JP4897344B2 - 導電性微粒子及び異方性導電材料 - Google Patents

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Description

本発明は、凸部と基材微粒子とが一体不可分であるため凸部を形成するための別工程を必要とせず、かつ、凸部が脱落することがなく、導通不良防止とともに抵抗値の低減化が可能な導電性微粒子及び異方性導電材料に関する。
導電性微粒子は、バインダー樹脂や粘接着剤等と混合、混練することにより、例えば、異方性導電ペースト、異方性導電インク、異方性導電粘接着剤、異方性導電フィルム、異方性導電シート等の異方性導電材料として広く用いられている。
これらの異方性導電材料は、例えば、液晶ディスプレイ、パーソナルコンピュータ、携帯電話等の電子機器において、回路基板同士を電気的に接続したり、半導体素子等の小型部品を回路基板に電気的に接続したりするために、相対向する回路基板や電極端子の間に挟み込んで使用されている。
このような異方性導電材料に用いられる導電性微粒子としては、従来、粒子径が均一で、適度な強度を有する樹脂粒子等の非導電性微粒子の表面に、導電層として金属メッキ層を形成させた導電性微粒子が用いられている。しかしながら、このような異方性導電材料を用いて回路基板同士を電気的に接続すると、導電性微粒子表面の導電層と回路基板等との間にバインダー樹脂等がはさまり、導電性微粒子と回路基板等との間の接続抵抗が高くなることがあった。特に近年の電子機器の急激な進歩や発展に伴って、導電性微粒子と回路基板等との間の接続抵抗の更なる低減が求められてきている。
特許文献1には、接続抵抗を低減する目的で、表面に凸部を有する導電性微粒子が開示されている。この導電性微粒子は、導電性微粒子表面の導電層と回路基板等との間に存在するバインダー樹脂等を凸部が突き破ることで(樹脂排除性)、凸部と回路基板等とを確実に接続させることで、導電性微粒子と回路基板等との間の接続抵抗の低減を図っている。
しかしながら、このような導電性微粒子を製造する際には、基材微粒子をパラジウム等の触媒を含有する水溶液中に分散させ、基材微粒子の表面に触媒を担持させた後、凸部となる芯材を含有する水溶液中やメッキ液中で分散させることにより凸部やメッキを形成させる工程が必要となるため、コストや手間がかかるという問題や、芯材が基材微粒子の表面にうまく付着しないことや得られた導電性微粒子から凸部が脱落することがあるという問題があった。
特開2000−243132号公報
本発明は、上記現状に鑑み、凸部と基材微粒子とが一体不可分であるため凸部を形成するための別工程を必要とせず、かつ、凸部が脱落することがなく、導通不良防止とともに抵抗値の低減化が可能な導電性微粒子及び異方性導電材料を提供することを目的とする。
本発明は、メラミン樹脂基材微粒子(以下、単に基材微粒子ともいう)と、上記メラミン樹脂基材微粒子の表面に付着したシリカ微粒子と、上記メラミン樹脂基材微粒子とシリカ微粒子との表面に形成されたニッケルからなる導電層とからなる導電性微粒子であって、上記導電性微粒子は、水性媒体中、分散剤として平均粒子径5〜70nmのシリカ微粒子の懸濁下で、メラミン化合物とアルデヒド化合物とを塩基性条件下で反応させて、水に可溶なメラミン系樹脂の初期縮合物の水溶液を生成させる工程1と、上記水溶液に酸触媒を加えて、メラミン樹脂基材微粒子を析出させる工程2と、上記メラミン樹脂基材微粒子の表面にニッケルメッキを施す工程3とを有する方法により製造されたものであり、上記メラミン樹脂基材微粒子は、正投影像をとったときに、該正投影像中に観察される任意の10個の凸部の最大外径の平均が10〜300nmであり、該導電性微粒子は、正投影像をとったときに、該正投影像中に観察される任意の10個の凸部の最大外径の平均が10〜300nmである導電性微粒子である。
以下に本発明を詳述する。
本発明者らは、鋭意検討の結果、分散剤を添加して製造されたメラミン樹脂微粒子は、水系媒体中に安定に分散し、かつ、表面に凹凸を有するため、得られたメラミン樹脂微粒子の表面にメッキを施すだけで表面に凸部を有する導電性微粒子を得ることができるということを見出し、本発明を完成させるに至った。
本発明の導電性微粒子は、メラミン樹脂基材微粒子と、上記メラミン樹脂基材微粒子の表面に形成されたニッケルからなる導電層とからなる。
上記メラミン樹脂基材微粒子は、メラミン化合物とアルデヒド化合物との反応により得られるものである。
上記メラミン化合物としては特に限定されず、例えば、メラミン;メラミンのアミノ基の水素をアルキル基、アルケニル基、フェニル基、ヒドロキシアルキル基、ヒドロキシアルキル(オキサアルキル)n基、アミノアルキル基で置換した置換メラミン化合物等が挙げられる。
また、上記メラミン化合物は、一部を尿素、チオ尿素、エチレン尿素等の尿素類、ベンゾグアナミン、アセトグアナミン等のグアナミン類、フェノール、クレゾール、アルキルフェノール、レゾルシン、ハイドロキノン、ピロガロール等のフェノール類、アニリン等で置き換えて混合物として使用してもよい。
上記アルデヒド化合物としては特に限定されず、例えば、ホルムアルデヒド、パラホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、ベンズアルデヒド、フルフラール等が挙げられる。なかでも、上記メラミン化合物との反応性に優れることから、ホルムアルデヒド、パラホルムアルデヒドが好適に用いられる。
上記アルデヒド化合物は、メラミン化合物1モルに対して有効アルデヒド基あたり1.1〜6.0モル使用することが好ましく、1.2〜4.0モル使用することが特に好ましい。
上記メラミン化合物と上記アルデヒド化合物とを反応させる際には、媒体として水を用いることが好ましい。また、水の一部を水に可溶性の有機溶媒に置き換えた混合溶液も使用することができる。このような有機溶媒としては特に限定されず、メラミン樹脂の初期縮合物を溶解することができるものであればよく、例えば、メタノール、エタノール、イソプロパノール、プロパノール等のアルコール類、ジオキサン、テトラヒドロフラン、1,2−ジメトキシエタン等のエーテル類、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルオキシド等の極性溶媒が挙げられる。
本発明の導電性微粒子においては、後述するように上記基材微粒子を製造する際に分散剤を添加する。特に分散剤として、一定の粒子径のシリカ微粒子を用いることにより基材微粒子の大きさをほぼ均一にすることが可能となり、結果的に均一な粒子径の導電性微粒子を得ることができる。
なお、分散剤としてシリカ微粒子を用いた場合には、このシリカ微粒子が基材微粒子の表面に付着、又は、基材微粒子内に埋め込まれたりする。
上記シリカ微粒子の平均粒子径としては特に限定されないが、好ましい下限は5nm、好ましい上限は70nmである。5nm未満であると、シリカ微粒子を添加したことによる効果が得られないことがあり、70nmを超えると、得られる基材微粒子は球状粒子になり難くなる。
ここで、上記シリカ微粒子の平均粒子径は、窒素吸着法(BET法)により測定して得られる比表面積径である。平均粒子径(比表面積径)(Dnm)は、窒素吸着法で測定して、比表面積Sm/gからD=2720/Sの式により求められる。
上記シリカ微粒子の形態としては特に限定されず、例えば、沈降性シリカパウダー、気相法シリカパウダー等のパウダー状のものも挙げられるが、媒体中で一次粒子レベルまで安定分散させたシリカ微粒子のゾルを用いることが好ましい。
上記シリカ微粒子のゾルとしては特に限定されず、例えば、水性シリカゾル、オルガノシリカゾル等が挙げられる。なかでも、基材微粒子の製造の際には、上述したように水性媒体を用いるため、シリカ微粒子のゾルの分散安定性の面から水性シリカゾルを用いることが好ましい。
上記基材微粒子の製造の際に上記シリカ微粒子を用いた場合には、上記基材微粒子の正投影像をとったときに、上記基材微粒子の表面に付着したシリカ微粒子の投影像と、上記基材微粒子の表面の凸部の投影像との存在個数の比率が1:2〜1:10となる。
上記正投影像は、例えば、走査電子顕微鏡(SEM)等により観察することができ、具体的には、図1に示すような10000倍で撮影した正投影像のうち、正方形で囲んだ面積比率1/16.6の部分について拡大した図2に示すような正投影像中で、基材微粒子の表面の凸部とシリカ微粒子との存在個数を数えることにより、基材微粒子の表面に付着したシリカ微粒子の投影像と、基材微粒子の表面の凸部の投影像との存在個数の比率を求める方法等が挙げられる。
なお、正投影像中において、基材微粒子の表面の凸部とシリカ微粒子とは、図2に示すように、微小で白色であるものをシリカ微粒子、それ以外のものを基材微粒子として区別することができる。
上記基材微粒子は、粒子径のCV値の好ましい上限が4.5%である。4.5%を超えると、導電性微粒子の大きさがばらばらになるため、基板等の間に挟んで導電接続をしようとしても、導電性微粒子と回路基板等との接触面積のばらつきが大きく、安定した接続が得られないことがある。
なお、上記CV値は、粒子径分布から得られる標準偏差を平均粒子径で除し百分率とすることにより求められるものである。
上記基材微粒子は、正投影像をとったときに、該正投影像中に観察される任意の10個の凸部の最大外径の平均の下限が10nm、上限が300nmである。10nm未満であると、表面にメッキを施した際に凸部がメッキ層に埋もれてしまい、300nmを超えると、本発明の導電性微粒子を回路基板等の導電接続に用いた際に、凸部が回路基板等に深くめり込み、回路基板等を破損させるおそれがある。
なお、最大外形とは、図1中の矢印で示すように、各凸部の外形のうち最大のものをいう。
上記ニッケルからなる導電層の厚さとしては特に限定されないが、好ましい下限は10nm、好ましい上限は500nmである。10nm未満であると、所望の導電性が得られないことがあり、500nmを超えると、基材微粒子と導電層との熱膨張率の差から、上記導電層が剥離しやすくなることがある。
また、上記ニッケルからなる導電層には、リンやホウ素等の非金属成分が含有されていてもよい。
なお、上記導電層の厚さは、無作為に選んだ10個の粒子について測定し、これらを算術平均した厚さである。
本発明の導電性微粒子は、更に、導電層の表面に金層が形成されていることが好ましい。導電層の表面に金層を施すことにより、ニッケルを含有する導電層の酸化防止、接続抵抗の低減化、表面の安定化等を図ることができる。
上記金層の形成方法としては特に限定されず、無電解メッキ、置換メッキ、電気メッキ、還元メッキ、スパッタリング等の従来公知の方法が挙げられる。
上記金層の厚さとしては特に限定されないが、好ましい下限は1nm、好ましい上限は100nmである。1nm未満であると、ニッケルを含有する導電層の酸化を防止することが困難となることがあり、接続抵抗値が高くなることがあり、100nmを超えると、金層がニッケル層を侵食し、基材微粒子とニッケルを含有する導電層との密着性を悪くすることがある。
本発明の導電性微粒子は、粒子径のCV値の上限が4.5%であることが好ましい。4.5%を超えると、導電性微粒子の大きさがばらばらになるため、基板等の間に挟んで導電接続をしようとしても、導電性微粒子と回路基板等との接触面積のばらつきが大きく、安定した接続が得られないことがある。
なお、上記CV値は、粒子径分布から得られる標準偏差を平均粒子径で除し百分率とすることにより求められるものである。
本発明の導電性微粒子は、正投影像をとったときに、該正投影像中に観察される任意の10個の凸部の最大外径の平均の下限が10nm、上限が300nmである。10nm未満であると、充分な接続安定性が得られず、300nmを超えると、本発明の導電性微粒子を回路基板等の導電接続に用いた際に、凸部が回路基板等に深くめり込み、回路基板等を破損させるおそれがある。
本発明の導電性微粒子の製造方法としては特に限定されないが、例えば、水性媒体中、分散剤の懸濁下で、メラミン化合物とアルデヒド化合物とを塩基性条件下で反応させて、水に可溶なメラミン系樹脂の初期縮合物の水溶液を生成させる工程1と、上記水溶液に酸触媒を加えて、基材微粒子を析出させる工程2と、上記基材微粒子の表面にニッケルメッキ及び金メッキを施す工程3とを有する方法により導電性微粒子を製造することができる。
以下に各工程を詳述する。
上記工程1において、上記分散剤としては特に限定されず、上述したシリカ微粒子の他、従来公知の分散剤を用いることができる。
上記工程1において、分散剤の添加量としては特に限定されないが、上記メラミン化合物100重量部に対して、好ましい下限が0.5重量部、好ましい上限が100重量部である。0.5重量部未満であると、後述する工程2において基材微粒子を得ることが困難となり、100重量部を超えると、基材微粒子に比べて微小な、球状でない凝集粒子が副生成物として生成されることがある。より好ましい下限は1重量部、より好ましい上限は50重量部である。
上記工程1において、メラミン化合物とアルデヒド化合物とを塩基性条件下で反応させる際には、塩基性触媒を用いることにより反応液のpHを7〜10に調整して行うことが好ましい。
上記塩基性触媒としては特に限定されず、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、アンモニア水等が挙げられる。
また、上記工程1の反応温度として50〜80℃が好ましい。
この結果、分子量が200〜700程度の水に可溶なメラミン系樹脂の初期縮合物の水溶液が得られる。
上記工程2において、硬化反応で用いる上記酸触媒としては特に限定されず、例えば、塩酸、硫酸、硝酸、リン酸や、メタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、パラトルエンスルホン酸、アルキルベンゼンスルホン酸、スルファミン酸等のスルホン酸類、蟻酸、シュウ酸、安息香酸、フタル酸等の有機酸等が挙げられる。
また、このとき、上記酸触媒により反応液のpHは3〜7、反応温度は70〜100℃に調整することが好ましい。
上記工程2においては、上記酸触媒を添加後、数分で基材微粒子が析出する。
上記工程1及び工程2により製造される、メラミン樹脂微粒子の基材微粒子は、一般的な濾過若しくは遠心分離して得られる固形分を乾燥したり、又は、樹脂微粒子の水分散スラリーを直接噴霧乾燥したりすることにより、粉末状の微粒子(乾燥された基材微粒子)として得ることができる。
また、乾燥して得られた粉末状の微粒子が粒子間凝集している場合には、ホモミキサー、ヘンシェルミキサー、レーディゲミキサー等の剪断力を有する混合機や、ピンディスクミル、パルベライザー、イノマイザー、カウンタージェットミル等の粉砕機で適切に処理することにより、球状微粒子を破壊することなく粒子間凝集をほぐすことができる。
上記工程1及び工程2により製造される基材微粒子は、平均粒子径が0.05〜100μmである。ここで、上記基材微粒子の平均粒子径は、Mie理論に基づくレーザー回折・散乱法により測定して得られる50%体積比(メジアン径)である。
上記工程3において、ニッケルメッキの方法としては特に限定されず、従来公知の方法を用いることができ、例えば、無電解ニッケルメッキ法等が挙げられる。
上記無電解メッキ法とは、基材微粒子の表面に触媒付与を行い、導電層となる金属、及び、メッキ安定剤を含有する金属メッキ液中で、触媒付与された上記基材微粒子の表面に無電解メッキ法により導電層を形成させる方法である。
上記触媒付与を行う方法としては、例えば、アルカリ溶液でエッチングされた基材微粒子に酸中和、及び、二塩化スズ(SnCl)溶液におけるセンシタイジングを行い、二塩化パラジウム(PdCl)溶液におけるアクチベイジングを行う無電解メッキ前処理工程を行う方法等が挙げられる。
なお、センシタイジングとは、絶縁物質の表面にSn2+イオンを吸着させる工程であり、アクチベイチングとは、絶縁性物質表面にSn2++Pd2+→Sn4++Pdで示される反応を起こしてパラジウムを無電解メッキの触媒核とする工程である。
また、上述したように、ニッケルメッキの表面には、更に、無電解メッキ、置換メッキ、電気メッキ、還元メッキ、スパッタリング等の従来公知の方法により金層を施すことが好ましい。
本発明の導電性微粒子をバインダー樹脂に分散させることにより異方性導電材料を製造することができる。このような異方性導電材料もまた、本発明の1つである。
本発明の異方性導電材料の具体的な例としては、例えば、異方性導電ペースト、異方性導電インク、異方性導電粘着剤層、異方性導電フィルム、異方性導電シート等が挙げられる。
上記樹脂バインダーとしては特に限定されないが、絶縁性の樹脂が用いられ、例えば、酢酸ビニル系樹脂、塩化ビニル系樹脂、アクリル系樹脂、スチレン系樹脂等のビニル系樹脂;ポリオレフィン系樹脂、エチレン−酢酸ビニル共重合体、ポリアミド系樹脂等の熱可塑性樹脂;エポキシ系樹脂、ウレタン系樹脂、ポリイミド系樹脂、不飽和ポリエステル系樹脂及びこれらの硬化剤からなる硬化性樹脂;スチレン−ブタジエン−スチレンブロック共重合体、スチレン−イソプレン−スチレンブロック共重合体、これらの水素添加物等の熱可塑性ブロック共重合体;スチレン−ブタジエン共重合ゴム、クロロプレンゴム、アクリロニトリル−スチレンブロック共重合ゴム等のエラストマー類(ゴム類)等が挙げられる。これらの樹脂は、単独で用いられてもよいし、2種以上が併用されてもよい。
また、上記硬化性樹脂は、常温硬化型、熱硬化型、光硬化型、湿気硬化型のいずれの硬化型であってもよい。
本発明の異方性導電材料には、本発明の導電性微粒子、及び、上記樹脂バインダーの他に、本発明の課題達成を阻害しない範囲で必要に応じて、例えば、増量剤、軟化剤(可塑剤)、粘接着性向上剤、酸化防止剤(老化防止剤)、熱安定剤、光安定剤、紫外線吸収剤、着色剤、難燃剤、有機溶媒等の各種添加剤を添加してもよい。
本発明の異方性導電材料の製造方法としては特に限定されず、例えば、絶縁性の樹脂バインダー中に本発明の導電性微粒子を添加し、均一に混合して分散させ、例えば、異方性導電ペースト、異方性導電インク、異方性導電粘接着剤等とする方法や、絶縁性の樹脂バインダー中に本発明の導電性微粒子を添加し、均一に溶解(分散)させるか、又は、加熱溶解させて、離型紙や離型フィルム等の離型材の離型処理面に所定のフィルム厚さとなる用に塗工し、必要に応じて乾燥や冷却等を行って、例えば、異方性導電フィルム、異方性導電シート等とする方法等が挙げられ、製造しようとする異方性導電材料の種類に対応して、適宜の製造方法をとればよい。
また、絶縁性の樹脂バインダーと、本発明の導電性微粒子とを混合することなく、別々に用いて異方性導電材料としてもよい。
本発明によれば、凸部と基材微粒子とが一体不可分であるため凸部を形成するための別工程を必要とせず、かつ、凸部が脱落することがなく、導通不良防止とともに抵抗値の低減化が可能な導電性微粒子及び異方性導電材料を提供することができる。
以下に実施例を掲げて本発明を更に詳しく説明するが、本発明はこれら実施例のみに限定されるものではない。
(実施例1)
(1)基材微粒子の製造
撹拌機、還流コンデンサー及び温度計を装備した2Lの反応フラスコに、メラミン100.0g、37%ホルマリン193.0g、水性シリカゾル(日産化学工業社製、スノーテックスN、SiO濃度20.3重量%、pH10.0、平均粒子径7.9nm)26.7g、水614gを仕込み、25%アンモニア水にてpHを8.5に調整した。その後、上記混合物を撹拌しながら昇温し、温度を70℃に保ち、30分反応させてメラミン樹脂の初期縮合物の水溶液を調製した。この時点でのメラミン樹脂の分子量は、GPC法(ポリスチレン換算)にて測定したところ、280であった。
次に、温度を70℃を維持したまま、得られた初期縮合物の水溶液にパラトルエンスルホン酸・一水和物の10重量%水溶液を添加してpHを5.5に調整した。約2分後に反応系内が白濁して硬化メラミン樹脂微粒子が析出した。その後、温度を90℃まで昇温して3時間硬化反応を続けた。冷却後、得られた反応液を濾過、乾燥し、ピンディスクミルで粉砕することにより白色の硬化メラミン樹脂微粒子を得た。平均粒子径はレーザー回折・散乱式粒度分布測定装置で測定したところ、3.0μmであった。この硬化メラミン樹脂微粒子をそのままの状態でSEM観察をし、スライス片の状態でTEM−EDX観察をしたところ、硬化メラミン樹脂微粒子は球状で、かつ、シリカ微粒子が硬化メラミン樹脂微粒子の表面付近に偏在していることが確認された。すなわち、基材微粒子(球状複合硬化メラミン樹脂微粒子)が得られた。
(2)ニッケルメッキ工程、及び、金メッキ工程
得られた基材微粒子を更に水1200mLで希釈し、メッキ安定剤4mLを添加した。しかる後、この水溶液に、硫酸ニッケル450g/L、次亜リン酸ナトリウム150g/L、クエン酸ナトリウム116g/L、及び、メッキ安定剤6mLの混合溶液120mLを、81mL/分の添加速度で定量ポンプを通して添加した。その後、pHが安定するまで攪拌し、水素の発泡が停止するのを確認し、無電解メッキ前期工程を行なった。
次いで、更に硫酸ニッケル450g/L、次亜リン酸ナトリウム150g/L、クエン酸ナトリウム116g/L、及び、メッキ安定剤35mLの混合溶液650mLを、27mL/分の添加速度で定量ポンプを通して添加した。その後、pHが安定するまで攪拌し、水素の発泡が停止するのを確認し、無電解メッキ後期工程を行なった。
次いで、メッキ液を濾過し、濾過物を水で洗浄した後、80℃の真空乾燥機で乾燥して、ニッケルメッキされた導電性微粒子を得た。
更に、置換メッキ法により表面に金メッキを施し、表面に凸部を有する導電層を有する導電性微粒子を得た。
(実施例2)
撹拌機、還流コンデンサー及び温度計を装備した2Lの反応フラスコに、メラミン30.5g、37%ホルマリン118g、水性シリカゾル(日産化学工業社製、スノーテックスN、SiO濃度20.3重量%、pH9.5、平均粒子径12.0nm)15.5g、水614gを仕込み、25%アンモニア水にてpHを8.0に調整した。その後、上記混合物を撹拌しながら昇温し、温度を70℃に保ち、30分反応させてメラミン樹脂の初期縮合物の水溶液を調製した。この時点でのメラミン樹脂の分子量は、GPC法(ポリスチレン換算)にて測定したところ、310であった。
次に、温度を70℃を維持したまま、得られた初期縮合物の水溶液にパラトルエンスルホン酸・一水和物の10重量%水溶液を添加してpHを5.5に調整した。約2分後に反応系内が白濁して硬化メラミン樹脂微粒子が析出した。その後、温度を90℃まで昇温して3時間硬化反応を続けた。冷却後、得られた反応液を濾過、乾燥し、ピンディスクミルで粉砕することにより白色の硬化メラミン樹脂微粒子を得た。平均粒子径はレーザー回折・散乱式粒度分布測定装置で測定したところ、4.0μmであった。この硬化メラミン樹脂微粒子をそのままの状態でSEM観察をし、スライス片の状態でTEM−EDX観察をしたところ、硬化メラミン樹脂微粒子は球状で、かつ、シリカ微粒子が硬化メラミン樹脂微粒子の表面付近に偏在していることが確認された。以下、実施例1と同様の操作によりニッケルメッキ及び金メッキを施し、表面に凸部を有する導電性微粒子を製造した。
(実施例3)
撹拌機、還流コンデンサー及び温度計を装備した2Lの反応フラスコに、メラミン100g、37%ホルマリン193g、水性シリカゾル(日産化学工業社製、スノーテックスN、SiO濃度20.3重量%、pH9.5、平均粒子径12.0nm)15.5g、水614gを仕込み、25%アンモニア水にてpHを8.0に調整した。その後、上記混合物を撹拌しながら昇温し、温度を70℃に保ち、30分反応させてメラミン樹脂の初期縮合物の水溶液を調製した。この時点でのメラミン樹脂の分子量は、GPC法(ポリスチレン換算)にて測定したところ、310であった。
次に、温度を70℃を維持したまま、得られた初期縮合物の水溶液にパラトルエンスルホン酸・一水和物の10重量%水溶液を添加してpHを5.5に調整した。約2分後に反応系内が白濁して硬化メラミン樹脂微粒子が析出した。その後、温度を90℃まで昇温して3時間硬化反応を続けた。冷却後、得られた反応液を濾過、乾燥し、ピンディスクミルで粉砕することにより白色の硬化メラミン樹脂微粒子を得た。平均粒子径はレーザー回折・散乱式粒度分布測定装置で測定したところ、6.5μmであった。この硬化メラミン樹脂微粒子をそのままの状態でSEM観察をし、スライス片の状態でTEM−EDX観察をしたところ、硬化メラミン樹脂微粒子は球状で、かつ、シリカ微粒子が硬化メラミン樹脂微粒子の表面付近に偏在していることが確認された。
以下、実施例1と同様の操作によりニッケルメッキ及び金メッキを施し、表面に凸部を有する導電性微粒子を製造した。
(比較例1)
シード粒子として0.8μmのスチレン粒子5gと、イオン交換水500gと、5%のポリビニルアルコール水溶液100gとを混合し超音波を加え分散させた後、セパラブルフラスコに入れて均一に撹拌した。
次に、ポリテトラメチレングリコールアクリレート128g、ジビニルベンゼン32gを過酸化ベンゾイル12g、ラウリル硫酸トリエタノールアミン9g、エタノール118gを添加したイオン交換水1035gより調製した乳化液を数回に分けてセパラブルフラスコに加え、12時間撹拌を行うことによりシード粒子にモノマーを吸収させた。
その後、5%のポリビニルアルコール水溶液250g、30%のポリアクリル酸水溶液250gを加え窒素ガスを導入し90℃、9時間反応させることにより平均粒子径3.0μmの重合体粒子を得た。
以下、実施例1と同様の操作によりニッケルメッキ及び金メッキを施し、表面に凸部を有しない導電性微粒子を製造した。
<評価>
実施例1〜3及び比較例1で得られた導電性微粒子について以下の評価を行った。結果を表1に示した。
(1)基材微粒子のCV値の測定、凸部の最大外形の測定、及び、基材微粒子の表面の凸部とシリカ微粒子との存在個数の比率
得られた導電性微粒子のうち50個について、硝酸:塩酸=1:3の王水に浸漬することにより表面のメッキ層を溶かし、日立ハイテクノロジーズ社製走査電子顕微鏡(SEM)により、倍率2000倍で粒子観察を行うことにより基材微粒子の平均粒子径及びCV値を求めた。
また、任意の1個の基材微粒子について、図1で示されるような10000倍に拡大したSEM画像を撮影し、任意の10個の凸部の最大外径を測定し、平均値を求めた。
また、図1中にて正方形で囲んだ面積比率1/16.6の部分について拡大した図2に示す画像中で、基材微粒子の表面の凸部とシリカ微粒子との存在個数を数えることにより、基材微粒子の表面の凸部とシリカ微粒子との存在個数の比率を求めた。
(2)導電性微粒子のCV値の測定、及び、凸部の最大外形の測定
得られた導電性微粒子のうち50個について、日立ハイテクノロジーズ社製走査電子顕微鏡(SEM)により、倍率2000倍で粒子観察を行うことにより導電性微粒子の平均粒子径及びCV値を求めた。
また、任意の1個の導電性微粒子について、10000倍に拡大したSEM画像を撮影し、任意の10個の凸部の最大外径を測定し、平均値を求めた。
(3)電極間の抵抗値
まず、得られた導電性微粒子を用いて、以下の方法により異方性導電フィルムを作製した。
樹脂バインダーの樹脂としてエポキシ樹脂(油化シェルエポキシ社製、「エピコート828」)100重量部、トリスジメチルアミノエチルフェノール2重量部、及び、トルエン100重量部を、遊星式攪拌機を用いて充分に混合した後、離型フィルム上に乾燥後の厚さが10μmとなるように塗布し、トルエンを蒸発させて接着性フィルムを得た。
次いで、樹脂バインダーの樹脂としてエポキシ樹脂(油化シェルエポキシ社製、「エピコート828」)100重量部、トリスジメチルアミノエチルフェノール2重量部、及び、トルエン100重量部に、得られたそれぞれの導電性微粒子を添加し、遊星式攪拌機を用いて充分に混合した後、離型フィルム上に乾燥後の厚さが7μmとなるように塗布し、トルエンを蒸発させて導電性微粒子を含有する接着性フィルムを得た。なお、導電性微粒子の配合量は、フィルム中の含有量が5万個/cmとなるようにした。
得られた接着性フィルムと導電性微粒子を含有する接着性フィルムとを常温でラミネートすることにより、2層構造を有する厚さ17μmの異方性導電フィルムを得た。
得られた異方性導電フィルムを5×5mmの大きさに切断した。これを、一方に抵抗測定用の引き回し線を有した幅200μm、長さ1mm、高さ0.2μm、L/S20μmのアルミニウム電極のほぼ中央に貼り付けた後、同じアルミニウム電極を有するガラス基板を、電極同士が重なるように位置あわせをしてから貼り合わせた。
このガラス基板の接合部を、10N、150℃の圧着条件で熱圧着した後、電極間の抵抗値を測定した。
Figure 0004897344
本発明によれば、凸部と基材微粒子とが一体不可分であるため凸部を形成するための別工程を必要とせず、かつ、凸部が脱落することがなく、導通不良防止とともに抵抗値の低減化が可能な導電性微粒子及び異方性導電材料を提供することができる。
実施例1で得られた導電性微粒子の表面のメッキを王水で溶かして得られた基材微粒子のSEM画像である。 図1中で正方形で囲まれた部分の拡大図である。 実施例1で得られた導電性微粒子のSEM画像である。
符号の説明
1 シリカ微粒子

Claims (4)

  1. メラミン樹脂基材微粒子と、前記メラミン樹脂基材微粒子の表面に付着したシリカ微粒子と、前記メラミン樹脂基材微粒子とシリカ微粒子との表面に形成されたニッケルからなる導電層とからなる導電性微粒子であって、
    前記導電性微粒子は、水性媒体中、分散剤として平均粒子径5〜70nmのシリカ微粒子の懸濁下で、メラミン化合物とアルデヒド化合物とを塩基性条件下で反応させて、水に可溶なメラミン系樹脂の初期縮合物の水溶液を生成させる工程1と、前記水溶液に酸触媒を加えて、メラミン樹脂基材微粒子を析出させる工程2と、前記メラミン樹脂基材微粒子の表面にニッケルメッキを施す工程3とを有する方法により製造されたものであり、
    前記メラミン樹脂基材微粒子は、正投影像をとったときに、該正投影像中に観察される任意の10個の凸部の最大外径の平均が10〜300nmであり、
    該導電性微粒子は、正投影像をとったときに、該正投影像中に観察される任意の10個の凸部の最大外径の平均が10〜300nmである
    ことを特徴とする導電性微粒子。
  2. メラミン樹脂基材微粒子は、粒子径のCV値が4.5%以下であることを特徴とする請求項1記載の導電性微粒子。
  3. メラミン樹脂基材微粒子の正投影像をとったときに、前記メラミン樹脂基材微粒子の表面に付着したシリカ微粒子の投影像と、前記メラミン樹脂基材微粒子の表面の凸部の投影像との存在個数の比率が1:2〜1:10であることを特徴とする請求項1記載の導電性微粒子。
  4. 請求項1、2又は3記載の導電性微粒子が樹脂バインダーに分散されてなることを特徴とする異方性導電材料。
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