JP4882916B2 - プラズマ処理装置およびプラズマ処理装置におけるプラズマ放電状態監視方法 - Google Patents
プラズマ処理装置およびプラズマ処理装置におけるプラズマ放電状態監視方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4882916B2 JP4882916B2 JP2007214320A JP2007214320A JP4882916B2 JP 4882916 B2 JP4882916 B2 JP 4882916B2 JP 2007214320 A JP2007214320 A JP 2007214320A JP 2007214320 A JP2007214320 A JP 2007214320A JP 4882916 B2 JP4882916 B2 JP 4882916B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- waveform
- plasma
- monitoring time
- plasma discharge
- discharge
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Landscapes
- Plasma Technology (AREA)
- Drying Of Semiconductors (AREA)
Description
図1は本発明の実施の形態1のプラズマ処理装置の断面図、図2は本発明の実施の形態1のプラズマ処理装置に用いられる放電検出センサの構成説明図、図3は本発明の実施の形態1のプラズマ処理装置におけるプラズマ放電状態監視装置の構成を示すブロック図、図4は本発明の実施の形態1のプラズマ放電状態監視方法における電位変化波形および波形監視時間帯の説明図、図5は本発明の実施の形態1のプラズマ放電状態監視方法におけ
る放電状態判定処理の処理フロー図、図6は本発明の実施の形態1のプラズマ放電状態監視方法におけるメンテナンス判定処理の処理フロー図である。
、波形データ一時記憶部33、N型波形検出部34、V型波形検出部35、放電ON波形カウンタ36、放電OFF波形カウンタ37、異常放電波形カウンタ38およびリーク放電波形カウンタ39を備えている。AMP31は、検出導線22dを介して伝達されるプローブ電極22bの電位変化を増幅する。A/D変換器32は、AMP31により増幅された電位変化信号をAD変換する。A/D変換器32によってAD変換された電圧変位信号、すなわち電圧変化を示すデジタル信号は、波形データ一時記憶部33,N型波形検出部34、V型波形検出部35に送られる。
型波形WVのように、電位が負側にのみ振れた後に定常値に戻るV字状の波形パターンを呈するV型の電位変化波形パターンとなる。このV型波形の検出は、検出された電位変化が予め正負両側に設定されたしきい値レベル±Vthに、負側においてのみ到達していることを確認することにより行われる。
間帯に対応したタイミングだけ検出信号のカウントを行うように、複数のカウンタ(放電ON波形カウンタ36、放電OFF波形カウンタ37、異常放電波形カウンタ38)を制御する。すなわち、カウンタ制御部41は3つのカウンタ制御チャンネルA,B,Cによって、接続ポート40を介して放電ON波形カウンタ36、異常放電波形カウンタ38、放電OFF波形カウンタ37と接続されている。
形カウンタ38および放電OFF波形カウンタ37のそれぞれが保持しているカウント値を意味している。
間帯[C]および中間の波形監視時間帯[B]のそれぞれにおいて特定パターンの電位変化波形をN型波形検出部34によって検出する工程と、各波形監視時間帯[A],[B]、[C]毎に、電位変化波形の検出回数を放電ON波形カウンタ36、異常放電波形カウンタ38、放電OFF波形カウンタ37によってカウントして、カウント値K1,K2,K3を保持する処理を行う工程と、各波形監視時間帯[A],[B]、[C]毎のカウント値K1,K2,K3に基づいて、プラズマ放電の有無およびプラズマ放電状態の正常・異常の判定を含むプラズマ放電状態判定を行う工程とを含む形態となっている。
図7は本発明の実施の形態2のプラズマ処理装置におけるプラズマ放電状態監視装置の構成を示すブロック図、図8は本発明の実施の形態2のプラズマ放電状態監視方法における電位変化波形および波形監視時間帯の説明図、図9は本発明の実施の形態2のプラズマ放電状態監視方法における放電状態判定処理の処理フロー図である。
する。
れる。
時間帯[C]の第3の所定時間tcの経過を判断し(ST41)、時間未経過ならば(ST40)に戻り、(ST40)、(ST41)の処理を順次反復する。
2a 開口部(のぞき窓)
3 真空チャンバ
3a 処理室
5 電極部
8 ガイド部材
9 基板
15 真空計
16 ガス供給部
17 真空ポンプ
18 整合器
19 高周波電源部
21 誘電体部材
22 プローブ電極ユニット
22b プローブ電極
23 放電検出センサ
P プラズマ
WN1 N1型波形
WN2 N2型波形
WV V型波形
[A] 最初の波形監視時間帯
[B]、[D] 中間の波形監視時間帯
[C] 最後の波形監視時間帯
Claims (9)
- 処理対象物を処理室内に収容してプラズマ処理を行うプラズマ処理装置であって、
前記処理室を形成する真空チャンバと、前記処理室内に配置された電極部と、前記処理室内を真空排気する真空排気部と、前記処理室内にプラズマ発生用ガスを供給するガス供給部と、前記電極部に高周波電圧を印加することにより前記処理室内でプラズマ放電を発生させる高周波電源部と、前記処理室内におけるプラズマ放電状態を監視するプラズマ放電状態監視手段とを備え、
前記プラズマ放電状態監視手段は、一方の面を前記処理室内に発生したプラズマ放電に対向するように前記真空チャンバに装着された板状の誘電体部材およびこの誘電体部材の他方の面に配置されたプローブ電極を少なくとも有する放電検出センサと、
前記プローブ電極に前記プラズマ放電の変化に応じて誘発される電位変化を受信して、前記高周波電圧の印加開始タイミングを含んで設定された最初の波形監視時間帯、前記高周波電圧の印加終了タイミングを含んで設定された最後の波形監視時間帯および前記最初の波形監視時間帯と前記最後の波形監視時間帯とに挟まれた時間帯を含んで設定された中間の波形監視時間帯のそれぞれにおいて特定パターンの電位変化波形を検出し、各波形監視時間帯毎に前記電位変化波形の検出回数をカウントしてカウント値を保持する処理を行うデータ処理部と、
前記各波形監視時間帯毎のカウント値に基づいて前記プラズマ放電の有無およびプラズマ放電状態の正常・異常の判定を含む放電状態判定を行う判定部とを備えたことを特徴とするプラズマ処理装置。 - 前記誘電体部材が前記真空チャンバの外部から処理室内を視認するためののぞき窓に装着された光学的に透明なガラスから成り、前記プローブ電極が光学的に透明な導電性物質から成ることを特徴とする請求項1記載のプラズマ処理装置。
- 前記判定部は、前記最初の波形監視時間帯若しくは最後の波形監視時間帯におけるカウント値がゼロであれば正常なプラズマ放電が発生していないと判定することを特徴とする請求項1または2記載のプラズマ処理装置。
- 前記判定部は、前記各波形監視時間帯毎のカウント値のいずれかが許容値を超えた場合は異常放電状態と判定することを特徴とする請求項1乃至3のいずれかに記載のプラズマ処理装置。
- 前記判定部は、前記最初の波形監視時間帯若しくは最後の波形監視時間帯におけるカウント値がゼロではなく、前記各波形監視時間帯毎のカウント値のいずれもが許容値を超えなかった場合はプラズマ放電は正常と判定することを特徴とする請求項請求項1乃至4のいずれかに記載のプラズマ処理装置。
- 処理室を形成する真空チャンバと、前記処理室内に配置された電極部と、前記処理室内を真空排気する真空排気部と、前記処理室内にプラズマ発生用ガスを供給するガス供給部と、前記電極部に高周波電圧を印加することにより前記処理室内でプラズマ放電を発生させる高周波電源部と、一方の面を前記処理室内に発生したプラズマ放電に対向するように前記真空チャンバに装着された板状の誘電体部材およびこの誘電体部材の他方の面に配置されたプローブ電極を少なくとも有する放電検出センサとを備え、処理対象物を前記処理室内に収容してプラズマ処理を行うプラズマ処理装置において、前記処理室内におけるプラズマ放電状態を監視するプラズマ処理装置におけるプラズマ放電状態監視方法であって、
前記プローブ電極に前記プラズマ放電の変化に応じて誘発される電位変化をデータ処理部によって受信する工程と、
前記高周波電圧の印加開始タイミングを含んで設定された最初の波形監視時間帯、前記高周波電圧の印加終了タイミングを含んで設定された最後の波形監視時間帯および前記最初の波形監視時間帯と前記最後の波形監視時間帯とに挟まれた時間帯を含んで設定された中間の波形監視時間帯のそれぞれにおいて特定パターンの電位変化波形を波形検出部によって検出する工程と、
各波形監視時間帯毎に前記電位変化波形の検出回数をカウントしてカウント値を保持する処理を行う工程と、
前記各波形監視時間帯毎の前記カウント値に基づいて前記プラズマ放電の有無およびプラズマ放電状態の正常・異常の判定を含むプラズマ放電状態判定を行う工程とを含むことを特徴とするプラズマ処理装置におけるプラズマ放電状態監視方法。 - 前記プラズマ放電状態判定は、前記最初の波形監視時間帯若しくは最後の波形監視時間帯におけるカウント値がゼロであれば正常なプラズマ放電が発生していないと判定することを特徴とする請求項6記載のプラズマ処理装置におけるプラズマ放電状態監視方法。
- 前記プラズマ放電状態判定は、前記各波形監視時間帯毎のカウント値のいずれかが許容値を超えた場合は異常放電状態と判定することを特徴とする請求項6または7記載のプラズマ処理装置におけるプラズマ放電状態監視方法。
- 前記プラズマ放電状態判定は、前記最初の波形監視時間帯若しくは最後の波形監視時間帯におけるカウント値がゼロではなく、前記各波形監視時間帯毎のカウント値のいずれもが許容値を超えなかった場合はプラズマ放電は正常と判定することを特徴とする請求項請求項6乃至8のいずれかに記載のプラズマ処理装置におけるプラズマ放電状態監視方法。
Priority Applications (6)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007214320A JP4882916B2 (ja) | 2007-08-21 | 2007-08-21 | プラズマ処理装置およびプラズマ処理装置におけるプラズマ放電状態監視方法 |
KR1020097026796A KR20100045954A (ko) | 2007-08-21 | 2008-08-20 | 플라즈마 처리장치 및 플라즈마 처리장치에서의 플라즈마 방전상태 감시방법 |
DE112008001663T DE112008001663T5 (de) | 2007-08-21 | 2008-08-20 | Plasmaverarbeitungsvorrichtung und Verfahren zum Überwachen des Plasmaentladungszustands in einer Plasmaverarbeitungsvorrichtung |
PCT/JP2008/065350 WO2009025392A2 (en) | 2007-08-21 | 2008-08-20 | Plasma processing device and method of monitoring plasma discharge state in plasma processing device |
TW097131879A TW200913034A (en) | 2007-08-21 | 2008-08-21 | Plasma processing device and method of monitoring plasma discharge state in plasma processing device |
US12/664,477 US8668836B2 (en) | 2007-08-21 | 2008-08-21 | Plasma processing device and method of monitoring plasma discharge state in plasma processing device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007214320A JP4882916B2 (ja) | 2007-08-21 | 2007-08-21 | プラズマ処理装置およびプラズマ処理装置におけるプラズマ放電状態監視方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2009048879A JP2009048879A (ja) | 2009-03-05 |
JP4882916B2 true JP4882916B2 (ja) | 2012-02-22 |
Family
ID=40500914
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007214320A Active JP4882916B2 (ja) | 2007-08-21 | 2007-08-21 | プラズマ処理装置およびプラズマ処理装置におけるプラズマ放電状態監視方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4882916B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5136514B2 (ja) * | 2009-05-26 | 2013-02-06 | パナソニック株式会社 | プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法 |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0226023A (ja) * | 1988-07-15 | 1990-01-29 | Hitachi Ltd | プラズマ処理用放電状態監視装置 |
US5993615A (en) * | 1997-06-19 | 1999-11-30 | International Business Machines Corporation | Method and apparatus for detecting arcs |
JP3773189B2 (ja) * | 2002-04-24 | 2006-05-10 | 独立行政法人科学技術振興機構 | 窓型プローブ、プラズマ監視装置、及び、プラズマ処理装置 |
US20050212450A1 (en) * | 2004-03-16 | 2005-09-29 | Scientific Systems Research Limited | Method and system for detecting electrical arcing in a plasma process powered by an AC source |
JP5094002B2 (ja) * | 2005-09-06 | 2012-12-12 | ルネサスエレクトロニクス株式会社 | プラズマ処理装置およびその異常放電抑止方法 |
JP4796372B2 (ja) * | 2005-10-20 | 2011-10-19 | ルネサスエレクトロニクス株式会社 | 半導体装置の製造方法 |
JP4837368B2 (ja) * | 2005-11-30 | 2011-12-14 | 株式会社ダイヘン | プラズマ処理システムのアーク検出装置 |
-
2007
- 2007-08-21 JP JP2007214320A patent/JP4882916B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2009048879A (ja) | 2009-03-05 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR20100045954A (ko) | 플라즈마 처리장치 및 플라즈마 처리장치에서의 플라즈마 방전상태 감시방법 | |
JP5012316B2 (ja) | プラズマ処理装置 | |
JP5012701B2 (ja) | プラズマ処理装置およびプラズマ処理装置における放電状態監視方法 | |
JP4983575B2 (ja) | プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法 | |
KR101606736B1 (ko) | 플라즈마 프로세싱 챔버에서 플라즈마 불안정성을 검출하기 위한 패시브 용량성-결합된 정전식 (cce) 프로브 장치 | |
KR20100043143A (ko) | 플라즈마 처리 장치 및 플라즈마 방전 상태 감시 장치 | |
KR20110039241A (ko) | 플라즈마 프로세싱 챔버에서 인시츄 아킹 이벤트들을 검출하기 위한 패시브 용량성-커플링된 정전식 (cce) 프로브 장치 | |
JP3893276B2 (ja) | プラズマ処理装置 | |
JP2008288340A (ja) | プラズマ処理装置、プラズマ処理方法、及び洗浄時期予測プログラム | |
JP4882916B2 (ja) | プラズマ処理装置およびプラズマ処理装置におけるプラズマ放電状態監視方法 | |
JP4882917B2 (ja) | プラズマ処理装置 | |
JP5012318B2 (ja) | プラズマ処理装置 | |
JP6731634B2 (ja) | プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法 | |
JP5012317B2 (ja) | プラズマ放電状態監視装置 | |
JP5136514B2 (ja) | プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20091201 |
|
RD01 | Notification of change of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7421 Effective date: 20100113 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20110411 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110524 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110721 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20111108 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20111121 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20141216 Year of fee payment: 3 |
|
R151 | Written notification of patent or utility model registration |
Ref document number: 4882916 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20141216 Year of fee payment: 3 |