JP4851711B2 - Static random access memory with reduced leakage current during active mode and method of operation thereof - Google Patents

Static random access memory with reduced leakage current during active mode and method of operation thereof Download PDF

Info

Publication number
JP4851711B2
JP4851711B2 JP2004382472A JP2004382472A JP4851711B2 JP 4851711 B2 JP4851711 B2 JP 4851711B2 JP 2004382472 A JP2004382472 A JP 2004382472A JP 2004382472 A JP2004382472 A JP 2004382472A JP 4851711 B2 JP4851711 B2 JP 4851711B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
operating voltage
low operating
sram
voltage
array
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2004382472A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2006172678A5 (en
JP2006172678A (en
Inventor
ダブリュー ヒューストン セオドア
Original Assignee
テキサス インスツルメンツ インコーポレイテツド
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by テキサス インスツルメンツ インコーポレイテツド filed Critical テキサス インスツルメンツ インコーポレイテツド
Priority to JP2004382472A priority Critical patent/JP4851711B2/en
Publication of JP2006172678A publication Critical patent/JP2006172678A/en
Publication of JP2006172678A5 publication Critical patent/JP2006172678A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4851711B2 publication Critical patent/JP4851711B2/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Description

本発明は、一般に、メモリデバイスに関し、特に、アクティブモードの間減少した漏洩電流を有するスタティック・ランダム・アクセス・メモリ(SRAM)及びその動作方法に関する。   The present invention relates generally to memory devices, and more particularly to a static random access memory (SRAM) having reduced leakage current during active mode and a method of operating the same.

メモリデバイスは、この分野では良く知られており、とりわけ、実際にはあらゆるマイクロプロセッサ及びディジタル信号プロセッサ(DSP)アプリケーションに用いられる。多くのアプリケーションに好適な一つの形式のメモリは、スタティックランダムアクセスメモリ(SRAM)である。SRAMデバイスは、多くの他の形式のメメモリデバイスと較べて高速で、使用するのが容易である。更に、MOS技術を用いるSRAMデバイスは、比較的低スタンバイ電力を示し、ストアされた情報を維持するのにリフレッシュサイクルを必要としない。これらの特性は、バッテリー電源装置、例えば、ラップトップコンピュータやパーソナルディジタル支援のために、SRAMデバイスを特に望ましくする。   Memory devices are well known in the art and are used, inter alia, for practically any microprocessor and digital signal processor (DSP) application. One type of memory suitable for many applications is static random access memory (SRAM). SRAM devices are faster and easier to use than many other types of memory devices. Furthermore, SRAM devices using MOS technology exhibit relatively low standby power and do not require a refresh cycle to maintain stored information. These characteristics make SRAM devices particularly desirable for battery power supplies, such as laptop computers and personal digital assistance.

SRAMデバイスのミニチュア化は、このようなバッテリー電源装置のためにSRAMデバイスを望ましくする他の特徴である。しかし、所望のミニチュア化は、より小さなSRAMデバイスに対して望ましくない動作問題を含むかもしれない。例えば、SRAMデバイスの大きさが減少するにしたがって、電流のリーク(漏洩)が増加する。電流のリークは、スリープモード、スタンバイモードの間及びアクティブモードの間でも問題になる。実際に、IDDQで表わすことができる電流リークは、SRAMデバイスの大きさが減少しつづけるにしたがって、アクティブモードの間において、より重要な事項になった。 Miniaturization of SRAM devices is another feature that makes SRAM devices desirable for such battery power supplies. However, the desired miniaturization may involve undesirable operating problems for smaller SRAM devices. For example, current leakage increases as the size of the SRAM device decreases. Current leakage is also a problem during sleep mode, standby mode and active mode. In fact, current leakage, which can be expressed as I DDQ , became more important during active mode as the size of the SRAM device continued to decrease.

アクティブモードの間電流リークを減少させる幾つかの選択(オプション)は既に存在している。一つのオプションでは、例えば、SRAMアレーの両端の電圧を低くするためにSRAMデバイスに供給される高い動作電圧が減少される。しかし、減少された高動作電圧VDDはスタティックノイズのマージン(static noise margin: SNM)及び書込みトリップ電圧(いわゆる“Vtrip”)を受け入れ可能なレベル以下に減少する。代わりに、SRAMデバイスに供給される低動作電圧VSSは、スタンバイモードにある間上昇し、アクティブモードのときには低下することができる。都合の悪いことに、この代替物は、多くのスイッチング電力を必要とし、書込みトリップ電圧 Vtripをサポートしない。 Several options (options) already exist to reduce current leakage during active mode. In one option, the high operating voltage supplied to the SRAM device, for example, to reduce the voltage across the SRAM array is reduced. However, the reduced high operating voltage V DD reduces the static noise margin (SNM) and write trip voltage (so-called “V trip ”) below acceptable levels. Instead, the low operating voltage V SS supplied to the SRAM device can be raised while in standby mode and lowered when in active mode. Unfortunately, this alternative requires a lot of switching power and does not support the write trip voltage V trip .

高いVtrip及びSNMは、SRAMデバイスの所望されたセル特性である。高いSNMは、回路の安定性に対して要求される。もしSNMが低すぎるなら、READ(読取り)動作は乱される。高いVtripが適当なデータ書込み速度に対して要求される。もし、Vtripが低すぎるなら、WRITE(書込み)動作が乱される。都合の悪いことに、受け入れ可能なSNM及び書込みトリップ電圧Vtripのための要件は、一般に、一方が増加すると他方が減少するので、製造中受け入れ可能なSRAMの歩留まりに対する許容度を制限する。 High V trip and SNM are desired cell characteristics of SRAM devices. A high SNM is required for circuit stability. If SNM is too low, the READ operation is disturbed. A high V trip is required for proper data writing speed. If V trip is too low, the WRITE operation is disturbed. Unfortunately , the requirement for acceptable SNM and write trip voltage V trip generally limits the tolerance for acceptable SRAM yield during manufacturing, as one increases and the other decreases.

代表的な6つのトランジスタSRAMメモリセル(SRAMの基本単位)は、2つのpチャネル“プルアップ”トランジスタ、2つのnチャネル“プルダウン”トランジスタ及び、一般的にnチャネルトランジスタである2つのアクセストランジスタから成っている。トランジスタのpドープ及びnドープされたチャネルの強さは、全体としてSRAMメモリの性能に影響を及ぼす。例えば、強いnチャネルの場合、特に、弱いpチャネルを伴っていると、SNMは不適当に低くなる。満足なSNMを得るために、nチャネルを弱く及び/またはpチャネルを強くしてみたくなる。しかし、弱いnチャネルの場合、特に、強いpチャネルを伴っていると、Vtripは不適当に低くなる。 A typical six-transistor SRAM memory cell (the basic unit of SRAM) consists of two p-channel “pull-up” transistors, two n-channel “pull-down” transistors, and two access transistors, which are typically n-channel transistors. It is made up. The strength of the p-doped and n-doped channels of the transistor affects the overall performance of the SRAM memory. For example, in the case of a strong n-channel, especially with a weak p-channel, the SNM becomes inappropriately low. In order to obtain a satisfactory SNM, we would like to try weakening the n-channel and / or strengthening the p-channel. However, in the case of a weak n-channel, especially with a strong p-channel, V trip is undesirably low.

したがって、現存するSRAMデバイスは、受け入れ可能なSNMを得るために弱いnチャネル(及び/または強いpチャネル)を設け、及び受け入れ可能なVtripを得るために、強いnチャネル(及び/または弱いpチャネル)を設けるという競合及び矛盾する目的によって挑戦を受ける。更に、このSNMとVtrip間(及び、従って、信頼できるREAD及びWRITE間)のトレードオフは、これらは正常な製造変化の影響を拡大するので、連続したミニチュア化及び低動作電圧と共に益々制約される。 Thus, existing SRAM devices provide a weak n-channel (and / or strong p-channel) to obtain an acceptable SNM, and a strong n-channel (and / or weak p-channel) to obtain an acceptable V trip. Challenged by competing and conflicting objectives of creating channels. In addition, the trade-off between this SNM and V trip (and therefore reliable READ and WRITE) is increasingly constrained with continuous miniaturization and low operating voltage as these expand the effects of normal manufacturing changes. The

たとえ、高動作電圧VDDが減少されたときSNM及びVtripが劣化されるとしても、高動作電圧VDDの減少が低電力動作に対して、及び幾つかのテスト条件に対してしばしば望ましい。SNM及びVtripが劣化されるけれども、Vtripの劣化は、高動作電圧VDDにおける減少と共に特に強い。従って、Vtripは、動作に対して高動作電圧VDDの低い範囲を制限する傾向がある。従って、アクティブモードの間、電流リークを減少するための解決策は、SNM及びVtripへの最小の有害な影響を与える必要がある。 Even if SNM and V trip is deteriorated when a high operating voltage V DD is reduced, reduction in high operating voltage V DD for low power operation, and often desirable for some test conditions. Although SNM and V trip is deteriorated, the deterioration of the V trip is particularly strong with a decrease in the high operating voltage V DD. Therefore, V trip tends to limit the low range of high operating voltage V DD for operation. Therefore, a solution to reduce current leakage during active mode should have minimal adverse impact on SNM and V trip .

よって、この分野で必要とされるものは、アクティブモードの間、減少した電流リークを有する改善されたSRAMデバイスである。更に、減少された電流リークを有する改善されたSRAMデバイスは、強いSNM及び書込みトリップ電圧Vtripを必要とする。 Thus, what is needed in this field is an improved SRAM device that has reduced current leakage during active mode. In addition, improved SRAM devices with reduced current leakage require a strong SNM and write trip voltage V trip .

従来技術の上述の欠点を解決するために、本発明は、SRAMデバイス及びその動作方法を提供する。一つの実施例において、SRAMデバイスは、(1)ワードラインによってローの周辺回路に結合され、及びビットラインによってカラムの周辺回路に結合されたSRAM、及び(2)アクティブモードの少なくとも一部の間増強された低動作電圧VESSをSRAMに与えるアレー低電圧制御回路を含む。 In order to solve the above-mentioned drawbacks of the prior art, the present invention provides an SRAM device and a method for operating the same. In one embodiment, an SRAM device is between (1) SRAM coupled to a row peripheral by a word line and coupled to a column peripheral by a bit line, and (2) at least a portion of active mode. An array low voltage control circuit is provided that provides the enhanced low operating voltage V ESS to the SRAM.

従って、本発明は、現存するSRAMデバイスより大きな電力の節約および良好なSNM及び書込みトリップ電圧Vtripのトレードオフを提供し、広いプロセスマージンを可能にする。増強した低動作電圧VESSを与えることは、増強した低動作電圧VESSが基板電圧(一般に、低い動作電圧VSS)より大きいので、メモリセルの両端の電圧を低くし、バックバイアス効果によりスレッショルド電圧Vtnを上昇することによって、電流リークIDDQを減少する。SNMは、減少したセル電圧によってSNMの低下を適当に補償するバックバイアス効果から高いVtnによって改善される。SNMが改善されると、関連したワードラインの電圧がREADにおけるようにアクセスに対して、またはWRITEのためアクセスされたローにおいてアドレスされないカラムに対して上昇されると、セルは最小の乱れを受ける。同様に、改善されたSNMは、アドレスされないカラムのセルを乱すことなしに、WRITE動作を許す。 Thus, the present invention provides greater power savings and better SNM and write trip voltage V trip tradeoffs than existing SRAM devices, allowing a wide process margin. Providing the enhanced low operating voltage V ESS is because the enhanced low operating voltage V ESS is greater than the substrate voltage (generally, the low operating voltage V SS ), so the voltage across the memory cell is lowered and the threshold due to the back bias effect. By increasing the voltage V tn , the current leakage I DDQ is reduced. The SNM is improved by a high V tn from the back bias effect that appropriately compensates for the SNM drop by the reduced cell voltage. When SNM is improved, cells are subject to minimal disturbance when the associated wordline voltage is raised for access as in READ or for a column not addressed in a row accessed for WRITE. . Similarly, the improved SNM allows WRITE operation without disturbing the cells of the unaddressed column.

増強された低い動作電圧の弱点は読取り電流Ireadの減少であるが、しかし、Ireadは、READ動作の間、アドレスされたカラムに対してより低い値で増強された低動作電圧VESSを与えることによって回復される。本発明は、WRITE動作に対してREAD動作に対してより低い値で増強された低動作電圧VESSを与えることもできる。更に、増強された低い動作電圧VESSは、SNM及び書込みトリップ電圧の失敗が発生した場合、例えば、プロセスの重大な事態に対して高い電圧で増強された低動作電圧VESSを与えることによって、プロセス変化を補償するようにセットされることができる。書込みトリップ電圧が最悪の場合であるとき、増強された低動作電圧VESSを高い値に与えることもできる。更に、例えば、テストの間低い電圧動作に対して増強した低動作電圧VESSを高い値に与えることができる。 Although weakness of enhanced low operating voltage is decreased read current I read, however, I read during the READ operation, a low operating voltage V ESS augmented at lower value for the addressed column Recovered by giving. The present invention can also provide a low operating voltage V ESS that is enhanced at a lower value for a WRITE operation than for a READ operation. In addition, the enhanced low operating voltage V ESS can be used in the event of a SNM and write trip voltage failure, for example by providing an enhanced low operating voltage V ESS at a higher voltage for critical processes. Can be set to compensate for process changes. When the write trip voltage is the worst case, the enhanced low operating voltage V ESS can also be applied to a high value. Furthermore, for example, a low operating voltage V ESS enhanced against a low voltage operation during the test can be given a high value.

従って、あるファクタ、例えば、トランジスタのパラメータまたは動作のモードに基づいて、増強した低動作電圧VESSを個々の値に規定することができる。例えば、一つの増強された低動作電圧VESSをテスト動作に対して確立することができる。更に、いろいろな増強された低い動作電圧VESSの値をREAD動作またはWRITE動作に対して確立することができる。幾つかの実施例において、単一の増強された低い動作電圧VESSの値を1より多くのファクタに対して確立することができる。従って、TEST、WRITE、及びREAD動作に対して、単一の増強された低い動作電圧VESSの値を与えることができる。 Thus, the enhanced low operating voltage V ESS can be defined to individual values based on certain factors, such as transistor parameters or mode of operation. For example, one enhanced low operating voltage V ESS can be established for the test operation. Furthermore, various enhanced low operating voltage V ESS values can be established for READ or WRITE operations. In some embodiments, a single enhanced low operating voltage V ESS value can be established for more than one factor. Thus, a single enhanced low operating voltage V ESS value can be provided for TEST, WRITE, and READ operations.

他の特徴として、本発明は、(1)ワードラインによってローの周辺回路に結合され、及びビットラインによってカラムの周辺回路に結合されたSRAMアレーを集積回路に用いるステップ、及び(2)アクティブモードの少なくとも一部の間、増強された低動作電圧VESSをSRAMアレーに与えるステップを有するSRAMデバイスを動作する方法を提供する。 In other features, the present invention includes the steps of (1) using an SRAM array in an integrated circuit coupled to a row peripheral circuit by a word line and coupled to a column peripheral circuit by a bit line, and (2) an active mode. A method of operating an SRAM device having the step of providing an enhanced low operating voltage V ESS to the SRAM array during at least a portion of the method is provided.

この分野の当業者が以下に示す本発明の詳細な説明をよりよく理解できるように、本発明の好適な、及び代替の特徴を上に概括した。本発明の請求項の主題を形成する本発明の更なる特徴が、以下に説明される。当業者は、本発明の同じ目的を達成するための他の構造を設計し、または変更するための基本として、開示された概念及び特定の実施例を容易に理解することができることを認識すべきである。また、当業者は、このような等価な構成は本発明の精神及び範囲から逸脱しないことを理解するであろう。本発明のより完全な理解のために、次の詳細な説明が添付の図面と結合して参照される。強調するが様々な特徴は縮尺に従って描かれていない。実際に、様々な特徴の寸法は議論の明確化のため任意に増加させたり、減少させたりすることができる。次の説明が添付の図面と結合して参照される。 The preferred and alternative features of the present invention have been summarized above so that those skilled in the art may better understand the detailed description of the invention that follows. Additional features of the invention will be described hereinafter that form the subject of the claims of the invention. Those skilled in the art should recognize that the disclosed concepts and specific embodiments can be readily understood as a basis for designing or modifying other structures to accomplish the same objectives of the present invention. It is. Those skilled in the art will also appreciate that such equivalent constructions do not depart from the spirit and scope of the invention. For a more complete understanding of the present invention, the following detailed description is referred to in conjunction with the accompanying drawings. To emphasize, the various features are not drawn to scale. In fact, the dimensions of the various features can be arbitrarily increased or decreased for clarity of discussion. The following description is referenced in conjunction with the accompanying drawings.

先ず、図1を参照すると、本発明の原理による、一般に100で示されるSRAMデバイスの実施例の回路図が示されている。SRAM100は、SRAMのアレー110、ローの周辺回路120、カラムの周辺回路130及びアレーの低電圧制御回路140を含む。一般に、SRAMアレー110は、対応する多数のワードラインおよびビットラインを有するカラムとローのマトリックスに編成されたマルチメモリセルを有する。例えば、SRAMデバイスアレー110は、256のカラムと256のローのメモリセルを有する。しかし、説明を簡単にするために、SRAMのアレー110の第1、第2、及び第3のカラム112、114、116を有する単一のローのみが示されている。 Referring first to FIG. 1, there is shown a circuit diagram of an embodiment of an SRAM device, generally designated 100, in accordance with the principles of the present invention. The SRAM 100 includes an SRAM array 110, a row peripheral circuit 120, a column peripheral circuit 130, and an array low voltage control circuit 140. In general, the SRAM array 110 has multi-memory cells organized in a matrix of columns and rows having a corresponding number of wordlines and bitlines. For example, the SRAM device array 110 has 256 columns and 256 rows of memory cells. However, for ease of explanation, only a single row having the first, second, and third columns 112, 114, 116 of the SRAM array 110 is shown.

更に、第1のカラム112と関連する、単一のワードライン、ビットライン対、ローの周辺回路120及びカラムの周辺回路130が示され、説明される。しかし、当業者は、第1のカラム112と関連して図示され、説明されるワードライン、ビットライン対、ローの周辺回路120及びカラムの周辺回路130が、第2及び第3のカラム114、116ばかりでなく、図示されない更なるカラム及びローと関連する同様な回路を機能的に表していることを理解するであろう。   In addition, a single word line, bit line pair, row peripheral circuit 120 and column peripheral circuit 130 associated with the first column 112 are shown and described. However, those skilled in the art will recognize that the word line, bit line pair, row peripheral circuit 120 and column peripheral circuit 130 shown and described in connection with the first column 112 are the second and third columns 114, It will be understood that not only 116 but also represents similar circuitry associated with additional columns and rows not shown.

SRAMデバイス100は、関連するマイクロプロセッサ、ディジタル信号プロセッサ(DSP)、特定用途向け集積回路(ASIC)または大型エレクトロニック装置用のメモリ要素である。幾つかの実施例において、1以上のSRAMデバイス100は、メモリ要素を有する。SRAMデバイス100と関連する集積回路(IC)は、SRAMデバイスに高動作電圧VDD及び低動作電圧VSSを供給する。高動作電圧VDD及び低動作電圧VSSは、チップ供給電圧であることができる。一般に、関連装置の信号路及びデータインタフェースは、SRAMデバイス100に結合され、アドレス情報を送り、及びSRAMアレー110の特定メモリセルにデータを読取る/書込むためのデータを検索する/書込む。この分野の当業者は、関連装置へのSRAMデバイス100の結合を理解するであろう。 The SRAM device 100 is a memory element for an associated microprocessor, digital signal processor (DSP), application specific integrated circuit (ASIC) or large electronic device. In some embodiments, one or more SRAM devices 100 have memory elements. An integrated circuit (IC) associated with the SRAM device 100 supplies the SRAM device with a high operating voltage V DD and a low operating voltage V SS . The high operating voltage V DD and the low operating voltage V SS can be chip supply voltages. In general, the signal path and data interface of the associated device is coupled to the SRAM device 100 to send address information and to retrieve / write data for reading / writing data to specific memory cells of the SRAM array 110. Those skilled in the art will understand the coupling of SRAM device 100 to associated equipment.

第1、第2及び第3のカラム112、114、116の各々は、データを書込む及び読取るための特定のアドレスを有するマルチロー内にメモリセルを含む。メモリセルの各々は、MOSFETs及びフリップフロップを用いて、1または0としてデータをストアする。第1のカラム112におけるデータの読取り及び書込みは、ローの周辺回路120及びカラムの周辺回路130によって制御されることができる。   Each of the first, second and third columns 112, 114, 116 includes a memory cell in a multi-row having a specific address for writing and reading data. Each memory cell stores data as 1 or 0 using MOSFETs and flip-flops. Reading and writing data in the first column 112 can be controlled by the row peripheral circuit 120 and the column peripheral circuit 130.

ローの周辺回路120は、ローの1つと関連するワードラインの作動を制御する。ローの周辺回路120は、例えば、ローのプリデコーダ、ローのデコーダ、ワードラインドライバー及びキーパを含む。このワードラインドライバーは、ローの信号路を介して受信され、ローのプリデコーダ及びローのデコーダによってデコードされたアドレス信号に基づいて読取りまたは書込むためのワードラインを作動することができる。   The row peripheral circuit 120 controls the operation of the word line associated with one of the rows. The row peripheral circuit 120 includes, for example, a row predecoder, a row decoder, a word line driver, and a keeper. The word line driver can activate a word line for reading or writing based on the address signal received via the row signal path and decoded by the row predecoder and the row decoder.

カラムの周辺回路130は、読取り及び書込み用SRAMアレーのカラムの選択を制御する。カラムの周辺回路130は、例えば、プリチャージ回路、書込み回路、カラムのマルチプレックサ及びセンスアンプを含むことができる。更に、カラムの周辺回路は、SRAMアレー110内にメモリセルの位置を決めるためのアドレスデコーダ及びデータの書込み及び読取り間を判断するための制御回路を有する。プリチャージ回路、書込み回路、カラムのマルチプレックサ及びセンスアンプは、デコードされた正しいカラムのアドレスへのデータの読取り及び書込みを容易にする。ローの周辺回路120と同様に、カラムの周辺回路130は、ここには図示されないし、説明されないデータの書込み及び読取りを容易にする追加の要素を含むこともできる。   A column peripheral circuit 130 controls the selection of columns for the read and write SRAM arrays. The column peripheral circuit 130 may include, for example, a precharge circuit, a write circuit, a column multiplexer, and a sense amplifier. Further, the peripheral circuit of the column has an address decoder for determining the position of the memory cell in the SRAM array 110 and a control circuit for determining between data writing and reading. The precharge circuit, write circuit, column multiplexer and sense amplifier facilitate reading and writing of data to the correct decoded column address. Similar to row peripheral circuit 120, column peripheral circuit 130 may also include additional elements that facilitate writing and reading of data not shown or described herein.

アレーの低電圧制御回路140は、SRAMアレー110のアクティブモードの少なくとも一部の間増強された低動作電圧VESSをSRAMアレーに与えるように構成される。増強された低動作電圧VESSをアクティブモードの全ての間与えることができることは、勿論である。アレーの低電圧制御回路140は、アクティブ要素を用いて、増強された低動作電圧VESSを与えることができる。例えば、アレーの低電圧制御回路140は、ダイオードでブリッジされたフッターを有し、低動作電圧VSSを上昇させ、増強された低動作電圧VESSを与えることができる。フッターは、低動作電圧VSSとSRAMデバイス100の間に配置されたトランジスタである。一般的には、フッターはnチャネルMOSFETである。 The array low voltage control circuit 140 is configured to provide an enhanced low operating voltage V ESS to the SRAM array during at least a portion of the active mode of the SRAM array 110. Of course, an enhanced low operating voltage V ESS can be applied during all active modes. The array low voltage control circuit 140 can provide an enhanced low operating voltage V ESS using active elements. For example, the array low voltage control circuit 140 may have a diode bridged footer to increase the low operating voltage V SS and provide an enhanced low operating voltage V ESS . The footer is a transistor disposed between the low operating voltage V SS and the SRAM device 100. Generally, the footer is an n-channel MOSFET.

アレーの低電圧制御回路は、アレーと低動作電圧供給バスの間で電圧降下を与える素子である。例えば、アレーの低電圧制御回路140は、ターンオンされるトランジスタの幅が電圧降下を決める場合のターンオンされるトランジスタである。アレーの低電圧制御回路140は、増強された低動作電圧VESSを与えるために、または増強された低動作電圧VESSのための特定の値を選択するために、フューズを用いることもできる。これらのフューズは、動作のモード、高動作電圧VDDまたはトランジスタのパラメータのための特定の増強された低動作電圧VESSを選択するために用いられることができる。勿論、フューズは、いろいろなファクタに基づいて他の増強された低動作電圧VESSを選択するために用いることもできる。 The array low voltage control circuit is an element that provides a voltage drop between the array and the low operating voltage supply bus. For example, the array low voltage control circuit 140 is a transistor that is turned on when the width of the transistor that is turned on determines the voltage drop. The array low voltage control circuit 140 may also use fuses to provide an enhanced low operating voltage V ESS or to select a particular value for the enhanced low operating voltage V ESS . These fuses can be used to select a specific enhanced low operating voltage V ESS for the mode of operation, high operating voltage V DD or transistor parameters. Of course, the fuse can also be used to select other enhanced low operating voltage V ESS based on various factors.

更に、アレーの低電圧制御回路140は、増強された低動作電圧VESSを与えるために、他の要素、例えば、ROMまたは電圧レギュレータを用いることができる。また、アレーの低電圧制御回路140は、例えば、WRITE動作、READ動作、テストモード、またはプロセスコーナに基づいて、増強された低動作電圧VESSをSRAM110に選択的に与えるために、論理回路を有することもできる。この倫理回路は、これらの選択を行うためにフューズまたはトランジスタを用いることができる。論理回路は、アレーの低電圧制御回路140の選択を指示する関連するマイクロプロセッサである。 In addition, the array low voltage control circuit 140 may use other elements, such as a ROM or a voltage regulator, to provide an enhanced low operating voltage V ESS . The array low voltage control circuit 140 also provides logic circuitry to selectively provide the enhanced low operating voltage V ESS to the SRAM 110 based on, for example, a WRITE operation, a READ operation, a test mode, or a process corner. Can also have. The ethics circuit can use fuses or transistors to make these selections. The logic circuit is an associated microprocessor that directs the selection of the array's low voltage control circuit 140.

幾つかの実施例では、アレーの低電圧制御回路140は、WRITE動作の間のみ増強された低動作電圧VESSを与えることができる。他の実施例では、アレーの低電圧制御回路140は、WRITE動作の間よりREAD動作の間、増強された低動作電圧VESSを低い値に与えることができる。アレーの低電圧制御回路140は、SRAMアレー110のアドレスされたカラムのためにこの低い値を与えることができるのみである。 In some embodiments, the array low voltage control circuit 140 can provide an enhanced low operating voltage V ESS only during a WRITE operation. In other embodiments, the array low voltage control circuit 140 may provide the enhanced low operating voltage V ESS to a lower value during the READ operation than during the WRITE operation. The array low voltage control circuit 140 can only provide this low value for the addressed column of the SRAM array 110.

例えば、ローの周辺回路120及びカラムの周辺回路130は、第1のカラム112の選択されたワードラインにおいてREAD動作を示す。従って、アレーの低電圧制御回路140は、READ動作の間読取り電流を向上するために、第1のカラム112に増強された低動作電圧VESSの低い値を与える。ある実施例では、増強された低動作電圧VESSの低い値が、カラムの代わりにSRAMアレー110の適当なブロックに与えられる。 For example, row peripheral circuit 120 and column peripheral circuit 130 exhibit a READ operation on the selected word line of first column 112. Thus, the array low voltage control circuit 140 provides a low value of the enhanced low operating voltage V ESS to the first column 112 to improve the read current during the READ operation. In one embodiment, a low value of the enhanced low operating voltage V ESS is provided to the appropriate block of the SRAM array 110 instead of the column.

他の実施例では、アレーの低電圧制御回路140は、アクティブモードの全ての間増強された低動作電圧VESSを与える。アレーの低電圧制御回路140は、全てのモードの間増強された低動作電圧VESSを与えることもできる。例えば、アレーの低電圧制御回路140は、スタンバイ及びスリープモードのための増強された低動作電圧VESSを与えることができる。 In another embodiment, the array low voltage control circuit 140 provides an enhanced low operating voltage V ESS during all of the active modes. The array low voltage control circuit 140 may also provide an enhanced low operating voltage V ESS during all modes. For example, the array low voltage control circuit 140 can provide an enhanced low operating voltage V ESS for standby and sleep modes.

増強された低動作電圧VESSは、SRAMデバイス100のトランジスタの特性に基づいて与えられる。例えば、アレーの低電圧制御回路140は、プロセッサコーナに基づいて増強された低動作電圧VESSを与えることができる。アレーの低電圧制御回路140は、強いnプロセスコーナに基づかれた場合、高い値の増強された低動作電圧VESSを与える。他の実施例では、アレーの低電圧制御回路140は、ファクタ、例えば動作のモードまたは高い動作電圧VDDの値に基づいて増強された低動作電圧VESSを与える。 The enhanced low operating voltage V ESS is provided based on the characteristics of the SRAM device 100 transistor. For example, the array low voltage control circuit 140 may provide an enhanced low operating voltage V ESS based on the processor corner. The array low voltage control circuit 140 provides a high value of the enhanced low operating voltage V ESS when based on strong n process corners. In other embodiments, the array low voltage control circuit 140 provides an enhanced low operating voltage V ESS based on factors such as the mode of operation or the value of the high operating voltage V DD .

図2を参照すると、本発明の原理によって実行されるSRAMデバイス(一般に、200で示される)を動作する方法の実施例が示されている。SRAMデバイスは、大きさが変るSRAMを有する。例えば、SRAMデバイスアレーは、256のカラムと256のローのメモリセルを有する。SRAMデバイスは、1つより多いSRAMアレーを含むことができる集積回路(IC)に用いられる。一般に、SRAMアレーには、低動作電圧VSS及び高動作電圧VDDがそれぞれ与えられる。低動作電圧VSS及び高動作電圧VDDは、チップ供給電圧である。本方法200は、ステップ205においてSRAMデバイスを動作する要求で始まる。 Referring to FIG. 2, an embodiment of a method for operating an SRAM device (generally indicated at 200) implemented in accordance with the principles of the present invention is shown. SRAM devices have SRAM that varies in size. For example, an SRAM device array has 256 columns and 256 rows of memory cells. SRAM devices are used in integrated circuits (ICs) that can include more than one SRAM array. In general, a low operating voltage V SS and a high operating voltage V DD are respectively applied to the SRAM array. The low operating voltage V SS and the high operating voltage V DD are chip supply voltages. The method 200 begins with a request to operate the SRAM device at step 205.

次に、増強された低動作電圧VESSがステップ210で確立される。増強された低動作電圧VESSは、SRAMデバイストランジスタの一般の特性に基づいて確立される。ある実施例では、確立され、増強された低動作電圧VESSは、プロセスコーナに基づいて変更される。例えば、確立され、増強された低動作電圧VESSは、プロセスコーナが強いnコーナであるとき高い値に与えられる。確立され、増強された低動作電圧VESSは、高動作電圧VDDまたはSRAMデバイスの温度に基づいて変更される。しかし、ある実施例では、増強された低動作電圧VESSは、高動作電圧VDDまたは温度とは無関係である。従って、増強された低動作電圧VESSの値は、例えば、プロセスコーナ、高動作電圧VDDまたは温度に基づいて変化する。 The enhanced low operating voltage V ESS is then established at step 210. The enhanced low operating voltage V ESS is established based on the general characteristics of the SRAM device transistor. In one embodiment, the established and enhanced low operating voltage V ESS is changed based on the process corner. For example, the established and enhanced low operating voltage V ESS is given a high value when the process corner is a strong n corner. The established and enhanced low operating voltage V ESS is changed based on the high operating voltage V DD or the temperature of the SRAM device. However, in some embodiments, the enhanced low operating voltage V ESS is independent of the high operating voltage V DD or temperature. Thus, the value of the enhanced low operating voltage V ESS varies based on, for example, process corner, high operating voltage V DD or temperature.

もし、トランジスタが強いnプロセスコーナを有するならば、増強された低動作電圧VESSの値は、強いnプロセスコーナにないトランジスタと比較される高い値に与えられる。ある実施例では、増強された低動作電圧VESSは、他のトランジスタ特性、例えば、SRAMアレーのトランジスタの弱いp特性に基づいて高い値に与えられる。例えば、増強された低動作電圧VESSは、トランジスタ特性に基づいて高い0.1ボルトに与えられる。ある実施例では、増強された低動作電圧VESSの低い値がREAD動作の間アドレスされたカラムに与えられるなら、増強された低動作電圧VESSは、均一な高い値に与えられる。 If the transistor has a strong n process corner, the value of the enhanced low operating voltage V ESS is given a higher value compared to a transistor not in the strong n process corner. In one embodiment, the enhanced low operating voltage V ESS is given a high value based on other transistor characteristics, eg, the weak p-characteristics of the SRAM array transistors. For example, the enhanced low operating voltage V ESS is applied to a high 0.1 volt based on transistor characteristics. In some embodiments, if enhanced low value of low operating voltage V ESS was given in the column which is between the address of the READ operation, the enhanced low operating voltage V ESS is given a uniform high value.

従って、増強された低動作電圧VESSのいろいろな値がいろいろな動作に対して確立される。例えば、1つの増強された低動作電圧VESS値は、テスト動作に対して確立される。他の増強された低動作電圧VESS値は、READ動作またはWRITE動作に対して確立される。ある実施例では、単一の増強された低動作電圧VESS値は、1つより多い形式の動作に対して用いられることができる。 Accordingly, different values of the enhanced low operating voltage V ESS are established for different operations. For example, one enhanced low operating voltage V ESS value is established for the test operation. Other enhanced low operating voltage V ESS values are established for READ or WRITE operations. In certain embodiments, a single enhanced low operating voltage V ESS value can be used for more than one type of operation.

増強された低動作電圧VESSを確立した後、もし、SRAMデバイスが第1の決定ステップ220においてアクティブモードであるか否かの判断がなされる。SRAMデバイスがWRITEまたはREAD動作の間アクティブモードにある。論理回路、例えば、ICと関連したマイクロプロセッサは、何時WRITEまたはREAD動作が発生するかを判断する。更に、カラム及びローの周辺回路は、READまたはWRITE動作を示す。 After establishing the enhanced low operating voltage V ESS , a determination is made whether the SRAM device is in active mode in a first decision step 220. The SRAM device is in active mode during WRITE or READ operations. A logic circuit, eg, a microprocessor associated with the IC, determines when a WRITE or READ operation occurs. In addition, column and row peripheral circuits indicate a READ or WRITE operation.

もし、SRAMデバイスがアクティブモードでないならば、ステップ225で、非アクティブバイアスがSRAMアレーに印加される。もし、アクティブモードでないならば、SRAMデバイスは、スタンバイモードかスリープモードにある。非アクティブバイアスは、高動作電圧VDDを低下するか、低動作電圧VSSを上昇するように設計され、非アクティブモードの間データを維持するように支援する。任意に、増強された低動作電圧VESSが非アクティブ状態の間SRAMアレーに印加される。ある実施例では、アレーの低電圧制御回路は、非アクティブバイアスまたは増強された低動作電圧VESSを与える。非アクティブバイアスを印加した後、本方法200は、ステップ270に進む。 If the SRAM device is not in active mode, at step 225, an inactive bias is applied to the SRAM array. If not in active mode, the SRAM device is in standby mode or sleep mode. The inactive bias is designed to lower the high operating voltage V DD or increase the low operating voltage V SS to help maintain data during the inactive mode. Optionally, an enhanced low operating voltage V ESS is applied to the SRAM array during the inactive state. In one embodiment, the array low voltage control circuit provides an inactive bias or an enhanced low operating voltage V ESS . After applying the inactive bias, the method 200 proceeds to step 270.

第1の判断ステップ220を参照すると、もし、SRAMデバイスがアクティブモードにあるならば、SRAMデバイスが第2の判断ステップ230のテストモードにあるか否かの判断が行なわれる。ICに関連した論理回路は、SRAMデバイスがテストモードにあるか否かを判断する。もし、SRAMデバイスがテストモードにあるならば、増強された低動作電圧VESSのテストモード値は、ステップ235でSRAMデバイスに与えられる。増強された低動作電圧VESSのテストモード値は、アレーの低電圧制御回路によって与えられる。ある実施例では、増強された低動作電圧VESSのテストモードは、確立され、増強された低動作電圧VESSと等価である。増強された低動作電圧VESSのテストモード値を与えた後、本方法は、ステップ270に進む。 Referring to the first decision step 220, if the SRAM device is in the active mode, a determination is made as to whether the SRAM device is in the test mode of the second decision step 230. A logic circuit associated with the IC determines whether the SRAM device is in a test mode. If the SRAM device is in test mode, the test mode value of the enhanced low operating voltage V ESS is provided to the SRAM device at step 235. The test mode value of the enhanced low operating voltage V ESS is provided by the array low voltage control circuit. In some embodiments, the test mode for the enhanced low operating voltage V ESS is established, it is equivalent to a low operating voltage V ESS augmented. After providing the increased low operating voltage V ESS test mode value, the method proceeds to step 270.

SRAMデバイスがテストモードでないならば、SRAMデバイスが第3の判断ステップ240のREADモードにあるか否かの判断が行なわれる。関連した論理回路は、SRAMデバイスがREAD動作を行っているか否かを判断する。もし、READ動作であるならば、増強された低動作電圧VESSのREADモード値は、ステップ245でSRAMアレーに与えられる。READモード値は、アレーの低電圧制御回路によって与えられる。ある実施例では、READモード値は、SRAMアレーの一部に与えられるのみである。 If the SRAM device is not in test mode, a determination is made as to whether the SRAM device is in READ mode in a third decision step 240. The related logic circuit determines whether or not the SRAM device is performing a READ operation. If it is a READ operation, the enhanced low operating voltage V ESS READ mode value is provided to the SRAM array at step 245. The READ mode value is provided by the array low voltage control circuit. In some embodiments, the READ mode value is only provided to a portion of the SRAM array.

例えば、SRAMアレーのアドレスされたカラムは、READモードが与えられるSRAMアレーの唯一の部分である。他の実施例では、SRAMアレーのブロックは、READ動作の間、READモード値が与えられる。増強された低動作電圧VESSのREADモード値は、ほぼ低動作電圧VSSの値である。増強された低動作電圧VESSのREADモード値を与えた後、本方法は、ステップ270へ進む。 For example, the addressed column of the SRAM array is the only part of the SRAM array that is given the READ mode. In another embodiment, the SRAM array block is given a READ mode value during a READ operation. The READ mode value of the enhanced low operating voltage V ESS is approximately the value of the low operating voltage V SS . After providing the enhanced low operating voltage VESS READ mode value, the method proceeds to step 270.

もし、SRAMデバイスがREADモードでないならば、SRAMデバイスは第4の判断ステップ250のWRITEモードにあるか否かの判断が行なわれる。関連論理回路がSRAMデバイスがWRITE動作を行っているか否かを判断する。もし、WRITEモードにあるならば、増強された低動作電圧VESSのWRITEモード値がステップ255でSRAMアレーに与えられる。WRITEモード値はアレーの低電圧制御回路によって与えられる。増強された低動作電圧VESSのWRITEモード値を与えた後、本方法200は、ステップ270へ進む。 If the SRAM device is not in READ mode, a determination is made as to whether the SRAM device is in WRITE mode in a fourth decision step 250. The associated logic circuit determines whether the SRAM device is performing a WRITE operation. If in WRITE mode, the enhanced low operating voltage V ESS WRITE mode value is applied to the SRAM array at step 255. The WRITE mode value is provided by the array low voltage control circuit. After providing the enhanced low operating voltage VESS WRITE mode value, the method 200 proceeds to step 270.

もし、SRAMデバイスがWRITEモードでないならば、増強された低動作電圧VESSは、ステップ260においてSRAMアレーに与えられる。増強された低動作電圧VESSは、アレーの低電圧制御回路によって与えられる。増強された低動作電圧VESSは、アクティブモードの間SRAMアレーの両端に低電圧を与えて、適切なSNM及びVtripを維持しながら、リーク電流を減少する。増強された低動作電圧VESSは、アレーの低電圧制御回路を用いる低動作電圧VSSを増加することによって与えられる。 If the SRAM device is not in WRITE mode, the enhanced low operating voltage V ESS is applied to the SRAM array at step 260. The enhanced low operating voltage V ESS is provided by the array low voltage control circuit. The enhanced low operating voltage V ESS provides a low voltage across the SRAM array during active mode to reduce leakage current while maintaining proper SNM and V trip . The enhanced low operating voltage V ESS is provided by increasing the low operating voltage V SS using an array low voltage control circuit.

増強された低動作電圧VESSは、能動素子、例えば、ダイオードでブリッジされたフッターを用いることによって与えられる。勿論、この分野の当業者は、増強された低動作電圧VESSは、他の能動素子または受動素子を用いることによって与えられることができることも理解するであろう。例えば、増強された低動作電圧VESSは、抵抗、トランジスタ、ダイオード、低いドロップアウトレギュレータまたはこれらの組み合わせによって与えられる。ある実施例では、増強された低動作電圧VESSは、約0.2ボルトである。他の実施例では、増強された低動作電圧VESSは、ほぼ低動作電圧VSSである。 The enhanced low operating voltage V ESS is provided by using an active device, such as a diode bridged footer. Of course, those skilled in the art will also appreciate that the enhanced low operating voltage V ESS can be provided by using other active or passive elements. For example, the enhanced low operating voltage V ESS is provided by resistors, transistors, diodes, low dropout regulators, or combinations thereof. In one embodiment, the enhanced low operating voltage V ESS is about 0.2 volts. In other embodiments, the enhanced low operating voltage V ESS is approximately the low operating voltage V SS .

増強された低動作電圧VESSを与えた後、第5の判断ステップ270においてSRAMデバイスの動作を続けるかの判断が行なわれる。もし、SRAMデバイスの動作が続くなら、本方法は、ステップ210に進み、上述のように続ける。当業者は、高動作電圧VDDは、動作の間SRAMアレーに維持されることも理解するであろう。ある実施例では、高動作電圧VDDは、約1.2ボルトであり、低動作電圧VSSは、約0.0ボルトである。もし、SRAMデバイスの動作が続かないならば、本方法はステップ280で終了する。 After providing the enhanced low operating voltage V ESS , a fifth decision step 270 determines whether to continue the operation of the SRAM device. If the operation of the SRAM device continues, the method proceeds to step 210 and continues as described above. One skilled in the art will also appreciate that the high operating voltage V DD is maintained in the SRAM array during operation. In one embodiment, the high operating voltage V DD is about 1.2 volts and the low operating voltage V SS is about 0.0 volts. If the operation of the SRAM device does not continue, the method ends at step 280.

本方法は、ここで特定の命令において行なわれる特定のステップを参照して説明されたが、これらのステップは、本発明の教示から逸脱することなく等価の方法を形成するために組み合わされ、細分化され、または再整理されることを理解されるであろう。よって、ここで特に断らない限り、ステップの順番及び/またはグループ化は、本発明の限定ではない。   Although the method has been described herein with reference to particular steps performed in particular instructions, these steps can be combined and subdivided to form an equivalent method without departing from the teachings of the invention. It will be understood that it is converted to or rearranged. Thus, unless otherwise specified herein, the order and / or grouping of steps is not a limitation of the present invention.

本発明を詳細に説明したけれども、当業者は、それらは本発明の精神及び範囲から逸脱することなく最も広い形でいろいろな変更、置き換え、及び代替を行なうことができることを理解すべきである。例えば、SRAMアレーは、全てのモード、例えば、スタンバイ及びスリープモードの間、増強された低動作電圧VESSであることができる。更に、SRAMアレーは、WRITE動作の間のみ増強された低動作電圧VESSが与えられる。他の実施例では、増強された低動作電圧VESSがアクティブモードの全ての間SRAMアレーに与えられる。 Although the invention has been described in detail, it should be understood by those skilled in the art that various changes, substitutions, and alternatives can be made in the broadest form without departing from the spirit and scope of the invention. For example, the SRAM array can be at an enhanced low operating voltage V ESS during all modes, eg, standby and sleep modes. Furthermore, the SRAM array is provided with an enhanced low operating voltage V ESS only during WRITE operations. In another embodiment, an enhanced low operating voltage V ESS is applied to the SRAM array during all active modes.

本発明の原理により構成されたSRAMデバイスの実施例の回路図を示す。1 shows a circuit diagram of an embodiment of an SRAM device constructed in accordance with the principles of the present invention. 本発明の原理により実行されるSRAMデバイスを動作する方法の実施例を示す。2 illustrates an embodiment of a method of operating an SRAM device implemented in accordance with the principles of the present invention.

Claims (11)

各々ワードラインによってローの周辺回路に接続され、ビットラインによってカラムの周辺回路に接続され、且つ、低動作電圧ノードに接続された複数のSRAMセルを有する、高動作電圧ノードに接続されたSRAMアレーと、
少なくともREAD動作およびWRITE動作の間、前記SRAMアレーの前記SRAMセルの前記低動作電圧ノードに、増強された低動作電圧(VESS)を選択的に生成するアレーの低電圧制御回路と、を有し、
前記増強された低動作電圧はチップ供給電圧である低動作電圧(VSS)よりも高い電圧値を有し、READ動作中は前記増強された低動作電圧がWRITE動作中よりも低い値である、
SRAMデバイス。
An SRAM array connected to a high operating voltage node, each having a plurality of SRAM cells connected to a peripheral circuit of a row by a word line, connected to a peripheral circuit of a column by a bit line, and connected to a low operating voltage node. When,
An array low voltage control circuit that selectively generates an enhanced low operating voltage (V ESS ) at the low operating voltage node of the SRAM cell of the SRAM array, at least during READ and WRITE operations. And
The enhanced low operating voltage has a higher voltage value than a low operating voltage (V SS ) that is a chip supply voltage, and the enhanced low operating voltage is lower during READ operation than during WRITE operation. ,
SRAM device.
前記増強された低動作電圧がスタンバイモードもしくはスリープモードの間も生成される、請求項1に記載のSRAMデバイス。   The SRAM device of claim 1, wherein the enhanced low operating voltage is also generated during a standby mode or a sleep mode. 前記増強された低動作電圧がテストモードの間も生成される、請求項1または請求項2に記載のSRAMデバイス。   The SRAM device of claim 1 or claim 2, wherein the enhanced low operating voltage is also generated during a test mode. 各々ワードラインによってローの周辺回路に接続され、ビットラインによってカラムの周辺回路に接続され、且つ、低動作電圧ノードに接続された複数のSRAMセルを有する、高動作電圧ノードに接続されたSRAMアレーと、
少なくともREAD動作の間、前記SRAMアレーの前記SRAMセルの前記低動作電圧ノードに、増強された低動作電圧(VESS)を選択的に生成するアレーの低電圧制御回路と、を有し、
前記増強された低動作電圧はチップ供給電圧である低動作電圧(VSS)よりも高い電圧値を有し、前記READ動作中は、アドレスされたカラムのセルに対して与えられる前記増強された低動作電圧が、アドレスされないカラムのセルに対して与えられる前記増強された低動作電圧よりも低い値である、
SRAMデバイス。
An SRAM array connected to a high operating voltage node, each having a plurality of SRAM cells connected to a peripheral circuit of a row by a word line, connected to a peripheral circuit of a column by a bit line, and connected to a low operating voltage node. When,
An array low voltage control circuit that selectively generates an enhanced low operating voltage (V ESS ) at the low operating voltage node of the SRAM cell of the SRAM array during at least READ operation ;
The enhanced low operating voltage has a voltage value higher than a low operating voltage (V SS ) , which is a chip supply voltage, and the enhanced low voltage provided to the cells of the addressed column during the READ operation . A low operating voltage is lower than the enhanced low operating voltage applied to the cells of the unaddressed column;
SRAM device.
前記増強された低動作電圧がスタンバイモードもしくはスリープモードの間も生成される、請求項4に記載のSRAMデバイス。   The SRAM device of claim 4, wherein the enhanced low operating voltage is also generated during standby mode or sleep mode. 前記増強された低動作電圧がWRITE動作の間も生成される、請求項4または請求項に記載のSRAMデバイス。 The SRAM device according to claim 4 or 5 , wherein the enhanced low operating voltage is also generated during WRITE operation. 前記高動作電圧ノードに与えられる高動作電圧の値を選択できる、請求項1乃至請求項いずれか1項に記載のSRAMデバイス。 The high operating values to choose a high operating voltage supplied to the voltage node, SRAM device according to any one of claims 1 to claim 6. 前記アレーの低電圧制御回路が、プロセスコーナ、トランジスタのパラメータ、動作モード、及び高い供給電圧の値から成るグループから選択されるファクタに基づいて前記増強された低動作電圧を与えるように構成されている、請求項1乃至請求項いずれか1項に記載のSRAMデバイス。 The array low voltage control circuit is configured to provide the enhanced low operating voltage based on a factor selected from the group consisting of process corners, transistor parameters, operating modes, and high supply voltage values. The SRAM device according to any one of claims 1 to 7 . 前記アレーの低電圧制御回路は能動素子を用いる、請求項1乃至請求項いずれか1項に記載のSRAMデバイス。 The low voltage control circuit of the array using an active element, SRAM device according to any one of claims 1 to claim 8. 前記アレーの低電圧制御回路は、ダイオード、トランジスタ、フューズ、ROM、電圧レギュレータ、及び論理回路から成るグループから選択される、請求項1乃至請求項いずれか1項に記載のSRAMデバイス。 Low voltage control circuit of said array, a diode, a transistor, a fuse, ROM, voltage regulators, and is selected from the group consisting of a logic circuit, SRAM device according to any one of claims 1 to claim 8. 請求項1乃至請求項10いずれか1項に記載のSRAMデバイスを有するマイクロプロセッサ。 A microprocessor comprising the SRAM device according to any one of claims 1 to 10 .
JP2004382472A 2004-12-10 2004-12-10 Static random access memory with reduced leakage current during active mode and method of operation thereof Active JP4851711B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2004382472A JP4851711B2 (en) 2004-12-10 2004-12-10 Static random access memory with reduced leakage current during active mode and method of operation thereof

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2004382472A JP4851711B2 (en) 2004-12-10 2004-12-10 Static random access memory with reduced leakage current during active mode and method of operation thereof

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2006172678A JP2006172678A (en) 2006-06-29
JP2006172678A5 JP2006172678A5 (en) 2010-04-08
JP4851711B2 true JP4851711B2 (en) 2012-01-11

Family

ID=36673233

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2004382472A Active JP4851711B2 (en) 2004-12-10 2004-12-10 Static random access memory with reduced leakage current during active mode and method of operation thereof

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4851711B2 (en)

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62102498A (en) * 1985-10-28 1987-05-12 Toshiba Corp Memory cell power source control circuit for static-type random access memory
JPH11214962A (en) * 1997-11-19 1999-08-06 Mitsubishi Electric Corp Semiconductor integrated circuit device
JP2003123479A (en) * 2001-10-12 2003-04-25 Matsushita Electric Ind Co Ltd Semiconductor memory
JP4167458B2 (en) * 2002-07-24 2008-10-15 松下電器産業株式会社 Semiconductor memory device and semiconductor integrated circuit
JP4388274B2 (en) * 2002-12-24 2009-12-24 株式会社ルネサステクノロジ Semiconductor memory device
JP4290457B2 (en) * 2003-03-31 2009-07-08 株式会社ルネサステクノロジ Semiconductor memory device
JP4101781B2 (en) * 2004-03-23 2008-06-18 株式会社ルネサステクノロジ Semiconductor integrated circuit device

Also Published As

Publication number Publication date
JP2006172678A (en) 2006-06-29

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US7453743B2 (en) Static random access memory device having reduced leakage current during active mode and a method of operating thereof
US8331187B2 (en) Memory with low power mode for write
US7164596B1 (en) SRAM cell with column select line
US7564725B2 (en) SRAM bias for read and write
JP4988588B2 (en) Word line driver circuit for static random access memory
US7742326B2 (en) 8T SRAM cell with higher voltage on the read WL
US8437214B2 (en) Memory cell employing reduced voltage
US6172899B1 (en) Static-random-access-memory cell
CN107093452B (en) SRAM including write assist circuit and method of operating the same
US7385840B2 (en) SRAM cell with independent static noise margin, trip voltage, and read current optimization
US6891745B2 (en) Design concept for SRAM read margin
JP2009505315A (en) SRAM cell having independent read / write circuit
JP2000149547A (en) Semiconductor storage device
JP2004005777A (en) Semiconductor memory device
TW200830318A (en) Memory and method of operating a SRAM memory array
US7020030B2 (en) SRAM cell with horizontal merged devices
US7619947B2 (en) Integrated circuit having a supply voltage controller capable of floating a variable supply voltage
US7248522B2 (en) Sense amplifier power-gating technique for integrated circuit memory devices and those devices incorporating embedded dynamic random access memory (DRAM)
US6678202B2 (en) Reduced standby power memory array and method
US11404112B2 (en) Low-voltage low-power memory device with read, write, hold, and standby assist voltages and operation method thereof
US6731546B2 (en) SRAM power-up system and method
US20040042247A1 (en) Ferroelectric memory
JP4851711B2 (en) Static random access memory with reduced leakage current during active mode and method of operation thereof

Legal Events

Date Code Title Description
A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20071206

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20071206

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20091005

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20091013

A601 Written request for extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601

Effective date: 20100112

A602 Written permission of extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602

Effective date: 20100115

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20100212

A524 Written submission of copy of amendment under article 19 pct

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A524

Effective date: 20100212

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20101206

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20111011

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20111021

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 4851711

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20141028

Year of fee payment: 3

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250