JP4983906B2 - Electronic component built-in module - Google Patents

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Description

本発明は、基板の内部に電子部品が埋め込まれた(内蔵された)電子部品内蔵モジュールに関する。   The present invention relates to an electronic component built-in module in which an electronic component is embedded (built in) inside a substrate.

近年、電子機器に用いられるICチップ(ベアチップ:ダイ(Die))等の半導体装置といった能動部品や、コンデンサ(キャパシタ)、インダクタ、サーミスタ、抵抗等の受動部品等の電子部品が実装されたモジュール化が進んでおり、かかるモジュールに対する小型化や薄型化がますます熱望されている。   In recent years, modularization has been implemented in which electronic components such as active components such as semiconductor devices such as IC chips (bare chips: die) used in electronic devices and passive components such as capacitors (capacitors), inductors, thermistors, resistors, etc. are mounted. Therefore, there is an increasing desire for miniaturization and thinning of such modules.

かかる要求に応えるべく、例えば、特許文献1には、能動部品や受動部品が実装されたモジュールとして、電子部品が載置された基板上に電子部品より高いスタッド出力端子を設け、このスタッド出力端子上にマイクロインダクタを設置することにより、電子部品とマイクロインダクタとを、基板面に対して上下方向に載置するように配設してなるマイクロコンバータが提案されており、例えば電子機器の電源回路として用いられている。   In order to meet such a demand, for example, in Patent Document 1, as a module on which an active component or a passive component is mounted, a stud output terminal higher than the electronic component is provided on a substrate on which the electronic component is placed. There has been proposed a microconverter in which an electronic component and a microinductor are arranged so as to be placed in a vertical direction with respect to a substrate surface by installing a microinductor thereon. It is used as.

特開2004−63676号公報Japanese Patent Laid-Open No. 2004-63676

このような構造の電源回路としてのマイクロコンバータでは、その電源回路を構成する電子部品の低電圧化、高電流化及び高周波数化も進んできており、また、構造的にも、モジュールの更なる小型化に伴う配置の制約や機械的強度を確保する必要が生じてきている。その結果、上記特許文献1に開示されたようなマイクロコンバータの構造では、各種の信号ラインを構成する種々の配線パターン(導体)が近接して形成されており、このように導体間の距離が非常に短い場合には、それらの導体間に一種の静電結合である容量結合(容量カップリング)による等価的なコンデンサ(キャパシタ)が形成されてしまう。こうなると、各種信号ラインを通過するそれぞれの信号には、かかる容量結合に起因する高周波ノイズ成分が含まれることになる。このようにして等価的に生じ得る容量結合は、電源回路やその制御回路の誤動作、機能障害、及び性能劣化を引き起こす原因となり得る。   In the micro-converter as the power supply circuit having such a structure, the electronic components constituting the power supply circuit have been reduced in voltage, current and frequency, and the structure is further increased. There is a need to ensure placement restrictions and mechanical strength associated with downsizing. As a result, in the structure of the microconverter as disclosed in Patent Document 1, various wiring patterns (conductors) constituting various signal lines are formed close to each other, and the distance between the conductors is thus reduced. If it is very short, an equivalent capacitor (capacitor) is formed between these conductors by capacitive coupling (capacitive coupling) which is a kind of electrostatic coupling. In this case, each signal passing through various signal lines includes a high-frequency noise component due to such capacitive coupling. Capacitive coupling that can occur equivalently in this way can cause malfunction, functional failure, and performance degradation of the power supply circuit and its control circuit.

例えば、電圧変換を行う電源回路では、一般に、基準電圧を一定に維持するため、入力電圧に対する出力電圧(スイッチングされた高周波電圧を平滑化した後の電圧)を制御回路にフィードバックする、フィードバック用の信号ラインが形成されている。かかるフィードバック用の信号ラインと、電源回路を駆動する駆動用の信号ラインとが近接して形成されている場合には、これらの種類の異なる信号ライン間の距離が短いことから、各種信号ラインは、上述した容量結合の影響を非常に受け易くなる(容量結合を介してノイズが侵入し易くなる)。そのため、フィードバック信号に乱れが生じ、電源回路の基準電圧を一定に保つことが困難となり、所望の正確な電圧変換を行い難くなる(すなわち、電源回路の誤動作を引き起こす)傾向にある。より一般化して言えば、フィードバック用の信号ラインが、その周辺に形成された駆動用の信号ラインと容量結合することにより、フィードバック信号を含む各種信号の純度の劣化を誘引する大きな要因の一つとなってしまう。   For example, a power supply circuit that performs voltage conversion generally feeds back an output voltage (a voltage after smoothing a switched high-frequency voltage) to a control circuit to maintain a reference voltage constant. A signal line is formed. When the feedback signal line and the driving signal line for driving the power supply circuit are formed close to each other, the distance between these different types of signal lines is short. Therefore, it is very susceptible to the above-described capacitive coupling (noise is likely to enter through the capacitive coupling). Therefore, the feedback signal is disturbed, it becomes difficult to keep the reference voltage of the power supply circuit constant, and it is difficult to perform desired accurate voltage conversion (that is, the power supply circuit malfunctions). More generally speaking, the feedback signal line is capacitively coupled with the driving signal line formed in the vicinity thereof, and is one of the major factors that induce deterioration in the purity of various signals including the feedback signal. turn into.

そこで、本発明は、かかる事情に鑑みてなされたものであり、各種信号ラインが近接して形成されることによって生じ得る容量結合に起因し、且つ、各種信号ラインに対して影響を及ぼすノイズを十分に抑制する又は遮断することができ、これにより、電子回路の誤動作を確実に防止して正確な動作を安定に維持することが可能な電子部品内蔵モジュールを提供することを目的とする。   Therefore, the present invention has been made in view of such circumstances, and noise caused by capacitive coupling that may be caused when various signal lines are formed close to each other, and noise that affects various signal lines. It is an object of the present invention to provide an electronic component built-in module that can be sufficiently suppressed or blocked, thereby reliably preventing malfunction of an electronic circuit and stably maintaining accurate operation.

上記課題を解決するために、本発明による電子部品内蔵モジュールは、第1電子部品が内蔵された基板と、基板上に載置された第2電子部品とを有するものであって、基板には、第2電子部品を経由して電子部品内蔵モジュールから出力される出力信号を監視するフィードバック用の信号ラインと、第2電子部品に接続されるスイッチング用の信号ラインとが設けられており、これらの信号ライン、すなわち、フィードバック用の信号ライン及びスイッチング用の信号ラインは、それぞれ、基板の面方向において、互いに遠ざかる方向に(離間していくように)延在する部位を有する。換言すれば、フィードバック用の信号ライン及びスイッチング用の信号ラインの少なくもいずれか一方は、その少なくとも一部の部位において、他方から遠ざかるように延びている。或いは、フィードバック用の信号ライン及びスイッチング用の信号ラインが、互いに平行に延在しない部位を含んでいると表現してもよい。   In order to solve the above problems, an electronic component built-in module according to the present invention includes a substrate in which a first electronic component is incorporated, and a second electronic component placed on the substrate. , A feedback signal line for monitoring an output signal output from the electronic component built-in module via the second electronic component, and a switching signal line connected to the second electronic component are provided. Each of the signal lines, that is, the feedback signal line and the switching signal line has a portion extending in a direction away from each other (so as to be separated from each other) in the surface direction of the substrate. In other words, at least one of the feedback signal line and the switching signal line extends at a part of the signal line away from the other. Alternatively, the feedback signal line and the switching signal line may be expressed as including portions that do not extend in parallel to each other.

上記構成においては、基板の面方向(基板を垂直方向から視認したときの平面視;以下同様)、フィードバック用の信号ライン及びスイッチング用の信号ラインが、それぞれ、互いに遠ざかる方向に延在する部位を有しているので、少なくともそれらの部位においては、フィードバック用の信号ラインがスイッチング用の信号ラインから遠ざけられる。よって、スイッチング用の信号ラインを通過する信号(スイッチング信号)にノイズ(高周波ノイズ及び/又は高調波ノイズ)成分が含まれており、そのノイズが両信号ラインの容量結合を介してフィードバック用の信号ラインに侵入(伝達)又は入射しようとしても、その容量結合の形成が防止(阻止、回避)され、又は、その容量結合の大きさが低減されるので、スイッチング用の信号ラインからフィードバック用の信号ラインへ入射し得るノイズが抑止又は遮断され易くなる。   In the above configuration, the surface direction of the substrate (plan view when the substrate is viewed from the vertical direction; the same applies hereinafter), the feedback signal line, and the switching signal line respectively extend in directions away from each other. Therefore, at least in those portions, the feedback signal line is kept away from the switching signal line. Therefore, a signal (switching signal) passing through the switching signal line includes a noise (high frequency noise and / or harmonic noise) component, and the noise is a feedback signal through capacitive coupling of both signal lines. Even if it tries to penetrate (transmit) or enter the line, the formation of the capacitive coupling is prevented (blocked, avoided) or the magnitude of the capacitive coupling is reduced, so that the signal for feedback from the switching signal line. Noise that can enter the line is easily suppressed or blocked.

言い換えると、信号ライン同士の間隔が大きくなることにより、容量結合を形成する等価的な(仮想的な)キャパシタの電極間距離が大きくなるので、容量結合が形成され難くなったり、その容量が低減されたりするので、その容量結合を介して侵入又は入射し得るノイズが低減又は軽減される。これにより、信頼性つまり純度の高いフィードバック信号が確保され、電子部品内蔵基板(延いては電子部品内蔵モジュール)が多層且つ複雑な配線構造を有している場合でも、その複雑な信号経路を辿る信号伝送を安定して行い得る。   In other words, since the distance between the signal lines increases, the distance between the electrodes of the equivalent (virtual) capacitor that forms the capacitive coupling increases, so that it is difficult to form capacitive coupling or the capacitance is reduced. Therefore, noise that can enter or enter through the capacitive coupling is reduced or reduced. As a result, a feedback signal with high reliability, that is, high purity is ensured, and even when the electronic component built-in substrate (and thus the electronic component built-in module) has a multilayer and complicated wiring structure, the complicated signal path is traced. Signal transmission can be performed stably.

なお、本明細書において、「電子部品内蔵基板」とは、第1電子部品が内蔵された単位基板である個別基板(個片、個品)のみではなく、その個別基板を複数有する集合基板(ワークボード、ワークシート)を含む概念であり、その「第1電子部品」とは、その種類は特に制限されず、例えば、通常の電子機器に用いられるICチップ等の半導体装置といった能動部品、より具体的には、例えば、CPU(Central Processing Unit)やDSP(Digital Signal Processor)のように、動作周波数が非常に高いデジタルIC、又は、高周波増幅器やアンテナスイッチ、高周波発振回路といったアナログIC等が挙げられる。また、「電子部品内蔵基板」に搭載されて「電子部品内蔵モジュール」の一部を構成する「第2電子部品」の種類も特に制限されず、本発明では、「第2電子部品」が上述したインダクタ等の電磁波(ノイズ)の発生源である受動部品であり、特に高速でスイッチングされるものの場合に特に有効である。   In the present specification, the “electronic component built-in substrate” means not only an individual substrate (individual piece, individual product) which is a unit substrate in which the first electronic component is built, but also an aggregate substrate having a plurality of the individual substrates ( The “first electronic component” is not particularly limited in its type, for example, an active component such as a semiconductor device such as an IC chip used in a normal electronic device, Specifically, for example, a digital IC having a very high operating frequency such as a CPU (Central Processing Unit) or a DSP (Digital Signal Processor), or an analog IC such as a high-frequency amplifier, an antenna switch, or a high-frequency oscillation circuit can be given. It is done. Further, the type of “second electronic component” mounted on the “electronic component built-in substrate” and constituting a part of the “electronic component built-in module” is not particularly limited. It is a passive component that is a source of electromagnetic waves (noise) such as an inductor, and is particularly effective when it is switched at high speed.

また、基板には、電子部品内蔵モジュールに入力される入力電圧用の信号ラインが設けられており、フィードバック用の信号ライン及び入力電圧用の信号ラインは、それぞれ、基板の面方向において、互いに遠ざかる方向に延在する部位を有する。換言すれば、フィードバック用の信号ライン及び入力電圧用の信号ラインの少なくもいずれか一方は、その少なくとも一部の部位において、他方から遠ざかるように延びている。   Also, the substrate is provided with a signal line for input voltage input to the electronic component built-in module, and the signal line for feedback and the signal line for input voltage are separated from each other in the plane direction of the substrate. It has a part extending in the direction. In other words, at least one of the feedback signal line and the input voltage signal line extends away from the other in at least a part of the signal line.

上記構成においては、基板の面方向において(基板を平面視した場合に)、フィードバック用の信号ライン及び入力電圧用の信号ラインが、それぞれ、互いに遠ざかる方向に延在する部位を有しているので、少なくともそれらの部位においては、フィードバック用の信号ラインが、入力電圧用の信号ラインからも遠ざけられる。したがって、入力電圧用の信号ラインを通過する信号(入力電圧信号)にノイズ(高周波ノイズ及び/又は高調波ノイズ)成分が含まれており、そのノイズが両信号ラインの容量結合を介してフィードバック用の信号ラインに侵入又は入射しようとしても、その容量結合の形成が防止され、又は、その容量結合の大きさが低減されるので、入力電圧用の信号ラインからフィードバック用の信号ラインへ入射し得るノイズが抑止又は遮断され易くなり、その結果、純度の高いフィードバック信号が一層確保される。   In the above configuration, the feedback signal line and the input voltage signal line each have a portion extending away from each other in the surface direction of the substrate (when the substrate is viewed in plan). At least in those portions, the feedback signal line is also kept away from the input voltage signal line. Therefore, noise (high frequency noise and / or harmonic noise) component is included in the signal (input voltage signal) that passes through the signal line for input voltage, and the noise is used for feedback through capacitive coupling of both signal lines. Even if it tries to enter or enter the signal line, the formation of the capacitive coupling is prevented or the magnitude of the capacitive coupling is reduced, so that the signal line for the input voltage can enter the signal line for the feedback. Noise is easily suppressed or blocked, and as a result, a highly pure feedback signal is further ensured.

また、基板には、フィードバック用の信号ラインと第2電子部品との間に、所定の接地電位に接続された第1グラウンド層を形成することが好ましい。   Moreover, it is preferable that a first ground layer connected to a predetermined ground potential is formed on the substrate between the feedback signal line and the second electronic component.

このように構成することにより、第1グラウンド層が、フィードバック用の信号ラインを第2電子部品から覆い隠す(カバーする)ように敷設されるので、第2電子部品(例えば、インダクタ)から磁束が漏出(かかる漏れ磁束は、高周波ノイズ成分となって電源回路に影響を与える)したとしても、第1グラウンド層が、そのようなフィードバック用の信号ラインに外部から入射し得る電磁波に対する電磁波シールドとして機能する。これにより、フィードバック用の信号ラインは、第2電子部品から発生する漏れ磁束に起因するノイズの影響を受けることもなく、安定な動作が確保される。また、フィードバック用の信号ラインが、スイッチング用の信号ライン等の他の信号ラインからも覆い隠される(カバーされる)ように、接地された第1グラウンド層が形成されていれば、フィードバック用の信号ラインと、スイッチング用の信号ライン等の他の信号ラインとの相互干渉や容量結合が防止されるので、その容量結合に起因するノイズを、より有効に抑制且つ遮断することができる。   With this configuration, the first ground layer is laid so as to cover (cover) the feedback signal line from the second electronic component, so that magnetic flux is generated from the second electronic component (for example, the inductor). Even if leakage occurs (the leakage magnetic flux becomes a high-frequency noise component and affects the power supply circuit), the first ground layer functions as an electromagnetic wave shield against electromagnetic waves that can be incident on the feedback signal line from the outside. To do. Thus, the feedback signal line is not affected by noise caused by the leakage magnetic flux generated from the second electronic component, and a stable operation is ensured. Further, if the grounded first ground layer is formed so that the feedback signal line is also covered (covered) by other signal lines such as the switching signal line, the feedback signal line is provided. Since mutual interference and capacitive coupling between the signal line and other signal lines such as a switching signal line are prevented, noise resulting from the capacitive coupling can be more effectively suppressed and blocked.

より具体的には、第1グラウンド層は、基板の面方向において、第1電子部品の実装領域を覆い、且つ、第1電子部品の実装領域よりも大きい面積を有するように形成されると、電磁波シールドとしての機能がより高められるので、好適である。   More specifically, when the first ground layer is formed so as to cover the mounting region of the first electronic component and to have a larger area than the mounting region of the first electronic component in the surface direction of the substrate, Since the function as an electromagnetic wave shield is further improved, it is suitable.

さらにまた、基板には、スイッチング用の信号ラインに近接して、所定の接地電位に接続された第2グラウンド層を形成することが好ましい。このように構成すれば、第2グラウンド層を、スイッチング用の信号ラインと、他の信号ラインであるフィードバック用の信号ラインとの間に介在させ易くなる。或いは、第2グラウンド層がスイッチング用の信号ラインに近接しているので、スイッチング用の信号ライン及びフィードバック用の信号ラインのうちの一方が他方から覆い隠され易くなる。よって、スイッチング用の信号ラインとフィードバック用の信号ラインとの相互干渉や容量結合が更に一層防止されるので、その容量結合に起因するノイズを、より有効に抑制且つ遮断することができる。   Furthermore, it is preferable that a second ground layer connected to a predetermined ground potential is formed on the substrate in the vicinity of the signal line for switching. If comprised in this way, it will become easy to interpose a 2nd ground layer between the signal line for switching, and the signal line for feedback which is other signal lines. Alternatively, since the second ground layer is close to the switching signal line, one of the switching signal line and the feedback signal line is easily covered with the other. Therefore, mutual interference and capacitive coupling between the switching signal line and the feedback signal line are further prevented, so that noise caused by the capacitive coupling can be more effectively suppressed and blocked.

また、第2グラウンド層も、フィードバック用の信号ラインに外部から入射し得る電磁波に対する電磁波シールドとして機能し得るため、フィードバック用の信号ラインを通過する信号の安定化が一層図られる。さらに、高い周波数(高速)でスイッチング制御を行う回路においては、急峻な信号の立ち上がり時や立下り時に特にノイズが発生し易いのに対し、かかる第2グラウンド層を設けることにより、そのようなタイミングで発生し易いノイズの発生が抑制される。これらの観点において、第2グラウンド層は、フィードバック用の信号ラインが形成された層と同層に設けられていることが更に有効である。   Further, since the second ground layer can also function as an electromagnetic wave shield against electromagnetic waves that can be incident on the feedback signal line from the outside, it is possible to further stabilize the signal passing through the feedback signal line. Further, in a circuit that performs switching control at a high frequency (high speed), noise is particularly likely to occur at the time of a sharp signal rising or falling, but by providing such a second ground layer, such a timing is provided. The generation of noise that is likely to occur is suppressed. From these viewpoints, it is more effective that the second ground layer is provided in the same layer as the layer in which the feedback signal line is formed.

また、フィードバック用の信号ラインは、スイッチング用の信号ライン及び入力電圧用の信号ラインの少なくともいずれか一方を、基板の面方向において、横断するように延在する部位を含んで形成される。このように構成することにより、スイッチング用の信号ライン及び入力電圧用の信号ラインが、フィードバック用の信号ラインの形成された層と同層に、且つ、フィードバック用の信号ラインと近接して形成される場合であっても、スイッチング用の信号ライン及び入力電圧用の信号ラインのそれぞれと、フィードバック用の信号ラインとが平行にならない部位が必ず存在する。よって、かかる部位では、フィードバック用の信号ラインと他の信号ラインとの容量結合が極めて生じ難い。したがって、スイッチング用の信号ライン及び入力電圧用の信号ラインのそれぞれからのノイズが、容量結合を介してフィードバック用の信号ラインへ侵入又は入射することが、より一層有効に抑制され得る。   The feedback signal line is formed to include a portion extending so as to cross at least one of the switching signal line and the input voltage signal line in the surface direction of the substrate. With this configuration, the switching signal line and the input voltage signal line are formed in the same layer as the feedback signal line and close to the feedback signal line. Even in such a case, there are always portions where the switching signal line and the input voltage signal line are not parallel to the feedback signal line. Therefore, in such a part, capacitive coupling between the feedback signal line and another signal line is extremely difficult to occur. Therefore, the noise from each of the switching signal line and the input voltage signal line can be further effectively suppressed from entering or entering the feedback signal line via capacitive coupling.

また、第1電子部品は、その第1電子部品の出力端子が、第2電子部品とは反対側を向く(いわゆるフェイスダウンとなる)ように配置されると、第1電子部品の出力端子が第2電子部品側を向くように配置された場合に比して、第1電子部品の出力端子を第2電子部品からより離間させることができ、構造的に、第1電子部品の周辺に位置し得る信号ラインもまた第2電子部品から比較的遠方に遠ざけられる。よって、第2電子部品からの漏れ磁束に起因するノイズがフィードバック用の信号ラインに結合することに起因するノイズを一層抑制且つ遮断し得る。   Further, when the first electronic component is arranged so that the output terminal of the first electronic component faces away from the second electronic component (so-called face-down), the output terminal of the first electronic component is The output terminal of the first electronic component can be further separated from the second electronic component as compared with the case where it is arranged to face the second electronic component side, and is structurally positioned around the first electronic component. A possible signal line is also moved relatively far away from the second electronic component. Therefore, the noise caused by the coupling of the noise caused by the leakage magnetic flux from the second electronic component to the feedback signal line can be further suppressed and blocked.

本発明の電子部品内蔵モジュールによれば、基板の面方向において、フィードバック用の信号ライン及びスイッチング用の信号ラインが、それぞれ、互いに遠ざかる方向に延在する部位を有するので、フィードバック用の信号ラインとスイッチング用の信号ラインとが、たとえ近接して形成されていたとしても、それらの信号ライン間で容量結合が形成されることを阻止、又は、その容量結合の大きさを低減することができるので、かかる容量結合を介してフィードバック用の信号ラインに入射し得るノイズを抑制又は遮断することが可能となり、これにより、電子部品内蔵モジュールの回路等の誤動作を確実に防止して正確な動作を定常的に維持することが可能なる。   According to the electronic component built-in module of the present invention, the feedback signal line and the switching signal line each have a portion extending in a direction away from each other in the surface direction of the substrate. Even if the switching signal lines are formed close to each other, it is possible to prevent the capacitive coupling from being formed between the signal lines or to reduce the size of the capacitive coupling. This makes it possible to suppress or block noise that can enter the signal line for feedback via such capacitive coupling, thereby reliably preventing malfunctions of the electronic component built-in module, etc. Can be maintained.

本発明による電子部品内蔵モジュールの好適な一実施形態であるDCDCコンバータ1の構造を概略的に示す断面図である。1 is a cross-sectional view schematically showing a structure of a DCDC converter 1 which is a preferred embodiment of an electronic component built-in module according to the present invention. 図1に示すDCDCコンバータ1の等価回路図である。FIG. 2 is an equivalent circuit diagram of the DCDC converter 1 shown in FIG. 1. 電子部品内蔵基板2を製造する手順の一例を示す工程図である。It is process drawing which shows an example of the procedure which manufactures the electronic component built-in board | substrate 2. As shown in FIG. 電子部品内蔵基板2を製造する手順の一例を示す工程図である。It is process drawing which shows an example of the procedure which manufactures the electronic component built-in board | substrate 2. As shown in FIG. 電子部品内蔵基板2を製造する手順の一例を示す工程図である。It is process drawing which shows an example of the procedure which manufactures the electronic component built-in board | substrate 2. As shown in FIG. 電子部品内蔵基板2を製造する手順の一例を示す工程図である。It is process drawing which shows an example of the procedure which manufactures the electronic component built-in board | substrate 2. As shown in FIG. 電子部品内蔵基板2を製造する手順の一例を示す工程図である。It is process drawing which shows an example of the procedure which manufactures the electronic component built-in board | substrate 2. As shown in FIG. 電子部品内蔵基板2を製造する手順の一例を示す工程図である。It is process drawing which shows an example of the procedure which manufactures the electronic component built-in board | substrate 2. As shown in FIG. 電子部品内蔵基板2を製造する手順の一例を示す工程図である。It is process drawing which shows an example of the procedure which manufactures the electronic component built-in board | substrate 2. As shown in FIG. 電子部品内蔵基板2を製造する手順の一例を示す工程図である。It is process drawing which shows an example of the procedure which manufactures the electronic component built-in board | substrate 2. As shown in FIG. 電子部品内蔵基板2を製造する手順の一例を示す工程図である。It is process drawing which shows an example of the procedure which manufactures the electronic component built-in board | substrate 2. As shown in FIG. 電子部品内蔵基板2を製造する手順の一例を示す工程図である。It is process drawing which shows an example of the procedure which manufactures the electronic component built-in board | substrate 2. As shown in FIG. 電子部品内蔵基板2を製造する手順の一例を示す工程図である。It is process drawing which shows an example of the procedure which manufactures the electronic component built-in board | substrate 2. As shown in FIG. 本実施形態の電子部品内蔵基板2を模式的に示した要部断面図である。It is principal part sectional drawing which showed typically the electronic component built-in board 2 of this embodiment. 図14に示すI−I線に沿って第1配線層31を接地側から平面視したときの配線図である。It is a wiring diagram when the 1st wiring layer 31 is planarly viewed from the ground side along the II line shown in FIG. 図14に示すII−II線に沿って第2配線層32を接地側から平面視したときの配線図である。It is a wiring diagram when the 2nd wiring layer 32 is planarly viewed from the ground side along the II-II line shown in FIG. 図14に示すIII−III線に沿って第3絶縁層43を接地側に配置されたICチップ7の端子71〜74の端部から平面視したときの電子部品内蔵基板2の構造図である。FIG. 15 is a structural diagram of the electronic component built-in substrate 2 when the third insulating layer 43 is viewed from the end of the terminals 71 to 74 of the IC chip 7 arranged on the ground side along the line III-III shown in FIG. 14. . 図14に示すIV−IV線に沿って第3配線層33を接地側から平面視したときの配線構造図である。FIG. 15 is a wiring structure diagram when the third wiring layer 33 is viewed in plan from the ground side along the IV-IV line shown in FIG. 14. 図14に示すV−V線に沿って第4配線層34を接地側から平面視したときの配線構造図である。FIG. 15 is a wiring structure diagram when the fourth wiring layer is viewed from the ground side along the VV line shown in FIG. 14.

以下、本発明の実施の形態について、図面を参照して説明する。なお、図面中、同一の要素には同一の符号を付し、重複する説明を省略する。また、上下左右等の位置関係は、特に断らない限り、図面に示す位置関係に基づくものとする。さらに、図面の寸法比率は、図示の比率に限定されるものではない。また、以下の実施の形態は、本発明を説明するための例示であり、本発明をその実施の形態のみに限定する趣旨ではない。さらに、本発明は、その要旨を逸脱しない限り、さまざまな変形が可能である。   Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. In the drawings, the same elements are denoted by the same reference numerals, and redundant description is omitted. Further, the positional relationship such as up, down, left and right is based on the positional relationship shown in the drawings unless otherwise specified. Furthermore, the dimensional ratios in the drawings are not limited to the illustrated ratios. Further, the following embodiments are exemplifications for explaining the present invention, and are not intended to limit the present invention only to the embodiments. Furthermore, the present invention can be variously modified without departing from the gist thereof.

図1は、本発明による電子部品内蔵モジュールの好適な一実施形態であるDCDCコンバータ1(電子部品内蔵モジュール)の構造を概略的に示す断面図であり、図2は、DCDCコンバータ1の等価回路図である。   FIG. 1 is a cross-sectional view schematically showing the structure of a DCDC converter 1 (electronic component built-in module) which is a preferred embodiment of an electronic component built-in module according to the present invention, and FIG. 2 is an equivalent circuit of the DCDC converter 1. FIG.

DCDCコンバータ1は、電子部品内蔵基板2(基板)と、接合部81を介して電子部品内蔵基板2の接合領域(電極パッド)61,62に接続された例えばインダクタ8(第2電子部品:受動部品)とから構成されるものであり、電子部品内蔵基板2には、例えばICチップ7(第1電子部品:能動部品)が内蔵されている。なお、電子部品内蔵基板2上には、インダクタ8の他にコンデンサ(キャパシタ)等の受動部品が更に載置されていてもよく、図1においては、DCDCコンバータ1を構成する受動部品のうち、インダクタ8のみを電子部品内蔵基板2上に載置している状態を示している。   The DCDC converter 1 includes, for example, an inductor 8 (second electronic component: passive) connected to an electronic component built-in substrate 2 (substrate) and bonding regions (electrode pads) 61 and 62 of the electronic component built-in substrate 2 via a bonding portion 81. The electronic component built-in substrate 2 contains, for example, an IC chip 7 (first electronic component: active component). In addition to the inductor 8, a passive component such as a capacitor (capacitor) may be further placed on the electronic component built-in substrate 2. In FIG. 1, among the passive components constituting the DCDC converter 1, The state where only the inductor 8 is mounted on the electronic component built-in substrate 2 is shown.

ICチップ7は、図2の等価回路図に示されるように、入力電圧VINに対してスイッチング制御を行い所望の出力電圧VOUTを出力させる制御回路Cと、実際のスイッチング動作を担うスイッチ回路S1,S2とから構成されている。なお、図2の等価回路図は、図1に示す電子部品内蔵基板2上に、インダクタ8(図2では、Lと記載)の他にコンデンサ(キャパシタ)C1,C2の受動部品が更に載置されている状態を示している。 As shown in the equivalent circuit diagram of FIG. 2, the IC chip 7 includes a control circuit C that performs switching control on the input voltage V IN and outputs a desired output voltage V OUT , and a switch circuit that performs the actual switching operation. It consists of S1 and S2. In the equivalent circuit diagram of FIG. 2, passive components of capacitors (capacitors) C1 and C2 are further placed on the electronic component built-in substrate 2 shown in FIG. 1 in addition to the inductor 8 (denoted as L in FIG. 2). It shows the state being done.

DCDCコンバータ1においては、最下層から第1絶縁層41、第2絶縁層42、第3絶縁層43、第4絶縁層44、及び第5絶縁層45と、第1配線層31、第2配線層32、第3配線層33、及び第4配線層34とが順次積層されており、第3絶縁層43の内部の所定位置にICチップ7が埋設されている。最下層である第1絶縁層41には、外部素子と電気的に接続するために、少なくとも3つの各種出力端子21〜23(例えば、BGA:Ball Grid Array、いわゆるユーザ端子)が形成されており、それらは、DCDCコンバータ1に電圧を印加する入力電圧端子21、DCDCコンバータ1から任意の電圧を出力する出力電圧端子22、接地電位(グラウンド;例えば0V電圧)に接地されるグラウンド(GND)端子23から構成されている。   In the DCDC converter 1, the first insulating layer 41, the second insulating layer 42, the third insulating layer 43, the fourth insulating layer 44, and the fifth insulating layer 45, the first wiring layer 31, and the second wiring from the bottom layer. The layer 32, the third wiring layer 33, and the fourth wiring layer 34 are sequentially stacked, and the IC chip 7 is embedded at a predetermined position inside the third insulating layer 43. The first insulating layer 41, which is the lowest layer, is formed with at least three various output terminals 21 to 23 (for example, BGA: Ball Grid Array, so-called user terminals) for electrical connection with external elements. The input voltage terminal 21 applies a voltage to the DCDC converter 1, the output voltage terminal 22 outputs an arbitrary voltage from the DCDC converter 1, and the ground (GND) terminal grounded to a ground potential (ground; for example, 0V voltage). 23.

なお、図1は、入力電圧端子21、及び、グラウンド端子23側の断面から、紙面奥側に出力電圧端子22が視認される状態を示す。   FIG. 1 shows a state in which the output voltage terminal 22 is visually recognized on the back side of the drawing from the cross section on the input voltage terminal 21 and ground terminal 23 side.

本実施形態のICチップ7も、各第1配線層31〜第4配線層34と電気的に接続するために最下層側に各出力端子が設けられており(内部電極、バンプ、ランド等)、これらの出力端子は、DCDCコンバータ1の電子部品内蔵基板2の最下層に形成された、少なくとも3つの各種出力端子21〜23に接続される少なくとも3つの出力端子、すなわち、入力電圧端子71(入力電圧用の端子)、入力電圧に対してスイッチング制御を行うスイッチ(SW)端子72(スイッチング用の端子)、グラウンド(GND)端子73(グラウンド用の端子)に加え、インダクタ8とキャパシタC2(図2参照:上述のとおり図1には示していない)によって平滑された出力電圧を監視し出力電圧が予め設定された基準電圧内となるように制御するフィードバック(FB)端子74(フィードバック用の端子)から構成されている。   The IC chip 7 of this embodiment is also provided with output terminals on the lowermost layer side (internal electrodes, bumps, lands, etc.) in order to be electrically connected to the first wiring layer 31 to the fourth wiring layer 34. These output terminals are at least three output terminals connected to at least three various output terminals 21 to 23 formed on the bottom layer of the electronic component built-in substrate 2 of the DCDC converter 1, that is, the input voltage terminal 71 ( In addition to an input voltage terminal), a switch (SW) terminal 72 (switching terminal) that controls switching with respect to the input voltage, and a ground (GND) terminal 73 (ground terminal), an inductor 8 and a capacitor C2 ( (See FIG. 2: As mentioned above, not shown in FIG. 1) The smoothed output voltage is monitored and the output voltage is controlled to be within a preset reference voltage. And a fed back (FB) terminal 74 (terminal for feedback).

このように、ICチップ7は、それらの端子71〜74が電子部品内蔵基板2の最下層側に向けて配置されたいわゆるフェイスダウンの形態で設置されている。なお、入力電圧端子71とスイッチ端子72、及びグラウンド端子73とフィードバック端子74が、それぞれ、図1の視認方向において紙面の奥行き方向に重なるように設けられており、これらのうち、断面図である同図においては、入力電圧端子71、及び、グラウンド端子73のみを示した。   Thus, the IC chip 7 is installed in a so-called face-down manner in which those terminals 71 to 74 are arranged toward the lowermost layer side of the electronic component built-in substrate 2. The input voltage terminal 71 and the switch terminal 72, and the ground terminal 73 and the feedback terminal 74 are provided so as to overlap each other in the depth direction of the paper surface in the viewing direction of FIG. In the figure, only the input voltage terminal 71 and the ground terminal 73 are shown.

また、ICチップ7のフィードバック端子74に対応する電子部品内蔵基板2の出力端子は形成されていない。これは、ICチップ7のフィードバック端子74は、平滑後の出力電圧を監視するためのものであるので、電子部品内蔵基板2の出力電圧端子22と接続させれば、その機能が果たされることによる。   Further, the output terminal of the electronic component built-in substrate 2 corresponding to the feedback terminal 74 of the IC chip 7 is not formed. This is because the feedback terminal 74 of the IC chip 7 is for monitoring the output voltage after smoothing, so that the function is fulfilled if it is connected to the output voltage terminal 22 of the electronic component built-in substrate 2. .

以上のとおり、図1は、ICチップ7を略中央で破断し、ICチップ7の一方側から平面視した場合の断面図を示しており、ICチップ7における片側一列の出力端子である、入力電圧端子71、及びグラウンド端子73の配線導体を介して、それぞれ、電子部品内蔵基板2の片側一列の入力電圧端子21、及びグラウンド端子23と電気的に接続されている構成を示す。このように、電子部品内蔵基板2に形成された外部出力用の各種出力端子21〜23とICチップ7の各種端子71〜74との対応関係は、以上説明したとおりである。   As described above, FIG. 1 shows a cross-sectional view when the IC chip 7 is broken at substantially the center and is viewed in plan from one side of the IC chip 7, and is an output terminal on one side of the IC chip 7. A configuration is shown in which the wiring terminals of the voltage terminal 71 and the ground terminal 73 are electrically connected to the input voltage terminal 21 and the ground terminal 23 on one side of the electronic component built-in substrate 2 respectively. Thus, the correspondence between the various output terminals 21 to 23 for external output formed on the electronic component built-in substrate 2 and the various terminals 71 to 74 of the IC chip 7 is as described above.

また、ICチップ7の各種端子71〜74が電子部品内蔵基板2の内部において接続される構造は、次のとおりである。すなわち、ICチップ7の入力電圧端子71は、ビア導体95を介して第2配線層32に接続され、さらに、ビア導体92を介して第1配線層31及び電子部品内蔵基板2に形成された入力電圧端子21に接続される。また、ICチップ7の入力電圧端子71は、ビア導体95、第3配線層33に接続されるビア導体93、第4配線層34に接続されるビア導体94、及び接合領域である電極パッド63を介してキャパシタC1と接続される。   Further, the structure in which the various terminals 71 to 74 of the IC chip 7 are connected inside the electronic component built-in substrate 2 is as follows. In other words, the input voltage terminal 71 of the IC chip 7 is connected to the second wiring layer 32 via the via conductor 95, and further formed on the first wiring layer 31 and the electronic component built-in substrate 2 via the via conductor 92. Connected to the input voltage terminal 21. The input voltage terminal 71 of the IC chip 7 includes a via conductor 95, a via conductor 93 connected to the third wiring layer 33, a via conductor 94 connected to the fourth wiring layer 34, and an electrode pad 63 that is a bonding region. And is connected to the capacitor C1.

ICチップ7のスイッチ端子72は、ビア導体95を介して第2配線層32に接続され、さらに、第3配線層33に接続されるビア導体93、第4配線層34に接続されるビア導体94、及び接合領域である電極パッド62を介してインダクタ8と接続される。   The switch terminal 72 of the IC chip 7 is connected to the second wiring layer 32 through the via conductor 95, and further, the via conductor 93 connected to the third wiring layer 33 and the via conductor connected to the fourth wiring layer 34. 94 and the inductor 8 through the electrode pad 62 which is a bonding region.

ICチップ7のグラウンド端子73は、ビア導体95を介して第2配線層32に接続され、さらに、ビア導体92を介して第1配線層31、及び電子部品内蔵基板2に形成されたグラウンド端子23に接続される。また、ICチップ7のグラウンド端子73は、ビア導体95、第3配線層33に接続されるビア導体93、第4配線層34に接続されるビア導体94、及び接合領域である電極パッド64,66を介してキャパシタC1,C2に接続される。   The ground terminal 73 of the IC chip 7 is connected to the second wiring layer 32 via the via conductor 95, and further, the ground terminal formed on the first wiring layer 31 and the electronic component built-in substrate 2 via the via conductor 92. 23. The ground terminal 73 of the IC chip 7 includes a via conductor 95, a via conductor 93 connected to the third wiring layer 33, a via conductor 94 connected to the fourth wiring layer 34, and an electrode pad 64, which is a bonding region. 66 to the capacitors C1 and C2.

ICチップ7のフィードバック端子74は、ビア導体95を介して第2配線層32に接続され、ビア導体92を介して第1配線層31及び電子部品内蔵基板2に形成された出力電圧端子22に接続される。また、ICチップ7のフィードバック端子74は、ビア導体95、第3配線層33に接続されるビア導体93、第4配線層34に接続されるビア導体94、及び接合領域である電極パッド61を介してインダクタ8に接続され、ビア導体95,93,94、及び接合領域である電極パッド65を介してキャパシタC2に接続される。   The feedback terminal 74 of the IC chip 7 is connected to the second wiring layer 32 via the via conductor 95, and is connected to the output voltage terminal 22 formed on the first wiring layer 31 and the electronic component built-in substrate 2 via the via conductor 92. Connected. The feedback terminal 74 of the IC chip 7 includes a via conductor 95, a via conductor 93 connected to the third wiring layer 33, a via conductor 94 connected to the fourth wiring layer 34, and an electrode pad 61 that is a bonding region. Via the via conductors 95, 93 and 94 and the electrode pad 65 which is a junction region.

図3乃至図13は、DCDCコンバータ1の半導体内蔵基板2を製造する手順の一例を示す工程図(プロセスフロー図)である。   3 to 13 are process diagrams (process flow diagrams) showing an example of a procedure for manufacturing the semiconductor-embedded substrate 2 of the DCDC converter 1. FIG.

まず、両面CCL(Copper Clad Laminate)である両面銅張ガラスエポキシをドリル穿孔し、さらに無電解めっき、及び電解めっきを施した後、めっき膜の不要部分をエッチング等により除去するといった公知の手法を用いて、パターニングされた第3配線層33及び第4配線層34が形成されたコア基板3を準備する(図3)。   First, a well-known technique such as drilling a double-sided copper-clad glass epoxy, which is a double-sided CCL (Copper Clad Laminate), performing electroless plating and electrolytic plating, and then removing unnecessary portions of the plating film by etching or the like. Then, the core substrate 3 on which the patterned third wiring layer 33 and fourth wiring layer 34 are formed is prepared (FIG. 3).

次いで、そのコア基板3の上に絶縁性の樹脂フィルムを真空圧着させて未硬化状態の第3絶縁層43を積層し、RCC(Resin Coated Copper)構造を形成する(図4)。   Next, an insulating resin film is vacuum-pressed on the core substrate 3 to laminate an uncured third insulating layer 43 to form an RCC (Resin Coated Copper) structure (FIG. 4).

そして、未硬化状態の第3絶縁層43上にICチップ7をいわゆるフェイスアップの状態で載置した後(図5)、再びその上を未硬化状態の樹脂で覆って第3絶縁層43内にICチップ7を埋め込み、第3絶縁層43を硬化させる。次に、第3絶縁層43上に銅箔を重ねて形成された第2配線層32の不要部分をエッチング等によって除去した後、第2配線層32を除去した箇所に、公知の方法でビアホール93H,95Hを穿設し、ビアホール93Hの底部に第3配線層33を露出させ、且つ、ビアホール95Hの底部にICチップ7の各端子71〜74(図示においては、入力電圧端子71、及びグラウンド端子73の2つの端子のみ示す)を露出させる(図6)。   Then, after the IC chip 7 is placed in a so-called face-up state on the uncured third insulating layer 43 (FIG. 5), it is again covered with an uncured resin, and the inside of the third insulating layer 43 Then, the IC chip 7 is embedded, and the third insulating layer 43 is cured. Next, after unnecessary portions of the second wiring layer 32 formed by overlapping the copper foil on the third insulating layer 43 are removed by etching or the like, via holes are formed in a place where the second wiring layer 32 is removed by a known method. 93H and 95H are formed, the third wiring layer 33 is exposed at the bottom of the via hole 93H, and the terminals 71 to 74 of the IC chip 7 (the input voltage terminal 71 and the ground are shown in the figure) at the bottom of the via hole 95H. (Only two terminals 73 are shown) are exposed (FIG. 6).

それから、ビアホール93H,95Hが形成されたコア基板3上に銅等のめっきを施し、第2配線層32と第3配線層33、及び、第2配線層とICチップ7の各端子71〜74を、それぞれ、ビア導体93,95により接続する(図7)。   Then, copper or the like is plated on the core substrate 3 in which the via holes 93H and 95H are formed, and the second wiring layer 32 and the third wiring layer 33, and the second wiring layer and the terminals 71 to 74 of the IC chip 7 are provided. Are connected by via conductors 93 and 95, respectively (FIG. 7).

次に、第2配線層32をエッチング等によりパターニングして第2配線層32の配線パターンを形成させる(図8)。次いで、第2配線層32上及びビアホール93H,95Hの内部に樹脂を充填して未硬化状態の第2絶縁層42を形成し、更にその上に銅箔等を積層して第1配線層31を形成した後、熱プレス等により基板全体を押圧することによって、第2絶縁層42を硬化させると同時に、積層される各第1配線層31〜第4配線層34及び各第2絶縁層42〜第4絶縁層44、並びにICチップ7間の密着性を高める(図9)。   Next, the second wiring layer 32 is patterned by etching or the like to form a wiring pattern of the second wiring layer 32 (FIG. 8). Next, the second wiring layer 32 and the inside of the via holes 93H and 95H are filled with resin to form an uncured second insulating layer 42, and a copper foil or the like is further laminated thereon to form the first wiring layer 31. Then, the second insulating layer 42 is cured by pressing the entire substrate by hot pressing or the like, and at the same time, the first wiring layer 31 to the fourth wiring layer 34 and the second insulating layer 42 to be laminated are stacked. ˜Adhesion between the fourth insulating layer 44 and the IC chip 7 is improved (FIG. 9).

その後、その状態での最外両層である第1配線層31及び第4配線層34の不要部分をエッチング等によって除去して、ビアホール92H,94Hを穿設し、それらの底部に、それぞれ、第2配線層32及び第3配線層33を露出させる(図10)。   Thereafter, unnecessary portions of the first wiring layer 31 and the fourth wiring layer 34 which are the outermost layers in that state are removed by etching or the like, and via holes 92H and 94H are formed, and at the bottoms thereof, respectively. The second wiring layer 32 and the third wiring layer 33 are exposed (FIG. 10).

次いで、ビアホール92H,94Hの内部、並びに、第1配線層31上及び第4配線層34上に銅めっきを施して、第1配線層31と第2配線層32、及び第3配線層33と第4配線層34を、それぞれ、ビア導体92、94に接続する(図11)。次いで、第1配線層31及び第4配線層34をエッチング等によりパターニングして配線パターンを形成する(図12)。   Next, copper plating is performed on the inside of the via holes 92H and 94H, and on the first wiring layer 31 and the fourth wiring layer 34, so that the first wiring layer 31, the second wiring layer 32, and the third wiring layer 33 are formed. The fourth wiring layer 34 is connected to the via conductors 92 and 94, respectively (FIG. 11). Next, the first wiring layer 31 and the fourth wiring layer 34 are patterned by etching or the like to form a wiring pattern (FIG. 12).

そして、第1配線層31及び第4配線層34の配線パターン上、及び、それらの配線パターン以外の適宜の部分に、ソルダーレジストを塗布等してマスク層である第1絶縁層41及び第5絶縁層45を形成させることにより、電子部品内蔵基板2を得る(図13)。それから、この電子部品内蔵基板2を反転させ上下を逆さまにした状態で、その上にインダクタ8及びキャパシタ等の受動部品を載置して接続することにより、DCDCコンバータ1を完成させる。   Then, a solder resist is applied on the wiring patterns of the first wiring layer 31 and the fourth wiring layer 34 and on appropriate portions other than those wiring patterns, and the first insulating layer 41 and the fifth insulating layer 41 are mask layers. By forming the insulating layer 45, the electronic component built-in substrate 2 is obtained (FIG. 13). Then, in a state where the electronic component built-in substrate 2 is inverted and turned upside down, a passive component such as an inductor 8 and a capacitor is placed thereon and connected to complete the DCDC converter 1.

このように形成された電子部品内蔵基板2を配線層31〜34ごとに接地側(インダクタ8の反対側)から平面視したときの配線構造を、図14から図19を参照しながら具体的に説明する。まず、図14は、本実施形態の電子部品内蔵基板2を模式的に示した要部断面図である。また、図15は、図14に示すI−I線に沿って第1配線層31を接地側から平面視したときの配線構造図(I−I線断面図)である。   The wiring structure when the electronic component built-in substrate 2 formed in this way is viewed in plan from the ground side (opposite side of the inductor 8) for each of the wiring layers 31 to 34 is specifically described with reference to FIGS. explain. First, FIG. 14 is a main part sectional view schematically showing the electronic component built-in substrate 2 of the present embodiment. 15 is a wiring structure diagram (II line sectional view) when the first wiring layer 31 is viewed from the ground side along the II line shown in FIG.

第1配線層31には、入力電圧用の配線パターン31Vi、グラウンド(接地)用の配線パターン31G、及び、出力電圧用の配線パターン31Voが形成される。また、第1配線層31には、外部素子と電気的に接続するために出力端子が形成されており、入力電圧端子21、出力電圧端子22、及びグラウンド端子23を有している。さらに、積層される第2配線層32と接続するために、入力電圧用のビア導体92Vi、出力電圧用のビア導体92Vo、及びグラウンド用のビア導体92Gが形成されている。また、第1配線層31に形成されるグラウンド用の配線パターン31Gは、2つのグラウンド用のビア92G、及び電子部品内蔵基板2に形成されたグラウンド端子23を一体に接続する。上記各種の配線パターン31Vi,Vo,Gは、各種出力端子21〜23と、各種出力端子21〜23に対応する各ビア導体92とを接続している。   In the first wiring layer 31, an input voltage wiring pattern 31Vi, a ground (grounding) wiring pattern 31G, and an output voltage wiring pattern 31Vo are formed. The first wiring layer 31 has an output terminal for electrical connection with an external element, and has an input voltage terminal 21, an output voltage terminal 22, and a ground terminal 23. Further, an input voltage via conductor 92Vi, an output voltage via conductor 92Vo, and a ground via conductor 92G are formed to connect to the second wiring layer 32 to be laminated. The ground wiring pattern 31G formed in the first wiring layer 31 integrally connects the two ground vias 92G and the ground terminal 23 formed in the electronic component built-in substrate 2. The various wiring patterns 31Vi, Vo, G connect the various output terminals 21 to 23 and the via conductors 92 corresponding to the various output terminals 21 to 23.

図16は、図14に示すII−II線に沿って第2配線層32を接地側から平面視したときの配線構造図(II−II線断面図)である。第2配線層32には、2つの入力電圧用の配線パターン32Vi(駆動用の信号ライン)、グラウンド(接地)用の配線パターン32G(駆動用の信号ライン)、スイッチング用の配線パターン32S(スイッチング用の信号ライン)、出力電圧用の配線パターン32Vo(駆動用の信号ライン)、及びフィードバック用の配線パターン32F(フィードバック用の信号ライン)が形成される。   FIG. 16 is a wiring structure diagram (II-II line cross-sectional view) when the second wiring layer 32 is viewed from the ground side along the line II-II shown in FIG. The second wiring layer 32 includes two input voltage wiring patterns 32Vi (driving signal lines), a ground wiring pattern 32G (driving signal lines), and a switching wiring pattern 32S (switching). Signal line), output voltage wiring pattern 32Vo (driving signal line), and feedback wiring pattern 32F (feedback signal line).

また、第2配線層32には、上述の第1配線層31と接続するために入力電圧用のビア導体92Vi、出力電圧用のビア導体92Vo、及びグラウンド用のビア導体92Gが形成され、第3配線層33と接続するために2つの入力電圧用のビア導体92Vi、2つの出力電圧用のビア導体93Vo、2つのスイッチング用のビア導体93S、及び2つのグラウンド用のビア導体93Gが形成される。また、ICチップ7の各端子71〜74に接続される各種ビア導体95Vi,95G,95F,95Sが形成される。   The second wiring layer 32 is formed with an input voltage via conductor 92Vi, an output voltage via conductor 92Vo, and a ground via conductor 92G for connection to the first wiring layer 31 described above. In order to connect to the three wiring layers 33, two input voltage via conductors 92Vi, two output voltage via conductors 93Vo, two switching via conductors 93S, and two ground via conductors 93G are formed. The Various via conductors 95Vi, 95G, 95F, and 95S connected to the terminals 71 to 74 of the IC chip 7 are formed.

入力電圧用の配線パターン32Viの両端は、入力電圧用のビア導体92Vi,93Vi又は入力電圧用のビア導体93Vi,ICチップ7の入力電圧端子71に接続されるビア導体95Viに接続され、出力電圧用の配線パターン32Voの両端は、出力電圧用のビア導体92Vo,93Voに接続される。また、スイッチング用の配線パターン32Sは、ICチップ7のスイッチ端子72に接続されるビア導体95S、及びスイッチング用のビア導体93Sが一体に接続される。また、グラウンド用の配線パターン32Gは、ICチップ7のグラウンド端子73に接続されるビア導体95G、及びグラウンド用のビア導体92G,93Gが一体に接続される。   Both ends of the input voltage wiring pattern 32Vi are connected to the input voltage via conductors 92Vi and 93Vi or the input voltage via conductors 93Vi and the via conductor 95Vi connected to the input voltage terminal 71 of the IC chip 7 to output voltage. Both ends of the wiring pattern 32V0 are connected to output voltage via conductors 92Vo and 93Vo. The switching wiring pattern 32S is integrally connected with a via conductor 95S connected to the switch terminal 72 of the IC chip 7 and a switching via conductor 93S. The ground wiring pattern 32G is integrally connected to the via conductor 95G connected to the ground terminal 73 of the IC chip 7 and the ground via conductors 92G and 93G.

ここで、フィードバック用の配線パターン32Fは、フィードバック端子74、ビア導体95F、及び出力電圧用のビア導体92Vo,93Vo,93Voに接続される。   Here, the feedback wiring pattern 32F is connected to the feedback terminal 74, the via conductor 95F, and the output voltage via conductors 92Vo, 93Vo, and 93Vo.

そして、フィードバック用の配線パターン32Fは、入力電圧用の配線パターン32Vi,32Vi及びスイッチング用の配線パターン32Sの、何れの配線パターンとも平行しない部位を有するように形成され、好ましくは、入力電圧用の配線パターン32Vi,32Vi及びスイッチング用の配線パターン32Sが延在する方向を横断(縦断)するように形成される。より具体的には、フィードバック用の配線パターン32Fは、基板2の面方向において、入力電圧用の配線パターン32Vi,32Viとスイッチング用の配線パターン32Sとの間に形成されており、且つ、入力電圧用の配線パターン32Vi,32Viとスイッチング用の配線パターン32Sのそれぞれから遠ざかるように延在している。   The feedback wiring pattern 32F is formed so as to have a portion not parallel to any of the wiring patterns 32Vi and 32Vi for the input voltage and the wiring pattern 32S for switching, and preferably for the input voltage. The wiring patterns 32Vi and 32Vi and the switching wiring pattern 32S are formed so as to cross (longitudinal) the extending direction. More specifically, the feedback wiring pattern 32F is formed between the input voltage wiring patterns 32Vi and 32Vi and the switching wiring pattern 32S in the surface direction of the substrate 2, and the input voltage The wiring patterns 32Vi and 32Vi for switching and the wiring pattern 32S for switching extend away from each other.

本実施形態(図16)では、フィードバック用の配線パターン32Fの一部が、ICチップ7の長辺に沿って端子71,73と端子72,74との間を横断するように、且つ、入力電圧用の配線パターン32Vi,32Vi及びスイッチング用の配線パターン32Sが延在する方向を横断するように形成されている。換言すると、フィードバック用の配線パターン32Fの一部が、ICチップ7の略中央を通るように形成され、入力電圧用の配線パターン32Vi,32Vi及びスイッチング用の配線パターン32Sに対して略直交する方向に延在するように設けられている。   In the present embodiment (FIG. 16), a part of the feedback wiring pattern 32F crosses between the terminals 71 and 73 and the terminals 72 and 74 along the long side of the IC chip 7 and is input. The voltage wiring patterns 32Vi and 32Vi and the switching wiring pattern 32S are formed so as to cross the extending direction. In other words, a part of the feedback wiring pattern 32F is formed so as to pass through substantially the center of the IC chip 7, and is substantially orthogonal to the input voltage wiring patterns 32Vi and 32Vi and the switching wiring pattern 32S. It is provided so that it may extend.

一般に、入力電圧用の配線パターン32Vi,32Viには入力電圧信号が直接送通され、スイッチング用の配線パターン32Sにはスイッチング信号が直接送通されるため、両配線パターン32Vi,32Vi,32Sには、ノイズ(高周波成分及び/又は高調波成分)がのり易い(含み易い)。しかしながら、このように、電子部品内蔵基板2の面方向において、フィードバック用の配線パターン32Fを中心として、入力電圧用の配線パターン32Vi、及び、スイッチング用の配線パターン32Sのそれぞれを左右に形成し、且つ、フィードバック用の配線パターン32Fを、入力電圧用の配線パターン32Vi、及びスイッチング用の配線パターン32Sのそれぞれに対して遠ざかる方向に延在させて形成することにより、各配線パターン32F,32Vi,32S間の相互干渉を回避でき、結果として、各種信号ライン間の有意な容量結合の形成が防止され、或いは、容量結合の大きさが効果的に低減される。これにより、フィードバック用の信号ラインである配線パターン32Fへのノイズの重畳を抑止又は遮断することが可能となり、より一層安定化させることができる。   In general, since the input voltage signal is directly transmitted to the input voltage wiring patterns 32Vi and 32Vi and the switching signal is directly transmitted to the switching wiring pattern 32S, both the wiring patterns 32Vi, 32Vi, and 32S are transmitted to the wiring patterns 32Vi, 32Vi, and 32S. , Noise (high frequency component and / or harmonic component) is likely to be carried (easy to be included). However, in this way, in the surface direction of the electronic component built-in substrate 2, each of the input voltage wiring pattern 32Vi and the switching wiring pattern 32S is formed on the left and right with the feedback wiring pattern 32F as the center. Further, by forming the feedback wiring pattern 32F so as to extend away from the input voltage wiring pattern 32Vi and the switching wiring pattern 32S, the wiring patterns 32F, 32Vi, and 32S are formed. As a result, the formation of significant capacitive coupling between various signal lines is prevented, or the magnitude of capacitive coupling is effectively reduced. As a result, it is possible to suppress or block noise from being superimposed on the wiring pattern 32F, which is a feedback signal line, and further stabilize the noise.

また、フィードバック用の配線パターン32Fは、その少なくとも一部が、電子部品内蔵基板2を平面視した状態において、ICチップ7の載置領域(実装領域)A7の外周(外枠)よりも内側に形成される。換言すれば、フィードバック用の配線パターン32Fの少なくとも一部は、ICチップ7の載置下であって、電子部品内蔵基板2を平面視した状態で(電子部品内蔵基板2の面方向において)ICチップ7と重なり合うように形成される。   Further, at least a part of the feedback wiring pattern 32F is located on the inner side of the outer periphery (outer frame) of the mounting area (mounting area) A7 of the IC chip 7 in a state where the electronic component built-in substrate 2 is viewed in plan view. It is formed. In other words, at least a part of the feedback wiring pattern 32F is under the placement of the IC chip 7 and in a state where the electronic component built-in substrate 2 is viewed in plan (in the plane direction of the electronic component built-in substrate 2). It is formed so as to overlap with the chip 7.

また、フィードバック用の配線パターン32Fが、インダクタ8から発生する漏れ磁束と略直交するように形成されているので、電子部品内蔵基板2は、フィードバック用の配線パターン32Fに対するインダクタ8から発生する漏れ磁束の影響を最も受け難くさせることができる。特にフィードバック用の配線パターン32Fがインダクタ8の端子間を結ぶ方向と同じ方向に延在し、インダクタ8の内部構造が電子部品内蔵基板2の上方に巻回方向を有するソレノイド型コイルであった場合には、より有効に働く技術である。   Further, since the feedback wiring pattern 32F is formed so as to be substantially orthogonal to the leakage magnetic flux generated from the inductor 8, the electronic component built-in board 2 has the leakage magnetic flux generated from the inductor 8 with respect to the feedback wiring pattern 32F. Can be made the least affected. In particular, when the feedback wiring pattern 32F extends in the same direction as the direction connecting the terminals of the inductor 8, and the internal structure of the inductor 8 is a solenoid coil having a winding direction above the electronic component built-in substrate 2. Is a technology that works more effectively.

また、フィードバック用の配線パターン32Fの近くに、好ましくは、フィードバック用の配線パターン32Fの少なくとも一部を取り囲むように、グラウンド用の配線パターン32Gが形成される。グラウンド用の配線パターン32Gは、基板2の両端部であってICチップ7の側端部に形成されるグラウンド用のビア導体93G,93G、ICチップ7のグラウンド端子73に接続されるビア導体95G、及びグラウンド用のビア導体92G,92Gが一体に形成されるグラウンド層(第2グラウンド層)を画成する。本実施形態(図16)では、グラウンド用の配線パターン32Gは、フィードバック用の配線パターン32Fの周囲の他、スイッチング用の配線パターン32Sの周囲にも形成される。   Also, a ground wiring pattern 32G is preferably formed near the feedback wiring pattern 32F so as to surround at least a part of the feedback wiring pattern 32F. The ground wiring patterns 32G are ground via conductors 93G and 93G formed at both end portions of the substrate 2 and at the side end portions of the IC chip 7, and via conductors 95G connected to the ground terminals 73 of the IC chip 7. , And a ground layer (second ground layer) in which the via conductors 92G and 92G for ground are integrally formed. In the present embodiment (FIG. 16), the ground wiring pattern 32G is formed not only around the feedback wiring pattern 32F but also around the switching wiring pattern 32S.

このように第2配線層32にグラウンド層を形成することにより、第2配線層32は、直接、所定の接地電位(グラウンド)と接続されるため、第2配線層32から所定の接地電位までの最短経路が形成される。これにより、接地経路におけるインピーダンス値を低減することができる。その上、このようなグラウンド層は、フィードバック用の配線パターン32Fの周囲に形成されるため、そのフィードバック用の信号ラインである配線パターン32Fを通過するフィードバック信号がより安定し、電源回路の動作を一層安定化させることができる。さらに、制御回路Cにおいては、高い周波数でスイッチングの制御を行っていることから、急峻な信号の立ち上がり時や立下り時に特にノイズが発生し易いが、かかるグラウンド層を設けることにより、そのようなタイミングで発生し易いノイズの発生をも防止することができる。   By forming the ground layer in the second wiring layer 32 in this way, the second wiring layer 32 is directly connected to a predetermined ground potential (ground). Therefore, from the second wiring layer 32 to the predetermined ground potential. The shortest path is formed. Thereby, the impedance value in the ground path can be reduced. In addition, since such a ground layer is formed around the feedback wiring pattern 32F, the feedback signal passing through the wiring pattern 32F, which is the feedback signal line, becomes more stable, and the operation of the power supply circuit is improved. It can be further stabilized. Furthermore, in the control circuit C, since switching is controlled at a high frequency, noise is particularly likely to occur at the time of steep rise and fall of a signal. However, by providing such a ground layer, Generation of noise that is likely to occur at timing can also be prevented.

また、フィードバック用の配線パターン32Fは、インダクタ8から離間した第2配線層32に形成されており、インダクタ8からより遠方に配置されているだけではなく、第2配線層32において、フィードバック用の配線パターン32FがICチップ7の載置領域内に形成されており、ICチップ7の載置下に配置されることにより、ICチップ7が、インダクタ8から発生する漏れ磁束を遮断する媒体(シールド体、シールド層)として機能するので、インダクタ8の漏れ磁束によって影響を受けやすいフィードバック用の信号ラインである配線パターン32Fへのノイズの重畳を抑止又は遮断させて安定化させることができる。   The feedback wiring pattern 32F is formed in the second wiring layer 32 spaced from the inductor 8, and is not only disposed farther from the inductor 8, but also in the second wiring layer 32. The wiring pattern 32F is formed in the placement area of the IC chip 7 and is disposed under the placement of the IC chip 7 so that the IC chip 7 shields a leakage magnetic flux generated from the inductor 8 (shield). Therefore, it is possible to suppress or block noise from being superimposed on the wiring pattern 32F, which is a feedback signal line that is easily affected by the leakage magnetic flux of the inductor 8, and stabilize the noise.

なお、フィードバック用の配線パターン32Fは、平滑後の出力電圧を監視するためだけに形成された配線であることから、電流が僅かに流れる程度の細い配線パターンであればよい。また、このように形成されるフィードバック用の配線パターン32Fは、その一方端である出力電圧用のビア導体92Vo,93Vo,93Voから他方端であるフィードバック端子74に向かって電流が流れ、この電流は、インダクタ8が基板上で流れる電流の方向と反対向きに流れている。これにより、フィードバック用の配線パターン32Fには、インダクタ8から発生する磁界と反対方向の磁界(反磁界)が発生するので、インダクタ8から発生する漏れ磁束を少なからず軽減することができる。   Since the feedback wiring pattern 32F is a wiring formed only for monitoring the output voltage after smoothing, it may be a thin wiring pattern that allows current to flow slightly. Further, in the feedback wiring pattern 32F formed in this way, a current flows from the output voltage via conductors 92Vo, 93Vo, 93Vo at one end to the feedback terminal 74 at the other end, and this current is The inductor 8 flows in the direction opposite to the direction of the current flowing on the substrate. As a result, a magnetic field (demagnetizing field) in a direction opposite to the magnetic field generated from the inductor 8 is generated in the feedback wiring pattern 32F, so that the leakage magnetic flux generated from the inductor 8 can be reduced to some extent.

図17は、図14に示すIII−III線に沿って第3絶縁層43を接地側に配置されたICチップ7の各端子71〜74の端部から平面視したときの電子部品内蔵基板2の構造図(III−III線断面図)である。第3絶縁層43の内部には、ICチップ7が埋設され、ICチップ7の各端子71〜74及び第3配線層33と接続するための各種ビア導体93が形成される。これらの各種ビア導体93は、ICチップ7の一方側の端部に形成され、第2配線層32に形成されたビア導体93の略真上に設けられる。ICチップ7は、インダクタ8側からより離間した側(接地側)に各端子71〜74が配置されるように第3絶縁層43内部に載置されている。   17 shows the electronic component built-in substrate 2 when the third insulating layer 43 is viewed in plan view from the end of each terminal 71 to 74 of the IC chip 7 arranged on the ground side along the line III-III shown in FIG. It is a structure figure (III-III sectional view taken on the line). Inside the third insulating layer 43, the IC chip 7 is embedded, and various via conductors 93 for connecting to the terminals 71 to 74 of the IC chip 7 and the third wiring layer 33 are formed. These various via conductors 93 are formed at one end of the IC chip 7 and are provided almost directly above the via conductors 93 formed in the second wiring layer 32. The IC chip 7 is placed inside the third insulating layer 43 so that the terminals 71 to 74 are arranged on the side farther from the inductor 8 side (ground side).

図18は、図14に示すIV−IV線に沿って第3配線層33を接地側から平面視したときの配線構造図(IV−IV線断面図)である。第3配線層33には、入力電圧用の配線パターン33Vi、グラウンド用の配線パターン33G、スイッチング用の配線パターン33S、及び出力電圧用の配線パターン33Voが形成される。   18 is a wiring structure diagram (IV-IV line cross-sectional view) when the third wiring layer 33 is viewed from the ground side along the line IV-IV shown in FIG. In the third wiring layer 33, a wiring pattern 33Vi for input voltage, a wiring pattern 33G for ground, a wiring pattern 33S for switching, and a wiring pattern 33Vo for output voltage are formed.

グラウンド用の配線パターン33Gは、第3配線層33下に載置されるICチップ7の載置領域A7よりも外側に形成されたグラウンド層(第1グラウンド層)であって、本実施形態では、入力電圧用の配線パターン33Vi、スイッチング用の配線パターン33S、及び出力電圧用の配線パターン33Voを除く、インダクタ8の載置領域(実装領域)の略全域を覆うように形成される。   The ground wiring pattern 33G is a ground layer (first ground layer) formed outside the placement area A7 of the IC chip 7 placed under the third wiring layer 33. The wiring pattern 33Vi for the input voltage, the wiring pattern 33S for switching, and the wiring pattern 33Vo for the output voltage are formed so as to cover substantially the entire mounting region (mounting region) of the inductor 8.

このように、前述の如く、第2配線層32に形成させたグラウンド層に加え、インダクタ8とICチップ7との間の第3配線層33に、ICチップ7を覆うように広範囲に亘るグラウンド層を形成させることにより、制御回路Cにおけるスイッチング制御の際に発生し易いノイズの発生をも防止することができ、その結果、第2配線層32に形成される様々な信号ラインの相互干渉が防止され得る。また、インダクタ8の表面から発生する漏れ磁束に起因する電磁波ノイズの影響を、大幅に抑制又は遮断することが可能となる。   As described above, in addition to the ground layer formed on the second wiring layer 32, the third wiring layer 33 between the inductor 8 and the IC chip 7 covers a wide range of ground so as to cover the IC chip 7. By forming the layer, it is possible to prevent the occurrence of noise that is likely to occur during switching control in the control circuit C. As a result, the mutual interference of various signal lines formed in the second wiring layer 32 is reduced. Can be prevented. In addition, the influence of electromagnetic noise caused by the leakage magnetic flux generated from the surface of the inductor 8 can be greatly suppressed or blocked.

また、第3配線層33に形成されるグラウンド層は、入力電圧用の配線パターン33Viと出力電圧用の配線パターン33Voとの間に形成されることが望ましい。このように形成することにより、第3配線層33に形成される入力側の信号ラインと出力側の信号ラインとの相互干渉をも防止することができ、制御回路Cの動作のみならず、電源回路全体の動作をより一層安定化させることができる。   The ground layer formed in the third wiring layer 33 is preferably formed between the input voltage wiring pattern 33Vi and the output voltage wiring pattern 33Vo. By forming in this way, mutual interference between the input-side signal line and the output-side signal line formed in the third wiring layer 33 can be prevented, and not only the operation of the control circuit C but also the power The operation of the entire circuit can be further stabilized.

なお、4つの入力電圧用のビア導体93Vi,93Vi,94Vi,94Viを設け、入力電圧用の配線パターン33Viをこれら複数のビア導体と一体に接続することにより、入力側に発生する配線インピーダンスを更に低減させることができる。   In addition, by providing four input voltage via conductors 93Vi, 93Vi, 94Vi, and 94Vi, and connecting the input voltage wiring pattern 33Vi integrally with the plurality of via conductors, the wiring impedance generated on the input side can be further increased. Can be reduced.

図19は、図14に示すV−V線に沿って第4配線層34を接地側から平面視したときの配線構造図(V−V線断面図)である。第4配線層34は、入力電圧用の配線パターン34Vi、グラウンド用の配線パターン34G、スイッチング用の配線パターン34S、及び出力電圧用の配線パターン34Voから構成され、それぞれの配線パターン34Vi,34G,34S,34Vは、入力電圧用のビア導体94Vi、グラウンド用のビア導体94G、スイッチ用のビア導体94S、出力電圧用のビア導体94Voのそれぞれに接続される。   FIG. 19 is a wiring structure diagram (sectional view taken along the line VV) when the fourth wiring layer 34 is viewed from the ground side along the line VV shown in FIG. 14. The fourth wiring layer 34 includes an input voltage wiring pattern 34Vi, a ground wiring pattern 34G, a switching wiring pattern 34S, and an output voltage wiring pattern 34Vo. The wiring patterns 34Vi, 34G, and 34S, respectively. , 34V are connected to the input voltage via conductor 94Vi, the ground via conductor 94G, the switch via conductor 94S, and the output voltage via conductor 94Vo, respectively.

そして、それぞれの配線パターン34Vi,34G,34S,34Vo上に、電極パッド61〜66が設置される。各電極パッド61〜66は、それぞれの配線パターン34Vi,34G,34S,34Voの領域内であって、インダクタ8又はキャパシタC1,C2が載置される領域の端部よりも外側に配置されるように形成されている。そして、電極パッド61,62上にインダクタ8が載置され、電極パッド63,64上に入力側のキャパシタC1が載置され、電極パッド65,66上に出力側のキャパシタC2が載置されることにより、インダクタ8及びキャパシタC1,C2が実装されたDCDCコンバータ1を得ることができる。   And electrode pads 61-66 are installed on each wiring pattern 34Vi, 34G, 34S, and 34Vo. Each of the electrode pads 61 to 66 is disposed in the region of the respective wiring pattern 34Vi, 34G, 34S, 34Vo and outside the end of the region where the inductor 8 or the capacitors C1, C2 are placed. Is formed. The inductor 8 is placed on the electrode pads 61 and 62, the input-side capacitor C1 is placed on the electrode pads 63 and 64, and the output-side capacitor C2 is placed on the electrode pads 65 and 66. Thus, the DCDC converter 1 on which the inductor 8 and the capacitors C1 and C2 are mounted can be obtained.

以上のとおり、本実施形態によれば、電子部品内蔵基板2の面方向において、フィードバック用配線パターン32Fを中心として、入力電圧用の配線パターン32Vi及びスイッチング用の配線パターン32Sのそれぞれを左右に形成し、且つ、フィードバック用の配線パターン32Fが、入力電圧用の配線パターン32Vi及びスイッチング用の配線パターン32Sのそれぞれから遠ざかる方向に延在するように形成されているので、各配線パターン32F,32Vi,32S間に容量結合が生じることを防止でき、或いは、たとえそのような容量結合が生じたとしても、その容量を軽減又は低減することができる。したがって、入力電圧用の配線パターン32Vi及び/又はスイッチング用の配線パターン32Sから容量結合を介してフィードバック用の配線パターン32Fにノイズが侵入又は入射することを有効に抑止することが可能となり、この結果、信頼性つまり純度の高い信号伝送を行うことが可能となる。   As described above, according to the present embodiment, the input voltage wiring pattern 32Vi and the switching wiring pattern 32S are formed on the left and right with the feedback wiring pattern 32F as the center in the surface direction of the electronic component built-in substrate 2. In addition, since the feedback wiring pattern 32F is formed to extend away from the input voltage wiring pattern 32Vi and the switching wiring pattern 32S, the wiring patterns 32F, 32Vi, Capacitive coupling can be prevented from occurring between the 32Ss, or even if such capacitive coupling occurs, the capacity can be reduced or reduced. Therefore, it is possible to effectively prevent noise from entering or entering the feedback wiring pattern 32F via capacitive coupling from the input voltage wiring pattern 32Vi and / or the switching wiring pattern 32S. Therefore, it is possible to perform signal transmission with high reliability, that is, high purity.

また、フィードバック用の配線パターン32Fの周囲にグラウンド用の配線パターン32Gが形成されているので、フィードバック用の配線パターン32Fを通過するフィードバック信号の変動を効果的に防止することができる。このようにノイズ抑止効果が高められ、且つ、フィードバック用の信号ラインの安定化を図ることができるので、電源回路の動作の安定化をより確実に実現することが可能となる。   Further, since the ground wiring pattern 32G is formed around the feedback wiring pattern 32F, it is possible to effectively prevent the fluctuation of the feedback signal passing through the feedback wiring pattern 32F. As described above, the noise suppression effect is enhanced and the feedback signal line can be stabilized, so that the operation of the power supply circuit can be more reliably stabilized.

さらに、インダクタ8とICチップ7との間の第3配線層33に、ICチップ7を覆うように広範囲に亘るグラウンド層が形成されているので、制御回路Cにおけるスイッチング制御の際に発生し易いノイズの発生を有効に防止することができ、その結果、第2配線層32に形成される様々な信号ラインの相互干渉を防止することができる。   Furthermore, since a wide ground layer is formed on the third wiring layer 33 between the inductor 8 and the IC chip 7 so as to cover the IC chip 7, it is likely to occur during switching control in the control circuit C. Generation of noise can be effectively prevented, and as a result, mutual interference of various signal lines formed in the second wiring layer 32 can be prevented.

なお、上述したとおり、本発明は上記の各実施形態に限定されるものではなく、その要旨を変更しない限度において、これまでに適宜述べたとおり、様々な変形が可能である。例えば、本実施形態においては、フィードバック用の配線パターン32Fが形成された層(第2配線層32)と同層に、入力電圧用の配線パターン32Vi,32Vi、及びスイッチング用の配線パターン32Sを形成したが、電子部品内蔵基板2を平面視した状態において、フィードバック用の配線パターン32Fが、入力電圧用の配線パターン32Vi及びスイッチング用の配線パターン32Sのそれぞれから遠ざかる方向に延在するように形成されていれば、フィードバック用の配線パターン32Fが形成された層と同層に、入力電圧用の配線パターン32Vi,32Vi、及びスイッチング用の配線パターン32Sを必ずしも形成させる必要はない。   As described above, the present invention is not limited to each of the above-described embodiments, and various modifications can be made as described above as long as the gist of the present invention is not changed. For example, in this embodiment, the input voltage wiring patterns 32Vi and 32Vi and the switching wiring pattern 32S are formed in the same layer as the layer (second wiring layer 32) where the feedback wiring pattern 32F is formed. However, in a state where the electronic component built-in substrate 2 is viewed in plan, the feedback wiring pattern 32F is formed to extend in a direction away from each of the input voltage wiring pattern 32Vi and the switching wiring pattern 32S. In this case, the input voltage wiring patterns 32Vi and 32Vi and the switching wiring pattern 32S are not necessarily formed in the same layer as the layer where the feedback wiring pattern 32F is formed.

以上説明したとおり、本発明の電子部品内蔵モジュールは、インダクタ等の第2電子部品の近傍に配置されるICチップ等の第1電子部品の安定な動作を確保することができ、誤動作を確実に防止することができるとともに、特にフィードバック用の信号の純度が劣化することを抑止して信頼性に優れる信号伝送を行うことができるので、電子部品を内蔵する機器、装置、システム、各種デバイス等、特に小型化及び高性能化が要求されるもの、並びにそれらの生産、製造等に広く且つ有効に利用することができる。   As described above, the electronic component built-in module according to the present invention can ensure the stable operation of the first electronic component such as an IC chip disposed in the vicinity of the second electronic component such as the inductor, thereby reliably preventing the malfunction. In addition to preventing deterioration of the purity of the feedback signal, in particular, it is possible to perform signal transmission with excellent reliability, so that devices, devices, systems, various devices, etc. with built-in electronic components, In particular, it can be widely and effectively used for those requiring miniaturization and high performance, as well as production and production thereof.

1…DCDCコンバータ(電子部品内蔵モジュール)、2…電子部品内蔵基板、3…コア基板、C…制御回路、S1,S2…スイッチ回路、7…ICチップ(第1電子部品)、A7…ICチップの載置領域(実装領域)、8,L…インダクタ(第2電子部品)、C1,C2…コンデンサ(キャパシタ)、21…電子部品内蔵基板の入力電圧端子、22…電子部品内蔵基板の出力電圧端子、23…電子部品内蔵基板のグラウンド出力端子、31〜34…配線層、32F…フィードバック用の配線パターン(フィードバック用の信号ライン)、32Vi…入力電圧用の配線パターン(駆動用の信号ライン)、32Vo…出力電圧用の配線パターン、32S…スイッチング用の配線パターン(スイッチング用の信号ライン)、32G…グラウンド用の配線パターン(駆動用の信号ライン)、41〜45…絶縁層、61〜66…電極パッド、71…入力電圧端子、72…スイッチ出力端子、73…グラウンド端子、74…フィードバック端子、81…接合部、92〜95…ビア導体、92H〜95H…ビアホール、VIN…入力電圧、VOUT…出力電圧。 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... DCDC converter (electronic component built-in module), 2 ... Electronic component built-in board, 3 ... Core board | substrate, C ... Control circuit, S1, S2 ... Switch circuit, 7 ... IC chip (1st electronic component), A7 ... IC chip Placement area (mounting area), 8, L ... inductor (second electronic component), C1, C2 ... capacitor (capacitor), 21 ... input voltage terminal of electronic component built-in substrate, 22 ... output voltage of electronic component built-in substrate Terminals 23... Ground output terminals of the electronic component built-in substrate, 31 to 34... Wiring layer, 32 F... Feedback wiring pattern (feedback signal line), 32 Vi... Input voltage wiring pattern (drive signal line) , 32Vo ... Output voltage wiring pattern, 32S ... Switching wiring pattern (switching signal line), 32G ... Ground Wiring pattern (signal line for driving), 41 to 45 ... insulating layer, 61 to 66 ... electrode pad, 71 ... input voltage terminal, 72 ... switch output terminal, 73 ... ground terminal, 74 ... feedback terminal, 81 ... junction , 92 to 95: Via conductor, 92H to 95H: Via hole, V IN ... input voltage, V OUT ... output voltage.

Claims (8)

第1電子部品が内蔵された基板と、前記基板上に載置された第2電子部品と、を有する電子部品内蔵モジュールであって、
前記基板には、前記第2電子部品を経由して当該電子部品内蔵モジュールから出力される出力信号を監視するフィードバック用の信号ラインと、前記第2電子部品に接続されるスイッチング用の信号ラインとが設けられており、
前記フィードバック用の信号ライン及び前記スイッチング用の信号ラインは、それぞれ、前記基板の面方向において、互いに遠ざかる方向に延在する部位を有する、
電子部品内蔵モジュール。
An electronic component built-in module comprising: a substrate in which a first electronic component is embedded; and a second electronic component placed on the substrate,
The board includes a feedback signal line for monitoring an output signal output from the electronic component built-in module via the second electronic component, and a switching signal line connected to the second electronic component. Is provided,
The feedback signal line and the switching signal line each have a portion extending in a direction away from each other in the surface direction of the substrate.
Electronic component built-in module.
前記基板には、当該電子部品内蔵モジュールに入力される入力電圧用の信号ラインが設けられており、
前記フィードバック用の信号ライン及び前記入力電圧用の信号ラインは、前記基板の面方向において、互いに遠ざかる方向に延在する部位を有する、
請求項1記載の電子部品内蔵モジュール。
The board is provided with a signal line for input voltage input to the electronic component built-in module,
The feedback signal line and the input voltage signal line have portions extending in directions away from each other in the surface direction of the substrate.
The electronic component built-in module according to claim 1.
前記基板には、前記フィードバック用の信号ラインと前記第2電子部品との間に、所定の接地電位に接続された第1グラウンド層が設けられている、
請求項1又は2記載の電子部品内蔵モジュール。
The substrate is provided with a first ground layer connected to a predetermined ground potential between the feedback signal line and the second electronic component.
The electronic component built-in module according to claim 1 or 2.
前記第1グラウンド層は、前記基板の面方向において、前記第1電子部品の実装領域を覆い、且つ、前記第1電子部品の実装領域よりも大きい面積を有するように形成される、
請求項3記載の電子部品内蔵モジュール。
The first ground layer is formed so as to cover a mounting region of the first electronic component and have an area larger than the mounting region of the first electronic component in the surface direction of the substrate.
The electronic component built-in module according to claim 3.
前記基板には、前記スイッチング用の信号ラインに近接して、所定の接地電位に接続された第2グラウンド層が設けられている、
請求項1から4のいずれか1項記載の電子部品内蔵モジュール。
The substrate is provided with a second ground layer connected to a predetermined ground potential in the vicinity of the switching signal line.
The electronic component built-in module according to any one of claims 1 to 4.
前記第2グラウンド層は、前記スイッチング用の信号ラインが形成された層と同層に設けられている、
請求項5記載の電子部品内蔵モジュール。
The second ground layer is provided in the same layer as the layer in which the switching signal line is formed.
The electronic component built-in module according to claim 5.
前記フィードバック用の信号ラインは、前記スイッチング用の信号ライン及び前記入力電圧用の信号ラインの少なくともいずれか一方を、前記基板の面方向において、横断するように延在する部位を含む、
請求項1から6のいずれか1項記載の電子部品内蔵モジュール。
The feedback signal line includes a portion extending to cross at least one of the switching signal line and the input voltage signal line in the plane direction of the substrate.
The electronic component built-in module according to claim 1.
前記第1電子部品は、該第1電子部品の出力端子が、前記第2電子部品とは反対側を向くように配置される、
請求項1から7のいずれか1項記載の電子部品内蔵モジュール。
The first electronic component is disposed such that an output terminal of the first electronic component faces away from the second electronic component.
The electronic component built-in module according to claim 1.
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