JP4867002B2 - 表示デバイス - Google Patents
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Description
小口寿明、他3名、"平面導波路と集積化片もちはりの接触による静電駆動型光表示素子"、電学論E、2004年、第124巻、第3号、p.87−92
スペーサ4は壁状であっても良く、柱形状のもであっても良い。また、スペーサ4が形成するピクセルは、多数の正方形を形成する格子状であっても良く、六角形や、円形、多角形の組み合わせであっても良い。
透明絶縁体層11の素材としてPENフィルム(厚さ2μm)を用い、その上に厚さ20nmのITO膜をコーティングした。PDMS液(100質量部、東レ株式会社製のSILPOT 184 W/C)と、その硬化剤(10質量部)と、ニッケル粒子(100質量部、平均粒子径約20μm、最大粒子径約50μm)とからなる混合液を調製し、ITO膜の上に、この混合液を、スピンコーター(室温、3000rpm、30s)にて製膜し、95℃、10分間で硬化させた。これにより、図5(a)のように、透明絶縁体層11(PEN層)と、透明導電体層12(ITO層)と、透明弾性体13(PDMS)に粒状磁性体14(ニッケル粒子)が分散されてなる透明磁性体層15とが積層してなる透明磁気フィルム10が得られた。透明性PDMS層の厚さは約30μmであった。ニッケル粒子は、透明磁気フィルム10の表面に頂部が浮き出る状態でPDMSに概ね均一に分散していた。これらによって、透明磁気フィルム10は、透明性に優れ、かつ、磁石を持ち上げることができる程の強い磁性と、優れた電気伝導性を備えることができる。
実施例2に係る、本発明の表示デバイス20の製造プロセスを図8に示す。光導波路2は、透明な物質によってのみ、作成されている。SiO2光導波路基板の上にITOをスパッタにて20nmの厚さに積層させた。ITOは、N2雰囲気中で500℃に保つことで、より良い透明性が得られた。SU−8により、幅20μmで、高さ24μm、2mm四方のスペーサ4を作成した。実施例1で得られた透明磁気フィルム10を図8のように、2mm四方のスペーサ4の上に絶縁体層が乗って、2mm四方のピクセルを構成する様に接着することにより、本発明の実施例2に係る表示デバイス20を得た。図25に、この表示デバイス20のセットアップの様子を示す。透過光としてLEDを用い、実験は暗室で行った。
図11は、本発明の実施例3に係る表示デバイス20を示す模式図である。この表示デバイス20のスペーサ4は、1mm四方の格子状ピクセルを形成する柱状である。そのほかの構成は、実施例2の表示デバイス20の場合と同様である。
実施例3において、スペーサ4を、2mm四方の格子状ピクセルを形成する柱状のものとしたこと以外は実施例3と同様にして、実施例4に係る本発明の表示デバイス20を作製した。図24は、この表示デバイス20における部分消去の例を示した写真である。ここでは、150Vの直流電圧が2mm四方のピクセルに印加されているが、磁石でなぞることによりピクセルがOFF(暗)状態になった(図24の右側の白い枠内の黒い部分)。引き剥がされていない部分は、印加電圧により接触してON(明)状態を保っている。
透明絶縁体層11の素材としてPENフィルム(厚さ2μm)を用い、その上に厚さ20nmのITO膜をコーティングした。PDMS液(100質量部、東レ株式会社製のSILPOT 184 W/C)と、その硬化剤(10質量部)と、ニッケル粒子(100質量部、平均粒子径約50μm)と、ガラスビーズ(100質量部)からなる混合液を調製し、ITO膜の上に、この混合液を、スピンコーター(室温、3000rpm、30s)にて製膜し、95℃、10分間で硬化させたところ、図5(a)のように、透明絶縁体層11(PEN層)と、透明導電体層12(ITO層)と、透明弾性体13(PDMS)に粒状磁性体14(ニッケル粒子)及びガラスビーズが分散されてなる透明磁性体層15とが積層してなる透明磁気フィルム10が得られた。PDMS層の厚さは約30μmであった。ニッケル粒子は、透明磁気フィルム10の表面に頂部が浮き出る状態でPDMSに概ね均一に分散していた。
実施例6に係る、本発明の表示デバイス20の製造プロセスを図9に示す。光導波路2は、透明な物質によってのみ、作成されている。SiO2光導波路基板の上にITOをスパッタにて20nmの厚さに積層させた。ITOは、N2雰囲気中で500℃に保つ(アニールする)ことで、より良い透明性が得られた。このITO膜の上にAlスパッタ層(50nm)を形成した。更に、このAlスパッタ層の上に、SU−8により、幅20μmで、高さ32μm、2mm四方のスペーサ4をパターニングして作成した。実施例5で得られた透明磁気フィルム10を図9のように、2mm四方のスペーサ4の上に絶縁体層が乗って、2mm四方のピクセルを構成する様に接着することにより、本発明の実施例6に係る表示デバイス20を得た。また、指の感電防止のため、透明可動電極側を常に接地した。
1a:透明磁性体層
1b:透明導電体層
1c:透明絶縁体層
1d:透明導電体層
2:光導波路
3:透明固定電極
4:スペーサ
5:電源
7:耐久性保護フィルム
10:透明磁気フィルム
11:透明絶縁体層
12:透明導電体層
13:透明弾性体
14:粒状磁性体
15:透明磁性体層
20:表示デバイス
100:表示デバイス
101:表示デバイス
Claims (10)
- 光導波路と、該光導波路に面接触して配設された透明固定電極と、該光導波路とは反対の側に該透明固定電極に対向して配設された透明可動電極とを備え、
該透明可動電極は、該透明可動電極と該透明固定電極との間に駆動電圧が印加されたときにおいて、弾性力によって該透明固定電極から離れている一の安定状態と、静電気力によって該透明固定電極に絶縁的に接触している他の安定状態とを有し、前記一の安定状態と前記他の安定状態との間を、外部からの力によって変動可能であることを特徴とする表示デバイス。 - 前記駆動電圧を消去することにより、前記透明可動電極を、前記他の安定状態から前記一の安定状態に復元可能である、請求項1記載の表示デバイス。
- 外部からの磁力により、前記透明可動電極を、前記他の安定状態から前記一の安定状態に復元可能である、請求項1又は2記載の表示デバイス。
- 前記透明可動電極が導電性を有する透明磁気フィルムである、請求項1〜3のうちいずれか一項記載の表示デバイス。
- 前記透明磁気フィルムが、透明絶縁体層と、透明導電体層と、透明弾性体に粒状磁性体が分散されてなる透明磁性体層とが積層してなる、請求項4記載の表示デバイス。
- 前記透明可動電極と前記透明固定電極との間に配設されたスペーサを備えた請求項1〜5のうちいずれか一項記載の表示デバイス。
- 前記スペーサの前記透明固定電極側に金属色処理又は濃色処理が施されている請求項6記載の表示デバイス。
- 前記透明絶縁体層がポリエチレンナフタレート(PEN)からなる請求項5〜7のうちいずれか一項記載の表示デバイス。
- 前記透明導電体層が酸化インジウム−酸化スズ(ITO)薄膜からなる請求項5〜8のうちいずれか一項記載の表示デバイス。
- 前記透明磁性体層が、ポリジメチルシロキサン(PDMS)からなる透明弾性体にニッケル粒子が分散されてなる請求項5〜9のうちいずれか一項記載の表示デバイス。
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