204 displays a diffraction image as a visible image.

次に、偏光子を介して観察した場合に表示体210が表示する像について説明する。
図6は、図5に示す転写物に偏光子を重ねた場合に表示体が表示する像の一例を概略的に示す平面図である。
Next, an image displayed on the display body 210 when observed through a polarizer will be described.
FIG. 6 is a plan view schematically showing an example of an image displayed on the display body when a polarizer is superimposed on the transfer product shown in FIG.

図6では、一例として、偏光子30として直線偏光板を使用し、この偏光子30を、その透過軸がX方向と平行となるように表示体210に重ねている。ここでは、領域R1a及びR1bの各々のリターデイションδは、ここで着目する光の波長λの1/4であるとする。   In FIG. 6, as an example, a linear polarizing plate is used as the polarizer 30, and this polarizer 30 is overlaid on the display body 210 so that its transmission axis is parallel to the X direction. Here, it is assumed that the retardation δ of each of the regions R1a and R1b is ¼ of the wavelength λ of the light focused here.

図6に示すように偏光子30を表示体210に重ねると、表示体210には、電場ベクトルの振動面がX方向に平行な直線偏光が入射する。   As shown in FIG. 6, when the polarizer 30 is superimposed on the display body 210, linearly polarized light whose electric field vector oscillation plane is parallel to the X direction enters the display body 210.

領域R1aに入射した直線偏光は、電場ベクトルの振動面を回転させることなしに、図3に示す複屈折性層1202を透過し、反射層1204によって反射され、複屈折性層1202を再び透過する。それゆえ、領域R1aが射出する光は、領域R1aに入射した直線偏光と電場ベクトルの振動面が等しい直線偏光である。この直線偏光は、理想的には、吸収されることなしに偏光子30を透過する。従って、図6に示すように偏光子30を重ねて観察した場合、領域R1aは明るく見える。   The linearly polarized light incident on the region R1a passes through the birefringent layer 1202 shown in FIG. 3 without rotating the vibration plane of the electric field vector, is reflected by the reflective layer 1204, and passes through the birefringent layer 1202 again. . Therefore, the light emitted from the region R1a is linearly polarized light having the same plane of vibration as the linearly polarized light incident on the region R1a. This linearly polarized light ideally passes through the polarizer 30 without being absorbed. Accordingly, when the polarizers 30 are overlapped and observed as shown in FIG. 6, the region R1a appears bright.

他方、領域R1bに入射した直線偏光は、図3に示す複屈折性層1202を透過することにより右円偏光へと変換され、反射層1204によって反射されて左円偏光へと変換され、複屈折性層1202を再び透過することにより直線偏光へと変換される。この直線偏光と、領域R1bに入射した直線偏光とは、電場ベクトルの振動面が垂直である。それゆえ、この直線偏光は、理想的には、偏光子30を透過することなしに吸収され。従って、図6に示すように偏光子30を重ねて観察した場合、領域R1aは暗く見える。   On the other hand, the linearly polarized light incident on the region R1b is converted to right circularly polarized light by passing through the birefringent layer 1202 shown in FIG. 3, reflected by the reflective layer 1204 and converted to left circularly polarized light, and birefringent. The light is transmitted through the conductive layer 1202 again to be converted into linearly polarized light. The plane of polarization of the electric field vector is perpendicular to the linearly polarized light and the linearly polarized light incident on the region R1b. Therefore, this linearly polarized light is ideally absorbed without passing through the polarizer 30. Accordingly, when the polarizer 30 is observed with overlapping as shown in FIG. 6, the region R1a looks dark.

このように、表示体210の反射層1204に対応した領域を肉眼で観察した場合、領域R1a及びR1bは、互いからの識別が不可能又は困難である。そして、表示体210に偏光子30を重ねると、領域R1a及びR1bを互いから容易に識別することが可能となる。   Thus, when the region corresponding to the reflective layer 1204 of the display body 210 is observed with the naked eye, the regions R1a and R1b are impossible or difficult to distinguish from each other. When the polarizer 30 is superimposed on the display body 210, the regions R1a and R1b can be easily identified from each other.

次に、物品220への表示体210の転写について説明する。
図7は、転写方法の一例を概略的に示す側面図である。図8は、図7に示す構造の上面図である。図7及び図8において、矢印AR1は転写箔10の送り方向を示し、矢印AR2は物品220の搬送方向を示している。
Next, transfer of the display body 210 to the article 220 will be described.
FIG. 7 is a side view schematically showing an example of the transfer method. FIG. 8 is a top view of the structure shown in FIG. 7 and 8, an arrow AR1 indicates the feeding direction of the transfer foil 10, and an arrow AR2 indicates the conveying direction of the article 220.

転写箔から物品に表示体を転写する場合、例えば、アップダウン式熱転写、ロール式熱転写又は真空プレス転写を行う。図7及び図8には、一例として、アップダウン式熱転写機を用いた転写方法を示している。   When a display body is transferred from a transfer foil to an article, for example, up-down thermal transfer, roll thermal transfer, or vacuum press transfer is performed. 7 and 8 show a transfer method using an up-down thermal transfer machine as an example.

アップダウン式熱転写機を用いた転写プロセスでは、例えば、巻き出しロールに巻かれている転写箔10を巻き出し、これを、図3に示す接着層130がテーブル410と向き合うようにその正面へと案内する。テーブル410の正面へと案内した転写箔10は、その表示領域、即ち、図2乃至図4に示す領域R1a及びR1bからなる領域が、テーブル410の上方に昇降可能に設置されたホットスタンプ420と向き合うように位置合わせする。   In the transfer process using the up-down thermal transfer machine, for example, the transfer foil 10 wound on the unwinding roll is unwound, and this is transferred to the front surface so that the adhesive layer 130 shown in FIG. invite. The transfer foil 10 guided to the front of the table 410 has a display area, that is, a hot stamp 420 in which an area composed of the areas R1a and R1b shown in FIGS. Align so that they face each other.

テーブル410上に、物品220を搬送する。物品220の搬送方向は、例えば、図7に示すようにテーブル410の正面における転写箔10の送り方向と一致させるか、又は、テーブル410の正面における転写箔10の送り方向と略直交させる。物品220は、表示体210が転写される部分がホットスタンプ420と向き合うように位置合わせする。   The article 220 is conveyed on the table 410. For example, as shown in FIG. 7, the conveyance direction of the article 220 is made to coincide with the feeding direction of the transfer foil 10 on the front surface of the table 410, or is made almost orthogonal to the feeding direction of the transfer foil 10 on the front surface of the table 410. The article 220 is aligned so that the portion to which the display body 210 is transferred faces the hot stamp 420.

次に、ホットスタンプ420を下降させ、転写箔10を物品220に押し当てると共に、転写箔10を加熱する。転写箔10を加熱すると、その加熱部で、図3に示す接着層130は粘着性を発現する。その結果、転写材層120は、接着層130を介して物品220に接着する。なお、ホットスタンプ420のテーブル410との対向面は、これを転写箔10に押し当てたときに、輪郭が図2に示す境界B1b2と境界B23との間に位置するように設計されている。   Next, the hot stamp 420 is lowered, the transfer foil 10 is pressed against the article 220, and the transfer foil 10 is heated. When the transfer foil 10 is heated, the adhesive layer 130 shown in FIG. As a result, the transfer material layer 120 adheres to the article 220 through the adhesive layer 130. Note that the surface of the hot stamp 420 facing the table 410 is designed such that the contour is located between the boundary B1b2 and the boundary B23 shown in FIG. 2 when the surface is pressed against the transfer foil 10.

その後、ホットスタンプ420を上昇させ、次いで、転写箔10、特には基材110を物品220から剥離する。この剥離は、例えば、物品220を静止させたまま、転写箔10を巻き取ることにより行う。こうすると、図3に示す転写材層120は、まず、図8に示すホットスタンプ420によって加熱された部分の輪郭と破線L1との接点から破断を開始する。転写材層120の破断は、転写箔10を巻き取りが進行するのに伴い、加熱部の輪郭に沿って進行する。そして、転写材層120の破断は、加熱部の輪郭と破線L3との接点で終了する。   Thereafter, the hot stamp 420 is raised, and then the transfer foil 10, particularly the substrate 110, is peeled from the article 220. This peeling is performed, for example, by winding the transfer foil 10 while keeping the article 220 stationary. As a result, the transfer material layer 120 shown in FIG. 3 first starts to break from the contact point between the outline of the portion heated by the hot stamp 420 shown in FIG. 8 and the broken line L1. The breakage of the transfer material layer 120 proceeds along the outline of the heating unit as the transfer foil 10 is wound up. The rupture of the transfer material layer 120 ends at the contact point between the outline of the heating portion and the broken line L3.

なお、縁取り領域R2のうち、上述した破断の起点となる部分は破断開始部であり、上述した破断の終点となる部分は破断終了部である。また、この例では、剥離方向は、転写箔10の長さ方向である。   In the rim region R2, the portion that becomes the starting point of the break is the break start portion, and the portion that becomes the end point of the break is the break end portion. In this example, the peeling direction is the length direction of the transfer foil 10.

転写材層120の破断が終了すると、転写材層120の加熱部を物品220上に残したまま、転写箔10は物品220から剥がれる。これにより、1回の転写動作が終了し、図5に示す転写物20が得られる。   When the breakage of the transfer material layer 120 is completed, the transfer foil 10 is peeled off from the article 220 while leaving the heated portion of the transfer material layer 120 on the article 220. Thereby, one transfer operation is completed, and a transfer product 20 shown in FIG. 5 is obtained.

その後、転写物20をテーブル410上から搬送する。そして、上述した動作を繰り返すことにより、複数の転写物20を製造する。   Thereafter, the transfer product 20 is conveyed from the table 410. Then, a plurality of transfer products 20 are manufactured by repeating the above-described operation.

この方法によると、より小さな力で基材110を剥離可能とすることと、バリや欠けなどの不良を生じ難くすることとが可能である。これについて、以下に説明する。   According to this method, the substrate 110 can be peeled off with a smaller force, and defects such as burrs and chips can be made difficult to occur. This will be described below.

図8に示す破線L1の位置は、剥離開始位置である。剥離開始位置では、転写材層120を破断させるのに必要な力である破断抵抗RSと、転写材層120を基材120から剥離させるのに必要な力である剥離抵抗RRと、転写材層120と物品220との接着力FAとが作用する。破断抵抗RSと剥離抵抗RRとの和が接着力FAを上回ると、図5に示す表示体210に欠けを生じ易くなる。 The position of the broken line L1 shown in FIG. 8 is the peeling start position. At the peeling start position, a breaking resistance R S that is a force necessary for breaking the transfer material layer 120, a peeling resistance R R that is a force necessary for peeling the transfer material layer 120 from the substrate 120, and a transfer The adhesive force F A between the material layer 120 and the article 220 acts. If the sum of the breaking resistance R S and the peeling resistance R R exceeds the adhesive force F A , the display body 210 shown in FIG.

図8に示す破線L2の位置は、剥離中間位置である。接着力FAが剥離抵抗RRを上回っていれば、欠けなどを生じることなく、剥離は安定に進行する。 The position of the broken line L2 shown in FIG. 8 is the peeling intermediate position. If the adhesive force F A exceeds the peeling resistance R R , peeling proceeds stably without causing any chipping.

図8に示す破線L3の位置は、剥離終了位置である。剥離終了位置では、破断抵抗RSが剥離抵抗RRよりも大きいと、図5に示す表示体210にバリを生じ易くなる。 The position of the broken line L3 shown in FIG. 8 is the peeling end position. At the peeling end position, if the breaking resistance R S is larger than the peeling resistance R R , the display body 210 shown in FIG.

高分子液晶材料からなる層は、メソゲン基の短軸に沿った方向に破断させる場合の破断抵抗RCが、メソゲン基の長軸に沿った方向に破断させる場合の破断抵抗RPと比較してより小さい。これは、メソゲン基の絡み合いなどに由来する力が、メソゲン基の長軸に沿った方向と比較して、メソゲン基の短軸に沿った方向においてより小さいためであると考えられる。 A layer made of a polymer liquid crystal material, fracture resistance R C of the case of rupture in the direction along the minor axis of the mesogenic groups, compared to the fracture resistance R P in the case to be broken in the direction along the long axis of the mesogenic groups And smaller. This is considered to be because the force derived from the entanglement of the mesogen group is smaller in the direction along the short axis of the mesogen group than in the direction along the long axis of the mesogen group.

剥離開始位置及び剥離終了位置に関して上述した破断抵抗Rsは、破断抵抗RC及びRPを用いると、以下の等式で表すことができる。なお、下記等式において、θは、剥離方向に対して垂直な方向とメソゲン基の配向方向とが為す角度を示している。 The breaking resistance R s described above with respect to the peeling start position and the peeling end position can be expressed by the following equation using the breaking resistances R C and R P. In the following equation, θ represents an angle formed by the direction perpendicular to the peeling direction and the orientation direction of the mesogen group.

S=RPsinθ+RCcosθ
この等式から明らかなように、角度θを小さくすると、破断抵抗RSを小さくすることができる。そして、角度θを90°とすると破断抵抗RSは最大となり、角度θを0°とすると破断抵抗RSは最小となる。
R S = R P sin θ + R C cos θ
As is clear from this equation, when the angle θ is reduced, the breaking resistance R S can be reduced. When the angle θ is 90 °, the breaking resistance R S is maximized, and when the angle θ is 0 °, the breaking resistance R S is minimized.

上述した方法では、縁取り領域R2において破断を生じさせ、その破断開始部及び破断終了部の双方において、高分子液晶材料のメソゲン基を剥離方向と交差する方向に配向させている。それゆえ、この場合、破断抵抗RSは、高分子液晶材料のメソゲン基を剥離方向に対して平行に配向させた場合と比較してより小さい。 In the above-described method, breakage is caused in the border region R2, and the mesogenic groups of the polymer liquid crystal material are aligned in a direction intersecting the peeling direction at both the break start portion and the break end portion. Therefore, in this case, the breaking resistance R S is smaller than that in the case where the mesogenic group of the polymer liquid crystal material is aligned parallel to the peeling direction.

従って、剥離開始位置において破断抵抗RSと剥離抵抗RRとの和が接着力FAを上回るのを抑制できると共に、剥離終了位置において破断抵抗RSが剥離抵抗RRよりも大きくなるのを抑制できる。それゆえ、図5に示す表示体210に欠けやバリが生じるのを抑制することが可能となる。 Therefore, the sum of the breaking resistance R S and the peeling resistance R R at the peeling start position can be suppressed from exceeding the adhesive force F A , and the breaking resistance R S can be made larger than the peeling resistance R R at the peeling end position. Can be suppressed. Therefore, it is possible to prevent the display body 210 shown in FIG.

また、この方法では、破断抵抗RSが比較的小さい。それゆえ、この方法によると、より小さな力で基材110を剥離することができる。従って、転写箔10の破断、転写物20の搬送不良、転写箔10の蛇行によって生じる位置ずれなどの発生を抑制することができる。 In this method, the breaking resistance R S is relatively small. Therefore, according to this method, the substrate 110 can be peeled with a smaller force. Accordingly, it is possible to suppress the occurrence of the displacement of the transfer foil 10, the conveyance failure of the transfer product 20, and the position shift caused by the meandering of the transfer foil 10.

破断開始部及び破断終了部の各々において、角度θは、90°未満であれば上述した効果を得ることができるが、通常は0°乃至45°の範囲内とする。そして、縁取り領域R2の破断開始部及び破断終了部の各々において、典型的には、メソゲン基の配向方向を剥離方向に対して直交させる。こうすると、破断抵抗RSを最小とすることができる。 The effect described above can be obtained if the angle θ is less than 90 ° in each of the break start portion and the break end portion, but it is usually within the range of 0 ° to 45 °. In each of the break start portion and the break end portion of the border region R2, typically, the orientation direction of the mesogen group is orthogonal to the peeling direction. In this way, the breaking resistance R S can be minimized.

上述した技術には、様々な変形が可能である。
例えば、破断開始部及び破断終了部の双方において、高分子液晶材料のメソゲン基を剥離方向と交差する方向に配向させる代わりに、破断開始部及び破断終了部の一方のみにおいて、高分子液晶材料のメソゲン基を剥離方向と交差する方向に配向させてもよい。
Various modifications can be made to the technique described above.
For example, instead of orienting the mesogenic groups of the polymer liquid crystal material in the direction intersecting the peeling direction at both the break start portion and the break end portion, only the break start portion and the break end portion of the polymer liquid crystal material The mesogenic group may be oriented in a direction crossing the peeling direction.

また、アップダウン式熱転写の代わりに、ロール式熱転写及び真空プレス転写などの他の転写を行ってもよい。   Further, instead of the up-down thermal transfer, another transfer such as a roll thermal transfer and a vacuum press transfer may be performed.

物品220を静止させたまま転写箔10を巻き取ることによって基材110を物品220から剥離する代わりに、転写箔を静止させたまま転写物20を搬送することによって基材110を物品220から剥離してもよい。この場合、物品220の搬送方向は、図7に示すようにテーブル410の正面における転写箔10の送り方向と一致させてもよく、テーブル410の正面における転写箔10の送り方向と略直交させてもよい。なお、後者の場合、剥離方向は、転写箔10の幅方向に対してほぼ平行である。従って、この場合、破断開始部及び破断終了部の各々におけるメソゲン基の配向方向を変更する必要がある。   Instead of peeling the substrate 110 from the article 220 by winding the transfer foil 10 while the article 220 is stationary, the substrate 110 is peeled from the article 220 by conveying the transfer 20 while the transfer foil is stationary. May be. In this case, the conveyance direction of the article 220 may coincide with the feeding direction of the transfer foil 10 on the front surface of the table 410 as shown in FIG. Also good. In the latter case, the peeling direction is substantially parallel to the width direction of the transfer foil 10. Therefore, in this case, it is necessary to change the orientation direction of the mesogenic group in each of the break start portion and the break end portion.

転写箔10には、図9に示す構造を採用してもよい。
図9は、図1に示す転写箔の一変形例を概略的に示す平面図である。
この転写箔10は、縁取り領域R2において、高分子液晶材料のメソゲン基が表示領域の輪郭、即ち領域R1bの外周に沿って配向していること以外は、図1乃至図4を参照しながら説明した転写箔10と同様である。
The transfer foil 10 may employ the structure shown in FIG.
FIG. 9 is a plan view schematically showing a modification of the transfer foil shown in FIG.
The transfer foil 10 will be described with reference to FIGS. 1 to 4 except that the mesogenic group of the polymer liquid crystal material is oriented along the outline of the display region, that is, the outer periphery of the region R1b in the border region R2. It is the same as the transfer foil 10 made.

上述した技術では、転写箔10は、特定の剥離方向を想定して設計する。そして、転写プロセスは、この設計に従って行う。即ち、特定の剥離方向を想定して設計した転写箔10を用いていながらも、その方向とは異なる方向に剥離を行うことはない。しかしながら、同じ転写物20を異なる転写機を用いて製造する場合、或る転写機と他の転写機とで転写方向が異なることがある。   In the technique described above, the transfer foil 10 is designed assuming a specific peeling direction. The transfer process is then performed according to this design. That is, although the transfer foil 10 designed by assuming a specific peeling direction is used, peeling is not performed in a direction different from that direction. However, when the same transfer product 20 is manufactured using different transfer machines, the transfer direction may be different between one transfer machine and another transfer machine.

図9に示す転写箔10を使用した場合、剥離方向が如何様であっても、破断開始部及び破断終了部の双方において、メソゲン基の配向方向は剥離方向と交差する。従って、剥離方向に依存することなしに、上述した効果を得ることができる。   When the transfer foil 10 shown in FIG. 9 is used, regardless of the peeling direction, the orientation direction of the mesogen group intersects the peeling direction at both the breaking start portion and the breaking end portion. Therefore, the above-described effect can be obtained without depending on the peeling direction.

また、表示領域の形状や転写箔10における表示領域の方位には、様々な変形が可能である。
図10乃至図18は、図1に示す転写箔の他の変形例を概略的に示す平面図である。なお、図10乃至図18において、反射層1204は省略している。また、図10乃至図18では、表示領域を参照符号R1で示している。
Various modifications can be made to the shape of the display area and the orientation of the display area on the transfer foil 10.
10 to 18 are plan views schematically showing other variations of the transfer foil shown in FIG. Note that the reflective layer 1204 is omitted in FIGS. Further, in FIGS. 10 to 18, the display area is indicated by the reference symbol R1.

図10及び図11に示す転写箔10では、表示領域10は平行四辺形である。図12乃至図15に示す転写箔10では、表示領域10はハート形である。図16乃至図18に示す転写箔10では、表示領域10は、環とその中心を通る直線とを組み合わせた形状を有している。   In the transfer foil 10 shown in FIGS. 10 and 11, the display area 10 is a parallelogram. In the transfer foil 10 shown in FIGS. 12 to 15, the display area 10 has a heart shape. In the transfer foil 10 shown in FIGS. 16 to 18, the display region 10 has a shape in which a ring and a straight line passing through the center thereof are combined.

図10乃至図18に示す転写箔10を用いた転写プロセスにおいて、これら転写箔10を紙面の上方から下方へと剥離する場合、縁取り領域R2のうち、一点鎖線LSで囲んだ部分は破断開始部に相当し、一点鎖線LEで囲んだ部分は破断終了部に相当する。 In the transfer process using the transfer foil 10 shown in FIGS. 10 to 18, when the transfer foil 10 is peeled from the upper side to the lower side of the paper surface, the portion surrounded by the alternate long and short dash line L S in the border region R2 starts to break. correspond to parts, portions surrounded by one-dot chain line L E corresponds to the broken ends unit.

破断開始部LSにおいて、メソゲン基を、剥離方向と交差する方向、ここではX方向と交差する方向に配向させると、表示体に欠けが生じるのを抑制できる。また、破断終了部LEにおいて、メソゲン基を、剥離方向と交差する方向に配向させると、表示体にバリが生じるのを抑制できる。なお、図11及び図12に示すように、剥離終了部LSにおいて、表示領域R1の輪郭が剥離方向に沿って先細りしている場合、メソゲン基を、剥離方向に対して平行に交差させても、表示体にバリが生じるのを抑制できることがある。 When the mesogenic group is oriented in the direction intersecting with the peeling direction, here the direction intersecting with the X direction in the fracture start portion L S , it is possible to suppress the occurrence of chipping in the display body. Further, the fracture ends unit L E, a mesogenic group and is oriented in a direction intersecting the direction of peeling can be suppressed burrs occurs in the display body. As shown in FIGS. 11 and 12, when the outline of the display region R1 is tapered along the peeling direction in the peeling end portion L S , the mesogenic groups are crossed in parallel to the peeling direction. However, it may be possible to suppress the occurrence of burrs in the display body.

図11、図13、図14、図17及び図18に示す転写箔を用いた転写プロセスでは、これら転写箔10を紙面の上方から下方へと剥離する場合、縁取り領域R2のうち、一点鎖線LS’で囲んだ部分は、表示体に欠けを生じ易い。従って、これら部分LS’では、メソゲン基を、剥離方向と交差する方向に配向させてもよい。 In the transfer process using the transfer foil shown in FIGS. 11, 13, 14, 17, and 18, when the transfer foil 10 is peeled from the upper side to the lower side of the paper surface, the dashed line L in the border region R2. The portion surrounded by S ′ is likely to be chipped in the display body. Therefore, in these portions L S ′, mesogenic groups may be oriented in a direction crossing the peeling direction.

また、図14乃至図18に示す転写箔を用いた転写プロセスでは、これら転写箔10を紙面の上方から下方へと剥離する場合、縁取り領域R2のうち、一点鎖線LE’で囲んだ部分は、表示体にバリを生じ易い。従って、これら部分LE’では、メソゲン基を、剥離方向と交差する方向に配向させてもよい。 Further, in the transfer process using the transfer foil shown in FIGS. 14 to 18, when the transfer foil 10 is peeled from the upper side to the lower side of the paper surface, the portion surrounded by the alternate long and short dash line L E ′ in the border region R2 , Burrs are easily generated on the display body. Therefore, in these portions L E ′, the mesogenic group may be oriented in a direction crossing the peeling direction.

以下、本発明の実施例について説明する。
(実施例)
図1乃至図3を参照しながら説明した転写箔10を製造した。ここでは、メソゲン基は、図9を参照しながら説明したように配向させた。
Examples of the present invention will be described below.
(Example)
The transfer foil 10 described with reference to FIGS. 1 to 3 was manufactured. Here, the mesogenic groups were oriented as described with reference to FIG.

具体的には、まず、帯形状を有している厚さが16μmのPETフィルム110上に、マイクログラビアコーティング法を用いて、大日本インキ化学工業社製の光配向剤IA−01を0.1μmの厚さに塗布した。   Specifically, first, a photo-alignment agent IA-01 manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc. was applied to a PET film 110 having a band shape having a thickness of 16 μm using a micro gravure coating method. It was applied to a thickness of 1 μm.

次に、厚さが連続的に変化している部分を含んだ水晶Z板に波長が365nmの直線偏光を入射させ、その透過光を先の塗膜の全面に1J/cm2の照度で照射した。この光照射は、先の塗膜のうち、領域R2に対応した部分において、電場ベクトルの振動面が領域R2の内周に対して平行になるように行った。 Next, linearly polarized light having a wavelength of 365 nm is incident on a quartz crystal Z plate including a portion where the thickness continuously changes, and the transmitted light is irradiated to the entire surface of the previous coating film with an illuminance of 1 J / cm 2. did. This light irradiation was performed so that the vibration surface of the electric field vector was parallel to the inner periphery of the region R2 in the portion corresponding to the region R2 in the previous coating film.

次いで、先の塗膜に、フォトマスクを介して、波長が365nmの直線偏光を1J/cm2の照度で照射した。この光照射は、先の塗膜のうち、領域R2に対応した部分が遮光されるように行った。また、直線偏光は、その電場ベクトルの振動面がフィルム110の長さ方向に対して45°の角度を為すように照射した。 Next, the previous coating film was irradiated with linearly polarized light having a wavelength of 365 nm with an illuminance of 1 J / cm 2 through a photomask. This light irradiation was performed so that a portion corresponding to the region R2 in the previous coating film was shielded from light. The linearly polarized light was irradiated such that the vibration plane of the electric field vector made an angle of 45 ° with respect to the length direction of the film 110.

続いて、先の塗膜に、フォトマスクを介して、波長が365nmの直線偏光を1J/cm2の照度で照射した。この光照射は、先の塗膜のうち、領域R1b、R2及びR3に対応した部分が遮光されるように行った。また、直線偏光は、その電場ベクトルの振動面がフィルム110の長さ方向に対して平行となるように照射した。
以上のようにして、配向膜を兼ねた剥離保護層1201を得た。
Subsequently, the above-mentioned coating film was irradiated with linearly polarized light having a wavelength of 365 nm with an illuminance of 1 J / cm 2 through a photomask. This light irradiation was performed so that the portions corresponding to the regions R1b, R2 and R3 in the previous coating film were shielded from light. The linearly polarized light was irradiated so that the vibration plane of the electric field vector was parallel to the length direction of the film 110.
As described above, a peeling protective layer 1201 also serving as an alignment film was obtained.

次に、剥離保護層1201上に、マイクログラビアコーティング法を用いて、大日本インキ化学工業社製のUVキュアラブル液晶UCL−008を0.8μmの厚さに塗布した。この塗膜に熱風を1分間当ててメソゲン基の配向を促進した後、窒素ガス雰囲気下で塗膜に波長が365nmの紫外線を0.5mJ/cm2の照度で照射して、塗膜を硬化させた。これにより、複屈折性層1202を得た。この複屈折性層1202では、メソゲン基は、図9に示すように配向していた。 Next, a UV curable liquid crystal UCL-008 manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc. was applied to the thickness of 0.8 μm on the peeling protective layer 1201 by using a micro gravure coating method. The coating film was cured by irradiating the coating film with ultraviolet light having a wavelength of 365 nm at an illuminance of 0.5 mJ / cm 2 under a nitrogen gas atmosphere after applying hot air to the coating film for 1 minute to promote orientation of the mesogen group. I let you. Thereby, a birefringent layer 1202 was obtained. In the birefringent layer 1202, the mesogenic groups were oriented as shown in FIG.

次に、複屈折性層1202上に、マイクログラビアコーティング法を用いて、アクリルポリオールとイソシアネートとを用いて得られる熱可塑性樹脂層を形成した。続いて、熱を加えながら型押しして、この樹脂層の表面に回折構造に対応した凸パターンを形成した。凸パターンは、後で反射層1204を形成する部分にのみ設けた。これにより、回折構造形成層1203を得た。   Next, a thermoplastic resin layer obtained using acrylic polyol and isocyanate was formed on the birefringent layer 1202 by using a microgravure coating method. Subsequently, embossing was performed while applying heat, and a convex pattern corresponding to the diffraction structure was formed on the surface of the resin layer. The convex pattern was provided only in the portion where the reflective layer 1204 is formed later. As a result, a diffraction structure forming layer 1203 was obtained.

次いで、回折構造形成層1203上に、蒸着法を用いて、厚さが50nmのアルミニウム層を形成した。このアルミニウム層上に、グラビア印刷法を用いて、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体からなる厚さが1μmのマスク層1205を形成した。マスク層1205は、回折構造形成層1203の表面のうち凸パターンが形成された部分のみを被覆するように形成した。続いて、アルミニウム層を、50℃に設定した1.5質量%の水酸化ナトリウム水溶液を用いた10秒間のウェットエッチングに供し、その露出部を除去した。これにより、反射層1204を得た。   Next, an aluminum layer having a thickness of 50 nm was formed on the diffractive structure forming layer 1203 by vapor deposition. A mask layer 1205 having a thickness of 1 μm made of a vinyl chloride-vinyl acetate copolymer was formed on the aluminum layer by a gravure printing method. The mask layer 1205 was formed so as to cover only the portion of the surface of the diffraction structure forming layer 1203 where the convex pattern was formed. Subsequently, the aluminum layer was subjected to wet etching for 10 seconds using a 1.5 mass% sodium hydroxide aqueous solution set at 50 ° C., and the exposed portion was removed. Thereby, a reflective layer 1204 was obtained.

更に、回折構造形成層1203及びマスク層1205上に、コーティング法を用いて、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体からなる接着層130を形成した。接着層130は、回折構造形成層1203のうちマスク層1205によって被覆されていない部分の位置で厚さが2μmとなるように形成した。   Further, an adhesive layer 130 made of a vinyl chloride-vinyl acetate copolymer was formed on the diffraction structure forming layer 1203 and the mask layer 1205 by using a coating method. The adhesive layer 130 was formed to have a thickness of 2 μm at a portion of the diffraction structure forming layer 1203 that is not covered with the mask layer 1205.

以上のようにして、転写箔10を完成した。以下、この転写箔10を「転写箔A」と呼ぶ。   As described above, the transfer foil 10 was completed. Hereinafter, this transfer foil 10 is referred to as “transfer foil A”.

(比較例)
本例では、転写箔Aについて説明したのと同様に、まず、帯形状を有している厚さが16μmのPETフィルム110上に、マイクログラビアコーティング法を用いて、大日本インキ化学工業社製の光配向剤IA−01を0.1μmの厚さに塗布した。
(Comparative example)
In this example, as described for the transfer foil A, first, on a PET film 110 having a band shape and a thickness of 16 μm, using a microgravure coating method, manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc. The photo-alignment agent IA-01 was applied to a thickness of 0.1 μm.

次に、厚さが連続的に変化している部分を含んだ水晶Z板に波長が365nmの直線偏光を入射させ、その透過光を先の塗膜の全面に1J/cm2の照度で照射した。本例では、この光照射は、先の塗膜のうち、領域R2に対応した部分において、電場ベクトルの振動面が領域R2の内周に対して垂直になるように行った。 Next, linearly polarized light having a wavelength of 365 nm is incident on a quartz crystal Z plate including a portion where the thickness continuously changes, and the transmitted light is irradiated to the entire surface of the previous coating film with an illuminance of 1 J / cm 2. did. In this example, this light irradiation was performed so that the vibration surface of the electric field vector was perpendicular to the inner periphery of the region R2 in the portion corresponding to the region R2 in the previous coating film.

次いで、先の塗膜に、フォトマスクを介して、波長が365nmの直線偏光を1J/cm2の照度で照射した。この光照射は、転写箔Aについて説明したのと同様に行った。すなわち、この光照射は、先の塗膜のうち、領域R2に対応した部分が遮光されるように行った。また、直線偏光は、その電場ベクトルの振動面がフィルム110の長さ方向に対して45°の角度を為すように照射した。 Next, the previous coating film was irradiated with linearly polarized light having a wavelength of 365 nm with an illuminance of 1 J / cm 2 through a photomask. This light irradiation was performed in the same manner as described for the transfer foil A. That is, this light irradiation was performed so that a portion corresponding to the region R2 in the previous coating film was shielded from light. The linearly polarized light was irradiated such that the vibration plane of the electric field vector made an angle of 45 ° with respect to the length direction of the film 110.

続いて、先の塗膜に、フォトマスクを介して、波長が365nmの直線偏光を1J/cm2の照度で照射した。この光照射は、転写箔Aについて説明したのと同様に行った。即ち、この光照射は、先の塗膜のうち、領域R1b、R2及びR3に対応した部分が遮光されるように行った。また、直線偏光は、その電場ベクトルの振動面がフィルム110の長さ方向に対して平行となるように照射した。
以上のようにして剥離保護層1201を形成したこと以外は、転写箔Aについて説明したのと同様の方法により転写箔10を製造した。以下、この転写箔10を「転写箔B」と呼ぶ。
Subsequently, the above-mentioned coating film was irradiated with linearly polarized light having a wavelength of 365 nm with an illuminance of 1 J / cm 2 through a photomask. This light irradiation was performed in the same manner as described for the transfer foil A. That is, this light irradiation was performed so that portions corresponding to the regions R1b, R2 and R3 in the previous coating film were shielded from light. The linearly polarized light was irradiated so that the vibration plane of the electric field vector was parallel to the length direction of the film 110.
A transfer foil 10 was produced by the same method as described for the transfer foil A except that the release protective layer 1201 was formed as described above. Hereinafter, this transfer foil 10 is referred to as “transfer foil B”.

次に、転写箔A及びBの各々を用いて、図7及び図8を参照しながら説明した転写プロセスを実施した。ここでは、被転写体220として紙を使用した。また、ここでは、ギーツ社製の転写機を使用し、剥離は、被転写体220を静止させたまま、転写箔10を巻き取ることにより行った。   Next, the transfer process described with reference to FIGS. 7 and 8 was performed using each of the transfer foils A and B. Here, paper is used as the transfer target 220. Further, here, a transfer machine manufactured by Gietz Co., Ltd. was used, and peeling was performed by winding the transfer foil 10 while the transfer target 220 was kept stationary.

転写箔Aを用いた転写プロセスでは、比較的小さな力で基材130を剥離することができ、転写箔10の蛇行に起因した位置ずれを生じることはなかった。他方、
転写箔Bを用いた転写プロセスでは、基材130の剥離に比較的大きな力が必要であり、転写箔10の蛇行に起因した位置ずれを生じた。
In the transfer process using the transfer foil A, the base material 130 can be peeled off with a relatively small force, and there was no position shift caused by meandering of the transfer foil 10. On the other hand
In the transfer process using the transfer foil B, a relatively large force was required to peel off the base material 130, and a positional shift caused by meandering of the transfer foil 10 occurred.

また、転写箔A及びBを用いて得られた転写物の各々を観察したところ、転写箔Aを用いて得られた転写物では、表示体に欠け及びバリは発生していなかった。他方、転写箔Bを用いて得られた転写物では、表示体に欠け及びバリが発生していた。
以下、出願当初の特許請求の範囲に記載されていた発明を付記する。
[1]
基材と、前記基材と向き合い且つ高分子液晶材料を含有した複屈折性層を備え、
前記基材に剥離可能に支持された転写材層と、前記転写材層を被覆した接着層とを具備し、
前記転写材層は、可視像及び/又は潜像が記録されており、前記基材から被転写体へと転写される表示領域と、前記表示領域を縁取っており、前記表示領域の転写の際にその輪郭に沿った破断を生じる縁取り領域とを含み、前記縁取り領域のうち、前記表示領域を転写する際に破断の起点となる破断開始部において、前記高分子液晶材料のメソゲン基は前記表示領域の剥離方向と交差する方向に配向していることを特徴とする転写箔。
[2]
前記縁取り領域のうち、前記表示領域を転写する際に破断の終点となる破断終了部において、前記高分子液晶材料のメソゲン基は前記剥離方向と交差する方向に配向していることを特徴とする[1]に記載の転写箔。
[3]
前記破断開始部及び前記破断終了部の双方において、前記高分子液晶材料のメソゲン基は前記表示領域の剥離方向と直交する方向に配向していることを特徴とする[2]に記載の転写箔。
[4]
基材と、前記基材と向き合い且つ高分子液晶材料を含有した複屈折性層を備え、前記基材に剥離可能に支持された転写材層と、前記転写材層を被覆した接着層とを具備し、前記転写材層は、可視像又は潜像が記録されている表示領域と、前記表示領域を縁取っている縁取り領域とを含み、前記縁取り領域内において前記高分子液晶材料のメソゲン基は前記表示領域の輪郭に沿って配向していることを特徴とする転写箔。
[5]
前記転写材層は前記複屈折性層と前記接着層との間に介在した反射層を更に含んだことを特徴とする[1]乃至[4]の何れか1項に記載の転写箔。
[6]
前記反射層は回折構造を含んでいることを特徴とする[5]に記載の転写箔。
[7]
被転写体としての物品と、[1]乃至[3]の何れか1項に記載の転写箔を用いた転写によって前記物品上に貼り付けられ、前記表示領域と前記縁取り領域の一部とを含んだ表示体とを具備したことを特徴とする転写物。
[8]
表示体と、これを支持している物品とを具備し、前記表示体は、高分子液晶材料を含有した複屈折性層を備えると共に、可視像及び/又は潜像が記録されている表示領域と、前記表示領域を縁取っている縁取り領域とを含み、前記縁取り領域内において前記高分子液晶材料のメソゲン基は前記表示領域の輪郭に沿って配向していることを特徴とする転写物。
[9]
転写箔を用いた転写によって転写物を製造する方法であって、
前記転写箔は、基材と、前記基材と向き合い且つ高分子液晶材料を含有した複屈折性層を備え、前記基材に剥離可能に支持された転写材層と、前記転写材層を被覆した接着層とを具備し、前記転写材層は、可視像及び/又は潜像が記録されている表示領域と、前記表示領域を縁取っている縁取り領域とを含み、
前記転写は、前記表示領域が前記接着層を間に挟んで前記被転写体と向き合うように前記転写箔と前記被転写体とを配置し、前記表示領域と前記縁取り領域のうち前記表示領域に隣接した部分とに前記基材側から熱及び圧力を印加してそれらを前記被転写体に接着させ、次いで、前記転写箔と前記被転写体とを互いから引き離すことにより前記縁取り領域において前記表示領域の輪郭に沿った破断を生じさせると共に前記表示領域を前記基材から剥離させることを含み、
前記縁取り領域のうち前記破断の起点となる破断開始部及び/又は前記破断の終点となる破断終了部において、前記高分子液晶材料のメソゲン基の配向方向が前記表示領域の剥離方向と交差するように前記転写箔と前記被転写体とを互いから引き離すことを特徴とする転写物の製造方法。

Moreover, when each of the transfer products obtained using the transfer foils A and B was observed, in the transfer product obtained using the transfer foil A, the display body was not chipped or burred. On the other hand, in the transfer product obtained using the transfer foil B, the display body was chipped and burred.
Hereinafter, the invention described in the scope of claims at the beginning of application will be added.
[1]
A base material, and a birefringent layer facing the base material and containing a polymer liquid crystal material,
Comprising a transfer material layer releasably supported on the substrate, and an adhesive layer covering the transfer material layer,
The transfer material layer has a visible image and / or a latent image recorded thereon, borders the display area to be transferred from the substrate to the transfer target, and the display area, and transfers the display area. The mesogenic group of the polymer liquid crystal material is a rupture start portion that becomes a starting point of rupture when transferring the display area among the rim area. A transfer foil characterized by being oriented in a direction crossing the peeling direction of the display area.
[2]
The mesogenic group of the polymer liquid crystal material is oriented in a direction intersecting the peeling direction at a break end portion that becomes a break end point when the display area is transferred in the border area. The transfer foil according to [1].
[3]
[2] The transfer foil according to [2], wherein the mesogenic group of the polymer liquid crystal material is oriented in a direction orthogonal to the peeling direction of the display region in both the break start portion and the break end portion. .
[4]
A base material, a transfer material layer facing the base material and containing a polymer liquid crystal material and supported releasably on the base material; and an adhesive layer covering the transfer material layer The transfer material layer includes a display area in which a visible image or a latent image is recorded, and a border area that borders the display area, and the mesogen of the polymer liquid crystal material in the border area. The transfer foil is characterized in that the base is oriented along the outline of the display area.
[5]
The transfer foil according to any one of [1] to [4], wherein the transfer material layer further includes a reflective layer interposed between the birefringent layer and the adhesive layer.
[6]
The transfer foil according to [5], wherein the reflective layer includes a diffractive structure.
[7]
The display area and a part of the border area are pasted on the article by transfer using the article as a transfer object and the transfer foil according to any one of [1] to [3]. A transfer product comprising a display body including the transfer material.
[8]
A display body and an article supporting the display body, the display body including a birefringent layer containing a polymer liquid crystal material and a display on which a visible image and / or a latent image are recorded And a border region bordering the display region, and the mesogenic group of the polymer liquid crystal material is oriented along the contour of the display region in the border region .
[9]
A method for producing a transcript by transfer using a transfer foil,
The transfer foil includes a base material, a birefringent layer facing the base material and containing a polymer liquid crystal material, and a transfer material layer that is releasably supported on the base material, and covers the transfer material layer The transfer material layer includes a display area in which a visible image and / or a latent image are recorded, and a border area bordering the display area,
In the transfer, the transfer foil and the transferred object are arranged so that the display area faces the transferred object with the adhesive layer in between, and the display area and the border area are arranged in the display area. Heat and pressure are applied to the adjacent part from the base material side to adhere them to the transfer target, and then the transfer foil and the transfer target are separated from each other to thereby display the display in the border area. Causing a break along the contour of the region and peeling the display region from the substrate,
The orientation direction of the mesogenic group of the polymer liquid crystal material intersects with the peeling direction of the display region at the break start portion and / or the break end portion serving as the break end point in the border region. The method for producing a transfer product, wherein the transfer foil and the transfer target are separated from each other.

本発明の一態様に係る転写箔を概略的に示す平面図。The top view which shows roughly the transfer foil which concerns on 1 aspect of this invention. 図1に示す転写箔の一部を拡大して示す平面図。The top view which expands and shows a part of transfer foil shown in FIG. 図2に示す転写箔のIII−III線に沿った断面図。Sectional drawing along the III-III line of the transfer foil shown in FIG. 図2に示す転写箔が含んでいる高分子液晶材料のメソゲン基の配向状態を概略的に示す平面図。The top view which shows roughly the orientation state of the mesogen group of the polymer liquid crystal material which the transfer foil shown in FIG. 2 contains. 図1に示す転写箔を用いて製造することが可能な転写物の一例を概略的に示す平面図。The top view which shows roughly an example of the transcription | transfer material which can be manufactured using the transfer foil shown in FIG. 図5に示す転写物に偏光子を重ねた場合に表示体が表示する像の一例を概略的に示す平面図。The top view which shows roughly an example of the image which a display body displays, when a polarizer is piled up on the transcription | transfer material shown in FIG. 転写方法の一例を概略的に示す側面図。The side view which shows an example of the transcription | transfer method roughly. 図7に示す構造の上面図。FIG. 8 is a top view of the structure shown in FIG. 7. 図1に示す転写箔の一変形例を概略的に示す平面図。The top view which shows roughly the modification of the transfer foil shown in FIG. 図1に示す転写箔の他の変形例を概略的に示す平面図。The top view which shows roughly the other modification of the transfer foil shown in FIG. 図1に示す転写箔の他の変形例を概略的に示す平面図。The top view which shows roughly the other modification of the transfer foil shown in FIG. 図1に示す転写箔の他の変形例を概略的に示す平面図。The top view which shows roughly the other modification of the transfer foil shown in FIG. 図1に示す転写箔の他の変形例を概略的に示す平面図。The top view which shows roughly the other modification of the transfer foil shown in FIG. 図1に示す転写箔の他の変形例を概略的に示す平面図。The top view which shows roughly the other modification of the transfer foil shown in FIG. 図1に示す転写箔の他の変形例を概略的に示す平面図。The top view which shows roughly the other modification of the transfer foil shown in FIG. 図1に示す転写箔の他の変形例を概略的に示す平面図。The top view which shows roughly the other modification of the transfer foil shown in FIG. 図1に示す転写箔の他の変形例を概略的に示す平面図。The top view which shows roughly the other modification of the transfer foil shown in FIG. 図1に示す転写箔の他の変形例を概略的に示す平面図。The top view which shows roughly the other modification of the transfer foil shown in FIG.

符号の説明Explanation of symbols

10…転写箔、20…転写物、30…偏光子、110…基材、120…転写材層、130…接着層、210…表示体、220…被転写体、1201…剥離保護層、1202…複屈折性層、1203…回折構造形成層、1204…反射層、1205…マスク層、B1a1b…境界、B1b2…境界、B23…境界、R1…表示領域、R1a…領域、R1b…領域、R2…縁取り領域、R3…周辺領域。   DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 ... Transfer foil, 20 ... Transfer material, 30 ... Polarizer, 110 ... Base material, 120 ... Transfer material layer, 130 ... Adhesive layer, 210 ... Display body, 220 ... Transfer object, 1201 ... Release protection layer, 1202 ... Birefringent layer, 1203 ... diffraction structure forming layer, 1204 ... reflective layer, 1205 ... mask layer, B1a1b ... border, B1b2 ... border, B23 ... border, R1 ... display area, R1a ... area, R1b ... area, R2 ... border Area, R3 ... peripheral area.

Claims (9)

基材と、前記基材と向き合い且つ高分子液晶材料を含有した複屈折性層を備え、前記基材に剥離可能に支持された転写材層と、前記転写材層を被覆した接着層とを具備し、前記転写材層は、前記複屈折性層に潜像が記録されており、前記基材から被転写体へと転写される表示領域と、前記表示領域を縁取っており、前記表示領域の転写の際にその輪郭に沿った破断を生じる縁取り領域とを含み、前記縁取り領域のうち、前記表示領域を転写する際に破断の起点となる破断開始部において、前記高分子液晶材料のメソゲン基は前記表示領域の剥離方向と交差する方向に配向していることを特徴とする転写箔。 A base material, a transfer material layer facing the base material and containing a polymer liquid crystal material and supported releasably on the base material; and an adhesive layer covering the transfer material layer The transfer material layer has a latent image recorded on the birefringent layer, borders the display area transferred from the base material to the transfer target, and the display area. An edge region that causes a break along the outline when the region is transferred, and at the break start portion serving as a starting point of the break when the display region is transferred, of the border region, A mesogenic group is oriented in a direction intersecting with the peeling direction of the display region. 前記縁取り領域のうち、前記表示領域を転写する際に破断の終点となる破断終了部において、前記高分子液晶材料のメソゲン基は前記剥離方向と交差する方向に配向していることを特徴とする請求項1に記載の転写箔。   The mesogenic group of the polymer liquid crystal material is oriented in a direction intersecting the peeling direction at a break end portion that becomes a break end point when the display area is transferred in the border area. The transfer foil according to claim 1. 前記破断開始部及び前記破断終了部の双方において、前記高分子液晶材料のメソゲン基は前記表示領域の剥離方向と直交する方向に配向していることを特徴とする請求項2に記載の転写箔。   3. The transfer foil according to claim 2, wherein mesogenic groups of the polymer liquid crystal material are oriented in a direction orthogonal to a peeling direction of the display region in both the break start portion and the break end portion. . 基材と、前記基材と向き合い且つ高分子液晶材料を含有した複屈折性層を備え、前記基材に剥離可能に支持された転写材層と、前記転写材層を被覆した接着層とを具備し、前記転写材層は、前記複屈折性層に潜像が記録されている表示領域と、前記表示領域を縁取っている縁取り領域とを含み、前記縁取り領域内において前記高分子液晶材料のメソゲン基は前記表示領域の全周に亘り前記表示領域の輪郭に沿って配向していることを特徴とする転写箔。 A base material, a transfer material layer facing the base material and containing a polymer liquid crystal material and supported releasably on the base material; and an adhesive layer covering the transfer material layer And the transfer material layer includes a display area in which a latent image is recorded on the birefringent layer, and a border area bordering the display area, and the polymer liquid crystal material in the border area The transfer foil is characterized in that the mesogenic group is oriented along the outline of the display region over the entire circumference of the display region . 前記転写材層は前記複屈折性層と前記接着層との間に介在した反射層を更に含んだことを特徴とする請求項1乃至4の何れか1項に記載の転写箔。   The transfer foil according to claim 1, wherein the transfer material layer further includes a reflective layer interposed between the birefringent layer and the adhesive layer. 前記反射層は回折構造を含んでいることを特徴とする請求項5に記載の転写箔。   The transfer foil according to claim 5, wherein the reflective layer includes a diffractive structure. 被転写体としての物品と、請求項1乃至3の何れか1項に記載の転写箔を用いた転写によって前記物品上に貼り付けられ、前記表示領域と前記縁取り領域の一部とを含んだ表示体とを具備したことを特徴とする転写物。   An article as a transfer target, and affixed on the article by transfer using the transfer foil according to any one of claims 1 to 3, and including the display area and a part of the border area. A transcript comprising a display body. 表示体と、これを支持している物品とを具備し、前記表示体は、高分子液晶材料を含有した複屈折性層を備えると共に、前記複屈折性層に潜像が記録されている表示領域と、前記表示領域を縁取っている縁取り領域とを含み、前記縁取り領域内において前記高分子液晶材料のメソゲン基は前記表示領域の全周に亘り前記表示領域の輪郭に沿って配向していることを特徴とする転写物。 A display comprising a display and an article supporting the display, wherein the display comprises a birefringent layer containing a polymer liquid crystal material and a latent image is recorded on the birefringent layer And a border region that borders the display region, and the mesogenic groups of the polymer liquid crystal material are aligned along the outline of the display region over the entire periphery of the display region in the border region. Transcript characterized by 転写箔を用いた転写によって転写物を製造する方法であって、
前記転写箔は、基材と、前記基材と向き合い且つ高分子液晶材料を含有した複屈折性層を備え、前記基材に剥離可能に支持された転写材層と、前記転写材層を被覆した接着層とを具備し、前記転写材層は、可視像及び/又は潜像が記録されている表示領域と、前記表示領域を縁取っている縁取り領域とを含み、
前記転写は、前記表示領域が前記接着層を間に挟んで前記被転写体と向き合うように前記転写箔と前記被転写体とを配置し、前記表示領域と前記縁取り領域のうち前記表示領域に隣接した部分とに前記基材側から熱及び圧力を印加してそれらを前記被転写体に接着させ、次いで、前記転写箔と前記被転写体とを互いから引き離すことにより前記縁取り領域において前記表示領域の輪郭に沿った破断を生じさせると共に前記表示領域を前記基材から剥離させることを含み、
前記縁取り領域のうち前記破断の起点となる破断開始部及び/又は前記破断の終点となる破断終了部において、前記高分子液晶材料のメソゲン基の配向方向が前記表示領域の剥離方向と交差するように前記転写箔と前記被転写体とを互いから引き離すことを特徴とする転写物の製造方法。
A method for producing a transcript by transfer using a transfer foil,
The transfer foil includes a base material, a birefringent layer facing the base material and containing a polymer liquid crystal material, and a transfer material layer that is releasably supported on the base material, and covers the transfer material layer The transfer material layer includes a display area in which a visible image and / or a latent image are recorded, and a border area bordering the display area,
In the transfer, the transfer foil and the transferred object are arranged so that the display area faces the transferred object with the adhesive layer in between, and the display area and the border area are arranged in the display area. Heat and pressure are applied to the adjacent part from the base material side to adhere them to the transfer target, and then the transfer foil and the transfer target are separated from each other to thereby display the display in the border area. Causing a break along the contour of the region and peeling the display region from the substrate,
The orientation direction of the mesogenic group of the polymer liquid crystal material intersects with the peeling direction of the display region at the break start portion and / or the break end portion serving as the break end point in the border region. The method for producing a transfer product, wherein the transfer foil and the transfer target are separated from each other.
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