JP4860287B2 - ドーピング方法及び電界効果型トランジスタの作製方法 - Google Patents
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マススペクトルから求められたトータルイオン中のドナー不純物又はアクセプタ不純物の化合物のイオンの割合X(0<X<1)とドーピングがおこなわれた第1の被処理体中の前記ドナー不純物又はアクセプタ不純物のピーク濃度Yに関する第1の関係式から、前記イオンの割合Xの変化に対応して、前記ピーク濃度Yを得るために必要なトータルイオンのドーズ量D1を求める過程と、
前記ドーピングの際に使用した原料ガスを用い、トータルイオンのドーズ量を前記過程で求めたD1の値、加速電圧を前記ドーピングの際の所定の値として、イオンドーピング装置によって第2の被処理体に対し前記ドナー不純物又はアクセプタ不純物の化合物のイオンをドーピングする過程を有することを特徴とする。
マススペクトルから求められたトータルイオン中のドナー不純物又はアクセプタ不純物の化合物のイオンの割合X(0<X<1)とドーピングがおこなわれた第1の被処理体中の前記ドナー不純物又はアクセプタ不純物のピーク濃度Yに関する第1の関係式、及び前記ドーピングがおこなわれた第1の被処理体を用いて作製された電界効果型トランジスタのしきい値電圧と前記ピーク濃度Yに関する第2の関係式から、前記イオンの割合Xの変化に対応して、前記しきい値電圧を得るために必要なトータルイオンのドーズ量D1を求める過程と、
前記ドーピングの際に使用した原料ガスを用い、トータルイオンのドーズ量を前記過程で求めたD1の値、加速電圧を前記ドーピングの際の所定の値として、イオンドーピング装置によって第2の被処理体に対し前記ドナー不純物又はアクセプタ不純物の化合物のイオンをドーピングする過程を有することを特徴とする。
1)電界効果型トランジスタを作製する際に、イオンドーピング装置を用いた場合であっても、目的のしきい値電圧が得られる。
2)作製された電界効果型トランジスタのしきい値電圧のばらつきを小さくすることができる。
3)イオンドーピング装置を用いてドーピングした被処理体中におけるドナー不純物又はアクセプタ不純物のピーク濃度のばらつきを小さくすることができる。
4)チャネルドープのような低濃度にドーピングする場合でも、イオン注入装置が不要になるため、電界効果型トランジスタの製造コストを下げることができる。
5)イオンドーピング装置に導入する原料ガス中の上記ドナー不純物又はアクセプタ不純物の化合物の濃度を、第1の濃度からそれよりも低い第2の濃度に変更する際に、変更後の第2の濃度に安定させることが容易になる。
本明細書に開示する発明に使用するイオンドーピング装置について、図1を用いて以下にその一例を説明する。
チャネルドープ工程にイオンドーピング装置を用いて、Nチャネル型薄膜トランジスタを作製する場合、そのNチャネル型薄膜トランジスタのしきい値電圧Vthを、所望の値(本実施の形態では+1.0Vとする)に近づけるために必要な、チャネルドープをおこなう際のトータルイオンのドーズ量を求める過程を、以下に示す。
イオンドーピング装置を用いて、シリコンを主成分とする半導体膜に対してチャネルドープをおこなった後、SIMSによる分析結果から得られるその半導体膜中のホウ素のピーク濃度を、所望の値(本実施の形態では4.4×1017cm−3とする)に近づけるために必要な、ドーピングの際のトータルイオンのドーズ量を求める過程を、以下に示す。
本明細書の実施の形態1において、使用する原料ガスをB2H6の濃度が5%のものから1%のものに変更する際におこなう工程について、以下に説明する。
102 ガス供給系
103 イオン源
104 プラズマ生成部
105 電源
106 放電発生手段
107 電極部
108 イオンビーム
109 処理室
110 ステージ
111 基板
112 真空排気系
113 マススペクトル測定器
114 ドーズ量測定手段
901 基板
902 下地層
903 パターン
904 ゲート絶縁膜
905 ゲート電極
906 サイドウォール
907 ソース領域(ドレイン領域)
908 ドレイン領域(ソース領域)
909 LDD領域(低濃度不純物領域)
910 LDD領域(低濃度不純物領域)
911 層間絶縁層
912 配線
913 配線
Claims (2)
- マススペクトルから求められたトータルイオン中のドナー不純物又はアクセプタ不純物の化合物のイオンの割合X(0<X<1)とドーピングがおこなわれた第1の被処理体中の前記ドナー不純物又はアクセプタ不純物のピーク濃度Yに関する第1の関係式から、前記イオンの割合Xの変化に対応して、前記ピーク濃度Yを得るために必要なトータルイオンのドーズ量D1を求める過程と、第1の原料ガスを用い、トータルイオンのドーズ量を前記過程で求めたD1の値、加速電圧を所定の値として、イオンドーピング装置によって第2の被処理体に対し前記ドナー不純物又はアクセプタ不純物の化合物のイオンをドーピングする過程を有し、前記第1の関係式は、前記イオンドーピング装置において、前記ドナー不純物又はアクセプタ不純物の化合物が水素又は希ガスでなる希釈用のガスで5%以上40%以下の第1の濃度に希釈された第2の原料ガスを用いてプラズマを生成させ、前記マススペクトルから前記イオンの割合Xを求め、前記化合物が前記第1の濃度と同じ濃度又はそれより低い第2の濃度に前記希釈用のガスで希釈された前記第1の原料ガスを用い、トータルイオンのドーズ量をD0、加速電圧を前記所定の値として、前記イオンドーピング装置によって前記第1の被処理体に対し前記ドナー不純物又はアクセプタ不純物の化合物のイオンをドーピングし、前記第1の被処理体中の前記ピーク濃度Yを分析することによって、a及びbを実数としたとき、Y=(D1/D0)(aX+b)として得られることを特徴とすることを特徴とするドーピング方法。
- マススペクトルから求められたトータルイオン中のドナー不純物又はアクセプタ不純物の化合物のイオンの割合X(0<X<1)とドーピングがおこなわれた被処理体中の前記ドナー不純物又はアクセプタ不純物のピーク濃度Yに関する第1の関係式から、前記イオンの割合Xの変化に対応して、前記ピーク濃度Yを得るために必要なトータルイオンのドーズ量D1を求める過程と、第1の原料ガスを用い、トータルイオンのドーズ量を前記過程で求めたD1の値、加速電圧を所定の値として、イオンドーピング装置によって絶縁表面を有する基板上に形成された半導体膜又は半導体基板に対し前記ドナー不純物又はアクセプタ不純物の化合物のイオンをドーピングする過程を有し、前記第1の関係式は、前記イオンドーピング装置において、前記ドナー不純物又はアクセプタ不純物の化合物が水素又は希ガスでなる希釈用のガスで5%以上40%以下の第1の濃度に希釈された第2の原料ガスを用いてプラズマを生成させ、前記マススペクトルから前記イオンの割合Xを求め、前記化合物が前記第1の濃度と同じ濃度又はそれより低い第2の濃度に前記希釈用のガスで希釈された前記第1の原料ガスを用い、トータルイオンのドーズ量をD0、加速電圧を前記所定の値として、前記イオンドーピング装置によって前記被処理体に対し前記ドナー不純物又はアクセプタ不純物の化合物のイオンをドーピングし、前記被処理体中の前記ピーク濃度Yを分析することによって、a及びbを実数としたとき、Y=(D1/D0)(aX+b)として得られることを特徴とする電界効果型トランジスタの作製方法。
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