JP4993686B2 - 対応点探索方法および3次元位置計測方法 - Google Patents

対応点探索方法および3次元位置計測方法 Download PDF

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Description

この発明は、立体的な物体、例えば人間の顔などを対象物とし、この対象物を異なる視点から見た複数の画像中の対応点を探索する対応点探索方法およびこの対応点探索方法を利用した3次元位置計測方法に関するものである。
従来より、対象物を異なる視点から見た複数の画像中の対応点の探索は、画像センシング、画像・映像信号処理、コンピュータビジョン等の様々な分野で重要な技術とされている。これらの分野では、通常、ピクセル精度の対応付け手法を用いることが多いが、近年、サブピクセル精度の対応付け手法への要求が高まっている。
例えば、基線長の短いステレオビジョンシステムにおいて、十分な3次元計測精度を実現するためには、サブピクセル精度の対応付けアルゴリズムが不可欠である。また、超解像による映像の高解像度化技術などにおいても、サブピクセル精度の対応付けアルゴリズムが重要になる。このため、例えば特許文献1に示された立体像計測装置では、対象物を異なる視点から見た複数の画像中の対応点の探索を2次元位相限定相関法を用いて行うことにより、サブピクセル精度の対応付けの要求を満たしている。
図17は上述の特許文献1に示された立体像計装置における画像入力部の概略を示す図である。同図において、1は第1のカメラ、2は第2のカメラ、Mは対象物(人間の顔)である。カメラ1,2は、そのレンズLN1,LN2間の距離をLとして、横方向に並んで配置されている。図では分かり易いように、カメラ1および2を上方向から見た図とし、対象物Mは横方向から見た図としている。
この立体像計測装置では、対象物Mをカメラ1で捉えた画像を入力画像I(図16(a))とし、この入力画像Iの画像データをm×n個の局所領域I(i,j)に分割する(図16(b))。そして、入力画像Iの画像データから局所領域I(i,j)を切り出し、この切り出した局所領域I(i,j)の画像データに2次元離散的フーリエ変換(DFT)を施してフーリエ画像データ(入力フーリエ画像データ)を得る。
また、対象物Mをカメラ2で捉えた画像を参照画像J(図16(c))とし、この参照画像Jの画像データに2次元離散的フーリエ変換を施してフーリエ画像データ(参照フーリエ画像データ)を得る。
そして、この得られた入力フーリエ画像データと参照フーリエ画像データとを合成し、この合成したフーリエ画像データ(合成フーリエ画像データ)の振幅成分を正規化して、もう一度、2次元離散的フーリエ変換(もしくは2次元離散的逆フーリエ変換)を施す。
そして、この2次元離散的フーリエ変換が施された合成フーリエ画像データより所定の相関成分エリアの各画素の相関成分の強度(振幅)を求め、この相関成分エリア内の最も強度の高い画素の位置を相関ピークの位置Pa1(図16(d))とする。
この場合、相関成分エリアの中心P0から相関ピークの位置Pa1までの距離Aが、入力画像Iの画像データにおける局所領域I(i,j)と参照画像Jの画像データにおける一致する画像データのある領域(対応領域)とのずれ量を示す。入力画像Iにおける局所領域I(i,j)中の画像と参照画像Jにおける対応領域中の画像とは視差によってその画像がずれており、これがずれ量Aとして現れる。
このずれ量Aによって、入力画像中の局所領域I(i,j)の中心点(探索点)と、参照画像J中の対応領域の中心点(対応点)とを対応付け、三角測量の原理に基づく下記(1)式によって、カメラから対象物Mの対応点(探索点)までの距離Rを計算する。なお、下記(1)式において、fはレンズLN(LN1,LN2)の中心から撮像位置までの距離、Lはレンズ間距離である。
R=f・L/A ・・・・(1)
特開平10−132534号公報 「写真から作る3次元CG」、著者:徐剛、発行所:株式会社 近代科学社、2003年2月25日 初版第2刷発行、31〜33頁。
上述した特許文献1に示された手法は、対応付けの精度が極めて高く、様々な画像に対して同一のアルゴリズムが適用できるという長所がある。しかしながら、この手法は、2次元離散的フーリエ変換に要する計算量が多く、短時間で対応付けの結果を得ることが要求される分野では採用し難いという問題があった。
本発明は、このような課題を解決するためになされたもので、その目的とするところは、対応点の探索に要する計算量を大幅に減らし、短時間でかつ高精度に、対応付けの結果を得ることが可能な、また対応点の探索精度を必要に応じて調整することが可能な対応点探索方法および3次元位置計測方法を提供することにある。
このような目的を達成するために、本発明に係る対応点探索方法(請求項1(第1発明))は、画像取込手段を介して、対象物を異なる視点から見た複数の画像を取り込む画像取込ステップと、画像取込手段のパラメータおよび基準点から計算されるエピポーラ線に沿って複数の画像より所定幅の1次元の画素データ列を切り出す画素データ列切出ステップと、複数の画像から切り出された1次元の画素データ列から位相限定相関関数を計算し、この計算された位相限定相関関数から複数の画像中の対応点を探索する対応点探索ステップと、画像取込手段に対して設けられた調整機構を介して複数の画像の少なくとも1つについて対象物に対する視点を調整する視点調整ステップとを備え、画素データ列切出ステップは、さらに、エピポーラ線に沿って切り出した1次元の画素データ列の近傍のエピポーラ線に平行な線に沿う複数の1次元の画素データ列を切り出し、対応点探索ステップは、複数の画像から切り出された複数組の1次元の画素データ列の位相限定相関関数から複数の画像中の対応点を探索することを特徴とする。
この発明において、例えば、画像取込手段を所定の距離隔てて配置された2台のカメラとした場合、第1のカメラと第2のカメラが対象物に対して等位置に傾斜なく配置されていれば、第1のカメラで撮像される画像および第2のカメラで撮像される画像におけるエピポーラ線は、いずれも水平となる。これに対し、第1のカメラおよび第2のカメラの何れかが傾斜していれば、第1のカメラで撮像される画像および第2のカメラで撮像される画像におけるエピポーラ線も傾斜する。このように、第1のカメラで撮像される画像および第2のカメラで撮像される画像におけるエピポーラ線は、第1および第2のカメラの位置関係(2つの画像間の基礎行列や、内部行列・外部行列などのカメラ固有のパラメータ)によって定まる。本発明では、このような画像取込手段のパラメータを保存しておき、対応点を探索する際の処理過程で用いる。
本発明において、画像取込手段は、複数台のカメラに限られるものではない。例えば、光学機構を設けることによって、1台のカメラから対象物を異なる視点から見た複数の画像を得るようにしてもよい。
本発明において、複数の画像のうちの1つを入力画像、もう1つを参照画像とした場合、画像取込手段のパラメータおよび基準点から計算されるエピポーラ線に沿って、入力画像および参照画像より所定幅の1次元の画素データ列(例えば、32画素の画素データ列)が切り出される。また、この1次元の画素データ列の近傍のエピポーラ線に沿う複数の1次元の画素データ列が切り出される。そして、この切り出された複数組の1次元の画素データ列の1次元の画素データ列の位相限定相関関数から、入力画像中の基準点に対応する参照画像中の対応点が探索され、基準点と対応点とが対応付けられる。
この場合、基準画像より切り出される画素データ列は1次元の画素データ列であり、参照画像より切り出される画素データ列も1次元の画素データ列であるので、1次元の位相限定相関法(1次元POC)を利用することができる。すなわち、複数の画像から切り出された1次元の画素データ列から位相限定相関相関を計算することによって得られる相関ピークの位置から位置ずれ量を求め、この位置ずれ量から複数の画像中の対応点を探索することが可能である。
1次元POCでは、1次元のフーリエ変換を施せばよいので、計算量を大幅に減らすことができる。これにより、対応点の探索に要する計算量が大幅に減り、短時間で対応付けの結果を得ることが可能となる。また、1次元POCを用いることにより、エピポーラ線の垂直方向の相関誤差要因を少なくすることができ、高精度な対応点探索が可能となる。
本発明において、画像取込手段を介して取り込まれる画像における実際のエピポーラ線は水平であるとは限らず、傾斜している場合もある。理想的には水平であることが望まれるが、カメラの取り付け誤差などもあり、エピポーラ線は傾斜している場合が多い。
そこで、本発明では、画像取込手段に対して調整機構を設け、この調整機構を介して複数の画像の少なくとも1つについて対象物に対する視点を調整するようにする。この調整機構を介しての視点の調整により、例えば工場出荷前に、複数の画像における実際のエピポーラ線を手動で水平に設定することが可能となる。また、現場においてエピポーラ線が傾いてきたような場合、調整機構を介しての視点の調整によってエピポーラ線を元に戻すように手動で調整することが可能であり、現場において対応点の探索精度を回復することが可能となる。
本発明において、複数の画像におけるエピポーラ線を水平とすると、複数の画像中の各画素データを、画像取込手段のパラメータおよび基準点から計算されるエピポーラ線に平行な軸を一軸とし、この一軸に対して垂直な軸を他軸とする座標系に変換するというような座標系の変換処理が不要となり、処理負荷が削減できるともに、対応点の探索結果が得られるまでの時間が短縮される。
また、本発明の対応点探索方法を利用することにより、探索した対応点の3次元位置を計測することも可能である。請求項2に係る発明(第2発明)は、探索した対応点の3次元位置を計測する3次元位置計測方法に関するものであり、第1発明によって求められる探索点の視差に基づいてその対応点の3次元位置を計測する。これにより、対応点の探索に要する計算量を大幅に減らし、対象物における各点の3次元位置を短時間で計測することが可能となる。
本発明によれば、画像取込手段を介して、対象物を異なる視点から見た複数の画像を取り込み、画像取込手段のパラメータおよび基準点から計算されるエピポーラ線に沿って複数の画像より所定幅の1次元の画素データ列を切り出し、さらにエピポーラ線に沿って切り出した1次元の画素データ列の近傍のエピポーラ線に平行な線に沿う複数の1次元の画素データ列を切り出し、複数の画像から切り出された複数組の1次元の画素データ列の位相限定相関関数から複数の画像中の対応点を探索するようにしたので、1次元POCを利用することができ、対応点の探索に要する計算量を大幅に減らし、短時間で対応付けの結果を得ることが可能となる。また、1次元POCを用いることにより、エピポーラ線の垂直方向の相関誤差要因を少なくすることができ、高精度な対応点探索が可能となる。また、調整機構によって、複数の画像中のエピポーラ線を工場出荷前に水平にするようにしたり、エピポーラ線が傾いてきたような場合、現場において元の状態に戻したりすることが可能となり、対応点の探索精度を必要に応じて調整することが可能となる。また、ノイズの影響を受け難くなり、対応点探索の性能がより安定する。
以下、本発明を図面に基づいて詳細に説明する。図1はこの発明に係る対応点探索方法を利用した3次元位置計測装置の一実施の形態を示すブロック構成図である。同図において、10は第1のカメラ(CCDカメラ)、11は第2のカメラ(CCDカメラ)、12は液晶表示装置(LCD)、20は処理部であり、処理部20は、CPUを有する制御部20−1と、ROM20−2と、RAM20−3と、ハードディスクドライブ(HDD)20−4と、フレームメモリ(FM)20−5と、外部接続部(I/F)20−6と、フーリエ変換部(FFT)20−7とを備えており、ROM20−2には3次元位置計測プログラムが格納されている。
カメラ10,11は、図17に示した従来例と同様に、所定の距離Lを隔てて設置されている。すなわち、カメラ10,11は、そのレンズLN1,1N2間の距離をLとして、横方向に並んで配置されている。この図でも分かり易いように、3次元計測装置は上方向から見た図とし、対象物Mは横方向から見た図としている。
また、カメラ10,11には、このカメラ10,11の姿勢の所望の方向への手動調整を可能とする姿勢調整機構13−1,13−2が設けられている。図4に姿勢調整機構13(13−1,13−2)の一例を示す。本実施の形態では、カメラ10,11にそれぞれ姿勢調整機構13を設けているが、何れか一方のカメラのみに姿勢調整機構13を設けるようにしてもよい。
〔カメラパラメータの保存〕
カメラ10および11は所定の距離Lを隔てて配置されている。このカメラ10および11が互いの光軸が平行且つ、画像座標の水平軸が同一直線上で同じ向きになるように配置されていれば、図2(a)および(b)に示すように、カメラ10で撮像される画像Iにおける基準点pが存在する直線EP1およびカメラ11で撮像される画像Jにおける対応点qが存在する直線EP2、すなわちエピポーラ線EP1およびEP2は、いずれも水平となる。なお、エピポーラ線については、非特許文献1などに解説されているので、ここでの詳細な説明は省略する。
これに対し、カメラ10および11の何れかが傾斜していれば、カメラ10で撮像される画像Iおよびカメラ11で撮像される画像Jにおけるエピポーラ線EP1,EP2も傾斜する(図3(a),(b)参照)。このように、カメラ10で撮像される画像Iおよびカメラ11で撮像される画像Jにおけるエピポーラ線EP(EP1,EP2)は、カメラ10とカメラ11との位置関係(2つの画像間の基礎行列や、内部行列・外部行列などのカメラ固有のパラメータ)によって定まる。本実施の形態では、このカメラ10とカメラ11との位置関係を示すパラメータ(カメラパラメータ)をハードディスクに保存させておき、後述する対応点を探索する際の処理過程で用いる。
〔3次元位置の計測〕
この3次元位置計測装置において、対象物Mを人間の顔とした場合、この対象物Mにおける各点の3次元位置の計測は次のようにして行われる。この3次元位置の計測処理は、ROM20−2に格納された3次元位置計測プログラムに従って、制御部20−1が行う。
〔画像取り込み〕
制御部20−1は、カメラ10からの対象物Mを捉えた画像Iを入力画像(図5(a))として取り込む(図6に示すステップ101)。また、カメラ11からの対象物Mを捉えた画像J(図5(b))を参照画像として取り込む(ステップ102)。この例では、入力画像Iおよび参照画像Jにおけるエピポーラ線EPは水平となっており、エピポーラ線EPを水平とする座標系に変換する必要はない。
〔対象領域の抽出〕
次に、エッジ検出により、入力画像Iおよび参照画像J中から、対象物M(人間の顔)が存在する領域だけを対応点探索の対象領域(以下、オブジェクト領域と呼ぶ)として抽出する(ステップ103)。これにより、図5(c)および(d)に示されるように、オブジェクト領域OB1およびOB2を抽出した入力画像I’および参照画像J’が得られる。
なお、ここでは、説明を簡単とするために、入力画像Iおよび参照画像Jにおける対象物M以外の背景は無地であり、対象物Mが存在する領域だけがオブジェクト領域OB1およびOB2として正しく抽出されるものとする。
〔対応点の探索〕
そして、制御部20−1は、入力画像I’中のオブジェクト領域OB1と参照画像J’中のオブジェクト領域OB2とを対象領域として、対応点の探索を行う(ステップ104)。図7にステップ104における対応点の探索処理のフローチャートを示す。制御部20−1は、このフローチャートに従って、対応点の探索を次のようにして行う。
先ず、入力画像I’において、X軸に平行な各線(1画素幅の線)のオブジェクト領域OB1内の起点(ST)と終点(END)を求める(ステップ201)。
そして、オブジェクト領域OB1中の最上位の線の線番号をn=1とし(ステップ202)、このn=1番目の線上に基準点pを定め、その基準点pを中心とする所定幅Wの探索ウィンドウSWの画素データ列を基準点pの画素データ列として抽出する(ステップ203)。この例では、n=1番目の線(以下、探索ラインと呼ぶ)の起点ST(図8(a)参照)から、幅Wを32画素とする探索ウィンドウSW内の画素のデータ列を基準点pの画素データ列として抽出する。
この場合、n=1番目の探索ラインが基準点pのエピポーラ線EPであり、このエピポーラ線EPに沿って基準点pの画素データ列が切り出されるものとなる。この基準点の画素データ列は1次元の画素のデータ列である。
また、オブジェクト領域OB2中の基準点pに対応する座標点を候補点q’とし、この候補点q’を中心とする幅W=32画素の探索ウィンドウCWを定め、探索ウィンドウCW内の画素のデータ列を候補点q’の画素データ列として抽出する(ステップ204)。
この場合、n=1番目の探索ラインが候補点q’のエピポーラ線EPであり、このエピポーラ線EPに沿って候補点q’の画素データ列が切り出されるものとなる。この候補点の画素データ列は1次元の画素のデータ列である。
そして、ステップ203で抽出した基準点pの画素データ列とステップ204で抽出した候補点q’の画素データ列とから位相限定相関関数を計算する(ステップ205)。この位相限定相関関数の計算には1次元位相限定相関法(1次元POC)を用いる。この1次元POCによる位相限定相関関数の計算は次のようにして行う。
制御部20−1は、ステップ203で抽出した基準点pの画素データ列を第1の画像データG1とし(図9(a)参照)、この第1の画像データG1をフーリエ変換部20−7へ送り、この第1の画像データG1に1次元のフーリエ変換を施す。これにより、第1の画像データG1は、フーリエ画像データF1となる。
また、ステップ204で抽出した候補点q’の画素データ列を第2の画像データG2とし(図9(b)参照)、この第2の画像データG2をフーリエ変換部20−7へ送り、この第2の画像データG2に1次元のフーリエ変換を施す。これにより、第2の画像データG2は、フーリエ画像データF2となる。
そして、制御部20−1は、フーリエ画像データF1とフーリエ画像データF2とを合成し、この合成したフーリエ画像データ(合成フーリエ画像データ)の振幅成分を正規化してフーリエ変換部20−7へ送り、もう一度、1次元のフーリエ変換を施す。
そして、この1次元のフーリエ変換が施された合成フーリエ画像データより所定の相関成分エリアの各画素の相関成分の強度(振幅)を求め、この相関成分エリア内の最も強度の高い相関成分の強度値を相関ピークとし、この相関ピークの位置Pa1(図9(c))を求める。この処理過程において、相関ピークを求める処理が位相限定相関関数を計算することに対応する。
この場合、相関成分エリアの中心P0から相関ピークの位置Pa1までの距離dが、探索ウィンドウSW中の画像と探索ウィンドウCW中の画像とのずれ量、すなわち探索ウィンドウSW中の基準点pと探索ウィンドウCW中の対応点qとのずれ量を示す。制御部20−1は、この基準点pと対応点qとのずれ量dを基準点pに対応付けて記憶する(ステップ206)。
以下同様にして、制御部20−1は、オブジェクト領域OB1中のn=1番目の探索ライン上の基準点を所定画素(例えば、1画素)ずつずらしながら、すなわち探索ウィンドウSWを所定画素づつずらしながら(ステップ208)、同様の処理を繰り返す。
そして、オブジェクト領域OB1中のn=1番目の探索ラインの終点ENDまで対応点の探索が完了すれば(ステップ207のYES)、オブジェクト領域OB1中のn=2番目の探索ラインの起点に探索ウィンドウSWを移す(ステップ209)。以下同様にして、オブジェクト領域OB1中の最後の探索ラインの終点まで、同様動作を繰り返す。
〔3次元位置の計測〕
制御部20−1は、オブジェクト領域OB1中の全ての基準点について対応点の探索が完了すると(ステップ210のYES)、各基準点と各対応点とのずれ量dに基づいて、三角測量の原理に基づく下記(2)式によって、カメラから対象物Mの対応点(基準点)までの距離Rを計算する(ステップ105(図6))。
R=f・L/d ・・・・(2)
そして、この計算したカメラから対象物Mの対応点(基準点)までの距離Rを3次元位置の計測データとし、各点の3次元位置の計測データをハードディスクに記憶させる。このハードディスクに記憶させた3次元位置の計測データ群は、必要に応じて読み出し、LCD12の画面上に表示したり、上位の装置へ送ったりする。
〔エピポーラ線の調整〕
本実施の形態において、入力画像Iおよび参照画像Jにおけるエピポーラ線の調整は、次のようにして行う。
〔工場出荷前の調整〕
制御部20−1は、エピポーラ線の調整モードとされると、入力画像Iと参照画像Jとを取り込み(図10に示すステップ301)、2次元位相限定相関法によって入力画像Iと参照画像J間の各対応点を求める(ステップ302)。
そして、例えば入力画像Iについて、図11に示すように、その画像の中心(原点)を通る実際のエピポーラ線EP0’上の各点の計算上のエピポーラ線EP0(X軸上のライン)からの垂直方向の差分値の積算値Sを求める(ステップ303)。
そして、この求めた積算値Sと予め設定されている閾値Sthとを比較し(ステップ304)、積算値Sが閾値Sth以下でなければ(ステップ304のNO)、エピポーラ線の調整が必要であるとし、LCD12に調整量を数値で表示するなどして、作業者にエピポーラ線の調整を促す(ステップ305)。
これを受けて、作業者は、姿勢調整機構13−1を用いて、LCD12に表示されている数値を見ながら、カメラ10の姿勢(視点)を手動調整する。この手動調整によって、入力画像Iだけではなく、参照画像J中のエピポーラ線の傾きも変化する。したがって、カメラ10の姿勢だけ調整すればよく、カメラ11の姿勢を調整する必要はない。なお、カメラ10側ではなく、カメラ11側の姿勢(視点)を調整するようにしてもよく、場合によってはカメラ10,11の姿勢(視点)をともに調整するようにしてもよい。
この手動調整によって、積算値Sが閾値Sth以下となれば(ステップ304のYES)、制御部20−1は、ブザーなどで作業者に調整の終了を知らせる(ステップ305)。この場合、閾値Sthにより若干誤差はあるが、実際のエピポーラ線EPO’と計算上のエピポーラ線EP0とが一致する。
〔現場での調整〕
現場でも、工場出荷時の調整と同様にして、入力画像Iおよび参照画像Jにおけるエピポーラ線EPの調整を行うことができる。
以上の説明から分かるように、本実施の形態において、基準点pの画素データ列は1次元の画素データ列であり、候補点q’の画素データ列も1次元の画素データ列であり、この基準点pの画素データ列と候補点q’の画素データ列から1次元POCを利用して位相限定相関関数を計算するようにしている。1次元POCでは、1次元のフーリエ変換を施すので、対応点の探索に要する計算量が大幅に減り、短時間で対応付けの結果を得ることができる。また、1次元POCを用いることにより、エピポーラ線EPに垂直方向の相関誤差要因を取り除くことが可能となり、高精度な対応点探索が可能となる。
また、本実施の形態によれば、姿勢調整機構11(11−1,11−2)によって、画像中の実際のエピポーラ線EP’を計算上のエピポーラ線EPに工場出荷前に一致させたり、実際のエピポーラ線EP’が傾いてきたような場合、現場において元の状態に戻したりすることが可能となり、対応点の探索精度を必要に応じて調整することができるようになる。なお、カメラ10,11の姿勢は、必ずしも手動によって調整しなくてもよく、自動的に調整されるものとしてもよい。
また、上述した例では説明しなかったが、本実施の形態では、エピポーラ線EPに沿って各画像より1次元の画素データ列を切り出し、この切り出した1次元の画素データ列の位相限定相関関数から対応点を探索する、その1次元の画素データ列の近傍のエピポーラ線EPに平行な線に沿う1次元の画素データ列を各画像から切り出し、これら複数組の1次元の画素データ列の位相限定相関関数から対応点を探索するようにする。このようにすると、ノイズの影響を受け難くなり、より対応点探索性能が安定する。
例えば、図12に示すように、入力画像I’における探索ウィンドウSW(SW0)に対して平行に、この探索ウィンドウSW0と同じ位置から同じ長さの近傍探索ウィンドウSW1〜SW4を定め、この探索ウィンドウSW0および近傍探索ウィンドウSW1〜SW4内の画素データ列と参照画像J’における探索ウィンドウCW0および近傍探索ウィンドウCW1〜CW4内の画素データ列の各組の相関値を求め、相関値の平均を計算する。平均された相関値の最大ピーク位置を求めることで基準点pと対応点qとのずれ量を算出する。
この場合、探索ウィンドウSW0および近傍探索ウィンドウSW1〜SW4内の画素データ列に1次元のフーリエ変換を施し、探索ウィンドウCW0および近傍探索ウィンドウCW1〜CW4内の画素データ列に1次元のフーリエ変換を施し、フーリエ変換が施された探索ウィンドウSW0内の画素データ列と探索ウィンドウCW0内の画素データ列とを合成し、同様にして、フーリエ変換が施された近傍探索ウィンドウSW1〜SW4内の画素データ列と近傍探索ウィンドウCW1〜CW4内の画素データ列とを各個に合成し、これにより得られる5つの合成フーリエ画像データを平均して合成位相スペクトルを作成し、この合成位相スペクトルに対して1次元のフーリエ変換を施して最大相関ピークの位置を求めるようにすれば、5つの合成フーリエ画像データの1つひとつに1次元のフーリエ変換を施して相関ピークの位置を求めるようにする方法と比較して、格段に処理スピードがアップする。
図12では、探索ウィンドウSW0に対して平行に、画像の水平方向に同じ位置から同じ長さの近傍探索ウィンドウSW1〜SW4を定めたが、図13に示すように、画像の水平方向に異なる位置から同じ長さの近傍探索ウィンドウSW1〜SW4を定めるようにしてもよい。また、図14に示すように、画像の水平方向に異なる位置から異なる長さの近傍探索ウィンドウSW1〜SW4を定めるようにしてもよい。また、図15に示すように、画像の異なる位置から異なる長さの近傍探索ウィンドウSW1〜SW4を定めるようにしてもよい。
また、上述した実施の形態では、入力画像I’および参照画像J’からエッジ検出によってオブジェクト領域OB1およびOB2を抽出するようにしたが、必ずしもオブジェクト領域OB1およびOB2を抽出するようにしなくてもよい。例えば、オブジェクト領域OB1およびOB2を抽出せずに、入力画像I’および参照画像J’の最上位の探索ラインの起点から最下位の探索ラインの終点まで、基準点pを移動しながら、すなわち探索ウィンドウSWを移動しながら、基準点pと対応点qとの対応付けを進めるようにしてもよい。
この場合、入力画像I’中の全領域において基準点pをずらしながら、その基準点pの画像データ列と参照画像J’中の候補点q’の1次元の画素データ列との位相限定相関関数を1次元POCによって計算することになるので、処理すべきデータ量が多くなる。これに対して、入力画像I’および参照画像J’からオブジェクト領域OB1およびOB2を抽出し、この抽出したオブジェクト領域OB1およびOB2を探索対象領域とすることにより、入力画像I’中の基準点pをずらす領域を小さくし、処理すべきデータ量を削減することができる。また、画像内のオブジェクト領域OB1,OB2外の画素データを処理対象から除外することで、これらの領域が対応点探索過程で精度を下げる外乱要因として働くことを未然に防止し、対応点探索精度の向上を図ることが可能となる。また、オブジェクト領域OB1中の探索ラインの起点から対応点の探索を始めることにより、常に対象物Mの輪郭に近い位置から対応点が求まるものとなり、対象物の3元位置の計測精度が向上する。
また、上述した実施の形態では説明しなかったが、対応点の探索を開始する際、入力画像I’および参照画像J’を低解像度として基準点の画素データ列と候補点の画素データ列との位相限定相関関数を計算し、この結果、相関ピークが得られれば、入力画像I’および参照画像J’の解像度を上げるということを段階的に繰り返して行くようにしてもよい。
また、上述した実施の形態では、カメラを2台としたが、光学機構を設けることによって、1台のカメラから入力画像Iと参照画像Jを得るようにしてもよい。また、カメラを3台以上設け、さらに複数の画像を得るようにしてもよい。カメラを1台とすると、ハードウェアで設計的に同期をとらずによいので、作りやすい。カメラがメガピクセルで高価な場合、安価になる場合がある。また、カメラを1台とする場合、その光学機構の調整によって、対象物を一方から見た画像の視点や他方から見た画像の視点を調整するようにする。
本発明に係る対応点探索方法を利用した3次元位置計測装置の一実施の形態を示すブロック構成図である。 対象物を異なる視点から見た2つの画像に水平なラインとして存在するエピポーラ線を説明する図である。 対象物を異なる視点から見た2つの画像に傾斜したラインとして存在するエピポーラ線を説明する図である。 この3次元位置計測装置に用いるカメラの姿勢調整機構の一例を示す斜視図である。 この3次元位置計測装置の画像取り込みから対象領域の抽出までの処理過程を説明する図である。 この3次元位置計測装置における3次元位置の計測処理を示すフローチャートである。 この3次元位置計測装置における3次元位置の計測処理過程での対応点探索処理を示すフローチャートである。 入力画像から抽出されたオブジェクト領域中の最上位の線の起点から対応点の探索が始められる様子を説明する図である。 基準点のデータ列と候補点のデータ列との1次元位相限定相関法による相関関数の計算を説明する図である。 この3次元位置計測装置におけるエピポーラ線の調整処理を示すフローチャートである。 計算上のエピポーラ線からの垂直方向の差分値の積算値を求めるステップの処理を説明する図である。 探索ウィンドウに対して平行に複数組の近傍探索ウィンドウを定めて対応点の探索を行う例を説明する図である。 探索ウィンドウに対して平行に複数組の近傍探索ウィンドウを定めて対応点の探索を行う場合の変形例を示す図である。 探索ウィンドウに対して平行に複数組の近傍探索ウィンドウを定めて対応点の探索を行う場合の変形例を示す図である 探索ウィンドウに対して平行に複数組の近傍探索ウィンドウを定めて対応点の探索を行う場合の変形例を示す図である 特許文献1に示された立体像計装置における2次元位相限定相関法を用いた立体像の計測処理を説明する図である。 特許文献1に示された立体像計装置における画像入力部の概略を示す図である。
符号の説明
10,11…カメラ(CCDカメラ)、12…液晶表示装置(LCD)、13(13−1,13−2)…姿勢調整機構、20…処理部、20−1…制御部、20−2…ROM、20−3…RAM、20−4…ハードディスクドライブ(HDD)、20−5…フレームメモリ(FM)、20−6…外部接続部(I/F)、20−7…フーリエ変換部(FFT)、LN(LN1,LN2)…レンズ、EP…エピポーラ線、SW(SW0)…探索ウィンドウ、SW1〜SW4…近傍探索ウィンドウ、CW(CW0)…探索ウィンドウ、CW1〜CW4…近傍探索ウィンドウ、OB1,OB2…オブジェクト領域、ST…起点、END…終点、I…入力画像、J…参照画像、M…対象物。

Claims (2)

  1. 画像取込手段を介して、対象物を異なる視点から見た複数の画像を取り込む画像取込ステップと、
    前記画像取込手段のパラメータおよび基準点から計算されるエピポーラ線に沿って前記複数の画像より所定幅の1次元の画素データ列を切り出す画素データ列切出ステップと、
    前記複数の画像から切り出された1次元の画素データ列から位相限定相関関数を計算し、この計算された位相限定相関関数から前記複数の画像中の対応点を探索する対応点探索ステップと、
    前記画像取込手段に対して設けられた調整機構を介して前記複数の画像の少なくとも1つについて前記対象物に対する視点を調整する視点調整ステップとを備え、
    前記画素データ列切出ステップは、さらに、
    前記エピポーラ線に沿って切り出した1次元の画素データ列の近傍の前記エピポーラ線に平行な線に沿う複数の1次元の画素データ列を切り出し、
    前記対応点探索ステップは、
    前記複数の画像から切り出された複数組の1次元の画素データ列の位相限定相関関数から前記複数の画像中の対応点を探索する
    ことを特徴とする対応点探索方法。
  2. 画像取込手段を介して、対象物を異なる視点から見た複数の画像を取り込む画像取込ステップと、
    前記画像取込手段のパラメータおよび基準点から計算されるエピポーラ線に沿って前記複数の画像より所定幅の1次元の画素データ列を切り出す画素データ列切出ステップと、
    前記複数の画像から切り出された1次元の画素データ列から位相限定相関関数を計算し、この計算された位相限定相関関数から前記複数の画像中の対応点を探索する対応点探索ステップと、
    前記探索された対応点の視差に基づいてその対応点の3次元位置を計測する3次元位置計測ステップと、
    前記画像取込手段に対して設けられた調整機構を介して前記複数の画像の少なくとも1つについて前記対象物に対する視点を調整する視点調整ステップとを備え、
    前記画素データ列切出ステップは、さらに、
    前記エピポーラ線に沿って切り出した1次元の画素データ列の近傍の前記エピポーラ線に平行な線に沿う複数の1次元の画素データ列を切り出し、
    前記対応点探索ステップは、
    前記複数の画像から切り出された複数組の1次元の画素データ列の位相限定相関関数から前記複数の画像中の対応点を探索する
    ことを特徴とする3次元位置計測方法。
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