JP4910232B2 - Color filter substrate transport mechanism - Google Patents
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、カラーフィルタの製造に関するものであり、特に、カラーフィルタ裏面に不要なパターンが形成されることのないカラーフィルタ基板の搬送ローラに関する。
【０００２】
【従来の技術】
図５は、液晶表示装置などに用いられるカラーフィルタの一例を示した平面図である。また、図６は、図５に示すカラーフィルタのＸ−Ｘ’線における断面図である。
図５、及び図６に示すように、液晶表示装置などに用いられるカラーフィルタは、ガラス基板（５０）上にブラックマトリックス（５２）、及び着色画素（５１）が形成されたものである。
【０００３】
ブラックマトリックス（５２）は、遮光性を有するマトリックス状のものであり、着色画素（５１）は、例えば、赤色、緑色、青色のフィルタ機能を有するものである。
ブラックマトリックスは、カラーフィルタの着色画素の位置、大きさを均一なものとし、また、表示装置に用いられた際に、好ましくない光を遮蔽し、表示装置の画像をムラのない均一な、且つコントラストを向上させた画像にする機能を有している。
【０００４】
このブラックマトリックス（５２）は、ガラス基板（５０）上に、例えば、クロム（Ｃｒ）、酸化クロム（ＣｒＯＸ ）などの金属、もしくは金属化合物の薄膜を成膜し、成膜した薄膜上に、ポジ型のフォトレジストを用いてエッチングレジストパターンを形成し、次に、成膜された金属薄膜の露出部分のエッチング及びエッチングレジストパターンの剥膜を行いブラックマトリックスとして形成されたものである。
【０００５】
また、着色画素（５１）は、ブラックマトリックスが形成されたガラス基板上に、種々な方法により形成が行われているが、フォトレジストに顔料を分散させた着色フォトレジストを材料として用い、フォトリソグラフィ法により着色画素を形成する顔料分散法が多く採用されている。
着色フォトレジストを用いた、このフォトリソグラフィ法による着色画素の形成方法は、先ず、ガラス基板上に着色フォトレジストの塗布膜を設け、この塗布膜に着色画素のパターンを露光し、現像、ベーキングを行って着色画素を形成するといった方法である。
【０００６】
図７は、このようなフォトリソグラフィ法によって着色画素を形成する際に用いる現像装置の一例の概念を示す断面図である。
図７に示すように、この一例の現像装置は、現像液ノズル（１１）が設けられた現像部（１０）、スペース部（６０）、水洗水ノズル（２１）が設けられた水洗部（２０）、水切りエアナイフ（３１）が設けられた乾燥部（３０）の各処理部と、搬送ローラ（４０）で構成されている。
カラーフィルタ基板（２）を搬送する搬送ローラ（４０）は、左方の前工程から右方の後工程へと現像部（１０）とスペース部（６０）と水洗部（２０）と乾燥部（３０）を貫いて設けられている。
【０００７】
カラーフィルタ基板（２）は、矢印で示すように、左方の前工程から搬送され、搬送ローラ（４０）で搬送されながら現像部（１０）において現像液ノズル（１１）からの現像液により現像され、スペース部（６０）において水洗水による現像液の希釈を避け、水洗部（２０）において水洗水ノズル（２１）からの水洗水により水洗され、乾燥部（３０）において水切りエアナイフ（３１）からのドライエアにより乾燥され、カラーフィルタ基板の現像処理が終了し、右方の後工程へと搬送されるようになっている。
【０００８】
このような現像装置によるカラーフィルタ基板の現像処理においては、次のような現象によってカラーフィルタ基板（２）の裏面に不要なパターンが形成され不良品を発生させることがある。
すなわち、現像部（１０）で現像されるカラーフィルタ基板（２）の裏面には、微量ではあるが現像・除去された着色フォトレジストの滓が付着し、このカラーフィルタ基板（２）の裏面に付着した微量の着色フォトレジストの滓は、カラーフィルタ基板（２）の裏面からカラーフィルタ基板（２）を搬送している搬送ローラ（４０）の表面に転移されることになる。この転移はスペース部（６０）において多く転移される。
【０００９】
この搬送ローラ（４０）の表面に転移された微量の着色フォトレジストの滓は、多数のカラーフィルタ基板（２）を連続して現像処理していると、次第に搬送ローラ（４０）の表面に堆積し、搬送ローラ（４０）の表面で着色フォトレジストの滓の塊となる。
この着色フォトレジストの滓の塊は、ある時期に、搬送ローラ（４０）の表面から剥がれ、後続するカラーフィルタ基板（２）の裏面に転移・付着する。
【００１０】
この後続するカラーフィルタ基板（２）の裏面に転移・付着した着色フォトレジストの滓の塊は、水洗部（２０）において、洗浄・除去されずに現像装置から搬出されると、後工程にあるベーキング処理において硬化され、カラーフィルタ基板（２）の裏面に固着してしまうことになる。
このようにして、カラーフィルタ基板（２）の裏面に固着した着色フォトレジストの滓は、カラーフィルタとしては、不要なパターンが裏面に形成されていることになり、このカラーフィルタ基板（２）は不良品となる。
【００１１】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、上記のような問題を解決するためになされたものであり、フォトリソグラフィ法によって着色画素をガラス基板に形成する際に用いる、上記のような現像装置の搬送ローラにおいて、多数のカラーフィルタ基板を連続して搬送し現像処理を行っても、着色フォトレジストの滓が最後には着色フォトレジストの滓の塊となってカラーフィルタ基板の裏面に固着し、不要なパターンとして形成されることのないカラーフィルタ基板の搬送ローラを提供することを課題とするものである。
【００１２】
【課題を解決するための手段】
本発明は、カラーフィルタ基板用現像装置の現像部と水洗部との間のスペース部に位置する現像直後の搬送ローラにおいて、該搬送ローラが、搬送ローラのコロの下部を水洗水に浸漬するように水洗水を満たしたコロ洗浄槽を具備することを特徴とするカラーフィルタ基板の搬送ローラである。
【００１３】
【発明の実施の形態】
以下に本発明の実施の形態を詳細に説明する。
図１は、本発明によるカラーフィルタ基板の搬送ローラを取り付けた現像装置の一例の概念を示す断面図である。
図１に示すように、この現像装置は、現像液ノズル（１１）が設けられた現像部（１０）、本発明による搬送ローラ（４０Ａ）が位置するスペース部（６０）、水洗水ノズル（２１）が設けられた水洗部（２０）、水切りエアナイフ（３１）が設けられた乾燥部（３０）の各処理部と、搬送ローラで構成されている。
【００１４】
カラーフィルタ基板（２）を搬送する搬送ローラは、左方の前工程から右方の後工程へと現像部（１０）とスペース部（６０）と水洗部（２０）と乾燥部（３０）を貫いて設けられているが、本発明によるカラーフィルタ基板の搬送ローラ（４０Ａ）と従来法における搬送ローラと同様の搬送ローラ（４０）とで構成されている。
この本発明によるカラーフィルタ基板の搬送ローラ（４０Ａ）は、現像部（１０）と水洗部（２０）との間のスペース部に位置している。
【００１５】
すなわち、この現像装置における搬送ローラは、現像部（１０）での搬送ローラ（４０）と、現像部（１０）と水洗部（２０）との間の搬送ローラ（４０Ａ）と、水洗部（２０）及び乾燥部（３０）での搬送ローラ（４０）とで構成されているものである。
【００１６】
カラーフィルタ基板（２）は、矢印で示すように、左方の前工程から搬送され、搬送ローラ（４０）で搬送されながら現像部（１０）において、現像液ノズル（１１）からの現像液により現像され、スペース部（６０）においては、本発明によるカラーフィルタ基板の搬送ローラ（４０Ａ）により搬送され、水洗部（２０）において、水洗水ノズル（２１）からの水洗水により水洗され、乾燥部（３０）において、水切りエアナイフ（３１）からのドライエアにより乾燥され、カラーフィルタ基板の現像処理が終了し、右方の後工程へと搬送されるようになっている。
【００１７】
図２は、本発明によるカラーフィルタ基板の搬送ローラの一実施例を示す平面図である。また、図３は、図２に示す一実施例のＡ−Ａ’線における断面図、図４は、図２に示す一実施例のＢ−Ｂ’線における断面図である。
図２、図３、及び図４に示すように、本発明によるカラーフィルタ基板の搬送ローラ（４０Ａ）は、軸（４０ａ）とコロ（４０ｂ）からなる搬送ローラ（４０）と、水洗水（４）を満たしたコロ洗浄槽（３）とで構成されている。
搬送ローラ（４０）は、従来法における搬送ローラと同様の搬送ローラである。
【００１８】
搬送ローラ（４０）のコロ（４０ｂ）は、カラーフィルタ基板（２）の幅方向の両端部の近辺を支えるように設けられており、駆動装置（図示せず）により搬送ローラ（４０）が回転されて、矢印で示すように、カラーフィルタ基板（２）を現像部（１０）からスペース部（６０）、水洗部（２０）へと搬送するようになっている。
搬送ローラ（４０）のコロ（４０ｂ）の下部は、コロ洗浄槽（３）に満たされた水洗水（４）に常に浸漬した状態にある。
【００１９】
また、コロ洗浄槽（３）に満たされた水洗水（４）は、点線矢印で示すように、給水口（６）から供給され、コロ洗浄槽（３）を満たし、コロ洗浄槽（３）の側壁上端からオーバーフローし、外槽（５）へ落下し、排水口（７）から外部へ流出するようになっている。
すなわち、コロ洗浄槽（３）には、常に清浄な水洗水（４）が満たされた状態にある。
【００２０】
従って、現像部（１０）において、多数のカラーフィルタ基板を連続して現像処理をしていることによって、現像部（１０）にある搬送ローラ（４０）の表面に堆積した着色フォトレジストの滓の塊が、ある時期に、搬送ローラ（４０）の表面から剥がれ、後続するカラーフィルタ基板の裏面に転移・付着しても、そのカラーフィルタ基板が本発明によるカラーフィルタ基板の搬送ローラ（４０Ａ）に到ると、清浄な水洗水（４）がコロ（４０ｂ）を経てカラーフィルタ基板（２）の裏面に供給されるので、その着色フォトレジストの滓の塊は、カラーフィルタ基板（２）の裏面から取り除かれる。
【００２１】
【発明の効果】
本発明は、カラーフィルタ基板用現像装置の現像部と水洗部との間のスペース部に位置する現像直後の搬送ローラにおいて、該搬送ローラが、搬送ローラのコロの下部を水洗水に浸漬するように水洗水を満たしたコロ洗浄槽を具備するので、フォトリソグラフィ法によって着色画素をガラス基板に形成する際に、多数のカラーフィルタ基板を連続して搬送し現像処理を行っても、着色フォトレジストの滓の塊がカラーフィルタ基板の裏面に固着し、不要なパターンとして形成されることのないカラーフィルタ基板の搬送ローラとなる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明によるカラーフィルタ基板の搬送ローラを取り付けた現像装置の一例の概念を示す断面図である。
【図２】本発明によるカラーフィルタ基板の搬送ローラの一実施例を示す平面図である。
【図３】図２に示す一実施例のＡ−Ａ’線における断面図である。
【図４】図２に示す一実施例のＢ−Ｂ’線における断面図である。
【図５】液晶表示装置などに用いられるカラーフィルタの一例を示した平面図である。
【図６】図５に示すカラーフィルタのＸ−Ｘ’線における断面図である。
【図７】フォトリソグラフィ法によって着色画素を形成する際に用いる現像装置の一例の概念を示す断面図である。
【符号の説明】
２…カラーフィルタ基板
３…コロ洗浄槽
４…水洗水
５…外槽
６…給水口
７…排水口
１０…現像部
１１…現像液ノズル
２０…水洗部
２１…水洗水ノズル
３０…乾燥部
３１…水切りエアナイフ
４０…搬送ローラ
４０Ａ…本発明によるカラーフィルタ基板の搬送ローラ
４０ａ…搬送ローラの軸
４０ｂ…搬送ローラのコロ
５０…ガラス基板
５１…着色画素
５２…ブラックマトリックス
６０…スペース部[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to the manufacture of color filters, and more particularly to a transport roller for a color filter substrate in which an unnecessary pattern is not formed on the back surface of the color filter.
[0002]
[Prior art]
FIG. 5 is a plan view showing an example of a color filter used in a liquid crystal display device or the like. FIG. 6 is a cross-sectional view taken along line XX ′ of the color filter shown in FIG.
As shown in FIGS. 5 and 6, the color filter used in the liquid crystal display device or the like is obtained by forming a black matrix (52) and colored pixels (51) on a glass substrate (50).
[0003]
The black matrix (52) is a matrix having a light shielding property, and the colored pixels (51) have, for example, red, green, and blue filter functions.
The black matrix makes the position and size of the colored pixels of the color filter uniform, and when used in a display device, it blocks unwanted light and makes the image of the display device uniform and uniform. It has a function to make an image with improved contrast.
[0004]
The black matrix (52) is formed by forming a thin film of a metal or a metal compound such as chromium (Cr) or chromium oxide (CrOX) on a glass substrate (50), and forming a positive film on the formed thin film. An etching resist pattern is formed using a mold type photoresist, and then an exposed portion of the formed metal thin film is etched and an etching resist pattern is stripped to form a black matrix.
[0005]
The colored pixels (51) are formed by various methods on a glass substrate on which a black matrix is formed. A colored photoresist in which a pigment is dispersed in a photoresist is used as a material, and photolithography is performed. Many pigment dispersion methods for forming colored pixels by the method are employed.
In this method of forming colored pixels using a photolithography method, a colored photoresist coating film is first provided on a glass substrate, and the pattern of the colored pixels is exposed to the coating film, followed by development and baking. This is a method of forming colored pixels by performing.
[0006]
FIG. 7 is a sectional view showing a concept of an example of a developing device used when forming colored pixels by such a photolithography method.
As shown in FIG. 7, the developing device of this example includes a developing section (10) provided with a developer nozzle (11), a space section (60), and a washing section (20 provided with a washing water nozzle (21). ), Each processing section of the drying section (30) provided with a draining air knife (31), and a transport roller (40).
The transport roller (40) for transporting the color filter substrate (2) has a developing section (10), a space section (60), a water washing section (20), and a drying section (from the left front process to the right rear process). 30).
[0007]
As indicated by the arrow, the color filter substrate (2) is transported from the left front process and developed by the developer from the developer nozzle (11) in the developing section (10) while being transported by the transport roller (40). In the space part (60), the developer is not diluted with washing water, washed in the washing part (20) with washing water from the washing water nozzle (21), and in the drying part (30) from the draining air knife (31). The color filter substrate is dried by the dry air, and the development processing of the color filter substrate is finished, and is transported to the right rear process.
[0008]
In the development processing of the color filter substrate by such a developing device, an unnecessary pattern may be formed on the back surface of the color filter substrate (2) due to the following phenomenon to generate defective products.
That is, a small amount of developed and removed colored photoresist wrinkles adhere to the back surface of the color filter substrate (2) developed by the developing unit (10), and the color filter substrate (2) has a back surface. The small amount of the colored photoresist wrinkles attached is transferred from the back surface of the color filter substrate (2) to the surface of the transport roller (40) transporting the color filter substrate (2). This transition is largely transferred in the space portion (60).
[0009]
A small amount of colored photoresist wrinkles transferred to the surface of the transport roller (40) gradually accumulates on the surface of the transport roller (40) when a large number of color filter substrates (2) are continuously developed. Then, it becomes a lump of colored photoresist on the surface of the conveying roller (40).
The colored photoresist wrinkles are peeled off from the surface of the conveying roller (40) at a certain time, and transferred and attached to the back surface of the subsequent color filter substrate (2).
[0010]
The lump of colored photoresist that has been transferred and adhered to the back surface of the subsequent color filter substrate (2) is in a later process when it is carried out of the developing device without being washed and removed in the water washing section (20). It is cured in the baking process and is fixed to the back surface of the color filter substrate (2).
Thus, the colored photoresist wrinkles fixed to the back surface of the color filter substrate (2) have an unnecessary pattern formed on the back surface as a color filter. This color filter substrate (2) It becomes a defective product.
[0011]
[Problems to be solved by the invention]
The present invention has been made in order to solve the above-described problems. In the transport roller of the above-described developing device used when forming colored pixels on a glass substrate by a photolithography method, a large number of colors are provided. Even if the filter substrate is continuously conveyed and developed, the colored photoresist wrinkles eventually form a lump of colored photoresist wrinkles and adhere to the back surface of the color filter substrate, forming an unnecessary pattern. An object of the present invention is to provide a transport roller for a color filter substrate that does not occur.
[0012]
[Means for Solving the Problems]
According to the present invention, in the transport roller immediately after development located in the space between the developing unit and the water washing unit of the color filter substrate developing device, the transport roller soaks the lower part of the roller of the transport roller in washing water. A color filter substrate transport roller comprising a roller cleaning tank filled with rinsing water.
[0013]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail.
FIG. 1 is a cross-sectional view showing a concept of an example of a developing device to which a color filter substrate conveying roller according to the present invention is attached.
As shown in FIG. 1, the developing device includes a developing section (10) provided with a developer nozzle (11), a space section (60) in which a conveying roller (40A) according to the present invention is located, and a washing water nozzle (21). ) Provided with a water washing section (20), a drying section (30) provided with a draining air knife (31), and a conveying roller.
[0014]
The transport roller for transporting the color filter substrate (2) moves the developing section (10), the space section (60), the water washing section (20), and the drying section (30) from the left front process to the right rear process. The color filter substrate according to the present invention is composed of a transport roller (40A) and a transport roller (40) similar to the transport roller in the conventional method.
The color filter substrate transport roller (40A) according to the present invention is located in a space portion between the developing portion (10) and the water washing portion (20).
[0015]
That is, the conveying roller in this developing device includes a conveying roller (40) in the developing section (10), a conveying roller (40A) between the developing section (10) and the water washing section (20), and a water washing section (20 ) And a conveying roller (40) in the drying section (30).
[0016]
As indicated by the arrow, the color filter substrate (2) is conveyed from the left front process and is conveyed by the developer from the developer nozzle (11) in the developing unit (10) while being conveyed by the conveying roller (40). It is developed and conveyed in the space part (60) by the conveyance roller (40A) of the color filter substrate according to the present invention. In the water washing part (20), it is washed with washing water from the washing water nozzle (21) and dried. In (30), the color filter substrate is dried by dry air from the draining air knife (31), and the development processing of the color filter substrate is completed, and is conveyed to the right rear process.
[0017]
FIG. 2 is a plan view showing an embodiment of the conveyance roller for the color filter substrate according to the present invention. 3 is a cross-sectional view taken along the line AA ′ of the embodiment shown in FIG. 2, and FIG. 4 is a cross-sectional view taken along the line BB ′ of the embodiment shown in FIG.
As shown in FIGS. 2, 3, and 4, the color filter substrate transport roller (40 </ b> A) according to the present invention includes a transport roller (40) including a shaft (40 a) and a roller (40 b), and flush water (4 ) And a roller cleaning tank (3) filled with
A conveyance roller (40) is a conveyance roller similar to the conveyance roller in a conventional method.
[0018]
The rollers (40b) of the transport roller (40) are provided to support the vicinity of both ends in the width direction of the color filter substrate (2), and the transport roller (40) is rotated by a driving device (not shown). Thus, as indicated by the arrows, the color filter substrate (2) is transported from the developing section (10) to the space section (60) and the water washing section (20).
The lower part of the roller (40b) of the conveying roller (40) is always immersed in the washing water (4) filled in the roller washing tank (3).
[0019]
Further, the flush water (4) filled in the roller washing tank (3) is supplied from the water supply port (6) as shown by the dotted arrow, fills the roller washing tank (3), and the roller washing tank (3). It overflows from the upper end of the side wall, falls to the outer tub (5), and flows out from the drain port (7).
That is, the roller cleaning tank (3) is always filled with clean water (4).
[0020]
Accordingly, since a large number of color filter substrates are continuously developed in the developing section (10), the colored photoresist film deposited on the surface of the transport roller (40) in the developing section (10) is removed. Even if the lump is peeled off from the front surface of the transport roller (40) at a certain time and transferred / attached to the back surface of the subsequent color filter substrate, the color filter substrate is transferred to the transport roller (40A) of the color filter substrate according to the present invention. When it arrives, clean flush water (4) is supplied to the back surface of the color filter substrate (2) through the roller (40b), so that the colored photoresist wrinkles are formed on the back surface of the color filter substrate (2). Removed from.
[0021]
【Effect of the invention】
According to the present invention, in the transport roller immediately after development located in the space between the developing unit and the water washing unit of the color filter substrate developing device, the transport roller soaks the lower part of the roller of the transport roller in washing water. Since it has a roller cleaning tank filled with washing water, a colored photoresist can be used even when a color pixel substrate is formed on a glass substrate by a photolithography method and a large number of color filter substrates are continuously conveyed and developed. The lump of ridges adheres to the back surface of the color filter substrate and becomes a transport roller for the color filter substrate that is not formed as an unnecessary pattern.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a sectional view showing a concept of an example of a developing device to which a color filter substrate conveying roller according to the present invention is attached.
FIG. 2 is a plan view showing an embodiment of a conveyance roller for a color filter substrate according to the present invention.
3 is a cross-sectional view taken along line AA ′ of the embodiment shown in FIG.
4 is a cross-sectional view taken along the line BB ′ of the embodiment shown in FIG.
FIG. 5 is a plan view showing an example of a color filter used in a liquid crystal display device or the like.
6 is a cross-sectional view of the color filter shown in FIG. 5 taken along line XX ′.
FIG. 7 is a cross-sectional view showing a concept of an example of a developing device used when forming colored pixels by photolithography.
[Explanation of symbols]
2 ...
Claims (1)
該搬送機構が、カラーフィルタ基板を搬送するコロを貫通する軸とコロとからなる搬送ローラと、水洗水を満たしたコロ洗浄槽とで構成されており、
前記コロは、カラーフィルタ基板の搬送方向に対して両サイド部の近辺を支えるように設けられており、前記コロ洗浄槽が搬送ローラのコロの下部を水洗水に浸漬するように位置し、前記コロ洗浄槽の水洗水は、前記コロ洗浄槽に設けた給水口から供給され、前記コロ洗浄槽を満たし、前記コロ洗浄槽の側壁上端からオーバーフローし、外槽へ落下し、排水口から外部へ流出することを特徴とするカラーフィルタ基板の搬送機構。Space for avoiding dilution of developing solution by rinsing water between a developing unit for developing the color filter substrate of the developing device for the color filter substrate with the developing solution from the developing nozzle and a rinsing unit for washing with the rinsing water from the rinsing water nozzle. In the transport mechanism immediately after development located in the section,
The transport mechanism is composed of a transport roller composed of a shaft and a roller penetrating a roller for transporting the color filter substrate, and a roller cleaning tank filled with flush water,
The roller is provided to support the vicinity of both side portions with respect to the conveying direction of the color filter substrate, positioned so that the roller cleaning tank is immersed the lower rollers of the conveying roller washing water, the washing water of the roller washing tank is supplied from the water supply opening provided in said roller washing tank, fill the roller cleaning tank, it overflows from the upper end of the side wall of the said roller washing vessel and falls into the outer tub, to the outside from the drain outlet A color filter substrate transport mechanism that flows out.
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