JP4862270B2 - マルチビームレーザ出射ユニット、及び画像形成装置 - Google Patents
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Description
図1は本実施形態に係る画像形成装置10の概略構成図であり、図2はレーザ走査装置の斜視図であり、図3は画像形成装置10の光走査光学系の展開した光路を主走査方向に沿って見た図である。
図2乃至図3に示すように、レーザ走査装置12は、マルチビームレーザ出射ユニット14を備えており、このマルチビームレーザ出射ユニット14は、半導体レーザ16、収束レンズ22、及び光ビーム整形用のスリット部材24を内蔵している。
本発明の実施形態にかかる画像形成装置10の作動を説明する。
まず、各発光点18A,18Bに印加する駆動電流について、各発光点間で異なるバイアス電流を印加すること、例えば上記標準付与条件から発光点18A,18Bの何れか一方の発光点のバイアス電流を他方の発光点のバイアス電流より小さく設定した場合を、第1付与条件として定める。
次に、各発光点18A,18Bに印加する駆動電流について、各発光点間で異なる点灯時間で発光させること、例えば上記標準付与条件から発光点18A,18Bの何れか一方の発光点の点灯時間を他方の発光点の点灯時間より短く設定した場合を、第2付与条件として定める。
上記バイアス電流差と点灯時間差の効果は、同時に行うと相乗効果を示す。そこで、各発光点18A,18Bに印加する駆動電流について、各発光点間で異なるバイアス電流を印加しかつ異なる点灯時間で発光させることを、第3付与条件として定める。
上記では、半導体レーザ16の発光点18A,18Bから出射されるレーザビームの発振波長が同一の場合について説明した。ところが、、実際の素子では、発振波長は微小なバラツキを有することが一般的である。例えば、発光点18Aのレーザビームの発振波長をλA、発光点18Bのレーザビームの発振波長をλBとすると、λA>λBの場合もあれば、λA<λBの場合もある。
次に、本発明の画像形成装置の第2実施形態を説明する。なお、第1実施形態と同一構成には同一符号を付し、その説明は省略する。
このように本実施の形態でも、上記実施の形態と同様に、半導体レーザの駆動条件(付与条件)の設定によりビーム間の干渉による光量変動を抑えることで像担持体上に結像されるレーザビームの光量変動を抑制することができ、高品質の画像を得ることができる。
14 マルチビームレーザ出射ユニット
16 半導体レーザ
18A 発光点
18B 発光点
19 モニタホトダイオード
42 感光体ドラム(像担持体)
64A 駆動回路
64B 駆動回路
66A バイアス電流回路
66B バイアス電流回路
Claims (5)
- レーザビームを出射する複数の発光点を一体的に有し、各々のレーザビームを独立して制御可能な半導体レーザと、
出射された複数のレーザビームの各々を略平行光とする一つのコリメータレンズと、
前記コリメータレンズから出射される光ビームの一部を透過する一つの制限開口と、
前記制限開口から出射された前記レーザビームを偏向させ、当該レーザビームによって被走査面を走査する走査手段と、
前記複数発光点の各々を発光するためにバイアス電流を含む駆動電流を印加すると共に、出射されるレーザビームの各々が前記被走査面を走査するときの一走査期間内において出射されるレーザビームの各々の波長が異なるように、隣接する発光点の各々に印加する駆動電流について異なる値のバイアス電流を予め定めた画像領域外に対応する時間に与える印加手段と
を備えたことを特徴とするマルチビームレーザ出射ユニット。 - レーザビームを出射する複数の発光点を一体的に有し、各々のレーザビームを独立して制御可能な半導体レーザと、
出射された複数のレーザビームの各々を略平行光とする一つのコリメータレンズと、
前記コリメータレンズから出射される光ビームの一部を透過する一つの制限開口と、
前記制限開口から出射された前記レーザビームを偏向させ、当該レーザビームによって被走査面を走査する走査手段と、
前記複数発光点の各々を発光するために予め定めた画像領域外に対応する時間についても発光させる発光電流を含む駆動電流を印加すると共に、出射されるレーザビームの各々が前記被走査面を走査するときの一走査期間内において出射されるレーザビームの各々の波長が異なるように、隣接する発光点の各々に印加する駆動電流について発光点の発光時間が異なるように駆動電流を予め定めた画像領域外に対応する時間に与える付与手段と
を備えたことを特徴とするマルチビームレーザ出射ユニット。 - レーザビームを出射する複数の発光点を一体的に有し、各々のレーザビームを独立して制御可能な半導体レーザと、
出射された複数のレーザビームの各々を略平行光とする一つのコリメータレンズと、
前記コリメータレンズから出射される光ビームの一部を透過する一つの制限開口と、
前記制限開口から出射された前記レーザビームを偏向させ、当該レーザビームによって被走査面を走査する走査手段と、
前記複数発光点の各々を発光するためにバイアス電流及び予め定めた画像領域外に対応する時間についても発光させる発光電流を含む駆動電流を印加すると共に、出射されるレーザビームの各々が前記被走査面を走査するときの一走査期間内において出射されるレーザビームの各々の波長が異なるように、隣接する発光点の各々に印加する駆動電流について異なる値のバイアス電流を予め定めた画像領域外に対応する時間に与えかつ、発光点の発光時間が異なるように駆動電流を予め定めた画像領域外に対応する時間に与えると共に、バイアス電流値が小さい方の発光部の発光時間を短く設定して前記駆動電流を供給しかつ、バイアス電流値が大きい方の発光部の発光時間を長く設定して前記駆動電流を供給する供給手段と
を備えたことを特徴とするマルチビームレーザ出射ユニット。 - 前記隣接する発光点の各々に印加する駆動電流について、予め定めた画像領域外に対応する時間に与える駆動電流を入れ替え可能とする切替手段を備えたことを備えたことを特徴とする請求項1乃至請求項3の何れか1項に記載のマルチビームレーザ出射ユニット。
- 請求項1乃至請求項4の何れか1項に記載のマルチビームレーザ出射ユニットと、
レーザビームの照射により潜像が形成される像担持体と、
前記マルチビームレーザ出射ユニットから出射された前記レーザビームを偏向走査するビーム偏向器と、
偏向走査された前記レーザビームを前記像担持体上に結像させる結像光学系と、
前記像担持体上の潜像を現像して顕像化する現像装置と、
を有することを特徴とする画像形成装置。
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