JP4995639B2 - 半導体集積回路の設計装置および設計方法 - Google Patents
半導体集積回路の設計装置および設計方法 Download PDFInfo
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21 回路図データ
22,22a レイアウトパターンデータ
23 エラーレポート
30 PCellデータ
31 モジュール形状制約
LP レイアウトパターン
M デバイス
MD,BLK モジュール
Claims (3)
- コンピュータシステムによるプログラム処理によって実現され、複数のモジュールが階層構造で設計された半導体集積回路を対象に自動レイアウトを行う設計装置であって、
前記コンピュータシステムは、
前記複数のモジュールのそれぞれを対象に、面積値を一定として縦横の寸法を連続的に可変することで、各モジュール毎に形状候補を複数生成する第1機能と、
前記第1機能によって生成された複数の形状候補の中から、各モジュール毎に、自身に含まれるデバイスまたはモジュールに対して予め設定されている配置制約に基づいて、現実解として有り得る単数または複数の形状候補に絞り込む第2機能と、
前記第2機能によって絞り込まれた各モジュール毎の単数または複数の形状候補の中から、自身の上位階層に位置するモジュールの形状に適合する形状を探索し、この探索した形状内に収まるように自身に含まれるデバイスまたはモジュールを自動配置する第3機能と、
前記第3機能が自動配置を行った結果、前記探索した形状に収まらずに自動配置が行われたモジュールが存在した場合に、このモジュール内で実際にデバイスまたはモジュールが配置されている領域の面積を算出し、この算出された面積値が前記第1機能で複数の形状候補を生成した際に用いた面積値よりも大きい場合、面積値を変更して再び前記第1機能に各モジュール毎の形状候補を複数生成させる第4機能とを有することを特徴とする半導体集積回路の設計装置。 - 請求項1記載の半導体集積回路の設計装置において、
前記複数のモジュールの一部または全部は、アナログモジュールであることを特徴とする半導体集積回路の設計装置。 - コンピュータシステムによるプログラム処理を用い、複数のモジュールが階層構造で設計された半導体集積回路を対象に自動レイアウトを行う設計方法であって、
前記コンピュータシステムに、
前記複数のモジュールのそれぞれを対象に、面積値を一定として縦横の寸法を連続的に可変することで、各モジュール毎に形状候補を複数生成する第1処理と、
前記第1処理によって生成された複数の形状候補の中から、各モジュール毎に、自身に含まれるデバイスまたはモジュールに対して予め設定されている配置制約に基づいて、現実解として有り得る単数または複数の形状候補に絞り込む第2処理と、
前記第2処理によって絞り込まれた各モジュール毎の単数または複数の形状候補の中から、自身の上位階層に位置するモジュールの形状に適合する形状を探索し、この探索した形状内に収まるように自身に含まれるデバイスまたはモジュールを自動配置する第3処理と、
前記第3処理によって自動配置が行われた結果、前記探索した形状に収まらずに自動配置が行われたモジュールが存在した場合に、このモジュール内で実際にデバイスまたはモジュールが配置されている領域の面積を算出し、この算出された面積値が前記第1処理で複数の形状候補を生成した際に用いた面積値よりも大きい場合、面積値を変更して再び前記第1処理〜前記第3処理をループさせる第4処理とを実行させることを特徴とする半導体集積回路の設計方法。
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