JP3254798B2 - Reproduction method of color filter light shielding film - Google Patents

Reproduction method of color filter light shielding film

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JP3254798B2
JP3254798B2 JP7681593A JP7681593A JP3254798B2 JP 3254798 B2 JP3254798 B2 JP 3254798B2 JP 7681593 A JP7681593 A JP 7681593A JP 7681593 A JP7681593 A JP 7681593A JP 3254798 B2 JP3254798 B2 JP 3254798B2
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明はカラー液晶テレビ、コン
ピュータ用カラー液晶ディスプレイ等のカラー液晶表示
装置に好適なカラーフィルタの遮光膜の再生方法に関す
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for reproducing a light-shielding film of a color filter suitable for a color liquid crystal display device such as a color liquid crystal television and a color liquid crystal display for a computer.

【0002】[0002]

【従来の技術】カラーフィルタにおいて、透明基板上の
R・G・Bの各画素間の間隙、およびR・G・Bの各画
素からなる着色パターン部の外側に隣接して、それぞ
れ、遮光膜および額縁遮光膜を形成することが好ましく
行われている。遮光膜は、カラーフィルタ画素間隙から
の光のもれを防止することによって表示品質やカラーコ
ントラストを上げるために設けられたものであり、額縁
遮光膜は、セル組したときの画素端部からの光のもれを
防ぎ、鮮明な画像を提供するために設けられるものであ
る(例えば、特開平2−193184号公報など)。
2. Description of the Related Art In a color filter, a light-shielding film is provided adjacent to a gap between R, G, and B pixels on a transparent substrate and an outer side of a colored pattern portion composed of R, G, and B pixels. In addition, it is preferable to form a frame light-shielding film. The light-shielding film is provided to improve display quality and color contrast by preventing light leakage from the color filter pixel gap, and the frame light-shielding film is provided from a pixel end when the cell is assembled. It is provided to prevent light leakage and provide a clear image (for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2-193184).

【0003】カラーフィルタの遮光膜は、通常金属クロ
ムの蒸着膜やスパッタリング膜のエッチング加工などに
より形成されている。このとき、クロム膜を均一かつピ
ンホール等の欠陥が無く作製することが必須であり、パ
ターンは、レジスト塗布、露光、現像、ベーキング、エ
ッチング、レジスト剥離などの工程をへて形成される。
しかし、このような金属クロムを用いる方法は高価であ
る上に光の反射があり画像品位の低下を招くためあまり
好ましくない。
A light-shielding film of a color filter is usually formed by etching a metal chromium deposition film or a sputtering film. At this time, it is essential to form the chromium film uniformly and free from defects such as pinholes, and the pattern is formed through steps such as resist coating, exposure, development, baking, etching, and resist peeling.
However, such a method using metal chromium is not preferable because it is expensive, reflects light, and deteriorates image quality.

【0004】一方、感光性レジスト材料を黒色顔料で着
色したインキ、ペーストを用いて印刷法、スピンナ、ロ
ールコータ等で塗布、マスク露光によってパターニング
する方法なども提案されている。この方法は、金属クロ
ム法に比べて安価で、かつ光の反射もないため、最近は
もっぱらこの着色ペーストなどによる樹脂遮光膜の開発
が盛んに行われている。
On the other hand, there have been proposed a printing method using an ink or a paste obtained by coloring a photosensitive resist material with a black pigment, a coating method using a spinner, a roll coater, or the like, and a method of patterning by mask exposure. Since this method is inexpensive and does not reflect light as compared with the metal chromium method, development of a resin light-shielding film exclusively using a colored paste or the like has been actively performed recently.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】このような樹脂遮光膜
を形成する場合、R・G・Bパターンを形成する前に基
板に作成しておく方法(先付け法)と、R・G・Bパタ
ーンを形成したのち遮光膜を形成する方法(後付け法)
がある。先付け法の場合、遮光膜は最初に形成されるた
め、遮光膜形成時に不良品が発生してもコスト面では大
きな問題ではない。しかしながら、後付け法の場合、遮
光膜はR・G・B形成品となってから形成されるため、
遮光膜形成時に不良品(遮光膜中の異物による突起、白
ピン(遮光膜の白抜け)、黒ピン(画素上に遮光膜の一
部が残ってあるいは付着したもの)など)が発生する
と、工程収率や全体コストに大きく影響する。この不良
品の遮光膜の発生を防ぐため、従来から種々検討されて
いるが、完全に防ぐまでには至っていないのが現状であ
る。
When such a resin light-shielding film is formed, a method (preparing method) in which a resin light-shielding film is formed on a substrate before forming an R, G, B pattern, and an R, G, B pattern are formed. Method of forming a light-shielding film after forming a mask (post-installation method)
There is. In the case of the pre-applying method, since the light-shielding film is formed first, even if a defective product occurs during the formation of the light-shielding film, it is not a major problem in terms of cost. However, in the case of the post-attachment method, since the light-shielding film is formed after forming the R, G, and B products,
If defective products (projections due to foreign matter in the light-shielding film, white pins (white spots in the light-shielding film), black pins (part of the light-shielding film remaining on or adhered to the pixels) during the formation of the light-shielding film, etc.) It greatly affects process yield and overall cost. Various studies have been made in the past to prevent the generation of a light-shielding film of a defective product, but at present, it has not yet been completely prevented.

【0006】そこで、本発明者らは、従来とは視点を変
え、不良品が発生した場合であっても、如何に工程収率
を上げることができるかについて鋭意検討を行った。
Therefore, the present inventors have changed the viewpoint from the prior art and made intensive studies on how to increase the process yield even when a defective product occurs.

【0007】すなわち、本発明の目的は、カラーフィル
タの遮光膜の形成時に不良品が発生した場合であって
も、工程収率を上げ、全体コストを低減する方法を提供
することにある。
That is, an object of the present invention is to provide a method for increasing the process yield and reducing the overall cost even if a defective product occurs during the formation of the light-shielding film of the color filter.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】かかる本発明の目的は、
透明基板上に複数色の画素を形成した後に、該各画素間
の間隙に遮光膜を形成することによって製造されるカラ
ーフィルタを剥離液に浸漬して遮光膜のみを除去し、再
度、該各画素間の間隙に遮光膜を形成することを特徴と
するカラーフィルタ遮光膜の再生方法により達成され
る。
SUMMARY OF THE INVENTION The object of the present invention is as follows.
After forming pixels of a plurality of colors on the transparent substrate, the color filter produced by forming a light-shielding film in the gap between each pixel is immersed in a stripping solution to remove only the light-shielding film, and again, This is achieved by a color filter light-shielding film reproducing method, wherein a light-shielding film is formed in a gap between pixels.

【0009】以下、本発明について詳細に説明する。Hereinafter, the present invention will be described in detail.

【0010】本発明のカラーフィルタ遮光膜の再生方法
に使用されるカラーフィルタは、透明基板上に複数色の
画素を形成した後に、該各画素間の間隙に遮光膜を形成
することによって製造されるものであり、透明基板上の
中央側所定位置に複数色の画素および遮光膜からなる着
色パターンを有する。
The color filter used in the color filter light-shielding film reproducing method of the present invention is manufactured by forming pixels of a plurality of colors on a transparent substrate and then forming a light-shielding film in a gap between the pixels. And a colored pattern composed of pixels of a plurality of colors and a light-shielding film at a predetermined position on the center side of the transparent substrate.

【0011】カラーフィルタに用いられる透明基板とし
ては、特に限定されないが、ガラスまたは透明プラスチ
ックなどが好ましく使用される。
The transparent substrate used for the color filter is not particularly limited, but glass or transparent plastic is preferably used.

【0012】各画素は通常、赤(R)・緑(G)・青
(B)であり、各画素の形状としては、特に限定されな
いが、ストライプ状、モザイク状などの形状が一般的で
ある。また、各画素間には、通常、それぞれ、10〜2
0μm程度のスペースが設けられており、この部分に遮
光膜が形成されている。画素の材料としては、ポリイミ
ド系ポリマ、アクリル系ポリマ、ポリビニルアルコール
系ポリマなどのポリマに着色用顔料およびその他の添加
剤を混合分散したものなどがあげられる。
Each pixel is usually red (R), green (G), and blue (B), and the shape of each pixel is not particularly limited, but is generally a stripe shape, a mosaic shape, or the like. . Further, between each pixel, usually, 10 to 2
A space of about 0 μm is provided, and a light-shielding film is formed in this space. Examples of the material of the pixel include a material in which a coloring pigment and other additives are mixed and dispersed in a polymer such as a polyimide polymer, an acrylic polymer, or a polyvinyl alcohol polymer.

【0013】遮光膜の形成方法としては、公知の方法が
いずれも使用できるが、例えば、感光性ペースト法、非
感光性ペースト法(フォトレジスト法)、印刷法、電着
法などがあげられる。
As a method for forming the light-shielding film, any known method can be used, and examples thereof include a photosensitive paste method, a non-photosensitive paste method (photoresist method), a printing method, and an electrodeposition method.

【0014】感光性ペースト法で遮光膜を形成する方法
について説明する。この場合、着色成分、感光性成分お
よび溶剤を主成分とする感光性ペーストを、予め画素が
形成された透明基板上に塗布し、乾燥、露光、現像する
ことによって、各画素間の間隙に遮光膜を形成する。露
光の方法としては、透明基板の表側から露光する方法と
裏側から露光する方法がある。表側から露光を行う場合
は、マスクを必要とし、遮光膜の一部を隣接する画素パ
ターンと重ねることによって位置ずれをカバーすること
ができる。一方、裏側から露光する場合は、各画素パタ
ーンがマスクになるため、位置合わせは不要で寸法精度
の良い遮光膜を形成することができる。遮光膜の材料と
しては、アクリル系ポリマ、ポリイミド系ポリマ、黒色
着色成分としての黒色顔料およびその他の添加剤を混合
分散したものなどがあげられる。
A method for forming a light shielding film by a photosensitive paste method will be described. In this case, a photosensitive paste containing a coloring component, a photosensitive component, and a solvent as main components is applied on a transparent substrate on which pixels are formed in advance, and dried, exposed, and developed to shield light from the gaps between the pixels. Form a film. The method of exposure includes a method of exposing from the front side of the transparent substrate and a method of exposing from the back side. When exposure is performed from the front side, a mask is required, and a position shift can be covered by overlapping a part of the light shielding film with an adjacent pixel pattern. On the other hand, in the case of exposure from the back side, since each pixel pattern serves as a mask, alignment is unnecessary and a light-shielding film with high dimensional accuracy can be formed. Examples of the material of the light-shielding film include a mixture of an acrylic polymer, a polyimide polymer, a black pigment as a black coloring component, and other additives.

【0015】このようにして得られたカラーフィルタは
検査工程を経て、次の工程に移される。この検査工程で
遮光膜に欠陥があって不良品(遮光膜中の異物による突
起、白ピン(遮光膜の白抜け)、黒ピン(画素上に遮光
膜の一部が残ってあるいは付着したもの)など)が発生
した場合に、本発明にかかるカラーフィルタ遮光膜の再
生方法を適用することが有効である。
[0015] The color filter obtained in this way goes through the inspection process to the next process. In this inspection process, the light-shielding film is defective and defective (projections due to foreign matter in the light-shielding film, white pins (white spots in the light-shielding film), black pins (parts of the light-shielding film remaining or adhered on the pixels) It is effective to apply the method for regenerating the color filter light-shielding film according to the present invention when (1) or (2) occurs.

【0016】本発明のカラーフィルタ遮光膜の再生方法
は、各画素を損傷することなく遮光膜のみを除去し、再
度、該各画素間の間隙に遮光膜を形成することを特徴と
する。
A method of reproducing a light-shielding film for a color filter according to the present invention is characterized in that only the light-shielding film is removed without damaging each pixel, and a light-shielding film is formed again in a gap between the pixels.

【0017】具体的には、カラーフィルタを剥離液に浸
漬することが好ましい。この場合剥離液として各画素を
膨潤させることなく、遮光膜のみを溶解または膨潤させ
る性質を有するものが使用される。
Specifically, it is preferable to immerse the color filter in a stripping solution. In this case, a liquid having the property of dissolving or swelling only the light-shielding film without swelling each pixel is used as the stripping liquid.

【0018】剥離液としては、無機アルカリ、有機アル
カリまたは界面活性剤を単独で、あるいは二種以上混合
して用いることができる。無機アルカリとしては、ケイ
酸ナトリウム、ケイ酸カリウム、水酸化ナトリウム、水
酸化カリウム、水酸化リチウム、リン酸ナトリウム、メ
タケイ酸ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、
炭酸アンモニウムなどをあげることができる。有機アル
カリとしては、モノエタノールアミン、ジエタノールア
ミン、トリエタノールアミン、水酸化テトラアルキルア
ンモニウム、ケイ酸アンモニウムなどをあげることがで
きる。界面活性剤としては、ラウリルスルホン酸ナトリ
ウム、オクチルスルホン酸ナトリウム、ドデニルベンゼ
ンスルホン酸ナトリウムなどのアニオン型界面活性剤、
アルキルエチレンオキサイドモノメチルエーテルなどの
ノニオン型界面活性剤などをあげることができる。その
他、膨潤助剤として、エチレングリコールモノフェニル
エーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、n
−プロピルアルコール、エチルアルコール、ブチルアル
コールなどの有機溶剤を添加しても良い。
As the stripping solution, an inorganic alkali, an organic alkali or a surfactant can be used alone or in combination of two or more. As inorganic alkalis, sodium silicate, potassium silicate, sodium hydroxide, potassium hydroxide, lithium hydroxide, sodium phosphate, sodium metasilicate, sodium carbonate, potassium carbonate,
And ammonium carbonate. Examples of the organic alkali include monoethanolamine, diethanolamine, triethanolamine, tetraalkylammonium hydroxide, and ammonium silicate. Examples of the surfactant include anionic surfactants such as sodium lauryl sulfonate, sodium octyl sulfonate, and sodium doenylbenzene sulfonate;
Nonionic surfactants such as alkyl ethylene oxide monomethyl ether and the like can be mentioned. In addition, ethylene glycol monophenyl ether, ethylene glycol monobutyl ether, n
-An organic solvent such as propyl alcohol, ethyl alcohol and butyl alcohol may be added.

【0019】上記の剥離液にカラーフィルタ(不良品)
を一定時間浸漬し、その後、必要に応じて、超音波洗
浄、スプレー洗浄を行うことによって、遮光膜を溶解ま
たは膨潤させる効果をさらに高めることができる。
A color filter (defective product) is added to the above stripping solution.
Is immersed for a certain period of time, and then, if necessary, ultrasonic cleaning and spray cleaning are performed to further enhance the effect of dissolving or swelling the light-shielding film.

【0020】上記の剥離液は、画素および遮光膜を公知
のいずれの材料で作成した場合にも使用できるが、遮光
膜を形成後、ポストベークを行う前に検査を行い、剥離
することが好ましい。ポストベークを行った後に剥離液
に浸漬すると、遮光膜は非常に膨潤しにくくなり、たと
え超音波洗浄を行っても剥離されにくくなるため、好ま
しくない。
The above-mentioned stripping solution can be used when the pixel and the light-shielding film are made of any of the known materials. However, it is preferable to inspect and strip after forming the light-shielding film and before performing post-baking. . If it is immersed in a stripping solution after the post-baking, the light-shielding film hardly swells and is hardly stripped even by ultrasonic cleaning, which is not preferable.

【0021】ここで剥離液が強すぎたり、浸漬時間が長
すぎたり、剥離液の温度が高すぎたりすると、画素を損
傷することがあるので注意を要する。すなわち、剥離液
の濃度としては、1〜20重量%が好ましく、より好ま
しくは、2〜10重量%である。浸漬時間としては、
0.5〜16時間が好ましく、より好ましくは、1〜4
時間である。剥離液の温度としては、15〜50℃が好
ましく、より好ましくは、20〜30℃である。
It should be noted that if the stripping solution is too strong, the immersion time is too long, or the temperature of the stripping solution is too high, the pixels may be damaged. That is, the concentration of the stripping solution is preferably 1 to 20% by weight, more preferably 2 to 10% by weight. As the immersion time,
0.5 to 16 hours are preferable, and more preferably, 1 to 4 hours.
Time. The temperature of the stripping solution is preferably from 15 to 50 ° C, more preferably from 20 to 30 ° C.

【0022】また、画素の損傷を防ぐ方法として、上記
のように遮光膜の剥離条件が最適であることは勿論であ
るが、画素のパターン形成後、十分なポストベークを行
って、画素が剥離液に溶解または膨潤しないようにして
おくことでさらに効果を高めることができる。
As a method of preventing damage to the pixels, it is a matter of course that the conditions for removing the light-shielding film are optimal as described above. However, after forming the pattern of the pixels, sufficient post-baking is performed to remove the pixels. The effect can be further enhanced by not dissolving or swelling in the liquid.

【0023】[0023]

【実施例】【Example】

実施例1 ポリアミック酸のN−メチルピロリドン溶液(25重量
%)に赤、緑、青の有機顔料をそれぞれ分散した着色ペ
ーストを調整した。これらの着色ペーストをそれぞれス
ピンナでガラス基板上に塗布し、ポジ型レジストを用い
るエッチング法を用いて常法によりパターン形成を行っ
た。1色目のパターン形成が完了した時点で300℃・
1時間のポストベークを行い、2色目のパターン形成を
行い、再び300℃・1時間のポストベークを行った。
さらに、3色目のパターン形成を行い、300℃・1時
間のポストベークを行い、R・G・Bパターンを形成し
た。このとき各色の間に15μmの遮光膜用間隙を設け
た。
Example 1 A colored paste in which red, green, and blue organic pigments were dispersed in an N-methylpyrrolidone solution of polyamic acid (25% by weight) was prepared. Each of these coloring pastes was applied on a glass substrate by a spinner, and a pattern was formed by an ordinary method using an etching method using a positive resist. When the pattern formation of the first color is completed,
The post-baking was performed for 1 hour, the second color pattern was formed, and the post-baking was performed again at 300 ° C. for 1 hour.
Further, a third color pattern was formed, and post-baking was performed at 300 ° C. for 1 hour to form an RGB pattern. At this time, a gap for a light-shielding film of 15 μm was provided between each color.

【0024】このようにして作成したR・G・Bパター
ンの上に感光性ポリアミック酸溶液(東レ(株)製“フ
ォトニース”)に黒色成分を分散した感光性黒色ペース
トをスピンナで全面塗布し、150℃・30分で乾燥
し、基板の裏側から露光を行い、現像して、各画素間に
黒色遮光膜を形成した。
A photosensitive black paste obtained by dispersing a black component in a photosensitive polyamic acid solution (“Photo Nice” manufactured by Toray Industries, Inc.) is applied on the entire surface of the R, G, and B patterns thus prepared by a spinner. The substrate was dried at 150 ° C. for 30 minutes, exposed from the back side of the substrate, and developed to form a black light-shielding film between each pixel.

【0025】上記の作業を50枚について行い、遮光膜
中の異物による突起、白ピン、黒ピン、その他遮光膜の
損傷の有無について検査を行った。その結果、不良品は
18枚あることが判った。
The above operation was performed on 50 sheets, and an inspection was performed on the presence or absence of damage to the projections, white pins, black pins, and other light-shielding films due to foreign matter in the light-shielding film. As a result, it was found that there were 18 defective products.

【0026】これらの不良品のカラーフィルタを、メタ
ケイ酸ソーダ、炭酸ソーダ、アルキルエチレンオキサイ
ドモノメチルエーテルを5:2:1(重量比)の割合で
5重量%水溶液とした剥離液に、20℃・1時間浸漬し
たあと、水スプレーで洗浄した。その結果、18枚とも
全て遮光膜のみを完全に除去でき、しかもR・G・Bパ
ターンの損傷は全くなかった。このようにして再生され
たR・G・Bパターン品に、再度、上記感光性黒色ペー
ストを用いて、上記と同様に遮光膜を形成した。
The color filters of these defective products were applied to a stripping solution containing a 5% by weight aqueous solution of sodium metasilicate, sodium carbonate and alkyl ethylene oxide monomethyl ether at a ratio of 5: 2: 1 (weight ratio) at 20 ° C. After immersion for 1 hour, it was washed with water spray. As a result, in all of the 18 sheets, only the light-shielding film could be completely removed, and the R, G, and B patterns were not damaged at all. A light-shielding film was formed on the R, G, and B pattern products thus reproduced again using the photosensitive black paste in the same manner as described above.

【0027】この18枚のカラーフィルタについて同様
に検査を行った結果、16枚が良品で、不良品は2枚で
あった。その結果を表1にまとめた。すなわち、遮光膜
の再生を行わないとき(No.1)は工程収率が64%であ
るが、遮光膜を再生することによって(No.2)その収率
は96%に向上した。
As a result of similarly inspecting the 18 color filters, 16 were good and two were defective. Table 1 summarizes the results. That is, when the light-shielding film was not regenerated (No. 1), the process yield was 64%, but by regenerating the light-shielding film (No. 2), the yield was improved to 96%.

【0028】[0028]

【表1】 実施例2 アクリル酸、スチレンおよびメチルメタクリレートを等
量共重合したアクリルポリマ5重量%、トリメチロール
プロパントリアクリレート3重量%、カーボンブラック
6重量%、ポリビニルブチラール5重量%、α−アミノ
アセトフェノン1重量%、ブチルセロソルブ80重量%
を混合し、ビーズミル分散して遮光膜形成用感光性ペー
ストを調整した。
[Table 1] Example 2 5% by weight of an acrylic polymer obtained by copolymerizing acrylic acid, styrene and methyl methacrylate in equal amounts, 3% by weight of trimethylolpropane triacrylate, 6% by weight of carbon black, 5% by weight of polyvinyl butyral, 1% by weight of α-aminoacetophenone 80% by weight of butyl cellosolve
Were mixed and dispersed in a bead mill to prepare a photosensitive paste for forming a light-shielding film.

【0029】このペーストを実施例1と同様にR・G・
Bパターンを形成したガラス基板の上にスピンナで全面
塗布し、80℃・5分で乾燥した。このときの膜厚は
1.5μmであった。次に、基板の裏側から露光を行
い、現像して、各画素間に黒色遮光膜を形成した。
This paste was mixed with R, G,
The entire surface was coated with a spinner on the glass substrate on which the B pattern was formed, and dried at 80 ° C. for 5 minutes. At this time, the film thickness was 1.5 μm. Next, exposure was performed from the back side of the substrate, and development was performed to form a black light-shielding film between the pixels.

【0030】上記の作業を50枚について行い、遮光膜
中の異物による突起、白ピン、黒ピン、その他遮光膜の
損傷の有無について検査を行った。その結果、不良品は
15枚あることが判った。
The above operation was performed on 50 sheets, and an inspection was performed on the presence or absence of damage to the projections, white pins, black pins, and other light-shielding films due to foreign matter in the light-shielding film. As a result, it was found that there were 15 defective products.

【0031】これらの不良品のカラーフィルタをメタケ
イ酸ソーダ、炭酸ソーダ、アルキルエチレンオキサイド
モノメチルエーテルを5:2:1(重量比)の割合で5
重量%水溶液とした剥離液に、20℃・1時間浸漬した
あと、水スプレーで洗浄した。その結果、15枚とも全
て遮光膜のみを完全に除去でき、しかもR・G・Bパタ
ーンの損傷は全くなかった。このようにして再生された
R・G・Bパターン品に、再度、上記感光性黒色ペース
トを用いて、上記と同様に遮光膜を形成した。この15
枚のカラーフィルタについて同様に検査をした結果、1
4枚が良品で、不良品は1枚であった。その結果を表2
にまとめた。すなわち、遮光膜の再生を行わないとき
(No・1)は工程収率が70%であるが、遮光膜を再生
することによって(No・2)その収率は98%に向上し
た。
These defective color filters were prepared by mixing sodium metasilicate, sodium carbonate, and alkyl ethylene oxide monomethyl ether at a ratio of 5: 2: 1 (weight ratio).
After being immersed in a stripping solution of a weight% aqueous solution at 20 ° C. for 1 hour, the film was washed with water spray. As a result, in all of the fifteen sheets, only the light-shielding film could be completely removed, and the R, G, and B patterns were not damaged at all. A light-shielding film was formed on the reproduced R, G, and B pattern products again using the photosensitive black paste in the same manner as described above. This 15
As a result of similarly inspecting one color filter, 1
Four sheets were good and one was defective. Table 2 shows the results.
Summarized in That is, when the light-shielding film was not regenerated (No. 1), the process yield was 70%, but by regenerating the light-shielding film (No. 2), the yield was improved to 98%.

【0032】[0032]

【表2】 [Table 2]

【0033】[0033]

【発明の効果】本発明によると、後付け法によるカラー
フィルタの遮光膜の形成時に不良品が発生した場合であ
っても、工程収率を上げ、全体コストを低減することが
できる。
According to the present invention, the process yield can be increased and the overall cost can be reduced even if a defective product occurs when the light-shielding film of the color filter is formed by the post-installation method.

Claims (2)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 透明基板上に複数色の画素を形成した後
に、該各画素間の間隙に遮光膜を形成することによって
製造されるカラーフィルタを剥離液に浸漬して遮光膜の
みを除去し、再度、該各画素間の間隙に遮光膜を形成す
ることを特徴とするカラーフィルタ遮光膜の再生方法。
1. After forming pixels of a plurality of colors on a transparent substrate, a color filter produced by forming a light shielding film in a gap between the pixels is immersed in a stripping solution to remove only the light shielding film. Forming a light-shielding film in the gap between the pixels again.
【請求項2】 剥離液が、無機アルカリ、有機アルカリ
および界面活性剤の群から選ばれた少なくとも一種を含
有することを特徴とする請求項記載のカラーフィルタ
遮光膜の再生方法。
2. A stripping solution, inorganic alkali, a method of reproducing according to claim 1 color filter shielding film, wherein in containing at least one selected from the group of organic alkali and surfactants.
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