JP4931133B2 - 研磨パッド - Google Patents
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Description
1)イソシアネート末端プレポリマーの気泡分散液を作製する発泡工程
イソシアネート末端プレポリマーにシリコン系界面活性剤を添加し、非反応性気体の存在下で撹拌し、非反応性気体を微細気泡として分散させて気泡分散液とする。前記プレポリマーが常温で固体の場合には適宜の温度に予熱し、溶融して使用する。
2)硬化剤(鎖延長剤)混合工程
上記の気泡分散液に鎖延長剤を添加、混合、撹拌して発泡反応液とする。
3)注型工程
上記の発泡反応液をモールドに流し込む。
4)硬化工程
モールドに流し込まれた発泡反応液を加熱し、反応硬化させる。
JIS B0601−1994に準拠して、光透過領域の粗面化処理面及び未処理面の算術平均粗さを測定した。
粗面化処理前の光透過領域を10mm×50mm(厚み:1.25mm)の大きさに切り出して光透過率測定用試料とした。該試料を超純水が充填されたガラスセル(光路長10mm×光路幅10mm×高さ45mm、相互理化学硝子製作所製)に入れ、分光光度計(島津製作所製、UV−1600PC)を用いて、測定波長600nmで測定した。得られた光透過率の測定結果をLambert−Beerの法則を用いて、厚み1mmの光透過率に換算した。また、粗面化処理後の光透過領域を用いて前記と同様の方法で光透過率を測定した。
使用前の光透過領域の波長600nmでの光透過率をA、ウエハ(8インチのシリコンウエハに熱酸化膜を1μm製膜したもの)を1枚につき1分研磨し、これを繰り返して500枚研磨した後の光透過領域の波長600nmでの光透過率をBとし、下記式にて変化率を算出した。変化率は30%以下であることが好ましい。なお、光透過率は前記と同様の方法で測定した。また、研磨装置としてはSPP600S(岡本工作機械社製)を用いた。研磨条件としては、スラリーとして、シリカスラリー(SS12 キャボット社製)を研磨中に流量150ml/min添加した。研磨荷重は350g/cm2、研磨定盤回転数は35rpm、ウエハ回転数は30rpmとした。
変化率(%)=〔(A−B)/A〕×100
〔光透過領域の作製〕
熱可塑性ポリウレタン(日本ポリウレタン社製、ミラクトランE567)を用い、片面に#100のサンドブラスト処理を施した金型を用いてインジェクション成形にて光透過領域(縦56.5mm、横19.5mm、厚さ1.25mm)を作製した。
反応容器内に、ポリエーテル系プレポリマー(ユニロイヤル社製、アジプレンL−325、NCO濃度:2.22meq/g)100重量部、及びシリコン系界面活性剤(東レダウコーニングシリコーン社製、SH−192)3重量部を混合し、温度を80℃に調整した。撹拌翼を用いて、回転数900rpmで反応系内に気泡を取り込むように約4分間激しく撹拌を行った。そこへ予め120℃で溶融した4,4’−メチレンビス(o−クロロアニリン)(イハラケミカル社製、イハラキュアミンMT)26重量部を添加した。その後、約1分間撹拌を続けてパン型のオープンモールドへ反応溶液を流し込んだ。この反応溶液の流動性がなくなった時点でオーブン内に入れ、110℃で6時間ポストキュアを行い、ポリウレタン発泡体ブロックを得た。このポリウレタン発泡体ブロックをバンドソータイプのスライサー(フェッケン社製)を用いてスライスし、ポリウレタン発泡体シートを得た。次にこのシートをバフ機(アミテック社製)を使用して、所定の厚さに表面バフをし、厚み精度を整えたシートとした(シート厚み:1.27mm)。このバフ処理をしたシートを所定の直径(61cm)に打ち抜き、溝加工機(東邦鋼機社製)を用いて表面に溝幅0.25mm、溝ピッチ1.50mm、溝深さ0.40mmの同心円状の溝加工を行った。このシートの溝加工面と反対側の面にラミ機を使用して、両面テープ(積水化学工業社製、ダブルタックテープ)を貼り、その後、この溝加工したシートの所定位置に光透過領域をはめ込むための開口部A(57mm×20mm)を打ち抜いて両面テープ付き研磨領域を作製した。
表面をバフがけし、コロナ処理したポリエチレンフォーム(東レ社製、トーレペフ、厚さ:0.8mm)からなるクッション層を、作製した両面テープ付き研磨領域の粘着面にラミ機を用いて貼り合わせた。次に、クッション層表面に両面テープを貼り合わせた。そして、光透過領域をはめ込むために打ち抜いた穴部分のうち、51mm×14mmの大きさでクッション層を打ち抜き、開口部Bを形成した。そして、作製した光透過領域を粗面化処理面が上面(研磨面側)になるように開口部A内にはめ込んで研磨パッドを作製した。
光透過領域の作製において、片面に#100のサンドブラスト処理を施した金型の代わりに、片面に#220のサンドブラスト処理を施した金型を用いた以外は実施例1と同様の方法で光透過領域を作製した。該光透過領域を用いた以外は実施例1と同様の方法で研磨パッドを作製した。
熱可塑性ポリウレタン(日本ポリウレタン社製、ミラクトランE567)を用い、金型を用いてインジェクション成形にて光透過領域(縦56.5mm、横19.5mm、厚さ1.25mm)を作製した。その後、#400のサンドペーパーを備えたベルトサンダーを用いて光透過領域の片面をバフ掛けした。該光透過領域を用いた以外は実施例1と同様の方法で研磨パッドを作製した。
熱可塑性ポリウレタン(日本ポリウレタン社製、ミラクトランE567)を用い、金型を用いてインジェクション成形にて光透過領域(縦56.5mm、横19.5mm、厚さ1.25mm)を作製した。該光透過領域を用いた以外は実施例1と同様の方法で研磨パッドを作製した。
ポリエーテル系プレポリマー(ユニロイヤル社製、アジプレンL−325)と、4,4’−メチレンビス(o−クロロアニリン)(イハラケミカル社製、イハラキュアミンMT)とをNCO INDEX1.10にて混合し、約1分間撹拌した。そして、パン型のオープンモールドへ反応溶液を流し込んだ。この反応溶液の流動性がなくなった時点でオーブン内に入れ、110℃で6時間ポストキュアを行い、ポリウレタン樹脂ブロックを得た。このポリウレタン樹脂ブロックをバンドソータイプのスライサー(フェッケン社製)を用いてスライスし、ポリウレタン樹脂シート(厚さ1.25mm)を得た。次にこのシートを縦56.5mm、横19.5mmの大きさに打ち抜いて光透過領域を作製した。該光透過領域を用いた以外は実施例1と同様の方法で研磨パッドを作製した。
熱可塑性ポリウレタン(日本ポリウレタン社製、ミラクトランE567)を用い、片面にシボ加工処理(アヤマダイ社、タイプAHO−1012処理)を施した金型を用いてインジェクション成形にて光透過領域(縦56.5mm、横19.5mm、厚さ1.25mm)を作製した。該光透過領域を用いた以外は実施例1と同様の方法で研磨パッドを作製した。
熱可塑性ポリウレタン(日本ポリウレタン社製、ミラクトランE567)を用い、両面に#220のサンドブラスト処理を施した金型を用いてインジェクション成形にて光透過領域(縦56.5mm、横19.5mm、厚さ1.25mm)を作製した。該光透過領域を用いた以外は実施例1と同様の方法で研磨パッドを作製した。
2:研磨定盤
3:研磨剤(スラリー)
4:被研磨体(ウエハ)
5:支持台(ポリシングヘッド)
6、7:回転軸
8:光透過領域
9:研磨領域
10、12:両面テープ
11:クッション層
13:離型紙(フィルム)
14:開口部を塞ぐ部材
15:レーザー干渉計
16:レーザービーム
Claims (3)
- 研磨領域及び前記研磨領域とは異なる光透過領域を含む研磨層を有する研磨パッドにおいて、前記光透過領域の研磨面側の表面は粗面化処理されており、かつ前記光透過領域は、使用前の波長600nmでの光透過率が40〜60%であることを特徴とする研磨パッド。
- 前記光透過領域の研磨面側の表面は、算術平均粗さ(Ra)が1〜2.2μmである請求項1記載の研磨パッド。
- 請求項1又は2に記載の研磨パッドを用いて半導体ウエハの表面を研磨する工程を含む半導体デバイスの製造方法。
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