JP4848357B2 - 石膏焼成装置等のための揺動攪拌器 - Google Patents

石膏焼成装置等のための揺動攪拌器 Download PDF

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Description

発明の分野
本発明は、石膏製品を攪拌するための方法及び装置に関する。
発明の背景
石膏の焼成は、硫酸カルシウム二水塩を加熱によってスタッコとして周知の硫酸カルシウム半水化物へ変えることを含む。従来の焼成装置及び方法は様々な形態を成していた。従来、石膏の焼成は、厚いドーム状の底部を有する大型のケトルで行なわれており、このケトルに対してガス燃焼火炎が導かれる。この場合、ケトル及びバーナ火炎は適当な耐熱構造体内に封入されている。通常、関連するホットピットが存在し、このホットピットへと焼成材料が供給される。ケトルは２０００°Ｆ（１０９３．３℃）〜２４００°Ｆ（１３１５．６℃）の温度に耐えなければならず、そのため、一般に１３／４インチ（３３ｃｍ）厚の高価なファイヤボックススチールプレートをそのドーム状の底部に必要とする。米国特許第３，２３６，５０９号はこのタイプの構造を代表している。この手法は、ホットバーナガスの過度の消耗などの多くの欠点を有しており、修理時又はケトル停止時に必要とされる関連する耐火レンガ囲繞体が最初に非常に長い冷却時間を必要としてきた。石膏が焼成された後、時として更なる処理が必要とされる。焼成された石膏又はスタッコは、流動床スタッコ冷却装置内に配置することができる。この場合、スタッコを所定の温度まで冷却するために水が装置内に噴射される。また、冷却コイル流動床スタッコ処理器などの他のタイプのスタッコ処理装置が知られている。この処理器では、スタッコの温度を制御するために装置内に位置された冷却コイルを用いてスタッコが冷却される。石膏系製品の製造においては、後スタッコ処理保持器（ｐｏｓｔ−ｓｔｕｃｃｏ ｔｒｅａｔｍｅｎｔ ｒｅｔｅｎｔｉｏｎ ｄｅｖｉｃｅｓ）などの他の処理装置を使用することができる。
発明の概要
本発明は、上端壁と底壁と少なくとも１つの側壁とを有するハウジングを含む石膏処理装置のための攪拌機構を提供する。ハウジングは、石膏系製品を受けて処理するように構成して配置することができる。流体を石膏系製品へ供給するために攪拌機構を設けることができる。ハウジングの断面と同様の形状の断面を有する攪拌器フレームは、ハウジングの底壁に隣接して設けられて位置される。攪拌器フレームは、第１の位置と第２の位置との間で往復動するためにハウジングの内部に回動可能に接続される。攪拌機構は、石膏を通じた流体のチャネリングを防止して良好な流動化を確保するとともに、石膏製品がハウジングの底壁の近傍に集まることを防止する。攪拌機構は、攪拌器フレームが動作する際に底壁の近傍で石膏製品を攪拌するために攪拌器フレームに接続された複数の攪拌部材を含むことができる。また、攪拌機構は、攪拌器フレームを装置に対して回動可能に接続するための少なくとも１つの回動支持アームを含むこともできる。
攪拌機構は、水噴射を利用する流動化スタッコ冷却器において使用することができる。攪拌機構は、冷却コイルを利用する流動床スタッコ冷却器において使用することができる。また、攪拌機構は、後スタッコ処理保持器において使用することもできる。
石膏系材料を処理装置内で攪拌する方法が提供される。石膏系材料がハウジングに対して供給され、攪拌部材が取り付けられたフレームを有する攪拌機構が、ハウジングの底壁に隣接して位置される。攪拌機構は、第１の位置と第２の位置との間で移動することにより、ハウジング内で流動化された材料を攪拌し、材料がハウジングの底部の近傍で凝固することを防止するとともに、流動化されていない石膏のデッドゾーン及び流体チャネリングを防止する。
本発明の他の用途は、本発明を実施するために考慮される最良の形態の以下の説明を添付図面と併せて読むと、当業者にとって明らかとなる。
発明の詳細な説明
図１を参照すると、石膏を焼成するための装置１０が示されている。ハウジング１２は、底壁１４と、開放上端１６と、底壁１４と開放上端１６との間で延びる複数の側壁１８とを含む。ハウジング１２上には、供給源（図示せず）から破砕された又は合成の生石膏を受け且つ当該石膏をハウジング１２内に送るための流入治具２０が配置されている。ハウジング１２には少なくとも１つのバーナ２２が接続されている。バーナ２２は、強制空気管路２４及び燃料管路２６によって供給された空気−燃料混合物を燃焼するようになっている。バーナ２２は、当業者には既知である任意のタイプのものであってもよいが、一般的には炭化水素系燃料を燃やす。バーナ２２からの熱い排気ガスは、ハウジング１２の底壁１４に隣接する石膏支持ベース２３を貫通して延びる少なくとも１つの曲がりくねった形状のバーナ管路２８を通じて流れる。バーナ２２からの熱い排気ガス流は、石膏材料を約３００°Ｆ（１４８．８９℃）まで加熱するために利用される。既知の方法で、加熱プロセスは石膏を硫酸カルシウム半水化物又はスタッコに変換する。また、加熱プロセスは、湿った合成石膏からの過度な水分を乾燥させてその後に別のプロセスにおいて焼成を行なうために、湿った合成石膏を所望の温度まで、一般的には３００°Ｆ（１４８．８９℃）未満まで簡単に加熱することができる。あるいは、加熱プロセスは、同じ容器内で乾燥プロセス及び焼成プロセスを行なうことができる。
バーナ管路２８は、バーナ２２から離れるように延びる細長い直線部３０を含むことが有益である。この直線部はバーナ管路２８の寿命を延ばす。すなわち、バーナ２２からの火炎が湾曲部又は傾斜部に沿ってバーナ管路２８に直接に作用する場合には、火炎が管路の側壁を過熱してしまい、管路２８の寿命を縮める高い応力を引き起こしてしまう。しかしながら、最初の細長い直線バーナ部分３０（市販の設備では約１５〜２０フィートにわたって延びている可能性がある）の存在により、バーナ火炎はバーナ管路に対して直接に影響を与えない。これは、火炎が部分３０の全長に沿って熱い排気ガスに変わったからである。重要なことに、バーナ管路２８は、直線部３０，３１，３３を接続し且つ蛇行形状を成す複数の湾曲部分３２を含む。排ガス流速を増大させ、それにより管路２８の熱伝達効果を高めるために、バーナ管路２８は少なくとも１つの縮径部分３４を含んでいてもよい。排ガスの温度は、排ガスがバーナ２２から離れる距離に比例して下がるため、適切な熱伝導率を維持するために速度が増大されてもよい。また、バーナ管路２８はマルチ管路部３６を含むこともできる。この場合、比較的小径の複数の管路３８が比較的大径の１本の管路部３２と流体連通するように形成される。小径管路３８は、より大きな表面積を所定の有効流量範囲に与え、それにより、大径管路３２に対する熱伝達を高める。マルチ管路部３６は、溶接、ろう付け、圧入、機械的な締結具などの当業者には既知である様々な手段により１つの管路部分３２に対して接続することができる。バーナ管路２８は、複数のネジ付き締結具４２を用いてフランジ４０によりバーナ２２に取り付けることができる。同様に、バーナ管路２８の排出端部４４は、支持ベース２３を貫通して延びる出口管路４６に対して取り付けることができる。バーナ管路２８は、複数のネジ付き締結具５０を用いてフランジ４８により出口管路４６に取り付けることができる。
図１，２，４，６に示される（図２に最もよく示される）流動化ベース５２は、バーナ管路２８から排ガス流を受けるためにハウジング１２の下部に位置させることができる。流動化ベース５２は、底部５５から上方へ延びる複数の側壁５３を有する。流動化ベース５２は、流動化ベース５２の底部５５の上側に位置される流動化パッド５４を有することができる。流動化パッド５４は、ハウジング１２の支持ベース２３の少なくとも一部を形成する。流動化パッド５４は、ハウジング１２の下部に沿って石膏製品を収容するとともに、排ガス流が流動化ベース５２から石膏へと直接に通り過ぎるときに排ガス流を均一に分配するようになっている。流動化ベース５２は通気を行ない、攪拌により特に凝集粉末の良好な流動化が確保される。凝集粉末は攪拌しなければ流動化しない。流動化パッド５４は第１及び第２の外側有孔プレート５６，５８を含む。プレート５６，５８は、排気ガス流を通過させることができる複数の貫通開口５７を有する。流動化パッド５４には、排ガス流を通過させて流動化ベース５２へと供給するために管路４６（図１参照）にアクセスできるようにボアホール（穿孔）５９が形成されている。外側プレート５６，５８間には、多孔繊維又はステンレス鋼媒体織物から成る少なくとも１つの中間多孔層６０が位置されている。媒体から成る中間層６０は、高い排ガス温度に耐えるために圧縮シリカファイバ、ステンレス鋼メッシュ織物又は当業者に知られるような流動化に適した同様の材料によって形成することができる。有孔プレート５６，５８は、ステンレス鋼などの金属によって形成されることが最も好ましい。流動化パッド５４は、有孔プレート５６の略均一に離間する開口５７を通じて拡散された排ガスが沸き出ることができるようにすることによって作用する。ステンレス鋼媒体６０を使用する１つの利点は、媒体に穴が開かないように支持して保護することを除き有孔プレート５６，５８が不要になるという点である。
図１，３，４，６，７，８，９に示される（図３に最もよく示される）攪拌機構６２は、流動化パッド５４の真上に位置させることができる。攪拌機構６２は、一対のサイドビーム６５を有する攪拌器フレーム６４を含む。攪拌器フレーム６４は、流動化パッド５４の近傍で石膏製品を支持ベース２３に沿って攪拌するために攪拌器フレーム６４に接続された複数の攪拌部材６６を有する。１つの実施形態において、攪拌部材６６はクロスバーパターンの形態を成すことができる。攪拌機構６２は、攪拌器フレーム６４が動かし始められたときに、加熱された石膏製品を局所的に激しくかき回す。少なくとも１つの回動支持アーム６８が攪拌フレーム６４をハウジング１２（図１に示されている）に対して回動可能に接続している。ハウジング１２との接続部には、溶接又は機械的な締結などの適当な方法でハウジング１２に取り付けられたアングルプレート７０を形成することができる。支持アーム６８は、ネジ付き締結具７２等を介してアングルプレート７０に固定することができる。攪拌器フレーム６４に対して動きが与えられる際に共通の回動軸を中心とする攪拌器フレーム６４による揺動動作を更に容易にするため、回動支持アーム６８はケーブル又は同様の構造体であることが最も好ましい。本発明によれば攪拌器フレーム６４による他の動作パターンも考えられる。例えば、当業者であれば、攪拌器フレーム６４に対して垂直に、水平に又はアーチ状パターンで或いはこれらの任意の組み合わせで動作を与える方法を容易に理解できる。
電動機又は空気圧シリンダなどの作動出力源をアクチュエータアーム７６を介して攪拌器フレーム６４に接続することができる。アクチュエータアームの周囲で石膏製品がハウジング１２から漏れ出ないように、拡張可能なシール７８がアクチュータアーム７６及びハウジング１２と係合されている。シール７８は、攪拌器フレーム６４が揺動してアクチュエータアーム７６が第１の位置と第２の位置との間で動作する際に拡張及び収縮する。また、アクチュエータアーム７６は、当業者に知られるようにハウジング１２の上端に位置された作動出力源（図示せず）から攪拌器フレーム６４へと下方に延びることができる機械的なレバレッジリンク（図示せず）に対して接続することができる。シール７８は、３００華氏温度（１４８．８９摂氏温度）よりも高い温度及び最大１０ｐｓｉｇ（ポンド／平方インチゲージ）（約６８．９ｋＰａ）の圧力に耐えることができる任意の適当な材料によって形成することができる。
図１を再び参照すると、ハウジング１２にはオーバーフローチューブ８０が流体接続されており、処理された石膏をハウジング１２からオーバーフローチューブ８０内に排出できるようになっている。石膏が所定の状態まで加熱される前にハウジング１２から出ないように、オーバーフローチューブ８０にはオーバーフローバルブ８２が関連付けられている。ダンプポート８４は、ハウジング１２内の内容物の選択的な排出を可能にするダンプバルブ８６を含む。バルブ８２，８６は、当業者には既知である任意のタイプであってもよいが、電気的に或いは空圧的に作動されることが最も好ましい。
ここで図４を参照すると、設置中にバーナ管路２８を支持するために、ハウジング１２には管路支持体８８がスライド可能に接続されている。支持体８８は、少なくとも部分的にハウジング１２の外側にある外側位置（図４に示される位置）とハウジング１２の内側の設置位置との間でスライドするようになっている。管路支持体８８は、設置中及びハウジング１２からの除去中に管路を保持する。支持体８８は、ハウジング１２の平行壁１８上に形成されたスライド部材９１に対してスライド可能に接続された一対のサイドレール９０，９２を含む。バーナ管路２８をその上に載置するための支持面を形成するため、サイドレール９０，９２間には複数のクロスバー９４が延びている。ハウジング１２は、バーナ管路２８を設置する際に開放するようになっているサイドパネル９６を含む。ハウジング１２が石膏で満たされるときに壁１８が外側に撓まないように、複数のタイ９７がハウジング１２の側壁１８同士を互いに構造的に接続している。タイ９７は、溶接することができ、あるいは、従来の任意の手段により取り付けることができる。
ここで図５を参照すると、装置１０は、バーナ２２や管路２８などの内部部品の修理を行なえるように、ハウジグ１２の側部に配置されたアクセスパネル９８を含む。ハウジング１２の開放上端１６の上側には解放チャンバ（取り外し可能チャンバ）１００が位置されており、この解放チャンバ１００は、ハウジング１２の内部部品を修理するためにアクセスできるように構成されている。石膏粉塵を収集してこの粉塵を焼成のために元のハウジング１２へ再循環させるために、解放チャンバ１００の上側には集塵装置１０２を位置させることができる。集塵装置１０２は、複数の交換可能なフィルタ１０４を含むことができる。フィルタ１０４は、円形カートリッジフィルタやバッグフィルタなどの任意の所望のタイプのものであってもよい。フィルタ１０４は、粉塵が集められる側と反対の側を通じて空気を断続的に注入することにより、あるいは、当業者に知られるように振動させることにより定期的に洗浄することができる。排気筒１０６は、石膏粉塵がフィルタ１０４によって除去された後に排ガスを装置１０から除去することができる。
動作時には、石膏粉末が流入治具２０に供給され、ハンジング１２が満たされる。空気及び燃料が管路２４，２６によってそれぞれバーナ２２に対して供給される。バーナ２２は、空気−燃料混合物を燃焼させるとともに、図６に示される矢印の方向で流れる熱い排ガスを供給する。排ガスは、曲がりくねったバーナ管路２８を通じて流動化ベース５２内へと流れる。排ガスは、流動化ベース５２から水平に流れた後、ベース５２の上側に位置される流動化パッド５４を通じて上方へ流れる。流動化パッド５４は石膏製品を貫くように排ガスを分配させ、それにより、加熱された排ガスは石膏製品を貫いて均一に分配される。バーナ管路２８の外面は、熱を伝導熱移動によって石膏へ供給する。したがって、石膏製品は、排ガスがバーナ管路２８及び石膏を通じて流れる時及び流動化パッド５４を通じて移動した後の両方において加熱される。本発明によれば、二重加熱方法によって排ガスから最大量の熱を取り出すとともにこの熱を石膏に伝えるため、従来技術よりも燃料効率が高まる。排ガスは、石膏粉塵の一部を排ガス流から分離して元のハウジング１２へと落下させることができるようにする解放チャンバ１００を通じて上方へ流れ続ける。集塵装置１０２は、排ガスが排気筒１０６を通じて排出される前に、空気によって運ばれた石膏粉塵を排ガスから取り除く。石膏粉塵は、集塵装置のフィルタカートリッジ（又はバッグ）から元の石膏層へと定期的に払い落とすことができる。
攪拌機構６２は、排ガスが石膏粉末を通じて直接に流れることを防止することにより良好な流動化を確保するべく設けられることが有益である。天然の石膏は、一般に、非常に凝集しているために攪拌しなければ良好な流動化が得られない場合がある細かい粉末を含む。攪拌機構６２は、第１の位置と第２の位置との間で揺動することにより石膏を局所的に混合してそれを流動化パッド５４から掬い取るように動作される。焼成装置１０は、バーナ２２によって生成された熱のほぼ全てが石膏の加熱に利用され排気プロセスにより失われないため、高い効率を有する。石膏製品から出る排ガスの温度は約３００°Ｆ（１４８．８９℃）であり、これは石膏をスタッコへと処理するのに必要なおおよその温度である。標準的な粒径をもって製造される合成石膏は、良好な流動化を確保するために攪拌を必要としないかもしれない。
ここで図７を参照すると、この図には、スタッコを冷却するための散水流動床スタッコ処理器１１０が示されている。熱いスタッコは、入口１１８を通じて散水処理器１１０内に入ることができる。冷却されたスタッコ及び流動化ガスは、出口１１９を通じて出ることができる。散水スタッコ処理器１１０は、攪拌器フレーム６４を有する攪拌機構６２を含む。攪拌機構６２は、一対のサイドビーム６５を有する攪拌器フレーム６４を含む。攪拌器フレーム６４は、支持ベース２３の近傍で石膏製品を攪拌するためにフレーム６４に接続されたクロスバーパターンの形態を成す複数の攪拌部材６６を有する。攪拌機構６２は、フレーム６４が動かし始められるときに、石膏製品を局所的に激しくかき回す。少なくとも１つの回動支持アーム６８が攪拌フレーム６４をスタッコ処理装置１１０に対して回動可能に接続している。装置１１０との接続部には、溶接又は機械的な締結などの適当な方法でハウジングに取り付けられたアングルプレート７０を形成することができる。支持アーム６８は、ネジ付き締結具７２等を介してアングルプレート７０に固定することができる。攪拌器フレーム６４に対して動きが与えられる際に共通の回動軸を中心とする攪拌器フレーム６４による揺動動作を更に容易にするため、回動支持アーム６８はケーブル又は同様の構造体であることが最も好ましい。電動機７４等の電源をアクチュエータアーム７６を介して攪拌器フレーム６４に接続することができる。電動機７４は、回動軸を中心に攪拌機構６２を揺動させるとともに、スタッコを攪拌して、流動化ガスのチャネリング、デッドゾーン、流動床内、特に装置１１０の底部に沿う任意の場所でのビルドアップを防止するために利用できる。ブロワ（図示せず）は、スタッコ処理器１１０に形成された入口１１６を通じて空気等の流体を注入し、これにより、スタッコの流動床が形成され、散水冷却装置１１０の流動化パッド５４の近傍でスタッコが硬化・凝固することが防止される。また、装置１１０は、前述した流動化ベース５２を含むことができる。散水冷却器１１０は、水を複数の噴射ノズル１１４へと供給するためのウォータマニホールド１１２を含む。噴射ノズル１１４は、水を装置１１０内へと噴射し、したがってスタッコを所定の温度まで冷却するようになっている。
ここで図８を参照すると、この図には冷却コイル流動床スタッコ冷却器１２０が示されている。熱いスタッコは、入口１１８を通じて散水処理器１１０内に入ることができる。冷却されたスタッコ及び流動化ガスは、出口１１９を通じて出ることができる。冷却コイルスタッコ処理器１２０は、攪拌器フレーム６４を有する攪拌機構６２を含む。攪拌機構６２は、一対のサイドビーム６５を有する攪拌器フレーム６４を含む。攪拌器フレーム６４は、支持ベース２３の近傍で石膏製品を攪拌するためにフレーム６４に接続された複数の攪拌部材６６を有する。攪拌機構６２は、フレーム６４が動かし始められるときに、石膏製品を局所的に激しくかき回す。少なくとも１つの回動支持アーム６８が攪拌フレーム６４をスタッコ処理装置１２０に対して回動可能に接続している。装置１２０との接続部には、溶接又は機械的な締結などの適当な方法でハウジングに取り付けられたアングルプレート７０を形成することができる。支持アーム６８は、ネジ付き締結具７２等を介してアングルプレート７０に固定することができる。攪拌器フレーム６４に対して動きが与えられる際に共通の回動軸を中心とする攪拌器フレーム６４による揺動動作を更に容易にするため、回動支持アーム６８はケーブル又は同様の構造体であることが最も好ましい。電動機７４等の電源をアクチュエータアーム７６を介して攪拌器フレーム６４に接続することができる。電動機７４は、回動軸を中心に攪拌機構６２を揺動させるとともに、スタッコを攪拌して、装置１１０の底部に沿うビルドアップを防止するために利用できる。ブロワ（図示せず）は、スタッコの流動床を形成するために、スタッコ処理器１２０に形成された入口１２８を通じて空気等の流体を注入し、また、攪拌機構６２は、冷却コイルスタッコ処理器１２０の流動化パッド５４の近傍でスタッコが凝固することを防止する。また、装置１１０は、前述した流動化ベース５２を含むことができる。冷却コイルスタッコ処理器１２０は、エチレングリコールや冷水等の適当な冷却流体をスタッコを貫いて輸送するように構成された蛇行状の冷却コイル１２２を含む。冷却コイル１２２は、供給源（図示せず）から冷却液が流入する冷却液注入口１２４を含む。冷却液は、蛇行コイル１２２を辿って冷却液流出口１２６から出る。冷却液は、冷却コイル１２２を行き来して、スタッコを所定の温度まで冷却する。
ここで、図９を参照すると、この図には後スタッコ処理保持器（ｐｏｓｔ−ｓｔｕｃｃｏ ｔｒｅａｔｍｅｎｔ ｒｅｔｅｎｔｉｏｎ ｄｅｖｉｃｅ）１３０が示されている。スタッコは、入口１１８を通じて散水処理器１１０内に入ることができる。スタッコ及び流動化ガスは、出口１１９を通じて出ることができる。後スタッコ処理保持器１３０は、複数の攪拌部材６６を取り囲む攪拌器フレーム６４を有する攪拌機構６２を含む。攪拌部材６６は、フレーム６４に接続されるとともに、支持ベース２３の近傍で石膏製品を攪拌するようになっている。攪拌機構６２は、フレーム６４が動かし始められるときに、石膏製品を局所的に激しくかき回す。少なくとも１つの回動支持アーム６８が攪拌フレーム６４をスタッコ保持器１３０に対して回動可能に接続している。装置１３０との接続部には、溶接又は機械的な締結などの適当な方法でハウジングに取り付けられたアングルプレート７０を形成することができる。支持アーム６８は、ネジ付き締結具７２等を介してアングルプレート７０に固定することができる。攪拌器フレーム６４に対して動きが与えられる際に共通の回動軸を中心とする攪拌器フレーム６４による揺動動作を更に容易にするため、回動支持アーム６８はケーブル又は同様の構造体であることが最も好ましい。電動機７４等の電源をアクチュエータアーム７６を介してフレーム６４に接続することができる。電動機７４は、回動軸を中心に攪拌機構６２を揺動させるとともに、スタッコを攪拌して、装置１３０の底部に沿うビルドアップを防止するために利用できる。例示的な実施形態では、後スタッコ処理保持器１３０が円形の断面を有するように示されているが、攪拌機構６２に関しては様々な断面形状を使用することができる。後スタッコ処理保持器１３０は、一般に、保持器１３０に形成された入口１３２を通じて加圧空気等の流体を供給するためのブロワ（図示せず）を含む。
以上の文章は本発明の多くの様々な実施形態の詳細な説明を示しているが、本発明の法的な範囲がこの特許の最後に記載された請求項の文言によって規定されることは言うまでもない。詳細な説明は、単なる典型例として解釈されるべきであり、本発明の全ての想定し得る実施形態を説明するものではない。これは、全ての想定し得る実施形態を説明することが不可能ではないが非現実的だからである。現在の技術又はこの特許の出願日後に開発された技術を使用して多くの他の実施形態を実現することができるが、これらの実施形態も本発明を規定する、請求項の範囲内に入る。
高効率焼成装置の斜視図である。 層を示すために部分的に切り取られた流動化パッドの斜視図である。 攪拌機構の斜視図である。 取り付けられた複数のアクセスパネルを示す図１の装置である。 バーナ管路が非設置位置にある状態の図１の装置である。 矢印を用いて加熱ガス流を示す図１の焼成装置の斜視図である。 拡散機構が散水流動床スタッコ冷却器内に位置されている本発明の第２の実施形態の斜視図である。 拡散機構が冷却コイル流動床スタッコ冷却器内に位置されている本発明の第３の実施形態の斜視図である。 拡散機構が後スタッコ処理器内に位置されている本発明の第４の実施形態の斜視図である。

Claims (36)

  1. 底壁と、少なくとも１つの側壁とを有し、粉末石膏を受けて処理するように構成されて配置されたハウジングと、
    流体を石膏系製品に対して供給するための流動化機構と、
    ハウジングの断面と同様の形状の断面を有し、第１の位置と第２の位置との間で往復動するよう接続された攪拌器フレームを備える攪拌機構と、
    を備え、
    攪拌機構が、流動化された石膏製品がハウジングの底壁に隣接する支持ベースに沿って集まることを防止するようになっている、石膏処理装置。
  2. 攪拌機構が、攪拌器フレームが動作する際に支持ベースの近傍で石膏製品を攪拌するために攪拌器フレームに接続された複数の攪拌部材を含む、請求項１に記載の装置。
  3. 往復動が揺動である、請求項１に記載の装置。
  4. 攪拌機構が、攪拌器フレームを装置に接続するための少なくとも１つの回動可能な支持アームを含む、請求項１に記載の装置。
  5. 少なくとも１つの回動可能な支持アームが、その一端がハウジングの内部に回動可能に取り付けられ且つその他端が攪拌器フレームに取り付けられたケーブルであり、攪拌器フレームが、それに対して動きが与えられると、揺動するようになっている、請求項４に記載の装置。
  6. 攪拌機構が、攪拌器フレームを動かすための出力源を含む、請求項１に記載の装置。
  7. 出力源が、電動機及び電動エアーシリンダのうちの一方を含む、請求項６に記載の装置。
  8. ハウジングを貫通して延び、電動機と攪拌器フレームとの間の接続を行なうアクチュエータアームを更に備える、請求項７に記載の装置。
  9. 攪拌機構が、
    アクチュエータアーム及びハウジングと係合して石膏製品がハウジングから漏れることを防止する拡張可能なシールを更に備える、請求項８に記載の装置。
  10. シールが、アクチュエータアームが第１の位置と第２の位置との間で移動するときに拡張及び収縮する、請求項９に記載の装置。
  11. アクチュエータアームが、攪拌機構を電動機に接続するためにハウジングの側壁とスライド可能に係合している、請求項８に記載の装置。
  12. 攪拌器フレームが、矩形断面を有するハウジングに対応している、請求項１に記載の装置。
  13. 攪拌器フレームが、円形断面を有するハウジングに対応している、請求項１に記載の装置。
  14. 攪拌器フレームが、石膏系製品を処理するように構成されて配置された任意の幾何学的断面の１つを有するハウジングに対応している、請求項１に記載の装置。
  15. プロセスが石膏の焼成を含む、請求項１に記載の装置。
  16. 装置が水噴射を利用する流動床スタッコ冷却器である、請求項１に記載の装置。
  17. 装置が冷却コイルを利用する流動床スタッコ冷却器である、請求項１に記載の装置。
  18. 底壁と、少なくとも１つの側壁とを有し、石膏系製品を受けて処理するように構成されて配置されたハウジングを備え、
    ハウジングの断面とほぼ同様の形状の断面を有し、第１の位置と第２の位置との間で往復動するよう接続された攪拌器フレームを備える攪拌機構を備え、攪拌機構が、流動化されていない石膏のデッドゾーン、流体チャネリングを防止するとともに、石膏製品がハウジングの底壁の近傍に集まることを防止するようになっており、
    攪拌器フレームを装置に接続するための少なくとも１つの回動可能な支持アームを備え、少なくとも１つの回動可能な支持アームが、その一端がハウジングの内部に回動可能に取り付けられ且つその他端が攪拌器フレームに取り付けられたケーブルであり、攪拌器フレームが、それに対して動きが与えられると、揺動するようになっている、流動石膏処理装置。
  19. 攪拌機構が、攪拌器フレームが動作する際に底壁の近傍で石膏製品を攪拌するために攪拌器フレームに接続された複数の攪拌部材を含む、請求項１８に記載の装置。
  20. 攪拌部材がクロスバーパターンを備える、請求項１９に記載の装置。
  21. 攪拌機構が、攪拌器フレームを動かすための出力源を含む、請求項１８に記載の装置。
  22. 出力源が、電動機及び空気圧アクチュエータのうちの一方を含む、請求項２１に記載の装置。
  23. ハウジングを貫通して延び、出力源と攪拌器フレームとの間の接続を行なうアクチュエータアームを更に備える、請求項２１に記載の装置。
  24. アクチュエータアームが、攪拌機構を出力源に接続するための複数の機械的なリンクを含む、請求項２３に記載の装置。
  25. 攪拌機構が、
    アクチュエータアーム及びハウジングと係合して石膏製品がハウジングから漏れることを防止する拡張可能なシールを更に備える、請求項２３に記載の装置。
  26. シールが、アクチュエータアームが第１の位置と第２の位置との間で移動するときに拡張及び収縮する、請求項２５に記載の装置。
  27. 攪拌器フレームの断面が、矩形断面を有するハウジングに対応している、請求項１８に記載の装置。
  28. 攪拌器フレームの断面が、円形断面を有するハウジングに対応している、請求項１８に記載の装置。
  29. 攪拌器フレームの断面が、石膏系製品を処理するように構成されて配置された任意の幾何学的断面の１つを有するハウジングに対応している、請求項１８に記載の装置。
  30. プロセスが石膏の焼成を含む、請求項１８に記載の装置。
  31. 装置が水噴射を利用する流動床スタッコ冷却器である、請求項１８に記載の装置。
  32. 装置が冷却コイルを利用する流動床スタッコ冷却器である、請求項１８に記載の装置。
  33. 石膏系材料を攪拌するための方法であって、
    石膏材料を処理するための底壁を有するハウジングを設けるステップと、
    供給源から装置へ材料を送るステップと、
    材料を貫いて流体を流すことにより材料を流動化させるステップと、
    底壁に隣接して第１の位置と第２の位置との間で移動可能な攪拌機構を用いて、流動化された材料を攪拌する攪拌ステップと、
    を備える方法。
  34. ハウジングの底壁に沿って材料が凝固することを防止するステップを更に備える、請求項３３に記載の方法。
  35. 攪拌ステップが、
    混合部材を有する攪拌器フレームを流動化される媒体の近傍に位置させる工程と、
    所定の経路に沿って繰り返し攪拌器フレームを動かす工程と、
    を更に備える、請求項３３に記載の方法。
  36. 材料の任意のデッドゾーンを除去するステップを更に備える、請求項３３に記載の方法。
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