JP4907266B2 - チューナブルキャパシタ - Google Patents
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Description
Journal of the European Ceramic Society 23(2003)2381-2386,「Can the addition of a dielectric improve the figure of merit of a tunable material?」K.F.Astafiev et al.
(1)前記実施例に示した材料,形状,寸法は一例であり、同様の効果を奏するように適宜変更可能である。例えば、前記実施例では、Si基板を使用したが、サファイア単結晶(Al2O3),ランタンストロンチウムアルミニウムタンタレート単結晶({LaAlO3}0.3−{SrAl0.5Ta0.5O3}0.7[略号LSAT]),ランタンアルミネート単結晶(LaAlO3),マグネシア単結晶(MgO),ガラスなどを用いてもよい。また、前記実施例では電極材料としてPtを用いたが、例えばAuを蒸着ないしスパッタリングで形成したものでもよい。更に、前記実施例では、高誘電率層をスパッタリングで形成したが、他にPLD(Pulse Laser Deposition)法などで形成するようにしてもよい。
12:基板
12A:ウエハ
12B:膜
14:下面電極
16:高誘電率層
18:低誘電率層
20:上面電極
50:低誘電率層
60:高誘電率層
Claims (3)
- 下面電極と上面電極との間に第1の誘電体層が形成されており、前記両電極に対する印加電圧によって前記両電極間の容量が変化するチューナブルキャパシタであって、
前記第1の誘電体層と前記上面電極との間において、前記第1の誘電体層よりも低い誘電率の第2の誘電体層を、前記第1の誘電体層の主面の一部を覆うように形成するとともに、
前記上面電極と、前記第1の誘電体層の主面の露出部分及び前記第2の誘電体層との間に、前記第2の誘電体層よりも高い誘電率の第3の誘電体層を形成したことを特徴とするチューナブルキャパシタ。 - 前記第2の誘電体層を、前記第1の誘電体層の主面上で多数に分割形成したことを特徴とする請求項1記載のチューナブルキャパシタ。
- 前記第2の誘電体層を、
誘電体粒子を含有する有機物を被覆するコーティング工程,
該コーティング工程によって形成された被覆に対して熱処理を施すアニール工程,
によって形成したことを特徴とする請求項1又は2に記載のチューナブルキャパシタ。
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