JP4878663B2 - 化学反応用微細加工スリーブデバイス - Google Patents

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Description

合衆国政府は、ローレンスリバモア国立研究所の業務のために合衆国エネルギ局とカリフォルニア大学との間の契約番号W−7405−ENG−48に準じた本発明に関する権利を有する。
関連出願
本出願は、1995年6月20日に出願された米国特許出願第08/492,678号の一部継続出願である。
発明の背景
本発明は、化学反応制御、並びに関連する反応物質及び結果生成物の検出ための機器に関し、特に反応パラメータの精密制御を伴う微細なスケールの化学反応を実行するための集積微細加工機器に関し、とりわけ、化学反応のための反応チャンバとして機能し、高スループットのマイクロ反応ユニットのための個別チャンバの大型アレイ内において使用可能なシリコンベース及び非シリコンベースのスリーブデバイスに関する。
熱の制御および循環を通して化学合成を行うための現在の計器は、一般に、非常に大型(天板)で効率が良くなく、大きな熱質量(例えば、アルミニウムの塊)を加熱および冷却して動作することが多い。近年、シリコンおよびシリコンベースの(silicon-based)材料(例えば、シリコン、窒化物、多結晶シリコン)から反応チャンバを設計し構成することで、それらの計器を小型化することに努力が傾注されており、それらの材料を使用することでヒータやシリコンを通る対流を介した冷却機構が集積化されている。
微細加工の技術は現在良く知られており、その技術にはスパッタリング、電極配置、低圧蒸着、フォトリソグラフィー、およびエッチングなどがある。これら及び類似のプロセスは反応チャンバ、並びに、ヒーター、熱電対、検出器、センサ、電極及び反応パラメータを感知及び制御するために使用可能な他のデバイスなどのそれら制御要素の製作に適用可能である。例は、磁気フィルム、熱電フィルム、及び試薬の操作のための電気能動性(electroactive)フィルムなどを含む。蒸発、押出し、鋳造、焼結、注入、形成、引き上げ法、積層などを含む付加的な加工技術を使用して、種々の適切な材料から反応チャンバを微細加工することができる。微細加工デバイスは例えば、シリコン及びガリウムなどの水晶体基板上に形成されるが、ガラス、セラミック、金属、又は特定のポリマーなどの非結晶体材料上に形成することもできる。結晶体シリコンデバイスの形状は、例えば精細に制御できる。それはエッチングされた表面は殆ど結晶面であり、結晶状材料は高温での融解などのプロセス、アノード結合、またはフィールドによりアシストされた方法によって結合できるからである。
また、モノリシックな微細加工技術によって、現在、マイクロリットルからナノリットルの量のガラス、液体、および固体を扱うポンプ、バルブ、ヒータ、ミキサ、および検出器を含む、電気的、機械的、電気機械的、光学的、化学的、および熱的デバイスの生産が可能である。同様に、光学的導波プローブおよび超音波たわみ波センサを現在では微細なスケールで製造することができる。これらの微細加工デバイスを単一のシステムに集積化するには、微細なスケールの反応器を用いた分析計器をバッチ製造することを考慮する必要がある。かかる集積化した微細な計器は生化学的、無機的または有機的化学反応に適用して生物工学的な処理および検出のみならず、生体的および環境的な診断を実施してもよい。
このような集積化した計器の動作は簡単に自動化されるとともに、分析を本来の位置で行うことができるから、汚染の度合いは非常に低い。このようなデバイスのサイズは本質的に小さいので、加熱および冷却を極めて迅速に行うことができる。また、これらのデバイスに必要な電力は非常に低く、バッテリによって電源供給でき、電磁的、静電容量的、誘導的、または光学的な結合によっても電源供給できる。
微細加工の反応計器は、その体積が小さいこと、および、体積に対する表面面積の比が高いことによって、反応パラメータの制御の度合いを高くすることができる。ヒータは温度を循環またはランピングさせることができ、一方、配座構造のソノケミカルおよびソノフィジカルな変化は超音波トランスデューサによって生じさせることができ、さらに、重合体は光学的放射線を入射させることで発生させることができる。
合成反応、とくにポリメラーゼ・チェーン反応(PCR)のような合成チェーン反応は格別に微細加工反応計器に適している。PCRによって、有機物のDNA(またはRNA)の単一モジュールを106〜109のファクタだけ選択的に増幅することができる。この精巧に確立された手法を用いるには、オリジナルのDNAターゲットモジュール、特定のDNAプライマ、デオキシヌクレオチド・トリホスファターゼ、および、DNAポリメラーゼ酵素およびコファクタ(cofactors)の存在下で加熱(変性)および冷却(アニーリング)を繰り返す必要がある。この各サイクルによって、ターゲットDNA塩基配列が倍増し、このターゲット塩基配列が指数関数的に累積することになる。
このPCRの手法を実施するには、1)ターゲットDNA分子を原抽出物中に解放するためのサンプルの処理、2)酵素、バッファ・デオキシリボヌクレオチド・トリホスファターゼ(dNTPS)、およびアリゴヌクレオチド・プライマを含む水溶液の添加、3)2つまたは3つの温度間(例えば90〜96、72、および37〜55℃)で反応混合の熱循環、および4)増幅されたDNAの検出が必要である。このPCR手法には、反応生成物の精製および表面曲げプライマの取込みといった中間のステップを置いてもよい。
標準的なPCRの実験室レベルでの技術に関する問題は、試薬をある容器から別の容器に移動させる間に、このPCR反応が、以前の実験やほかの汚染物質といった、無関係なDNAの単一の汚染分子の導入によって汚染される、または、入り込むことがあるということである。また、標準的な実験室技術で使用されるPCR反応容積は典型的には50マイクロリットルのオーダである。典型的な熱サイクルは4段階から成る。すなわち、サンプルを第1の温度まで加熱すること、このサンプルの温度を第1の温度に保持すること、このサンプルを第2の低い温度まで冷却すること、およびそのサンプル温度をその低い温度に保持すること、である。通常、熱サイクルを構成するこれら4段階の各段階には約1分の時間が必要であり、このため、例えば40サイクルを完了するには約3時間が必要である。したがって、標準的な実験室の手法で通常使用される容積は大きいことから、試薬をある容器から別の容器に移動させる間の汚染の確率に加えて、所要時間の問題があり、前記PCRの手法を実行する能力のある微細な計器が要求されることは明白である。
近年、このPCR反応を実行するための循環時間は、毛管内でPCR反応を起こさせ、強制エアヒータを使用して管を加熱することによって、減少している。また、集積化された微細加工反応器は本来の位置で化学反応できるように発展してきており、これはとくに高精密な熱循環を必要とする生化学反応に有利であり、とくにPCRなどのDNAを用いた操作に有利で、その理由は微細な計測のディメンジョンが小さいので、循環時間の迅速性が促進されるからである。この微細加工反応器は、1992年8月31日に出願された名称が「微細加工反応器」(同一の被譲渡人に譲渡されている)の同時係属の米国特許出願番号第07/938,106号で説明され、クレームされている。同様に、光学的に加熱され、または、光学的に識別されたマイクロ反応チャンバは、例えば上述した同時係属出願番号第07/938,106号の集積化微細加工反応器に利用することができ、このチャンバは化学反応器の用途として発達したもので、1995年6月13日に出願された名称が「サンプル検出手段を備えたダイオードレーザ加熱マイクロ反応チャンバ」(同一の被譲渡人に譲渡されている)の同時係属の米国特許出願番号第08/489,819号で説明され、クレームされている。
本発明は、電力および温度均一性の観点から非常に効率が良いことが示された、特定ジオメトリのシリコンベース及び非シリコンベースのマイクロ反応器に向けられたものである。本発明に係るマイクロ反応器は、広義には化学反応用のシリコンベース及び非シリコンベースのスリーブデバイスの範疇に入るもので、上記参照の同時係属出願に係る反応器システムのいずれかにおいて効果的に利用できる。本発明では、例えば加熱用にドープ・ポリシリコンおよび対流冷却用にバルク・シリコンを利用している。本発明によれば、マルチパラメータ、検出ウィンドウのサイズの同時変更、本来位置での検出、反応容積、熱的均一性、ならびに加熱および冷却速度の使用、制御が可能になる。さらに、本発明によれば、個別の反応チャンバからなる大きなアレイを使用でき、高いスループットのマイクロ反応ユニットを実現できる。
発明の概要
本発明の目的は、改善された化学反応チャンバを提供することである。
本発明の別の目的は、シリコンベース又は非シリコンベースのスリーブ型化学反応器を提供することである。
本発明の別の目的は、材料の組み合わせを使用する微細加工反応器を提供することである。
本発明の別の目的は、ドープ・ポリシリコンおよびバルク・シリコンを組み合わせて使用する化学反応チャンバを提供することである。
本発明の別の目的は、反応流体を直接的に又はチューブを介して導入するためのスロットを有するスリーブ反応チャンバを有する微細加工化学反応器を提供することである。
本発明の別の目的は、材料の臨界比を結合して正しい熱特性を提供するシリコン又は非シリコン反応スリーブを提供することである。
本発明の別の目的は、材料の臨界比を結合して試薬及び生成物の制御を提供するシリコン又は非シリコン反応スリーブを提供することである。
本発明の別の目的は、材料の臨界比を結合して正しい熱応答を提供するシリコン又は非シリコン反応スリーブを提供することである。
本発明の別の目的は、例えばドープポリシリコンとバルクシリコンの使用を結合して小型及び大型機器への実施を可能とする熱及び光学的性質の柔軟性を提供する化学的反応チャンバを提供することである。
本発明の別の目的は、相互接続されたシリコン又は非シリコンの配列又はアレイを提供し、それにより流通形反応システムを提供することである。
本発明の別の目的は、低電力要求で均一な加熱をもたらすために、シリコン及び窒化シリコンの臨界比を加熱すべき材料(例えば液体)の体積に結合するシリコンベースの反応スリーブを提供することである。
本発明の別の目的は、反応混合物を含む反応スリーブ内へインサート(例えばプラスチック)の導入を可能とするスリーブ反応チャンバを提供し、それにより潜在的な材料の不適合性の問題を軽減することである。
本発明の別の目的は、外観が“ビードの列(string of beads)”に類似したポリマー、金属、ガラス、及びセラミックスのチューブにより接続されたシリコン又は非シリコン反応スリーブの相互連結された配列又はアレイを提供することである。
本発明の別の目的は、個別反応チャンバのアレイを提供して高いスループットのマイクロ反応ユニットを実現することである。
本発明の別の目的は、集積化ヒータ付きの、スリーブ型の反応チャンバを使用する手持ちタイプの計器を提供することである。
本発明の別の目的は、自動検出およびフィードバック制御の機構を備えた反応チャンバを提供することである。
本発明の別の目的は、反応チャンバ内での反応の人工知能による制御に備えることである。
本発明の別の目的は、反応チャンバのフィードバック制御としてパルス幅変調を提供することである。
本発明の別の目的は、磁気フィルム、熱電フィルム又は電極などの電気能動性フィルムを伴う反応制御を提供することである。
本発明の別の目的は、電気化学発光、光学的、電気的及び容量的などの検出モジュールの結合を提供することである。
本発明の別の目的は、顕微電気泳動チャネルを有する結合反応チャンバを提供することである。
本発明の別の目的は、シリコン又は非シリコンから作られる顕微電気泳動チャネルと直接的に結合したシリコン及び非シリコンから作られる反応チャンバを提供することである。
本発明の別の目的は、内部ライナにより接続された顕微電気泳動チャネルを有するスリーブ型の反応チャンバを提供することである。
本発明の別の目的は、光学的、電気的又は磁気的デバイスに基づく顕微電気泳動検出システムを提供することである。
本発明の別の目的は、発光ダイオード及びフォトダイオードに基づく顕微電気泳動検出システムを提供することである。
本発明の他の目的および利点は以下の説明および添付の図面から明らかになる。基本的に、本発明は、化学反応用のシリコンベース又は非シリコンベースのスリーブである。本発明は、例えば、加熱用のポリシリコンと対流冷却用のバルクシリコンとを組み合わせて使用する化学反応チャンバを含んでいる。この反応チャンバは、望ましい熱特性を提供するため、非シリコンおよびシリコンベースの材料の臨界比を組み合わせることができる。このシリコンベースの反応スリーブは、低電力要求で均一な加熱をもたらすために、例えばシリコンと窒化シリコンの臨界比を加熱すべき材料の容積と組み合わせることができる。また、本発明の反応スリーブは、反応混合物を収容する2次的チューブ又はインサートの導入を可能とし、これにより、いかなる潜在的な材料の不適合性問題を軽減する。本発明は、上記参照の同時係属出願番号第07/938,106号の上記参照した集積化微細加工反応器、および、上記参照の同時係属出願番号第08/489、819号の光学的集積化によるマイクロ反応チャンバの上記参照の延長上にある。このスリーブ反応チャンバは、ポリメラーゼ・チェーン反応(PCR)および/または他のDNA反応(ligoseチェーン反応など)、または他の合成的、熱的サイクルを用いた反応といった、有機的、無機的、または生化学的反応の合成または処理のための化学反応システムに利用することができる。
【図面の簡単な説明】
図1は、電源/制御装置内に取り付けられた微細加工の化学反応計器の部分的に切除された斜視図を示す。
図2は、図1の反応計器の概略図である。
図3は、微細加工の反応チャンバ用の加熱および検出の配置を概略的に示す図である。
図4は、本発明にしたがって作られた微細加工のシリコンベーススリーブ反応チャンバの一実施例を示す図である。
図5は、顕微電気泳動アレイに動作的に結合された、図4のスリーブ反応チャンバのアレイを示す図である。
図6は、図4と類似のスリーブマイクロ反応チャンバの別の実施例に係る拡大された端部の図である。
図7は、隔離されたヒータ・バージョンで固定ウィンドウの構造を使って図6の拡大断面の実施例(断面)を示す図である。
図8は、隔離されていないヒータ・バージョンで可変ウィンドウの構造を使って図6の同一の拡大断面の別実施例(断面)を示す図である。
図9は、反応を変えるためのインサートとして、図6の反応チャンバを利用した手で保持する計器(PCR man)の図である。
図10Aおよび10Bは、数百の個別制御のシリコン依存形マイクロ反応チャンバを利用する熱循環計器を示す図である。
図11は、高スループットDNA増幅、サンプル操作、および電気泳動のシステムの概略図である。
図12は、トップ/カバー開放の光学的ウィンドウを備えた反応チャンバ用のインサート/ライニングの実施例を示す図である。
図13は、反応チャンバのインサート/ライナの外部充填を示す図である。
図14は、図9の手持ち計器(PCR man)で光学的に検出された「試験ストリップ」として、ウィンドウ上または反応流体中での直接的な特定生成物の検出用の固定化試薬/プローブを示す図である。
図15および16は、図6のマイクロ反応チャンバと共に用いる光学的検出システムの概要を示す図である。
図17は、人工知能フィードバックシステムに集積化検出を使用した概要図である。
図18は、tris(2,2′bipyridyl)ruthenium(II)(TBR)及びtripropylamine(TPA)のための電気化学酸化および化学還元反応を示す図である。
図19は、電気化学発光(ECL)によって検出および定量化に対するDNAをタグ付けし、および分離する方法を示す図である。
図20は、電圧を上げて、次いで下げたときのセル電圧およびECLの強度対時間の変化を示す図である。
図21は、薄いフィルム状のアノードを有したマイクロ機械加工によるECLセルと、関連するフォトダイオード検出器との実施例の図である。
図22は、電気的リード線を有する図21のECLセルの拡大断面図である。
図23〜30は、図21に示したECLセルを製造するための組立てプロセスの説明図である。
図31は、ITO電極の抵抗を減らすガラスにITOを、このITO上にAlを使用する実施例の図である。
図32A及び32Bは、反応制御、検出及び論理フィードバックユニットを有する一連の相互接続チューブに沿った複数のスリーブ型反応チャンバの直線型又は並列型配列を示す。
図33A及び33Bは、反応チャンバ内の磁気粒子を制御するための微細機械加工された(即ち、スパッター蒸着された)磁気フィルムを使用する反応制御ユニットの実施形態を示す。
図34は、モノシリック流通形システム内の反応制御要素の集積を示す。
発明の詳細な説明
本発明は、微細加工されたスリーブ化学反応チャンバである。シリコンベースの実施形態は、例えば、加熱のためのドープシリコン及び対流冷却のためのバルクシリコンなどの形態を結合する。シリコンベース又は非シリコンベースの材料から作られるマイクロ反応チャンバは、高スループットのマイクロ反応ユニット又は手持ちタイプのユニットにおいて使用することができる。この反応チャンバは非シリコンベース又はシリコンベースの材料の臨界比を組み合わせて望ましい熱特性を提供することができる。以下に記載するシリコンベースの実施形態は、例えば、均一な加熱をさせながらも、電源条件を低く抑えるために、加熱材料の容積とシリコンおよび窒化シリコンの臨界比を組み合わせたものである。また、本発明は、反応混合物を含有する反応スリーブ内にインサート又は2次チューブ(例えばプラスチック製)を挿入することができるようになっており、これにより、潜在的な材料の不適合性を緩和することができる。以下に記載される本発明の実施形態は、電源および温度均一性の面から非常に効果的であることが分かったシリコンベースのマイクロ反応器の特定の幾何学関係を利用している。この説明されるマイクロ加工反応器に関する特定の実施例は、ポリメラーゼ・チェーン反応(PCR)や他の化学反応で使用する熱サイクル計器として実験的に使用され、また熱駆動の化学反応器に依る現在の商用器具よりも優れていることが判明している。本発明に係るシリコンベース又は非シリコンベースのスリーブ反応チャンバは、前記参照の同時係属の出願番号07/938,106号に記載の微細加工がなされた装置に搭載の反応チャンバの代わりに利用でき、また前記参照の同時係属の出願番号08/489,819号に記載の集積ヒータおよび検出配置と共に利用でき、したがって、これらの同時係属出願に記載の微細加工の化学反応装置の拡張構成を成すものである。
微細加工の化学反応計器および集積化加熱/検出配置を理解するために、本発明に従って作られたシリコンベースのスリーブ反応チャンバの実施例を説明するに先立って、前記2件の参照した同時係属出願の微細加工の化学反応器および集積化加熱/検出配置について説明する。以下においてスリーブ反応チャンバはシリコンベースの材料により構成されるように記載されるが、非シリコンベースの材料を特定の応用に使用することができ、そこで材料は反応流体と適合性を有し、及び/又は化学的に不活性である。
図1は、符号10で概略表される微細加工の化学反応計器の実施例を示しており、その計器には符号11で概略表された凹部が示されており、その中には、微細加工の反応機器の、符号12で概要を示す電源/コントロール装置が設けられている。皮下針13が示されており、この針はシリコンゴムのウィンドウ14を通って反応計器10に試料を挿入している。この反応は、計器10内のコイルLCLと磁気コイルとの誘導結合や、コンデンサC3のプレートとプレート16、17の間の静電容量結合や、さらには計器10内の共振回路(図2参照)と高周波アンテナ18との間の電磁結合によって制御される。
図1に示す計器10の概要を図2に示す。計器10は3つの試薬室19、20、21を備え、これらは例えば、DNAプライマ、ポリメラーゼ、およびヌクレオチド、ならびに磁気ビード(magnetic beads)といった検出タグ付け分子を収容することができる。目標DNA分子は、皮下針13(図1参照)などをシリコンゴムまたはほかの種類の材料から成るウィンドウを通して挿入することにより、試薬チャンバ19に入れられる。この反応物質チャンバ19、20、21はそれぞれ、狭い中央領域(図示せず)を有するチャンネル22、23、24によって反応チャンバ25に結合されている。典型的なチャンバ19〜21および25の容積はマイクロリットル〜ナノリットルの範囲にある。チャンネル22〜24はラム波ポンプLW1、LW2、LW3をそれぞれ備え、チャンバ19〜21の反応物質をチャンネル22〜24を通して矢印の方向にくみ上げ、反応チャンバ25に注入するようになっている。このラム波ポンプはチャンネル22〜24それぞれのいずれかの壁または複数の壁に設置してもよい。このラム波ポンプLW1、LW2、およびLW3はコンデンサC1、C2、およびC3にそれぞれ結合している。チャンネル22〜24の狭い中央領域の両端に表面張力によってチャンバ19〜21の反応物質が、ポンピングが開始されるまでの間に反応チャンバ25に流れ込むという事態が防止される。チャンネル22〜24の内部表面をその表面張力が上がるように処理してもよく、これにより、ラム波ポンプが起動していないときに試薬が流れ出るのを確実に抑えることができる。
この反応チャンバ25はラム波トランスデューサLWCおよびヒータHCを備えてもよい。このラム波トランスデューサLWCはインダクタLCL(図1に同様に示す)に結合されている。このヒータHCはインダクタLCHおよびコンデンサCCHから成る共振回路に結合されている。このラム波トランスデューサLWCは、チャンバ25において接続矢印26で示されるように、アジテータ、ミキサ、またはソノケミカルインデューサとして機能する。
チャンネル27によって反応チャンバ25が検出チャンバ28に結合される。このチャンネル27はラム波ポンプLWDPを備えており、このポンプはインダクタLDPおよびコンデンサCDPから成る共振回路に接続されている。この検出チャンバ28はラム波センサLWDを備えておりこのセンサがコンデンサCDに接続されている。
ラム波トランスデューサは高い機械的Q値を有しており、交流電圧周波数の狭い帯域によってのみ電源供給することができる。このラム波ボンプ(LW1,LW2、LW3)およびラム波センサ(LWD)は、ラム波トランスデューサ(LW1、LW2、LW3,およびLWD)を共振周波数においてプレート(たとえば図1のプレート16および17の如き)間に電界を発生させることによって静電容量的に電源供給される。しかし、このトランスデューサのQ値は高いため、課せられる電界の周波数がトランスデューサの共振周波数に近いときにのみそのトランスデューサは任意の振幅で振動する。同様に、ラム波ミキシング用のチャンバトランスデューサLWCは、トランスデューサLWCの機械的共振周波数にてコイル(図1の15)によって発生される交流周波数の磁界によって与えられる。このヒータHCおよびラム波ポンプLWDPは、アンテナ(図1の18)から共振回路CCHおよびLCH、および共振回路CDPおよびLDPにそれぞれ電磁波を向けることによって起動する。この入射電磁照射の周波数は、ポンプLWDPを起動させるには、トランスデューサLWDPの機械的共振周波数に一致していなければならない。この入射する電磁照射の周波数は、ヒータHCを起動させるには、電気的エレメントCH、LCHおよびHCの共振周波数に一致していなければならない。
PCR反応は、例えば、ポンプLW1、LW2、およびLW3を起動することによって各チャンネル22、23および23を通って反応チャンバ25に矢印の方向に沿ってチャンバ19、20および21の試薬をポンピングすることで開始される。たとえば20から40の一連の熱サイクルが次いで開始され、各サイクルの間に反応チャンバ25の反応物の温度は例えば55℃から96℃になり、次いで55℃に戻る。この反応チャンバ25の温度は、ヒータHCとともにコンデンサCCHおよびインダクタLCHから構成される回路の共振周波数に相当する周波数で入射する電磁信号の電力によって決定される。反応チャンバ25のラム波デバイスLWCは、矢印26で示すように、アジテータまたはミキサとして機能し、試薬を混合し、反応を促進させる。
この熱的循環が完了すると、反応チャンバ25の内容物はラム波パーム(perm)LWDPによってチャンネル27を通り、矢印の方向に沿って検出チャンバ38にポンピングされる。この検出チャンバはラム波センサLWDを利用している。これに代えて、検出チャンバ28は光学的ウィンドウを備えていてもよく、試験は蛍光に基づく又は吸収に基づく光学スペクトロスコピーによって行っても良い。
図3は、図1および2の微細加工反応器に組み込むことができる加熱/検出配置を示している。図3に示すように、概略的には符号30で示す、小型化された微細に組み立てられた計器の、PCRチャンバなどの化学反応チャンバが断面図で示されており、例えばパイレックス(Pyrex)から成るハウジング32に形成され、また内部にシリコン・インサート33および34を備えたチャンバを有しており、また、チャンバは入り口35と出口36を有している。二つの異なるエネルギ(光)源からのエネルギがハウジング32に向けられており、一方のエネルギ源37は赤外線(IR)源であり、もう一方のエネルギ源38は紫外線(UV)源である。このIR源17はチャンバ31内の溶液のバルブを通して均一に熱を照射する。UV源18は可視(Vis)スペクトルにて反応生成物の蛍光を誘因し、反応チャンバ31を画成するハウジング32の外部に置かれた可視(Vis)検出器39によって検出することができる。ハウジング32はUVおよび/または可視スペクトルに透明な材料で構成しなければならない。この反応チャンバ自体に連続励起(加熱)および検出システムを内蔵することにより、その反応チャンバ内のサンプルの存在を確認することができ、図2の微細加工反応器の二重の反応および検出チャンバ25および28を合併することができ、したがってこれによりコンポーネントを減らして組立てコストを下げることができる。
本発明の実施例は、図4および5に概略示すものであり、符号40に概略示す微細加工の反応器を必要とし、この反応器が、2つの接着したシリコンパーツで構成され、符号40で概略示す化学反応チャンバとしてのシリコンベースのスリーブを有し、かつ、以下に詳細に示す如く、加熱用のドープポリシリコンおよび対流冷却用のバルクシリコンを利用している。このスリーブ41はスロットまたは開口42を有し、これに、符号43で示す反応流体が皮下針44から反応チャンバに注入されるか、または、別の反応混合物を収容した別のチューブ45が挿入される。このチューブ45は例えば、プラスチック、または反応混合物について不活性である他の材料で形成され、これにより、潜在的な材料の不適合性問題を軽減することができる。このスリーブはまた開口47を備えており、この開口に光学的ウィンドウ48が位置しており、このウィンドウは例えば窒化シリコン、酸化シリコン、またはポリマで形成されている。このシリコンスリーブ反応チャンバ41は、加熱用のドープポリシリコンおよび対流冷却用のバルクシリコンを有しており、均一な加熱であって、しかも電源条件を低くするために、シリコンおよび窒化シリコンの臨界比と加熱する材料(例えば液体)の容積とを組み合わせている。
図6はマイクロ反応チャンバの拡大図であり、図4の実施例と類似しているが、2つのウィンドウを利用したものである。符号50で大略示される図6の反応チャンバは、符号53で示す如く、合わせて接着された2枚のシリコンウェーハまたは基板51および52から成り、その内部にスロットまたは開口54を画成するように構成されている。ウェーハ51および52のそれぞれは窒化シリコンの層51´および52´を有し、この層がそれぞれ符号55および56で概略示す如くウィンドウを画成している。ウェーハ51のウィンドウ55は窒化シリコンから構成され、またヒータ67を備えており、このヒータは均一な加熱を行うためのヒータ57の端に沿って延びる電気的なリード線58および59を有している。ウェーハ52のウィンドウ56は図6に示していないヒータを有しており、このヒータは図7および図8のいずれかに示したように、金属コンタクト60および61によって固定されている。窒化シリコンの層51´および52´は非常に薄く(1μm)、バルク・シリコンのウェーハ51および52の上に真空めっきされている。バルク・シリコンのウェーハ51および52がエッチングされて開口またはスロット54を形成するときに、符号55および56に示す如く、この窒化シリコンだけでウィンドウを成している。ヒータ57は例えば、ウィンドウ55を通過するエネルギに対して透明である。
図7は、図6の円62で示したように、シリコンウェーハ52およびウィンドウ56の断面の実施例を非常に拡大した図である。図7に示す如く、符号63で表されるシリコンウェーハ52の断面はバルクまたは単一の結晶シリコンから成り、低い(100〜500MPa)応力の窒化シリコン膜またはウィンドウ64(図6の52´)に接しており、これがさらにドープ・ポリシリコン・ヒータ65および金属コンタクト60および61に接している。図7の実施例は分離されたヒータバージョンの固定ウィンドウを備えている。
図8は、円62で表された、シリコンウェーハ52およびウィンドウ56の断面の別の実施例を大きく拡大した図である。図8に示す如く、符号66で表されるシリコン基板52の断面はバルクまたは単一の結晶シリコンから成る。図7の実施例のように、低い(100〜500MPa)応力の窒化シリコン膜またはウィンドウ69(図6の52´)はシリコン断面66に接しており、ドープ・ポリシリコン・ヒータ70はウィンドウ膜69に接しており、さらに金属コンタクト71がヒータ70に取り付けられている。この図8の実施例は非分離のヒータのバージョンを備えている。このチャンバに関するウィンドウサイズは変化させて熱的均一性およびこの反応チャンバへの光学的アクセスを保証することができる。
一例として、このシリコンウェーハまたは基板51および52は5〜50mmの長さ、2〜10mmの幅、0.1〜1.0mmの厚さを有し、5〜500mm2の断面積のスロット54を有する。スロット54は6枚の側面を持った(six-sided)構成として示されているが、丸形、長方形、正方形、矩形、または他の構成にしてもよい。ウィンドウ55および56は0.1〜1mmの長さ、0.1〜50mmの幅、0.1〜10μmの厚さのサイズを有し、窒化シリコンに加え、酸化シリコン、シリコン、またはポリマで構成してもよい。図7のドープ・ポリシリコン・ヒータ65は0.05〜5μmの厚さを有し、0.05〜5μmの厚さを有する図8のヒータ70を備える。図6および7の金属コンタクト60〜61および61´は金またはアルミニウムで構成することができ、0.01〜5μmの厚さを有し、また、金またはアルミニウムから成る、0.01〜5μmの厚さを有する図示の金属コンタクト71を有する。シリコンウェーハまたは基板51のヒータ57は0.05〜5μmの厚さのドープ・ポリシリコンから成り、金またはアルミニウムから成る電気的リード線またはコンタクト58および59を備える。
このバルク・シリコン、ポリシリコン、窒化シリコンを使用することで、各チャンバの熱的および光学的特性を設計する上でのフレキシビリティが得られる。これにより、小型の計器(図9)または大型の計器(図10)において個別に制御され、熱的に隔離された反応室を提供することが可能になる。
図9は、小型の熱循環、バッテリ駆動、手持ちで低電力、フィードバック制御のPCR用計器の実施例であり、この計器は図4および6のそれらのように、微細加工によるシリコン依存形の反応チャンバを用いており、この計器は、反応チャンバの熱的均一性および温度精度、チャンバの温度ランプレート、および試薬に接する材料の生体適合性を発展させたものである、として説明できる。
図9に示すように、手持ちでバッテリ駆動の計器、すなわち符号75で概略示す小型「PCR man」は、圧力調整の電気的コンタクトのコントローラ・ホルダ、すなわちハウジング76を備え、例えば「ステータス」ウィンドウ78を含む各種の指示器をその上に有するコントロール・フェイス・プレート77を有した3×5インチに形成されている。このホルダ76はサーモカップルを用いた温度フィードバック制御回路、ヒータエレクトロニクス、コンピュータインターフェイス、および電源コネクタを備えており、以下にそれらの詳細を述べる。このホルダ76は4個の9ボルト・バッテリの如くの、符号79で示されるバッテリを備えており、その上端にはホルダ(3個のスロットを示す)に反応チャンバ挿入するためのスロット80を備えており、そのスロットに集積化ヒータ(図6に示すように)を有するシリコン依存形の反応チャンバ81、82、83および84が矢印85で示すように挿入される。この反応チャンバ81〜84は、構成されたときに、各種の試薬または化学物質を収容することができ、ホルダ又はコントローラ76のスロット80を介して手持ち計器75に選択的に挿入することができる。
この計器を使用することで、反応混合物の熱サイクルを迅速にかつ周期的に制御することができる。シリコンまたは類似の半導体基板の熱伝導特性の寄与によって、熱の立ち上がりおよび立ち下がり特性が迅速化し、運転に要する電力が少なくて済む。シリコンはその熱特性が独特、すなわち熱伝導度が高いが、シリコン、窒化シリコン、酸化シリコン、ポリマ、および他の材料の組み合わせによって、熱的均一性および低い動作電力を可能にする熱伝導および断熱の組み合わせが提供される。
シリコン又はシリコンベースの材料が好ましいが、ポリマー、セラミックス(結晶体及び非結晶体、ケイ酸塩及び非ケイ酸塩ベース)、金属、又は金属の結合(合金)、並びに、望ましい熱特性(導電性、抵抗、特定の熱、膨張、など)、熱質量、又は他の感知及び制御能力を達成するための材料の結合(例えば熱伝導性を増加するドープ剤(例えば、酸化アルミニウム)を含む合成ポリマーなど)を含む他の材料を使用することができる。そのような材料の適合性、特にその表面反応性及び不活性も考慮する必要がある。また、材料は、制御要素をそれらの上又は近傍に集積する能力又は可能性に基づいて選択すべきである。ライナを使用する場合、重要性が低い化学的適合性であるが、導電性などの他の特徴は依然として大きな重要性を有する。例えば、反応と不適合であるシリコン又は金属(例えば銅)等の正しい熱材料(高導電性)から反応チャンバを作り、化学蒸着又は蒸発プロセスを使用して壁上に超薄いポリマーパッシベーション層(テフロン又はポリプロピレンなど)を蒸着して熱伝導性の面で妥協が最小である適合性面を実現することが可能である。
そのような独特の可能性をもたらすのは、そのような微細加工技術である。それら無しでは、最適な反応制御可能性を有する反応チャンバを製作することは困難であろう。例えば薄膜プロセス及び蒸着は、他の材料上に非常に薄く均一な材料のコーティングを可能とし、エッチング及びバッチ製作は大量生産を可能とする。
この種々の材料上への、蒸着(又は他の微細加工方法)を含む制御要素の集積は、現在では1つの形態又は別の形態で可能である。例えば、薄膜金属ヒータをポリマー又はセラミックデバイス上に蒸着し、電極、感知要素、回路などとすることができる。ICタイプのエレクトロニクス及び制御要素の形成は、今日入手可能な多くの材料の上に蒸着することができる。材料及び微細加工方法の選択は、多種の選択肢が存在するので、応用のニーズに基づくことのみが必要である。反応チャンバは、この利用可能性の広がりから利益を受ける応用の主要な例である。反応チャンバの加熱及び/又は冷却手段は、例えば熱電性フィルムにより構成することができる。
例えば複数の反応チャンバ又は反応チャンバの配列を有する微細加工磁気能動性(magnetically-active)フィルムの集積は、反応試薬及び生成物の制御に使用することができる。これは、特定の試薬に選択的に結合可能な反応流体中の磁性又は常磁性粒子の使用により実現することができる。フィルムと粒子の間に作られる磁気的引力及び斥力の使用により、保持試薬を流通形システムから運び出しつつ望ましい試薬を選択的に誘因又は反発することができる。
別の例として、微細加工熱電フィルム又はヒータの導入を利用してスリーブ型反応チャンバ内の反応温度を制御することができる。試薬が上昇又は下方の周囲熱レジームを経験することを許容するそのようなフィルムにより、加熱と冷却の両方を実現することができる。温度又は機械的に作動した圧力領域が方向付けられたスループットのための流体流れ状態を生成する。
他の能動的微細機械加工フィルム又はデバイスを導入して、システム内の反応速度、混合、流れ又は移動に影響を与えることができる。例は、形状記憶フィルム(即ち、NiTiCu)等の微細加工アクチュエータ、ポリイミドなどの静電アクチュエータ、異なる熱膨張係数を有するポリイミド又は他の材料などの熱バイモル(bimorph)アクチュエータ、及び他の微細機械加工構造などを含む。
図6などの微細加工反応器の記載された特定の実施形態を、PCR及び他の化学的反応、生物化学的プロセス、微生物学的プロセス、並びにインキュベータでの使用のための熱循環機器として使用することができる。以下に示すように、本発明の反応チャンバは熱駆動化学反応において使用されている現在の商業的計器より優れている。
図9の計器及びこれに使用している、図4および6に図示した如くのマイクロ反応チャンバを実験的に検証する間に、数種類の異なるサイズに設計したPCR反応チャンバを集積(IC)タイプのシリコン処理のステップを使って組み立てた。この一般化した組立ては以下のようであった。3インチの丸い、0.5mm厚さで単一の結晶シリコン(SCS)ウェーハが以下の方法で処理された。すなわち、低応力(200〜300MPa)の窒化シリコン(Sixy)はウェーハ(1.0〜2.0μmの厚さ)上に全体的に低圧化学真空蒸着(LPCVD)された。反応チャンバ用のホトリソグラフ・パターンおよびこれに続く処理ステップは以下の順序で採用された。1)窒化シリコンはその反応チャンバ領域上にリアクティブ・イオン・エッチング(RIE)され、2)SCSは窒化シリコンのチャンバ容積を規定する背面にエッチングされ、3)このウェーハはパターン化され、そして、反応チャンバの設計に応じて、窒化シリコンは化学的に窒化膜の領域を除く部分、または、全体領域がエッチング除去され、4)残りの窒化シリコン膜(反応チャンバ反対の側)は多結晶シリコン(ポリシリコン)で厚さ3000オングストロームにLPCVD蒸着され、5)そのポリシリコンは次いでボロンで1区画当たり50〜200オームの抵抗値まで高温ドープされ、そして、6)アルミニウムまたは金の薄膜の金属コンタクトが蒸着されてヒータのジオメトリを決めた。
各ウェーハは可能な限り、ジオメトリおよび所望の容積に応じて、多くの反応チャンバを有する。各ウェーハのエッチングした窪みが2重ヒータ反応チャンバの1/2を構成する。処理されたウェーハは続いて結束され、両サイドにヒータを備えた閉じたチャンバを形成する。
この反応チャンバは、2枚のウェーハの間に直接に低温硬化ポリイミドの薄いフィルムを蒸着すること、または、共晶金属結合などのほかの結合法によって、互いに結合することができる。各2重ヒータチャンバを切り分ける設計の場合、高精密のコンピュータ制御のシリコン鋸を使った。このチャンバは次いで脱イオン化水で繰り返し水洗され、乾燥させてシラン処理を施した。
この反応チャンバは、圧力調整された電子的コンタクトホルダに挿入された。このホルダはコントローラを構成する電気的コンポーネントのプレキシガラスのバックボードの一部を成す。このコントローラのエレクトロニクスはアナログまたはデジタルのいずれでも良く、フィードバック制御機構としてパルス幅変調のようなプロセスを用いることができる。バックボードは3×5インチで、サーモカップルを用いた温度フィードバック制御回路、ヒータエレクトロニクス、コンピュータインターフェース、および電源コネクタから構成した。この回路は8〜32ボルトで動作するように設計した。熱の校正は、流体の温度をシリコン測定用のタイプKのサーモカップルのそれに相関させることで行った。一度校正すると、反応流体を直接測定することなく、自動で、フィードバック制御の熱循環動作を行うことができた。この熱サイクラ出力はアップル社のApple Centris 650コンピュータに供給され、このコンピュータがプロファイルの累積に加えて、熱サイクルをリアルタイムに表示する。4個の9ボルトバッテリで計器全体を2.5時間以上にわたって連続的に駆動する能力があった。
典型的なPCRは、種々の条件下で熱的に循環されたアリコート間での均一性を保証するため、スケールアップした主混合物としてセットアップした。試薬量は50ulに理想的な量に基づき決めた。主混合物は概略、以下のものを含んだ。すなわち、50mM KC1、10mM Tris-HC1 pH8.3、1.5〜3.0mM MgCl2、200uMの各デオキシヌクレオチド、又は、800uM dNTP トータル、0.5uMの2つのオリゴヌクレオチド・プライマのそれぞれ、25ユニット/mlのAmpliTag(登録商標)DNAポリメラーゼ、および、50ul反応当たり指定コピー数でのターゲット鋳型である。いくつかのβグロビン用の鋳型は、シングルストランドDNAとして、人間のβグロビン遺伝子の部分のM13バクテリオファージクローンから加えた。CF鋳型は、培養細胞系HL60、GM07460、またはGM08345から引き出した人間のゲノミックの2重ストランドであった。各反応混合物は同一の主混合物から分取され、本発明に係る計器およびPerkin-Elmer社のGeneAmp(登録商標)9600熱サイクラで熱循環された。両方の熱サイクラで熱循環された反応物は、トリス・ボラード緩衝液を使って3% NuSeive、1% Seakem アガロース(FMC社)に基づき分別した。このゲルは臭化エチジウムで着色され、302nmのUV光を照射した状態で写真にとった。
最初は一回使用で使い捨てタイプの反応チャンバを着想したのであるが、この反応チャンバは、この強い性質かつ安定した特性を考慮すると、繰り返し使用にも供することができる。
本発明に係る「MEMS」に基づいた熱循環計器は、ウイルス性、細菌性、および人間のゲノミック性の鋳型を含む各種のPCRシステムで試験された。同様に、反応チャンバ設計およびコントローラの計測の両方における各種変更もインプリメントされ、評価された。微細加工の熱サイクラからの熱サイクルに対するコントローラ出力がリアルタイム表示され、この表示によると、15ボルト入力(平均1.2ワット)で、5℃/秒を超える加熱速度が達成されることが示された。冷却はこれよりも若干遅く(2.5℃/秒)、この主な原因は反応チャンバがプレキシグラスの計器ボードの内部に保持されているためである。+/-0.5℃の精度が目標温度で保持される。より高い加熱および冷却の速度を得ることができた。
行った実験によれば、図9に示した計器と商用の計器との両方でPCRプロセスの定量的性質が判明した。これらの実験は、23、25、27、29、および31サイクルで両方の上記計器から105個の開始コピーのβグロビンPCRから5μLのアリコートを除去するものであった。これらのアリコートは引き続き、アガロースゲル電気泳動法の元で処理された。両計器からデータ結果は実質的に同一であった。人間のゲノミック(HL60)DNAから直接得られたβグロビンの268-bpターゲットの増幅から出た同一の定量的ゲル電気泳動シリーズが実行された。
多重PCRは、最近の最も新しい、解析的にパワフルなDNA増幅技術の1つと考えられる。この技法を行うには、反応チャンバ内部で精密かつ均一な温度制御が必要になる。本発明者は、本発明に係る計器を用いてこれを達成した。
例えば、嚢胞性線維(CF)症に関連した特定の突然変異のポストPCR検出は、簡単なナイロンに基づく試験ストリップで、逆ドット・ボロット技法を使って識別することができる。この試験ストリップは、関心ある突然変異シーケンスを含む特定の固定化したDNAプローブを有している。この多重PCR増幅生成物は検体と一緒に、これを通して簡単な試薬に入れられる。仮に結合が生じ、DNAが洗浄ステップの後も保持されるならば、DNAビオチン・ストレプタビディン・酵素複合体(DNA-biotin-streptavidin-enzyme complex)は基板で処理したときに色が変わる。この商用および図9に示す計器によるPCRの増幅結果は、準備されたCF用の逆ドット・プロット検体によりフォローされる。
上記参照の実験結果と以前の結果から、一つの側面に寄せたヒータを備えた前述した同時係属の出願のものと比較して、種々のサイズおよび構成を有したこのシリコン依存形の反応チャンバは、PCRといった化学反応を低い要求の電力で遂行する能力を有する。
上述した実験結果の重要性は、まず始めに、バッテリ動作で、手で保持してPCR増幅を遂行できること、そして、複雑な生物物質および病気を簡単な試薬を用いたターゲット検出により、図9に図示したような計器で遂行できるという点にある。
PCRタイプ適合のシリコンベースのマイクロ反応チャンバにおいて迅速な温度循環と熱的均一性とが可能になったことで、ヒドリダイゼーションと酵素動力学に対する理解を与えることができると考えられる。例えば、温度制御の重要性はPCPプロセスにおいて最高の要件で、とくに、複合体系が増幅されるときにはそうである(例えば、人間のゲノミックDNA、多重増幅)。この温度制御の精密さと熱的均一性とはバランスする必要がある。計器を真に小型化し、または、高いスループットの計測装置を構築するために微細加工の反応チャンバの利点を享受するには、図10A、10B、および11に示すように、制御エレメントをユニット毎のスケールに関して集積化する必要ある。また、使用する各種の材料の熱的特性をバランスさせて制御効率と熱的信頼性とを共に得る必要がある。シリコン・ベースの材料は熱的特性、ヒータを集積化する能力、およびフィードバック制御の必須要件を与えことができるので、これを用いた製造を行うことで、高度な並列性、自動化、およびバッチ処理能力の利点を得ることができる。
図10A〜10Bおよび11はシステムのアプローチを図示するもので、高いスループット、高効率の熱サイクラ計器、サンプル操作、および電気泳動モジュールを組み合わせている。この電気泳動モジュールはまた、ガラスまたはシリコンを使って微細機械加工することができる。この計器は本質的にハイブリッドにでき、すなわち、図5の実施例でわかるように、シリコンベースの反応チャンバと、両基板またはメンバの利点を享受する小型のガラス電気泳動モジュールとである。DNA生成をリアルタイムに検出することの利点によって、オペレータはゲルの結果を見るために待機しているよりもむしろ、反応中のPCR効率について知ることができるようになる。これにより、まだ増幅されていないサンプルの電気泳動ゲルを実行する上で無駄な時間を無くすることができ、DNA塩基配列決定の生産性向上に大いなる助けとなる。
図10Aおよび10Bは、符号90で概略示される熱循環計器を表し、この計器はフェースプレート92を有したハウジング91を備え、このフェースプレートは図9の手で保持する計器のフェースプレートと同様に、「ステータス」ウィンドウ93を含む各種のインジケータをその表面に備える。このハウジングはヒンジ付き天板94を有し、この下に個別制御のシリコン依存形のマイクロ反応チャンバ96のアレイ95を位置させ、チャンバ96は例えば図4及び6に図示したタイプで形成することができる。図10Bに示すアレイ95には図示を簡単にするために100個のチャンバのみを持たせているが、計器90は384個のマイクロ反応チャンバ95を有するように設計される。
図11は、図10A〜10Bの計器を利用した、高スループットのDNAアプリケーション、サンプル操作、および電気システムの概要を表しており、該当する参照符号が対応するコンポーネントを示している。384個の個別制御PCR反応チャンバ96´(5個のみ示す)のアレイ95´は動作的に、符号97で概略示される自動サンプル入力/出力アセンブリに結合されている。この結合には、符号98および99で概略示される2セットのマイクロインジェクタが使用される。アセンブリ97のマイクロインジェクタのセット98とアレイ95との間のサンプル入力/出力機能はダブル矢印100により示され、一方、マイクロインジェクタのセット98および99の間のかかる機能はダブル矢印101により示される。マイクロインジェクタのセット99は個々のマイクロ電気泳動チャンネル103から成るアレイ102に動作的に結合している。このインジェクタによる入力/出力システムは真空または界面動電のパワーにより反応チャンバ96から試薬サンプルをロードし、自動的またはロボット工学的に電気泳動チャンネル103まで移動し、圧力または逆向きフィールドの界面動電インジェクションにより試薬をそれらのチャンネルにアンロードして電気泳動分離させる。この電気泳動モジュールも同様に微細機械加工により形成できる。シリコンは反応チャンネルに適しており、ガラスは電気泳動に適している。
電気泳動チャンネル103はガラス基板で形成されており、それぞれ直接に図4に示すタイプのシリコン反応チャンバに結合しており、これにより、図5に示すように、電気泳動チャンネル103のアレイ102に直接に結合した反応チャンネル96´のアレイ95を生成している。
図5及び11に関して上述したシリコン及びシリコンベースの材料に加えた材料の使用により、PCR/電気泳動の可能性が拡張する。例えば、反応チャンバは、熱の考慮においては上記のようにシリコン、金属、セラミックとすることができ、ライナは適合性においてポリマー、ガラス又は他の適当なものとすることができ、微細機械加工された(CVD又は蒸発)層を有することができ、電気泳動チャネルは、電子的絶縁性又は電子的な一般的考慮において(これはまた、適合性及び電気浸透流又はゼトラ(zetra)ポテンシャルについてCVDなどの蒸着層とすることができる)ガラス、ポリマー、セラミックとすることができる。同一の全ての発想は上述から維持される(即ち、制御要素のICタイプの集積)。例えば、電極及び光学的検出器の配列を基板上に直接的に製作することができる。その場合、ライナは実際に直接的に電気泳動微細チャネルと接続する。
図12に示す如く、応用の中には、適宜な反応に適合することが知られている材料から成る反応チャンバ用の着脱可能/永久的なライナ/インサートの使用が、それらのライナ/インサートを使い捨てにしてもよいので、全体のコストを下げることができるものもある。同様に考えられるのは、シリコン依存形の反応チャンバの表面用変性剤で、これを使用すれば、ラインに対する共有および/または他の結合を増強することができる。この例は有機/活性シラン、ポリイミド、テフロン、ポリセリン(polytheylene)、ほかのポリマなどである。
図12は、光学的ウィンドウ106を有する反応チャンバ用の、符号105で概略表されるインサート/ライナの実施例を示している。このインサート/ライナ105は6枚の側面の(six-sided)ハウジング107とトップ/カバー108とを有する。この6枚側面のハウジング107は例えば、図6の実施例の反応チャンバ50の開口54に挿入され、ウィンドウ106が図6のウィンドウ55または56の一方と一列に並ぶように構成される。このハウジング107はプラスチックまたは前述した他の適合する材料で構成される。インサート/ライナ105のウィンドウ106には試験ストリップ109が付けられており、図14については以下に説明される。
図13は、符号110で概略示される外部の流体素子間(interfludic)結合を介して図12の反応チャンバのインサート/ライナ105の外部充填を図示している。流体素子結合の例には、シリンジ針、ピペット先端部、および溶融シリカ毛管またはガラスまたはポリマの管が挙げられる。
生成物の生成および特殊性を光学的にまたは他の検出法(他のマイクロベースの検出法)で検出するためのプローブを有するウィンドウ(または試験ストリップ)の表面固定化は図14のようになされ、同図は図12の試験ストリップ109の拡大図である。このような試験ストリップは図4または6の反応チャンバのウィンドウに持たせることができる。図12の106のように、ウィンドウ上に直接に存する、または、図12の反応チャンバのインサート/ライナ105内の反応流体の内部に存する特定の生成物を検出するための固定化試薬/プローブは、試験ストリップ109を使って、図9のPCRman、すなわち手持ちタイプの計器で光学的に検出できる。このウィンドウの実際の内部表面は特定ターゲットまたは生生物検出プローブ用の固定化表面として使用することが可能で、または、このウィンドウはチャンバ内部の固定化/検出表面を観察するために用いることが可能である。
図15及び16は光学的検出用の2通りのセットアップ法の概略を図示している。図15のセットアップ法はレーザ/ccdバージョンであり、一方、図16のセットアップ法は図9のPCRman(手で保持するの計器)内にインプリメンテーションするための定電力動作を可能にするようになっている。
図15に示すように、ウィンドウ121および制御エレクトロニクス122を有する反応チャンバ120に関する光学的検出の配置には、関心検出波長を通過させる干渉フィルタまたはバンドパスフィルタなどの光学フィルタ123、CCD124、符号125で概略表されるデジタル画像、焦点用光学系126、レフレクタ/スプリッタ127、およびアルゴンイオンレーザ128が含まれる。この動作は以下のようである。このレーザは生成物検出に関連する蛍光指示薬染料励起する。蛍光信号はCCD124によりモニタされる。このため、吸収スペクトルが同様に使える。
図16のシステムは、ウィンドウ121´を有する反応チャンバ120´用の光学検出システムを小型化したもので、制御エレクトロニクス122´は2つのフィルタ130および131、固体状態検出器132、および青LED133から成る。このフィルタ130および131は、エミッション(すなわち600nmロングパス)を選択するバンドパスまたはロングパス、および、488nm±10nmのような関心励起波長を選択するバンドパスのいずれかである。この励起バンドパスは、例えば、LEDの典型的な広帯域エミッションから選択するように使用できる。図16の検出システムの動作は以下のようである。LED出力は蛍光指示薬染料の励起源(または吸収)としての488±10nmの波長にフィルタリングされる。固体状態検出器も同様に、検出波長(>600nm)のみを受光するようにフィルタリングされ、すなわち吸収検出器として機能する。
人工知能はDNAを生成し、それが完成した場合、仮にそれが機能したならば、どの位のサイクルを実行したらよいか、生産を上げるためのパラメータの調整などを決める方法である。図17に概略的に示すようなリアルタイムの検出システムを使って、集積化された検出構造を用いた人工知能フィードバックシステムを提供できる。図17のシステムは、ウィンドウ136を有した反応チャンバ135、DNA製造に関して本来の位置での検出のための検出器137、反応チャンバ135用の計器コントローラ138、およびデータ読出しシステム139を備え、このデータ読出しシステムが検出器137からデータを矢印140で示す如く受けて、制御データをコントローラ138に矢印141で示す如く供給する。このデータ読出しシステム139は、どの位の量のDNAを製造するのか、開始コピー番号、反応完了などの情報を提供する。よく知られている光学的なモニタ装置を使ってDNA製造を定量化することによって、本システムは循環時間およびサイクル数を調整し、検出に必要な最適サイクル数を作り出すことができ、本プロセスを迅速化できる。同様に、所望の蛍光信号、すなわち生成物濃度を検出するために必要なサイクル番号を決めることによって、本システムは全部の開始コピー番号または不明の開始サンプルの濃度を計算することが可能になる。これにより、自動化された濃度計算が可能になる。リアルタイムに定量的な情報を使うことで、本システムによってターゲット温度、ホールド時間、およびランプレート(ramp rates)といった反応パラメータを調整することができる。
増幅されたDNAを検出するための微細加工の電気化学発光セルを図18〜31に関連して以下に説明することとし、これらの図により設計、組立て、およびその試験を述べる。マイクロセルは、図9で説明しかつ上述した如く、PCRマイクロ計器の検出ユニットとして設計される。このセルは微細機械加工されたシリコンおよびガラスの直立アセンブリであり、図に示すように薄いフィルム電極を有している。
電気化学発光によるDNA検出は、PCRによるDNA増幅から開始し、その濃度を検出可能なレベルまで上昇させる。次いで、それがトリス(tris)(2,2′bipyridyl)テルニウム(II)(TBR)で標識化される(labeled)。酸化TBRは還元(reduction)したときに発光する(青色)。酸化は電気化学的に電極表面で生じ、したがって、電気化学発光(ECL)と呼ばれる光放射が生じる。TBRには比較的低い酸化電位(数ボルト)が必要で、可視光(620nm)で高いECL効率を有する。これはマイクロセンサのアプリケーションにとって魅力的で、それは可視放射はシリコンフォトダイオードで簡単に検出でき、そのフォトダイオードはシリコンの微細機械加工セルに集積化可能であるからである。還元は電気化学的または化学的に生じるもので、いずれの場合でも光は放射される。例えば、酸化トリプロピラミン(tripropylamine)(TPA)は電子を酸化TBRに容易に移動させ、TBRは化学発光する。両方の酸化は同一電極で生じるので、比較的大きい濃度の両種が非常に近接して生成することができ、これにより、TBRが単独で溶液中に存在する場合よりも、所定TBR濃度に対して高い光強度になる。アノードに生じるTBRの電気化学的酸化および化学的還元反応は図18に概略図示されている。TBRの電気化学的還元は同様にカソードでも生じる。自由TBRではなく、TBRで標識化されたDNAのみを酸化させるために、この2つのTBRを分離する必要がある。これを実現する1つの方法は、比結合(specific binding)が高い免疫プロテイン(抗体−抗原)を使って行う方法である。
一例を図19に示しており、ビオチンプライマがターゲットDNAの1本のストランドの5´エンド上に形成され、TBRがコンプリメンタリ・ストランドの5´エンドにタグ付けされる。PCRプロセスの間に、DNAの2重ストランドがビオチンで生成され、TBRはいずれかのエンド上に標識化される。このビオチンで標識化したDNAは次いで、表面がアビジン(ビオチンに対する抗体)でコーティングされているアノードの助力によって電気化学セルに案内される。選択的な結合が生じ、その後でセル中の溶液が洗い流され、どの自由(free)TBRも除去される。さて、DNAに結合したTBR、つまり抗体−抗原結合を介して今度はアノードに付着したTBRは、添加されたTPAと共に酸化され、続いて生じる発光の強度が存在するDNAの量に依存する。
ECLマイクロセルは、図21〜31に関連して以下に詳述するように、微細機械加工されたシリコンおよびガラスの多重層アセンブリである。35μL〜85μLにわたる溶液容量を持ったセルがシリコンで設計され、組み立てられている。e-ビーム堆積させた、ゴールドの、薄いフィルムによりセルのカソードが形成される。アノードも同様に薄いフィルムである。実験はインジウム・すず酸化物(ITO)およびプラチナの両方でなされた。ITOは可視光に対して透明であり、このため、ガラス上に堆積させたとき、アセンブリの一番上の層を形成するもので、この層を通して放射光がフォト検出器(図22参照)によって検知される。このアセンブリはまた、微細機械加工された流体充填ポート(図22参照)を含んでいる。これらの層は、、Epotek 400といった低温硬化ポリイミドを使って組み立てられかつ結合された。
ECL実験を自由TBR、すなわちDNA無しのマイクロセルで行った。セルはTPA+TBRの溶液で満たされ、2次電子倍増管(PMT)を放射検出のセルの一番上のガラス層に近接して置いた。酸化されるTPAおよびTBRの反応によって生成される化学発光は両方の化学物質の濃度に依存する。これらの実験では、TPAの濃度を一定(50mM)に保持する一方で、TBRのそれを可変にした。溶液は以下のように用意した。すなわち、1gのヘキサヒドレート(hexahydrate)塩化物を50mMのTPAに溶解し、5mMのTBRを作った。このTBRは次いで別の50mMのTPAで希釈し、一セットの試験溶液を生成した。この試験溶液のTBR濃度は0.1nM〜5mMに及ぶ。EG&G社のポテンショスタット、モデルPARC273を使用してTPA+TBR溶液のボルタモグラム(voltammograms)を生成した。この両溶液はITOおよびゴールドの薄いフィルム電極を有するマイクロセル、およびプラチナ線電極を有するさらに従来タイプの電気化学セルに入れた。ボルタモグラムからECLが生じる酸化電位が決定され、この電位が薄いフィルムのカソードおよびアノード間のdcバイアスとして印加された。放射光はHamamatsu MT社のモデルR928を600Vのバイアスとして使って測定された。図20は測定光強度とmM当たりのTBR濃度に対する電極電圧との間の関係を示すもので、同図ではセル電圧およびECL強度の変化を時間軸に対してとっている。ドット・ダッシュ・ドット線で表示するように、セル電圧は上昇し、そして下降する。両方向にて、電圧は、ECL強度が最大になるTBRの酸化電位を通過する。これまで実行された試験では、アノード材料としてのITOフィルムを備えたマイクロセルを使って測定されたTBRの最も低い濃度は、1μMであった。プラチナのアノードを使った場合、測定TBP濃度は1nMと低かった。比較的高抵抗のITOフィルムはTPAのための酸化電流を制限すると考えられ、したがって感度を低下させている。図31に関連して説明されるように、ITOフィルム上にアルミニウムのような薄いフィルム材料を蒸着することで、感度は改善できることがわかった。また、図21の実施例におけるように分離するのではなく、シリコンのフォトダイオードをマイクロセルに集積することに努力は傾注されている最中である。
図21は、符号140で概略表される、薄いフィルムを備えた微細機械加工ECLと、ECLセル140に隣接して位置しているシリコン(Si)のフォトダイオード141との実施例を示している。ECLセル140は図22に拡大断面で示す。このセル140は1対のシリコンメンバ142および143を備え、そのメンバ間に電極144を位置させ、この電極を金(Au)、プラチナ(Pt)または銀(Ag)、ITO層145、およびガラス層またはスライド146から構成できる。シリコンメンバ142は反応チャンバ147を有し、またメンバ143は、記号によって示したように検体がチャンバ147に向けられ、また、矢印151および152で示したようにチューブ又はライン149、150を通してそこから回収する1対の充填ポート148(図22参照)を有する。図22で分かる如く、充填ポート148間に位置する、シリコンメンバ143の中央領域153は、ITO層145およびガラススライド146と共に、ウィンドウを画成し、このウィンドウにより、これを通り抜けてフォトダイオード141に向かうフォトン154で示すように、チャンバ147内部での反応を検出することができる。電気的リード線155および156が電源から電極144およびITO層145にそれぞれ接続されており、一方、フォトダイオード141が電気的にリード線157および158を介して電源に接続されている。
図23〜30は、図21および22の実施例に類似のECLセルの実施例に係る組立てを図示するものである。この組立てプロセスは以下のように実行される。
1.シリコンのブロック160をコーティングして窒化シリコン(図23参照)の層161を形成する。
2.フォトレジストの層162を層161上に蒸着する(図24参照)。
3.上記層162をパターン化し、そこに開口163を形成する写真平版プロセスを実行する(図25参照)。
4.上記開口163の下の窒化シリコン層161の領域161´をRIEエッチングにより除去する(図26参照)。
5.シリコンブロック160の領域をKOHエッチングにより除去して反応チャンバ164を形成し、残りのフォトレジスト162を除去する(図27参照)。
6.例えばゴールドの層を、薄いフィルム蒸発によってブロック160およびチャンバ164の上側表面全体に蒸着し、電極165を形成する(図28参照)。
7.別のシリコン166のブロックを窒化シリコンの層167でコーティングし、開口168および169をそこにRIEエッチングにより形成し、そして1対の充填ポート170および171を微細機械加工による手法によって形成し、ブロック中に、窒化シリコンでコーティングしたブロック166が電極165に接着される(図29参照)。
8.電極172を形成するITOの層をガラスの層または側面173上に堆積し、そして窒化シリコン層167に接着する(図29参照)。
9.電気的リード線174および175をゴールド電極165およびITO電極172に固定し、図21のフォトダイオードなどの、電気的リード線177および178を有する検出器176をガラス層173に接着し、さらに窒化シリコンでコーティングしたシリコンブロック160を電気的リード線180および181を有するマグネット179上に位置させる(図30参照)。
ITO電極172の抵抗を減らすために、薄いフィルム状のアルミニウム182(図31参照)をITO層または電極172上に堆積させ、その後で、これを窒化シリコンでコーティングしたシリコンブロック166に接着することができる。
図32Aは、チャンバの一端から次のチャンバの一端へと延びるチューブ190により相互接続され、1つの反応チャンバ40’のみについて図示されて反応システムを通じる“ビードの列”の流通形反応システムを形成するエネルギー結合器191を有する複数のスリーブ型反応チャンバ40’の直線型の列を示す。動作時には、エネルギー結合器191は反応チャンバ40’上に配置される。図32Bは、図32Aと同様に端から端への相互接続チューブ190’及び反応チャンバ40’の側面の開口193間に延びる相互接続チューブ192を有する複数のスリーブ型反応チャンバ40’の直線型及び並列型の列を示す。図32Bにおいて、反応チャンバはコンピュータ194などの制御装置及び検出器195へ接続されて矢印196で示される論理フィードバックを提供し、197で示される反応要素電子制御ネットワークを作り、正味の流れは矢印198、199、200及び201により示される。この反応システムを通る“ビードの列”の流通形反応システムは、流通形チューブシステム上の交換可能な反応チャンバ要素により構成される。
図33A及び33Bは、反応制御ユニットの実施形態を示し、それは微細機械加工(即ち、スパッタ−蒸着された)磁気フィルムを使用してスリーブ反応チャンバ内の磁気粒子を制御する。微細機械加工された要素の他の例は、ヒータ等の電気能動性フィルム、電極、熱電性及び機械的(即ち、形状記憶)薄膜、フォトダイオード、その他である。集積反応制御又は検出要素を有する反応チャンバは、外部エネルギー源に接続される。図33Aは、6面構成の開口又はスロット243を有する2つの部材241及び242により構成されるスリーブ型反応チャンバ240の実施形態を示し、微細加工された制御フィルム244がその上に蒸着されている。チューブコネクタ245への反応チャンバライナはスロット243内で接続され、エネルギー結合器246は制御フィルム244と間隔を空けた関係で示されているが、動作時には制御フィルム244上に配置される。図33Bの実施形態が図33Aの実施形態と異なるのは、スリーブ反応チャンバ240’が単一の部材により構成され、円形スロット243’が設けられ、それによりチューブコネクタ245’が円筒形であることである。また、図33Bの実施形態では、微細加工されたアクチュエータ247は反応チャンバ240’とエネルギー結合器246の中間に配置される。例として、図32A、33A及び33Bのエネルギー結合器は、電極接点、無線周波数源、又はDCエネルギー源への電気的接点とすることができる。こうして、個々の反応チャンバ240は、異なる機能の列として一体的に配列することができる。例えば、モジュールの配列は加熱れた反応チャンバ、及びそれに続く磁気的に作動したチャンバ、それに続く形状記憶型又は静電ポンプモジュールとすることができる。こうして、エネルギー結合器もエネルギー結合器の列への接続の道とすることができる。上記の例では、それは抵抗性加熱のためのDC源への電気的接点、磁気的作動のための磁気コイル、及びポンプメカニズムを作動させるためのRF源とすることができる。
図34は、モノリシック流通形システムを示す。この実施形態では、微細機械加工された要素が材料ブロックの内部又はその近傍に配置され、その材料ブロック内に流れチャネルが製作される。図示のように、例えばシリコン、金属又はポリマーにより構成される材料のブロック250には、1組の相互接続された開口又は通路251及び252が設けられ、抵抗性薄膜ヒータ、磁気フィルム又はコイル、若しくは静電ポンプ、バルブ、又はミキサなどのアクチュエータなどの埋め込み制御要素253が通路251と252の交差点に配置される。1組の制御要素254及び255がブロック250の外面に埋め込まれるとともに埋め込み制御要素253と動作可能に接続され、制御リード線256及び257が、抵抗性薄膜ヒータ、磁気フィルム又はコイルなどの制御ソース、若しくは静電ポンプ、バルブ又はミキサなどのアクチュエータへの接続のためにブロック250から延びている。1組の流体相互接続258及び259は通路又は開口251及び252へ接続される。
本発明はシリコンベース又は非シリコンベースのミクロ反応チャンバを提供し、それは手持ちタイプの機器又は大型高スループット機器に使用可能であることが示されてきた。スリーブ反応チャンバは種々の適合性の材料又はそれら材料の組み合わせから作ることができる。さらに、本発明により、インサート/ライナ、試験ストリップ、光学的検出、およびマイクロ反応チャンバの自動制御も提供できる。したがって、本発明はPCRおよび他の化学反応の技術状態を実質的に進めるものとなる。
本発明の原理を例示しかつ説明するために特定の実施例、材料、パラメータなどを述べてきたが、これは限定を意図したものではない。当業者には修正や変更は欲すれば明らかであろうから、本発明は添付のクレームの範囲によってのみ限定されるものであることを念のため付記しておく。

Claims (13)

  1. チューブ又はインサート内に収容された反応混合物の温度を制御するためのマイクロ反応装置であって、
    複数の基板から構成される反応スリーブであって、前記複数の基板は、前記チューブ又はインサートを収容するためのスロットを、前記基板間に形成しており、前記基板は、セラミックス、ポリマー、金属、金属の合金、複合材、又は、それらの組み合わせからなるグループから選択された材料から構成されているところの反応スリーブと、
    前記複数の基板の少なくとも1つに配置された薄膜状の抵抗性ヒータと
    を備えることを特徴とする装置。
  2. 前記複数の基板の少なくとも1つは、セラミック材料から構成され、そして、前記ヒータは、前記セラミック材料上に配置されている、請求項1に記載の装置。
  3. 前記複数の基板の各々は、セラミック材料から構成され、そして、前記装置は、セラミック材料から構成された前記複数の基板の各々の上に配置された少なくとも1つのヒータを備えている、請求項1に記載の装置。
  4. 前記複数の基板の各々は、0.1から1.0mmの範囲内の厚さを有している、請求項1に記載の装置。
  5. 前記反応スリーブは、第1の光学的ウィンドウを有しており、前記インサートは、前記インサートが前記スリーブ内に配置されたときに、前記第1の光学的ウィンドウと一致する第2の光学的ウィンドウを有しており、前記装置は、前記第1の光学的ウィンドウ及び前記第2の光学的ウィンドウを通して、反応混合物中における生成物を検出するための光学的検出器を更に備えている、請求項1に記載の装置。
  6. 前記第2の光学的ウィンドウは、生成物を検出するための試験ストリップを有している、請求項5に記載の装置。
  7. a)前記光学的検出器に接続されたデータ読出しシステムと、
    b)前記データ読出しシステムに接続された機器制御手段と、
    をさらに含む、請求項5に記載の装置。
  8. 前記複数の基板の各々は、セラミック材料から構成され、そして、前記装置は、セラミック材料から構成された前記複数の基板の各々の上に配置された少なくとも1つのヒータを備えている、請求項7に記載の装置。
  9. 前記ヒータは、熱電性フィルムから構成されている、請求項1に記載の装置。
  10. 反応混合物中における磁性又は常磁性試薬を制御するために、前記複数の基板の少なくとも1つに接続された磁性フィルムをさらに含む、請求項8に記載の装置。
  11. 前記反応スリーブが挿入される、手持ちタイプのバッテリー動作機器をさらに備え、前記バッテリー動作機器は、前記ヒータを制御するためのエレクトロニクスを含む、請求項1に記載の装置。
  12. 複数の反応スリーブのアレイと、前記複数の反応スリーブを保持するための機器とをさらに備え、前記機器は、各反応スリーブの動作を独立して制御するための制御エレメントを有している、請求項1に記載の装置。
  13. 複数の反応スリーブのアレイと、前記複数の反応スリーブにおける反応プロセスのフィードバック制御を提供するための隣接する複数の検出器のアレイとをさらに備える、請求項1に記載の装置。
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