JP4865011B2 - フォトマスク検査方法 - Google Patents
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Description
12 ハーフトーン膜
14 ガラス基板
16 異物
18 アンダーシュート
20 アンダーシュート画像
30 SSD画像
40 局所暗部強調画像
Claims (4)
- 第1の領域と前記第1の領域より検査光に対して高い反射率を有する第2の領域を備えるフォトマスクの検査方法であって、
前記フォトマスクの反射画像を取得し、
前記反射画像について、前記第1の領域の反射強度以上の画素値を有する画素の画素値を前記第1の領域の画素値に書き換える処理を行ったアンダーシュート画像を作成し、
前記アンダーシュート画像と底上げした凹型カーネルとの差の二乗和から成るSSD(Sum of Squared Difference)画像を作成し、
前記SSD画像にスムージング処理を行った局所暗部強調画像を作成し、
前記局所暗部強調画像と所定の閾値との比較により異物を検出することを特徴とするフォトマスク検査方法。 - 前記底上げした凹型カーネルが底上げした逆ガウシアン型カーネルであることを特徴とする請求項1記載のフォトマスク検査方法。
- 前記第1の領域がガラス基板であることを特徴とする請求項1または請求項2記載のフォトマスク検査方法。
- 前記フォトマスクがEUV露光用のフォトマスクであることを特徴とする請求項1または請求項2記載のフォトマスク検査方法。
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