JP4968112B2

JP4968112B2 - 育苗方法及び育苗施設

Info

Publication number: JP4968112B2
Application number: JP2008050203A
Authority: JP
Inventors: 四郎後藤; 博一牟田; 省三矢野; 康志武田; 和弘吉田
Original assignee: Iseki and Co Ltd
Current assignee: Iseki and Co Ltd
Priority date: 2008-02-29
Filing date: 2008-02-29
Publication date: 2012-07-04
Anticipated expiration: 2028-02-29
Also published as: JP2009201485A

Description

本発明は、育苗方法及び育苗施設に関する。

接ぎ木育苗装置において、接ぎ木された苗を養生するための養生ミニハウス内に接ぎ木苗を植えたトレイ用ベンチを設け、このベンチの下方に貯水槽を設け、この貯水槽内に設けられた一対の高圧空気配管の多数の空気噴出口から互いに対向する方向に空気を噴出し、対向する方向に噴出する空気が衝突して、細かい気泡を発生させ水蒸気を発散させるものは、公知である。
特開平８−２４２７０２号公報

この発明は、既存の育苗室を利用して、簡単な構成で苗の成育状態に応じて加湿、加温をし、苗の養生を低コストで実現できる育苗方法及び育苗施設を提供しようとするものである。

請求項１の発明は、育苗室（１）内の架台（３）上に複数の苗を植えた育苗ベンチ（２，…）を載置し、前記育苗ベンチ（２，…）の上方を単位毎に第一の被覆材（４，…）で被覆し、前記第一の被覆材（４，…）の上方から複数単位をまとめて第二の被覆材（６，…）により、該第二の被覆材（６，…）の下端が前記育苗ベンチ（２，…）より下位になるように覆い、前記育苗ベンチ（２，…）の下方で且つ第二の被覆材（６，…）の下端より上側で温湯を噴霧し、育苗過程における適期に前記第二の被覆材（６，…）の被覆を解除し、その後に第一の被覆材（４，…）を解除すると共に、温湯の噴霧を停止することを特徴とする育苗方法とする。

請求項２の発明は、育苗室（１）内の架台（３）上に載置する複数の育苗ベンチ（２，…）と、前記育苗ベンチ（２，…）の上方を単位毎に被覆する第一の被覆材（４，…）と、前記第一の被覆材（４，…）の上方から複数単位をまとめて被覆し、且つ、その下端が前記育苗ベンチ（２，…）より下位になるような第二の被覆材（６，…）と、前記育苗ベンチ（２，…）の下方で且つ第二の被覆材（６，…）の下端より上側で温湯を噴霧する細霧管（８，…）と、からなる育苗施設とする。

前記構成によると、請求項１及び請求項２の発明は、育苗室（１）内の架台（３）上に複数の育苗ベンチ（２，…）を載置し、育苗ベンチ（２，…）の上方を単位毎に第一の被覆材（４，…）で被覆し、第一の被覆材（４，…）の上方から複数単位をまとめて第二の被覆材（６，…）で育苗ベンチ（２，…）の下位まで覆い、育苗ベンチ（２，…）の下方で且つ第二の被覆材（６，…）の下端より上側で細霧管（８，…）から温湯を噴霧しながら苗を養生育苗する。そして、育苗過程における適期に、まず第二の被覆材（６，…）の被覆を解除し、その後に第一の被覆材（４，…）を解除すると共に、細霧管（８，…）の温湯の噴霧を停止しながら苗を養生育成する。

請求項１の発明及び請求項２の発明は、既存の育苗施設を有効に活用しながら、簡単な構成で苗の成育状態に応じて加湿状態を保持しながら第一の被覆材（４，…）及び第二の被覆材（６，…）の被覆、解除状態を変更することにより、加温状態を変更することができ、苗の養生を低コストで容易に実現することができる。また、育苗過程において、まず、第二の被覆材（６，…）の被覆を解除し、次いで、第一の被覆材（４，…）の被覆を解除すると共に、温湯噴霧を停止することにより、育苗状態に合わせて加湿状態及び加温状態を調節することができ、圃場栽培に適応した良質の苗を得ることができる。

以下、本発明の実施形態について説明する。図１には育苗室の側面図が図示されている。
育苗室１内には前後方向に長い複数の架台３，…を設け、この架台３，…の網状載置面３ａ，…には、通気性底面の形成されている複数の育苗ベンチ２，…を前後方向に並べて載置し、各育苗ベンチ２，…の上方をベンチカバー４，…でそれぞれ被覆可能に構成している。また、架台３，…上の育苗ベンチ２，…を被覆している複数のベンチカバー４，…の上方を、トンネル状の養生カバー６，…でまとめて被覆可能に構成している。そして、この養生カバー６，…の下端縁部を育苗ベンチ２，…の下方の例えば地面まで延長している。

また、育苗ベンチ２，…の下方には、長手方向に沿って温水供給用の温水メイン管７を配設し、温水メイン管７からステンレス製の例えば１．５メートル毎に噴霧ノズルを設けている細霧管８，…を延出し、育苗ベンチ２，…の下方に温水を噴霧できるように構成している。この細霧管８，…を育苗ベンチ２，…の下方で且つ養生カバー６，…の下端よりも上方に位置するように配設し、細霧管８，…を横方向の前後左右に噴霧する縦噴霧管８ａ，…と、下向きに噴霧する前後方向の横噴霧管８ｂ，…により構成している。

しかして、架台３，…に載置された苗９，…の育苗過程において、育苗室１に暖房しながら、最初はベンチカバー４，…、トンネル状の養生カバー６，…を共に被覆状態として、温水噴霧しながら苗９，…を養生育苗する。次いで、ベンチカバー４，…を取り除いて、トンネル状の養生カバー６，…のみの被覆状態として、温水噴霧しながら苗９，…を養生育苗する。次いで、トンネル状の養生カバー６，…を半開き被覆状態として、温水噴霧しながら育苗し、次いで、トンネル状の半開き被覆状態の養生カバー６，…を取り除き苗を開放状態とし、温水噴霧しながら育苗する。

前記構成によると、簡単な構成で苗の成育状態に応じて加湿状態を保持しながら架台カバー４及び養生カバー６の被覆状態を変更することにより、加温状態を変更することができ、苗の養生を低コストで容易に実現することができる。また、苗９，…の育苗過程において、まず養生カバー６，…の被覆を解除し、次いで、ベンチカバー４，…の被覆を解除し、温湯噴霧を停止することにより、育苗状態に合わせて加湿状態及び加温状態を調節することができ、圃場栽培に適応した良質の苗を得ることができる。

次に、図２に基づき育苗施設に養生エリアを並設した実施形態について説明する。
育苗室１１の一部に養生エリア１２を設けている。この養生エリア１２には、網状載置面３ａ，…を備えた架台３、架台３の網状載置面３ａに載置する通気底面を備えた育苗ベンチ２、ベンチカバー４，…、トンネル状の養生カバー６，…、温水主管７、及び、細霧管８を配設し、前記実施形態と同様に苗９の養生ができるように構成している。また、育苗室１１の育苗エリア１１ａには、搬送装置（図示省略）を備えた架台３，…を設け、養生エリア１２の架台３にも同様に搬送装置（図示省略）を設けている。

しかして、養生エリア１２で養生しながら育苗した育苗ベンチ２，…上の苗９，…を、養生エリア１２の架台３，…から搬送装置（図示省略）を利用して育苗エリア１１ａの架台３，…に移送し、育苗エリア１１ａの架台３，…上を順次下手側に移送しながら、ベンチカバー４及びトンネル状の養生カバー６の被覆状態を順次変更し、細霧管８から温水噴霧をしながら順化育成することができる。

前記構成によると、養生エリア１２及び育苗エリア１１ａの架台３，…上を育苗ベンチ２，…の苗を順次移送することにより養生、順化、育成し、効率的で良質な苗９を生産することができる。

次に、図３に基づき育苗用苗種子の温湯殺菌装置について説明する。
温湯殺菌装置は、上手側には温湯槽２１を、下手側に冷却槽２２を設け、冷却槽２２の下方にリターンタンク２３を設け、冷却槽２２から溢れた冷水を還元樋２３ａを経由してリターンタンク２３に還流し、再利用するように構成している。また、温湯槽２１と冷却槽２２の側方にはチエンブロックなどからなる移動装置２６を設け、種子容器（図示省略）を持ち上げながら温湯槽２１に投入したり、冷却槽２２に移し変えるように構成している。また、図３（Ｂ）に示すように、温湯槽２１の温湯の水面よりも冷却槽２２の冷水水面２２ａを高くしている。

前記構成によると、温湯殺菌装置をコンパクトで効率の良いものにし、種子容器を温湯槽２１から冷却槽２２に移し変える際に、水しぶきを小さくすることができる。
また、温湯殺菌装置を次のように構成してもよい。上手側に温湯槽２１を、下手側に冷却槽２２を配設し、温湯槽２１の上手側にリターンタンク２３を設けている。また、温湯槽２１の後側壁に沿って返り水受樋２４を設けて、リターンタンク２３に還流するように構成し、種子容器を温湯槽２１から冷却槽２２に移す際に溢れた温水を返り水受樋２４で受けてリターンタンク２３に返すことができる。また、冷却槽２２の底面２２ｂを後下がり傾斜状に構成し、種子容器２５の下手側への移動を容易にしている。前記構成によると、温湯槽２１から溢れた温湯を再利用することができる。

次に、温湯殺菌装置の他の実施形態について説明する。上手側に温湯槽２１を、下手側に冷却槽２２を配設し、温湯槽２１の温湯の水面２１ａよりも冷却槽２２の冷水水面２２ａを高くしている。そして、温湯槽２１及び冷却槽２２の底部には気泡噴出管２７，…を配設し、空気供給管２８から気泡噴出管２７に空気を送り込み、温湯及び冷却水内に気泡を噴出し、温湯及び冷却水の種子容器２５への浸入を促進している。そして、下手側の始端側空気供給管２８ａを冷却槽２２ａの上方を通して始端側に延出し、冷却槽２２の気泡噴出管２７，…の上側端部を始端側空気供給管２８ａに接続している。

また、始端側空気供給管２８ａの前側端部に接続した中間空気供給管２８ｂを、温湯槽２１と冷却槽２２の間を通して下方に延出し、この中間空気供給管２８ｂの終端側に終端側空気供給管２８ｃを接続し、温湯槽２１の後側壁を貫通して温湯槽２１内に延出し、終端側空気供給管２８ｃに温湯槽２１の気泡噴出管２７，…を接続している。

前記構成によると、空気供給管２８に結露した水が伝わって温湯槽２１に流れ込むのを防止し、温湯槽２１内の温湯の温度低下を防止することができる。
また、温湯槽２１の底面２１ｂを、図６に示すように、種子容器２５の投入される上手側を深く、下手側ほど低くなる上り傾斜に構成すると、種子投入時の温湯の温度低下を抑制し、殺菌効果を高めることができる。

また、図７（Ａ）に示すように構成してもよい。温湯槽２１及び冷却槽２２内には、種子容器２５の案内支持機能と空気噴出機能とを兼ねた案内兼空気噴出装置３１を配設する。この案内兼空気噴出装置３１は、空気の圧送される空気供給管３１ａと、空気を噴出する気泡噴出管３１ｂにより構成している。そして、空気供給管３１ａは、起立した前側案内部３１ｄと、種子容器載置用の中間載置部３１ｅと、起立した後側案内部３１ｆにより構成し、中間載置部３１ｅに気泡噴出管３１ｂ，…を取り付けている。

前記構成によると、案内兼空気噴出装置３１は種子容器２５の案内支持機能、及び、気泡噴出機能を兼ねたものとなり、コストの低減を図ることができる。
また、図７（Ｂ）に示すように、空気供給管３１ａを、前側部の後下がり傾斜の前側案内部３１ｄと、種子容器載置用の中間載置部３１ｅと、後側部の後上り傾斜の後側案内部３１ｆにより構成すると、種子容器２５の投入及び取出を楽に行なうことができる。

次に、図８に基づき他の実施形態について説明する。
前記案内兼気泡噴出装置３１に合わせた殺菌兼案内篭３２を設けている。この殺菌兼案内篭３２は、前側平面案内部３２ａと、中間載置部３２ｂと、後側平面案内部３２ｃにより構成している。このように構成した殺菌兼案内篭３２を移動装置２６により温湯槽２１及び冷却槽２２に出し入れし、案内兼気泡噴出装置３１に嵌合載置すると、種子容器２５の種子に均等に温湯あるいは冷水の気泡を噴出し、効率的に殺菌冷却することができる。

また、図９に示すように、殺菌兼案内篭３２を、前側平面案内部３２ａ及び後側平面案内部３２ｃを省略し、中間載置部３２ｂだけで構成してもよい。
次に、図１０〜図１３により栽培施設の他の実施形態について説明する。

育苗室１１内には前後方向に複数の架台３，…を並設している。架台３，…では９月から翌年６月にかけてイチゴを栽培し、７月から８月にかけてトマトを栽培する。イチゴを栽培する場合には、図１０に示すように、前後方向の架台３，…上に栽培樋４１，…を前後方向に沿わせてそれぞれ載置し、栽培樋４１，…に床土を詰めイチゴを栽培する。

また、トマトを栽培する場合には、図１１乃至図１３に示すように、左右一対の架台３，…上の栽培樋４１，…に波板４３，…を載置する。そして、その波板４３，…上にトマト苗を植えているフラワトレイ４４，…を７〜８個千鳥足状に載置し栽培する。

また、左右の架台３，３上の栽培樋４１，４１に載置している波板４３に、左右方向にに勾配をつけることで、波板４３に排液が溜まるのを防止し排水性が良くなり、トマトの根腐れを防止することができる。

また、左右の架台３，３の栽培樋４１，４１上に載置している波板４３の左右両端を、栽培樋４１，４１の左右方向中心までの長さとすると、波板４３に落下した排液を栽培樋４１，４１に確実に回収し、地面に落ちるのを防止することができる。

次に、図１４、図１５及び表１に基づき養液栽培装置について説明する。
この養液栽培装置は高い糖度のトマトを生産するためのもので、トマトの成育過程において、糖度測定装置５１を利用して糖度を糖度を測定し、測定糖度と目標糖度に応じて給液制御装置５２の供液量を調節し、高い糖度のトマトを生産するようにしたものである。

糖度測定装置５１は、物質に吸収されやすい近赤外線を含む光を発生する光源５１ａ、光干渉型プローブ（図示省略）及び分光分析器（図示省略）により果実の成育途中の内成分情報をパソコン５３に入力し、パソコン５３の予め作成している演算モデルに基づいて前記内成分情報から果実の成熟時の内成分情報を予測するように構成している。

また、給液制御装置５２はパソコン５３、記憶装置（図示省略）、給液信号出力装置（図示省略）、画像入力装置（図示省略）を有し、デジタルカメラなどの撮影装置５５で撮影したトマト５６の葉部のしおれ撮影情報をパソコン５３に入力する。しかして、糖度測定装置５１の予測糖度情報と撮影装置５５のしおれ撮影情報から所定の演算式により、収穫時に基準糖度にするための供液量を算出し、パソコン５３から供液指令がＡ／Ｄ変換器を経由して供液装置５４に送られ、養液がトマト６の栽培樋４１に供給されるように構成している。

前記構成によると、例えば、トマトの目標糖度を８％ｂｒｉｘ、トマトの葉部のしおれ基準度を８０％、収穫時期を１１月末とし、糖度制御期間を例えば１１月の第１週から第３週とし、第４週目に収穫しようとして、例えば、表１に示すように次のような制御がなされるものである。

（表１）トマトの成育状態における目標糖度、測定糖度、しおれ基準度、しおれ変更量、測定しおれ量を示した表
第１週末の第１回目の測定糖度が７．５％ｂｒｉｘ、測定しおれ度が「−５％の７５％」である。すると、基準糖度８％ｂｒｉｘにするために、予め定めた後述の計算式（１）により、第２週のしおれ設定量が「＋８％の８３％」と算出実行され、供液量を減少調節し、しおれ度を下げる制御がなされる。

また、第２週末の測定糖度が「８．６％」、しおれ度が「＋８％の８３％」であると、予め定めた後述の計算式（２）により、第３週目のしおれ設定量が「−５％の７８％」と算出され、測定糖度が上り過ぎであるので、供液量を増加調節し、しおれ度を上げる制御がなされる。

また、第３週末の測定糖度が「７．８％」、撮影しおれ度が「７８％」で、目標糖度にほぼ近づいていると、前記第３週目の設定しおり度に基づく供液量を維持する制御がなされ、第４週末にトマトの収穫がなされる。

なお、前記計算式は、図１５に示すように、基準糖度８％に対して測定糖度が０．２％以上低い場合には、計算式（１）の「ｙ＝Ａｘ−Ｂ」を用いて設定しおれ度を計算する。また、基準糖度８％に対して測定糖度が０．２％以上高い場合には、計算式（２）「ｙ＝ｃｘ＋Ｄ」を用いて設定しおれ度を計算する。また、基準糖度８％に対して測定糖度が「−０．２〜＋０．２％」の接近した場合には、次週の設定しおれ度の算出を中止し、前回の設定しおれ度に基づく供液を継続するように構成している。

前記構成によると、設定しおれ度の高低の変化を少なくしながら、高い糖度のトマトを効率的に生産することができる。

養生棟の側面図育苗室の平面図温湯殺菌装置の側面図温湯殺菌装置の側面図温湯殺菌装置の側面図温湯殺菌装置の側面図温湯殺菌装置の斜視図温湯殺菌装置の斜視図温湯殺菌装置の斜視図育苗室の正面図育苗室の正面図栽培装置の平面図、正面図栽培装置の平面図、正面図糖度測定装置及び供液制御装置のブロック図基準糖度、測定糖度及び設定しおれ度との関係を示すグラフ

符号の説明

１育苗室
３架台
２育苗ベンチ
４第一の被覆材（ベンチカバー）
６第二の被覆材（養生カバー）
８細霧管

Claims

育苗室（１）内の架台（３）上に複数の苗を植えた育苗ベンチ（２，…）を載置し、前記育苗ベンチ（２，…）の上方を単位毎に第一の被覆材（４，…）で被覆し、前記第一の被覆材（４，…）の上方から複数単位をまとめて第二の被覆材（６，…）により、該第二の被覆材（６，…）の下端が前記育苗ベンチ（２，…）より下位になるように覆い、前記育苗ベンチ（２，…）の下方で且つ第二の被覆材（６，…）の下端より上側で温湯を噴霧し、育苗過程における適期に前記第二の被覆材（６，…）の被覆を解除し、その後に第一の被覆材（４，…）を解除すると共に、温湯の噴霧を停止することを特徴とする育苗方法。
育苗室（１）内の架台（３）上に載置する複数の育苗ベンチ（２，…）と、前記育苗ベンチ（２，…）の上方を単位毎に被覆する第一の被覆材（４，…）と、前記第一の被覆材（４，…）の上方から複数単位をまとめて被覆し、且つ、その下端が前記育苗ベンチ（２，…）より下位になるような第二の被覆材（６，…）と、前記育苗ベンチ（２，…）の下方で且つ第二の被覆材（６，…）の下端より上側で温湯を噴霧する細霧管（８，…）と、からなる育苗施設。