JPH08248427A - The liquid crystal display device - Google Patents

The liquid crystal display device

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JPH08248427A
JPH08248427A JP8075495A JP8075495A JPH08248427A JP H08248427 A JPH08248427 A JP H08248427A JP 8075495 A JP8075495 A JP 8075495A JP 8075495 A JP8075495 A JP 8075495A JP H08248427 A JPH08248427 A JP H08248427A
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JP
Japan
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circuit
substrate
liquid crystal
active matrix
peripheral driving
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JP8075495A
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Japanese (ja)
Inventor
Toshimitsu Konuma
Takahiro Tsuji
利光 小沼
隆博 辻
Original Assignee
Semiconductor Energy Lab Co Ltd
株式会社半導体エネルギー研究所
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Publication date
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Abstract

PURPOSE: To prevent the destruction of thin-film transistors and to improve the reliability and durability of a device by disposing columnar spacers in the regions between an active matrix circuit and peripheral driving circuits. CONSTITUTION: The plural columnar spacers 108 are disposed apart spaced intervals in a dotted line form as a sealing material between the peripheral driving circuits, such as source driver circuit 103 and gate driver circuit 104, and the active matrix circuit. Video signals and other signals necessary for display are inputted via an external connecting terminal 109 to the peripheral driving circuits. In such a case, the substrate of the regions provided with the peripheral driving circuits is substantially free from the deformation by substrate pressing if the spacing from a sealing material 107 to the columnar spacers 108 is about several mm. As a result, the destruction of the TFTs constituting the peripheral driving circuit by the substrate pressing is prevented even if the spacers exist on the peripheral driving circuits.

Description

【発明の詳細な説明】 DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】 [0001]

【産業上の利用分野】本発明は、アクティブマトリクス駆動が行われる液晶表示装置の、信頼性および耐久性向上のための構成に関する。 The present invention relates to a liquid crystal display device active matrix driving is performed, it relates to a structure for reliability and durability.

【0002】 [0002]

【従来の技術】図2に、従来の液晶表示装置の例を示す。 BACKGROUND OF THE INVENTION Figure 2 shows an example of a conventional liquid crystal display device. 従来のアクティブマトリクス駆動型液晶表示装置は、図2に示すように、第1の基板201上に設けられたアクティブマトリクス回路205と、一面に対向電極が設けられた第2の基板(対向基板)202とが、第1 The conventional active matrix drive type liquid crystal display device, as shown in FIG. 2, the second substrate and the active matrix circuit 205 provided over the first substrate 201, the counter electrode on one surface is provided (the counter substrate) 202 and is the first
の基板201上に散布されたスペーサ(図示せず)を介して、対向して設けられ、両基板間に液晶材料206が充填され、該液晶材料は、シール材207により封止されている。 Via a spacer which is sprayed onto the substrate 201 (not shown), provided opposite the liquid crystal material 206 is filled between the two substrates, the liquid crystal material is sealed by a sealing material 207. アクティブマトリクス回路205は、薄膜トランジスタ(TFT)が接続された画素電極が、複数マトリクス状に配置されている。 The active matrix circuit 205, a thin film transistor (TFT) is connected to the pixel electrodes are arranged in a plurality matrix. 第1の基板201上の、 On the first substrate 201,
第2の基板205と対向する領域の外側には、アクティブマトリクス回路205を駆動するための周辺駆動回路として、ソースドライバー回路203、ゲイトドライバー回路204が設けられている。 On the outside of the area facing the second substrate 205, as a peripheral driver circuit for driving the active matrix circuit 205, a source driver circuit 203, a gate driver circuit 204 are provided.

【0003】このような液晶表示装置においては、周辺駆動回路への水分やゴミ、不純物等の進入を防止するために、樹脂や、SiN(窒化珪素)系の物質からなる保護膜208を、周辺駆動回路を構成する薄膜トランジスタ上に形成する必要があった。 In such a liquid crystal display device, moisture or dust to the peripheral driving circuit, in order to prevent the ingress of impurities such as resin or the protective film 208 made of a material of SiN (silicon nitride) type, near It had to be formed on the thin film transistors constituting the drive circuit. しかしなから、このような保護膜を用いた場合、該保護膜による応力が、周辺駆動回路を構成する薄膜トランジスタに対して作用して、 However out of nothing, when using such a protective film, stress due to the protective film, it acts against the thin film transistor constituting a peripheral driving circuit,
薄膜トランジスタを構成するシリコン部において再結合中心が劣化し、薄膜トランジスタのスレッシュホールド電圧などの諸特性を変化させてしまった。 Deteriorated recombination centers in the silicon portion forming thin film transistors, had to change the various properties such as threshold voltage of the thin film transistor.

【0004】このような問題を解決するために、図3に示す構造が考えられている。 [0004] In order to solve such a problem, it has been proposed a structure shown in FIG. 図3は、従来の液晶表示装置の他の構成を示す。 Figure 3 shows another configuration of a conventional liquid crystal display device. 図3において、第1の基板301 3, the first substrate 301
上に設けられたアクティブマトリクス回路302、ソースドライバー回路303、ゲイトドライバー回路304 The active matrix circuit 302 provided in the above, the source driver circuit 303, a gate driver circuit 304
と、一面に対向電極が設けられた第2の基板(対向基板)305とが、第1の基板301上に散布されたスペーサ(図示せず)を介して対向して設けられ、両基板間に液晶材料306が充填され、該液晶材料は、シール材307により封止されている。 When, a second substrate (counter substrate) 305 in which the counter electrode provided on one surface is provided so as to face through a spacer, which is sprayed on the first substrate 301 (not shown), between the substrates a liquid crystal material 306 is filled in, the liquid crystal material is sealed by a sealing material 307. 図3の構成は、アクティブマトリクス回路だけでなく、周辺駆動回路であるソースドライバー回路やゲイトドライバー回路をも、対向基板と対向させ、液晶材料に接するようにし、前述のような保護膜は設けられない。 Arrangement of Figure 3, not only the active matrix circuit, also a source driver circuit and a gate driver circuit which is a peripheral driving circuit, is opposed substrate opposed, so as to be in contact with the liquid crystal material, the protective film as described above is provided Absent. すなわち、液晶材料により、 In other words, by the liquid crystal material,
周辺駆動回路を構成する薄膜トランジスタが保護されている。 A thin film transistor constituting a peripheral driving circuit is protected. この構成は、例えば、特開平5−66413号公報に示されている。 This arrangement is shown, for example, in JP-A-5-66413.

【0005】 [0005]

【従来技術の問題点】液晶表示装置は、2枚の基板間隔を維持するために、基板間に球状や棒状、角状などの形状を有し、シリカ等の硬質材料よりなるスペーサが均一に散布されている。 BACKGROUND Problems of the Related Art A liquid crystal display device, in order to maintain the two substrates interval, spherical or rod-like between the substrate and having a shape such as square shaped, spacer uniformly made of a hard material such as silica It has been sprayed. スペーサは、基板間隔と同じ大きさの直径を有し、その大きさは、ネマチック液晶を用いた液晶表示装置においては、3μm〜8μm、スメクチック液晶を用いた液晶表示装置においては、1μm〜4μ The spacer has a diameter the same size as the substrate gap, the size thereof, in a liquid crystal display device using nematic liquid crystal, 3Myuemu~8myuemu, in a liquid crystal display device using a smectic liquid crystal, 1Myuemu~4myu
m程度である。 It is about m. また、その数は、1つの画素の大きさを、数10μm□〜数100μm□として、1画素あたり、50個〜1000個程度である。 Further, the number of which the size of one pixel, as the number 10 [mu] m □ ~ number 100 [mu] m □, per pixel, which is 50 to 1000 or so. ところで、アクティブマトリクス型の液晶表示装置において、アクティブマトリクス回路全体の面積のうち、画素電極がその殆どのを占めている。 Meanwhile, in an active matrix type liquid crystal display device, among the area of ​​the entire active matrix circuit, the pixel electrode occupies its most of. また、画素スイッチング用の薄膜トランジスタは、多い場合でも各画素電極に2つ程度しか設けられておらず、その大きさも、画素電極に比較してはるかに小さい。 In addition, the thin film transistor for pixel switching is only not provided two degrees to each pixel electrode, even if large, its size is also much smaller than the pixel electrode. したがって、アクティブマトリクス回路全体のうち、ため、スイッチング用の薄膜トランジスタが占める面積は、極めて僅かである。 Thus, of the entire active matrix circuit, therefore, the area occupied by the switching thin film transistor is very small.

【0006】一方、ソースドライバー回路や、ゲイトドライバー回路といった、周辺駆動回路は、多数の薄膜トランジスタが極めて密に設けられている。 On the other hand, and the source driver circuit, such as a gate driver circuit, the peripheral driving circuit, a large number of thin film transistors are provided very closely. したがって、 Therefore,
図2の液晶表示装置のように、液晶領域(液晶材料が充填されている領域)の外側に周辺駆動回路が設けられている場合には、何ら問題はなかったのであるが、図3 As in the liquid crystal display device of FIG. 2, when the peripheral driver circuits outside the liquid crystal region (region where the liquid crystal material is filled) is provided, although there was no any problem, FIG. 3
の、液晶領域内に周辺駆動回路が設けられている場合において、基板間のスペーサにより、周辺駆動回路が破壊されるてしまうことがあった。 Of, when the peripheral driver circuit in the liquid crystal region is provided by a spacer between the substrates, it was sometimes become peripheral driving circuit is broken.

【0007】図4に、図3のB−B'断面図を示す。 [0007] FIG. 4 shows a B-B 'sectional view of FIG. 図3の液晶表示装置の場合、図4に示すように、基板が外力401により押圧された場合に、基板が変形し、周辺駆動回路(ここではゲイトドライバー回路304)上に散布されていたスペーサが、周辺駆動回路を構成している薄膜トランジスタを破壊してしまうことあった。 For the liquid crystal display device of FIG. 3, as shown in FIG. 4, a spacer substrate when it is pressed by an external force 401, the substrate is deformed, the peripheral driver circuits (in this case the gate driver circuit 304) was sprayed on the but there may destroy the thin-film transistor constituting a peripheral driving circuit. その結果、周辺駆動回路が正常に動作せず、表示に線欠陥、 As a result, the peripheral driver circuit does not operate normally, line defects in display,
点欠陥が生じたり、表示が不可能となってしまうことがあり、装置の信頼性、耐久性を低下させていた。 Or caused point defects, sometimes it becomes impossible to display, which decreases the reliability of the apparatus, the durability. また、 Also,
仮りに、周辺駆動回路の上のスペーサを設けない場合、 If the provisional, not provided spacers on the peripheral driving circuit,
こんどは、基板の押圧により基板が変形するために、基板に強い押圧が加わった場合、基板に潰されて周辺駆動回路が破壊されてしまう恐れがあった。 This time, in order to board the deformation by the pressing of the substrate, if the applied strong pressing the substrate, was crushed to a substrate is a possibility that the peripheral driving circuit is broken.

【0008】 [0008]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、液晶領域内にアクティブマトリクス回路と周辺駆動回路とが設けられている液晶表示装置において、基板押圧による周辺駆動回路および周辺駆動回路を構成している薄膜トランジタの破壊を防ぎ、装置の信頼性および耐久性の向上を図ることを目的とする。 SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention is to provide a liquid crystal display device and an active matrix circuit and a peripheral driving circuit is provided in the liquid crystal region, constitute a peripheral drive circuit and peripheral driving circuits by the substrate pressing preventing destruction of the thin film Toranjita aims to improve the reliability and durability of the apparatus.

【0009】 [0009]

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するために、本発明の構成の一つは、アクティブマトリクス回路、周辺駆動回路が設けられた第1の基板と、前記第1 In order to solve the above problems SUMMARY OF THE INVENTION One aspect of the present invention comprises a first substrate an active matrix circuit, the peripheral driving circuit is provided, the first
の基板に対向して設けられ、少なくとも、前記アクティブマトリクス回路および周辺駆動回路に対向する大きさを有する、第2の基板と、前記第1の基板と第2の基板との間の、少なくとも前記アクティブマトリクス回路上および周辺駆動回路上に充填された、液晶材料と、を少なくとも有する液晶表示装置であって、前記アクティブマトリクス回路と周辺駆動回路との間の領域に、柱状スペーサが設けられていることを特徴とする液晶表示装置である。 Provided opposite of the substrate, at least, has a size that faces the active matrix circuit and peripheral driving circuits, and the second substrate between the first substrate and the second substrate, at least the the active matrix filled in the circuit and on the peripheral driver circuit on, a liquid crystal display device having a liquid crystal material, at least, in a region between the active matrix circuit and a peripheral driving circuit, the columnar spacers are provided is a liquid crystal display device according to claim.

【0010】本発明の他の構成の一つは、アクティブマトリクス回路、周辺駆動回路が設けられた第1の基板と、前記第1の基板に対向して設けられ、少なくとも、 One other structure of the [0010] present invention, an active matrix circuit, a first substrate on which a peripheral driving circuit is provided, disposed to face the first substrate, at least,
前記アクティブマトリクス回路および周辺駆動回路に対向する大きさを有する、第2の基板と、前記第1の基板と第2の基板との間の、少なくとも前記アクティブマトリクス回路上および周辺駆動回路上に充填された、液晶材料と、を少なくとも有する液晶表示装置であって、前記アクティブマトリクス回路と周辺駆動回路との間の領域には、複数の柱状スペーサが設けられていることを特徴とする液晶表示装置である。 Having a magnitude opposite to the active matrix circuit and peripheral driving circuits, the filling and the second substrate between the first substrate and the second substrate, at least the active matrix circuit and on the peripheral driver circuit on is, a liquid crystal display device comprising at least a liquid crystal material, and the region between the active matrix circuit and a peripheral driving circuit, a liquid crystal display device, wherein a plurality of columnar spacers are provided it is.

【0011】本発明の他の構成の一つは、アクティブマトリクス回路、周辺駆動回路が設けられた第1の基板と、前記第1の基板に対向して設けられ、少なくとも、 One other structure of the [0011] present invention, an active matrix circuit, a first substrate on which a peripheral driving circuit is provided, disposed to face the first substrate, at least,
前記アクティブマトリクス回路および周辺駆動回路に対向する大きさを有する、第2の基板と、前記第1の基板と第2の基板との間の、少なくとも前記アクティブマトリクス回路上および周辺駆動回路上に充填された、液晶材料と、前記第1の基板と第2の基板とが対向する領域の周辺部に設けられた、シール材と、を少なくとも有する液晶表示装置であって、前記アクティブマトリクス回路と周辺駆動回路との間の領域には、複数の柱状スペーサが設けられており、前記シール材と、前記柱状スペーサは、同一材料により形成されていることを特徴とする液晶表示装置である。 Having a magnitude opposite to the active matrix circuit and peripheral driving circuits, the filling and the second substrate between the first substrate and the second substrate, at least the active matrix circuit and on the peripheral driver circuit on been, a liquid crystal material, said first and second substrates are provided on the periphery of the opposing region, a liquid crystal display device having at least a sealant, the said active matrix circuit and peripheral the region between the drive circuit, a plurality of columnar spacers is provided with, said sealing member, the columnar spacer is a liquid crystal display device characterized by being formed of the same material.

【0012】本発明の他の構成の一つは、アクティブマトリクス回路、周辺駆動回路、該周辺駆動回路の冗長回路が設けられた第1の基板と、前記第1の基板に対向して設けられ、少なくとも、前記アクティブマトリクス回路、周辺駆動回路および該周辺駆動回路の冗長回路に対向する大きさを有する、第2の基板と、前記第1の基板と第2の基板との間の、少なくとも前記アクティブマトリクス回路上、周辺駆動回路上および該周辺駆動回路の冗長回路上に充填された、液晶材料と、を少なくとも有する液晶表示装置であって、前記アクティブマトリクス回路と、周辺駆動回路および該周辺駆動回路の冗長回路との間の領域には、柱状スペーサが設けられていることを特徴とする液晶表示装置である One other structure of the [0012] present invention, an active matrix circuit, a first substrate on which a peripheral driving circuit, the redundancy circuit of the peripheral driving circuits provided, disposed to face the first substrate At least, the active matrix circuit, having a size facing the redundancy circuit of the peripheral driving circuit and said peripheral driving circuit, a second substrate, between the first substrate and the second substrate, at least the on the active matrix circuit, which is loaded onto the redundancy circuit of the peripheral driver circuits on and said peripheral driving circuit, a liquid crystal display device having a liquid crystal material, at least, the active matrix circuit, the peripheral driving circuit and said peripheral driving the area between the redundant circuit of the circuit, is a liquid crystal display device characterized by columnar spacers are provided

【0013】本発明の他の構成の一つは、アクティブマトリクス回路、周辺駆動回路、該周辺駆動回路の冗長回路が設けられた第1の基板と、前記第1の基板に対向して設けられ、少なくとも、前記アクティブマトリクス回路、周辺駆動回路および該周辺駆動回路の冗長回路に対向する大きさを有する、第2の基板と、前記第1の基板と第2の基板との間の、少なくとも前記アクティブマトリクス回路上、周辺駆動回路上および該周辺駆動回路の冗長回路上に充填された、液晶材料と、を少なくとも有する液晶表示装置であって、前記アクティブマトリクス回路と、周辺駆動回路および該周辺駆動回路の冗長回路との間の領域には、複数の柱状スペーサが設けられていることを特徴とする液晶表示装置である。 One other structure of the [0013] present invention, an active matrix circuit, a first substrate on which a peripheral driving circuit, the redundancy circuit of the peripheral driving circuits provided, disposed to face the first substrate At least, the active matrix circuit, having a size facing the redundancy circuit of the peripheral driving circuit and said peripheral driving circuit, a second substrate, between the first substrate and the second substrate, at least the on the active matrix circuit, which is loaded onto the redundancy circuit of the peripheral driver circuits on and said peripheral driving circuit, a liquid crystal display device having a liquid crystal material, at least, the active matrix circuit, the peripheral driving circuit and said peripheral driving the area between the redundant circuit of the circuit, a liquid crystal display device, wherein a plurality of columnar spacers are provided.

【0014】本発明の他の構成の一つは、アクティブマトリクス回路、周辺駆動回路、該周辺駆動回路の冗長回路が設けられた第1の基板と、前記第1の基板に対向して設けられ、少なくとも、前記アクティブマトリクス回路、周辺駆動回路および該周辺駆動回路の冗長回路に対向する大きさを有する、第2の基板と、前記第1の基板と第2の基板との間の、少なくとも前記アクティブマトリクス回路上、周辺駆動回路上および該周辺駆動回路の冗長回路上に充填された、液晶材料と、前記第1の基板と第2の基板とが対向する領域の周辺部に設けられた、 One other structure of the [0014] present invention, an active matrix circuit, a first substrate on which a peripheral driving circuit, the redundancy circuit of the peripheral driving circuits provided, disposed to face the first substrate At least, the active matrix circuit, having a size facing the redundancy circuit of the peripheral driving circuit and said peripheral driving circuit, a second substrate, between the first substrate and the second substrate, at least the on the active matrix circuit, which is loaded onto the redundancy circuit of the peripheral driver circuits on and said peripheral driving circuit, a liquid crystal material, said first and second substrates are provided on the periphery of the opposing region,
シール材と、を少なくとも有する液晶表示装置であって、前記アクティブマトリクス回路と、周辺駆動回路および該周辺駆動回路の冗長回路との間の領域には、複数の柱状スペーサが設けられており、前記シール材と、前記柱状スペーサは、同一材料により形成されていることを特徴とする液晶表示装置である。 And the sealing material, the A liquid crystal display device comprising at least the active matrix circuit, the area between the redundant circuit of the peripheral driving circuit and said peripheral driving circuit, a plurality of columnar spacers are provided, the and the sealing material, the columnar spacer is a liquid crystal display device characterized by being formed of the same material.

【0015】 [0015]

【作用】本発明は、液晶領域内に、アクティブマトリクス回路と、周辺駆動回路とが設けられた液晶表示装置において、アクティブマトリクス回路と、その周辺に設けられたソースドライバー回路やゲイトドライバー回路といった周辺駆動回路、あるいはその冗長回路との間に、 DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention, in the liquid crystal region, the active matrix circuit, the liquid crystal display device provided with a peripheral driving circuit, the peripheral and the active matrix circuit, such as a source driver circuit and a gate driver circuit provided around it driving circuit or between the redundant circuit,
柱状スペーサ、特に複数の柱状スペーサを設けることで、基板押圧による、周辺駆動回路を構成する薄膜トランジスタの破壊を防ぐものである。 Columnar spacers, by particularly providing a plurality of columnar spacers, by board pressing, is intended to prevent destruction of the thin film transistor constituting a peripheral driving circuit.

【0016】図1に、本発明による液晶表示装置の例を示す。 [0016] FIG 1 shows an example of a liquid crystal display device according to the present invention. 図1において、ガラスやプラスチック等の第1の基板101に対向して、対向基板である第2の基板10 In Figure 1, opposite the first substrate 101 such as glass or plastic, a second substrate is a counter substrate 10
2(図に明示されていない)が、対向電極を内側にして設けられている。 2 (not explicitly shown) is provided to the counter electrode on the inner side. 第1の基板101上には、アクティブマトリクス回路105と、該回路を駆動するための周辺駆動回路として、ソースドライバー回路103、ゲイトドライバー回路104とが設けられている。 Over the first substrate 101, an active matrix circuit 105, as a peripheral driver circuit for driving the said circuit, a source driver circuit 103, and a gate driver circuit 104 are provided. 第1の基板101と、第2の基板102の間には、シール材107 A first substrate 101, between the second substrate 102, the sealant 107
が設けられ、図示しない液晶注入口より注入された、液晶材料106が充填されている。 Is provided, which is injected from the liquid crystal injection port (not shown), the liquid crystal material 106 is filled. ソースドライバー回路103、ゲイトドライバー回路104といった周辺駆動回路と、アクティブマトリクス回路105との間には、 The source driver circuit 103, a peripheral driver circuit, such a gate driver circuit 104, between the active matrix circuit 105,
シール材として、複数の柱状スペーサ108が、間隔を開けて、点線状に設けられている。 As a sealing material, a plurality of columnar spacers 108, an interval is provided in dotted line. ビデオ信号その他表示に必要な信号は、外部接続端子109を介して、周辺駆動回路へ入力される。 Signals required for other display video signals through the external connection terminal 109 is input to the peripheral driving circuit.

【0017】図6に、図1のA−A'断面図を示す。 [0017] FIG. 6 shows the A-A 'sectional view of figure 1. 図1、図6に示すように、ゲイトドライバー回路104 Figure 1, as shown in FIG. 6, a gate driver circuit 104
と、アクティブマトリクス回路105との間に、柱状スペーサ108が設けられている。 If, between the active matrix circuit 105, the columnar spacers 108 are provided. また、第1の基板10 The first substrate 10
1と第2の基板102との間には、球状のスペーサ60 1 and between the second substrate 102, spherical spacers 60
2が、均一に散布されて、設けられている。 2, is uniformly scattered, it is provided. 本発明は、 The present invention,
柱状スペーサ108を設けることで、外力601の押圧による基板の変形を抑え、ひいては基板押圧時の、スペーサ602による周辺駆動回路を防ぐことができるものである。 By providing the columnar spacers 108, suppressing the press-deformation of the substrate due to the external force 601 is what can be prevented at the time of turn board pressing, a peripheral driver circuit by the spacer 602.

【0018】アクティブマトリクス回路と同一基板上に設けられた、ソースドライバー回路やゲイトドライバー回路は、その幅が数mm以下程度であるので、液晶材料封止用のシール材107から柱状スペーサ108までのドライバー回路を挟んだ間隔は、それと同程度である。 [0018] provided on the active matrix circuit on the same substrate, source driver circuits and gate driver circuits, since the width is on the order of several mm or less, from the sealing member 107 of the liquid crystal material sealed to the columnar spacers 108 across the driver circuit interval, the same is at the same level.
また、対向基板としては、ガラスや硬いプラスチックの板が用いられ、基板の厚さは、通常0.7〜1.1mm As the counter substrate, a plate of glass or hard plastic is used, the thickness of the substrate is usually 0.7~1.1mm
程度である。 It is the degree. したがって、シール材107から柱状スペーサ108までの間隔が、数mm程度であれば、周辺駆動回路が設けられた領域の基板は、基板押圧による変形は、ほんどんどない。 Accordingly, the distance from the sealing member 107 to the pillar-shaped spacer 108, if the order of several mm, the substrate of the peripheral driver circuits are provided regions, deformation due to the substrate pressed, no Hondondo. よって、周辺駆動回路上にスペーサが存在しても、周辺駆動回路を構成する薄膜トランジスタの、基板押圧による破壊を防ぐことができる。 Therefore, even if a spacer is present on the peripheral driving circuit, it is possible to prevent the thin film transistor constituting a peripheral driving circuit, the destruction by board pressing. また、何らかの方法によって、周辺駆動回路上にスペーサを存在させない、または基板間にスペーサを存在させない構成とした場合においても、柱状スペーサにより、周辺駆動回路が設けられている領域の基板間隔が維持される Further, in some way, the absence of spacers on the peripheral driving circuit, or even when a configuration in which the absence of spacers between the substrates, the columnar spacer, a substrate spacing of regions in which the peripheral driver circuits are provided is maintained that

【0019】図1において、柱状スペーサ108は、間隔を開けて複数個設けられているが、これは、図示されていない注入口より液晶材料を注入する際に、周辺駆動回路が設けられている領域にも、十分に液晶材料が充填できるようにするためである。 [0019] In FIG 1, the columnar spacer 108 is provided a plurality spaced, which, when a liquid crystal material is injected from the injection port (not shown), a peripheral driving circuit is provided in area, a sufficiently liquid crystal material is to be able to fill. また、柱状スペーサ10 Also, the columnar spacers 10
8は、基板間隔を維持し、液晶材料の注入を妨げないものであれば、その数や大きさ、形状、材質は、任意である。 8, to maintain the substrate spacing, as long as it does not interfere with the injection of the liquid crystal material, the number and size, shape, material is optional. 必ずしも複数個とする必要もない。 Necessarily it does not need to be a plurality. 大きさは、少なくとも基板間に散布されているスペーサの直径より大きい、幅、奥行を有している必要がある。 The size is larger than the spacers are sprayed at least between the substrate diameter, it is necessary to have a width, a depth. また、その形状は、個々に分離した柱状のみでなく、連続した壁状であってもよい。 Further, the shape, not only the columnar were individually separated, may be a continuous wall shape. 代表的には、図1に示すような点線状に、 Typically, the dotted line shown in FIG. 1,
アクティブマトリクス回路と周辺駆動回路との間に、数個〜数100個設け、個々の柱状スペーサの大きさは、 Between the active matrix circuit and peripheral driving circuits, provided several to several hundreds, the size of each of the columnar spacer,
幅、奥行きそれぞれ、0.1〜数mm程度である。 Width, depth, respectively, is approximately 0.1 to several mm. 材質としては、樹脂や、酸化珪素等の無機膜等が、主として用いられる。 The material, or a resin, an inorganic film such as silicon oxide is mainly used. 柱状スペーサの配置や大きさを、アクティブマトリクス回路による表示を妨げないようにすることはいうまでもない。 The placement and size of the columnar spacer, it is needless to say that do not interfere with the display by the active matrix circuit.

【0020】また、柱状スペーサ108を、シール材1 Further, the columnar spacers 108, the sealing member 1
07と同一材料により設けてもよい。 It may be provided by 07 the same material. このようにすると、スクリーン印刷法等により、柱状スペーサ108 In this way, by a screen printing method or the like, columnar spacers 108
を、シール材107と同時に形成することができ、作製工程を簡略化できる。 And it can be formed simultaneously with the sealing material 107, thereby simplifying the manufacturing process. 加えて、柱状スペーサを、双方の基板に対し接着させることができるため、液晶表示装置の強度を向上させ、基板変形を、より防ぐことが可能となる。 In addition, the columnar spacer, it is possible to bond to both substrates, to improve the strength of the liquid crystal display device, a substrate deformation, it becomes possible to prevent more.

【0021】以上のように、本発明は、液晶領域内に周辺駆動回路が設けられた液晶表示装置において、基板の押圧による、周辺駆動回路の破壊を防ぐことができ、かつ基板間隔を保つことができる。 [0021] As described above, the present invention provides a liquid crystal display device where the peripheral drive circuit is provided in the liquid crystal region, by the pressing of the substrate, it is possible to prevent the destruction of the peripheral driving circuits, and to maintain the substrate spacing can. ひいては、液晶表示装置の信頼性および耐久性を向上させることができる。 Hence, it is possible to improve the reliability and durability of the liquid crystal display device. 以下に、本発明の実施例を示す。 Hereinafter, an embodiment of the present invention.

【0022】 [0022]

【実施例】 【Example】

〔実施例1〕実施例1において、図1に示すアクティブマトリクス回路および周辺駆動回路を有する液晶表示装置を得る作製工程について、図5を用いて説明する。 In Example 1 Example 1, a manufacturing process to obtain a liquid crystal display device having an active matrix circuit and peripheral driving circuit shown in FIG. 1 will be described with reference to FIG. 図5に、実施例1の作製工程を示す。 5 shows a manufacturing process of Example 1. 図5において、図の左側に周辺駆動回路のTFTの作製工程を、右側にアクティブマトリクス回路のTFTの作製工程を、それぞれ示す。 5, a manufacturing process of a TFT of the peripheral driving circuits on the left side of the figure, the manufacturing process of a TFT active matrix circuit on the right side, respectively. まず、石英基板またはガラス基板501上に、下地酸化膜502として厚さ1000Å〜3000Åの酸化珪素膜が形成される。 First, on a quartz substrate or a glass substrate 501, a silicon oxide film having a thickness of 1000Å~3000Å ​​is formed as a base oxide film 502. この酸化珪素膜の形成方法としては、酸素雰囲気中でのスパッタ法やプラズマCVD法を用いればよい。 As a method of forming this silicon oxide film may be used a sputtering method or a plasma CVD method in an oxygen atmosphere.

【0023】次に、プラズマCVD法やLPCVD法によって、アモルファスもしくは多結晶のシリコン膜が、 Next, by plasma CVD or LPCVD, an amorphous silicon film or polycrystalline,
300Å〜1500Å、好ましくは500Å〜1000 300Å~1500Å, preferably 500Å~1000
Å形成される。 Å is formed. そして、500℃以上、好ましくは、7 Then, 500 ° C. or higher, preferably, 7
00℃〜950℃の温度で熱アニールをおこない、シリコン膜が結晶化される。 By thermal annealing at a temperature of 00 ° C. to 950 ° C., the silicon film is crystallized. 熱アニールによって結晶化させたのち、光アニールをおこなって、さらに結晶性を高めてもよい。 After crystallized by thermal annealing, by performing optical annealing, it may further enhance the crystallinity. また、熱アニールによる結晶化の際に、特開平6−244103号公報、同6−244104号公報に記述されているように、ニッケル等のシリコンの結晶化を促進させる元素(触媒元素)を添加してもよい。 Also, added during the crystallization by thermal annealing, JP-A 6-244103 discloses, as described in Japanese Patent same 6-244104, element for promoting crystallization of silicon such as nickel (catalyst element) it may be.

【0024】次に、シリコン膜をエッチング処理して、 [0024] Next, a silicon film is etched processing,
島状の周辺駆動回路のTFTの活性層503(Pチャネル型TFT用)、504(Nチャネル型TFT用)とマトリクス回路のTFT(画素TFT)の活性層505が形成される。 Island-like peripheral driving circuits of TFT active layer 503 (P-channel type TFT), an active layer 505 of 504 (for N-channel type TFT) and a matrix circuit of TFT (pixel TFT) are formed. さらに、酸素雰囲気中でのスパッタ法によって、厚さ500〜2000Åの酸化珪素のゲイト絶縁膜506が形成される。 Further, by sputtering in an oxygen atmosphere, a gate insulating film 506 of silicon oxide having a thickness of 500~2000Å is formed. ゲイト絶縁膜の形成方法としては、プラズマCVD法を用いてもよい。 The method of forming the gate insulating film may be a plasma CVD method. プラズマCVD Plasma CVD
法によって酸化珪素膜を形成する場合には、原料ガスとして、一酸化二窒素(N 2 O)もしくは酸素(O 2 )とモンシラン(SiH 4 )を用いることが好ましい。 When forming a silicon oxide film by law, as a source gas, it is preferable to use nitrous oxide (N 2 O) or oxygen and (O 2) Monshiran the (SiH 4).

【0025】その後、厚さ2000Å〜5μm、好ましくは2000Å〜6000Åの多結晶シリコン膜(導電性を高めるため微量の燐を含有する)が、LPCVD法によって基板全面に形成される。 [0025] Thereafter, the thickness 2000A~5myuemu, is preferably (containing phosphorus traces for increasing the conductivity) of polycrystalline silicon film 2000A~6000A, it is formed on the entire surface of the substrate by the LPCVD method. そして、これをエッチングして、ゲイト電極507、508、509を形成する。 Then, this is etched to form gate electrodes 507, 508, 509. (図5(A)) その後、イオンドーピング法によって、全ての島状活性層に、ゲイト電極をマスクとして自己整合的に、フォスフィン(PH 3 )をドーピングガスとして、燐が注入される。 (FIG. 5 (A)) Thereafter, by an ion doping method, all of the island-like active layer, a self-aligning manner using the gate electrode as a mask, as the doping gas phosphine (PH 3), phosphorus is implanted. ドーズ量は1×10 12 〜5×10 13原子/cm 2 Dose is 1 × 10 12 ~5 × 10 13 atoms / cm 2
する。 To. この結果、弱いN型領域510、511、512 As a result, weak N-type region 510, 511, 512
が形成される。 There is formed. (図5(B)) (FIG. 5 (B))

【0026】次に、Pチャネル型TFTの活性層503 Next, the active layer of the P-channel type TFT 503
を覆うフォトレジストのマスク513、および、画素T Photoresist mask 513 covering the, and, pixel T
FTの活性層505のうち、ゲイト電極に平行にゲイト電極509の端から3μm離れた部分までを覆うフォトレジストのマスク514が形成される。 Of FT active layer 505, a mask 514 of photoresist covering from parallel to the edge of the gate electrode 509 on the gate electrode to 3μm away portion is formed. そして、再び、 And, again,
イオンドーピング法によって、フォスフィンをドーピングガスとして燐が注入される。 By an ion doping method, phosphorus is injected phosphine as the doping gas. ドーズ量は1×10 14 The dose is 1 × 10 14 ~
5×10 15原子/cm 2とする。 And 5 × 10 15 atoms / cm 2. この結果、強いN型領域(ソース/ドレイン)515、516が形成される。 As a result, strong N-type regions (source / drain) 515 and 516 are formed.
画素TFTの活性層505の弱いN型領域512のうち、マスク514に覆われていた領域517は、今回のドーピングでは燐が注入されないので、弱いN型のままとなる。 Among the weak N-type region 512 of the active layer 505 of the pixel TFT, a region 517 covered with the mask 514, in this doping because phosphorus is not implanted, and remains weak N-type. (図5(C)) (FIG. 5 (C))

【0027】次に、Nチャネル型TFTの活性層50 Next, the active layer 50 of the N-channel type TFT
4、505をフォトレジストのマスク518で覆い、ジボラン(B 26 )をドーピングガスとして、イオンドーピング法により、島状領域503に硼素が注入される。 Covering the 4,505 with a mask 518 of photoresist, diborane (B 2 H 6) as a doping gas, the ion doping method, boron is implanted into the island region 503. ドーズ量は5×10 14 〜8×10 15原子/cm 2とする。 Dose to 5 × 10 14 ~8 × 10 15 atoms / cm 2. このドーピングでは、硼素のドーズ量が図5 In this doping, the dose of boron is 5
(C)における燐のドーズ量を上回るため、先に形成されていた弱いN型領域510は強いP型領域519に反転する。 For exceeding the dose amount of phosphorus in the (C), a weak N-type region 510 which has been formed previously is inverted to strong P-type region 519. 以上のドーピングにより、強いN型領域(ソース/ドレイン)515、516、強いP型領域(ソース/ドレイン)519、弱いN型領域(低濃度不純物領域)517が形成される。 The doping of the above, strong N-type regions (source / drain) 515, 516, strong P-type region (source / drain) 519, a weak N-type region (low concentration impurity region) 517 is formed. 本実施例においては、低濃度不純物領域517の幅xは、約3μmとする。 In the present embodiment, the width x of the low-concentration impurity regions 517, and about 3 [mu] m. (図5 (Figure 5
(D)) (D))

【0028】その後、450〜850℃で0.5〜3時間の熱アニールを施すことにより、ドーピングによるダメージを回復せしめ、ドーピング不純物を活性化、シリコンの結晶性が回復される。 [0028] Thereafter, by carrying out thermal annealing 0.5-3 hours at 450-850 ° C., allowed to recover the damage caused by doping, activate the doping impurity, the crystallinity of the silicon is recovered. その後、全面に層間絶縁物520として、プラズマCVD法によって酸化珪素膜が、厚さ3000Å〜6000Åに形成される。 Thereafter, the interlayer insulator 520 over the entire surface, a silicon oxide film by plasma CVD method is formed to a thickness 3000A~6000A. この層間絶縁膜は、窒化珪素膜あるいは酸化珪素膜と窒化珪素膜の多層膜であってもよい。 The interlayer insulating film may be a multilayer film of a silicon nitride film or a silicon oxide film and a silicon nitride film. そして、層間絶縁物520 Then, interlayer insulating film 520
がウェットエッチング法によってエッチング処理され、 There is etched by a wet etching method,
ソース/ドレインにコンタクトホールが形成される。 Contact holes are formed in the source / drain.

【0029】そして、スパッタ法によって、厚さ200 [0029] Then, by a sputtering method, a thickness of 200
0Å〜6000Åのチタン膜を形成し、これがエッチング処理され、周辺回路の電極・配線521、522、5 Forming a titanium film 0A~6000A, which is etched, electrodes and wiring of the peripheral circuit 521,522,5
23および画素TFTの電極・配線524、525が形成される。 23 and the electrode and wiring 524, 525 of the pixel TFT. さらに、プラズマCVD法によって、厚さ1 Furthermore, the plasma CVD method, a thickness of 1
000Å〜3000Åの窒化珪素膜526が、パッシベーション膜として形成され、これをエッチングして、画素TFTの電極525に達するコンタクトホールが形成される。 A silicon nitride film 526 000Å~3000Å ​​is formed as a passivation film, which is etched, a contact hole reaching the electrode 525 of the pixel TFT. 最後に、スパッタ法で成膜した厚さ500Å〜 Finally, the thickness was formed by sputtering 500Å~
1500ÅのITO(インディウム錫酸化物)膜がエッチング処理され、画素電極527が形成される。 1500Å of ITO (indium tin oxide) film is etched, the pixel electrode 527 is formed. このようにして、周辺論理回路とアクティブマトリクス回路が、同一基板上に形成される。 In this way, the peripheral logic circuit and the active matrix circuit is formed on the same substrate. (図5(E)) (FIG. 5 (E))

【0030】次に、アクティブマトリクス表示装置の組立工程を以下に説明する。 Next, explaining the assembling process of the active matrix display device below. TFT基板・カラーフィルタ基板は、各々表面処理に用いられたエッチング液、レジスト剥離液等の各種薬品が十分に洗浄される。 TFT substrate, a color filter substrate, the etching solution used in each surface treatment, various chemicals such as a resist stripping solution is sufficiently cleaned. 次に配向膜が、カラーフィルタ基板、及びTFT基板に付着される。 Then the alignment film is deposited a color filter substrate, and the TFT substrate. 配向膜材料には、ブチルセロソルブかN−メチルピロリドンといった溶媒に、溶媒の約10重量%のポリイミドを溶解したものが用いられる。 The alignment film material, a solvent such as butyl cellosolve or N- methylpyrrolidone, is used obtained by dissolving about 10% by weight of the polyimide solvent. そして、TFT基板・カラーフィルタ基板の両基板に付着した配向膜を加熱・硬化(ベーク)させる。 Then, make heat-cured alignment film deposited on the substrates of the TFT substrate, a color filter substrate (baking). その次に、配向膜の付着したガラス基板表面を毛足の長さ2〜3mmのバフ布(レイヨン・ナイロン等の繊維)で一定方向に擦り、微細な溝を作るラビング工程が行われる。 The next, rubbed in a predetermined direction the adhered glass substrate surface of the alignment film buff cloth haired length 2 to 3 mm (fibers such as rayon, nylon), a rubbing process is performed to make the fine grooves.

【0031】その後、TFT基板、もしくはカラーフィルタ基板のいずれかに、ポリマー系・ガラス系・シリカ系等の球のスペーサが散布される。 [0031] Thereafter, TFT substrate or to one of the color filter substrate, a sphere of a spacer of the polymer system, glass-based, silica-based or the like is sprayed. スペーサ散布の方式としては、純水・アルコール等の溶媒にスペーサを混ぜ、ガラス基板上に散布するウェット方式と、溶媒を一切使用せずスペーサを散布するドライ方式がある。 The method of spacer spraying, mixing spacers in a solvent such as pure water, alcohol, there is a dry method of spraying a wet method of spraying on the glass substrate, a spacer without using any solvent. ここではドライ式を用いた。 Using a dry type here.

【0032】その次に、柱状スペーサ、およびTFT基板の外枠に設けられるシール材となる樹脂が塗布される。 [0032] As the next, the columnar spacers, and the sealant and comprising a resin provided on the outer frame of the TFT substrate is applied. シール材および柱状スペーサの材料は、ここでは、 Material of the sealing member and the columnar spacer is here,
エポキシ樹脂とフェノール硬化剤をエチルセロソルブの溶媒に溶かしたものが使用される。 Those dissolved epoxy resin and the phenolic curing agent in a solvent of ethyl cellosolve are used. 他に、アクリル系の樹脂を用いてもよい。 Alternatively, it may be an acrylic resin. また熱硬化型でも紫外線硬化型であってもよい。 Or it may be a UV-curable in thermoset. スクリーン印刷法によって、TFT基板またはカラーフィルタ上に、シール材と柱状スペーサが塗布形成される。 By screen printing, to the TFT substrate or a color filter, the seal member and the columnar spacer is formed by coating. 柱状スペーサは、周辺駆動回路と、アクティブマトリクス回路の間に、ほぼ直線状に、複数個、間隔を開けて設けられる。 Columnar spacers, a peripheral driver circuit, between the active matrix circuit, a substantially linear, a plurality are provided at intervals. 間隔を開けるのは、柱状スペーサによって、周辺駆動回路部分への液晶材料の充填が妨げられないようにするためである。 The spacing is a pillar-shaped spacer is so that the filling of the liquid crystal material to the peripheral drive circuit portion is not hindered.

【0033】シール材、および柱状スペーサが設けられたのち、2枚のガラス基板が貼り合わせられる。 The sealing material, and after the columnar spacers are provided, the two glass substrates are bonded. 貼り合わせ、硬化の方法としては、約160℃の高温プレスによって、約3時間で封止材および柱状スペーサを硬化する、加熱硬化方式とした。 Bonding, as a method of curing by hot press at about 160 ° C., to cure the sealing material and the columnar spacers in about 3 hours to obtain a heat curing method. このようにして、TFT基板とカラーフィルタ基板を貼り合わせて形成されたアクティブマトリクス表示装置の、液晶注入口より液晶材料が注入され、その後、エポキシ系樹脂で液晶注入口が封止される。 In this way, an active matrix display device formed by bonding a TFT substrate and a color filter substrate, a liquid crystal material from the liquid crystal injection port is injected, then the liquid crystal inlet is sealed with an epoxy resin. 以上のようにして、アクティブマトリクス型の液晶表示装置が作製される。 As described above, the active matrix type liquid crystal display device is manufactured. 本実施例では、シール材と、柱状スペーサの形成を、同時に行ったが、別々に行ってもよい。 In this embodiment, the sealant, the formation of columnar spacers, was performed at the same time, or may be performed separately.

【0034】以上のようにして、図1に示す上面図を有する液晶表示装置を得ることができた。 [0034] Thus, it was possible to obtain a liquid crystal display device having a top view of FIG. 本実施例で作製した液晶表示装置は、周辺駆動回路も液晶領域内に設けられているため、周辺駆動回路の上面にも液晶材料が存在している。 The liquid crystal display device manufactured in the present embodiment, since the peripheral driver circuits are provided in the liquid crystal region, the liquid crystal material is present in the upper surface of the peripheral driver circuits. このため、周辺駆動回路の上に、従来の応力の大きい保護膜を設けなくても、周辺駆動回路への不純物や水分の侵入を防ぐことができた。 Thus, on the peripheral driving circuit, without providing a large protective film of the conventional stress, it was possible to prevent entry of impurities and moisture into the peripheral drive circuit. さらに、液晶表示装置は、周辺駆動回路が設けられている領域の基板を押圧しても、何ら問題なく動作をし続けることができた。 Further, the liquid crystal display device, even by pressing the substrate region peripheral driving circuit is provided, it was possible to continue the operation without any problems. このように、極めて信頼性および耐久性の高い液晶表示装置を得ることができた。 Thus, it was possible to obtain a very liquid crystal display device having high reliability and durability.

【0035】〔実施例2〕実施例2は、実施例1の液晶表示装置において、周辺駆動回路を冗長構成にした例を示す。 [0035] EXAMPLE 2 Example 2, in the liquid crystal display device of Example 1 shows an example of a peripheral driver circuit redundancy. 実施例2の液晶表示装置は、周辺駆動回路を冗長構成とし、アクティブマトリクス回路と、冗長側の周辺駆動回路との間にも、柱状スペーサを設けた以外は、実施例1と、構成、作製工程とも同じである。 The liquid crystal display device of Example 2, a peripheral driver circuit and redundancy, the active matrix circuit, also between the peripheral driver circuit of the redundant side, except having a columnar spacer, as in Example 1, construction, manufacturing both processes are the same. 図7に、実施例2における液晶表示装置の上面図を示す。 Figure 7 shows a top view of a liquid crystal display device according to the second embodiment. 図7において、ガラスやプラスチック等の基板701に対向して、対向基板702(図に明示されていない)が対向電極を内側にして設けられている。 7, opposite to the substrate 701 such as glass or plastic, the counter substrate 702 (not explicitly shown in the figure) is provided with a counter electrode on the inner side. 基板701上には、アクティブマトリクス回路705と、該回路を駆動するための周辺駆動回路として、ソースドライバー回路70 On the substrate 701, an active matrix circuit 705, as a peripheral driver circuit for driving the said circuit, a source driver circuit 70
3、ゲイトドライバー回路704と、ソースドライバー回路の冗長回路703'、ゲイトドライバー回路の冗長回路704'とが設けられている。 3, a gate driver circuit 704, the redundancy circuit 703 of the source driver circuit and a ', the redundant circuit 704 of the gate driver circuit' are provided. 基板701、702 Substrate 701 and 702
の間には、液晶材料706が充填され、シール材707 Between the liquid crystal material 706 is filled, the sealant 707
により封止されている。 It is sealed by.

【0036】ソースドライバー回路703、ゲイトドライバー回路704等の周辺駆動回路、およびその冗長回路703'、704'と、アクティブマトリクス回路7 The source driver circuit 703, peripheral driving circuits such as the gate driver circuit 704, and its redundant circuit 703 ', 704', an active matrix circuit 7
05との間には、複数の柱状スペーサ708が、間隔を開けて設けられている。 Between 05, a plurality of columnar spacers 708 are provided at an interval. ビデオ信号その他表示に必要な信号は、外部接続端子709を介して、周辺駆動回路へ入力される。 Signals required for other display video signals through the external connection terminal 709 is input to the peripheral driving circuit. 冗長の周辺駆動回路703'、704' Redundancy of the peripheral driver circuits 703 ', 704'
は、周辺駆動回路703、704のいずれかまたは双方に不良が発生した場合に利用される。 The defect is utilized in the event of either or both of the peripheral driving circuits 703 and 704.

【0037】図7に示す液晶表示装置は、一対の基板間に、必要とする回路がすべて収められており、それら回路の全てが液晶材料により封止、保護されている。 The liquid crystal display device shown in FIG. 7, between a pair of substrates, and contained all the circuits that require, all of which circuit is sealed, protected by the liquid crystal material. それに加えて、図7に示す液晶表示装置は、周辺駆動回路およびその冗長回路が設けられている領域の基板を押圧しても、何ら問題なく動作をし続けることができた。 In addition, a liquid crystal display device shown in FIG. 7, also presses the substrate region where the peripheral drive circuit and its redundant circuit is provided, it was possible to continue the operation without any problems. したがって、極めて高い信頼性および耐久性を得ることができた。 Thus, it was possible to obtain a very high reliability and durability.

【0038】実施例2においては、柱状スペーサを、アクティブマトリクス回路の周りに設けたが、周辺駆動回路上、およびアクティブマトクリス回路上に、液晶材料を充填することができれば、アクティブマトリクス回路をほぼ取り囲むように、壁状のスペーサを設けてもよい。 [0038] In the second embodiment, the columnar spacer, is provided around the active matrix circuit, the peripheral driving circuits on, and on the active matrix Chris circuit, if it is possible to fill the liquid crystal material, generally the active matrix circuit as surround may be provided wall-shaped spacers.

【0039】実施例2で作製した液晶表示装置の、周辺駆動回路の幅は、数mm程度である。 The liquid crystal display device produced in Example 2, the width of the peripheral driver circuits is about several mm. したがって、実際に液晶表示が行われる領域の周囲に、数mm程度の縁が存在するだけで、外部出力端子を除けば、外見上一対の基板で構成されるという極めてシンプルな外観とする事ができた。 Therefore, actually the periphery of the region where the liquid crystal display is performed, only the edges of several mm is present, except for the external output terminals, it is extremely simple look that consists of appearance on a pair of substrates did it.

【0040】 [0040]

【発明の効果】本発明により、周辺駆動回路の耐汚染性、耐湿性を高め、外観をシンプルにすることのできる、周辺駆動回路をも液晶領域に設けられた液晶表示装置において、基板の押圧による、周辺駆動回路の破壊を防ぐことができ、かつ基板間隔を保つことができた。 Effect of the Invention] The present invention, stain resistance of the peripheral driving circuit, the moisture resistance increased, can be simple appearance, in the liquid crystal display device provided in the liquid crystal region and peripheral driving circuits, the pressing of the substrate According to, it is possible to prevent the destruction of the peripheral driving circuits, and it was possible to maintain the substrate spacing. ひいては、液晶表示装置の信頼性、耐久性を、大きく向上させることができた。 Thus, reliability of the liquid crystal display device, the durability could be significantly improved.

【図面の簡単な説明】 BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS

【図1】 本発明による液晶表示装置の例を示す図 Diagram illustrating an example of a liquid crystal display device according to the invention; FIG

【図2】 従来の液晶表示装置の例を示す図 It shows an example of FIG. 2 prior art liquid crystal display device

【図3】 従来の液晶表示装置の他の構成を示す図 Figure 3 shows another configuration of a conventional liquid crystal display device FIG.

【図4】 図3のB−B'断面図を示す図 FIG. 4 shows a B-B 'sectional view of FIG. 3

【図5】 実施例1の作製工程を示す図 It shows a manufacturing process of FIG. 5 EXAMPLE 1

【図6】 図1のA−A'断面図を示す図 6 shows an A-A 'sectional view of figure 1

【図7】 実施例2における液晶表示装置の上面図。 Figure 7 is a top view of a liquid crystal display device according to the second embodiment.

【符号の説明】 DESCRIPTION OF SYMBOLS

101、201、301、701 第1の基板 102、202、302、702 第2の基板(対向基板) 103、203、303、703 ソースドライバー回路 104、204、304、704 ゲイトドライバー回路 105、205、305、705 アクティブマトリクス回路 106、206、306、706 液晶材料 107、207、307、707 シール材 108、708 柱状スペーサ 109、709 外部接続端子 208 保護膜 401、601 外力 402、602 スペーサ 501 基板 502 下地膜(酸化珪素) 503、504、505 活性層(シリコン) 506 ゲイト絶縁膜(酸化珪素) 507、508、509 ゲイト絶縁膜・ゲイト線 510、511、512 弱いN型領域 513、514 フォトレジストのマス 101,201,301,701 first substrate 102,202,302,702 second substrate (counter substrate) 103,203,303,703 source driver circuit 104,204,304,704 gate driver circuit 105 and 205, 305,705 active matrix circuit 106,206,306,706 crystal material 107,207,307,707 sealant 108,708 columnar spacers 109,709 external connection terminal 208 protective film 401, 601 external force 402,602 spacer 501 substrate 502 below Chimaku (silicon oxide) 503, 504, 505 active layer (silicon) 506 gate insulating film (silicon oxide) 507, 508, 509 a gate insulating film, gate lines 510, 511, 512 weak N-type region 513 and 514 of photoresist squares ク 515、516 強いN型領域(ソース/ドレイン) 517 低濃度不純物領域 518 フォトレジストのマスク 519 強いP型領域(ソース/ドレイン) 520 層間絶縁膜(酸化珪素) 521〜525 金属配線・電極 526 パッシベーション膜 527 画素電極(IT Click 515,516 strong N-type regions (source / drain) 517 low-concentration impurity regions 518 photoresist mask 519 strong P-type region (source / drain) 520 interlayer insulating film (silicon oxide) 521 to 525 metal interconnect electrode 526 passivation film 527 pixel electrode (IT
O) O)

Claims (6)

    【特許請求の範囲】 [The claims]
  1. 【請求項1】アクティブマトリクス回路、周辺駆動回路が設けられた第1の基板と、 前記第1の基板に対向して設けられ、少なくとも、前記アクティブマトリクス回路および周辺駆動回路に対向する大きさを有する、第2の基板と、 前記第1の基板と第2の基板との間の、少なくとも前記アクティブマトリクス回路上および周辺駆動回路上に充填された、液晶材料と、を少なくとも有する液晶表示装置であって、 前記アクティブマトリクス回路と周辺駆動回路との間の領域に、柱状スペーサが設けられていることを特徴とする液晶表示装置。 1. A active matrix circuit, a first substrate on which a peripheral driving circuit is provided, disposed to face the first substrate, at least, the size of which is opposed to the active matrix circuit and peripheral driving circuits a, a second substrate, between the first substrate and the second substrate, filled at least in the active matrix circuit and on the peripheral driver circuit on a liquid crystal material, the liquid crystal display device having at least there are, in the region between the active matrix circuit and a peripheral driving circuit, a liquid crystal display device characterized by columnar spacers are provided.
  2. 【請求項2】アクティブマトリクス回路、周辺駆動回路が設けられた第1の基板と、 前記第1の基板に対向して設けられ、少なくとも、前記アクティブマトリクス回路および周辺駆動回路に対向する大きさを有する、第2の基板と、 前記第1の基板と第2の基板との間の、少なくとも前記アクティブマトリクス回路上および周辺駆動回路上に充填された、液晶材料と、を少なくとも有する液晶表示装置であって、 前記アクティブマトリクス回路と周辺駆動回路との間の領域には、複数の柱状スペーサが設けられていることを特徴とする液晶表示装置。 Wherein the active matrix circuit, a first substrate on which a peripheral driving circuit is provided, disposed to face the first substrate, at least, the size of which is opposed to the active matrix circuit and peripheral driving circuits a, a second substrate, between the first substrate and the second substrate, filled at least in the active matrix circuit and on the peripheral driver circuit on a liquid crystal material, the liquid crystal display device having at least there are, in the region between the active matrix circuit and a peripheral driving circuit, a liquid crystal display device, wherein a plurality of columnar spacers are provided.
  3. 【請求項3】アクティブマトリクス回路、周辺駆動回路が設けられた第1の基板と、 前記第1の基板に対向して設けられ、少なくとも、前記アクティブマトリクス回路および周辺駆動回路に対向する大きさを有する、第2の基板と、 前記第1の基板と第2の基板との間の、少なくとも前記アクティブマトリクス回路上および周辺駆動回路上に充填された、液晶材料と、 前記第1の基板と第2の基板とが対向する領域の周辺部に設けられた、シール材と、を少なくとも有する液晶表示装置であって、 前記アクティブマトリクス回路と周辺駆動回路との間の領域には、複数の柱状スペーサが設けられており、 前記シール材と、前記柱状スペーサは、同一材料により形成されていることを特徴とする液晶表示装置。 Wherein the active matrix circuit, a first substrate on which a peripheral driving circuit is provided, disposed to face the first substrate, at least, the size of which is opposed to the active matrix circuit and peripheral driving circuits a, a second substrate, the between the first substrate and the second substrate, filled at least in the active matrix circuit and on the peripheral driver circuit on a liquid crystal material, the first substrate and the and the second substrate is provided on the periphery of the opposing region, a liquid crystal display device having a sealing member, at least, in a region between the active matrix circuit and a peripheral driving circuit, a plurality of columnar spacers It is provided, and the sealing material, the columnar spacer, a liquid crystal display device characterized by being formed of the same material.
  4. 【請求項4】アクティブマトリクス回路、周辺駆動回路、該周辺駆動回路の冗長回路が設けられた第1の基板と、 前記第1の基板に対向して設けられ、少なくとも、前記アクティブマトリクス回路、周辺駆動回路および該周辺駆動回路の冗長回路に対向する大きさを有する、第2の基板と、 前記第1の基板と第2の基板との間の、少なくとも前記アクティブマトリクス回路上、周辺駆動回路上および該周辺駆動回路の冗長回路上に充填された、液晶材料と、 4. The active matrix circuit, the peripheral driving circuit, a first substrate on which the redundancy circuit of the peripheral driving circuit is provided, disposed to face the first substrate, at least, the active matrix circuit, the peripheral a driver circuit and a magnitude opposite to the redundancy circuit of the peripheral driving circuit, a second substrate, between the first substrate and the second substrate, at least the active matrix circuit on the peripheral driver circuit on and filled on the redundancy circuit of the peripheral driving circuit, a liquid crystal material,
    を少なくとも有する液晶表示装置であって、 前記アクティブマトリクス回路と、周辺駆動回路および該周辺駆動回路の冗長回路との間の領域には、柱状スペーサが設けられていることを特徴とする液晶表示装置。 The A liquid crystal display device comprising at least the active matrix circuit, the area between the redundant circuit of the peripheral driving circuit and said peripheral driving circuit, a liquid crystal display device characterized by columnar spacers are provided .
  5. 【請求項5】アクティブマトリクス回路、周辺駆動回路、該周辺駆動回路の冗長回路が設けられた第1の基板と、 前記第1の基板に対向して設けられ、少なくとも、前記アクティブマトリクス回路、周辺駆動回路および該周辺駆動回路の冗長回路に対向する大きさを有する、第2の基板と、 前記第1の基板と第2の基板との間の、少なくとも前記アクティブマトリクス回路上、周辺駆動回路上および該周辺駆動回路の冗長回路上に充填された、液晶材料と、 を少なくとも有する液晶表示装置であって、 前記アクティブマトリクス回路と、周辺駆動回路および該周辺駆動回路の冗長回路との間の領域には、複数の柱状スペーサが設けられていることを特徴とする液晶表示装置。 5. The active matrix circuit, the peripheral driving circuit, a first substrate on which the redundancy circuit of the peripheral driving circuit is provided, disposed to face the first substrate, at least, the active matrix circuit, the peripheral a driver circuit and a magnitude opposite to the redundancy circuit of the peripheral driving circuit, a second substrate, between the first substrate and the second substrate, at least the active matrix circuit on the peripheral driver circuit on and filled on the redundancy circuit of the peripheral driving circuit, a liquid crystal display device comprising at least a liquid crystal material, a region between the active matrix circuit, a redundant circuit of a peripheral driving circuit and said peripheral driving circuit the liquid crystal display device, wherein a plurality of columnar spacers are provided.
  6. 【請求項6】アクティブマトリクス回路、周辺駆動回路、該周辺駆動回路の冗長回路が設けられた第1の基板と、 前記第1の基板に対向して設けられ、少なくとも、前記アクティブマトリクス回路、周辺駆動回路および該周辺駆動回路の冗長回路に対向する大きさを有する、第2の基板と、 前記第1の基板と第2の基板との間の、少なくとも前記アクティブマトリクス回路上、周辺駆動回路上および該周辺駆動回路の冗長回路上に充填された、液晶材料と、 前記第1の基板と第2の基板とが対向する領域の周辺部に設けられた、シール材と、を少なくとも有する液晶表示装置であって、 前記アクティブマトリクス回路と、周辺駆動回路および該周辺駆動回路の冗長回路との間の領域には、複数の柱状スペーサが設けられており、 前記シー 6. The active matrix circuit, the peripheral driving circuit, a first substrate on which the redundancy circuit of the peripheral driving circuit is provided, disposed to face the first substrate, at least, the active matrix circuit, the peripheral a driver circuit and a magnitude opposite to the redundancy circuit of the peripheral driving circuit, a second substrate, between the first substrate and the second substrate, at least the active matrix circuit on the peripheral driver circuit on and said filled on the redundant circuit of the peripheral driving circuit, a liquid crystal material, the first substrate and the second substrate is provided on the periphery of the opposing region, the liquid crystal display having at least a sealant, a an apparatus, said active matrix circuit, the area between the redundant circuit of the peripheral driving circuit and said peripheral driving circuit, a plurality of columnar spacers are provided, the Sea 材と、前記柱状スペーサは、同一材料により形成されていることを特徴とする液晶表示装置。 And wood, the columnar spacer, a liquid crystal display device characterized by being formed of the same material.
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