JP5005108B2 - Liquid crystal display - Google Patents

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JP5005108B2
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To hold a cell gap without using a spherical spacer. <P>SOLUTION: A liquid crystal display device includes a first substrate and a second substrate 201 that faces the first substrate. The first substrate includes a pixel electrode, a thin film transistor, and a first alignment film provided over the pixel electrode. The second substrate 201 includes a color filter provided selectively, a plurality of gap holding members 220, and a second alignment film 230 provided covering the plurality of gap holding members 220. The gap holding members 220 are made of photosensitive resin. The gap holding members 220 are provided in a region provided with the color filter and a region not provided with the color filter. The gap holding members 220 provided in the region not provided with the color filter are higher than the gap holding members 220 provided in the region provided with the color filter. <P>COPYRIGHT: (C)2012,JPO&amp;INPIT

Description

本明細書で開示する発明は、一対の対向する基板を有する表示装置に関するものであり
、対向する基板間隔の維持手段に関するものである。 The invention disclosed in this specification relates to a display device having a pair of opposed substrates, and relates to a means for maintaining the distance between the opposed substrates.

最近安価なガラス基板上に半導体薄膜を形成した半導体装置、例えば薄膜トランジスタ
（ＴＦＴ）を作製する技術が急速に発達してきている。その理由は、アクティブマトリク
ス型液晶表示装置の需要が高まってきたことによる。 Recently, a technique for manufacturing a semiconductor device in which a semiconductor thin film is formed on an inexpensive glass substrate, for example, a thin film transistor (TFT) has been rapidly developed. The reason is that the demand for active matrix liquid crystal display devices has increased.

アクティブマトリクス型液晶表示装置は、マトリクス状に配置された数十〜数百万個も
の画素領域にそれぞれＴＦＴが配置され、各画素電極に出入りする電荷をＴＦＴのスイッ
チング機能により制御するものである。 In an active matrix liquid crystal display device, TFTs are arranged in several tens to several millions of pixel regions arranged in a matrix, and charges entering and exiting each pixel electrode are controlled by a switching function of the TFTs.

アクティブマトリクス型液晶表示装置の基本的な構成は、２つの対向する基板からなり
、一方は画素領域を有するＴＦＴ基板と呼ばれ、他方は対向基板と呼ばれている。ＴＦＴ
基板は数十〜数百万個の画素スイッチングＴＦＴ（画素ＴＦＴと呼ぶ）を含む画素領域と
、それらを駆動する複数のＴＦＴを含む周辺駆動回路領域とによって構成される。 The basic configuration of an active matrix liquid crystal display device is composed of two opposing substrates, one of which is called a TFT substrate having a pixel region, and the other is called a counter substrate. TFT
The substrate is composed of a pixel region including tens to millions of pixel switching TFTs (referred to as pixel TFTs) and a peripheral drive circuit region including a plurality of TFTs for driving them.

他方、対向基板はＴＦＴ基板の画素領域と対向する透明導電性膜から成る対向電極と、
配向膜とが形成された透明基板で構成されている。 On the other hand, the counter substrate is a counter electrode made of a transparent conductive film facing the pixel region of the TFT substrate, and
It is composed of a transparent substrate on which an alignment film is formed.

ＴＦＴ基板および対向基板には、液晶材料の配向性を整えるためのラビングなどの配向
処理が行われる。その後、ＴＦＴ基板と対向基板との基板間隔（セルギャップ）を維持す
るために、ＴＦＴ基板又は対向基板のいずれか一方に粒形のスペーサが均一に散布される
。次に、シール剤によって２つの基板が貼り合され、ＴＦＴ基板と対向基板との間に液晶
材料が充填され、液晶注入口が封止材で封止される。こうしてアクティブマトリクス型液
晶表示装置が作製される。 An alignment process such as rubbing for adjusting the alignment of the liquid crystal material is performed on the TFT substrate and the counter substrate. Thereafter, in order to maintain the substrate gap (cell gap) between the TFT substrate and the counter substrate, the granular spacers are uniformly dispersed on either the TFT substrate or the counter substrate. Next, the two substrates are bonded to each other with a sealing agent, the liquid crystal material is filled between the TFT substrate and the counter substrate, and the liquid crystal injection port is sealed with the sealing material. Thus, an active matrix liquid crystal display device is manufactured.

しかし、上記のような構成を有する液晶表示装置や反強誘電性液晶表示には以下のよう
な問題点がある。 However, the liquid crystal display device and the antiferroelectric liquid crystal display having the above-described configuration have the following problems.

最近注目されてきている強誘電性液晶を用いた液晶表示装置や、反射型液晶表示装置に
は、その特性上、小さいセルギャップが求められている。しかし、従来のような粒形のス
ペーサを用いて小さく均一なセルギャップを有するセルを作製することは、一般的に困難
である。 A liquid crystal display device using a ferroelectric liquid crystal and a reflective liquid crystal display device, which have been attracting attention recently, are required to have a small cell gap due to their characteristics. However, it is generally difficult to produce a cell having a small and uniform cell gap using a conventional granular spacer.

更に、従来の粒形のスペーサは、液晶材料注入時に、液晶材料の流動によって粒状のス
ペーサ自体も流れてしまい、結果として均一なスペーサ散布密度を得ることができず、セ
ル厚ムラの原因となっている。また、粒状のスペーサは流動して複数個凝集すると、スペ
ーサが点欠陥として視認されてしまう。 Furthermore, in the conventional granular spacer, when the liquid crystal material is injected, the granular spacer itself also flows due to the flow of the liquid crystal material, and as a result, a uniform spacer distribution density cannot be obtained, which causes cell thickness unevenness. ing. Further, when a plurality of granular spacers flow and aggregate, the spacers are visually recognized as point defects.

また、一般的に製造または試作されている液晶表示装置は画素ピッチに関係なく、透過
型であれば４〜６μｍ程度、反射型であれば２〜３μｍのセルギャップを確保しているよ
うであるが、今後は、液晶パネルの高精細化が求められ、画素ピッチを更に微細化する傾
向が強まってきている。 In addition, a generally manufactured or prototype liquid crystal display device has a cell gap of about 4 to 6 μm for the transmissive type and 2 to 3 μm for the reflective type regardless of the pixel pitch. However, in the future, high definition of the liquid crystal panel is required, and the tendency to further reduce the pixel pitch is increasing.

例えば、投射型液晶表示装置（プロジェクション）は、画像をスクリーンに拡大投射す
ることを考えて可能な限り高精細な画像を表示できることが望ましい。またコストの面か
らも光学系を小型化する必要があり、パネルサイズを小さくすることが必要である。この
ため、今後は画素ピッチが４０μｍ以下、好ましくは３０μｍ以下の液晶表示装置を作製
する必要がある。 For example, it is desirable that a projection type liquid crystal display device (projection) can display an image as fine as possible in consideration of enlarging and projecting an image on a screen. Further, from the viewpoint of cost, it is necessary to reduce the size of the optical system, and it is necessary to reduce the panel size. Therefore, in the future, it is necessary to manufacture a liquid crystal display device having a pixel pitch of 40 μm or less, preferably 30 μm or less.

画素ピッチが微細化するに従って、１つの画素面積に対してスペーサの占有面積との相
対比が大きくなるため、スペーサが点欠陥となってしまうおそれが生ずる。 As the pixel pitch becomes finer, the relative ratio of the occupied area of the spacer to the area of one pixel increases, so that the spacer may become a point defect.

更に、高精細な画像を必要とする液晶表示装置において、粒形のスペーサが画素領域に
存在する場合、スペーサの近傍は液晶材料の配向性が乱れるため、画像表示の乱れ（ディ
スクリネーション）が観測される場合がある。 Further, in a liquid crystal display device that requires a high-definition image, when a granular spacer is present in the pixel region, the orientation of the liquid crystal material is disturbed in the vicinity of the spacer, so that the image display is disturbed (disclination). May be observed.

上述したように、従来の粒形のスペーサを用いてセルギャップを制御する場合は、さま
ざまな要因により良好な表示を得ることができないことがある。 As described above, when the cell gap is controlled using a conventional spacer having a grain shape, a good display may not be obtained due to various factors.

本発明は、従来使用された粒状のスペーサを用いないで、セルギャップが保持された表
示装置を提供することを課題とする。 An object of the present invention is to provide a display device in which a cell gap is maintained without using a conventionally used granular spacer.

更に、本発明は、ＴＦＴ基板のＴＦＴにダメージを与えないように、セルギャップを保
持する手段を提供することを課題とする。 Furthermore, an object of the present invention is to provide means for maintaining a cell gap so as not to damage the TFT of the TFT substrate.

上記の課題を解決するために、請求項１に係る発明は、液晶と、液晶注入口を封止する封止材と、シール材と、画素領域と、駆動回路領域と、を有する第１の基板と、第１及び第２の複数のギャップ保持部材を有する第２の基板と、を有し、前記液晶と前記第１及び第２の複数のギャップ保持部材とは、前記第１の基板と前記第２の基板と前記封止材と前記シール材とにより囲まれており、前記第１の複数のギャップ保持部材は、前記第１の基板の有する第１の辺と、前記画素領域と、の間に配置されており、前記第２の複数のギャップ保持部材は、前記第１の基板の有する第２の辺と、前記画素領域と、の間に配置されており、前記第１の複数のギャップ保持部材は、前記第１の辺と平行方向に沿うように並んで配置されており、前記第２の複数のギャップ保持部材は、前記第２の辺と平行方向に沿うように並んで配置されており、前記第１の辺は前記第２の辺と対向し、前記第１の複数のギャップ保持部材は、前記封止材と、前記画素領域と、の間に配置されており、前記第２の複数のギャップ保持部材は、前記画素領域と、前記駆動回路領域と、の間に配置されており、前記第１の複数のギャップ保持部材の密度（個／ｍｍ ２ ）は、前記第２の複数のギャップ保持部材の密度（個／ｍｍ ２ ）よりも小さいことを特徴とする液晶表示装置である。請求項２に係る発明は、液晶と、液晶注入口を封止する封止材と、シール材と、画素領域と、駆動回路領域と、を有する第１の基板と、第１及び第２の複数のギャップ保持部材を有する第２の基板と、を有し、前記液晶と前記第１及び第２の複数のギャップ保持部材とは、前記第１の基板と前記第２の基板と前記封止材と前記シール材とにより囲まれており、前記第１の複数のギャップ保持部材は、前記第１の基板の有する第１の辺と、前記画素領域と、の間に配置されており、前記第２の複数のギャップ保持部材は、前記第１の基板の有する第２の辺と、前記画素領域と、の間に配置されており、前記第１の複数のギャップ保持部材は、前記第１の辺と平行方向に沿うように並んで配置されており、前記第２の複数のギャップ保持部材は、前記第２の辺と平行方向に沿うように並んで配置されており、前記第１の辺は前記第２の辺と対向し、前記第１の複数のギャップ保持部材は、前記封止材と、前記画素領域と、の間に配置されており、前記第２の複数のギャップ保持部材は、前記画素領域と、前記駆動回路領域と、の間に配置されており、前記第１の複数のギャップ保持部材の１ｍｍ ２ 当たりの個数は、前記第２の複数のギャップ保持部材の１ｍｍ ２ 当たりの個数よりも少ないことを特徴とする液晶表示装置である。請求項３に係る発明は、液晶と、液晶注入口を封止する封止材と、シール材と、画素領域と、駆動回路領域と、を有する第１の基板と、第１及び第２の複数のギャップ保持部材を有する第２の基板と、を有し、前記液晶と前記第１及び第２の複数のギャップ保持部材とは、前記第１の基板と前記第２の基板と前記封止材と前記シール材とにより囲まれており、前記第１の複数のギャップ保持部材は、前記第１の基板の有する第１の辺と、前記画素領域と、の間に配置されており、前記第２の複数のギャップ保持部材は、前記第１の基板の有する第２の辺と、前記画素領域と、の間に配置されており、前記第１の複数のギャップ保持部材は、前記第１の辺と平行方向に沿うように並んで配置されており、前記第２の複数のギャップ保持部材は、前記第２の辺と平行方向に沿うように並んで配置されており、前記第１の辺は前記第２の辺と対向し、前記第１の複数のギャップ保持部材は、前記封止材と、前記画素領域と、の間に配置されており、前記第２の複数のギャップ保持部材は、前記画素領域と、前記駆動回路領域と、の間に配置されており、前記第１の複数のギャップ保持部材における隣接するギャップ保持部材の間隔は、前記第２の複数のギャップ保持部材における隣接するギャップ保持部材の間隔よりも大きいことを特徴とする液晶表示装置である。請求項４に係る発明は、液晶と、液晶注入口を封止する封止材と、シール材と、画素領域と、駆動回路領域と、を有する第１の基板と、第１乃至第４の複数のギャップ保持部材を有する第２の基板と、を有し、前記液晶と前記第１乃至第４の複数のギャップ保持部材とは、前記第１の基板と前記第２の基板と前記封止材と前記シール材とにより囲まれており、前記第１の複数のギャップ保持部材は、前記第１の基板の有する第１の辺と、前記画素領域と、の間に配置されており、前記第２の複数のギャップ保持部材は、前記第１の基板の有する第２の辺と、前記画素領域と、の間に配置されており、前記第３の複数のギャップ保持部材は、前記第１の基板の有する第３の辺と、前記画素領域と、の間に配置されており、前記第４の複数のギャップ保持部材は、前記第１の基板の有する第４の辺と、前記画素領域と、の間に配置されており、前記第１の複数のギャップ保持部材は、前記第１の辺と平行方向に沿うように並んで配置されており、前記第２の複数のギャップ保持部材は、前記第２の辺と平行方向に沿うように並んで配置されており、前記第３の複数のギャップ保持部材は、前記第３の辺と平行方向に沿うように並んで配置されており、前記第４の複数のギャップ保持部材は、前記第４の辺と平行方向に沿うように並んで配置されており、前記第１の辺は前記第２の辺と対向し、前記第３の辺は前記第４の辺と対向し、前記第１の複数のギャップ保持部材は、前記封止材と、前記画素領域と、の間に配置されており、前記第２の複数のギャップ保持部材は、前記画素領域と、前記駆動回路領域と、の間に配置されており、前記第１の複数のギャップ保持部材の密度（個／ｍｍ ２ ）は、前記第２乃至第４の複数のギャップ保持部材の密度（個／ｍｍ ２ ）よりも小さいことを特徴とする液晶表示装置である。請求項５に係る発明は、液晶と、液晶注入口を封止する封止材と、シール材と、画素領域と、駆動回路領域と、を有する第１の基板と、第１乃至第４の複数のギャップ保持部材を有する第２の基板と、を有し、前記液晶と前記第１乃至第４の複数のギャップ保持部材とは、前記第１の基板と前記第２の基板と前記封止材と前記シール材とにより囲まれており、前記第１の複数のギャップ保持部材は、前記第１の基板の有する第１の辺と、前記画素領域と、の間に配置されており、前記第２の複数のギャップ保持部材は、前記第１の基板の有する第２の辺と、前記画素領域と、の間に配置されており、前記第３の複数のギャップ保持部材は、前記第１の基板の有する第３の辺と、前記画素領域と、の間に配置されており、前記第４の複数のギャップ保持部材は、前記第１の基板の有する第４の辺と、前記画素領域と、の間に配置されており、前記第１の複数のギャップ保持部材は、前記第１の辺と平行方向に沿うように並んで配置されており、前記第２の複数のギャップ保持部材は、前記第２の辺と平行方向に沿うように並んで配置されており、前記第３の複数のギャップ保持部材は、前記第３の辺と平行方向に沿うように並んで配置されており、前記第４の複数のギャップ保持部材は、前記第４の辺と平行方向に沿うように並んで配置されており、前記第１の辺は前記第２の辺と対向し、前記第３の辺は前記第４の辺と対向し、前記第１の複数のギャップ保持部材は、前記封止材と、前記画素領域と、の間に配置されており、前記第２の複数のギャップ保持部材は、前記画素領域と、前記駆動回路領域と、の間に配置されており、前記第１の複数のギャップ保持部材の１ｍｍ ２ 当たりの個数は、前記第２乃至第４の複数のギャップ保持部材の１ｍｍ ２ 当たりの個数よりも少ないことを特徴とする液晶表示装置である。請求項６に係る発明は、液晶と、液晶注入口を封止する封止材と、シール材と、画素領域と、駆動回路領域と、を有する第１の基板と、第１乃至第４の複数のギャップ保持部材を有する第２の基板と、を有し、前記液晶と前記第１乃至第４の複数のギャップ保持部材とは、前記第１の基板と前記第２の基板と前記封止材と前記シール材とにより囲まれており、前記第１の複数のギャップ保持部材は、前記第１の基板の有する第１の辺と、前記画素領域と、の間に配置されており、前記第２の複数のギャップ保持部材は、前記第１の基板の有する第２の辺と、前記画素領域と、の間に配置されており、前記第３の複数のギャップ保持部材は、前記第１の基板の有する第３の辺と、前記画素領域と、の間に配置されており、前記第４の複数のギャップ保持部材は、前記第１の基板の有する第４の辺と、前記画素領域と、の間に配置されており、前記第１の複数のギャップ保持部材は、前記第１の辺と平行方向に沿うように並んで配置されており、前記第２の複数のギャップ保持部材は、前記第２の辺と平行方向に沿うように並んで配置されており、前記第３の複数のギャップ保持部材は、前記第３の辺と平行方向に沿うように並んで配置されており、前記第４の複数のギャップ保持部材は、前記第４の辺と平行方向に沿うように並んで配置されており、前記第１の辺は前記第２の辺と対向し、前記第３の辺は前記第４の辺と対向し、前記第１の複数のギャップ保持部材は、前記封止材と、前記画素領域と、の間に配置されており、前記第２の複数のギャップ保持部材は、前記画素領域と、前記駆動回路領域と、の間に配置されており、前記第１の複数のギャップ保持部材における隣接するギャップ保持部材の間隔は、前記第２乃至第４の複数のギャップ保持部材における隣接するギャップ保持部材の間隔よりも大きいことを特徴とする液晶表示装置である。請求項７に係る発明は、液晶と、液晶注入口を封止する封止材と、シール材と、表示に寄与する画素電極と、前記表示に寄与する画素電極と電気的に接続する画素ＴＦＴとが設けられた第１の領域と、駆動回路ＴＦＴが設けられた第２の領域と、を有する第１の基板と、第１及び第２の複数のギャップ保持部材を有する第２の基板と、を有し、前記液晶と前記第１及び第２の複数のギャップ保持部材とは、前記第１の基板と前記第２の基板と前記封止材と前記シール材とにより囲まれており、前記第１の複数のギャップ保持部材は、前記第１の基板の有する第１の辺と、前記第１の領域と、の間に配置されており、前記第２の複数のギャップ保持部材は、前記第１の基板の有する第２の辺と、前記第１の領域と、の間に配置されており、前記第１の複数のギャップ保持部材は、前記第１の辺と平行方向に沿うように並んで配置されており、前記第２の複数のギャップ保持部材は、前記第２の辺と平行方向に沿うように並んで配置されており、前記第１の辺は前記第２の辺と対向し、前記第１の複数のギャップ保持部材は、前記封止材と、前記第１の領域と、の間に配置されており、前記第２の複数のギャップ保持部材は、前記第１の領域と、前記第２の領域と、の間に配置されており、前記第１の複数のギャップ保持部材の密度（個／ｍｍ ２ ）は、前記第２の複数のギャップ保持部材の密度（個／ｍｍ ２ ）よりも小さいことを特徴とする液晶表示装置である。請求項８に係る発明は、液晶と、液晶注入口を封止する封止材と、シール材と、表示に寄与する画素電極と、前記表示に寄与する画素電極と電気的に接続する画素ＴＦＴとが設けられた第１の領域と、駆動回路ＴＦＴが設けられた第２の領域と、を有する第１の基板と、第１及び第２の複数のギャップ保持部材を有する第２の基板と、を有し、前記液晶と前記第１及び第２の複数のギャップ保持部材とは、前記第１の基板と前記第２の基板と前記封止材と前記シール材とにより囲まれており、前記第１の複数のギャップ保持部材は、前記第１の基板の有する第１の辺と、前記第１の領域と、の間に配置されており、前記第２の複数のギャップ保持部材は、前記第１の基板の有する第２の辺と、前記第１の領域と、の間に配置されており、前記第１の複数のギャップ保持部材は、前記第１の辺と平行方向に沿うように並んで配置されて
おり、前記第２の複数のギャップ保持部材は、前記第２の辺と平行方向に沿うように並んで配置されており、前記第１の辺は前記第２の辺と対向し、前記第１の複数のギャップ保持部材は、前記封止材と、前記第１の領域と、の間に配置されており、前記第２の複数のギャップ保持部材は、前記第１の領域と、前記第２の領域と、の間に配置されており、前記第１の複数のギャップ保持部材の１ｍｍ ２ 当たりの個数は、前記第２の複数のギャップ保持部材の１ｍｍ ２ 当たりの個数よりも少ないことを特徴とする液晶表示装置である。請求項９に係る発明は、液晶と、液晶注入口を封止する封止材と、シール材と、表示に寄与する画素電極と、前記表示に寄与する画素電極と電気的に接続する画素ＴＦＴとが設けられた第１の領域と、駆動回路ＴＦＴが設けられた第２の領域と、を有する第１の基板と、第１及び第２の複数のギャップ保持部材を有する第２の基板と、を有し、前記液晶と前記第１及び第２の複数のギャップ保持部材とは、前記第１の基板と前記第２の基板と前記封止材と前記シール材とにより囲まれており、前記第１の複数のギャップ保持部材は、前記第１の基板の有する第１の辺と、前記第１の領域と、の間に配置されており、前記第２の複数のギャップ保持部材は、前記第１の基板の有する第２の辺と、前記第１の領域と、の間に配置されており、前記第１の複数のギャップ保持部材は、前記第１の辺と平行方向に沿うように並んで配置されており、前記第２の複数のギャップ保持部材は、前記第２の辺と平行方向に沿うように並んで配置されており、前記第１の辺は前記第２の辺と対向し、前記第１の複数のギャップ保持部材は、前記封止材と、前記第１の領域と、の間に配置されており、前記第２の複数のギャップ保持部材は、前記第１の領域と、前記第２の領域と、の間に配置されており、前記第１の複数のギャップ保持部材における隣接するギャップ保持部材の間隔は、前記第２の複数のギャップ保持部材における隣接するギャップ保持部材の間隔よりも大きいことを特徴とする液晶表示装置である。請求項１０に係る発明は、液晶と、液晶注入口を封止する封止材と、シール材と、表示に寄与する画素電極と、前記表示に寄与する画素電極と電気的に接続する画素ＴＦＴとが設けられた第１の領域と、駆動回路ＴＦＴが設けられた第２の領域と、を有する第１の基板と、第１乃至第４の複数のギャップ保持部材を有する第２の基板と、を有し、前記液晶と前記第１乃至第４の複数のギャップ保持部材とは、前記第１の基板と前記第２の基板と前記封止材と前記シール材とにより囲まれており、前記第１の複数のギャップ保持部材は、前記第１の基板の有する第１の辺と、前記第１の領域と、の間に配置されており、前記第２の複数のギャップ保持部材は、前記第１の基板の有する第２の辺と、前記第１の領域と、の間に配置されており、前記第３の複数のギャップ保持部材は、前記第１の基板の有する第３の辺と、前記第１の領域と、の間に配置されており、前記第４の複数のギャップ保持部材は、前記第１の基板の有する第４の辺と、前記第１の領域と、の間に配置されており、前記第１の複数のギャップ保持部材は、前記第１の辺と平行方向に沿うように並んで配置されており、前記第２の複数のギャップ保持部材は、前記第２の辺と平行方向に沿うように並んで配置されており、前記第３の複数のギャップ保持部材は、前記第３の辺と平行方向に沿うように並んで配置されており、前記第４の複数のギャップ保持部材は、前記第４の辺と平行方向に沿うように並んで配置されており、前記第１の辺は前記第２の辺と対向し、前記第３の辺は前記第４の辺と対向し、前記第１の複数のギャップ保持部材は、前記封止材と、前記第１の領域と、の間に配置されており、前記第２の複数のギャップ保持部材は、前記第１の領域と、前記第２の領域と、の間に配置されており、前記第１の複数のギャップ保持部材の密度（個／ｍｍ ２ ）は、前記第２乃至第４の複数のギャップ保持部材の密度（個／ｍｍ ２ ）よりも小さいことを特徴とする液晶表示装置である。請求項１１に係る発明は、液晶と、液晶注入口を封止する封止材と、シール材と、表示に寄与する画素電極と、前記表示に寄与する画素電極と電気的に接続する画素ＴＦＴとが設けられた第１の領域と、駆動回路ＴＦＴが設けられた第２の領域と、を有する第１の基板と、第１乃至第４の複数のギャップ保持部材を有する第２の基板と、を有し、前記液晶と前記第１乃至第４の複数のギャップ保持部材とは、前記第１の基板と前記第２の基板と前記封止材と前記シール材とにより囲まれており、前記第１の複数のギャップ保持部材は、前記第１の基板の有する第１の辺と、前記第１の領域と、の間に配置されており、前記第２の複数のギャップ保持部材は、前記第１の基板の有する第２の辺と、前記第１の領域と、の間に配置されており、前記第３の複数のギャップ保持部材は、前記第１の基板の有する第３の辺と、前記第１の領域と、の間に配置されており、前記第４の複数のギャップ保持部材は、前記第１の基板の有する第４の辺と、前記第１の領域と、の間に配置されており、前記第１の複数のギャップ保持部材は、前記第１の辺と平行方向に沿うように並んで配置されており、前記第２の複数のギャップ保持部材は、前記第２の辺と平行方向に沿うように並んで配置されており、前記第３の複数のギャップ保持部材は、前記第３の辺と平行方向に沿うように並んで配置されており、前記第４の複数のギャップ保持部材は、前記第４の辺と平行方向に沿うように並んで配置されており、前記第１の辺は前記第２の辺と対向し、前記第３の辺は前記第４の辺と対向し、前記第１の複数のギャップ保持部材は、前記封止材と、前記第１の領域と、の間に配置されており、前記第２の複数のギャップ保持部材は、前記第１の領域と、前記第２の領域と、の間に配置されており、前記第１の複数のギャップ保持部材の１ｍｍ ２ 当たりの個数は、前記第２乃至第４の複数のギャップ保持部材の１ｍｍ ２ 当たりの個数よりも少ないことを特徴とする液晶表示装置である。請求項１２に係る発明は、液晶と、液晶注入口を封止する封止材と、シール材と、表示に寄与する画素電極と、前記表示に寄与する画素電極と電気的に接続する画素ＴＦＴとが設けられた第１の領域と、駆動回路ＴＦＴが設けられた第２の領域と、を有する第１の基板と、第１乃至第４の複数のギャップ保持部材を有する第２の基板と、を有し、前記液晶と前記第１乃至第４の複数のギャップ保持部材とは、前記第１の基板と前記第２の基板と前記封止材と前記シール材とにより囲まれており、前記第１の複数のギャップ保持部材は、前記第１の基板の有する第１の辺と、前記第１の領域と、の間に配置されており、前記第２の複数のギャップ保持部材は、前記第１の基板の有する第２の辺と、前記第１の領域と、の間に配置されており、前記第３の複数のギャップ保持部材は、前記第１の基板の有する第３の辺と、前記第１の領域と、の間に配置されており、前記第４の複数のギャップ保持部材は、前記第１の基板の有する第４の辺と、前記第１の領域と、の間に配置されており、前記第１の複数のギャップ保持部材は、前記第１の辺と平行方向に沿うように並んで配置されており、前記第２の複数のギャップ保持部材は、前記第２の辺と平行方向に沿うように並んで配置されており、前記第３の複数のギャップ保持部材は、前記第３の辺と平行方向に沿うように並んで配置されており、前記第４の複数のギャップ保持部材は、前記第４の辺と平行方向に沿うように並んで配置されており、前記第１の辺は前記第２の辺と対向し、前記第３の辺は前記第４の辺と対向し、前記第１の複数のギャップ保持部材は、前記封止材と、前記第１の領域と、の間に配置されており、前記第２の複数のギャップ保持部材は、前記第１の領域と、前記第２の領域と、の間に配置されており、前記第１の複数のギャップ保持部材における隣接するギャップ保持部材の間隔は、前記第２乃至第４の複数のギャップ保持部材における隣接するギャップ保持部材の間隔よりも大きいことを特徴とする液晶表示装置である。
In order to solve the above-mentioned problem, the invention according to claim 1 is a first aspect of the invention comprising a liquid crystal, a sealing material for sealing a liquid crystal injection port, a sealing material, a pixel region, and a drive circuit region. A second substrate having a first and a second plurality of gap holding members, and the liquid crystal and the first and second plurality of gap holding members include the first substrate and the second substrate. Surrounded by the second substrate, the sealing material, and the sealing material, the first plurality of gap holding members includes a first side of the first substrate, the pixel region, The second plurality of gap holding members are arranged between the second side of the first substrate and the pixel region, and the first plurality of gap holding members are arranged between the first plurality of gap holding members. The gap holding members are arranged side by side along the direction parallel to the first side, and the second side The plurality of gap holding members are arranged side by side along a direction parallel to the second side, the first side faces the second side, and the first plurality of gap holding members Is disposed between the sealing material and the pixel region, and the second plurality of gap holding members are disposed between the pixel region and the drive circuit region. , the density of the first plurality of gap retaining members (pieces / mm 2) is a liquid crystal display device comprising a smaller than the density of said second plurality of gap retaining members (pieces / mm 2) . According to a second aspect of the present invention, there is provided a first substrate having a liquid crystal, a sealing material for sealing a liquid crystal injection port, a sealing material, a pixel region, and a drive circuit region, and first and second A second substrate having a plurality of gap holding members, wherein the liquid crystal and the first and second plurality of gap holding members are the first substrate, the second substrate, and the sealing. The first plurality of gap holding members are disposed between a first side of the first substrate and the pixel region, and The second plurality of gap holding members are disposed between a second side of the first substrate and the pixel region, and the first plurality of gap holding members are the first plurality of gap holding members. Are arranged side by side along a direction parallel to the side of the second plurality of gap holding members, The first side faces the second side, and the first plurality of gap holding members include the sealing material and the second side. The second plurality of gap holding members are disposed between the pixel region and the drive circuit region, and the first plurality of gap holding members are disposed between the pixel region and the pixel region. the number of 1 mm 2 per gap holding member is a liquid crystal display device, characterized in that less than the number of 1 mm 2 per second plurality of gap holding members. According to a third aspect of the present invention, there is provided a first substrate having a liquid crystal, a sealing material for sealing a liquid crystal injection port, a sealing material, a pixel region, and a drive circuit region, and a first and a second substrate A second substrate having a plurality of gap holding members, wherein the liquid crystal and the first and second plurality of gap holding members are the first substrate, the second substrate, and the sealing. The first plurality of gap holding members are disposed between a first side of the first substrate and the pixel region, and The second plurality of gap holding members are disposed between a second side of the first substrate and the pixel region, and the first plurality of gap holding members are the first plurality of gap holding members. Are arranged side by side along a direction parallel to the side of the second plurality of gap holding members, The first side faces the second side, and the first plurality of gap holding members include the sealing material and the second side. The second plurality of gap holding members are disposed between the pixel region and the drive circuit region, and the first plurality of gap holding members are disposed between the pixel region and the pixel region. In the liquid crystal display device, an interval between adjacent gap holding members in the gap holding member is larger than an interval between adjacent gap holding members in the second plurality of gap holding members. According to a fourth aspect of the present invention, there is provided a first substrate having a liquid crystal, a sealing material for sealing a liquid crystal injection port, a sealing material, a pixel region, and a drive circuit region, and first to fourth A second substrate having a plurality of gap holding members, wherein the liquid crystal and the first to fourth gap holding members include the first substrate, the second substrate, and the sealing. The first plurality of gap holding members are disposed between a first side of the first substrate and the pixel region, and The second plurality of gap holding members are disposed between the second side of the first substrate and the pixel region, and the third plurality of gap holding members are the first plurality of gap holding members. Arranged between the third side of the substrate and the pixel region, and the fourth plurality of gaps. The holding member is disposed between the fourth side of the first substrate and the pixel region, and the first plurality of gap holding members are parallel to the first side. The second plurality of gap holding members are arranged side by side along a direction parallel to the second side, and the third plurality of gap holding members. Are arranged side by side along the direction parallel to the third side, and the plurality of fourth gap holding members are arranged side by side along the direction parallel to the fourth side. The first side is opposed to the second side, the third side is opposed to the fourth side, and the first plurality of gap holding members are the sealing material, the pixel, And the second plurality of gap retaining members are arranged between the pixel region and the pixel region. Said drive circuit region is arranged between the said density of the first plurality of gap retaining members (pieces / mm 2), the density of the second to fourth plurality of gap retaining members (pieces / It is a liquid crystal display device characterized by being smaller than mm 2 ). According to a fifth aspect of the present invention, there is provided a first substrate having a liquid crystal, a sealing material for sealing a liquid crystal injection port, a sealing material, a pixel region, and a drive circuit region, and first to fourth A second substrate having a plurality of gap holding members, wherein the liquid crystal and the first to fourth gap holding members include the first substrate, the second substrate, and the sealing. The first plurality of gap holding members are disposed between a first side of the first substrate and the pixel region, and The second plurality of gap holding members are disposed between the second side of the first substrate and the pixel region, and the third plurality of gap holding members are the first plurality of gap holding members. Arranged between the third side of the substrate and the pixel region, and the fourth plurality of gaps. The holding member is disposed between the fourth side of the first substrate and the pixel region, and the first plurality of gap holding members are parallel to the first side. The second plurality of gap holding members are arranged side by side along a direction parallel to the second side, and the third plurality of gap holding members. Are arranged side by side along the direction parallel to the third side, and the plurality of fourth gap holding members are arranged side by side along the direction parallel to the fourth side. The first side is opposed to the second side, the third side is opposed to the fourth side, and the first plurality of gap holding members are the sealing material, the pixel, And the second plurality of gap retaining members are arranged between the pixel region and the pixel region. Said drive circuit region is arranged between the, from the 1 mm 2 number per the first plurality of gap holding member, the number of 1 mm 2 per second to fourth plurality of gap holding member It is a liquid crystal display device characterized by having a small amount. According to a sixth aspect of the present invention, there is provided a first substrate having a liquid crystal, a sealing material for sealing a liquid crystal injection port, a sealing material, a pixel region, and a drive circuit region, and first to fourth A second substrate having a plurality of gap holding members, wherein the liquid crystal and the first to fourth gap holding members include the first substrate, the second substrate, and the sealing. The first plurality of gap holding members are disposed between a first side of the first substrate and the pixel region, and The second plurality of gap holding members are disposed between the second side of the first substrate and the pixel region, and the third plurality of gap holding members are the first plurality of gap holding members. Arranged between the third side of the substrate and the pixel region, and the fourth plurality of gaps. The holding member is disposed between the fourth side of the first substrate and the pixel region, and the first plurality of gap holding members are parallel to the first side. The second plurality of gap holding members are arranged side by side along a direction parallel to the second side, and the third plurality of gap holding members. Are arranged side by side along the direction parallel to the third side, and the plurality of fourth gap holding members are arranged side by side along the direction parallel to the fourth side. The first side is opposed to the second side, the third side is opposed to the fourth side, and the first plurality of gap holding members are the sealing material, the pixel, And the second plurality of gap retaining members are arranged between the pixel region and the pixel region. The gaps between the adjacent gap holding members in the first plurality of gap holding members are arranged to be adjacent to each other in the second to fourth gap holding members. It is a liquid crystal display device characterized by being larger than the interval between members. According to a seventh aspect of the present invention, there is provided a liquid crystal, a sealing material for sealing a liquid crystal injection port, a sealing material, a pixel electrode contributing to display, and a pixel TFT electrically connected to the pixel electrode contributing to display. A first substrate having a first region provided with a driving circuit TFT, a second substrate having a plurality of gap holding members, and a second substrate having a second region provided with a driving circuit TFT; The liquid crystal and the first and second plurality of gap holding members are surrounded by the first substrate, the second substrate, the sealing material, and the sealing material, The first plurality of gap holding members are arranged between a first side of the first substrate and the first region, and the second plurality of gap holding members are It is arranged between the second side of the first substrate and the first region, The plurality of gap holding members are arranged side by side along the direction parallel to the first side, and the plurality of gap holding members are arranged along the direction parallel to the second side. The first side faces the second side, and the first plurality of gap holding members are between the sealing material and the first region. The second plurality of gap holding members are arranged between the first region and the second region, and the density of the first plurality of gap holding members ( Pieces / mm 2 ) is smaller than the density (pieces / mm 2 ) of the second plurality of gap holding members . According to an eighth aspect of the present invention, there is provided a liquid crystal, a sealing material for sealing a liquid crystal inlet, a sealing material, a pixel electrode contributing to display, and a pixel TFT electrically connected to the pixel electrode contributing to display. A first substrate having a first region provided with a driving circuit TFT, a second substrate having a plurality of gap holding members, and a second substrate having a second region provided with a driving circuit TFT; The liquid crystal and the first and second plurality of gap holding members are surrounded by the first substrate, the second substrate, the sealing material, and the sealing material, The first plurality of gap holding members are arranged between a first side of the first substrate and the first region, and the second plurality of gap holding members are It is arranged between the second side of the first substrate and the first region, 1 of a plurality of gap retaining members are arranged side by side along the first side and parallel to the direction
The second plurality of gap holding members are arranged side by side along a direction parallel to the second side, the first side faces the second side, and the first side The plurality of gap holding members are arranged between the sealing material and the first region, and the second plurality of gap holding members are the first region and the second region. and regions are disposed between the 1 mm 2 number per the first plurality of gap holding member, characterized in that less than the number of 1 mm 2 per second plurality of gap holding member The liquid crystal display device. The invention according to claim 9 includes a liquid crystal, a sealing material for sealing a liquid crystal injection port, a sealing material, a pixel electrode contributing to display, and a pixel TFT electrically connected to the pixel electrode contributing to display. A first substrate having a first region provided with a driving circuit TFT, a second substrate having a plurality of gap holding members, and a second substrate having a second region provided with a driving circuit TFT; The liquid crystal and the first and second plurality of gap holding members are surrounded by the first substrate, the second substrate, the sealing material, and the sealing material, The first plurality of gap holding members are arranged between a first side of the first substrate and the first region, and the second plurality of gap holding members are It is arranged between the second side of the first substrate and the first region, The plurality of gap holding members are arranged side by side along the direction parallel to the first side, and the plurality of gap holding members are arranged along the direction parallel to the second side. The first side faces the second side, and the first plurality of gap holding members are between the sealing material and the first region. The second plurality of gap holding members are arranged between the first region and the second region, and are adjacent to each other in the first plurality of gap holding members. In the liquid crystal display device, an interval between the gap holding members is larger than an interval between adjacent gap holding members in the second plurality of gap holding members. According to a tenth aspect of the present invention, there is provided a liquid crystal, a sealing material for sealing a liquid crystal injection port, a sealing material, a pixel electrode contributing to display, and a pixel TFT electrically connected to the pixel electrode contributing to display. A first substrate having a first region provided with a driving circuit TFT, and a second substrate having a plurality of first to fourth gap holding members; And the liquid crystal and the first to fourth gap holding members are surrounded by the first substrate, the second substrate, the sealing material, and the sealing material, The first plurality of gap holding members are arranged between a first side of the first substrate and the first region, and the second plurality of gap holding members are It is arranged between the second side of the first substrate and the first region, and the front The third plurality of gap holding members are disposed between a third side of the first substrate and the first region, and the fourth plurality of gap holding members are The first plurality of gap holding members are arranged between a fourth side of the first substrate and the first region, and the first plurality of gap holding members are along a direction parallel to the first side. The second plurality of gap holding members are arranged side by side along a direction parallel to the second side, and the third plurality of gap holding members are The fourth plurality of gap holding members are arranged side by side along the direction parallel to the fourth side, and are arranged along the direction parallel to the third side. The side of the first side faces the second side, the third side faces the fourth side, and the first side The plurality of gap holding members are disposed between the sealing material and the first region, and the second plurality of gap holding members include the first region and the second region. The density of the first plurality of gap holding members (pieces / mm 2 ) is equal to the density of the second to fourth gap holding members (pieces / mm 2 ). It is a liquid crystal display device characterized by being smaller. According to an eleventh aspect of the present invention, there is provided a liquid crystal, a sealing material for sealing a liquid crystal inlet, a sealing material, a pixel electrode contributing to display, and a pixel TFT electrically connected to the pixel electrode contributing to display. A first substrate having a first region provided with a driving circuit TFT, and a second substrate having a plurality of first to fourth gap holding members; And the liquid crystal and the first to fourth gap holding members are surrounded by the first substrate, the second substrate, the sealing material, and the sealing material, The first plurality of gap holding members are arranged between a first side of the first substrate and the first region, and the second plurality of gap holding members are It is arranged between the second side of the first substrate and the first region, and the front The third plurality of gap holding members are disposed between a third side of the first substrate and the first region, and the fourth plurality of gap holding members are The first plurality of gap holding members are arranged between a fourth side of the first substrate and the first region, and the first plurality of gap holding members are along a direction parallel to the first side. The second plurality of gap holding members are arranged side by side along a direction parallel to the second side, and the third plurality of gap holding members are The fourth plurality of gap holding members are arranged side by side along the direction parallel to the fourth side, and are arranged along the direction parallel to the third side. The side of the first side faces the second side, the third side faces the fourth side, and the first side The plurality of gap holding members are disposed between the sealing material and the first region, and the second plurality of gap holding members include the first region and the second region. is disposed between the regions, the number of 1 mm 2 per of the first plurality of gap retaining member is smaller than the number of 1 mm 2 per second to fourth plurality of gap holding member This is a liquid crystal display device. According to a twelfth aspect of the present invention, a liquid crystal, a sealing material for sealing a liquid crystal injection port, a sealing material, a pixel electrode contributing to display, and a pixel TFT electrically connected to the pixel electrode contributing to display A first substrate having a first region provided with a driving circuit TFT, and a second substrate having a plurality of first to fourth gap holding members; And the liquid crystal and the first to fourth gap holding members are surrounded by the first substrate, the second substrate, the sealing material, and the sealing material, The first plurality of gap holding members are arranged between a first side of the first substrate and the first region, and the second plurality of gap holding members are It is arranged between the second side of the first substrate and the first region, and the front The third plurality of gap holding members are disposed between a third side of the first substrate and the first region, and the fourth plurality of gap holding members are The first plurality of gap holding members are arranged between a fourth side of the first substrate and the first region, and the first plurality of gap holding members are along a direction parallel to the first side. The second plurality of gap holding members are arranged side by side along a direction parallel to the second side, and the third plurality of gap holding members are The fourth plurality of gap holding members are arranged side by side along the direction parallel to the fourth side, and are arranged along the direction parallel to the third side. The side of the first side faces the second side, the third side faces the fourth side, and the first side The plurality of gap holding members are disposed between the sealing material and the first region, and the second plurality of gap holding members include the first region and the second region. The gap between adjacent gap holding members in the first plurality of gap holding members is the interval between adjacent gap holding members in the second to fourth gap holding members. It is a liquid crystal display device characterized by being larger than the above.

本発明に係る液晶表示装置の作製方法の第１の構成（参考発明）は、第１の基板と、前記第１の基板に対向する第２の基板とを有し、前記第１の基板には、薄膜トランジスタと、前記薄膜トランジスタに接続された画素電極とが設けられた液晶表示装置の作製方法であって、前記第１の基板上に第１の配向膜を形成し、前記第２の基板に感光性樹脂膜を形成し、光を照射することにより前記感光性樹脂膜を感光させ、前記感光性樹脂膜から複数のギャップ保持部材を形成し、前記複数のギャップ保持部材を形成した後、前記第２の基板上に第２の配向膜を形成し、前記第１の配向膜と前記第２の配向膜にはラビング処理を行わないことを特徴とする。また、本発明に係る液晶表示装置の作製方法の第２の構成（参考発明）は、第１の基板と、前記第１の基板に対向する第２の基板とを有し、前記第１の基板には、薄膜トランジスタと、前記薄膜トランジスタに接続された画素電極とが設けられた液晶表示装置の作製方法であって、前記第１の基板上に第１の垂直配向膜を形成し、前記第２の基板に感光性樹脂膜を形成し、光を照射することにより前記感光性樹脂膜を感光させ、前記感光性樹脂膜から複数のギャップ保持部材を形成し、前記複数のギャップ保持部材を形成した後、前記第２の基板上に第２の垂直配向膜を形成し、前記第１の垂直配向膜と前記第２の垂直配向膜にはラビング処理を行わないことを特徴とする。
 A first configuration (reference invention) of a manufacturing method of a liquid crystal display device according to the present invention includes a first substrate and a second substrate facing the first substrate, and the first substrate includes Is a method of manufacturing a liquid crystal display device provided with a thin film transistor and a pixel electrode connected to the thin film transistor, in which a first alignment film is formed on the first substrate, and the second substrate is formed. Forming a photosensitive resin film, exposing the photosensitive resin film by irradiating light, forming a plurality of gap holding members from the photosensitive resin film, and forming the plurality of gap holding members; A second alignment film is formed on the second substrate, and the first alignment film and the second alignment film are not rubbed. The second configuration (reference invention) of the method for manufacturing a liquid crystal display device according to the present invention includes a first substrate and a second substrate facing the first substrate, and the first substrate A method of manufacturing a liquid crystal display device in which a thin film transistor and a pixel electrode connected to the thin film transistor are provided on a substrate, wherein a first vertical alignment film is formed on the first substrate, and the second A photosensitive resin film is formed on the substrate, and the photosensitive resin film is exposed by irradiating light to form a plurality of gap holding members from the photosensitive resin film, thereby forming the plurality of gap holding members. Thereafter, a second vertical alignment film is formed on the second substrate, and the first vertical alignment film and the second vertical alignment film are not rubbed.

上記の第１又は第２の構成において、ギャップ保持部材を設けたため、第１に、スペー
サが不要になる。第２に、ギャップ保持部材の高さを任意に設定できるので、基板間距離
を任意に決定することができる。第３に、ギャップ保持部材が固定されているので、従来
のスペーサのようにダマ状に凝集することが無く、点欠陥となることがない。 In the first or second configuration described above, since the gap holding member is provided, first, a spacer is unnecessary. Second, since the height of the gap holding member can be set arbitrarily, the distance between the substrates can be determined arbitrarily. Third, since the gap holding member is fixed, it does not agglomerate like a conventional spacer and does not cause point defects.

また、上記第１の構成および第２の構成では、ギャップ保持部材の位置を適宜に設定できる。例えば、ギャップ保持部材が、前記画素領域と概略対向する領域に設けることができる。この場合には、ギャップ保持部材をカラーフィルタのブラックマトリクス上や、画素領域のバスライン上等の表示に使用されない箇所に設けると良い。あるいは、ギャップ保持部材を画素領域と対向しない領域に設けることによって、表示に影響を与えないで基板間隔を保持することができる。
In the first configuration and the second configuration , the position of the gap holding member can be set as appropriate. For example, a gap holding member can be provided in a region substantially opposite to the pixel region. In this case, the gap holding member is preferably provided at a place not used for display, such as on the black matrix of the color filter or on the bus line of the pixel region. Alternatively, by providing the gap holding member in a region that does not face the pixel region, the substrate interval can be held without affecting the display.

また、本発明を、第１の基板（ＴＦＴ基板）に、画素領域と、画素領域に配置されたス
イッチング素子を駆動する駆動回路が配置された駆動回路領域と、を設けた表示装置に適
用した場合、ギャップ保持部材を第２の基板（対向基板）のうち、第１の基板に設けられ
た駆動回路領域と対向しない領域に設けるとよい。この場合、ギャップ保持部材による応
力によって、駆動回路を損傷・破壊することを回避できる。 Further, the present invention is applied to a display device in which a first substrate (TFT substrate) is provided with a pixel region and a drive circuit region in which a drive circuit for driving a switching element disposed in the pixel region is disposed. In this case, the gap holding member may be provided in a region of the second substrate (counter substrate) that does not face the drive circuit region provided in the first substrate. In this case, it is possible to avoid damaging or destroying the drive circuit due to the stress caused by the gap holding member.

更に本発明では、ギャップ保持部材を第２の基板に設けたため、ギャップ保持部材の形
成工程によって生ずる影響（溶剤やエッチェントによる影響、機械的な衝撃等）を第１の
基板に与えずに済む。第１の基板には画素領域や駆動回路が配置されるため、第２の基板
と比較して非常に集積度が高い。そのため、本発明では、第１の基板に対する処理をでき
るだけ少なくするために、第２の基板にギャップ保持部材を設けるようにしたものである
。 Furthermore, in the present invention, since the gap holding member is provided on the second substrate, it is not necessary to give the first substrate the influence (the influence of the solvent or the etchant, the mechanical shock, etc.) caused by the gap holding member forming process. Since a pixel region and a driver circuit are arranged on the first substrate, the degree of integration is very high compared to the second substrate. Therefore, in the present invention, a gap holding member is provided on the second substrate in order to minimize the processing on the first substrate.

更に、本発明のギャップ保持部材は第２の基板に設けることによって、材料を選択する
際の条件が、第１の基板に設けた場合よりも緩やかになる。例えば、本発明を、ＴＦＴを
有する液晶表示装置に用いた場合、第１の基板（ＴＦＴ基板）には画素ＴＦＴや駆動回路
ＴＦＴが形成されているため、ギャップ保持部材の材料としては、これらＴＦＴを構成す
る材料に対して、エッチング選択比をとれるような材料を選択しなければならない。 Furthermore, by providing the gap holding member of the present invention on the second substrate, the conditions for selecting the material become gentler than those provided on the first substrate. For example, when the present invention is used in a liquid crystal display device having TFTs, pixel TFTs and driving circuit TFTs are formed on the first substrate (TFT substrate). It is necessary to select a material that can achieve an etching selectivity with respect to the material constituting the film.

他方、第２の基板（対向基板）には、対向電極、カラーフィルタが形成される程度であ
り、ＴＦＴ基板と比較して使用される材料は少ないので、対向基板にギャップ保持部材を
形成する場合には、材料を選択する条件が少なくなる。更に、ギャップ保持部材の作製に
必要なエッチング液やエッチングガス等の材料や、作製手段の選択幅も広くなる。 On the other hand, on the second substrate (counter substrate), the counter electrode and the color filter are only formed, and the amount of material used is less than that of the TFT substrate. Therefore, the conditions for selecting the material are reduced. Furthermore, the selection range of materials such as an etchant and an etching gas necessary for manufacturing the gap holding member and the manufacturing means is widened.

また、基板の隙間を均一に維持できるようにするため、本発明のギャップ保持部材は下
地の凹凸を相殺できる平坦化材料で形成するのが好ましい。例えば、ポリイミド、アクリ
ル、ポリアミド、またはポリイミドアミドから選ばれた樹脂材料や、紫外線硬化性樹脂、
エポキシ樹脂を代表とする熱硬化性樹脂を用いることができる。 Further, in order to maintain a uniform gap between the substrates, the gap holding member of the present invention is preferably formed of a planarizing material that can offset the unevenness of the base. For example, a resin material selected from polyimide, acrylic, polyamide, or polyimide amide, an ultraviolet curable resin,
A thermosetting resin typified by an epoxy resin can be used.

上記の樹脂材料はＴＦＴ基板（第１の基板）の層間絶縁膜として使用されることが多く
、このような場合、ＴＦＴ基板に、樹脂材料でなるギャップ保持部材を設けると、エッチ
ングの選択比をとることが困難である。そこで、本発明では、ギャップ保持部材を対向基
板（第２の基板）に形成するようにしたものである。 The above resin material is often used as an interlayer insulating film of a TFT substrate (first substrate). In such a case, if a gap holding member made of a resin material is provided on the TFT substrate, the etching selectivity is increased. It is difficult to take. Therefore, in the present invention, the gap holding member is formed on the counter substrate (second substrate).

本発明では、ギャップ保持部材を設けたため、スペーサが不要になる。また、ギャップ
保持部材の高さを任意に設定できるので、基板間距離を任意に決定することができる。そ
のため、特に、基板間隔が２〜３μｍ程度の反射型の液晶表示装置や、２μｍ以下とする
強誘電性液晶表示装置のような、狭い基板間隔を保持する表示装置に本発明は特に好適で
ある。また、微細な画素配置を有する投射型液晶パネルにも好適である。 In the present invention, since the gap holding member is provided, a spacer is unnecessary. Further, since the height of the gap holding member can be set arbitrarily, the distance between the substrates can be determined arbitrarily. Therefore, the present invention is particularly suitable for a display device that maintains a narrow substrate interval, such as a reflective liquid crystal display device having a substrate interval of about 2 to 3 μm or a ferroelectric liquid crystal display device having a substrate interval of 2 μm or less. . It is also suitable for a projection type liquid crystal panel having a fine pixel arrangement.

また、ギャップ保持部材は第２の基板（対向基板）に固定されており、ギャップ保持部
材が凝集することによる点欠陥の発生を防止することができる。 Further, the gap holding member is fixed to the second substrate (counter substrate), and the occurrence of point defects due to the aggregation of the gap holding member can be prevented.

また、ギャップ保持部材の形成位置を制御できるため、その形成位置を画素領域外部や
、バスライン上やブラックマトリクス上等の表示に寄与しない箇所に設けることで、表示
不良の原因を減らすことができる。 In addition, since the formation position of the gap holding member can be controlled, the cause of display defects can be reduced by providing the formation position outside the pixel region or on a location that does not contribute to display, such as on the bus line or the black matrix. .

また、本発明では、ギャップ保持部材を第２の基板に設けたため、ギャップ保持部材の
形成工程によって生ずる影響（エッチェントによる影響、機械的な衝撃等）を第１の基板
に形成された素子に与えずに済むため、歩留まりを向上させることができる。 Further, in the present invention, since the gap holding member is provided on the second substrate, an influence (an influence by an etchant, a mechanical impact, etc.) generated by the gap holding member forming process is given to the element formed on the first substrate. Therefore, the yield can be improved.

また、ギャップ保持部材を第２の基板に設けたことにより、ＴＦＴ等のスイッチング素
子が設けられた第１の基板（ＴＦＴ基板）に設けるよりも、ギャップ保持部材に使用でき
る材料の選択が容易になる。また、ギャップ保持部材の作製に必要なエッチング材等の材
料や、手段の選択幅も広い。 In addition, by providing the gap holding member on the second substrate, it is easier to select a material that can be used for the gap holding member than on the first substrate (TFT substrate) provided with a switching element such as a TFT. Become. In addition, the selection range of materials and means such as an etching material necessary for manufacturing the gap holding member is wide.

実施例１の液晶表示装置の断面構成の概略図である。1 is a schematic diagram of a cross-sectional configuration of a liquid crystal display device of Example 1. FIG. 実施例１のＴＦＴ基板、対向基板の正面図である。2 is a front view of a TFT substrate and a counter substrate of Example 1. FIG. 実施例１のＴＦＴ基板の作製工程を示す図である。6 is a diagram showing a manufacturing process of the TFT substrate of Example 1. FIG. 実施例１のＴＦＴ基板の作製工程を示す図である。6 is a diagram showing a manufacturing process of the TFT substrate of Example 1. FIG. 実施例１の対向基板の作製工程を示す図である。6 is a diagram illustrating a manufacturing process of a counter substrate according to Example 1. FIG. 実施例１の対向基板の正面図および斜視図である。2 is a front view and a perspective view of a counter substrate of Example 1. FIG. 実施例５の対向基板の正面図である。10 is a front view of a counter substrate of Example 5. FIG. 実施例４の対向基板の正面図である。6 is a front view of a counter substrate of Example 4. FIG. 実施例６の対向基板の正面図である。10 is a front view of a counter substrate of Example 6. FIG. 実施例７の対向基板の正面図である。10 is a front view of a counter substrate of Example 7. FIG. 実施例７の対向基板の正面図である。10 is a front view of a counter substrate of Example 7. FIG. 実施例８の対向基板の正面図である。10 is a front view of a counter substrate of Example 8. FIG.

図１〜図６を用いて本実施例を説明する。本実施例は、本発明をアクティブマトリクス
型液晶表示装置へ応用した例を説明する。図１は液晶表示装置の断面構成の概略図であり
、図２（Ａ）はＴＦＴ基板の正面図であり、図２（Ｂ）は対向基板の正面図である。 The present embodiment will be described with reference to FIGS. In this embodiment, an example in which the present invention is applied to an active matrix liquid crystal display device will be described. 1 is a schematic view of a cross-sectional configuration of a liquid crystal display device, FIG. 2A is a front view of a TFT substrate, and FIG. 2B is a front view of a counter substrate.

図２（Ａ）に示すように、ＴＦＴ基板１００は、基板１０１上に、画素電極や画素電極
に接続されたＴＦＴ等が配置された画素領域１０２と、画素領域１０２のＴＦＴを駆動す
るための駆動回路が配置された駆動回路領域１０３、１０４からなる。 As shown in FIG. 2A, a TFT substrate 100 includes a pixel region 102 in which a pixel electrode, a TFT connected to the pixel electrode, and the like are arranged on a substrate 101, and a TFT for driving the TFT in the pixel region 102. It consists of drive circuit areas 103 and 104 in which drive circuits are arranged.

また、図２（Ｂ）に示すように、対向基板２００は、基板２０１と、２０２で示される
ＴＦＴ基板１００の画素領域１０２と対向する領域と、２０３、２０４で示される駆動回
路領域１０３、１０４と対向する領域とでなる。図１に示すように、基板２０１周辺に設
けられたシール材２０５により、ＴＦＴ基板１００と対向基板２００が貼り合わされる。 2B, the counter substrate 200 includes a substrate 201, a region facing the pixel region 102 of the TFT substrate 100 indicated by 202, and drive circuit regions 103 and 104 indicated by 203 and 204. And a region facing each other. As shown in FIG. 1, the TFT substrate 100 and the counter substrate 200 are bonded together by a sealant 205 provided around the substrate 201.

更に、図１に示すように、対向基板２００には、画素領域１０２に対向する対向電極２
１０と、ＴＦＴ基板１００と対向基板２００との隙間を保持するためのギャップ保持部材
２２０が設けられている。 Further, as shown in FIG. 1, the counter substrate 200 includes a counter electrode 2 facing the pixel region 102.
10 and a gap holding member 220 for holding a gap between the TFT substrate 100 and the counter substrate 200 is provided.

ＴＦＴ基板１００と対向基板２００の隙間には、液晶注入口２０６から液晶３００が注
入され、シール材２０５により液晶３００が封止される。また、ＴＦＴ基板１００、対向
基板２００には、それぞれ液晶３００を配向するための配向膜１１０、２３０を有する。 The liquid crystal 300 is injected from the liquid crystal injection port 206 into the gap between the TFT substrate 100 and the counter substrate 200, and the liquid crystal 300 is sealed with the sealing material 205. Further, the TFT substrate 100 and the counter substrate 200 have alignment films 110 and 230 for aligning the liquid crystal 300, respectively.

次に、図３、４を用いてＴＦＴ基板１００の作製方法について説明する。図３、４の右
側に画素領域１０２に配置されるＴＦＴの作製工程を示し、左側に駆動回路領域１０３、
１０４に配置されるＴＦＴの作製工程を示す。 Next, a method for manufacturing the TFT substrate 100 will be described with reference to FIGS. FIGS. 3 and 4 show a manufacturing process of a TFT arranged in the pixel region 102 on the right side, and a driver circuit region 103 on the left side.
A manufacturing process of a TFT arranged in 104 is shown.

まず、図３（Ａ）を参照する。ガラス基板１０１上に、ガラス基板からの不純物拡散防
止用の下地絶縁膜１２１として酸化珪素膜を１００〜３００ｎｍの厚さに形成する。この
酸化珪素膜の形成方法としては、酸素雰囲気中でのスパッタ法やプラズマＣＶＤ法を用い
ればよい。本実施例では、ＴＥＯＳガスを原料にしてプラズマＣＶＤ法によって、酸化珪
素膜を２００ｎｍの厚さに形成した。なお、基板１０１に石英基板を用いた場合には、下
地絶縁膜１２１は不要である。 First, reference is made to FIG. A silicon oxide film having a thickness of 100 to 300 nm is formed on the glass substrate 101 as a base insulating film 121 for preventing diffusion of impurities from the glass substrate. As a method for forming this silicon oxide film, a sputtering method or a plasma CVD method in an oxygen atmosphere may be used. In this embodiment, a silicon oxide film having a thickness of 200 nm is formed by plasma CVD using TEOS gas as a raw material. Note that when the quartz substrate is used as the substrate 101, the base insulating film 121 is not necessary.

次に、プラズマＣＶＤ法やＬＰＣＶＤ法によってアモルファスもしくは多結晶のシリコ
ン膜を３０〜１５０ｎｍ、好ましくは５０〜１００ｎｍの厚さに形成する。そして、熱ア
ニールを行い、シリコン膜を結晶化させる。熱アニールは５００℃以上、好ましくは８０
０〜９００℃の温度で行う。熱アニールによってシリコン膜を結晶化させた後、光アニー
ルを行うことによって更に結晶性を高めてもよい。また、熱アニールによってシリコン膜
を結晶化させる際に、特開平６−２４４１０４号公報に開示されているように、ニッケル
等の元素（触媒元素）を添加することによって、シリコンの結晶化を促進させてもよい。 Next, an amorphous or polycrystalline silicon film is formed to a thickness of 30 to 150 nm, preferably 50 to 100 nm, by plasma CVD or LPCVD. Then, thermal annealing is performed to crystallize the silicon film. Thermal annealing is 500 ° C. or higher, preferably 80 ° C.
It is carried out at a temperature of 0 to 900 ° C. Crystallization may be further enhanced by crystallizing the silicon film by thermal annealing and then performing optical annealing. Further, when a silicon film is crystallized by thermal annealing, the crystallization of silicon is promoted by adding an element (catalyst element) such as nickel as disclosed in JP-A-6-244104. May be.

本実施例では、プラズマＣＶＤ法によって、アモルファスシリコン膜を５０ｎｍの厚さ
に形成した後、４５０℃で１時間加熱して水素出しを行い、エキシマレーザ光を照射し多
結晶化した。そして、多結晶化したシリコン膜をパターニングして、島状の周辺駆動回路
ＴＦＴの活性層（Ｐチャネル型ＴＦＴ活性層１２２、Ｎチャネル型ＴＦＴ活性層１２３）
、および画素ＴＦＴの活性層１２４を形成する。図３では便宜上、３つのＴＦＴだけを図
示したが、実際は、数百万個のＴＦＴを同時に形成する。 In this example, an amorphous silicon film was formed to a thickness of 50 nm by plasma CVD, and then heated at 450 ° C. for 1 hour to dehydrogenate, and irradiated with excimer laser light to be polycrystallized. Then, the polycrystallized silicon film is patterned to form island-shaped peripheral drive circuit TFT active layers (P-channel TFT active layer 122, N-channel TFT active layer 123).
And an active layer 124 of the pixel TFT. Although only three TFTs are shown in FIG. 3 for convenience, in reality, millions of TFTs are formed simultaneously.

次にゲイト絶縁膜１２５を形成する。本実施例では、プラズマＣＶＤ法によって、一酸
化二窒素（Ｎ２Ｏ）とモノシラン（ＳｉＨ４）との混合ガスを原料ガスにして、厚さ１２
０ｎｍの絶縁膜を形成した。 Next, a gate insulating film 125 is formed. In this embodiment, a thickness of 12 by using a mixed gas of dinitrogen monoxide (N 2 O) and monosilane (SiH 4 ) as a source gas by plasma CVD.
An insulating film having a thickness of 0 nm was formed.

その後、スパッタ法でアルミニウム膜を３００ｎｍの厚さに形成し、パターニングして
、ゲイト電極１２６、１２７、１２８をそれぞれ形成する。 Thereafter, an aluminum film is formed to a thickness of 300 nm by sputtering and patterned to form gate electrodes 126, 127, and 128, respectively.

次に、図３（Ｂ）に示すように、イオンドーピング法によって全ての島状活性層１２２
〜１２４にゲイト電極１２６〜１２８をマスクにして、リンイオンを自己整合的にドーピ
ングをする。ドーピングガスはフォスフィン（ＰＨ２）を用いる。この時の、ドーズ量は
１×１０１２〜５×１０１３原子／ｃｍ２とする。この結果、弱いＮ型領域（Ｎ−領域）
１２９、１３０、１３１が形成される。 Next, as shown in FIG. 3B, all island-like active layers 122 are formed by ion doping.
To 124, the gate electrodes 126 to 128 are used as a mask, and phosphorus ions are doped in a self-aligning manner. Phosphine (PH 2 ) is used as the doping gas. At this time, the dose is 1 × 10 12 to 5 × 10 13 atoms / cm 2 . As a result, a weak N-type region (N - region)
129, 130, 131 are formed.

次に、図３（Ｃ）に示すように、Ｐチャネル型ＴＦＴの活性層１２２全てを覆うフォト
レジストのマスク１３２と、画素ＴＦＴの活性層１２４の一部を覆うフォトレジストのマ
スク１３４を形成する。マスク１３４は、ゲイト電極１２８と平行に、ゲイト電極１２８
の端から３μｍ離れた部分までを覆う。 Next, as shown in FIG. 3C, a photoresist mask 132 covering the entire active layer 122 of the P-channel TFT and a photoresist mask 134 covering a part of the active layer 124 of the pixel TFT are formed. . The mask 134 is parallel to the gate electrode 128 and is connected to the gate electrode 128.
Cover up to 3 μm away from the edge.

そして、再びイオンドーピング法によって燐イオンを注入する。ドーピングガスは、フ
ォスフィンを用いる。ドーズ量は１×１０１４〜５×１０１５原子／ｃｍ２とする。この
結果、強いＮ型領域（Ｎ＋領域）のソース／ドレイン１３５、１３６が形成される。画素
ＴＦＴの活性層１２４の弱いＮ型領域（Ｎ−領域）１３１のうちマスク１３４で覆われて
いた領域１３７は、今回のドーピングでは燐イオンは注入されない。したがって、領域１
３７は弱いＮ型領域のままである。なお、低濃度不純物領域１３７の幅ｘは約３μｍとし
た。 Then, phosphorus ions are implanted again by ion doping. As the doping gas, phosphine is used. The dose is 1 × 10 14 to 5 × 10 15 atoms / cm 2 . As a result, strong N-type region (N + region) source / drains 135 and 136 are formed. Of the weak N-type region (N − region) 131 of the active layer 124 of the pixel TFT, the region 137 covered with the mask 134 is not implanted with phosphorus ions in this doping. Therefore, region 1
37 remains a weak N-type region. The width x of the low concentration impurity region 137 was about 3 μm.

次に、図３（Ｄ）に示すように、Ｎチャネル型ＴＦＴの活性層１２３、１２４をフォト
レジストのマスク１３８で覆う。そして、ジボラン（Ｂ２Ｈ６）をドーピングガスとして
イオンドーピングを行い、島状領域１２２に硼素を注入する。ドーズ量は５×１０１４〜
８×１０１５原子／ｃｍ２とする。今回のドーピングでは、硼素のドーズ量が前述の図３
（Ｃ）で示される工程においてドーピングされた燐のドーズ量を上回るため、先に形成さ
れていた弱いＮ型領域１２９は、強いＰ型領域１３９に反転する。 Next, as shown in FIG. 3D, the active layers 123 and 124 of the N-channel TFT are covered with a photoresist mask 138. Then, ion doping is performed using diborane (B 2 H 6 ) as a doping gas, and boron is implanted into the island regions 122. The dose amount is 5 × 10 14 〜
8 × 10 15 atoms / cm 2 . In this doping, the dose of boron is as shown in FIG.
Since the dose of phosphorous doped in the step shown in FIG. 5C is exceeded, the weak N-type region 129 previously formed is inverted to the strong P-type region 139.

その後、４５０〜８５０℃で、０．５〜３時間熱アニールを施すことにより、ドーピン
グ不純物を活性化させ、かつシリコンの結晶性を回復させる。この熱アニール処理により
、ドーピングによるシリコン膜のダメージを回復する。 Thereafter, thermal annealing is performed at 450 to 850 ° C. for 0.5 to 3 hours to activate the doping impurities and restore the crystallinity of silicon. By this thermal annealing treatment, damage to the silicon film due to doping is recovered.

以上のドーピングにより、駆動回路領域１０３（１０４）には、強いＮ型領域１３５で
なるソース／ドレインを有するＮ型ＴＦＴと、強いＰ型領域１３９でなるソース／ドレイ
ンを有するＰ型ＴＦＴが形成される。また、画素領域１０２には、強いＮ型領域１３６で
なるソース／ドレインと、弱いＮ型領域でなる低濃度不純物領域１３７を有するＮ型ＴＦ
Ｔが形成される（図３（Ｄ））。 With the above doping, an N-type TFT having a source / drain consisting of a strong N-type region 135 and a P-type TFT having a source / drain consisting of a strong P-type region 139 are formed in the drive circuit region 103 (104). The The pixel region 102 has an N-type TF having a source / drain made of a strong N-type region 136 and a low-concentration impurity region 137 made of a weak N-type region.
T is formed (FIG. 3D).

次に、図３（Ｅ）示すように第１層間絶縁膜１４０を形成する。本実施例では、プラズ
マＣＶＤ法によって窒化珪素膜を５００ｎｍの厚さに形成した。第１層間絶縁膜１４０は
酸化珪素膜や酸化窒化珪素膜の単層膜、あるいは窒化珪素膜と酸化珪素膜との多層膜や、
窒化珪素膜と酸化窒化珪素膜の多層膜であってもよい。次に、第１層間絶縁膜１４０をエ
ッチングしてコンタクトホールを形成する。 Next, as shown in FIG. 3E, a first interlayer insulating film 140 is formed. In this embodiment, a silicon nitride film is formed to a thickness of 500 nm by plasma CVD. The first interlayer insulating film 140 is a single layer film of a silicon oxide film or a silicon oxynitride film, a multilayer film of a silicon nitride film and a silicon oxide film,
A multilayer film of a silicon nitride film and a silicon oxynitride film may be used. Next, the first interlayer insulating film 140 is etched to form a contact hole.

その後、スパッタ法によって、チタン／アルミニウム／チタンでなる多層膜を形成し、
これをエッチングして駆動回路の電極・配線１４１、１４２、１４３、および画素ＴＦＴ
の電極・配線１４４、１４５を形成する。本実施例では、チタンの膜厚をそれぞれ１００
ｎｍとし、アルミニウムの膜厚を３００ｎｍとした。 Thereafter, a multilayer film made of titanium / aluminum / titanium is formed by sputtering,
This is etched to form electrodes / wirings 141, 142, 143 of the drive circuit, and pixel TFTs
Electrode / wirings 144 and 145 are formed. In this example, the thickness of titanium is set to 100 respectively.
nm, and the film thickness of aluminum was 300 nm.

次に、図４（Ａ）に示すように、厚さ１．０〜２．０μｍの厚さに有機樹脂膜でなる第
２層間絶縁膜１４６を形成する。有機樹脂膜として、ポリイミド、ポリアミド、ポリイミ
ドアミド、ポリアクリル等を用いることができる。本実施例では、第２層間絶縁膜１４６
としてポリイミド膜を１．５μｍの厚さに形成した。 Next, as shown in FIG. 4A, a second interlayer insulating film 146 made of an organic resin film is formed to a thickness of 1.0 to 2.0 μm. As the organic resin film, polyimide, polyamide, polyimide amide, polyacryl, or the like can be used. In this embodiment, the second interlayer insulating film 146
As a result, a polyimide film was formed to a thickness of 1.5 μm.

そして、フォトリソグラフィー法によって画素ＴＦＴの電極１４５に達するコンタクト
ホールを形成する。そして、１ｗｔ％のチタンを添加したアルミニウム膜を３００ｎｍの
厚さに形成しパターニングして、図４（Ｂ）に示すように、画素電極１４７を形成した。 Then, a contact hole reaching the electrode 145 of the pixel TFT is formed by photolithography. Then, an aluminum film to which 1 wt% titanium was added was formed to a thickness of 300 nm and was patterned to form a pixel electrode 147 as shown in FIG.

図１（Ａ）に示すＴＦＴ基板１００の画素領域１０２においては、それぞれの画素電極
に少なくとも１つ以上のＴＦＴが配置され、電気的に接続されている。駆動回路領域１０
３、１０４には駆動回路としては、シフトレジスタやアドレスデコーダなどが用いられる
。また、その他の回路が必要に応じて構成される。 In the pixel region 102 of the TFT substrate 100 illustrated in FIG. 1A, at least one TFT is disposed and electrically connected to each pixel electrode. Drive circuit area 10
As the drive circuit for 3, 104, a shift register, an address decoder, or the like is used. Further, other circuits are configured as necessary.

このようにして、複数の駆動回路ＴＦＴ（駆動回路領域１０３、１０４）と複数の画素
ＴＦＴ（画素領域１０２）とが同一基板１０１上に一体形成されたＴＦＴ基板１００が作
製される。なお本実施例では、画素数は、縦１０２４×横７６８とした。なお、本明細書
では、最端部の画素ＴＦＴを含む画素ＴＦＴが存在する領域を画素領域と呼び、最端部の
駆動回路ＴＦＴを含む駆動回路ＴＦＴが存在する領域を駆動回路領域と呼ぶことにする。 In this manner, a TFT substrate 100 in which a plurality of drive circuit TFTs (drive circuit regions 103 and 104) and a plurality of pixel TFTs (pixel region 102) are integrally formed on the same substrate 101 is manufactured. In this embodiment, the number of pixels is 1024 vertical × horizontal 768. In this specification, the region where the pixel TFT including the pixel TFT at the endmost portion is present is called a pixel region, and the region where the drive circuit TFT including the drive circuit TFT at the endmost portion is present is referred to as a drive circuit region. To.

そして、図４（Ｃ）に示すように、ＴＦＴ基板１００を良く洗浄し、ＴＦＴ形成時の表
面処理に用いられたエッチング液、レジスト剥離液等の各種薬品を十分に洗浄した後、配
向膜１１０をＴＦＴ基板１００上に形成する。配向膜１１０の形成方法は後述する。 Then, as shown in FIG. 4C, after thoroughly cleaning the TFT substrate 100 and sufficiently cleaning various chemicals such as an etching solution and a resist stripping solution used for the surface treatment at the time of forming the TFT, the alignment film 110 is obtained. Is formed on the TFT substrate 100. A method for forming the alignment film 110 will be described later.

次に、対向基板２００の作製工程を、図５を用いて説明する。先ず図５（Ａ）を参照す
る。基板２０１として、透光性を有するガラス基板や石英基板を用いる。本実施例では、
ガラス基板を用いた。ガラス基板２０１上に、透明導電膜を形成しパターニングして、画
素領域１０２に対向する領域２０２に対向電極２１０を形成した。本実施例では、透明導
電膜として、ＩＴＯ膜を１５０ｎｍの厚さに形成した（図５（Ａ））。 Next, a manufacturing process of the counter substrate 200 will be described with reference to FIGS. First, reference is made to FIG. As the substrate 201, a light-transmitting glass substrate or quartz substrate is used. In this example,
A glass substrate was used. A transparent conductive film was formed on the glass substrate 201 and patterned to form a counter electrode 210 in a region 202 facing the pixel region 102. In this example, an ITO film having a thickness of 150 nm was formed as the transparent conductive film (FIG. 5A).

なお、必要であれば、対向電極２１０を形成する前に、カラーフィルタ、ブラックマト
リクスを、染色法や印刷法等の公知の方法で作製する。カラーフィルタには、厚さが均一
で平坦であること、耐熱性および耐薬品性に優れていること等が要求される。 If necessary, before forming the counter electrode 210, a color filter and a black matrix are produced by a known method such as a dyeing method or a printing method. The color filter is required to have a uniform and flat thickness, excellent heat resistance and chemical resistance, and the like.

次に、ギャップ保持部材２２０の形成工程を説明する。本実施例では、ギャップ保持部
材２２０を感光性の樹脂材料の１つであるポリイミドで形成する。 Next, the formation process of the gap holding member 220 will be described. In this embodiment, the gap holding member 220 is made of polyimide, which is one of photosensitive resin materials.

まず、図５（Ｂ）に示すように、スピンコート法によって感光性ポリイミド膜２１１を
厚さ３．２μｍに形成した。その後、感光性ポリイミド膜２１１の表面を対向基板２００
全面に渡って平坦にするために、３０分間、常温で放置した（レベリング）。そして、上
面に感光性ポリイミド膜２１１が形成された対向基板２００を１２０℃で３分間プリベー
クした。 First, as shown in FIG. 5B, a photosensitive polyimide film 211 was formed to a thickness of 3.2 μm by spin coating. Thereafter, the surface of the photosensitive polyimide film 211 is placed on the counter substrate 200.
In order to flatten the entire surface, it was left at room temperature for 30 minutes (leveling). Then, the counter substrate 200 with the photosensitive polyimide film 211 formed on the upper surface was pre-baked at 120 ° C. for 3 minutes.

なお、感光性ポリイミド膜２１１の膜厚で、セルギャップ（基板間隔）が決定されるの
で、セルギャップに合わせて感光性ポリイミド膜２１１の膜厚を適宜に設定すればよい。
例えば、透過型液晶表示装置であればセルギャップが４〜６μｍ程度、反射型液晶表示装
置であればセルギャップが２〜３μｍ程度、強誘電性液晶表示装置であれば２μｍ以下と
なるように、感光性ポリイミド膜２１１の膜厚を決めればよい。本実施例の液晶表示装置
は反射型であるので、感光性ポリイミド膜２１１の膜厚を３．２μｍとなるように形成し
た。 Note that since the cell gap (substrate interval) is determined by the film thickness of the photosensitive polyimide film 211, the film thickness of the photosensitive polyimide film 211 may be appropriately set in accordance with the cell gap.
For example, the cell gap is about 4 to 6 μm for a transmissive liquid crystal display device, the cell gap is about 2 to 3 μm for a reflective liquid crystal display device, and 2 μm or less for a ferroelectric liquid crystal display device. The film thickness of the photosensitive polyimide film 211 may be determined. Since the liquid crystal display device of this example is a reflective type, the photosensitive polyimide film 211 was formed to have a thickness of 3.2 μm.

次に、感光性ポリイミド膜２１１をパターニングする。図５（Ｃ）に示すように、感光
性ポリイミド膜２１１をフォトマスク２１２で覆い、マスク２１２側から紫外線を照射し
た。その後、現像処理を行い、２８０℃で１時間ポストベークを施した。こうして、図５
（Ｄ）に示すように、パターニングされたセルギャップ保持部材２２０が形成された。 Next, the photosensitive polyimide film 211 is patterned. As shown in FIG. 5C, the photosensitive polyimide film 211 was covered with a photomask 212, and ultraviolet rays were irradiated from the mask 212 side. Thereafter, development processing was performed, and post-baking was performed at 280 ° C. for 1 hour. Thus, FIG.
As shown in (D), a patterned cell gap holding member 220 was formed.

図６（Ａ）は、図５（Ｄ）に示す状態の対向基板２００の正面図であり、図６（Ｂ）は
対向基板２００の斜視図を示す。図６（Ａ）および（Ｂ）に示されるようにギャップ保持
部材２２０は円柱形状であり、従来用いられた球状のスペーサに代わるものである。その
ため、ギャップ保持部材２２０の円柱の直径は１．５〜２．５μｍ、高さは２．０〜５．
０μｍとすればよい。本実施例では、円柱の直径を３．０μｍとし、セルギャップを３．
０μｍとするため、画素対向領域２０２においてその高さを３．２μｍとした。駆動回路
対向領域２０３、２０４でのギャップ保持部材２２０の高さは対向電極２１０、カラーフ
ィルタ等の厚さ分高くなっている。 6A is a front view of the counter substrate 200 in the state shown in FIG. 5D, and FIG. 6B is a perspective view of the counter substrate 200. FIG. As shown in FIGS. 6A and 6B, the gap holding member 220 has a cylindrical shape, and is a substitute for a conventionally used spherical spacer. Therefore, the diameter of the cylinder of the gap holding member 220 is 1.5 to 2.5 μm, and the height is 2.0 to 5.
It may be 0 μm. In this embodiment, the diameter of the cylinder is 3.0 μm, and the cell gap is 3.
In order to obtain 0 μm, the height of the pixel facing region 202 is set to 3.2 μm. The height of the gap holding member 220 in the drive circuit opposing regions 203 and 204 is increased by the thickness of the counter electrode 210, the color filter, and the like.

また、本実施例では、複数のギャップ保持部材２２０をランダムに配置して、従来の球
状スペーサと同様の機能を奏するようにした。このため、ギャップ保持部材２２０の密度
は、従来の球状スペーサと同程度の４０〜１６０個／ｍｍ２程度の密度に形成すればよい
。本実施例では、５０個／ｍｍ２の密度で、ギャップ保持部材２２０をランダムに形成し
た。ギャップ保持部材２２０を対向基板２００全体にランダムに配置するため、ギャップ
保持部材２２０の位置の精度はそれほど重要ではない。よって、製造マージンを大きくす
ることができる。 Further, in this embodiment, a plurality of gap holding members 220 are randomly arranged so as to perform the same function as a conventional spherical spacer. Therefore, the density of the gap holding member 220 may be formed to 40-160 pieces / mm 2 density of about the same level as conventional spherical spacers. In this example, the gap holding member 220 was randomly formed at a density of 50 / mm 2 . Since the gap holding member 220 is randomly arranged on the entire counter substrate 200, the accuracy of the position of the gap holding member 220 is not so important. Therefore, the manufacturing margin can be increased.

その次に、配向膜１１０、２３０をＴＦＴ基板１００上および対向基板２００上に形成
する（図４（Ｃ）、図５（Ｅ）参照）。配向膜１１０、２３０の材料には、垂直配向型の
ポリイミド膜を用いた。配向膜１１０、２３０の膜厚は、６０ｎｍ〜１００ｎｍ程度とす
ればよい。 Next, alignment films 110 and 230 are formed on the TFT substrate 100 and the counter substrate 200 (see FIGS. 4C and 5E). A vertical alignment type polyimide film was used as the material of the alignment films 110 and 230. The film thickness of the alignment films 110 and 230 may be about 60 nm to 100 nm.

まず、ＴＦＴ基板１００、対向基板２００をそれぞれ洗浄した後、ポリイミド系の垂直
配向膜をスピンコート法、フレキソ印刷法、あるいはスクリーン印刷法のいずれかによっ
てＴＦＴ基板１００上および対向基板２００上にコートする。本実施例では、スピンコー
ト法によってポリイミド膜を塗布した。その後、８０℃で５分間仮焼成し、１８０℃の熱
風を送り込むことによって加熱（本焼成）し、ポリイミドを硬化させて、配向膜１１０、
２３０をそれぞれ形成した。配向膜１１０、２３０の厚さは８０ｎｍとした。 First, after each of the TFT substrate 100 and the counter substrate 200 is cleaned, a polyimide-based vertical alignment film is coated on the TFT substrate 100 and the counter substrate 200 by any one of a spin coating method, a flexographic printing method, and a screen printing method. . In this example, a polyimide film was applied by spin coating. Thereafter, the film is temporarily baked at 80 ° C. for 5 minutes, heated by sending hot air of 180 ° C. (main baking), the polyimide is cured, and the alignment film 110,
230 were formed. The thickness of the alignment films 110 and 230 was 80 nm.

なお、図５（Ｅ）では、配向膜２３０は、ギャップ保持部材２２０の側面や表面を覆っ
ていないが、本実施例では、ポリイミド被膜をスピンコート法で形成したため、ギャップ
保持部材２２０の側面や表面をこのポリイミド被膜が若干覆っている場合もあるが、ギャ
ップ保持部材２２０の高さが数μｍであるのに対し、ポリイミド被膜の厚さは数十〜百ｎ
ｍと極薄いため、また側面のような直立した部分では完全な膜を成していない場合もある
ので、図５（Ｅ）では、基板２０１の水平面に形成された配向膜２３０のみを図示した。 In FIG. 5E, the alignment film 230 does not cover the side surface or the surface of the gap holding member 220. However, in this embodiment, since the polyimide coating is formed by the spin coating method, The polyimide coating may cover the surface slightly, but the thickness of the gap holding member 220 is several μm, whereas the thickness of the polyimide coating is several tens to one hundred n.
Since the film is extremely thin as m and may not form a complete film in an upright portion such as a side surface, FIG. 5E illustrates only the alignment film 230 formed on the horizontal surface of the substrate 201. .

配向膜１１０、２３０にはポリイミドを用いたが、アクリル、ポリアミド、またはポリ
イミドアミド等の樹脂を用いてもよい。また、ギャップ保持部材に熱硬化樹脂を用いても
よい。 Although polyimide is used for the alignment films 110 and 230, a resin such as acrylic, polyamide, or polyimide amide may be used. Further, a thermosetting resin may be used for the gap holding member.

次に、ＴＦＴ基板１００の配向膜１１０の表面、と対向基板２００の配向膜２３０の表
面双方を、毛足の長さ２〜３ｍｍのバフ布（レイヨン、ナイロン等の繊維）で一定方向に
擦るラビング処理を行った。なお、ＴＦＴ基板１００と対向基板２００のラビング向きは
互いに直交するように行って、ＴＮモード型の配向処理を行った。 Next, both the surface of the alignment film 110 of the TFT substrate 100 and the surface of the alignment film 230 of the counter substrate 200 are rubbed in a fixed direction with a buff cloth (fibers such as rayon and nylon) having a length of 2 to 3 mm. A rubbing treatment was performed. Note that the rubbing directions of the TFT substrate 100 and the counter substrate 200 were orthogonal to each other, and TN mode type alignment treatment was performed.

ＴＦＴ基板１００をラビング処理する際は、イオンブロー装置や加湿装置を用いて静電
気防止処置を施して、ＴＦＴ基板１００上に形成されたＴＦＴの静電気破壊を防止した。 When rubbing the TFT substrate 100, an antistatic treatment was performed using an ion blower or a humidifier to prevent electrostatic breakdown of the TFT formed on the TFT substrate 100.

他方、対向基板２００をラビング処理する際は、ギャップ保持部材２２０を破壊しない
ように、バフ布の種類、植毛密度あるいは、ローラーの回転数等のラビング条件を設定し
た。 On the other hand, when the counter substrate 200 was rubbed, rubbing conditions such as the type of buff cloth, the flocking density, or the number of rotations of the rollers were set so as not to break the gap holding member 220.

次に、対向基板２００の周辺部に、液晶注入口２０６を残して、紫外線硬化型樹脂でな
るシール材２０５を塗布した（図２（Ｂ）参照）。そして、ＴＦＴ基板１００と対向基板
２００とを対向し、画素領域１０２のセルギャップがギャップ保持部材２２０の高さとな
るようにプレスし、この状態でシール材２０５を硬化させた。なおシール材はＴＦＴ基板
１００に塗布しても良い。 Next, a sealing material 205 made of an ultraviolet curable resin was applied to the periphery of the counter substrate 200 while leaving the liquid crystal injection port 206 (see FIG. 2B). Then, the TFT substrate 100 and the counter substrate 200 were opposed to each other and pressed so that the cell gap of the pixel region 102 became the height of the gap holding member 220, and the sealing material 205 was cured in this state. Note that the sealing material may be applied to the TFT substrate 100.

次に、表示媒体としての液晶材料を液晶注入口より注入し、ＴＦＴ基板１００と対向基
板２００との間に液晶３００が狭持された状態となる。液晶材料注入口２０６に封止剤を
塗布し、紫外線を照射することによって封止剤を硬化させ、液晶３００をセル内に完全に
封止した。以上の工程を経て、図１に示す構成を得る。 Next, a liquid crystal material as a display medium is injected from a liquid crystal injection port, and the liquid crystal 300 is sandwiched between the TFT substrate 100 and the counter substrate 200. The sealing agent was applied to the liquid crystal material injection port 206, and the sealing agent was cured by irradiating ultraviolet rays, and the liquid crystal 300 was completely sealed in the cell. The configuration shown in FIG. 1 is obtained through the above steps.

本実施例では、ギャップ保持部材の形状は、円柱状としたが、ギャップ保持部材の形状
は、楕円形、流線形、あるいは、三角形、四角形などの多角形状であってもよく、ＴＦＴ
基板（第１の基板）と対向基板（第２の基板）とのギャップを制御できる形状であれば、
いかなる形状を有することも許される。 In this embodiment, the gap holding member has a cylindrical shape, but the gap holding member may have an elliptical shape, a streamlined shape, or a polygonal shape such as a triangle or a square.
If the shape can control the gap between the substrate (first substrate) and the counter substrate (second substrate),
It is allowed to have any shape.

本実施例では、画素電極を金属材料で形成し、反射型の液晶表示装置としたが、ＴＮモ
ード型の配向処理を行いるため、透過型の液晶表示装置としてもよい。この場合、画素電
極を、ＩＴＯや、ＳｎＯ２等の透明導電膜で形成すればよい。また、本実施例ではＴＮモ
ード型としたが、他のモードでも良く、モードに合わせてラビング処理を行えばよい。 In this embodiment, the pixel electrode is formed of a metal material to form a reflective liquid crystal display device. However, since a TN mode alignment process is performed, a transmissive liquid crystal display device may be used. In this case, the pixel electrode may be formed of a transparent conductive film such as ITO or SnO 2 . In this embodiment, the TN mode type is used. However, other modes may be used, and rubbing processing may be performed in accordance with the mode.

実施例１ではプレーナ型ＴＦＴを例にとって説明してきたが、本発明は当然の如くＴＦ
Ｔの構造には何ら影響されない、したがって、画素領域および駆動回路領域の個々のＴＦ
Ｔが逆スタガ型ＴＦＴであっても、あるいはマルチゲイト型ＴＦＴであってもよい。また
、対向電極もＴＦＴ基板に形成されるＩＰＳ型の液晶パネルにも応用できる。 In the first embodiment, a planar type TFT has been described as an example.
The structure of T is not affected at all. Therefore, the individual TFs of the pixel region and the drive circuit region are not affected.
T may be an inverted staggered TFT or a multigate TFT. The counter electrode can also be applied to an IPS liquid crystal panel formed on a TFT substrate.

本実施例では、ギャップ保持部材を感光性樹脂材料で形成したため、その高さを任意に
設定することが可能であり、例えば２μｍ以下とすることも可能であるため、液晶表示装
置のセルギャップを２μｍ以下とすることも可能である。よって、本実施例のギャップ保
持部材は強誘電性液晶表示装置の液晶パネルや、投射型液晶表示装置の液晶パネルに好適
である。 In this embodiment, since the gap holding member is formed of a photosensitive resin material, the height thereof can be arbitrarily set. For example, the height can be set to 2 μm or less. Therefore, the cell gap of the liquid crystal display device can be reduced. It is also possible to make it 2 μm or less. Therefore, the gap holding member of this embodiment is suitable for a liquid crystal panel of a ferroelectric liquid crystal display device or a liquid crystal panel of a projection type liquid crystal display device.

また、本実施例では、対向基板２００にギャップ保持部材が固定したため、従来のスペ
ーサのように液晶の流入によって、凝集されることがないので、スペーサの凝集による点
欠陥をなくすことができる。 Further, in this embodiment, since the gap holding member is fixed to the counter substrate 200, it is not aggregated by the inflow of liquid crystal unlike the conventional spacer, so that point defects due to the aggregation of the spacer can be eliminated.

実施例１では、ＴＦＴ基板１００、対向基板２００双方にラビング処理を施したが、本
実施例では、ＴＦＴ基板１００の配向膜１１０のみにラビング処理を施す。ラビング処理
以外の作製工程は実施例１と同様である。 In Example 1, both the TFT substrate 100 and the counter substrate 200 were rubbed, but in this example, only the alignment film 110 of the TFT substrate 100 is rubbed. Manufacturing steps other than the rubbing treatment are the same as those in the first embodiment.

ラビング工程で使用されるバフ布は静電気や塵の発生源であるので、ラビング処理は液
晶表示装置の歩留まりを大きく左右する。本実施例では、できるだけラビング処理を少な
くするため、ＴＦＴ基板１００一方にラビング処理を施す。 Since the buffing cloth used in the rubbing process is a source of static electricity and dust, the rubbing treatment greatly affects the yield of the liquid crystal display device. In this embodiment, the rubbing process is performed on one of the TFT substrates 100 in order to reduce the rubbing process as much as possible.

対向基板２００には、ギャップ保持部材２２０の高さは数μｍ程度であり、配向膜２３
０の厚さは数十〜百ｎｍ程度であり、ギャップ保持部材２２０は液晶側に突出して形成さ
れているので、バフ布によってギャップ保持部材２２０が損傷したり、剥離するおそれが
ある。このため、ギャップ保持部材２２０の高さがばらついて、セルギャップを基板全体
、あるいは基板毎で均一に保つことが困難となる。また、ギャップ保持部材２２０の損傷
・剥離は新たな塵の発生源となってしまう。 In the counter substrate 200, the height of the gap holding member 220 is about several μm, and the alignment film 23
The thickness of 0 is about several tens to hundreds of nanometers, and the gap holding member 220 is formed so as to protrude toward the liquid crystal side. Therefore, the gap holding member 220 may be damaged or peeled off by the buff cloth. For this reason, the height of the gap holding member 220 varies, and it becomes difficult to keep the cell gap uniform for the entire substrate or for each substrate. Further, the damage and peeling of the gap holding member 220 become a new dust generation source.

また、ギャップ保持部材２２０が液晶側に突出していることで、配向膜２３０に十分に
溝を形成することが困難であり、液晶を配向させることができないおそれが生ずる。液晶
を配向できないと表示できないため、液晶を配向させることは製造歩留まりを上げるため
の重要な要素である。 Further, since the gap holding member 220 protrudes to the liquid crystal side, it is difficult to sufficiently form a groove in the alignment film 230, and the liquid crystal may not be aligned. Since it is impossible to display unless the liquid crystal is aligned, aligning the liquid crystal is an important factor for increasing the manufacturing yield.

このような問題点を回避するため、本実施例では、ＴＦＴ基板１００の配向膜１１０の
みにラビング処理を施すようにする。 In order to avoid such problems, in this embodiment, only the alignment film 110 of the TFT substrate 100 is rubbed.

本実施例でも、実施例１と同様に、配向膜１１０、２３０を垂直配向性を有するポリイ
ミド膜で形成する。そして、ＴＦＴ基板１００の配向膜１１０の表面を、毛足の長さ２〜
３ｍｍのバフ布（レイヨン、ナイロン等の繊維）で所定方向に擦るラビング処理を行う。
この場合、ＴＦＴ基板１００の製造歩留まりを下げないようにするため、ＴＦＴ基板１０
０のラビング処理では静電気防止対策を行うことが重要である。 In this embodiment, as in the first embodiment, the alignment films 110 and 230 are formed of a polyimide film having vertical alignment. Then, the surface of the alignment film 110 of the TFT substrate 100 is set to a length of 2 to 2
A rubbing process of rubbing in a predetermined direction with a 3 mm buff cloth (fiber such as rayon or nylon) is performed.
In this case, in order not to lower the manufacturing yield of the TFT substrate 100, the TFT substrate 10
In the rubbing process of 0, it is important to take antistatic measures.

実施例２ではＴＦＴ基板１００に一方にラビング処理を施したが、本実施例では、対向
基板２００の配向膜２３０のみにラビング処理を施す。ラビング処理以外の作製工程は実
施例１と同様である（図１〜６参照）。 In the second embodiment, the TFT substrate 100 is rubbed on one side, but in this embodiment, only the alignment film 230 of the counter substrate 200 is rubbed. The production steps other than the rubbing treatment are the same as in Example 1 (see FIGS. 1 to 6).

ラビング工程で使用されるバフ布は、静電気や塵の発生源となっており、ラビング処理
は液晶表示装置の歩留まりを左右する。このため、できるだけラビング処理を少なくする
ため、本実施例では、対向基板２００一方にラビング処理を施す。 The buffing cloth used in the rubbing process is a source of static electricity and dust, and the rubbing treatment affects the yield of the liquid crystal display device. Therefore, in order to reduce the rubbing process as much as possible, the rubbing process is performed on one of the counter substrates 200 in this embodiment.

ラビング工程で使用されるバフ布は、静電気や塵の発生源となるものであり、これらは
すべてＴＦＴ基板１００に形成されるＴＦＴの破壊の原因となるものである。そして、Ｔ
ＦＴ基板１００は対向基板２００に比べて多くの工程が必要である。ＴＦＴ基板１００の
不良は液晶表示装置の製造コストを上げてしまう。そこで本実施例では、ＴＦＴ基板１０
０にラビング処理を施さないようにすることで、ＴＦＴ基板の製造歩留まりを向上させる
ことを目的とする。 The buff cloth used in the rubbing process is a source of generation of static electricity and dust, and these all cause destruction of the TFT formed on the TFT substrate 100. And T
The FT substrate 100 requires more steps than the counter substrate 200. A defect in the TFT substrate 100 increases the manufacturing cost of the liquid crystal display device. Therefore, in this embodiment, the TFT substrate 10
An object is to improve the manufacturing yield of the TFT substrate by not performing the rubbing process on 0.

本実施例でも、実施例１と同様に、配向膜１１０、２３０を垂直配向性を有するポリイ
ミド膜で形成する。そして、対向基板２００の配向膜２３０の表面を、毛足の長さ２〜３
ｍｍのバフ布（レイヨン、ナイロン等の繊維）で一定方向に擦るラビング処理を行う。こ
の際に、対向基板２００に形成されたギャップ保持部材２２０を損傷・剥離しないように
、ラビング条件を設定した。 In this embodiment, as in the first embodiment, the alignment films 110 and 230 are formed of a polyimide film having vertical alignment. Then, the surface of the alignment film 230 of the counter substrate 200 is set to have a length of 2 to 3 of the hair feet.
A rubbing process of rubbing in a certain direction with a buff cloth of mm (fiber such as rayon or nylon) is performed. At this time, rubbing conditions were set so that the gap holding member 220 formed on the counter substrate 200 was not damaged or peeled off.

実施例２、３では、ラビング処理を一方の基板に施すことを説明したが、それぞれ異な
る効果を奏する実施例であり、ラビング処理を施す基板の選択は、製造コスト、歩留まり
等を考慮して実施者が適宜に選択すればよい。 In the second and third embodiments, it has been described that the rubbing process is performed on one of the substrates. However, each of the substrates has different effects, and the selection of the substrate on which the rubbing process is performed is performed in consideration of the manufacturing cost, the yield, and the like. A person may select as appropriate.

また、本実施例２、３のように、片方の配向膜をラビング処理する場合には、液晶の駆
動モードは限定されてしまうが、複屈折（ＥＣＢ）モードが使用できることを確認してい
る。 In addition, when one alignment film is rubbed as in Examples 2 and 3, the driving mode of the liquid crystal is limited, but it has been confirmed that a birefringence (ECB) mode can be used.

他方、実施例１のように両方の配向膜をラビング処理する場合は、ラビング処理が１回
多いが、液晶の駆動モードが限定されない、また液晶を確実に配向できるという効果を奏
する。また、本発明を高分子分散型の液晶表示装置に用いた場合には、配向膜のラビング
工程は不要である。 On the other hand, when both alignment films are rubbed as in Example 1, the rubbing treatment is performed once, but the liquid crystal drive mode is not limited and the liquid crystal can be reliably aligned. Further, when the present invention is used in a polymer dispersion type liquid crystal display device, the rubbing step of the alignment film is unnecessary.

本実施例（実施例４）は参考例である。本実施例では、セルギャップ保持部材の配置の変形例であり、他は、実施例１と同じである。本実施例の対向基板の正面図を図８に示す。なお、図８において図６と同じ符号は同じ部材を示す。
 This example (Example 4) is a reference example. The present embodiment is a modified example of the arrangement of the cell gap holding member, and the others are the same as those of the first embodiment. A front view of the counter substrate of this embodiment is shown in FIG. In FIG. 8, the same reference numerals as those in FIG. 6 denote the same members.

図６に示すように実施例１ではギャップ保持部材２２０を対向基板２００全体にランダ
ムに配置したが、本実施例では、図８に示すようにギャップ保持部材４１０をマトリクス
状規則的に配置した。ギャップ保持部材４１０の形状は実施例１と同様とし、直径２．０
μｍ、高さ３．２μｍの円柱形とした。また、ギャップ保持部材４１０は、実施例１と同
じく５０個／ｍｍ２の密度に形成した。 As shown in FIG. 6, the gap holding members 220 are randomly arranged on the entire counter substrate 200 in Example 1, but in this example, the gap holding members 410 are regularly arranged in a matrix as shown in FIG. The shape of the gap holding member 410 is the same as that of the first embodiment, and the diameter is 2.0.
The column shape was μm and the height was 3.2 μm. Further, the gap holding member 410 was formed at a density of 50 pieces / mm 2 as in Example 1.

本実施例のギャップ保持部材４１０も、実施例１のギャップ保持部材２２０と同様の効
果を得ることができる。 The gap holding member 410 of the present embodiment can also obtain the same effects as the gap holding member 220 of the first embodiment.

本実施例（実施例５）は参考例である。本実施例では、セルギャップ保持部材の配置の変形例であり、他は、実施例１と同じである。本実施例の対向基板の正面図を図７に示す。なお、図７において、図６と同じ符号は、同じ部材を示す。
 This example (Example 5) is a reference example. The present embodiment is a modified example of the arrangement of the cell gap holding member, and the others are the same as those of the first embodiment. A front view of the counter substrate of this embodiment is shown in FIG. In FIG. 7, the same reference numerals as those in FIG. 6 denote the same members.

図６に示すように実施例１ではギャップ保持部材２２０を対向基板２００全体にランダ
ムに配置したが、本実施例では、図７に示すようにギャップ保持部材４００を駆動回路対
向領域２０３、２０４に形成しないようにし、画素対向領域２０２内にランダムに設けた
。ギャップ保持部材４００の形状は実施例１と同様とし、直径２．０μｍ、高さ３．２μ
ｍの円柱形とした。また、ギャップ保持部材４００は６０個／ｍｍ２の密度に形成した。 As shown in FIG. 6, in the first embodiment, the gap holding member 220 is randomly arranged on the entire counter substrate 200, but in this embodiment, the gap holding member 400 is placed in the driving circuit facing regions 203 and 204 as shown in FIG. 7. In order not to form, it provided in the pixel opposing area | region 202 at random. The shape of the gap holding member 400 is the same as that of Example 1, and the diameter is 2.0 μm and the height is 3.2 μm.
A cylindrical shape of m was used. The gap holding member 400 was formed at a density of 60 pieces / mm 2 .

駆動回路のＴＦＴの集積度は、画素領域の集積度よりも大きいので、スペーサによる応
力によって破壊されやすい。そこで、本実施例では、駆動回路対向領域２０３、２０４に
形成しないようにすることにより、基板を貼り合わせた際に、ギャップ保持部材４００が
ＴＦＴ基板１００に形成された駆動回路に応力を与えないため、駆動回路の歩留まりを向
上できる。 Since the integration degree of the TFT of the drive circuit is larger than the integration degree of the pixel region, it is easily broken by the stress caused by the spacer. Therefore, in this embodiment, the gap holding member 400 does not apply stress to the drive circuit formed on the TFT substrate 100 when the substrates are bonded together by not forming the drive circuit facing regions 203 and 204. Therefore, the yield of the drive circuit can be improved.

なお、図７では、ギャップ保持部材４００は画素対向領域２０２の外側にはみ出ている
が、本実施例ではギャップ保持部材４００によって、画素領域でセルギャップを保持でき
れば良く、かつギャップ保持部材４００が駆動回路対向領域２０３、２０４に形成されて
いなければ良い。 In FIG. 7, the gap holding member 400 protrudes outside the pixel facing region 202. However, in this embodiment, it is only necessary that the cell gap can be held in the pixel region by the gap holding member 400, and the gap holding member 400 is driven. It suffices if it is not formed in the circuit facing regions 203 and 204.

上記の実施例１、４では、画素対向領域２０２にギャップ保持部材２２０、４１０を形
成しているが、ギャップ保持部材２２０、４１０の周囲はディスクリネーションが発生し
やすい。そこで、画素対向領域２０２にギャップ保持部材２２０、４１０を形成する場合
には、表示不良を防止するために、ギャップ保持部材２２０、４１０をブラックマトリク
スや、ＴＦＴ基板１００のバス配線等の表示に寄与しない箇所に重なるように設けるとよ
い。 In the first and fourth embodiments, the gap holding members 220 and 410 are formed in the pixel facing region 202. However, disclination easily occurs around the gap holding members 220 and 410. Therefore, when the gap holding members 220 and 410 are formed in the pixel facing region 202, the gap holding members 220 and 410 contribute to the display of the black matrix, the bus wiring of the TFT substrate 100, etc. in order to prevent display defects. It is good to provide so that it may overlap with the place where it does not.

本実施例では、セルギャップ保持部材の配置の変形例であり、他は、実施例１と同じで
ある。本実施例の対向基板の正面図を図９に示す。なお、図９において図６と同じ符号は
同じ部材を示す。 The present embodiment is a modified example of the arrangement of the cell gap holding member, and the others are the same as those of the first embodiment. A front view of the counter substrate of this embodiment is shown in FIG. In FIG. 9, the same reference numerals as those in FIG. 6 denote the same members.

実施例５では、セルギャップ保持部材を駆動回路対向領域２０３、２０４に形成しない
ようにしたが、本実施例ではセルギャップ保持部材を駆動回路対向領域２０３、２０４お
よび画素対向領域２０２双方に形成しないようにしたものである。 In the fifth embodiment, the cell gap holding member is not formed in the driving circuit facing areas 203 and 204. However, in this embodiment, the cell gap holding member is not formed in both the driving circuit facing areas 203 and 204 and the pixel facing area 202. It is what I did.

ＴＦＴ基板１００の画素領域１０２と駆動回路領域１０３、１０４には、高低差があり
、一般に、画素領域１０２の方が高くなる。しかしながら、実施例１のギャップ保持部材
２２０は、基板２０１からギャップ保持部材２２０の上底までの高さは、基板全体で均一
としたため、画素領域１０２と駆動回路領域１０３、１０４の高低差が大きくなると、こ
の高低差を補償することが困難となり、基板を貼り合わせた際に、セルギャップのムラが
生ずるおそれがある。 There is a difference in height between the pixel region 102 and the drive circuit regions 103 and 104 of the TFT substrate 100, and the pixel region 102 is generally higher. However, in the gap holding member 220 of Example 1, the height from the substrate 201 to the upper bottom of the gap holding member 220 is uniform over the entire substrate, so that the height difference between the pixel region 102 and the drive circuit regions 103 and 104 is large. Then, it becomes difficult to compensate for this height difference, and there is a possibility that unevenness of the cell gap may occur when the substrates are bonded together.

また、実施例１、実施例４では、対向基板２００全体にギャップ保持部材を形成したた
め、このギャップ保持部材によって、画素領域１０２や、駆動回路領域１０３、１０４に
配置されたＴＦＴにダメージを与えるおそれがある。 In Embodiments 1 and 4, since the gap holding member is formed on the entire counter substrate 200, the gap holding member may damage the TFTs arranged in the pixel region 102 and the drive circuit regions 103 and 104. There is.

本実施例は、上記の問題点を解消し、セルギャップを無くし、かつＴＦＴ基板に形成さ
れるＴＦＴに損傷を与えないような、ギャップ保持部材の配置方法に関する。 The present embodiment relates to a gap holding member arrangement method that eliminates the above-described problems, eliminates the cell gap, and does not damage the TFT formed on the TFT substrate.

本実施例の対向基板の正面図を図９に示す。なお、図９において、図６と同じ符号は、
同じ部材を示す。また、対向基板２００の作製方法は、実施例１と同じである。 A front view of the counter substrate of this embodiment is shown in FIG. In FIG. 9, the same reference numerals as in FIG.
The same member is shown. The manufacturing method of the counter substrate 200 is the same as that in the first embodiment.

本実施例では、図９（Ａ）に示すように、円柱状のギャップ保持部材４２０を画素対向
領域２０２を取り囲むように配置した。ギャップ保持部材４２０のサイズは、直径１０μ
ｍ、高さ３．２μｍの円柱状とした。また、ギャップ保持部材４２０の位置は、基板を貼
り合わせた状態で、ＴＦＴ基板１００の画素領域１０２の端部から７０μｍ離れるように
形成し、ギャップ保持部材４２０の間隔は３０μｍとした。なお、液晶注入口２０６付近
のギャップ保持部材４２０の密度は他の部分より小さくし、液晶を流動しやすくする。 In this embodiment, as shown in FIG. 9A, a columnar gap holding member 420 is disposed so as to surround the pixel facing region 202. The size of the gap holding member 420 is 10 μm in diameter.
m and a columnar shape having a height of 3.2 μm. The gap holding member 420 is formed so as to be 70 μm away from the end of the pixel region 102 of the TFT substrate 100 in a state where the substrates are bonded together, and the gap holding member 420 is spaced 30 μm. Note that the density of the gap holding member 420 in the vicinity of the liquid crystal injection port 206 is smaller than that of the other portions, so that the liquid crystal can easily flow.

画素対向領域２０２と駆動回路対向領域２０３、２０４との間隔は数百μｍ程度あり、
ギャップ保持部材４２０の直径と比較して十分大きいので、ギャップ保持部材４２０の位
置に対する製造マージンは±１０μｍ程度と大きなものとなる。他方、ギャップ保持部材
４２０の高さの精度は、セルギャップを決定するため重要であり、本実施例では、±０．
１μｍ程度とした。 The interval between the pixel facing area 202 and the drive circuit facing areas 203 and 204 is about several hundred μm,
Since it is sufficiently larger than the diameter of the gap holding member 420, the manufacturing margin with respect to the position of the gap holding member 420 is as large as about ± 10 μm. On the other hand, the accuracy of the height of the gap holding member 420 is important for determining the cell gap. In this embodiment, ± 0.
It was about 1 μm.

また、図９（Ａ）では、画素対向領域２０２の周囲にのみ、ギャップ保持部材４２０を
形成したが、図９（Ｂ）に示すように、駆動回路対向領域２０３、２０４の周囲にも、ギ
ャップ保持部材４２０と同様に、ギャップ保持部材４２１、４２２を形成してもよい。 9A, the gap holding member 420 is formed only around the pixel facing region 202. However, as shown in FIG. 9B, the gap is also formed around the driving circuit facing regions 203 and 204. Similar to the holding member 420, gap holding members 421 and 422 may be formed.

本実施例では、ギャップ保持部材４２０は、基板を貼り合わせた際に、画素領域１０２
、駆動回路領域１０３、１０４に重ならない場所に形成した。このため、セルギャップは
ギャップ保持部材４２０、および４２１、４２２の高さだけで決定することができるため
、画素領域１０２、駆動回路領域１０３、１０４の高さに差が生じても、そのセルギャッ
プを基板全体、あるいは他の基板同士でも均一にすることができる。 In this embodiment, the gap holding member 420 is formed by the pixel region 102 when the substrates are bonded together.
The drive circuit regions 103 and 104 are formed so as not to overlap. Therefore, since the cell gap can be determined only by the height of the gap holding members 420, 421, and 422, even if a difference occurs in the height of the pixel region 102 and the drive circuit regions 103 and 104, the cell gap Can be made uniform over the entire substrate or even between other substrates.

さらに、ギャップ保持部材４２０によって、ＴＦＴ基板１００に形成された画素ＴＦＴ
や駆動回路ＴＦＴを押圧することが無いため、歩留まりを向上させることができる。 Further, the pixel TFT formed on the TFT substrate 100 by the gap holding member 420.
Further, since the driving circuit TFT is not pressed, the yield can be improved.

本実施例では、ギャップ保持部材を、画素対向領域２０２、駆動回路対向領域２０３、
２０４の周囲に形成したが、ギャップ保持部材に位置は、図９に限定されるものではなく
、セルギャップを維持でき、かつ画素対向領域２０２、駆動回路対向領域２０３、２０４
以外なら任意に設定できる。 In the present embodiment, the gap holding member includes a pixel facing area 202, a drive circuit facing area 203,
However, the position of the gap holding member is not limited to that in FIG. 9, and the cell gap can be maintained, and the pixel facing area 202 and the drive circuit facing areas 203 and 204 are maintained.
Anything other than can be set.

本実施例（実施例７）は参考例である。本実施例は実施例６の変形例であり、図１０（Ａ）は対向基板の正面図であり、図１０（Ｂ）は対向基板の斜視図である。対向基板の作製方法は、実施例１と同様であり、図１０において図６と同じ符号は同じ部材を示す。
 This example (Example 7) is a reference example. This example is a modification of Example 6, FIG. 10A is a front view of the counter substrate, and FIG. 10B is a perspective view of the counter substrate. The manufacturing method of the counter substrate is the same as that of Example 1, and in FIG. 10, the same reference numerals as those in FIG.

本実施例では、ギャップ保持部材４３０を基板２０１に対して概略直立した壁状に形成
した。ギャップ保持部材４３０は、画素対向領域２０２を取り囲んで形成し、かつ液晶注
入口２０６に連結される。ギャップ保持部材４３０は幅２０μｍとし、その高さを３．２
μｍとし、画素対向領域２０２の端部から５０μｍ離間した。 In this embodiment, the gap holding member 430 is formed in a wall shape substantially upright with respect to the substrate 201. The gap holding member 430 is formed so as to surround the pixel facing region 202 and is connected to the liquid crystal injection port 206. The gap holding member 430 has a width of 20 μm, and its height is 3.2.
It was set to μm, and was separated from the end of the pixel facing region 202 by 50 μm.

本実施例では、ギャップ保持部材４３０は、基板を貼り合わせた際に、画素領域１０２
、駆動回路領域１０３、１０４に重ならない場所に形成した。このため、セルギャップは
ギャップ保持部材４３０の高さだけで決定することができるため、画素領域１０２、駆動
回路領域１０３、１０４の高さに差が生じても、そのセルギャップを基板全体、あるいは
他の基板同士でも均一にすることができる。 In this embodiment, the gap holding member 430 is formed by the pixel region 102 when the substrates are bonded together.
The drive circuit regions 103 and 104 are formed so as not to overlap. Therefore, since the cell gap can be determined only by the height of the gap holding member 430, even if there is a difference in the height of the pixel region 102 and the drive circuit regions 103 and 104, the cell gap is reduced over the entire substrate or Other substrates can be made uniform.

さらに、ギャップ保持部材４３０によって、ＴＦＴ基板１００に形成されたＴＦＴを押
圧することが無いため、歩留まりを向上させることができる。 Furthermore, since the gap holding member 430 does not press the TFT formed on the TFT substrate 100, the yield can be improved.

さらに図１０（Ａ）に示すように、本実施例のギャップ保持部材４３０は画素領域に液
晶を封止できる構造であることを特徴する。ギャップ保持部材４３０によって、液晶は画
素領域のみに注入され、駆動回路領域１０３、１０４には、液晶３００が注入されないた
め、駆動回路の負荷容量を小さくすることができ、クロストークの発生を抑制することが
できる。 Further, as shown in FIG. 10A, the gap holding member 430 of this embodiment is characterized in that it has a structure capable of sealing liquid crystal in the pixel region. Since the liquid crystal is injected only into the pixel region by the gap holding member 430 and the liquid crystal 300 is not injected into the drive circuit regions 103 and 104, the load capacity of the drive circuit can be reduced and the occurrence of crosstalk is suppressed. be able to.

なお、図１０（Ａ）では、画素対向領域２０２の周囲にのみギャップ保持部材４３０を
形成したが、図１１に示すように、駆動回路対向領域２０３、２０４の周囲にも、ギャッ
プ保持部材４３０と同様な、壁状のギャップ保持部材４３１、４３２をそれぞれ形成して
もよい。 In FIG. 10A, the gap holding member 430 is formed only around the pixel facing region 202. However, as shown in FIG. 11, the gap holding member 430 is also formed around the driving circuit facing regions 203 and 204. Similar wall-shaped gap holding members 431 and 432 may be formed, respectively.

また、本実施例ではギャップ保持部材４３０によって画素領域に液晶を封止できる構造
であればよく、他のギャップ保持部材４３１、４３２の形状は、壁状に限定されず、円柱
状、楕円柱状、矩形柱状、多角柱状としてもよい。また形成される位置は、駆動回路対向
領域２０３、２０４の周囲に限定されるものではなく、セルギャップを維持でき、かつ画
素対向領域２０２、駆動回路対向領域２０３、２０４以外なら任意に設定できる。 Further, in this embodiment, any structure may be used as long as the gap holding member 430 can seal the liquid crystal in the pixel region. The shapes of the other gap holding members 431 and 432 are not limited to the wall shape, and are cylindrical, elliptical column, It may be a rectangular column shape or a polygonal column shape. The positions to be formed are not limited to the periphery of the drive circuit facing areas 203 and 204, and the cell gap can be maintained and can be arbitrarily set except for the pixel facing area 202 and the drive circuit facing areas 203 and 204.

本実施例（実施例８）は参考例である。本実施例は実施例７の変形例であり、ギャップ保持部材４４０によって、液晶は画素領域のみに注入され、駆動回路領域１０３、１０４には、液晶３００が注入されないことを特徴とする。図１２に本実施例の対向基板の正面図を示す。図１２において、図６を同じ符号は同じ部材を示し、またＴＦＴ基板の作製工程は、実施例１と同様である。 This example (Example 8) is a reference example. The present embodiment is a modification of the seventh embodiment, and is characterized in that the liquid crystal is injected only into the pixel region by the gap holding member 440 and the liquid crystal 300 is not injected into the drive circuit regions 103 and 104. FIG. 12 shows a front view of the counter substrate of this embodiment. 12, the same reference numerals as those in FIG. 6 denote the same members, and the manufacturing process of the TFT substrate is the same as that of the first embodiment.

図１２に示すように、本実施例では、駆動回路対向領域２０３と２０４を壁状のギャッ
プ保持部材４４１で取り囲み、基板を貼り合わせた状態で駆動回路領域１０３、１０４に
液晶３００が侵入しないようにした。 As shown in FIG. 12, in this embodiment, the driving circuit facing regions 203 and 204 are surrounded by a wall-shaped gap holding member 441 so that the liquid crystal 300 does not enter the driving circuit regions 103 and 104 when the substrates are bonded together. I made it.

本実施例では、ギャップ保持部材４４１を基板２０１に対して概略直立した壁状に形成
した。その幅２０μｍとし、その高さを３．２μｍとし、駆動回路対向領域２０３と２０
４の端部から５０μｍ離間した。 In this embodiment, the gap holding member 441 is formed in a wall shape substantially upright with respect to the substrate 201. The width is set to 20 μm, the height is set to 3.2 μm, and the drive circuit facing regions 203 and 20 are set.
4 μm away from the end of 4.

他方、画素対向領域の周囲には、矩形柱状のギャップ保持部材４４０を画素対向領域２
０２を取り囲むように配置し、液晶が画素領域に流入するようにした。ギャップ保持部材
４４０のサイズは長辺３０μｍ、短辺１５μｍ、高さ、３．２μｍの矩形柱とした。また
、ギャップ保持部材４４０の位置は、画素対向領域２０２の端部から７０μｍ離れるよう
に形成し、ギャップ保持部材４４０の間隔は３０μｍとした。なお、液晶注入口２０６付
近のギャップ保持部材４４０の密度は他の部分より小さくし、液晶を注入しやすくした。 On the other hand, a rectangular pillar-shaped gap holding member 440 is provided around the pixel facing region.
The liquid crystal is arranged so as to surround 02 so that the liquid crystal flows into the pixel region. The size of the gap holding member 440 was a rectangular column having a long side of 30 μm, a short side of 15 μm, a height of 3.2 μm. Further, the position of the gap holding member 440 was formed so as to be 70 μm away from the end of the pixel facing region 202, and the gap holding member 440 was set to 30 μm. Note that the density of the gap holding member 440 in the vicinity of the liquid crystal injection port 206 is smaller than that of the other portions, so that liquid crystal can be easily injected.

なお、上記実施例１〜８では、表示媒体として液晶材料を用いる場合について説明して
きたが、本発明は、液晶材料と高分子との混合層、いわゆる高分子分散型液晶表示装置に
も用いることができる。 In the first to eighth embodiments, the case where a liquid crystal material is used as the display medium has been described. However, the present invention is also used for a mixed layer of a liquid crystal material and a polymer, a so-called polymer dispersion type liquid crystal display device. Can do.

また、本発明の表示装置の表示媒体は、対向する基板を有する表示装置に応用可能であ
る。例えば、エレクトロルミネッサンス表示装置に適用することができる。 The display medium of the display device of the present invention can be applied to a display device having opposing substrates. For example, the present invention can be applied to an electroluminescence display device.

１００ ＴＦＴ基板
１０１ 基板
１０２ 画素領域
１０３、１０４ 駆動回路領域
１１０ 配向膜
２００ 対向基板
２０１ 基板
２０２ 画素対向領域
２０３、２０４ 駆動回路対向領域
２０５ シール材
２０６ 液晶注入口
２１０ 対向電極
２２０ ギャップ保持部材
２３０ 配向膜 100 TFT substrate 101 Substrate 102 Pixel region 103, 104 Drive circuit region 110 Alignment film 200 Counter substrate 201 Substrate 202 Pixel counter region 203, 204 Drive circuit counter region 205 Sealing material 206 Liquid crystal inlet 210 Counter electrode 220 Gap holding member 230 Alignment film

Claims (12)

液晶と、
液晶注入口を封止する封止材と、
シール材と、
画素領域と、駆動回路領域と、を有する第１の基板と、
第１及び第２の複数のギャップ保持部材を有する第２の基板と、を有し、
前記液晶と前記第１及び第２の複数のギャップ保持部材とは、前記第１の基板と前記第２の基板と前記封止材と前記シール材とにより囲まれており、
前記第１の複数のギャップ保持部材は、前記第１の基板の有する第１の辺と、前記画素領域と、の間に配置されており、
前記第２の複数のギャップ保持部材は、前記第１の基板の有する第２の辺と、前記画素領域と、の間に配置されており、
前記第１の複数のギャップ保持部材は、前記第１の辺と平行方向に沿うように並んで配置されており、
前記第２の複数のギャップ保持部材は、前記第２の辺と平行方向に沿うように並んで配置されており、
前記第１の辺は前記第２の辺と対向し、
前記第１の複数のギャップ保持部材は、前記封止材と、前記画素領域と、の間に配置されており、
前記第２の複数のギャップ保持部材は、前記画素領域と、前記駆動回路領域と、の間に配置されており、
前記第１の複数のギャップ保持部材の密度（個／ｍｍ２）は、前記第２の複数のギャップ保持部材の密度（個／ｍｍ２）よりも小さいことを特徴とする液晶表示装置。 Liquid crystal,
A sealing material for sealing the liquid crystal injection port;
Sealing material,
A first substrate having a pixel region and a drive circuit region;
A second substrate having a first and a second plurality of gap holding members,
The liquid crystal and the first and second plurality of gap holding members are surrounded by the first substrate, the second substrate, the sealing material, and the sealing material,
The first plurality of gap holding members are disposed between a first side of the first substrate and the pixel region,
The second plurality of gap holding members are disposed between a second side of the first substrate and the pixel region,
The first plurality of gap holding members are arranged side by side along a direction parallel to the first side,
The second plurality of gap holding members are arranged side by side along a direction parallel to the second side,
The first side is opposite the second side;
The first plurality of gap holding members are disposed between the sealing material and the pixel region,
The second plurality of gap holding members are disposed between the pixel region and the drive circuit region,
The density (pieces / mm 2 ) of the first plurality of gap holding members is smaller than the density (pieces / mm 2 ) of the second plurality of gap holding members. 液晶と、
液晶注入口を封止する封止材と、
シール材と、
画素領域と、駆動回路領域と、を有する第１の基板と、
第１及び第２の複数のギャップ保持部材を有する第２の基板と、を有し、
前記液晶と前記第１及び第２の複数のギャップ保持部材とは、前記第１の基板と前記第２の基板と前記封止材と前記シール材とにより囲まれており、
前記第１の複数のギャップ保持部材は、前記第１の基板の有する第１の辺と、前記画素領域と、の間に配置されており、
前記第２の複数のギャップ保持部材は、前記第１の基板の有する第２の辺と、前記画素領域と、の間に配置されており、
前記第１の複数のギャップ保持部材は、前記第１の辺と平行方向に沿うように並んで配置されており、
前記第２の複数のギャップ保持部材は、前記第２の辺と平行方向に沿うように並んで配置されており、
前記第１の辺は前記第２の辺と対向し、
前記第１の複数のギャップ保持部材は、前記封止材と、前記画素領域と、の間に配置されており、
前記第２の複数のギャップ保持部材は、前記画素領域と、前記駆動回路領域と、の間に配置されており、
前記第１の複数のギャップ保持部材の１ｍｍ２当たりの個数は、前記第２の複数のギャップ保持部材の１ｍｍ２当たりの個数よりも少ないことを特徴とする液晶表示装置。 Liquid crystal,
A sealing material for sealing the liquid crystal injection port;
Sealing material,
A first substrate having a pixel region and a drive circuit region;
A second substrate having a first and a second plurality of gap holding members,
The liquid crystal and the first and second plurality of gap holding members are surrounded by the first substrate, the second substrate, the sealing material, and the sealing material,
The first plurality of gap holding members are disposed between a first side of the first substrate and the pixel region,
The second plurality of gap holding members are disposed between a second side of the first substrate and the pixel region,
The first plurality of gap holding members are arranged side by side along a direction parallel to the first side,
The second plurality of gap holding members are arranged side by side along a direction parallel to the second side,
The first side is opposite the second side;
The first plurality of gap holding members are disposed between the sealing material and the pixel region,
The second plurality of gap holding members are disposed between the pixel region and the drive circuit region,
The number of the first plurality of gap holding members per 1 mm 2 is smaller than the number of the second plurality of gap holding members per 1 mm 2 . 液晶と、
液晶注入口を封止する封止材と、
シール材と、
画素領域と、駆動回路領域と、を有する第１の基板と、
第１及び第２の複数のギャップ保持部材を有する第２の基板と、を有し、
前記液晶と前記第１及び第２の複数のギャップ保持部材とは、前記第１の基板と前記第２の基板と前記封止材と前記シール材とにより囲まれており、
前記第１の複数のギャップ保持部材は、前記第１の基板の有する第１の辺と、前記画素領域と、の間に配置されており、
前記第２の複数のギャップ保持部材は、前記第１の基板の有する第２の辺と、前記画素領域と、の間に配置されており、
前記第１の複数のギャップ保持部材は、前記第１の辺と平行方向に沿うように並んで配置されており、
前記第２の複数のギャップ保持部材は、前記第２の辺と平行方向に沿うように並んで配置されており、
前記第１の辺は前記第２の辺と対向し、
前記第１の複数のギャップ保持部材は、前記封止材と、前記画素領域と、の間に配置されており、
前記第２の複数のギャップ保持部材は、前記画素領域と、前記駆動回路領域と、の間に配置されており、
前記第１の複数のギャップ保持部材における隣接するギャップ保持部材の間隔は、前記第２の複数のギャップ保持部材における隣接するギャップ保持部材の間隔よりも大きいことを特徴とする液晶表示装置。 Liquid crystal,
A sealing material for sealing the liquid crystal injection port;
Sealing material,
A first substrate having a pixel region and a drive circuit region;
A second substrate having a first and a second plurality of gap holding members,
The liquid crystal and the first and second plurality of gap holding members are surrounded by the first substrate, the second substrate, the sealing material, and the sealing material,
The first plurality of gap holding members are disposed between a first side of the first substrate and the pixel region,
The second plurality of gap holding members are disposed between a second side of the first substrate and the pixel region,
The first plurality of gap holding members are arranged side by side along a direction parallel to the first side,
The second plurality of gap holding members are arranged side by side along a direction parallel to the second side,
The first side is opposite the second side;
The first plurality of gap holding members are disposed between the sealing material and the pixel region,
The second plurality of gap holding members are disposed between the pixel region and the drive circuit region,
The liquid crystal display device, wherein an interval between adjacent gap holding members in the first plurality of gap holding members is larger than an interval between adjacent gap holding members in the second plurality of gap holding members. 液晶と、
液晶注入口を封止する封止材と、
シール材と、
画素領域と、駆動回路領域と、を有する第１の基板と、
第１乃至第４の複数のギャップ保持部材を有する第２の基板と、を有し、
前記液晶と前記第１乃至第４の複数のギャップ保持部材とは、前記第１の基板と前記第２の基板と前記封止材と前記シール材とにより囲まれており、
前記第１の複数のギャップ保持部材は、前記第１の基板の有する第１の辺と、前記画素領域と、の間に配置されており、
前記第２の複数のギャップ保持部材は、前記第１の基板の有する第２の辺と、前記画素領域と、の間に配置されており、
前記第３の複数のギャップ保持部材は、前記第１の基板の有する第３の辺と、前記画素領域と、の間に配置されており、
前記第４の複数のギャップ保持部材は、前記第１の基板の有する第４の辺と、前記画素領域と、の間に配置されており、
前記第１の複数のギャップ保持部材は、前記第１の辺と平行方向に沿うように並んで配置されており、
前記第２の複数のギャップ保持部材は、前記第２の辺と平行方向に沿うように並んで配置されており、
前記第３の複数のギャップ保持部材は、前記第３の辺と平行方向に沿うように並んで配置されており、
前記第４の複数のギャップ保持部材は、前記第４の辺と平行方向に沿うように並んで配置されており、
前記第１の辺は前記第２の辺と対向し、
前記第３の辺は前記第４の辺と対向し、
前記第１の複数のギャップ保持部材は、前記封止材と、前記画素領域と、の間に配置されており、
前記第２の複数のギャップ保持部材は、前記画素領域と、前記駆動回路領域と、の間に配置されており、
前記第１の複数のギャップ保持部材の密度（個／ｍｍ２）は、前記第２乃至第４の複数のギャップ保持部材の密度（個／ｍｍ２）よりも小さいことを特徴とする液晶表示装置。 Liquid crystal,
A sealing material for sealing the liquid crystal injection port;
Sealing material,
A first substrate having a pixel region and a drive circuit region;
A second substrate having a plurality of first to fourth gap holding members,
The liquid crystal and the first to fourth plurality of gap holding members are surrounded by the first substrate, the second substrate, the sealing material, and the sealing material,
The first plurality of gap holding members are disposed between a first side of the first substrate and the pixel region,
The second plurality of gap holding members are disposed between a second side of the first substrate and the pixel region,
The third plurality of gap holding members are disposed between a third side of the first substrate and the pixel region,
The fourth plurality of gap holding members are disposed between a fourth side of the first substrate and the pixel region,
The first plurality of gap holding members are arranged side by side along a direction parallel to the first side,
The second plurality of gap holding members are arranged side by side along a direction parallel to the second side,
The third plurality of gap holding members are arranged side by side along a direction parallel to the third side,
The fourth plurality of gap holding members are arranged side by side along a direction parallel to the fourth side,
The first side is opposite the second side;
The third side faces the fourth side;
The first plurality of gap holding members are disposed between the sealing material and the pixel region,
The second plurality of gap holding members are disposed between the pixel region and the drive circuit region,
The density of the first plurality of gap retaining members (pieces / mm 2), the liquid crystal display device comprising a smaller than the density of the second to fourth plurality of gap retaining members (pieces / mm 2) . 液晶と、
液晶注入口を封止する封止材と、
シール材と、
画素領域と、駆動回路領域と、を有する第１の基板と、
第１乃至第４の複数のギャップ保持部材を有する第２の基板と、を有し、
前記液晶と前記第１乃至第４の複数のギャップ保持部材とは、前記第１の基板と前記第２の基板と前記封止材と前記シール材とにより囲まれており、
前記第１の複数のギャップ保持部材は、前記第１の基板の有する第１の辺と、前記画素領域と、の間に配置されており、
前記第２の複数のギャップ保持部材は、前記第１の基板の有する第２の辺と、前記画素領域と、の間に配置されており、
前記第３の複数のギャップ保持部材は、前記第１の基板の有する第３の辺と、前記画素領域と、の間に配置されており、
前記第４の複数のギャップ保持部材は、前記第１の基板の有する第４の辺と、前記画素領域と、の間に配置されており、
前記第１の複数のギャップ保持部材は、前記第１の辺と平行方向に沿うように並んで配置されており、
前記第２の複数のギャップ保持部材は、前記第２の辺と平行方向に沿うように並んで配置されており、
前記第３の複数のギャップ保持部材は、前記第３の辺と平行方向に沿うように並んで配置されており、
前記第４の複数のギャップ保持部材は、前記第４の辺と平行方向に沿うように並んで配置されており、
前記第１の辺は前記第２の辺と対向し、
前記第３の辺は前記第４の辺と対向し、
前記第１の複数のギャップ保持部材は、前記封止材と、前記画素領域と、の間に配置されており、
前記第２の複数のギャップ保持部材は、前記画素領域と、前記駆動回路領域と、の間に配置されており、
前記第１の複数のギャップ保持部材の１ｍｍ２当たりの個数は、前記第２乃至第４の複数のギャップ保持部材の１ｍｍ２当たりの個数よりも少ないことを特徴とする液晶表示装置。 Liquid crystal,
A sealing material for sealing the liquid crystal injection port;
Sealing material,
A first substrate having a pixel region and a drive circuit region;
A second substrate having a plurality of first to fourth gap holding members,
The liquid crystal and the first to fourth plurality of gap holding members are surrounded by the first substrate, the second substrate, the sealing material, and the sealing material,
The first plurality of gap holding members are disposed between a first side of the first substrate and the pixel region,
The second plurality of gap holding members are disposed between a second side of the first substrate and the pixel region,
The third plurality of gap holding members are disposed between a third side of the first substrate and the pixel region,
The fourth plurality of gap holding members are disposed between a fourth side of the first substrate and the pixel region,
The first plurality of gap holding members are arranged side by side along a direction parallel to the first side,
The second plurality of gap holding members are arranged side by side along a direction parallel to the second side,
The third plurality of gap holding members are arranged side by side along a direction parallel to the third side,
The fourth plurality of gap holding members are arranged side by side along a direction parallel to the fourth side,
The first side is opposite the second side;
The third side faces the fourth side;
The first plurality of gap holding members are disposed between the sealing material and the pixel region,
The second plurality of gap holding members are disposed between the pixel region and the drive circuit region,
The 1 mm 2 number per the first plurality of gap retaining member is a liquid crystal display device, characterized in that less than the number of 1 mm 2 per second to fourth plurality of gap holding members. 液晶と、
液晶注入口を封止する封止材と、
シール材と、
画素領域と、駆動回路領域と、を有する第１の基板と、
第１乃至第４の複数のギャップ保持部材を有する第２の基板と、を有し、
前記液晶と前記第１乃至第４の複数のギャップ保持部材とは、前記第１の基板と前記第２の基板と前記封止材と前記シール材とにより囲まれており、
前記第１の複数のギャップ保持部材は、前記第１の基板の有する第１の辺と、前記画素領域と、の間に配置されており、
前記第２の複数のギャップ保持部材は、前記第１の基板の有する第２の辺と、前記画素領域と、の間に配置されており、
前記第３の複数のギャップ保持部材は、前記第１の基板の有する第３の辺と、前記画素領域と、の間に配置されており、
前記第４の複数のギャップ保持部材は、前記第１の基板の有する第４の辺と、前記画素領域と、の間に配置されており、
前記第１の複数のギャップ保持部材は、前記第１の辺と平行方向に沿うように並んで配置されており、
前記第２の複数のギャップ保持部材は、前記第２の辺と平行方向に沿うように並んで配置されており、
前記第３の複数のギャップ保持部材は、前記第３の辺と平行方向に沿うように並んで配置されており、
前記第４の複数のギャップ保持部材は、前記第４の辺と平行方向に沿うように並んで配置されており、
前記第１の辺は前記第２の辺と対向し、
前記第３の辺は前記第４の辺と対向し、
前記第１の複数のギャップ保持部材は、前記封止材と、前記画素領域と、の間に配置されており、
前記第２の複数のギャップ保持部材は、前記画素領域と、前記駆動回路領域と、の間に配置されており、
前記第１の複数のギャップ保持部材における隣接するギャップ保持部材の間隔は、前記第２乃至第４の複数のギャップ保持部材における隣接するギャップ保持部材の間隔よりも大きいことを特徴とする液晶表示装置。 Liquid crystal,
A sealing material for sealing the liquid crystal injection port;
Sealing material,
A first substrate having a pixel region and a drive circuit region;
A second substrate having a plurality of first to fourth gap holding members,
The liquid crystal and the first to fourth plurality of gap holding members are surrounded by the first substrate, the second substrate, the sealing material, and the sealing material,
The first plurality of gap holding members are disposed between a first side of the first substrate and the pixel region,
The second plurality of gap holding members are disposed between a second side of the first substrate and the pixel region,
The third plurality of gap holding members are disposed between a third side of the first substrate and the pixel region,
The fourth plurality of gap holding members are disposed between a fourth side of the first substrate and the pixel region,
The first plurality of gap holding members are arranged side by side along a direction parallel to the first side,
The second plurality of gap holding members are arranged side by side along a direction parallel to the second side,
The third plurality of gap holding members are arranged side by side along a direction parallel to the third side,
The fourth plurality of gap holding members are arranged side by side along a direction parallel to the fourth side,
The first side is opposite the second side;
The third side faces the fourth side;
The first plurality of gap holding members are disposed between the sealing material and the pixel region,
The second plurality of gap holding members are disposed between the pixel region and the drive circuit region,
An interval between adjacent gap holding members in the first plurality of gap holding members is larger than an interval between adjacent gap holding members in the second to fourth gap holding members. . 液晶と、
液晶注入口を封止する封止材と、
シール材と、
表示に寄与する画素電極と、前記表示に寄与する画素電極と電気的に接続する画素ＴＦＴとが設けられた第１の領域と、駆動回路ＴＦＴが設けられた第２の領域と、を有する第１の基板と、
第１及び第２の複数のギャップ保持部材を有する第２の基板と、を有し、
前記液晶と前記第１及び第２の複数のギャップ保持部材とは、前記第１の基板と前記第２の基板と前記封止材と前記シール材とにより囲まれており、
前記第１の複数のギャップ保持部材は、前記第１の基板の有する第１の辺と、前記第１の領域と、の間に配置されており、
前記第２の複数のギャップ保持部材は、前記第１の基板の有する第２の辺と、前記第１の領域と、の間に配置されており、
前記第１の複数のギャップ保持部材は、前記第１の辺と平行方向に沿うように並んで配置されており、
前記第２の複数のギャップ保持部材は、前記第２の辺と平行方向に沿うように並んで配置されており、
前記第１の辺は前記第２の辺と対向し、
前記第１の複数のギャップ保持部材は、前記封止材と、前記第１の領域と、の間に配置されており、
前記第２の複数のギャップ保持部材は、前記第１の領域と、前記第２の領域と、の間に配置されており、
前記第１の複数のギャップ保持部材の密度（個／ｍｍ２）は、前記第２の複数のギャップ保持部材の密度（個／ｍｍ２）よりも小さいことを特徴とする液晶表示装置。 Liquid crystal,
A sealing material for sealing the liquid crystal injection port;
Sealing material,
A first region provided with a pixel electrode contributing to display; a pixel TFT electrically connected to the pixel electrode contributing to display; and a second region provided with a drive circuit TFT. 1 substrate,
A second substrate having a first and a second plurality of gap holding members,
The liquid crystal and the first and second plurality of gap holding members are surrounded by the first substrate, the second substrate, the sealing material, and the sealing material,
The first plurality of gap holding members are disposed between a first side of the first substrate and the first region,
The second plurality of gap holding members are disposed between a second side of the first substrate and the first region,
The first plurality of gap holding members are arranged side by side along a direction parallel to the first side,
The second plurality of gap holding members are arranged side by side along a direction parallel to the second side,
The first side is opposite the second side;
The first plurality of gap holding members are disposed between the sealing material and the first region,
The second plurality of gap holding members are disposed between the first region and the second region,
The density (pieces / mm 2 ) of the first plurality of gap holding members is smaller than the density (pieces / mm 2 ) of the second plurality of gap holding members. 液晶と、
液晶注入口を封止する封止材と、
シール材と、
表示に寄与する画素電極と、前記表示に寄与する画素電極と電気的に接続する画素ＴＦＴとが設けられた第１の領域と、駆動回路ＴＦＴが設けられた第２の領域と、を有する第１の基板と、
第１及び第２の複数のギャップ保持部材を有する第２の基板と、を有し、
前記液晶と前記第１及び第２の複数のギャップ保持部材とは、前記第１の基板と前記第２の基板と前記封止材と前記シール材とにより囲まれており、
前記第１の複数のギャップ保持部材は、前記第１の基板の有する第１の辺と、前記第１の領域と、の間に配置されており、
前記第２の複数のギャップ保持部材は、前記第１の基板の有する第２の辺と、前記第１の領域と、の間に配置されており、
前記第１の複数のギャップ保持部材は、前記第１の辺と平行方向に沿うように並んで配置されており、
前記第２の複数のギャップ保持部材は、前記第２の辺と平行方向に沿うように並んで配置されており、
前記第１の辺は前記第２の辺と対向し、
前記第１の複数のギャップ保持部材は、前記封止材と、前記第１の領域と、の間に配置されており、
前記第２の複数のギャップ保持部材は、前記第１の領域と、前記第２の領域と、の間に配置されており、
前記第１の複数のギャップ保持部材の１ｍｍ２当たりの個数は、前記第２の複数のギャップ保持部材の１ｍｍ２当たりの個数よりも少ないことを特徴とする液晶表示装置。 Liquid crystal,
A sealing material for sealing the liquid crystal injection port;
Sealing material,
A first region provided with a pixel electrode contributing to display; a pixel TFT electrically connected to the pixel electrode contributing to display; and a second region provided with a drive circuit TFT. 1 substrate,
A second substrate having a first and a second plurality of gap holding members,
The liquid crystal and the first and second plurality of gap holding members are surrounded by the first substrate, the second substrate, the sealing material, and the sealing material,
The first plurality of gap holding members are disposed between a first side of the first substrate and the first region,
The second plurality of gap holding members are disposed between a second side of the first substrate and the first region,
The first plurality of gap holding members are arranged side by side along a direction parallel to the first side,
The second plurality of gap holding members are arranged side by side along a direction parallel to the second side,
The first side is opposite the second side;
The first plurality of gap holding members are disposed between the sealing material and the first region,
The second plurality of gap holding members are disposed between the first region and the second region,
The number of the first plurality of gap holding members per 1 mm 2 is smaller than the number of the second plurality of gap holding members per 1 mm 2 . 液晶と、
液晶注入口を封止する封止材と、
シール材と、
表示に寄与する画素電極と、前記表示に寄与する画素電極と電気的に接続する画素ＴＦＴとが設けられた第１の領域と、駆動回路ＴＦＴが設けられた第２の領域と、を有する第１の基板と、
第１及び第２の複数のギャップ保持部材を有する第２の基板と、を有し、
前記液晶と前記第１及び第２の複数のギャップ保持部材とは、前記第１の基板と前記第２の基板と前記封止材と前記シール材とにより囲まれており、
前記第１の複数のギャップ保持部材は、前記第１の基板の有する第１の辺と、前記第１の領域と、の間に配置されており、
前記第２の複数のギャップ保持部材は、前記第１の基板の有する第２の辺と、前記第１の領域と、の間に配置されており、
前記第１の複数のギャップ保持部材は、前記第１の辺と平行方向に沿うように並んで配置されており、
前記第２の複数のギャップ保持部材は、前記第２の辺と平行方向に沿うように並んで配置されており、
前記第１の辺は前記第２の辺と対向し、
前記第１の複数のギャップ保持部材は、前記封止材と、前記第１の領域と、の間に配置されており、
前記第２の複数のギャップ保持部材は、前記第１の領域と、前記第２の領域と、の間に配置されており、
前記第１の複数のギャップ保持部材における隣接するギャップ保持部材の間隔は、前記第２の複数のギャップ保持部材における隣接するギャップ保持部材の間隔よりも大きいことを特徴とする液晶表示装置。 Liquid crystal,
A sealing material for sealing the liquid crystal injection port;
Sealing material,
A first region provided with a pixel electrode contributing to display; a pixel TFT electrically connected to the pixel electrode contributing to display; and a second region provided with a drive circuit TFT. 1 substrate,
A second substrate having a first and a second plurality of gap holding members,
The liquid crystal and the first and second plurality of gap holding members are surrounded by the first substrate, the second substrate, the sealing material, and the sealing material,
The first plurality of gap holding members are disposed between a first side of the first substrate and the first region,
The second plurality of gap holding members are disposed between a second side of the first substrate and the first region,
The first plurality of gap holding members are arranged side by side along a direction parallel to the first side,
The second plurality of gap holding members are arranged side by side along a direction parallel to the second side,
The first side is opposite the second side;
The first plurality of gap holding members are disposed between the sealing material and the first region,
The second plurality of gap holding members are disposed between the first region and the second region,
The liquid crystal display device, wherein an interval between adjacent gap holding members in the first plurality of gap holding members is larger than an interval between adjacent gap holding members in the second plurality of gap holding members. 液晶と、
液晶注入口を封止する封止材と、
シール材と、
表示に寄与する画素電極と、前記表示に寄与する画素電極と電気的に接続する画素ＴＦＴとが設けられた第１の領域と、駆動回路ＴＦＴが設けられた第２の領域と、を有する第１の基板と、
第１乃至第４の複数のギャップ保持部材を有する第２の基板と、を有し、
前記液晶と前記第１乃至第４の複数のギャップ保持部材とは、前記第１の基板と前記第２の基板と前記封止材と前記シール材とにより囲まれており、
前記第１の複数のギャップ保持部材は、前記第１の基板の有する第１の辺と、前記第１の領域と、の間に配置されており、
前記第２の複数のギャップ保持部材は、前記第１の基板の有する第２の辺と、前記第１の領域と、の間に配置されており、
前記第３の複数のギャップ保持部材は、前記第１の基板の有する第３の辺と、前記第１の領域と、の間に配置されており、
前記第４の複数のギャップ保持部材は、前記第１の基板の有する第４の辺と、前記第１の領域と、の間に配置されており、
前記第１の複数のギャップ保持部材は、前記第１の辺と平行方向に沿うように並んで配置されており、
前記第２の複数のギャップ保持部材は、前記第２の辺と平行方向に沿うように並んで配置されており、
前記第３の複数のギャップ保持部材は、前記第３の辺と平行方向に沿うように並んで配置されており、
前記第４の複数のギャップ保持部材は、前記第４の辺と平行方向に沿うように並んで配置されており、
前記第１の辺は前記第２の辺と対向し、
前記第３の辺は前記第４の辺と対向し、
前記第１の複数のギャップ保持部材は、前記封止材と、前記第１の領域と、の間に配置されており、
前記第２の複数のギャップ保持部材は、前記第１の領域と、前記第２の領域と、の間に配置されており、
前記第１の複数のギャップ保持部材の密度（個／ｍｍ２）は、前記第２乃至第４の複数のギャップ保持部材の密度（個／ｍｍ２）よりも小さいことを特徴とする液晶表示装置。 Liquid crystal,
A sealing material for sealing the liquid crystal injection port;
Sealing material,
A first region provided with a pixel electrode contributing to display; a pixel TFT electrically connected to the pixel electrode contributing to display; and a second region provided with a drive circuit TFT. 1 substrate,
A second substrate having a plurality of first to fourth gap holding members,
The liquid crystal and the first to fourth plurality of gap holding members are surrounded by the first substrate, the second substrate, the sealing material, and the sealing material,
The first plurality of gap holding members are disposed between a first side of the first substrate and the first region,
The second plurality of gap holding members are disposed between a second side of the first substrate and the first region,
The third plurality of gap holding members are arranged between a third side of the first substrate and the first region,
The fourth plurality of gap holding members are disposed between a fourth side of the first substrate and the first region,
The first plurality of gap holding members are arranged side by side along a direction parallel to the first side,
The second plurality of gap holding members are arranged side by side along a direction parallel to the second side,
The third plurality of gap holding members are arranged side by side along a direction parallel to the third side,
The fourth plurality of gap holding members are arranged side by side along a direction parallel to the fourth side,
The first side is opposite the second side;
The third side faces the fourth side;
The first plurality of gap holding members are disposed between the sealing material and the first region,
The second plurality of gap holding members are disposed between the first region and the second region,
The density of the first plurality of gap retaining members (pieces / mm 2), the liquid crystal display device comprising a smaller than the density of the second to fourth plurality of gap retaining members (pieces / mm 2) . 液晶と、
液晶注入口を封止する封止材と、
シール材と、
表示に寄与する画素電極と、前記表示に寄与する画素電極と電気的に接続する画素ＴＦＴとが設けられた第１の領域と、駆動回路ＴＦＴが設けられた第２の領域と、を有する第１の基板と、
第１乃至第４の複数のギャップ保持部材を有する第２の基板と、を有し、
前記液晶と前記第１乃至第４の複数のギャップ保持部材とは、前記第１の基板と前記第２の基板と前記封止材と前記シール材とにより囲まれており、
前記第１の複数のギャップ保持部材は、前記第１の基板の有する第１の辺と、前記第１の領域と、の間に配置されており、
前記第２の複数のギャップ保持部材は、前記第１の基板の有する第２の辺と、前記第１の領域と、の間に配置されており、
前記第３の複数のギャップ保持部材は、前記第１の基板の有する第３の辺と、前記第１の領域と、の間に配置されており、
前記第４の複数のギャップ保持部材は、前記第１の基板の有する第４の辺と、前記第１の領域と、の間に配置されており、
前記第１の複数のギャップ保持部材は、前記第１の辺と平行方向に沿うように並んで配置されており、
前記第２の複数のギャップ保持部材は、前記第２の辺と平行方向に沿うように並んで配置されており、
前記第３の複数のギャップ保持部材は、前記第３の辺と平行方向に沿うように並んで配置されており、
前記第４の複数のギャップ保持部材は、前記第４の辺と平行方向に沿うように並んで配置されており、
前記第１の辺は前記第２の辺と対向し、
前記第３の辺は前記第４の辺と対向し、
前記第１の複数のギャップ保持部材は、前記封止材と、前記第１の領域と、の間に配置されており、
前記第２の複数のギャップ保持部材は、前記第１の領域と、前記第２の領域と、の間に配置されており、
前記第１の複数のギャップ保持部材の１ｍｍ２当たりの個数は、前記第２乃至第４の複数のギャップ保持部材の１ｍｍ２当たりの個数よりも少ないことを特徴とする液晶表示装置。 Liquid crystal,
A sealing material for sealing the liquid crystal injection port;
Sealing material,
A first region provided with a pixel electrode contributing to display; a pixel TFT electrically connected to the pixel electrode contributing to display; and a second region provided with a drive circuit TFT. 1 substrate,
A second substrate having a plurality of first to fourth gap holding members,
The liquid crystal and the first to fourth plurality of gap holding members are surrounded by the first substrate, the second substrate, the sealing material, and the sealing material,
The first plurality of gap holding members are disposed between a first side of the first substrate and the first region,
The second plurality of gap holding members are disposed between a second side of the first substrate and the first region,
The third plurality of gap holding members are arranged between a third side of the first substrate and the first region,
The fourth plurality of gap holding members are disposed between a fourth side of the first substrate and the first region,
The first plurality of gap holding members are arranged side by side along a direction parallel to the first side,
The second plurality of gap holding members are arranged side by side along a direction parallel to the second side,
The third plurality of gap holding members are arranged side by side along a direction parallel to the third side,
The fourth plurality of gap holding members are arranged side by side along a direction parallel to the fourth side,
The first side is opposite the second side;
The third side faces the fourth side;
The first plurality of gap holding members are disposed between the sealing material and the first region,
The second plurality of gap holding members are disposed between the first region and the second region,
The 1 mm 2 number per the first plurality of gap retaining member is a liquid crystal display device, characterized in that less than the number of 1 mm 2 per second to fourth plurality of gap holding members. 液晶と、
液晶注入口を封止する封止材と、
シール材と、
表示に寄与する画素電極と、前記表示に寄与する画素電極と電気的に接続する画素ＴＦＴとが設けられた第１の領域と、駆動回路ＴＦＴが設けられた第２の領域と、を有する第１の基板と、
第１乃至第４の複数のギャップ保持部材を有する第２の基板と、を有し、
前記液晶と前記第１乃至第４の複数のギャップ保持部材とは、前記第１の基板と前記第２の基板と前記封止材と前記シール材とにより囲まれており、
前記第１の複数のギャップ保持部材は、前記第１の基板の有する第１の辺と、前記第１の領域と、の間に配置されており、
前記第２の複数のギャップ保持部材は、前記第１の基板の有する第２の辺と、前記第１の領域と、の間に配置されており、
前記第３の複数のギャップ保持部材は、前記第１の基板の有する第３の辺と、前記第１の領域と、の間に配置されており、
前記第４の複数のギャップ保持部材は、前記第１の基板の有する第４の辺と、前記第１の領域と、の間に配置されており、
前記第１の複数のギャップ保持部材は、前記第１の辺と平行方向に沿うように並んで配置されており、
前記第２の複数のギャップ保持部材は、前記第２の辺と平行方向に沿うように並んで配置されており、
前記第３の複数のギャップ保持部材は、前記第３の辺と平行方向に沿うように並んで配置されており、
前記第４の複数のギャップ保持部材は、前記第４の辺と平行方向に沿うように並んで配置されており、
前記第１の辺は前記第２の辺と対向し、
前記第３の辺は前記第４の辺と対向し、
前記第１の複数のギャップ保持部材は、前記封止材と、前記第１の領域と、の間に配置されており、
前記第２の複数のギャップ保持部材は、前記第１の領域と、前記第２の領域と、の間に配置されており、
前記第１の複数のギャップ保持部材における隣接するギャップ保持部材の間隔は、前記第２乃至第４の複数のギャップ保持部材における隣接するギャップ保持部材の間隔よりも大きいことを特徴とする液晶表示装置。 Liquid crystal,
A sealing material for sealing the liquid crystal injection port;
Sealing material,
A first region provided with a pixel electrode contributing to display; a pixel TFT electrically connected to the pixel electrode contributing to display; and a second region provided with a drive circuit TFT. 1 substrate,
A second substrate having a plurality of first to fourth gap holding members,
The liquid crystal and the first to fourth plurality of gap holding members are surrounded by the first substrate, the second substrate, the sealing material, and the sealing material,
The first plurality of gap holding members are disposed between a first side of the first substrate and the first region,
The second plurality of gap holding members are disposed between a second side of the first substrate and the first region,
The third plurality of gap holding members are arranged between a third side of the first substrate and the first region,
The fourth plurality of gap holding members are disposed between a fourth side of the first substrate and the first region,
The first plurality of gap holding members are arranged side by side along a direction parallel to the first side,
The second plurality of gap holding members are arranged side by side along a direction parallel to the second side,
The third plurality of gap holding members are arranged side by side along a direction parallel to the third side,
The fourth plurality of gap holding members are arranged side by side along a direction parallel to the fourth side,
The first side is opposite the second side;
The third side faces the fourth side;
The first plurality of gap holding members are disposed between the sealing material and the first region,
The second plurality of gap holding members are disposed between the first region and the second region,
An interval between adjacent gap holding members in the first plurality of gap holding members is larger than an interval between adjacent gap holding members in the second to fourth gap holding members. .
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