JP4926109B2 - ドープ切換方法及び装置 - Google Patents

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Description

本発明は、ドープ切換方法及び装置に関する。
ポリマ、例えば、セルローストリアセテート(以下、「TAC」と称する)を原料とした溶液製膜方法により製造されるTACフィルムは、液晶方式やユーザにより必要な光学特性が異なる。従って、様々な要求性能に応じた多品種の光学フィルムを生産する必要がある。
光学フィルムの品種を変更するには、ポリマ原料や添加剤、溶媒を変更することを伴う。従って、多品種の光学フィルムを製造する目的で、フィルムの原料となるポリマ溶液(以下、「ドープ」と称する。)の処方を変更することがある(例えば、特許文献1参照)。
特開2005−104148号公報
溶液製膜ラインでは、ドープの調製、濾過、貯蔵、送液の各設備は大規模である。また、溶液製膜方法で用いられるドープは一般に高粘度である。したがって、ドープの処方を変更する際に、既にある変更前のドープ(以下、「旧ドープ」と称する)が各設備の壁面に付着し残留しているため、これを何らかの手段で取り除く必要がある。しかし、一般的な洗浄を行うには、設備が広範囲にわたっていること、各設備が大規模であることから、困難である。
このため、新たなドープを通液することにより、旧ドープを新ドープに置換する押し出し置換を行っている。しかし、この押し出し置換は、タンク内での完全混合や配管内層流によって、設備のドープ保有量の3〜5倍の液量が必要となる。この押し出し置換中のドープは新旧のドープが混合した状態であるため、製膜しても製品として用いることはできない。また、添加剤も新旧ドープのものが混在した状態となっているため、チップ化してドープ原料として再利用することは、添加剤の量を特定することが困難であるため、不可能であり、原料が無駄になるという問題がある。したがって、コスト的に問題が生じ、フィルム製造設備における溶液製膜の多品種化の大きな制約になっている。
本発明は、上記課題を解決するためになされたものであり、旧ドープを置換するために送液する新ドープの量を低減することができるドープ切換方法及び装置を提供することを目的とする。
本発明のドープ切換方法は、ポリマ及び溶媒からなるドープをドープ供給配管により流延ダイに送り、前記流延ダイからエンドレスに走行する支持体上に前記ドープを流延して流延膜を形成し、前記流延膜が自己支持性を有した後に前記支持体から剥ぎ取り、乾燥させてフィルムとする溶液製膜設備における前記ドープ供給配管に対して、前記ドープの処方変更により旧ドープから新ドープに切り換えるドープ切換方法において、前記ドープ供給配管への供給ドープを旧ドープから新ドープに切り換えるドープ切換工程と、前記ドープ供給配管の上流側で、前記新ドープよりも低粘度の副ドープを前記ドープ供給配管の内壁面に沿って供給し、前記ドープ供給配管の中心部に新ドープによる主液流を形成すると共に、この主液流の周りで前記ドープ供給配管の内壁面に沿って前記副ドープによる副液流を形成する副液流形成工程とを有することを特徴とする。
所定時間の経過後に前記副液形成工程を停止する工程とを有することが好ましい。前記主液流の直径をd1[m]とし、前記副液流の径方向の厚みをd2[m]とするときに、(d1/d2)が2以上100以下であることが好ましい。前記新ドープの粘度をμ1[Pa・s]、前記副ドープの粘度をμ2[Pa・s]とするときに、(μ2/μ1)が0.001以上0.9以下であることが好ましい。
前記ドープ供給配管の径方向中心部における前記主液流の温度に対して、前記ドープ供給配管の内壁面温度を0.5[℃]以上35[℃]以下の範囲で高くすることが好ましい。
本発明のドープ切換装置は、ポリマ及び溶媒からなるドープをドープ供給配管により流延ダイに送り、前記流延ダイからエンドレスに走行する支持体上に前記ドープを流延して流延膜を形成し、前記流延膜が自己支持性を有した後に前記支持体から剥ぎ取り、乾燥させてフィルムとする溶液製膜設備における前記ドープ供給配管に対して、ドープの処方変更により旧ドープから新ドープに切り換えるドープ切換装置において、前記ドープ供給配管の上流側で、前記新ドープよりも低粘度の副ドープを前記ドープ供給配管の内壁面に沿って供給するための供給口を有する副ドープ供給ヘッドと、前記副ドープ供給ヘッドに前記新ドープを希釈した希釈ドープを供給する副ドープ供給部とを備えることを特徴とする。
前記副ドープ供給ヘッドは、前記内壁面の周方向の全周にわたって形成される環状供給口を備えることが好ましい。
本発明のドープ切換方法及び装置によれば、溶液製造設備の配管に既にある旧ドープを新ドープで置換する際に、新ドープの粘度より小さい粘度を有する副ドープが配管の内壁に接するように流れるため、新ドープによる配管内壁に付着する旧ドープの置換を効率的に行うことができる。従って、旧ドープを置換するために送液する新ドープの量を低減することができる。
図1に示すように、本発明を実施する溶液製膜設備10は、原料ドープ調製ユニット11と、製膜ユニット12とを備える。
原料ドープ調製ユニット11は、計量器14、溶媒タンク15、添加剤タンク16、溶解タンク17、貯蔵タンク18、貯留タンク44及び濾過ユニット45を備える。計量器14にはポリマ20が入れられており、このポリマ20は計量されて溶解タンク17に投入される。溶媒タンク15には溶媒21が貯留されており、開閉バルブ23を制御することにより溶解タンク17への投入量が調整される。また、添加剤タンク16には添加剤22が貯留されており、開閉バルブ24を制御することにより溶解タンク17への投入量が調整される。
本発明に係るポリマ20は特に限定されず、溶液製膜方法に適用可能であれば良い。この中で、セルロースアシレートを使用すれば、透明度が高く、光学特性に優れたフィルムを得ることができるので、偏光板用の保護フィルムや光学補償フィルム等の光学用途として好適である。中でも、セルロースアセテートを使用し、特にアセチル化度の平均値が57.5%〜62.5%のセルローストリアセテートを使用すれば、光学特性に優れたフィルムを得ることができる。上記のアセチル化度とは、セルロース単位重量当りの結合酢酸量を意味し、ASTM:D−817−91(セルロースアセテート等の試験方法)におけるアセチル化度の測定および計算に従って求めることができる。本実施形態では、粒状のセルローストリアセテートを使用する。なお、粒状のポリマを使用する場合には、溶媒との相溶性の観点から、その90重量%以上が0.1〜4mmの粒径であることが好ましく、より好ましくは粒径が1〜4mmである。
溶媒21は、ハロゲン化炭化水素、エステル類、ケトン類、エーテル類、アルコール類等が好適であるが特に限定されず、使用するポリマとの溶解性等を考慮して適宜選択すれば良い。溶媒21は1種類の化合物であっても良いし、複数の化合物を混合した混合溶媒でも良い。具体的には、ハロゲン化炭化水素(例えば、ジクロロメタン等)、エステル類(例えば、酢酸メチル、メチルホルメート、エチルアセテート、アミルアセテート、ブチルアセテート等)、ケトン類(例えば、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン等)、エーテル類(例えば、ジオキサン、ジオキソラン、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、メチル−t−ブチルエーテル等)、アルコール類(例えば、メタノール、エタノール等)等が挙げられる。
添加剤22は、所望とするフィルムの特性に応じて適宜選択すれば良い。例えば、可塑剤や、紫外線吸収剤、剥離促進剤、フッ素系界面活性剤等が挙げられる。この中で、可塑剤としては、リン酸エステル系(例えば、トリフェニルホスフェート(以下、TPPと称する)、トリクレジルホスフェート、クレジルジフェニルホスフェート、オクチルジフェニルホスフェート、ジフェニルビフェニルホスフェート、トリオクチルホスフェート、トリブチルホスフェート等)、フタル酸エステル系(例えば、ジエチルフタレート、ジメトキシエチルフタレート、ジメチルフタレート、ジオクチルフタレート等)、グリコール酸エステル系(例えば、トリアセチン、トリブチリン、ブチルフタリルブチルグリコレート、エチルフタリルエチルグリコレート、メチルフタリルエチルグリコレート、ブチルフタリルブチルグリコレート等)等が挙げられる。この中で、セルロースアシレートをフィルムとするために特に好ましいものとしてはTPPが挙げられる。なお、可塑剤は、上記以外にも公知であるものを用いることができ、特に限定されない。また、紫外線吸収剤としては、例えば、オキシベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、サリチル酸エステル系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノアクリレート系化合物、ニッケル錯塩系化合物が好ましく、中でも、ベンゾトリアゾール系化合物やベンゾフェノン系化合物が特に好ましい。
溶解タンク17は、モータ26によって回転する攪拌翼27を備えている。攪拌翼27が回転することにより、溶解タンク17内のポリマ20、溶媒21、添加剤22が攪拌される。この攪拌により、ポリマ20などの溶質が溶媒に完全には溶けていない粗溶解液30が得られる。
溶解タンク17内の粗溶解液30は、貯蔵タンク18に一旦貯蔵される。これにより溶解タンク17は空になり、粗溶解液30を繰り返し形成する連続バッチ式が可能になる。貯蔵タンク18も、モータ31で回転する攪拌翼32を備えている。攪拌翼32を回転することにより、粗溶解液30が攪拌され均一にされる。
貯蔵タンク18内の粗溶解液30はポンプ35及び配管36を介して、加熱器40に送られる。加熱器40は、多管式熱交換器や静止型混合器などのインラインミキサが用いられる。この加熱器40により粗溶解液30が加熱される。加熱温度は50〜120℃が好ましく、加熱時間は5〜30分が好ましい。この加熱により、溶液製膜に必要なポリマ20などの溶質は変性することなく完全に溶解し、原料ドープ41が調製される。このようにして調製される原料ドープ41は、セルロースエステルの固形分濃度として14〜24重量%にされる。なお、必要に応じてフラッシュ濃縮法等により、原料ドープ41を濃縮してもよい。
加熱器40により加熱された原料ドープ41は、冷却器42に送られる。冷却器42によって原料ドープ41を構成する主要溶媒の沸点以下にまで冷却される。冷却された原料ドープ41はポンプ43を経由して貯留タンク44に貯留される。その後に、濾過ユニット45に送られて、濾過され、流延ドープ46が生成される。この流延ドープ46は、ドープ切換ユニット47を有するドープ供給配管71を経由して製膜ユニット12に送られる。なお、濾過ユニット45は複数の濾過器が設けられており、一方で濾過している時に他方で濾過器を洗浄しており、連続した濾過が可能になっている。
製膜ユニット12は、流延室51と、渡り部52と、テンタ53と、乾燥室54、巻取機55とを備え、流延ドープ46を用いてフィルム56が作られる。流延室51には、流延ドープ46の吐出口が形成された流延ダイ57と、支持体として作用する流延ドラム58と、剥取ローラ59とが配置されている。
不純物が取り除かれた流延ドープ46は、流延ダイ57を介してエンドレスに回転している流延ドラム58の上に流延され、流延膜61が形成される。流延ドラム58の表面温度は−10℃以上10℃以下の範囲内で略一定とすることが好ましい。このような流延ドラム58に流延ドープ46を流延すれば、流延ドープ46は速やかに冷却されるため短時間の内にゲル状の流延膜61が形成される。流延ドラム58の回転と共に流延膜61のゲル化が進められ、自己支持性を有するに至った流延膜61は剥取ローラ59で支持されながら流延ドラム58から湿潤フィルム62として剥ぎ取られる。
渡り部52では、多数のローラで湿潤フィルム62を支持し、搬送する間に乾燥が進められる。テンタ53では、湿潤フィルム62の両側端部がピン等の保持手段で保持されて搬送され、乾燥が進められる。この後に乾燥室54で多数のローラ間でフィルム56が掛け渡された状態で乾燥した風がフィルム56に送られ、乾燥が進行する。この後、フィルム56は、巻取軸63にロール状に巻き取られる。
なお、流延ダイ、減圧室、支持体等の構造、共流延、剥離法、延伸、各工程の乾燥条件、ハンドリング方法、カール、平面性矯正後の巻取方法から、溶媒回収方法、フィルム回収方法まで、特開2005−104148号公報の[0617]段落から[0889]段落に詳しく記述されており、これらの記載も本発明に適用することができる。
上記の工程により得られるセルロースエステルフィルムの具体的用途に関しては、特開2005−104148号公報において、例えば、[1088]段落から[1265]段落には、液晶表示装置として、TN型、STN型、VA型、OCB型、反射型、その他の例が詳しく記載されており、これらの記載も本発明に適用することができる。
以下、新旧ドープの切り換えについて説明する。原料ドープ調製ユニット11と製膜ユニット12とはドープ切換ユニット47を有するドープ供給配管71によって接続されている。このドープ供給配管71、製膜ユニット12には既に送液された旧ドープが残っている。一般に、ドープ溶液は高粘度なため、ドープ供給配管71や各装置の壁面に付着残留しやすい。そのため、このままの状態で原料ドープ調製ユニット11から製膜ユニット12へ新ドープを送液すると、旧ドープと新ドープとが混ざりあったドープが製膜ユニット12に送られ、旧ドープを新ドープに置換するために、送液する新ドープを多量に必要とする。
製膜ユニット12は、流延開始するまでに多大な手間を要するため、フィルム製造効率の観点から連続運転することが好ましい。このため、新旧ドープの切り換え時には、新旧ドープが混ざりあったドープを原料としたフィルムが製造される。このフィルムは製品とはなり得ないため廃棄される。従って、フィルム製造効率の観点から廃棄フィルムを少なくするために、ドープ供給配管71にドープ切換ユニット47を設けている。
ドープ切換ユニット47は、原料ドープ調製ユニット11や製膜ユニット12を接続する各種ドープ供給配管に適用可能である。例えば、加熱器40と冷却器42とをつなぐ配管にも設けることができる。本実施形態では、原料ドープ調製ユニット11と製膜ユニット12を接続するドープ供給配管を例にとって説明する。
本発明の第1実施形態のドープ切換ユニットを示す図2,図3において、ドープ供給配管71には、フランジ71a,72bを介して副ドープ供給ヘッド72が設けられている。ドープ供給配管71には、新ドープ供給部73から新たに切り換えられる新ドープ81が供給されている。また、新ドープ供給部73には、ドープ希釈部74が接続されている。ドープ希釈部74は、新ドープ81の主溶媒を供給しており、新ドープ81に対して主溶媒を混合することにより、希釈ドープを形成し、この希釈ドープを副ドープ78として、副ドープ供給ヘッド72に供給する。
副ドープ供給ヘッド72は、仕切りパイプ75と、この仕切りパイプの取付部76とによって、二重配管構造になっている。仕切りパイプ75のドープ流れ方向の上流端部に、前記取付部76が形成されており、ドープ流れ方向の下流端部は開放されている。仕切りパイプ75とドープ供給配管71の内壁面とによる空間は、副ドープバッファ部77を兼ねており、副ドープ78が満たされるようになっている。図3に示すように、ドープ供給配管71には副ドープ78の供給口が形成されており、この供給口にドープ希釈部74から副ドープ78が供給される。副ドープ78の供給口は図3に示すように、1個でも、またはドープ配管の周方向で適宜ピッチを複数個形成してもよい。
旧ドープから新ドープ81に切り換えられると、これに対応して、副ドープ供給ヘッド72に新ドープ81を希釈した副ドープ78が供給される。したがって、ドープ供給配管71を流れるドープは、新ドープ81による主液流79と、副ドープ78による副液流80との2層流れの状態となる。
図4に示すように、ドープ配管を流れる新ドープのドープ配管径方向における速度分布を示している。図5は従来のドープ供給配管における新ドープの速度分布を示している。
図4の本実施形態の場合には、新ドープ81による主液流82の他に、副ドープ83による副液流84がドープ供給配管71の内周面に沿って全周に形成されている。副ドープ83は、新ドープ81を希釈して得られるので、副液流84は主液流82の新ドープ81よりも低粘度である。このため、主液流82を用いた場合に比較すると、副液流84の移動抵抗が小さくなる。従って、図4に示すように速度分布92がドープ供給配管71の径方向の全体にわたって略均一になる。一方、副ドープ83により副液流84が形成されることがない従来タイプのものでは、図5の速度分布92から判るように、主液流82の中心付近では、ドープ流速度が高いものの、内壁面近くになるほどドープ流速度が低下し、供給配管の径方向で山形状の速度分布が生じている。このため、従来タイプのものでは、旧ドープの置換がなかなか進まないのに対して、本実施形態の場合には、速度分布が供給配管の径方向で略均一に近くなり、しかも内壁面に近くなってもドープ流速度の低下が無いため、ドープ配管の内壁面に付着している旧ドープ93が効率よく置換される。
ここで、新ドープ81の粘度をμ1[Pa・s]、副ドープ83の粘度をμ2[Pa・s]とすると、μ2/μ1が0.001以上0.9以下である。なお、好ましくは、μ2/μ1が0.002以上0.3以下であり、より好ましくは0.004以上0.1以下である。μ2/μ1が0.001未満である場合には、新ドープ81の主液流82に対して、副ドープ83の粘度が低すぎて、表面張力の影響などで、滴状あるいは筋状の流れになり易く、安定な層流状態が維持され難く、副液流84が形成され難くなる傾向がある。また、μ2/μ1が0.9を超える場合には、副ドープ83の粘度が大きくなり、副液流84を形成しても、旧ドープ93が新ドープ81及び副ドープ83により置換され難くなる傾向がある。このため、いずれの場合も共に好ましくない。
粘度を測定する方法としては、例えば、JIS Z 8803「液体の粘度―測定方法」に規定される回転粘度計、落球粘度計や振動粘度計を用いる。上記の粘度の値は、回転粘度計により測定している。
新ドープ81と副ドープ83との各粘度比(μ2/μ1)は、新ドープ81に対して、溶媒を用いて希釈することで調製する。このため、新ドープ供給部73から新ドープ81の一部を分岐させて、これを新ドープ81の主溶媒を用いて希釈し、上記粘度比を所望の値に調節する。前記溶媒としては、前記溶質を溶かすものであればよく、特に限定されない。例えば、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、シクロヘキサン、酢酸メチルなどのいずれかまたはこれらを混合したものが用いられる。
なお、新ドープ81及び副ドープ83の粘度比の調整方法として、ドープ供給配管の径方向で温度分布を変えてもよい。溶液は、温度により粘度が変化するので、この性質を利用する。一般に、液体の温度を高くすると粘度が低くなる傾向がある。従って、ドープ供給配管71中心部における新ドープ81の温度をT1[℃]、ドープ供給配管71の内壁の温度をT2[℃]とすると、T2がT1より0.5℃以上35℃以下の範囲で高くすることが好ましい。なお、温度差は5℃以上35℃以下が好ましく、より好ましくは、10℃以上30℃以下である。温度差が0.5℃未満である場合には、ドープ置換効率を上げる程度の粘度比が得られず、また、温度差が35℃を超える場合には、ドープの沸点に近い、あるいは沸点を超えることがあり、安定な層流状態が維持され難くなる傾向がある。このため、いずれの場合も共に好ましくない。なお、この温度差による粘度比調整方法と主ドープの希釈率の変更による粘度比調整方法を併用してもよい。
主液流82の厚みをd1[m]、副液流84の厚みをd2[m]とするとき、その厚み比(d1/d2)が2以上100以下である。この厚み比は好ましくは5以上100以下であり、より好ましくは10以上50以下である。この厚み比は、副ドープ供給ヘッド72の出口における厚みで求めている。厚み比が2未満の場合には、下流にて主液流82の濃度低下が大きくなり、100を超える場合には、副液流84の安定な層流状態が維持され難くなり、共に好ましくない。
ドープ置換が完了する一定時間の経過後に副ドープの流入を停止して、副液流84の形成を停止する。ドープ置換の完了時間は予め実験等により求めておく。なお、ドープ供給配管71の最下流部でドープをサンプリングしてドープ置換が完了したか否かを決定してもよい。また、オンラインによる成分分析機を用いて、その成分結果から新旧ドープの置換を検出してもよい。
次に、図6を参照して第2実施形態について説明する。この第2実施形態は、第1実施形態がドープ供給ヘッドをドープ配管の中に形成した仕切りパイプと取付部とから構成したのに対して、ドープ配管の外側に副ドープ供給ヘッド101が設けられている点で異なっている。新ドープ供給部及びドープ希釈部について、第1実施形態と同じであるため、説明を省略する。
ドープ供給配管102は、途中で分断されており、上流配管103と下流配管104とから構成されている。そして、分断部分が副ドープ供給口105となっている。上流配管103には、供給ヘッドジャケット106が取り付けられており、このジャケット内に副ドープが供給口106aから供給される。なお、必要に応じて、副ドープ供給口を塞ぐシャッタスリーブ107が取り付けられている。シャッタスリーブ107は、シフト機構110により、副ドープ供給口を開ける開位置とこれを塞ぐ閉位置との間でシフトされる。
第2実施形態におけるドープ供給配管102の場合における新ドープにより形成される主液流108の厚みd1[m]及び副ドープにより形成される副液流109の厚みをd2[m]について、副ドープがドープ供給配管102に流されると、ドープ供給配管102では、主液流108と副液流109と2層流れが形成される。
これら2層流れのうち、主液流108の直径をd1[m]とし、副液流109の径方向の厚みをd2[m]とする。新ドープと副ドープとの粘度の比や温度設定及び新ドープ及び副ドープの流れの速度分布等に関しては、第1実施形態と同様なので、説明を略す。
第3実施形態を示す図7,図8において、供給ヘッドジャケット111を上流配管112、下流配管113の間でシフト機構114によりスライド自在に取り付けたものである。
副ドープを供給する場合には、図7に示すように供給ヘッドジャケット111がシフト機構114によって右側にシフトし、副ドープ供給口115を開放にし、副ドープを主液流とドープ配管内壁面との間に層流として流す。また、副ドープの供給を停止する場合には、図8に示すようにシフト機構114により供給ヘッドジャケット111を左側にシフトし、供給ヘッドジャケット111の細径部111aによって副ドープ供給口115を閉じる。なお、各ジャケットの摺動部分にはOリング116などのシール部材が入れられており、ドープが摺動部分から漏れることがないようになっている。
主液流の厚みd1及び副液流の厚みd2については、第2実施形態と同様に決定される。新ドープと副ドープとの粘度の比や温度設定及び新ドープ及び副ドープの流れの速度分布等に関しては、第1実施形態と同様である。そのため、説明を略す。
副ドープ供給口115は、ドープ供給配管の全周方向で開口していてもよく、または、ドープ供給配管の周方向に適宜ピッチで設けた複数の丸孔から構成してもよい。
なお、副ドープの流入停止は、ドープ置換完了後に一気に行ってもよく、あるいは徐々に行ってもよい。副ドープを漸減する場合には、図7,図8に示すように、副ドープ供給口115の開口面積が変えられる副ドープ供給ヘッド118を用いるとよい。例えば、図7,図8に示す供給ヘッドジャケット111は、環状に形成されている副ドープ供給口115の開口面積をシフト機構114により自在に変更することができる。
また、副ドープは、新ドープを希釈したものであるため、副ドープを流したままで、副ドープの流入量を漸減してもよい。また、新ドープ供給部73(図2参照)に対してドープ供給配管71が常時開いている場合、ドープ希釈部74(図2参照)を機能させずに、副ドープに代えて新ドープをドープ供給配管に供給してもよい。
なお、副液流を形成するために副ドープを流入するタイミングは、旧ドープを新ドープに置換するときでもよく、旧ドープを新ドープに置換する前の適当なときであっても、旧ドープを新ドープに置換した後であってもよい。
本発明は、旧ドープを新ドープに切り換えるときに限らずに、旧ドープの処方を僅かに変更するときにも適用してもよい。また、上記実施形態では、原料ドープ調製ユニット11と製膜ユニット12との間の配管(図1参照)に、本発明を適用しているが、本発明の適用対象配管はこれに限られない。例えば、原料ドープ調製ユニット11中の加熱器40と冷却器42とを接続する配管などの各部の配管に対して、ドープ切換ユニットを設けてもよい。また、配管に限らず、ドープ流路となる部分を有する構成部材に対して本発明を適用することができる。
次に、本発明の具体的な実施例について述べる。セルローストリアセテートを用いジクロロメタンを主溶媒とするドープA,ドープBを新,旧ドープとして調製した。そして、図2に示すドープ切換ユニット47を用い、旧ドープとしてドープAを流した後に、新ドープとしてドープBをドープ供給配管に流し押出置換を実施した。本発明の効果を確かめるために、ドープ切換ユニット47から下流側へ5mの位置に濃度センサを設けた。この位置での濃度を測定することで、長さ5m、80A(ドープ供給配管JIS スケジュール10S(内径83mm,肉厚3mm))のステンレス製パイプを実験モデルとして、押し出し置換の送液率を調べた。ここで、送液率とは、配管の容量に対する新ドープを送液する積算量の割合をいう。ドープ切換ユニット47の副ドープ供給ヘッド72も、ドープ供給配管71と同じパイプを用いている。このときの、ドープA,ドープBの粘度は略同じ値であり、ドープBの流速は20L/分とした。また、本実施形態の図2に示す副ドープ供給ヘッド72を用いて、主液流に対して周囲に副液流を形成した。
旧ドープを新ドープで置換するドープ置換率及び配管容量に対する新ドープの送液量の割合を示す送液率を測定した。ドープ置換率は百分率で示され、0%で旧ドープが100%を占め、100%では旧ドープが0となり、新ドープが100%となる。ドープ置換率を測定するために、ドープBは黒色染料の無い透明ドープとし、ドープAに黒色染料を入れておき、この黒色染料による濃度を測定することによりドープ置換率を得た。そして、ドープの送液量から送液率を得た。
このときのドープBの主液流の粘度μ1[Pa・s]は30として、副ドープとしてドープBをジクロロメタンで希釈して溶媒含有量を調節して、副液流の粘度μ2[Pa・s]を1.5とし、μ2/μ1を0.05とした。主液流の厚みd1[mm]を81.5、副液流の厚みd2[mm]を1.5として、厚み比d1/d2を54とした。主液流の温度T1[℃]を35とし、配管の内壁温度T2[℃]を37とし、T1に対するT2の温度差ΔTは2とした。
主液流の厚みd1[mm]を41.5、副液流の厚みd2[mm]を41.5として、厚み比d1/d2を1とした以外は実施例1と同じ条件とした。
主液流の厚みd1[mm]を56.0、副液流の厚みd2[mm]を27.0として、厚み比d1/d2を2とした以外は実施例1と同じ条件とした。
主液流の厚みd1[mm]を79.0、副液流の厚みd2[mm]を4.0として、厚み比d1/d2を20とした以外は実施例1と同じ条件とした。
主液流の厚みd1[mm]を82.1、副液流の厚みd2[mm]を0.9として、厚み比d1/d2を91とした以外は実施例1と同じ条件とした。
主液流の厚みd1[mm]を82.2、副液流の厚みd2[mm]を0.8として、厚み比d1/d2を103とした以外は実施例1と同じ条件とした。
主液流の粘度μ1[Pa・s]は100として、副液流の粘度μ2[Pa・s]を0.01とし、μ2/μ1を0.0001とした以外は実施例1と同じ条件とした。
主液流の粘度μ1[Pa・s]は100として、副液流の粘度μ2[Pa・s]を0.1とし、μ2/μ1を0.001とした以外は実施例1と同じ条件とした。
主液流の粘度μ1[Pa・s]は30として、副液流の粘度μ2[Pa・s]を0.3とし、μ2/μ1を0.01とした以外は実施例1と同じ条件とした。
主液流の粘度μ1[Pa・s]は30として、副液流の粘度μ2[Pa・s]を3とし、μ2/μ1を0.1とした以外は実施例1と同じ条件とした。
主液流の粘度μ1[Pa・s]は30として、副液流の粘度μ2[Pa・s]を27とし、μ2/μ1を0.9とした以外は実施例1と同じ条件とした。
主液流の粘度μ1[Pa・s]は30として、副液流の粘度μ2[Pa・s]を30とし、μ2/μ1を1とした以外は実施例1と同じ条件とした。
主液流の温度T1[℃]を35とし、配管の内壁温度T2[℃]を35.4とした。T1に対するT2の温度差ΔTを0.4とした。その結果、主液流の粘度μ1[Pa・s]は30となり、主液流の粘度μ2[Pa・s]を1.7となり、μ2/μ1を0.06となった。他の条件は実施例1と同じとした。
主液流の温度T1[℃]を35とし、配管の内壁温度T2[℃]を35.6とした。T1に対するT2の温度差ΔTを0.6とした。その結果、主液流の粘度μ1[Pa・s]は30となり、主液流の粘度μ2[Pa・s]を1.7となり、μ2/μ1を0.06となった。他の条件は実施例1と同じとした。
主液流の温度T1[℃]を35とし、配管の内壁温度T2[℃]を39とし、T1に対するT2の温度差ΔTを4とした。その結果、主液流の粘度μ1[Pa・s]は30となり、副液流の粘度μ2[Pa・s]を27となり、μ2/μ1を0.9となった。他の条件は実施例1と同じとした。
主液流の温度T1[℃]を20とし、配管の内壁温度T2[℃]を38とし、T1に対するT2の温度差ΔTを18とした。その結果、主液流の粘度μ1[Pa・s]は100となり、副液流の粘度μ2[Pa・s]を0.1となり、μ2/μ1を0.001となった。他の条件は実施例1と同じとした。
主液流の温度T1[℃]を5とし、配管の内壁温度T2[℃]を38とし、T1に対するT2の温度差ΔTを33とした。その結果、主液流の粘度μ1[Pa・s]は200となり、副液流の粘度μ2[Pa・s]を4.0となり、μ2/μ1を0.02となった。他の条件は実施例1と同じとした。
主液流の温度T1[℃]を5とし、配管の内壁温度T2[℃]を42とし、T1に対するT2の温度差ΔTを37とした。その結果、主液流の粘度μ1[Pa・s]は200となり、副液流の粘度μ2[Pa・s]を2.5となり、μ2/μ1を0.01となった。他の条件は実施例1と同じとした。
[比較例]
比較例として、ドープ供給配管に対して副ドープ供給ヘッドを用いずに、新旧ドープの押出置換を行った。また、配管内の壁面温度T2は主液流の温度T1と同じ35[℃]とした。以外の条件は実施例1と同じとした。
図9は、新ドープの送液量とドープ置換率を示すものである。縦軸が置換率(%)を示し、横軸が送液率(送液量/配管容量)を示している。曲線CAは、従来タイプのものであり、曲線CBは実施例1のものである。以下に示す比較例1のものである。置換割合を百分率で示すもので、0%では旧ドープが100%を占め、100%では、旧ドープが0となり、新ドープが100%を示す。
従来タイプでは、95%程度に置換されるまでに、配管容量の3倍以上の送液量を必要としているのに対して、本実施形態のものでは、配管容量の約1.2倍で95%の置換率となり、約1.5倍で略97%の置換率となっており、置換効率が良くなっていることが判る。
表1に、実施例1ないし実施例18及び比較例1における、設定した各値とドープ置換率が95%になったときのドープBの送液率とを示す。
Figure 0004926109
本発明を満たす実施例では、最大でも配管容量の2倍の送液量で済み、本発明を満たさない比較例1に比べて、置換効率が良くなっていることが判る。
本発明を実施する溶液製膜設備を示す概略図である。 本発明の第1実施形態のドープ切換ユニットが設けられているドープ供給配管を示す断面図である。 本発明の第1実施形態のドープ供給配管の図2におけるIII−III線断面図である。 本発明を実施したドープ供給配管における新ドープ及び副ドープの速度分布を示す説明図である。 従来のドープ供給配管における新ドープの速度分布を示す説明図である。 本発明の第2実施形態のドープ供給配管を示す断面図である。 本発明の第3実施形態のドープ切換ユニットが設けられているドープ供給配管であり、副ドープ供給口が開放されている状態を示す断面図である。 本発明の第3実施形態のドープ切換ユニットが設けられておりドープ供給配管であり、副ドープ供給口が閉じられている状態を示す断面図である。 本発明の方法と従来の方法とを比較して示す新ドープの送液量とドープ置換率を示す説明図である。
符号の説明
10 溶液製膜設備
47 ドープ切換ユニット
71 ドープ供給配管
72 副ドープ供給ヘッド
78 副ドープ
79 主液流
80 副液流
81 新ドープ
93 旧ドープ

Claims (7)

  1. ポリマ及び溶媒からなるドープをドープ供給配管により流延ダイに送り、前記流延ダイからエンドレスに走行する支持体上に前記ドープを流延して流延膜を形成し、前記流延膜が自己支持性を有した後に前記支持体から剥ぎ取り、乾燥させてフィルムとする溶液製膜設備における前記ドープ供給配管に対して、前記ドープの処方変更により旧ドープから新ドープに切り換えるドープ切換方法において、
    前記ドープ供給配管への供給ドープを旧ドープから新ドープに切り換えるドープ切換工程と、
    前記ドープ供給配管の上流側で、前記新ドープよりも低粘度の副ドープを前記ドープ供給配管の内壁面に沿って供給し、前記ドープ供給配管の中心部に新ドープによる主液流を形成すると共に、この主液流の周りで前記ドープ供給配管の内壁面に沿って前記副ドープによる副液流を形成する副液流形成工程とを有することを特徴とするドープ切換方法。
  2. 所定時間の経過後に前記副液流形成工程を停止する工程とを有することを特徴とする請求項1記載のドープ切換方法。
  3. 前記主液流の直径をd1[m]とし、前記副液流の径方向の厚みをd2[m]とするときに、(d1/d2)が2以上100以下であることを特徴とする請求項1または2記載のドープ切換方法。
  4. 前記新ドープの粘度をμ1[Pa・s]、前記副ドープの粘度をμ2[Pa・s]とするときに、(μ2/μ1)が0.001以上0.9以下であることを特徴とする請求項1から3いずれか1項記載のドープ切換方法。
  5. 前記ドープ供給配管の径方向中心部における前記主液流の温度に対して、前記ドープ供給配管の内壁面温度を0.5[℃]以上35[℃]以下の範囲で高くすることを特徴とする請求項1から4いずれか1項記載のドープ切換方法。
  6. ポリマ及び溶媒からなるドープをドープ供給配管により流延ダイに送り、前記流延ダイからエンドレスに走行する支持体上に前記ドープを流延して流延膜を形成し、前記流延膜が自己支持性を有した後に前記支持体から剥ぎ取り、乾燥させてフィルムとする溶液製膜設備における前記ドープ供給配管に対して、ドープの処方変更により旧ドープから新ドープに切り換えるドープ切換装置において、
    前記ドープ供給配管の上流側で、前記新ドープよりも低粘度の副ドープを前記ドープ供給配管の内壁面に沿って供給するための供給口を有する副ドープ供給ヘッドと、
    前記副ドープ供給ヘッドに前記新ドープを希釈した希釈ドープを供給する副ドープ供給部とを備えることを特徴とするドープ切換装置。
  7. 前記副ドープ供給ヘッドは、前記内壁面の周方向の全周にわたって形成される環状供給口を備えることを特徴とする請求項6記載のドープ切換装置。
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