JP4895106B2 - 半導体膜の製造方法および表示装置の製造方法 - Google Patents
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Description
まず、図2に示したように、例えば、ガラスなどの絶縁材料よりなる長方形の基板10に、厚みが50nmであり、非晶質または比較的粒径の小さい多結晶のシリコン(Si)よりなる半導体膜20を形成する(S101)。半導体膜20の平面形状は特に限定されないが、例えば表示装置用のTFT基板の場合、基板10の中央部に形成された画素部形成予定領域20Aと、その周囲に帯状に形成された駆動回路部形成予定領域20Bとを含んでいる。
次いで、半導体膜20にレーザビームLBを照射し、結晶化させる(S102)。図3は、このアニール工程に用いるレーザアニール装置の一例を表したものである。このレーザアニール装置100は、複数、例えば三つの照射光学系110A,110B,110Cを有しており、これらの照射光学系110A〜110CからのレーザビームLBを基板10上の半導体膜20の異なる三箇所に同時に照射することができるようになっている。照射光学系110A〜110Cは、各々、例えば、レーザビームLBを発生するレーザ111と、このレーザ111からのレーザビームLBの進行方向を基板10に向けて変更させるミラー112とを含んでいる。レーザビームLBは、例えば図4に示したように、アニール幅(レーザビームLBのスポット最大径)d、ピッチpの多数の密接した平行線パターンPで、基板10の長辺に平行な方向に走査しながら照射される。なお、平行線パターンPのピッチpは画素ピッチに合わせることが望ましい。
2n−1本目→照射光学系110B(n=1,2,3…m)
2n本目 →照射光学系110A(n=1,2,3…m)
1+m(n−1)−n/2(n−1)本目→照射光学系110B(n=1,2,3…m)
Claims (9)
- 基板に半導体膜を形成する成膜工程と、複数の照射光学系により前記半導体膜に対してエネルギービームを照射するアニール工程とを含む半導体膜の製造方法であって、
前記アニール工程において、
前記半導体膜が形成された基板を、複数の単一ビーム照射領域と、前記複数の単一ビーム照射領域の間の境界領域とに分け、
前記複数の単一ビーム照射領域の各々には、前記複数の照射光学系のうちいずれか一つによりエネルギービームを照射し、
前記境界領域には、前記境界領域を間にして隣り合う二つの単一ビーム照射領域の両方の照射光学系によりエネルギービームを照射する
ことを特徴とする半導体膜の製造方法。 - 前記アニール工程において、エネルギービームを多数の密接した平行線パターンで走査しながら照射し、
前記複数の単一ビーム照射領域および境界領域を、前記平行線パターンに対して平行な境界線で分け、
前記境界領域では、前記両方の照射光学系のうち一方によりエネルギービームを照射する平行線パターンと他方によりエネルギービームを照射する平行線パターンとを混合した配置にする
ことを特徴とする請求項1記載の半導体膜の製造方法。 - 前記両方の照射光学系のうち一方によりエネルギービームを照射する平行線パターンと他方によりエネルギービームを照射する平行線パターンとを規則的に混合した配置にする
ことを特徴とする請求項2記載の半導体膜の製造方法。 - 前記両方の照射光学系のうち一方によりエネルギービームを照射する平行線パターンと他方によりエネルギービームを照射する平行線パターンとを交互に配置する
ことを特徴とする請求項3記載の半導体膜の製造方法。 - 前記境界領域を間にして隣り合う二つの単一ビーム照射領域のうち一方から他方に近づくにつれて、前記他方の単一ビーム照射領域と同じ照射光学系によりエネルギービームを照射する平行線パターンを段階的に増やした配置にする
ことを特徴とする請求項3記載の半導体膜の製造方法。 - 前記両方の照射光学系のうち一方によりエネルギービームを照射する平行線パターンと他方によりエネルギービームを照射する平行線パターンとを不規則に混合した配置にする
ことを特徴とする請求項2記載の半導体膜の製造方法。 - 前記境界領域のエネルギービームの走査方向と垂直な方向の長さを、前記両方の照射光学系間のエネルギービームの強度差に応じて決定する
ことを特徴とする請求項2記載の半導体膜の製造方法。 - 駆動用基板に表示素子を備えた表示装置の製造方法であって、
前記駆動用基板は、半導体膜を有する基板と、前記半導体膜に形成された薄膜トランジスタとを備え、
前記半導体膜を、
基板に半導体膜を形成する成膜工程と、複数の照射光学系により前記半導体膜に対してエネルギービームを照射するアニール工程とを含む半導体膜の製造方法により製造すると共に、前記アニール工程において、
前記半導体膜が形成された基板を、複数の単一ビーム照射領域と、前記複数の単一ビーム照射領域の間の境界領域とに分け、
前記複数の単一ビーム照射領域の各々には、前記複数の照射光学系のうちいずれか一つによりエネルギービームを照射し、
前記境界領域には、前記境界領域を間にして隣り合う二つの単一ビーム照射領域の両方の照射光学系によりエネルギービームを照射する
表示装置の製造方法。 - 前記表示素子は、前記薄膜トランジスタに電気的に接続された第1電極と、発光層を含む有機層と、第2電極とをこの順に備えた有機発光素子である
請求項8記載の表示装置の製造方法。
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