JP4999597B2 - Single wafer type wafer case - Google Patents

Single wafer type wafer case Download PDF

Info

Publication number
JP4999597B2
JP4999597B2 JP2007206140A JP2007206140A JP4999597B2 JP 4999597 B2 JP4999597 B2 JP 4999597B2 JP 2007206140 A JP2007206140 A JP 2007206140A JP 2007206140 A JP2007206140 A JP 2007206140A JP 4999597 B2 JP4999597 B2 JP 4999597B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
wafer
case
retainer
side wall
presser
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2007206140A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2009043862A (en
Inventor
剛 永島
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Miraial Co Ltd
Original Assignee
Miraial Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Miraial Co Ltd filed Critical Miraial Co Ltd
Priority to JP2007206140A priority Critical patent/JP4999597B2/en
Publication of JP2009043862A publication Critical patent/JP2009043862A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP4999597B2 publication Critical patent/JP4999597B2/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Landscapes

  • Packaging Frangible Articles (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)

Description

本発明は、薄い半導体基板、たとえば、薄くなったシリコンウエハや化合物半導体基板などの脆い半導体基板を損傷や破損もなく収納可能なウエハ収納容器(ウエハケース)に関する。   The present invention relates to a wafer storage container (wafer case) that can store a thin semiconductor substrate, for example, a fragile semiconductor substrate such as a thinned silicon wafer or a compound semiconductor substrate without damage or breakage.

近年、シリコンウエハや化合物半導体ウエハ(以下、ウエハと呼ぶ)などから製作された半導体チップ等を組み込んだ製品、たとえば、プリント基板やICパッケージなどは、最終製品の軽薄短小化に対応して、小型化および薄型化している。これらの薄いプリント基板やICパッケージなどを実現するために、その中に組み込まれる半導体チップ等の厚み、すなわちウエハの厚みも非常に薄いものが要求されている。たとえば、2インチウエハにおいては最終厚みが20μm〜200μmのもの、4インチ〜10インチウエハにおいては最終厚みが30μm〜300μmのものが要求されている。   In recent years, products incorporating semiconductor chips manufactured from silicon wafers or compound semiconductor wafers (hereinafter referred to as wafers), such as printed circuit boards and IC packages, have been reduced in size in response to lighter, thinner and smaller end products. It is becoming thinner and thinner. In order to realize such thin printed circuit boards and IC packages, the thickness of a semiconductor chip or the like incorporated therein, that is, a wafer having a very small thickness is required. For example, a final thickness of 20 μm to 200 μm is required for a 2 inch wafer, and a final thickness of 30 μm to 300 μm is required for a 4 inch to 10 inch wafer.

しかし、このような薄いウエハは強度が小さく、半導体や抵抗等のデバイス(素子)を製作するプロセスにおける処理や搬送等において、ウエハが損傷したり破損したりする可能性が高い。特にウエハが薄くなるのは、半導体素子等形成後のウエハ裏面研削工程以降であり、たとえば、電気特性測定工程やダイシング工程までのウエハプロセス、ウエハ搬送またはウエハ運搬等においてウエハを収納する容器(ウエハケース)には、特別の機構をつけたものを採用している。たとえば、薄いウエハの撓みを抑えるためにウエハの中央部を支持する中央支持部を設けたウエハケースが開示されている。(特開2006-332278)このように薄くなったウエハは、非常に脆くなり取り扱いに細心の注意が必要になっている。   However, such a thin wafer has a low strength, and there is a high possibility that the wafer is damaged or broken during processing or transport in a process of manufacturing a device (element) such as a semiconductor or a resistor. In particular, the wafer is thinned after the wafer back surface grinding process after the formation of semiconductor elements and the like. For example, a wafer container (wafer) in a wafer process, wafer transport or wafer transport up to an electrical property measurement process or a dicing process. A case with a special mechanism is used. For example, a wafer case is disclosed in which a central support portion for supporting the central portion of the wafer is provided in order to suppress bending of a thin wafer. (Patent Document 2006-332278) Such a thinned wafer becomes very fragile and requires careful handling.

また、従来一般に用いられている枚葉式(1枚のウエハを収納する)ウエハケースは、図7(図7Aおよび図7B)に示すようなものである。図7Aはウエハを収納した状態で上ケース74を取り外した様子を示した斜視図で、図7Bはこの状態の側面断面図である。この枚葉式ウエハケースは上ケース74と下ケース71に分離できるようになっている。下ケース71の底板部75の中心部が下方に円錐状に窪んでいて、ウエハ1は下ケースの円錐状底板部75の外周部の側面に接触して載置される。ウエハ1の外周端が接触しているので、接触部分は円形の線接触になる。ウエハ1を下ケース71に載置した後で、ウエハの上面(下ケース側を向いたウエハの面を下面、その反対の面を上面とする)に八手状のリテーナ(押さえ)73を載せる。このリテーナ73は、中心部が上に凸の円錐形状をしていて、リテーナの手の先端だけがウエハと接触する構造である。また、リテーナは板ばね構造、すなわち弾性構造になっていて、上ケース74を下ケース71と合わせて固定したときに、上ケース74の天板部77によってリテーナ73の中心部を押圧することによって、リテーナ73の八手の先端部によってウエハ1を押さえてウエハ1をウエハケースに固定するようになっている。
特開2006−332278
Further, a single wafer type (contains one wafer) wafer case generally used conventionally is as shown in FIG. 7 (FIGS. 7A and 7B). FIG. 7A is a perspective view showing a state in which the upper case 74 is removed with the wafer stored, and FIG. 7B is a side sectional view of this state. This single wafer type wafer case can be separated into an upper case 74 and a lower case 71. The center portion of the bottom plate portion 75 of the lower case 71 is recessed downward in a conical shape, and the wafer 1 is placed in contact with the side surface of the outer peripheral portion of the conical bottom plate portion 75 of the lower case. Since the outer peripheral edge of the wafer 1 is in contact, the contact portion is a circular line contact. After the wafer 1 is placed on the lower case 71, an eight-hand retainer (presser) 73 is placed on the upper surface of the wafer (the surface of the wafer facing the lower case is the lower surface and the opposite surface is the upper surface). . The retainer 73 has a conical shape whose center is convex upward, and only the tip of the retainer's hand is in contact with the wafer. The retainer has a leaf spring structure, that is, an elastic structure. When the upper case 74 is fixed together with the lower case 71, the center portion of the retainer 73 is pressed by the top plate portion 77 of the upper case 74. The wafer 1 is fixed to the wafer case by pressing the wafer 1 with the eight leading ends of the retainer 73.
JP 2006-332278 A

図7に示されるような従来から使用されている八手状リテーナを用いた枚葉式ウエハケースの場合、上下のウエハケースおよび八手状リテーナは単純な構造であり取り扱いも簡単であるというメリットがある。反面、上記説明したように、ウエハ下面はウエハ外周部で下ケースの底板傾斜面との線接触となり、ウエハ上面は八手状リテーナの手の先端部で接触していて、ウエハの上面と下面の接触部分が一致していない。このため下ケースからウエハにかかる力と八手状リテーナからウエハにかかる力がその力の支点が離れていてウエハ内で不均一になっている。ウエハが300μm以上と厚かったときにはウエハの強度も十分ありウエハにダメージが入ったり破損したりするという問題はなかったが、ウエハが20μm〜200μmに薄くなった場合には、ウエハの強度が小さくなり、上記のウエハ内の不均一な力によりウエハにダメージが入ったり、ウエハ内の歪みが局所的または不均一に発生しウエハが破損してしまうことがある。このように薄くなったウエハは、非常に脆くなり取り扱いに細心の注意が必要になっている。さらに、近年の半導体等の素子は非常に微細で複雑な構造となっているため、わずかなウエハ内の不均一な力の発生は、半導体素子の特性や信頼性に影響を及ぼしてしまう。   In the case of a single wafer type wafer case using a conventional eight-hand retainer as shown in FIG. 7, the upper and lower wafer cases and the eight-hand retainer have a simple structure and are easy to handle. There is. On the other hand, as described above, the lower surface of the wafer is in line contact with the inclined surface of the bottom plate of the lower case at the outer periphery of the wafer, and the upper surface of the wafer is in contact with the tip of the hand of the eight-hand retainer. The contact parts of do not match. For this reason, the force applied to the wafer from the lower case and the force applied to the wafer from the eight-hand retainer are separated from each other by the fulcrum of the force and are not uniform within the wafer. When the wafer was thicker than 300 μm, the strength of the wafer was sufficient and there was no problem of damage or breakage of the wafer. However, when the wafer was thinned to 20 μm to 200 μm, the strength of the wafer was reduced. The wafer may be damaged by the non-uniform force in the wafer, or the wafer may be locally or non-uniformly distorted to break the wafer. Such a thinned wafer becomes very brittle and requires careful handling. Furthermore, recent devices such as semiconductors have a very fine and complicated structure, and therefore the generation of a slight non-uniform force in the wafer affects the characteristics and reliability of the semiconductor devices.

さらに、ウエハの歪みを抑えるために、上記説明したウエハの中心部を支持する構造を有するウエハケースの場合も反対面の中心部を押さえることができない(反対面には通常半導体等の素子が形成されている)ことにより、八手状リテーナ・ウエハケースの場合と同様に、ウエハの上面と下面の接触部分が一致していないため、ウエハにかかる力がウエハ内で不均一になっている。従って、ウエハが20μm〜200μmに薄くなった場合には、八手状リテーナ・ウエハケースの場合と同様の問題が発生する。   Further, in order to suppress the distortion of the wafer, even in the case of the wafer case having the structure for supporting the central portion of the wafer described above, the central portion of the opposite surface cannot be pressed (an element such as a semiconductor is usually formed on the opposite surface). Thus, as in the case of the eight-handed retainer / wafer case, the contact portions of the upper surface and the lower surface of the wafer do not coincide with each other, so that the force applied to the wafer is not uniform within the wafer. Therefore, when the wafer is thinned to 20 μm to 200 μm, the same problem as in the case of the eight-hand retainer / wafer case occurs.

本発明は、特に、薄くなった脆いウエハを損傷や破損もなく収納することが可能なウエハケースに関するものであり、上記課題を解決するために、本発明はウエハ周縁部をウエハ上面および下面から均等に押さえ、ウエハ周縁部より内側の部分、所謂ウエハ内の素子形成部分は押さえない構造とする。すなわち、ウエハ内の素子形成部分は、ウエハケース内においてどの部分とも接触せず浮いた状態となっている。さらにウエハ上面のウエハ押さえ部分およびウエハ下面のウエハ押さえ部分はウエハ上面およびウエハ下面においてほぼ同じ位置になっていて、力の作用する支点が一致するため、ウエハにかかる力が均等になり、ウエハに及ぼされる上方からの力と下方からの力が相殺される部分が大きくなり、ウエハ固定によるウエハ内の応力が小さくなる。これにより、ウエハへのダメージを発生させず、ウエハを損傷したり、ウエハを破損させたりしないようにしたものである。   In particular, the present invention relates to a wafer case that can accommodate a thin and fragile wafer without damage or breakage. In order to solve the above-described problems, the present invention relates to the peripheral edge of a wafer from the upper and lower surfaces of the wafer. The structure is such that the parts are pressed evenly, and the part inside the peripheral edge of the wafer, that is, the element forming part in the wafer is not pressed. That is, the element forming portion in the wafer is in a floating state without contacting any portion in the wafer case. Further, the wafer pressing portion on the upper surface of the wafer and the wafer pressing portion on the lower surface of the wafer are almost at the same position on the upper surface of the wafer and the lower surface of the wafer. The portion where the applied force from above and the force from below are offset increases, and the stress in the wafer due to wafer fixing decreases. Thus, damage to the wafer is not generated, and the wafer is not damaged or broken.

具体的には、以下の手段を用いている。
(1)ウエハの上面および下面でウエハ周縁部を押さえる部分を持ったウエハ押さえをウエハケースの上下にセットし、そのウエハ押さえによりウエハ周縁部をはさみこんでウエハの周縁部を均等に押さえる。
(2)上側ウエハ押さえおよび下側ウエハ押さえは、ウエハ周縁部の上面と下面の接触部分が一致する構造となっていて、ウエハ周縁部においてウエハの上下面で同じ接触(支持)面積を有する。
(3)上側ウエハ押さえおよび下側ウエハ押さえは、弾性を持たせた形状や構造(たとえば、その断面が少なくとも折り曲げられた部分を有する形状(たとえば、断面U字、V字、N字、W字、Z字)や傾斜形状)を有して構成されている。
(4)上側ウエハ押さえおよび下側ウエハ押さえは弾性物質(たとえば、ゴム、発泡体)で構成されている。
(7)ウエハ周縁部の押さえ領域は、ウエハ外周端から0.1mm〜5mmの範囲である。
(8)ウエハ周縁部の押さえ領域は、ウエハ周縁部の少なくとも半分以上である。(好ましくは、ウエハ周縁部全体)
(9)下側ウエハ押さえは下ケースにスムーズに当接してはまる大きさおよび形状を有している。
(10)ウエハ押さえは随時取り外し可能であり、適宜洗浄可能である。
(11)ウエハに接触しない部分とウエハに接触する部分の材質は異なっていても良い。
Specifically, the following means are used.
(1) Wafer holders having portions for pressing the wafer peripheral edge on the upper and lower surfaces of the wafer are set on the upper and lower sides of the wafer case, and the wafer peripheral edge is sandwiched by the wafer holder to uniformly hold the wafer peripheral edge.
(2) The upper wafer retainer and the lower wafer retainer have a structure in which the contact portions of the upper surface and the lower surface of the wafer peripheral portion coincide with each other, and have the same contact (support) area on the upper and lower surfaces of the wafer in the wafer peripheral portion.
(3) The upper wafer retainer and the lower wafer retainer have an elastic shape or structure (for example, a shape having a cross section at least bent (for example, a U-shaped, V-shaped, N-shaped, W-shaped cross section). , Z-shape) and inclined shape).
(4) The upper wafer retainer and the lower wafer retainer are made of an elastic material (for example, rubber or foam).
(7) The pressing area at the wafer peripheral edge is in the range of 0.1 mm to 5 mm from the wafer outer peripheral edge.
(8) The holding area of the wafer peripheral edge is at least half of the wafer peripheral edge. (Preferably, the entire periphery of the wafer)
(9) The lower wafer retainer has a size and shape that fits smoothly into the lower case.
(10) The wafer holder can be removed at any time and can be cleaned as appropriate.
(11) The material of the portion that does not contact the wafer and the portion that contacts the wafer may be different.

上記の手段により本発明は次のような効果がある。
(1)上側ウエハ押さえおよび下側ウエハ押さえはウエハ上下面の周縁部のみ接触するので、ウエハ内素子領域への接触もなく、ウエハ素子領域へ力が作用することがないため、ウエハ内素子へのダメージが全くなく、ウエハ内素子の電気特性や物理的特性へ影響を与えることがない。
(2)ウエハ上下面周縁部において、上側ウエハ押さえおよび下側ウエハ押さえがウエハ(周縁部の)上下面に均等に接触し、その押さえによって発生するウエハ上下面に作用する力が均等に作用し、互いに打ち消す割合が大きくなる。この結果、ウエハにかかる力が均一になり、ウエハ固定によるウエハ内の応力が小さくなるので、ウエハにダメージを与えることもないし、ウエハを破損することもない。
(3)上側ウエハ押さえおよび下側ウエハ押さえは弾性を持たせた形状および構造を有しているので、上側ウエハ押さえおよび下側ウエハ押さえからウエハに及ぼす力は必要以上には大きくならない。この結果、ウエハにダメージを与えることもないし、ウエハを破損することもない。
(4)上側ウエハ押さえおよび下側ウエハ押さえは弾性物質で構成されているので、上側ウエハ押さえおよび下側ウエハ押さえからウエハに及ぼす力は必要以上には大きくならない。この結果、ウエハにダメージを与えることもないし、ウエハを損傷することもない。
(5)上側ウエハ押さえおよび下側ウエハ押さえとウエハとの接触領域は必要以上には大きくなく、上側ウエハ押さえおよび下側ウエハ押さえはウエハ内素子領域とは接触しないようになっている。たとえば、その接触領域は、ウエハ外周端から0.1〜5mmの範囲内にある。従って、ウエハ内素子領域にダメージを与えることもないし、ウエハ内素子を破損することもない。
(6)ウエハ周縁部におけるウエハ押さえとウエハ上下面との接触領域の一部に開口部がある場合は、ウエハ上下面の接触領域が一致しているので、上記(2)と同様の効果がある。
(7)従来から使用されている単純な形状の(上下に分離可能な)ウエハケースを使用できるので、非常に安価な費用でウエハを確実に固定できるウエハケースセット(ウエハケース+ウエハ押さえ)を提供できる。
(8)ウエハ押さえは単純な構造となっていてウエハケースと分離できるので、ウエハ押さえを繰り返し使用でき、また簡単に洗浄できる。ウエハ押さえばかりではなくウエハケースも単純な構造であるので、容易に洗浄できる。その結果、ウエハケース内を常にクリーンな状態に保持できるので、ウエハを汚染することはない。
By the above means, the present invention has the following effects.
(1) Since the upper wafer retainer and the lower wafer retainer contact only the peripheral portions of the upper and lower surfaces of the wafer, there is no contact with the element area within the wafer, and no force acts on the wafer element area. There is no damage at all, and the electrical characteristics and physical characteristics of the elements in the wafer are not affected.
(2) At the peripheral edge of the wafer upper and lower surfaces, the upper wafer retainer and the lower wafer retainer are in uniform contact with the upper and lower surfaces of the wafer (periphery), and the force acting on the wafer upper and lower surfaces generated by the retainer acts equally. The ratio of canceling each other increases. As a result, the force applied to the wafer becomes uniform, and the stress in the wafer due to the wafer fixing is reduced, so that the wafer is neither damaged nor damaged.
(3) Since the upper wafer retainer and the lower wafer retainer have a shape and structure with elasticity, the force exerted on the wafer from the upper wafer retainer and the lower wafer retainer does not increase more than necessary. As a result, the wafer is not damaged and the wafer is not damaged.
(4) Since the upper wafer press and the lower wafer press are made of an elastic material, the force exerted on the wafer from the upper wafer press and the lower wafer press does not increase more than necessary. As a result, the wafer is not damaged and the wafer is not damaged.
(5) The contact area between the upper wafer retainer and the lower wafer retainer and the wafer is not larger than necessary, and the upper wafer retainer and the lower wafer retainer are not in contact with the element area in the wafer. For example, the contact area is within a range of 0.1 to 5 mm from the outer peripheral edge of the wafer. Therefore, no damage is given to the in-wafer element region, and no in-wafer element is damaged.
(6) When there is an opening in a part of the contact area between the wafer presser and the wafer upper and lower surfaces at the peripheral edge of the wafer, since the contact areas of the wafer upper and lower surfaces coincide with each other, the same effect as the above (2) can be obtained. is there.
(7) A wafer case set (wafer case + wafer presser) that can securely fix a wafer at a very low cost can be used because a wafer case having a simple shape (separable vertically) can be used. Can be provided.
(8) Since the wafer retainer has a simple structure and can be separated from the wafer case, the wafer retainer can be used repeatedly and can be easily cleaned. Since not only the wafer holder but also the wafer case has a simple structure, it can be easily cleaned. As a result, the inside of the wafer case can always be kept clean, so that the wafer is not contaminated.

本発明は、ウエハ上下面においてウエハ周縁部を安全に確実に押さえることが可能な、上下2つに分離可能な上下のウエハケースの内部に配置し適合するウエハ押さえを有するウエハケースに関するものである。   The present invention relates to a wafer case having a wafer presser that can be safely and securely pressed on the upper and lower surfaces of a wafer and is disposed inside an upper and lower wafer case that can be separated into two upper and lower parts. .

上述したように、従来の枚葉式ウエハケースはウエハを押さえて固定するときに、ウエハ上下面を押さえる部分が、ウエハ上下面で異なっていた。このためウエハ押さえ等からウエハに及ぼす力がウエハ内で均一でないために、20〜200μmにウエハ厚みが薄くなった場合に、ウエハにダメージを与えたりウエハを破損したりすることがあった。しかし、本発明者は、ウエハ上下面を押さえる部分をウエハ上下面で一致させる(同じ領域とする)ことにより、ウエハにダメージを与えたりウエハを破損したりすることが殆どなくなることを見出した。これは、上側のウエハ押さえからウエハ上面に作用する力と下側のウエハ押さえからウエハ下面に作用する力とが均等に働き、互いの力の打ち消し合う割合が大きくなり、この結果、ウエハにかかる力が均一になり、ウエハ固定によるウエハ内の応力が小さくなるためである。   As described above, in the conventional single wafer type wafer case, when the wafer is pressed and fixed, the portions that hold the wafer upper and lower surfaces differ between the wafer upper and lower surfaces. For this reason, since the force exerted on the wafer from the wafer presser or the like is not uniform within the wafer, when the wafer thickness is reduced to 20 to 200 μm, the wafer may be damaged or the wafer may be damaged. However, the present inventor has found that by making the portions that hold the upper and lower surfaces of the wafer coincide with each other on the upper and lower surfaces of the wafer (the same area), the wafer is hardly damaged or broken. This is because the force acting on the upper surface of the wafer from the upper wafer retainer and the force acting on the lower surface of the wafer from the lower wafer retainer work equally, and the ratio of mutual cancellation of the forces increases. This is because the force becomes uniform and the stress in the wafer due to the wafer fixing becomes small.

さらに、ウエハ押さえからウエハへ及ぼす力を必要以上に大きくせずしかも確実に押さえるために、ウエハ押さえに弾性的性能を持たせることにより、すなわち、ウエハ押さえの構造を弾性的構造にしたり、ウエハ押さえを弾性材料で構成したりすることにより、ウエハに与えるダメージやウエハの破損を防止する効果を飛躍的に向上できることを見出した。   Furthermore, in order to reliably and reliably suppress the force exerted on the wafer from the wafer retainer, the wafer retainer is provided with elastic performance, that is, the structure of the wafer retainer is made elastic, or the wafer retainer is It has been found that the effect of preventing damage to the wafer and the breakage of the wafer can be dramatically improved by configuring the material with an elastic material.

以下に、具体的実施例をもとに説明する。
図1(図1A〜図1C)は、本発明の第1の実施形態を示す図で、傾斜面を有した中空型円板形状のウエハ押さえおよびU字(またはV字)型円環状ウエハ押さえを有するウエハケースを表す図である。図1Aは、ウエハケースへ搭載されるウエハおよびウエハ押さえの搭載関係を示す図である。図1Bは、ウエハをウエハケース内に載置した状態を示す側面断面図である。図1Cは、上側ウエハ押さえおよび下側ウエハ押さえによりウエハを固定したときの様子が良く分かるように、図1Bの一部を拡大したものである。
ウエハケース10は上下に分離可能な上ケース14および下ケース11からなり、ウエハケース10内には上側ウエハ押さえ13および下側ウエハ押さえ12が配置され、ウエハ1は上側ウエハ押さえ13、下側ウエハ押さえ12の間に挟持される。下ケース11は、底板部15、底板部外周部を囲む円筒状側壁部(下ケース側壁部16)および(下ケース)外周足部19からなる。上ケース14は、(上ケース)天板部17および天板部外周部を囲む円筒状側壁部(上ケース側壁部18)からなる。
In the following, description will be given based on specific examples.
FIG. 1 (FIGS. 1A to 1C) is a view showing a first embodiment of the present invention, and is a hollow disk-shaped wafer retainer and a U-shaped (or V-shaped) annular wafer retainer having an inclined surface. It is a figure showing the wafer case which has. FIG. 1A is a diagram illustrating a mounting relationship between a wafer mounted on a wafer case and a wafer presser. FIG. 1B is a side sectional view showing a state in which the wafer is placed in the wafer case. FIG. 1C is an enlarged view of a part of FIG. 1B so that the state when the wafer is fixed by the upper wafer press and the lower wafer press can be clearly understood.
The wafer case 10 includes an upper case 14 and a lower case 11 that are separable up and down. An upper wafer retainer 13 and a lower wafer retainer 12 are disposed in the wafer case 10, and the wafer 1 has an upper wafer retainer 13 and a lower wafer retainer. It is sandwiched between the pressers 12. The lower case 11 includes a bottom plate portion 15, a cylindrical side wall portion (lower case side wall portion 16) surrounding the bottom plate outer peripheral portion, and a (lower case) outer peripheral foot portion 19. The upper case 14 includes an (upper case) top plate portion 17 and a cylindrical side wall portion (upper case side wall portion 18) surrounding the outer periphery of the top plate portion.

図1Aにおいて、下ケース11の底板部15は中央部に向かって下方へ傾斜した円錐状の形状をしている。図1Bの側面断面図がこの傾斜状態を良く表している。下ケース側壁部16は円筒形状をしていて、下側ウエハ押さえ12は、下ケース側壁部16と底板部15の境界部分にうまく当接してはまるように作製されている。ウエハ1も、円筒形状の下ケース側壁部16の内側に適合し、下側ウエハ押さえ12の上に載置される。
In FIG. 1A, the bottom plate portion 15 of the lower case 11 has a conical shape inclined downward toward the central portion. The side sectional view of FIG. 1B well represents this inclined state. Lower case side wall portion 16 has a cylindrical shape, the lower the wafer presser 12 is fabricated to fit in well contact with the boundary portion of the lower case side wall portion 16 and the bottom plate portion 15. The wafer 1 also fits inside the cylindrical lower case side wall 16 and is placed on the lower wafer retainer 12.

次に上側ウエハ押さえ13をウエハ1の上に載せる。上側ウエハ押さえ13は、下側ウエハ押さえ12に当接してはまるように作製されている。次に、上ケース14を下ケース11と合わせて上ケース14および下ケース11を固定する。上ケース14の側壁部(上ケース側壁部18)の内側は、下ケース側壁部16の外周全体を囲むように作製されているので、上ケース14および下ケース11を固定できる。下ケース11の内側に下側ウエハ押さえ12、ウエハ1および上側ウエハ押さえ13を自然に載置(重力に適応してすきまなく載置)し、その後で上ケース14を下ケース11と合わせたときに、上側ウエハ押さえ13の最上部は上ケース14の天板部17の内側に当接するように作製されている。また、下側ウエハ押さえ12も上側ウエハ押さえ13もウエハ周縁部のみに接触するように作製されている。さらに、下側ウエハ押さえ12も上側ウエハ押さえ13もウエハ周縁部の全領域において、ウエハを挟持するように作製されている。これにより、ウエハ1は、ウエハの周縁部において下側ウエハ押さえ12と上側ウエハ押さえ13との間に挟まれて押さえつけられるので、ウエハ1が確実にウエハケース10に固定される。上側ウエハ押さえ13の最上部が下ケース11の下ケース側壁部16の最上部よりはみ出ている場合は、天板部17が下ケース側壁部16の最上部よりさらに上部にあっても、天板部17が上側ウエハ押さえ13を押し付ける。しかし、上側ウエハ押さえ13の最上部が下ケース11の下ケース側壁部16の最上部よりはみ出ていない場合は、天板部17の部分で上側ウエハ押さえ13の最上部に接触するために天板部17のその接触部分を下ケース11の下ケース側壁部16の最上部より低くして上側ウエハ押さえ13の最上部に接触させるように作製し、天板部17が上側ウエハ押さえ13を押し付けることができるようにする。或いは、この目的のために天板部17に上側ウエハ押さえ当接部分を取り付けても良い。
Next, the upper wafer holder 13 is placed on the wafer 1. The upper wafer retainer 13 is manufactured so as to be in contact with the lower wafer retainer 12. Next, the upper case 14 and the lower case 11 are fixed together with the upper case 14 together with the lower case 11. Since the inside of the side wall portion (upper case side wall portion 18) of the upper case 14 is formed so as to surround the entire outer periphery of the lower case side wall portion 16, the upper case 14 and the lower case 11 can be fixed. When the lower wafer holder 12, the wafer 1 and the upper wafer holder 13 are naturally placed inside the lower case 11 (adapted to gravity and placed without gaps), and then the upper case 14 is combined with the lower case 11 In addition, the uppermost portion of the upper wafer retainer 13 is fabricated so as to contact the inner side of the top plate portion 17 of the upper case 14. Further, the lower wafer retainer 12 and the upper wafer retainer 13 are fabricated so as to contact only the peripheral edge of the wafer. Further, the lower wafer presser 12 and the upper wafer presser 13 are fabricated so as to hold the wafer in the entire region of the wafer peripheral portion. As a result, the wafer 1 is sandwiched and pressed between the lower wafer holder 12 and the upper wafer holder 13 at the peripheral edge of the wafer, so that the wafer 1 is securely fixed to the wafer case 10. When the uppermost part of the upper wafer presser 13 protrudes from the uppermost part of the lower case side wall part 16 of the lower case 11, even if the top plate part 17 is further above the uppermost part of the lower case side wall part 16, the top plate The unit 17 presses the upper wafer holder 13. However, when the uppermost portion of the upper wafer retainer 13 does not protrude from the uppermost portion of the lower case side wall portion 16 of the lower case 11, the top plate 17 contacts the uppermost portion of the upper wafer retainer 13 at the top plate portion 17. The contact portion of the portion 17 is made lower than the uppermost portion of the lower case side wall portion 16 of the lower case 11 so as to be in contact with the uppermost portion of the upper wafer retainer 13, and the top plate portion 17 presses the upper wafer retainer 13. To be able to. Alternatively, the upper wafer pressing contact portion may be attached to the top plate portion 17 for this purpose.

第1の実施形態においては、図1Aおよび図1Bから分かるように、下側ウエハ押さえ12は、その断面部がU字またはV字形状をした円環形状をしている。U字またはV字の開放側が下ケース側壁部16の内側に当接し、はまるように配置される。このU字またはV字構造は一種の弾性構造であり、U字またはV字の一端が(ウエハ1によって押されると)U字またはV字形状部分が弾性的に変形する。一方、上側ウエハ押さえ13は、図1Aおよび図1Bから分かるように、中心部上方へ傾斜した中心側が切り欠かれた円板形状をしている。この傾斜を有した円板形状の上側ウエハ押さえ13も一種の弾性構造になっていて、上側ウエハ押さえ13の上部が(上ケース14の天板部17によって押されると)傾斜した中空の円板形状が弾性的に変形する。上述したように、下ケース11に適合して上側ウエハ押さえ13を載置したときに、上側ウエハ押さえ13の最上部は、通常下ケース側壁部16の最上部より上側へはみ出ている。従って、上ケース14が下ケース11と合わさり固定したときに、上ケース14の天板部17により上側ウエハ押さえ13の上部が押され弾性的に変形するとともに、天板部17によって押される力が伝達し、ウエハ1と上側ウエハ押さえ13との接触部において、ウエハ1を押しつける。さらに、ウエハ1を押しつけた力は、ウエハ1と下側ウエハ押さえ12との接触部において、下側ウエハ押さえ12を弾性的に変形させる。
In the first embodiment, as can be seen from FIGS. 1A and 1B, the lower wafer retainer 12 has an annular shape with a U-shaped or V-shaped cross section. Open side of the U-shape or V-shape is in contact with the inside of the lower case side wall portion 16, it is arranged to fit. This U-shaped or V-shaped structure is a kind of elastic structure, and one end of the U-shaped or V-shaped (when pushed by the wafer 1) elastically deforms the U-shaped or V-shaped portion. On the other hand, the upper wafer presser 13, as can be seen from FIGS. 1A and 1B, angled center side is a notched circular plate shape to the center upwards. The disk-shaped upper wafer retainer 13 having an inclination also has a kind of elastic structure, and a hollow disk in which the upper portion of the upper wafer retainer 13 is inclined (when pressed by the top plate portion 17 of the upper case 14). The shape is elastically deformed. As described above, when the upper wafer retainer 13 is placed in conformity with the lower case 11, the uppermost portion of the upper wafer retainer 13 usually protrudes upward from the uppermost portion of the lower case sidewall 16. Accordingly, when the upper case 14 is fixed together with the lower case 11, the upper portion of the upper wafer retainer 13 is pushed and elastically deformed by the top plate portion 17 of the upper case 14, and the force pushed by the top plate portion 17 is increased. Then, the wafer 1 is pressed at the contact portion between the wafer 1 and the upper wafer holder 13. Further, the force pressing the wafer 1 elastically deforms the lower wafer retainer 12 at the contact portion between the wafer 1 and the lower wafer retainer 12.

この状態を拡大して良く分かるように示したものが図1Cである。上述したように上側ウエハ押さえ13は中心部に向かい上方へ傾斜しているので、上ケース天板部17と上側ウエハ押さえ13との接触部3において、上ケース天板部17が上側ウエハ押さえ13を押しつける。上側ウエハ押さえ13は上ケース天板部17によって下方へ押され弾性変形すると同時に、上ケース天板部17からの押圧力がウエハ1とウエハ押さえとの接触部2へ伝達し、その接触部2において、ウエハ1は上側ウエハ押さえ13と下側ウエハ押さえ12により挟持されしっかりと固定される。この図からも良く分かるように、上側ウエハ押さえ13とウエハ1との接触部の少なくとも1部(接触部全体も含む)は、下側ウエハ押さえ12とウエハ1との接触部と裏表の関係になっていてウエハの上面および下面において重なり合っている。すなわち、上側ウエハ押さえ13とウエハ1との接触部の少なくとも1部(接触部全体も含む)は、下側ウエハ押さえ12とウエハ1との接触部とウエハ上面およびウエハ下面において同じ位置またはほぼ同じ位置にある。従って、上側ウエハ押さえ13からウエハ1を下方へ押す力と下側ウエハ押さえ12からウエハ1を上方へ押す力は互いに打ち消し合う割合が大きくなり、ウエハに及ぼす力は均一になる。このことはウエハへのせん断的な力またはウエハ面に対して垂直方向以外の力が非常に小さくなることを表している。すなわち、ウエハ1と上側ウエハ押さえ13および下側ウエハ押さえ12との接触部2以外のウエハ内領域、特にウエハ内の素子領域にはほとんど力が作用しないため、ウエハにダメージを与えることはないし、当然にウエハを破損することもない。   FIG. 1C shows this state in an enlarged manner so that it can be clearly understood. As described above, since the upper wafer retainer 13 is inclined upward toward the center portion, the upper case retainer 17 in the contact portion 3 between the upper case retainer 17 and the upper wafer retainer 13 is the upper wafer retainer 13. Press. The upper wafer retainer 13 is pushed downward by the upper case top plate portion 17 and elastically deformed. At the same time, the pressing force from the upper case top plate portion 17 is transmitted to the contact portion 2 between the wafer 1 and the wafer retainer, and the contact portion 2 , The wafer 1 is sandwiched and fixed firmly by the upper wafer holder 13 and the lower wafer holder 12. As can be seen from this figure, at least one part (including the entire contact part) of the contact portion between the upper wafer retainer 13 and the wafer 1 is in a relationship between the front and back of the contact portion between the lower wafer retainer 12 and the wafer 1. It overlaps on the upper and lower surfaces of the wafer. That is, at least one part (including the entire contact part) of the contact portion between the upper wafer retainer 13 and the wafer 1 is the same position or substantially the same in the contact portion between the lower wafer retainer 12 and the wafer 1, the wafer upper surface, and the wafer lower surface. In position. Accordingly, the force that pushes the wafer 1 downward from the upper wafer retainer 13 and the force that pushes the wafer 1 upward from the lower wafer retainer 12 increase in proportion to each other, and the force exerted on the wafer becomes uniform. This represents that the shearing force on the wafer or the force other than the direction perpendicular to the wafer surface becomes very small. That is, since almost no force acts on the wafer inner area other than the contact portion 2 between the wafer 1 and the upper wafer holder 13 and the lower wafer holder 12, particularly the element area in the wafer, the wafer is not damaged. Of course, the wafer is not damaged.

図1Bおよび図1Cのような断面からみると、ウエハ1は上側ウエハ押さえ13および下側ウエハ押さえ12と点接触しているように見えるが、上側ウエハ押さえ13および下側ウエハ押さえ12は弾性構造を有していると同時に弾性材料から構成される弾性体でもあるので、実際にはウエハ1は上側ウエハ押さえ13および下側ウエハ押さえ12と線接触(円板状または円環状であるから、実際には面接触)している。この接触部分は大きい方が接触部分における単位面積あたりの力が小さくなるので、ウエハ1の接触部分へのダメージは小さくなる。しかし、接触部分が大きいとウエハ内の素子部に接触してしまい、好ましくはない。ウエハ1を確実に保持できる程度の接触領域であれば良いので、接触領域はウエハ外周部から5mm以内が望ましい。ただし、ウエハ外周部から5mm以内にも素子が形成される場合は、それよりも外側にウエハ1と上側ウエハ押さえ13および下側ウエハ押さえ12との接触部2が来るように上側ウエハ押さえ13および下側ウエハ押さえ12の大きさや材質を調整する。たとえば、上側ウエハ押さえ13の傾斜角度、径、大きさ、形状、厚み、下ケース側壁部16の最上部からのはみ出し量を接触領域に合わせて調整すればよい。また、上側ウエハ押さえ13の材質、特に弾性率を変化させても良い。下側ウエハ押さえ12についても、たとえば、U字またはV字の開き角度、形状、大きさ、厚み、材質を接触領域に合わせて調整すればよい。   1B and 1C, the wafer 1 appears to be in point contact with the upper wafer retainer 13 and the lower wafer retainer 12, but the upper wafer retainer 13 and the lower wafer retainer 12 have an elastic structure. Since the wafer 1 is also an elastic body made of an elastic material, the wafer 1 is actually in line contact with the upper wafer retainer 13 and the lower wafer retainer 12 (because it is disk-shaped or annular, Is in surface contact). The larger the contact portion, the smaller the force per unit area at the contact portion, so that the damage to the contact portion of the wafer 1 is reduced. However, if the contact portion is large, it will be in contact with the element portion in the wafer, which is not preferable. Any contact area that can hold the wafer 1 reliably can be used. However, when an element is also formed within 5 mm from the outer peripheral portion of the wafer, the upper wafer press 13 and the upper wafer press 13 and the contact portion 2 between the wafer 1 and the upper wafer press 13 and the lower wafer press 12 are located outside of the device. The size and material of the lower wafer retainer 12 are adjusted. For example, the inclination angle, diameter, size, shape, thickness of the upper wafer retainer 13 and the amount of protrusion from the uppermost portion of the lower case side wall portion 16 may be adjusted in accordance with the contact area. Further, the material of the upper wafer retainer 13, in particular, the elastic modulus may be changed. For the lower wafer retainer 12, for example, the U-shaped or V-shaped opening angle, shape, size, thickness, and material may be adjusted according to the contact area.

図2(図2A〜図2C)は、本発明の第2の実施形態を示す図である。第2の実施形態において、上側ウエハ押さえおよび下側ウエハ押さえともウエハ周縁部と平坦面で接触する構造となっている。図2Aは、ウエハケースへ搭載されるウエハおよびウエハ押さえの搭載関係を示す図である。図2Bは、ウエハをウエハケース内に載置した状態を示す側面断面図である。図2Cは、上側ウエハ押さえおよび下側ウエハ押さえによりウエハを固定したときの様子が良く分かるように、図2Bの一部を拡大したものである。   FIG. 2 (FIGS. 2A to 2C) is a diagram showing a second embodiment of the present invention. In the second embodiment, the upper wafer retainer and the lower wafer retainer are in contact with the peripheral edge of the wafer on a flat surface. FIG. 2A is a diagram showing a mounting relationship between a wafer mounted on a wafer case and a wafer presser. FIG. 2B is a side sectional view showing a state where the wafer is placed in the wafer case. FIG. 2C is an enlarged view of a part of FIG. 2B so that the state when the wafer is fixed by the upper wafer press and the lower wafer press can be clearly understood.

図2Aから分かるように、ウエハケースへ搭載されるウエハおよびウエハ押さえの搭載関係は図1Aと同じである。ただし、下側ウエハ押さえ22および上側ウエハ押さえ23は第1の実施形態とは異なっている。図2Bから分かるように、下側ウエハ押さえ22のウエハと接触する部分は、ウエハ周縁部の外周面である。すなわち、下側ウエハ押さえ22はその断面がL字状の形状をした円環状で、外側端部から中心に向かう上面が平坦なウエハ受け部22Bと、外側端部から上方に起立する起立部を有する。ウエハ1はこの下側ウエハ押さえ22の起立部の内側にはまり、ウエハ受け部22Bに載置される。また、上側ウエハ押さえ23は、外周部に円筒状側壁部を有した円板構造となっている。円筒状側壁部の外縁は、下側ウエハ押さえ22の起立部の内側にはまる。円筒状側壁部の下側端面には平坦部があり、ウエハ受け部22Bに載置されたウエハを上から押さえる。上側ウエハ押さえ23の天井板23Aは、上ケース24を載せないときには、通常下ケース側壁部26の最上部より上にはみ出ている。従って、上ケース24を配置して下ケース21と合わせて固定したときには、上ケース24によって上側ウエハ押さえ23の天井板23Aが押される。その力が上側ウエハ押さえ23の側壁部23Bに作用して、ウエハ1と上側ウエハ押さえ23の側壁部23Bの平坦部との接触面(従って平面となる)において、上側ウエハ押さえ23の側壁部23Bに作用する力によって、ウエハ1の周縁部の接触面においてウエハ1を下方に押し付ける。その力がさらに下側ウエハ押さえ22のウエハ受け部(平坦部)22B(図2Cに示す)を押し付ける。以上によりウエハ1は下側ウエハ押さえ22と上側ウエハ押さえ23の間に挟持され固定される。
As can be seen from FIG. 2A, the mounting relationship between the wafer mounted on the wafer case and the wafer holder is the same as in FIG. 1A. However, the lower wafer holder 22 and the upper wafer holder 23 are different from those of the first embodiment. As can be seen from FIG. 2B, the portion of the lower wafer retainer 22 that contacts the wafer is the outer peripheral surface of the wafer peripheral portion. That is, the lower wafer retainer 22 has an annular shape with an L-shaped cross section, a wafer receiving portion 22B having a flat upper surface from the outer end portion toward the center, and an upright portion that rises upward from the outer end portion. Have. The wafer 1 fits inside the upright portion of the lower wafer retainer 22 and is placed on the wafer receiving portion 22B. Further, the upper wafer holder 23 has a disk structure having a cylindrical side wall portion on the outer peripheral portion. The outer edge of the cylindrical side wall portion fits inside the standing portion of the lower wafer retainer 22 . There is a flat portion on the lower end surface of the cylindrical side wall portion, and the wafer placed on the wafer receiving portion 22B is pressed from above. When the upper case 24 is not placed, the ceiling plate 23A of the upper wafer retainer 23 normally protrudes above the uppermost portion of the lower case side wall portion 26. Accordingly, when the upper case 24 is arranged and fixed together with the lower case 21, the ceiling plate 23 </ b> A of the upper wafer retainer 23 is pushed by the upper case 24. The force acts on the side wall portion 23B of the upper wafer retainer 23, and on the contact surface between the wafer 1 and the flat portion of the side wall portion 23B of the upper wafer retainer 23 (thus becoming a flat surface), the side wall portion 23B of the upper wafer retainer 23 is provided. The wafer 1 is pressed downward on the contact surface at the peripheral edge of the wafer 1 by the force acting on the wafer 1. The force further presses the wafer receiving portion (flat portion) 22B ( shown in FIG. 2C ) of the lower wafer retainer 22. Thus, the wafer 1 is sandwiched and fixed between the lower wafer holder 22 and the upper wafer holder 23.

この様子を拡大して示した図が図2Cである。断面がL字状の下側ウエハ押さえ22は下ケース21の下ケース側壁部26および底板部25の内側にはまる構造となっている。ウエハ1の周縁部は、下側ウエハ押さえ22の平坦部22Bに載置され、上側ウエハ押さえ23の側壁部23Bの平坦部に接触する。この場合、ウエハ1と下側ウエハ押さえ22との接触面は、ウエハ1と上側ウエハ押さえ23との接触面と同じ領域であることが望ましい。そのように作製することにより、ウエハ内の他の領域、特に素子の存在する領域へ作用する力が非常に小さくなる。この結果、ウエハがダメージを受けたり、破損したりすることはない。
FIG. 2C is an enlarged view of this state. The lower wafer holder 22 having an L-shaped cross section has a structure that fits inside the lower case side wall portion 26 and the bottom plate portion 25 of the lower case 21. The peripheral portion of the wafer 1 is placed on the flat portion 22B of the lower wafer retainer 22 and contacts the flat portion of the side wall portion 23B of the upper wafer retainer 23. In this case, the contact surface between the wafer 1 and the lower wafer retainer 22 is desirably the same region as the contact surface between the wafer 1 and the upper wafer retainer 23. By making it so, the force acting on other regions in the wafer, especially the region where the element exists, becomes very small. As a result, the wafer is not damaged or broken.

上側ウエハ押さえ23の天井板23Aは中心部に向かって上方へ傾斜する構造となっていても良い。この構造は1種の弾性構造である。この場合は、天井板23Aの一部が下ケース側壁部26の最上部より上にはみ出ていて、上ケース24の天板部27によってこのはみ出ている天井板23Aの部分が押され、その力が上側ウエハ押さえ23の側壁部23Bへ作用する。   The ceiling plate 23A of the upper wafer retainer 23 may be structured to be inclined upward toward the center. This structure is a kind of elastic structure. In this case, a part of the ceiling plate 23A protrudes above the uppermost portion of the lower case side wall portion 26, and the protruding portion of the ceiling plate 23A is pushed by the top plate portion 27 of the upper case 24. Acts on the side wall 23B of the upper wafer retainer 23.

上側ウエハ押さえ23の天井板23Aが平板の場合には、天井板23A全体が下ケース側壁部26の最上部より上にはみ出ているので、上側ウエハ押さえ23や下側ウエハ押さえ22が弾性的に変形することにより、ウエハ1を固定する。たとえば、上側ウエハ押さえ23および下側ウエハ押さえ22は弾性材料で構成されているので、押圧によりこれらの弾性材料が変形する。   When the ceiling plate 23A of the upper wafer retainer 23 is a flat plate, the entire ceiling plate 23A protrudes above the uppermost portion of the lower case side wall portion 26, so that the upper wafer retainer 23 and the lower wafer retainer 22 are elastic. By deforming, the wafer 1 is fixed. For example, since the upper wafer retainer 23 and the lower wafer retainer 22 are made of an elastic material, these elastic materials are deformed by the pressing.

第2の実施形態を示す図2においては、上側ウエハ押さえ23の天井板23Aは完全な円板状で示されているが、中空の円板状であっても良いし、八手状の形状であっても良い。   In FIG. 2 showing the second embodiment, the ceiling plate 23A of the upper wafer retainer 23 is shown as a complete disc shape, but may be a hollow disc shape or an eight-handed shape. It may be.

図3は、断面が共にU字(またはV字)状の下側ウエハ押さえおよび上側ウエハ押さえを有するウエハケースの第3の実施形態を示す図である。第3の実施形態においては、その構造が良く分かるように側面断面図のみ示す。ウエハ1は下側ウエハ押さえ32と上側ウエハ押さえ33に挟まれて固定される。上ケース34が固定されていない状態では、U字(またはV字)状の上側ウエハ押さえ33の1部は下ケース側壁部36の最上部よりはみ出ていて、下ケース31と上ケース34を合わせて固定したときに、上ケース34の天板部37によって、U字(またはV字)状の上側ウエハ押さえ33が押される。U字(またはV字)状の上側ウエハ押さえ33は1種の弾性構造であるから、その一端が押されてU字(またはV字)形状が弾性変形するとともに、上側ウエハ押さえ33はウエハ1を押し付ける。さらに、ウエハ1を経由してU字(またはV字)状の下側ウエハ押さえ32が押される。U字(またはV字)状の下側ウエハ押さえ32も1種の弾性構造であるから、その一端が押されてU字(またはV字)形状が弾性変形するとともに、その反作用としてウエハ1を上方へ押す。上側ウエハ押さえ33とウエハ1との接触部分および下側ウエハ押さえ32とウエハ1との接触部分とをウエハ内で同じ領域とすることにより、ウエハ1を押す力同士(上側ウエハ押さえがウエハ1の上面を押す力と下側ウエハ押さえがウエハ1の下面を押す力)を均等にすることができるとともに互いに打ち消す割合を大きくすることができる。この結果、たとえウエハが20μm〜200μmと薄くなったとしても、ウエハ1の接触部分4以外の領域、特に素子領域にダメージを与えることもないし、ウエハを破損することもない。尚、上ケース34と下ケース31を固定したときに、上述したように上ケース34は上側ウエハ押さえ33を押し付けるが、上ケース34と下ケース31を固定した状態において、上側ウエハ押さえ33の最上部は必ずしも下ケース側壁部36の最上部と一致またはそれ以下になるわけではない。上側ウエハ押さえ33の最上部の位置は、上ケース側壁部38および下ケース側壁部39を合わせた位置で決定する場合もある。或いは、上側ウエハ押さえ33からの反作用力によって決まる場合もあるし、ストッパーなどの抑えによって決まる場合もある。   FIG. 3 is a view showing a third embodiment of a wafer case having a lower wafer presser and an upper wafer presser each having a U-shaped (or V-shaped) cross section. In the third embodiment, only a side sectional view is shown so that the structure can be clearly understood. The wafer 1 is sandwiched and fixed between the lower wafer holder 32 and the upper wafer holder 33. When the upper case 34 is not fixed, a part of the U-shaped (or V-shaped) upper wafer presser 33 protrudes from the uppermost part of the lower case side wall 36, and the lower case 31 and the upper case 34 are aligned. Then, the U-shaped (or V-shaped) upper wafer presser 33 is pressed by the top plate portion 37 of the upper case 34. Since the U-shaped (or V-shaped) upper wafer retainer 33 is a kind of elastic structure, one end of the U-shaped (or V-shaped) is pressed, and the U-shaped (or V-shaped) shape is elastically deformed. Press. Further, a U-shaped (or V-shaped) lower wafer presser 32 is pushed through the wafer 1. Since the U-shaped (or V-shaped) lower wafer presser 32 is also a kind of elastic structure, one end thereof is pressed and the U-shaped (or V-shaped) shape is elastically deformed. Press upward. By making the contact portion between the upper wafer retainer 33 and the wafer 1 and the contact portion between the lower wafer retainer 32 and the wafer 1 in the same region within the wafer, the forces pressing the wafer 1 (the upper wafer retainer is The force pushing the upper surface and the force by which the lower wafer press pushes the lower surface of the wafer 1 can be made uniform and the ratio of canceling each other can be increased. As a result, even if the wafer is as thin as 20 μm to 200 μm, the area other than the contact portion 4 of the wafer 1, particularly the element area, is not damaged and the wafer is not damaged. Note that when the upper case 34 and the lower case 31 are fixed, the upper case 34 presses the upper wafer presser 33 as described above. The upper portion does not necessarily coincide with or lower than the uppermost portion of the lower case side wall portion 36. The uppermost position of the upper wafer presser 33 may be determined by the combined position of the upper case side wall 38 and the lower case side wall 39. Alternatively, it may be determined by a reaction force from the upper wafer presser 33, or may be determined by suppression of a stopper or the like.

図4は、上側ウエハ押さえの断面がU字(またはV字)状で、下側ウエハ押さえの断面が中心部下方に向かって傾斜した構造を持つ中空の円板形状である場合の第4の実施形態である。第4の実施形態においては、その構造が良く分かるように側面断面図のみ示す。どちらの構造も1種の弾性構造である。上側ウエハ押さえ43については第3の実施形態と同じである。ウエハ1と上側ウエハ押さえ43および下側ウエハ押さえ42とは接触部5において接触している。上側ウエハ押さえ43からのウエハ1を経由した力は、下側ウエハ押さえ42とウエハ1との接触面で下方に作用する。下側ウエハ押さえ42も一種の弾性構造であるから、下側ウエハ押さえ42は下方へ弾性変形する。ウエハ1と上側ウエハ押さえ43との接触部分およびウエハ1と下側ウエハ押さえ42との接触部分は、ウエハ内で同一部分となるように作製されている。この結果、この接触部分以外のウエハ領域、特に素子領域には作用する力は非常に小さくなるので、ウエハにダメージを与えたり、ウエハを破損したりすることはない。   FIG. 4 shows a fourth case where the upper wafer retainer has a U-shaped (or V-shaped) cross section, and the lower wafer retainer has a hollow disk shape having a structure inclined toward the lower center. It is an embodiment. In the fourth embodiment, only a side sectional view is shown so that the structure can be clearly understood. Both structures are a kind of elastic structure. The upper wafer holder 43 is the same as that of the third embodiment. The wafer 1 is in contact with the upper wafer retainer 43 and the lower wafer retainer 42 at the contact portion 5. The force passing through the wafer 1 from the upper wafer holder 43 acts downward on the contact surface between the lower wafer holder 42 and the wafer 1. Since the lower wafer holder 42 is also a kind of elastic structure, the lower wafer holder 42 is elastically deformed downward. The contact portion between the wafer 1 and the upper wafer retainer 43 and the contact portion between the wafer 1 and the lower wafer retainer 42 are fabricated to be the same portion within the wafer. As a result, the force acting on the wafer region other than the contact portion, particularly the element region, is very small, so that the wafer is not damaged or damaged.

図5は、上側ウエハ押さえも下側ウエハ押さえもその断面が中心部に向かって傾斜した中空の円板状である場合の第5の実施形態である。第5の実施形態においては、その構造が良く分かるように断面側面図のみ示す。第1の実施形態で示した上側ウエハ押さえと第4の実施形態で示した下側ウエハ押さえを組み合わせたものと考えることもできる。上側ウエハ押さえ53は、中心部上方へ傾斜した中空の円板状であるが、その一部が下ケース側壁部56より上にはみ出ている。下ケース51が上ケース54と合わさり固定されたときに、上ケース54の天板部57が下ケース側壁部56のそのはみ出し部分を下方へ押す。上側ウエハ押さえ53は下方へ弾性的に変形するが、その力がウエハ1と上側ウエハ押さえ53の接触面に作用し、ウエハ1を下方に押す。(ウエハ1と上側ウエハ押さえ53および下側ウエハ押さえ52との接触部は6である。)ウエハ1と上側ウエハ押さえ53との接触部分およびウエハ1と下側ウエハ押さえ52との接触部分が、ウエハ内で同一部分になるように作製されているので、この力がウエハ1を介して下側ウエハ押さえ52に作用し、下側ウエハ押さえ52は下方へ弾性的に変形する。このときの下側ウエハ押さえ52からウエハ1へ作用する(反作用)力と上側ウエハ押さえ53からウエハ1へかかる力は互いに打ち消し合う割合が大きくなり、ウエハに及ぼす全体の力は非常に小さくなる。この結果、この接触部分6以外のウエハ領域、特に素子領域には作用する力が非常に小さくなるので、ウエハにダメージを与えたり、ウエハを破損したりすることはない。   FIG. 5 shows a fifth embodiment in which the upper wafer retainer and the lower wafer retainer have a hollow disc shape whose cross section is inclined toward the center. In the fifth embodiment, only a cross-sectional side view is shown so that the structure can be clearly understood. It can be considered that the upper wafer press shown in the first embodiment and the lower wafer press shown in the fourth embodiment are combined. The upper wafer retainer 53 has a hollow disk shape that is inclined upward in the center, but a part of the upper wafer retainer 53 protrudes above the lower case side wall 56. When the lower case 51 is fixed together with the upper case 54, the top plate portion 57 of the upper case 54 pushes the protruding portion of the lower case side wall portion 56 downward. The upper wafer retainer 53 is elastically deformed downward, but the force acts on the contact surface between the wafer 1 and the upper wafer retainer 53 to push the wafer 1 downward. (The contact portion between the wafer 1 and the upper wafer retainer 53 and the lower wafer retainer 52 is 6.) The contact portion between the wafer 1 and the upper wafer retainer 53 and the contact portion between the wafer 1 and the lower wafer retainer 52 are: Since it is fabricated so as to be the same part within the wafer, this force acts on the lower wafer retainer 52 via the wafer 1, and the lower wafer retainer 52 is elastically deformed downward. At this time, the force acting on the wafer 1 from the lower wafer retainer 52 and the force acting on the wafer 1 from the upper wafer retainer 53 increase in proportion to cancel each other, and the overall force exerted on the wafer becomes very small. As a result, since the force acting on the wafer area other than the contact portion 6, particularly the element area, becomes very small, the wafer is not damaged or the wafer is not damaged.

図6は、別のウエハ押さえを示す図である。図7に示す従来の八手状のウエハ押さえを本発明に適合するように改良したものである。すなわち、八手状の先端を円形状につなぎ、ウエハを押さえたときに、八手状の円形の先端部分がウエハの周縁部に接触するような構造となっている。このウエハ押さえ61をこれまで説明した第1〜第5の実施形態におけるように、上側ウエハ押さえや下側ウエハ押さえとして用いることができる。上側ウエハ押さえおよび下側ウエハ押さえの両方に用いても良いし、一方だけに用いて、他方には別の形状の押さえを用いることもできる。この八手状のウエハ押さえ61は、八手状の先端部(ウエハ押さえ61の外周部)63から中心へ向かって傾斜している。このときもウエハを固定したときに、ウエハと接触するのは、八手状の先端部(ウエハ押さえ61の外周部)63の一部であるが、その接触部がもう一方のウエハ面の接触部と一致するように作製する。このことによって、ウエハ押さえ61の中心部64が上ケースの天板部によって下方に押され弾性変形するとともに、天板部からの力がウエハ押さえ61の外周部からウエハを押して、上側ウエハ押さえと下側ウエハ押さえとの間でウエハが固定される。この結果、これまで説明してきたように、ウエハ内の接触領域以外の領域には力が作用しないので、ウエハにダメージを与えたり、ウエハを破損したりすることはない。尚、八手状ではなく、中心部に向かって傾斜した完全に円板状にした形状のものでも同様の効果がある。   FIG. 6 is a diagram showing another wafer presser. The conventional eight-handed wafer retainer shown in FIG. 7 is improved to be compatible with the present invention. That is, the structure is such that when the eight-handed tip is connected in a circular shape and the wafer is pressed, the eight-handed circular tip contacts the peripheral edge of the wafer. The wafer presser 61 can be used as an upper wafer presser or a lower wafer presser as in the first to fifth embodiments described so far. It may be used for both the upper wafer presser and the lower wafer presser, or it may be used only for one side and another type of presser for the other. The eight-handed wafer retainer 61 is inclined from the eight-handed tip (outer peripheral portion of the wafer retainer 61) 63 toward the center. At this time, when the wafer is fixed, it is a part of the eight-handed tip (outer peripheral part of the wafer presser 61) 63 that comes into contact with the wafer, but the contact part is in contact with the other wafer surface. It is produced so as to match the part. As a result, the central portion 64 of the wafer holder 61 is pushed downward by the top plate portion of the upper case and is elastically deformed, and the force from the top plate portion pushes the wafer from the outer peripheral portion of the wafer holder 61, The wafer is fixed between the lower wafer presser. As a result, as described above, no force acts on the area other than the contact area in the wafer, so that the wafer is not damaged or broken. The same effect can be obtained with a completely disc-like shape that is inclined toward the center instead of the eight-handed shape.

尚、「八手」としているが、「手」が文字通りに八個あることを意味しているわけではなく、手が幾つか(八個も含む)に分かれているという意味であることは言うまでもない。   It should be noted that although “eight hands” is used, it does not mean that there are literally eight hands, but it means that the hands are divided into several (including eight). Yes.

以上、幾つかの実施形態について説明してきたが、これまで説明したウエハ押さえを上側に使っても良いし、下側へ使っても良い。重要なことは、ウエハ周縁部だけをウエハ押さえと接触させ、それ以外のウエハ領域をウエハケースのいかなる部分とも接触させないこと、および上側ウエハ押さえとウエハとの接触部分および下側ウエハ押さえとウエハとの接触部分をウエハ内で一致(あるいは、ほぼ一致)させることにより、この接触部分におけるウエハに作用する力が非常に小さくなる。すなわち、ウエハ上下からウエハに均等に力を及ぼすような構造にする。この結果、接触部分以外のウエハ領域には力を与えないので(または、作用する力が非常に小さくなるので)、ウエハへのダメージがなく、ウエハを破損することがない。   Although several embodiments have been described above, the wafer press described so far may be used on the upper side or may be used on the lower side. What is important is that only the wafer peripheral edge is in contact with the wafer retainer, and the other wafer area is not in contact with any part of the wafer case, and the upper wafer retainer is in contact with the wafer and the lower wafer retainer is in contact with the wafer. By making the contact portions coincide (or substantially coincide) within the wafer, the force acting on the wafer at the contact portion becomes very small. That is, the structure is such that a force is evenly applied to the wafer from above and below the wafer. As a result, since no force is applied to the wafer area other than the contact portion (or the acting force is very small), the wafer is not damaged and the wafer is not broken.

尚、ウエハとウエハ押さえとの接触部分は円状が好ましいが、下側ウエハ押さえとウエハ下面との接触部分がウエハ周縁部の一部である場合にも、上側ウエハ押さえとウエハ上面との接触部分を下側ウエハ押さえとウエハ下面との接触部分と一致させるかほぼ一致させることが重要であることは、これまで説明した通りである。
ウエハ押さえの弾性構造として、本明細書において説明した以外にも種々の構造がある。
Although the contact portion between the wafer and the wafer retainer is preferably circular, the contact between the upper wafer retainer and the upper surface of the wafer is also possible when the contact portion between the lower wafer retainer and the lower surface of the wafer is a part of the peripheral edge of the wafer. As described above, it is important to make the portion coincide with or substantially coincide with the contact portion between the lower wafer pressing member and the lower surface of the wafer.
There are various structures other than those described in this specification as the elastic structure of the wafer retainer.

たとえば、断面がW字(E字)やN字(Z字)状の構造の円環状のウエハ押さえも使用できる。また、リング形状の押さえも使用できる。さらに、他の弾性構造も考えられることは言うまでもない。   For example, an annular wafer retainer having a W-shaped (E-shaped) or N-shaped (Z-shaped) cross section can be used. A ring-shaped presser can also be used. Furthermore, it goes without saying that other elastic structures are also conceivable.

さらに、本発明はウエハの厚みが20μm〜200μmあるいは50μm〜300μmと薄くなったウエハに用いた場合に、従来の方法や構造のウエハケースを用いた場合に比較して、飛躍的にウエハのダメージや破損を防止する効果があることはこれまで説明した通りであるが、上記よりも厚いウエハにも用いることができることも言うまでもない。また、特に詳細には説明しなかったが、ウエハ周縁部以外のウエハ内領域には接触していないので、ウエハの表裏を逆にしてウエハケースに保持することも全く問題なく可能である。   Furthermore, when the present invention is used for a wafer whose thickness is as thin as 20 μm to 200 μm or 50 μm to 300 μm, the damage of the wafer is drastically compared with the case where a wafer case having a conventional method or structure is used. As described above, there is an effect of preventing damage and damage, but it goes without saying that it can be used for a wafer thicker than the above. Although not described in detail, since it is not in contact with the region inside the wafer other than the peripheral portion of the wafer, it is possible to hold the wafer in the wafer case with the front and back sides reversed.

ウエハ押さえの材質として、弾性力のある樹脂である弾性高分子材料を使うことが望ましい。材質として弾性変形するので、ウエハに作用する力を軽減できる。また、衝撃を外部から受けたときに、ウエハへの緩衝効果も期待できる。弾性高分子材料して、熱可塑性エラストマーや発泡高分子やフッ素樹脂がある。熱可塑性エラストマーとして、PET(ポリエチレンテレフタレート)、PEE(ポリエステルエラストマー)、PEEK(ポリエーテルエーテルケトン)、PBTE(ポリブチレンテレフタレートエラストマー),PBNE(ポリブチレンナフタレート)、PPE(ポリフェニレンエーテル)、PUE(ポリウレタンエラストマー)等がある。フッ素樹脂として、PTFE(ポリテトラフルオロエチレン)やPFA(パーフルオロアルコキシアルカン)が挙げられる。発泡高分子として、発泡PET(ポリエチレンテレフタレート)、発泡PE(ポリエチレン)発泡PU(ポリウレタン)や発泡PS(ポリスチレン)等が挙げられる。また、PC(ポリカーボネート),PBT(ポリブチレンテレフタレート)、PBN(ポリブチレンナフタレート)、PP(ポリプロピレン)、ABS(アクリロニトリル・ブタジエン・スチレン)樹脂等の高分子材料も使用できる。上記の高分子材料は単独でも良いし、複数を含む材料でも良い。ウエハに接触する部分に上記高分子材料を用い、それ以外の部分に別の材料、たとえば、金属やガラスなどの無機材料も用いることもできる。また、金属やガラスなどの無機材料の周りを上記高分子材料で被覆したウエハ押さえも用いることができる。たとえば、金属を上記高分子材料で被覆したウエハ押さえは、高い弾性作用および耐久性などの金属の優れた特徴と柔軟性や清浄性などの高分子材料の優れた特徴を有する。金属としては、鉄、ニッケル、コバルト、銅、亜鉛、白金、マグネシウム、チタニウム、クロム、マンガン、タングステンなどや、これらの合金や他の微量元素を含んだものが挙げられる。特にウエハと接触する部分だけを上記高分子材料で被覆したウエハ押さえも用いることができる。   It is desirable to use an elastic polymer material, which is a resin having elasticity, as a material for the wafer holder. Since the material is elastically deformed, the force acting on the wafer can be reduced. In addition, when receiving an impact from the outside, a buffering effect on the wafer can be expected. Elastic polymer materials include thermoplastic elastomers, foamed polymers, and fluororesins. As thermoplastic elastomers, PET (polyethylene terephthalate), PEE (polyester elastomer), PEEK (polyether ether ketone), PBTE (polybutylene terephthalate elastomer), PBNE (polybutylene naphthalate), PPE (polyphenylene ether), PUE (polyurethane) Elastomer). Examples of the fluororesin include PTFE (polytetrafluoroethylene) and PFA (perfluoroalkoxyalkane). Examples of the foamed polymer include foamed PET (polyethylene terephthalate), foamed PE (polyethylene), foamed PU (polyurethane), and foamed PS (polystyrene). Also, polymer materials such as PC (polycarbonate), PBT (polybutylene terephthalate), PBN (polybutylene naphthalate), PP (polypropylene), ABS (acrylonitrile butadiene styrene) resin and the like can be used. The above polymer materials may be used singly or in plural. It is also possible to use the above-mentioned polymer material for the portion in contact with the wafer and another material such as an inorganic material such as metal or glass for the other portions. Further, a wafer retainer in which an inorganic material such as metal or glass is covered with the above polymer material can be used. For example, a wafer retainer in which a metal is coated with the above polymer material has excellent characteristics of the metal such as high elasticity and durability, and excellent characteristics of the polymer material such as flexibility and cleanliness. Examples of the metal include iron, nickel, cobalt, copper, zinc, platinum, magnesium, titanium, chromium, manganese, tungsten, etc., and alloys containing these alloys and other trace elements. In particular, a wafer retainer in which only the portion in contact with the wafer is covered with the polymer material can be used.

上ケースおよび下ケースに関しては、既存のウエハケースを用いることもできる。それらのケースおよびそこに収納されるウエハ(大きさ、厚みや形状など)に適合するように、本発明に従った上側ウエハ押さえおよび下側ウエハ押さえを作製すれば良い。本発明においては、ウエハケースは直接ウエハに接触することはないので、金属、合金、ガラス類やSiC等の材質のウエハケースも使用できる。従って、これらの材料を用いたウエハケースを極めて強固なものとすることができる。   For the upper case and the lower case, an existing wafer case can be used. The upper wafer retainer and the lower wafer retainer according to the present invention may be manufactured so as to be compatible with those cases and the wafers (size, thickness, shape, etc.) accommodated therein. In the present invention, since the wafer case does not directly contact the wafer, a wafer case made of metal, alloy, glass, SiC or the like can also be used. Therefore, the wafer case using these materials can be made extremely strong.

本発明は、ウエハだけではなく、薄くおよび/または脆い板材を収納できる枚葉ケースに適用できるので、半導体等のプロセスに限られず、液晶プロセスや有機EL(エレクトロ・ルミネッセンス)等の表示体形成プロセスにも適用できる。また、本実施形態においては、円形状のウエハを対象として説明したが、ウエハが円形状ではなく、矩形状その他の形状に適用できることも明らかである。   The present invention can be applied not only to a wafer but also to a single-wafer case that can store a thin and / or fragile plate material. Therefore, the present invention is not limited to a process such as a semiconductor, but a display body forming process such as a liquid crystal process or an organic EL (electroluminescence). It can also be applied to. In the present embodiment, the description has been made on the circular wafer, but it is apparent that the wafer can be applied to a rectangular shape and other shapes instead of the circular shape.

さらに、本発明は一枚ずつ収納可能な枚葉式ウエハケースを対象として説明してきたが、「枚葉式」という言葉に関係なく、多段にこのウエハケースを積み重ねて固定すれば、多数枚収納のウエハケースになることも明らかである。   Furthermore, although the present invention has been described for a single wafer type wafer case that can be stored one by one, regardless of the word "single wafer type", if this wafer case is stacked and fixed in multiple stages, a large number of wafers can be stored. It is also clear that the wafer case becomes.

本発明は、半導体プロセス等におけるウエハ処理や運搬・搬送工程やウエハ保管において、利用することができる。   The present invention can be used in wafer processing, transportation / conveyance processes and wafer storage in semiconductor processes and the like.

図1Aは、本発明の第1の実施形態を示す図で、ウエハケースへ搭載されるウエハおよびウエハ押さえの搭載関係を示す図である。FIG. 1A is a diagram illustrating a first embodiment of the present invention, and is a diagram illustrating a mounting relationship between a wafer mounted on a wafer case and a wafer presser. 図1Bは、本発明の第1の実施形態を示す図で、ウエハをウエハケース内に載置した状態を示す側面断面図である。FIG. 1B is a side sectional view showing a state in which a wafer is placed in a wafer case, showing the first embodiment of the present invention. 図1Cは、本発明の第1の実施形態を示す図で、図1Bの一部を拡大した図である。FIG. 1C is a diagram showing a first embodiment of the present invention and is an enlarged view of a part of FIG. 1B. 図2Aは、本発明の第2の実施形態を示す図で、ウエハケースへ搭載されるウエハおよびウエハ押さえの搭載関係を示す図である。FIG. 2A is a diagram illustrating a second embodiment of the present invention, and is a diagram illustrating a mounting relationship between a wafer mounted on a wafer case and a wafer presser. 図2Bは、本発明の第2の実施形態を示す図で、ウエハをウエハケース内に載置した状態を示す側面断面図である。FIG. 2B is a side sectional view showing a state in which the wafer is placed in the wafer case, showing the second embodiment of the present invention. 図2Cは、本発明の第2の実施形態を示す図で、図2Bの一部を拡大したものである。FIG. 2C is a diagram showing a second embodiment of the present invention, and is an enlarged view of a part of FIG. 2B. 図3は、断面が共にU字(またはV字)状の下側ウエハ押さえおよび上側ウエハ押さえを有するウエハケースの第3の実施形態を示す図である。FIG. 3 is a view showing a third embodiment of a wafer case having a lower wafer presser and an upper wafer presser each having a U-shaped (or V-shaped) cross section. 図4は、上側ウエハ押さえの断面がU字(またはV字)状で、下側ウエハ押さえの断面が中心部下方に向かって傾斜した構造を持つ中空の円板形状である場合の第4の実施形態である。FIG. 4 shows a fourth case where the upper wafer retainer has a U-shaped (or V-shaped) cross section, and the lower wafer retainer has a hollow disk shape having a structure inclined toward the lower center. It is an embodiment. 図5は、上側ウエハ押さえも下側ウエハ押さえもその断面が中心部に向かって傾斜した中空の円板状である場合の第5の実施形態である。FIG. 5 shows a fifth embodiment in which the upper wafer retainer and the lower wafer retainer have a hollow disc shape whose cross section is inclined toward the center. 図6は、別のウエハ押さえを示す図である。FIG. 6 is a diagram showing another wafer presser. 図7Aは、従来の枚葉式ウエハケースを示す斜視図である。FIG. 7A is a perspective view showing a conventional single wafer type wafer case. 図7Bは、図7Aに示す従来の枚葉式ウエハケースの側面断面図である。FIG. 7B is a side sectional view of the conventional single wafer type wafer case shown in FIG. 7A.

符号の説明Explanation of symbols

1・・・ウエハ、2、4、5、6・・・ウエハ1とウエハ押さえとの接触部、
3・・・天板部と上側ウエハ押さえとの接触部、
10・・・ウエハケース、11・・・下ケース、
12・・・下側ウエハ押さえ、13・・・上側ウエハ押さえ、
14・・・上ケース、15・・・底板部、16・・下ケース側壁部、
17・・・(上ケース)天板部、18・・・上ケース側壁部、
19・・・(下ケース)外周足部、21・・・下ケース、22・・下側ウエハ押さえ、
22B・・・下側ウエハ押さえ受け部、23・・・上側ウエハ押さえ、
23A・・・(上側ウエハ押さえ)天井板、23B・・・上側ウエハ押さえ側壁部、
24・・・上ケース、25・・・底板部、26・・・下ケース側壁部、
27・・・(上ケース)天板部、28・・・上ケース側壁部、
29・・・(下ケース)外周足部、30・・・ウエハケース、
31・・下ケース、32・・下側ウエハ押さえ、33・・上側ウエハ押さえ、
34・・・上ケース、35・・・底板部、36・・・下ケース側壁部、
37・・・(上ケース)天板部、38・・上ケース側壁部、39・・(下ケース)外周足部、41・・下ケース、42・・下側ウエハ押さえ、43・・上側ウエハ押さえ、
44・・・上ケース、45・・・底板部、46・・・下ケース側壁部、
47・・・(上ケース)天板部、48・・上ケース側壁部、49・・(下ケース)外周足部、51・・・下ケース、52・・・下側ウエハ押さえ、
53・・・上側ウエハ押さえ、54・・・上ケース、55・・・底板部、
56・・・下ケース側壁部、57・・・(上ケース)天板部、58・・・上ケース側壁部、
59・・・(下ケース)外周足部、61・・・ウエハ押さえ、
63・・ウエハ押さえ外周部、64・・・ウエハ押さえ中心部、
71・・・下ケース、73・・・リテーナ(八手状ウエハ押さえ)、74・・・上ケース、
75・・・(下ケース)底板部、77・・・(上ケース)天板部、
1 ... wafer, 2, 4, 5, 6 ... contact portion between wafer 1 and wafer retainer,
3 ... Contact portion between the top plate and the upper wafer holder,
10 ... wafer case, 11 ... lower case,
12 ... Lower wafer retainer, 13 ... Upper wafer retainer,
14 ... upper case, 15 ... bottom plate part, 16 ... lower case side wall part,
17 (upper case) top plate part, 18 ... upper case side wall part,
19 ... (lower case) outer peripheral foot, 21 ... lower case, 22 ... lower wafer holder,
22B: Lower wafer retainer receiving portion, 23: Upper wafer retainer,
23A ... (upper wafer press) ceiling plate, 23B ... upper wafer press side wall,
24 ... Upper case, 25 ... Bottom plate part, 26 ... Lower case side wall part,
27 ... (upper case) top plate part, 28 ... upper case side wall part,
29 (lower case) outer peripheral foot, 30 ... wafer case,
31 .. Lower case, 32 .. Lower wafer holder, 33 .. Upper wafer holder,
34 ... upper case, 35 ... bottom plate part, 36 ... lower case side wall part,
37 ... (upper case) top plate part, 38 ... upper case side wall part, 39 ... (lower case) outer peripheral foot part, 41 ... lower case, 42 ... lower wafer holder, 43 ... upper wafer Hold down,
44 ... Upper case, 45 ... Bottom plate part, 46 ... Lower case side wall part,
47 ... (upper case) top plate part, 48 ... upper case side wall part, 49 ... (lower case) outer peripheral foot part, 51 ... lower case, 52 ... lower wafer presser,
53 ... Upper wafer holder, 54 ... Upper case, 55 ... Bottom plate,
56 ... lower case side wall, 57 ... (upper case) top plate, 58 ... upper case side wall,
59 ... (lower case) outer peripheral foot, 61 ... wafer holder,
63 .. Wafer holder outer peripheral part, 64... Wafer holder center part,
71 ... Lower case, 73 ... Retainer (eight-handed wafer presser), 74 ... Upper case,
75 (lower case) bottom plate, 77 (upper case) top plate,

Claims (6)

それぞれ分離可能な下ケース、下側ウエハ押さえ、上ケース及び上側ウエハ押さえからなる枚葉式ウエハケースであって、
前記下ケースは、中心部下方に傾斜した円錐状の底板および前記底板外周において底板部の周囲に設けられた円筒状の下ケース側壁部を有し、
前記上ケースは、天板部および前記天板部周囲に設けられた円筒状の上ケース側壁部を有し、
前記上ケース側壁部の内側は、前記下ケース側壁部の外周全体を囲む構造を有し、
前記下側ウエハ押さえは、前記底板外周および前記下ケース側壁部内側に当接してはまるように配置され
前記上側ウエハ押さえは、前記下ケース側壁部内側で、前記下側ウエハ押さえの上に載置されるウエハの上面に載置され、
前記上ケース天板部は前記上側ウエハ押さえを押しつけ、
ウエハは、ウエハ周縁部の全領域において、前記下側ウエハ押さえおよび前記上側ウエハ押さえにより挟持され、
ウエハ周縁部の内側のウエハ内領域は何とも接触しないで保持される
ことを特徴とする枚葉式ウエハケース。
A single wafer type wafer case comprising a lower case, a lower wafer presser, an upper case and an upper wafer presser, each of which can be separated,
The lower case has a cylindrical lower case side wall provided around the bottom plate portion in the conical bottom plate portion inclined to the central portion downward and the bottom plate portion outer peripheral portion,
The upper case has a top plate and a cylindrical upper case side wall provided around the top plate,
The inner side of the upper case side wall has a structure surrounding the entire outer periphery of the lower case side wall,
The lower wafer presser is disposed the bottom plate portion outer peripheral portion and the side wall portion inside the lower case to fit in contact with
The upper wafer press is placed on the upper surface of the wafer placed on the lower wafer press inside the lower case side wall,
The upper case top plate portion presses the upper wafer presser,
The wafer is clamped by the lower wafer press and the upper wafer press in the entire area of the peripheral edge of the wafer,
A single wafer type wafer case characterized in that a wafer inner region inside a wafer peripheral portion is held without any contact.
上記下側ウエハ押さえは、断面L字型の円環状であり、前記下側ウエハ押さえの外側端部から中心方向に延出する上面が平坦なウエハ受け部と外側端部から上方に起立する起立部を有し、ウエハ端面が、前記起立部の内側にはまることを特徴とする、請求項1に記載のウエハケース。 The lower wafer retainer has an annular shape with an L-shaped cross section, and has a wafer receiving portion having a flat upper surface extending from the outer end portion of the lower wafer retainer in the center direction and an upright standing upward from the outer end portion. 2. The wafer case according to claim 1, wherein the wafer case has a portion, and a wafer end surface fits inside the upright portion. 上記上側ウエハ押さえはウエハの上面に載置される円筒状側壁部を有し、前記上側ウエハ押さえ円筒状側壁部の外周面が上記下側ウエハ押さえの起立部の内側にはまることを特徴とする、請求項2に記載のウエハケース。 The upper wafer retainer has a cylindrical side wall portion placed on the upper surface of the wafer, and an outer peripheral surface of the upper wafer retainer cylindrical side wall portion fits inside an upright portion of the lower wafer retainer. The wafer case according to claim 2 . 上記上側ウエハ押さえおよび/または上記下側ウエハ押さえは、ウエハケース中心部に向かいウエハとは逆方向へ傾斜している中心側が切り欠かれた円板形状であることを特徴とする、請求項1に記載のウエハケース。 The upper wafer presser and / or the lower wafer presser is characterized in that the facing wafer to the wafer casing center a disk shape in which the center side is inclined in the opposite direction is cut out, according to claim 1 wafer case according to. ウエハ下面の周縁部が上記下側ウエハ押さえのウエハ受け部に載置されて支持されることを特徴とする、請求項2または3に記載のウエハケース。 4. The wafer case according to claim 2 , wherein a peripheral edge portion of the lower surface of the wafer is placed and supported on a wafer receiving portion of the lower wafer presser. ウエハ上面の周縁部は、上記上側ウエハ押さえの側壁部の平坦部に接触して下方に押し付けられることを特徴とする、請求項に記載のウエハケース。
The wafer case according to claim 3 , wherein a peripheral edge portion of the upper surface of the wafer is pressed downward in contact with a flat portion of a side wall portion of the upper wafer presser.
JP2007206140A 2007-08-08 2007-08-08 Single wafer type wafer case Active JP4999597B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2007206140A JP4999597B2 (en) 2007-08-08 2007-08-08 Single wafer type wafer case

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2007206140A JP4999597B2 (en) 2007-08-08 2007-08-08 Single wafer type wafer case

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2009043862A JP2009043862A (en) 2009-02-26
JP4999597B2 true JP4999597B2 (en) 2012-08-15

Family

ID=40444299

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2007206140A Active JP4999597B2 (en) 2007-08-08 2007-08-08 Single wafer type wafer case

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4999597B2 (en)

Families Citing this family (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US9653331B2 (en) 2011-02-16 2017-05-16 Texchem Advanced Products Incorporated Sdn. Bhd. Single and dual stage wafer cushion
US9224627B2 (en) 2011-02-16 2015-12-29 Texchem Advanced Products Incorporated Sdn Bhd Single and dual stage wafer cushion and wafer separator
JP6652362B2 (en) 2015-09-30 2020-02-19 東京応化工業株式会社 Substrate case, storage unit, and substrate transporter
JP6621721B2 (en) * 2016-08-31 2019-12-18 株式会社多加良製作所 Flat plate jig, resin molding apparatus and resin molding method
JP6877317B2 (en) * 2017-11-10 2021-05-26 三菱電機株式会社 Wafer container
JP7131901B2 (en) * 2017-11-24 2022-09-06 浜松ホトニクス株式会社 Transportation method
JP7208081B2 (en) * 2019-03-27 2023-01-18 株式会社アルバック Substrate storage container
CN112786500A (en) * 2019-11-11 2021-05-11 夏泰鑫半导体(青岛)有限公司 Wafer rack and vertical wafer boat with same
KR102394720B1 (en) * 2020-04-20 2022-05-06 한국과학기술원 Wafer storage case
US12087605B2 (en) * 2020-09-30 2024-09-10 Gudeng Precision Industrial Co., Ltd. Reticle pod with antistatic capability

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3093068B2 (en) * 1992-12-25 2000-10-03 三菱マテリアル株式会社 Wafer case
JPH07302834A (en) * 1994-05-09 1995-11-14 Hitachi Cable Ltd Wafer tray
JP4676430B2 (en) * 2004-05-19 2011-04-27 Jx日鉱日石金属株式会社 Wafer storage container
JP4624035B2 (en) * 2004-08-20 2011-02-02 三甲株式会社 Wafer transfer container
JP2006222134A (en) * 2005-02-08 2006-08-24 Hitachi Cable Ltd Tray for semiconductor wafer

Also Published As

Publication number Publication date
JP2009043862A (en) 2009-02-26

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4999597B2 (en) Single wafer type wafer case
US8528738B2 (en) Reusable resilient cushion for wafer container
JP4716928B2 (en) Wafer storage container
JP4057536B2 (en) Cushion device for wafer container
US9760023B2 (en) Substrate carrying device
JP4947631B2 (en) Wafer storage container with cushion sheet
WO2011148450A1 (en) Substrate storage container
JP2017539091A (en) Horizontal substrate container with integrated corner spring for substrate storage
JP2007281052A (en) Thin plate housing container
KR102677319B1 (en) Substrate storage container
TWI729068B (en) Cushion retainer for substrate container
JP4908172B2 (en) Wafer holding structure of wafer transfer container
KR20080106526A (en) Shock absorbing substrate container
TWI641541B (en) Separator
CN117393007A (en) Contact pad, solid state disk case including the same, and contact pad manufacturing method
JP5409343B2 (en) Substrate storage container
JP7180911B2 (en) Trays for semiconductor integrated circuits
JP6375577B2 (en) Substrate storage container
TW495865B (en) Wafer level semiconductor device and method of manufacturing the same
JP2011086806A (en) Precise substrate housing container
JP4823094B2 (en) Teeth body and substrate storage container
CN109768006A (en) Chip container
WO2023233554A1 (en) Substrate storage container and lid-body-side substrate support part
WO2014136247A1 (en) Substrate storage receptacle
JP4577603B2 (en) Container for thin objects

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20100730

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20110714

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20110720

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20110914

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20120106

A601 Written request for extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601

Effective date: 20120301

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20120305

A602 Written permission of extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602

Effective date: 20120306

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20120405

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20120425

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20120515

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 4999597

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150525

Year of fee payment: 3

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250