JP4900655B2 - レーザー加工装置 - Google Patents
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Description
ビームエキスパンダ2を用いて、レーザー光L1の断面積を広げる理由は、集光レンズ4による収束性をよくし、切断部位におけるレーザー光を高強度密度とするためである。このようにレーザー光を集光させ、レーザー強度密度を閾値以上にすることによって、ダイヤモンドを昇華・除去する。そして、照射部位を走査することによって切断溝を形成する。このときの走査は、例えば、ステージ5として、搭載物を3次元的に変位可能なステージを用いて、加工対象物Tの位置を変化させることによって行うことができる。レーザー光の焦点位置の調節は集光レンズ4またはステージ5の上下移動によって行う。また、ミラー3は可視光に対して透過性があり、照射光軸の上方延長線上に観察用モニター装置6、例えばCCDカメラを設置しており、切断部を確認することができる。
YAGレーザー、エキシマレーザーなどを使用することができる。
拡張させる方向に直交する方向にレーザー光を収縮させた後、平行光として出力する光学系、例えばシリンドリカルレンズ対を配置することができる。特に、レーザー発生装置としてエキシマレーザーを用いる場合、断面が矩形状のレーザー光を発生するので、レーザー光を一方向(シート状レーザー光の幅方向)に拡張させ、それに直交する方向(シート状レーザー光の厚さ方向)に収縮させる2組のシリンドリカルレンズ対を備えることが望ましい。
2 ビームエキスパンダ
3 ミラー
4 集光レンズ
5 ステージ
6 観察用モニター装置
7 シート状レーザー形成部
T 加工対象物
Claims (1)
- レーザー発生手段と、
該レーザー発生手段から出力されるレーザー光を、該レーザー光の進行方向に垂直な面内の互いに垂直に交差する第1の方向および第2の方向のうち前記第1の方向に拡張させ、拡張レーザー光を出力するレーザー拡張手段と、
前記拡張レーザー光を、少なくとも前記第1の方向に収束させ、加工対象物の表面近傍に集光させる集光手段とを備え、
前記拡張レーザー光の進行方向に垂直な面内での断面形状が、前記拡張レーザー光の前記第1の方向の長さをwとし、前記第2の方向の長さをdとして、w/d≧5の関係を満たし、
前記加工対象物の表面近傍に集光させた前記拡張レーザー光を、前記加工対象物に対して、前記レーザー拡張手段による前記拡張レーザー光の拡張方向と同じ前記第1の方向に走査して、前記第1の方向に延伸する切断溝を前記加工対象物に形成し、
前記拡張レーザー光を、既に形成した前記切断溝上で複数回繰り返し走査して、厚さが1mm以上のダイヤモンドを切断することを特徴とするレーザー加工装置。
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