JP4841448B2 - Divided grooved wiring board and manufacturing method thereof - Google Patents

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Description

本発明は、半導体装置や複合電子部品等に用いられる表面に分割溝を設けた分割溝付き配線基板およびその製造方法に関するものである。   The present invention relates to a wiring substrate with divided grooves provided with divided grooves on a surface used for a semiconductor device, a composite electronic component, and the like, and a method for manufacturing the same.

従来から半導体装置や複合電子部品等に分割溝付き配線基板が幅広く用いられている。一般に分割溝付き配線基板の製造方法では、効率よく製造するために、予め、複数の分割溝付き配線基板を集合してなる分割溝付き配線基板の片面もしくは両面に分割溝を形成して、この溝を起点に分割し、複数の分割溝付き配線基板を得る方法が採用されている。   Conventionally, wiring boards with division grooves have been widely used for semiconductor devices, composite electronic components, and the like. In general, in a method of manufacturing a wiring board with divided grooves, in order to efficiently manufacture, a dividing groove is formed on one side or both sides of a wiring board with divided grooves formed by collecting a plurality of wiring boards with divided grooves in advance. A method is used in which a groove is divided as a starting point to obtain a plurality of wiring substrates with divided grooves.

このような分割溝付き配線基板の分割溝の深さは、溝を片面に形成する場合には分割溝付き配線基板1の厚みの20%〜60%程度が必要であるとされており、溝を両面に形成する場合にはその半分の10%〜30%程度が必要であるとされている(例えば、特許文献1を参照)。   The depth of the dividing groove of the wiring substrate with such a dividing groove needs to be about 20% to 60% of the thickness of the wiring substrate 1 with the dividing groove when the groove is formed on one side. Is formed on both sides, about 10% to 30% of that half is required (see, for example, Patent Document 1).

ところで分割溝付き配線基板の寸法精度を改善するために、異なる無機組成物からなり、収縮開始温度が異なる第1絶縁層と第2絶縁層とを積層して分割溝付き配線基板を構成したものが知られている(例えば、特許文献2を参照)。特許文献2によれば、第1絶縁層成形体と第1絶縁層成形体よりも高温で収縮を開始する第2絶縁層成形体とで生積層体を形成することにより、収縮開始温度の低い第1絶縁層が収縮を開始した際は、未焼結状態にある第2絶縁層により面方向における収縮が抑制され、収縮開始温度の高い第2絶縁層が収縮を開始した際は、すでに焼結した第1絶縁層により面方向における収縮が抑制されて、焼成工程における面方向への収縮を抑制することで分割溝付き配線基板の寸法精度を向上させることができる。
特開平10−259063号公報 特開2004−296721号公報
By the way, in order to improve the dimensional accuracy of the wiring substrate with divided grooves, the wiring substrate with divided grooves is formed by laminating the first insulating layer and the second insulating layer made of different inorganic compositions and having different shrinkage start temperatures. Is known (see, for example, Patent Document 2). According to Patent Document 2, a shrinkage start temperature is low by forming a green laminate with a first insulating layer molded body and a second insulating layer molded body that starts shrinking at a higher temperature than the first insulating layer molded body. When the first insulating layer starts to shrink, shrinkage in the surface direction is suppressed by the second insulating layer in an unsintered state, and when the second insulating layer having a high shrinkage start temperature starts shrinking, it is already baked. The shrinkage in the surface direction is suppressed by the bonded first insulating layer, and the dimensional accuracy of the wiring substrate with divided grooves can be improved by suppressing the shrinkage in the surface direction in the firing step.
Japanese Patent Laid-Open No. 10-259063 JP 2004-296721 A

しかしながら、特許文献2に記載された分割溝付き配線基板でも、分割溝を起点に分割するには、分割溝の最表部の開口幅は50〜100μm程度が必要であり、また、片側の分割溝の深さは、基板厚みの10〜30%程度が必要になる。この分割溝付き配線基板は、平面方向の収縮は小さくなるが、厚み方向の収縮は大きくなるため、分割溝も、焼成時には平面方向の収縮は小さいが、厚み方向の収縮は大きくなる。   However, even in the wiring substrate with a dividing groove described in Patent Document 2, in order to divide the dividing groove from the starting point, the opening width of the outermost part of the dividing groove is required to be about 50 to 100 μm, and the division on one side is also performed. The depth of the groove needs to be about 10 to 30% of the substrate thickness. In the wiring substrate with divided grooves, the shrinkage in the plane direction is reduced, but the shrinkage in the thickness direction is increased. Therefore, the shrinkage of the divided grooves is also small in the plane direction during firing, but the shrinkage in the thickness direction is increased.

そのために、分割溝の先端部が、焼成時のセラミック成分の焼結収縮によって変形したり、埋まることになり、基板を分割する際に基板にバリやカケ等の外観不良が発生しやすくなる。   For this reason, the tip of the dividing groove is deformed or buried by sintering shrinkage of the ceramic component during firing, and when the substrate is divided, defects in appearance such as burrs and chips are likely to occur.

つまり、特許文献2に記載された分割溝付き配線基板は、従来の分割溝付き配線基板に比べて、基板厚みの方向に収縮する分だけ、焼成過程での分割溝の先端部の状態に注意する必要がある。   In other words, the wiring substrate with divided grooves described in Patent Document 2 is more careful with the state of the tip of the dividing groove during the baking process than the conventional wiring substrate with divided grooves, as it shrinks in the direction of the substrate thickness. There is a need to.

また、近年では、基板の低コスト化の観点から、分割溝付き配線基板内に出来るだけ多くの製品個片を設けることが求められる。そのために、分割溝を形成する許容エリアも小さくする必要がでてきた。その対策の1つには、分割溝の溝幅を細く形成することだが、特許文献2に記載された分割溝付き配線基板では、分割溝を細く形成した場合には、分割溝の先端部も細くなり、焼成時に、分割溝の先端部が埋まる、変形する程度が大きくなり、外観不良が多くなる傾向があった。   Further, in recent years, it is required to provide as many product pieces as possible in a wiring substrate with divided grooves from the viewpoint of cost reduction of the substrate. Therefore, it has become necessary to reduce the allowable area for forming the dividing grooves. One of the countermeasures is to make the groove width of the dividing groove narrow. However, in the wiring board with the dividing groove described in Patent Document 2, when the dividing groove is formed thin, the tip of the dividing groove is also formed. There was a tendency for the thinned portion to fill the tip of the dividing groove during firing, to a greater degree of deformation, and to increase appearance defects.

これを改善する方策として、焼成後の基板をダイシング加工して、分割溝を形成する等の手法もあるが、コストが高くなるという課題がある。   As a measure for improving this, there is a method of forming a dividing groove by dicing the substrate after firing, but there is a problem that the cost becomes high.

本発明は上記欠点に鑑み案出されたもので、焼成開始温度の異なる絶縁層を積層して構成され、細い、あるいは浅い分割溝を形成した場合でも、分割不良の発生を抑制した分割溝付き配線基板およびその製造方法を提供することにある。   The present invention has been devised in view of the above-described drawbacks, and is formed by laminating insulating layers having different firing start temperatures, and even when a thin or shallow dividing groove is formed, with a dividing groove that suppresses the occurrence of division defects. It is to provide a wiring board and a manufacturing method thereof.

本発明の分割溝付き配線基板は、焼結した第1絶縁層および該第1絶縁層よりも高い温度で収縮開始して焼結した第2絶縁層とからなる絶縁基体と、配線層とを備えた配線基板領域が、分割溝が形成された分割領域を介して複数集合した分割溝付き配線基板であって、前記分割領域の絶縁層のガラス量が、前記配線基板領域の絶縁層のガラス量よりも多いことを特徴とする。   The wiring substrate with divided grooves according to the present invention includes a wiring substrate and an insulating substrate composed of a sintered first insulating layer, a second insulating layer that starts shrinking at a higher temperature than the first insulating layer, and is sintered. The provided wiring board region is a wiring substrate with divided grooves assembled through a divided region in which divided grooves are formed, and the glass amount of the insulating layer in the divided region is equal to the glass of the insulating layer in the wiring substrate region. It is characterized by being larger than the amount.

本発明の分割溝付き配線基板の製造方法は、第1グリーンシートおよび該第1グリーンシートよりも収縮開始温度の高い第2グリーンシートの少なくとも一方の表面のうち、焼成後に分割領域となる表面にガラス粉末を含有するガラスペーストまたはガラスシートを配置する工程と、前記ガラスペーストまたは前記ガラスシートを配置した前記第1グリーンシートおよび前記第2グリーンシートを積層して積層体を作製する工程と、前記積層体の焼成後に分割領域となる表面に分割溝を形成する工程と、前記分割溝を設けた前記積層体を熱処理して前記ガラスペーストまたは前記ガラスシートに含まれる前記ガラス粉末を軟化させ、該ガラス粉末が軟化したガラス成分を前記第1グリーンシートおよび前記第2グリーンシートの少なくとも一方に浸透させる工程と、しかる後前記第1グリーンシートおよび前記第2グリーンシートを焼結させる工程とを具備することを特徴とする。   The method for manufacturing a wiring substrate with divided grooves according to the present invention includes a first green sheet and a second green sheet having a shrinkage start temperature higher than that of the first green sheet on a surface that becomes a divided region after firing. A step of arranging a glass paste or glass sheet containing glass powder, a step of laminating the first green sheet and the second green sheet on which the glass paste or the glass sheet is arranged, and producing a laminate, A step of forming a split groove on a surface to be a divided region after firing the laminate, and heat-treating the laminate provided with the split groove to soften the glass powder contained in the glass paste or the glass sheet, The glass component in which the glass powder is softened is at least one of the first green sheet and the second green sheet. Wherein the step of infiltrating, by comprising a step of sintering thereafter the first green sheet and the second green sheet.

本発明の分割溝付き配線基板によれば、分割領域の絶縁層のガラス量を配線基板が形成された配線基板領域の絶縁層のガラス量よりも多くすることで、分割領域が割れやすくなるため、分割領域に形成された分割溝で分割しやすくなる。そのため、従来よりも幅の狭い分割溝を形成することも可能となる。   According to the wiring substrate with divided grooves of the present invention, the divided region is easily broken by increasing the glass amount of the insulating layer in the divided region more than the glass amount of the insulating layer in the wiring substrate region where the wiring substrate is formed. It becomes easy to divide by the dividing groove formed in the divided region. For this reason, it is possible to form a dividing groove that is narrower than the conventional one.

また、本発明の分割溝付き配線基板の製造方法によれば、分割領域の絶縁層のガラス量を配線基板が形成された配線基板領域の絶縁層のガラス量よりも多くすることができるため、分割溝で分割しやすい分割溝付き配線基板を容易に作製することができる。   Further, according to the method for manufacturing a wiring substrate with divided grooves of the present invention, the glass amount of the insulating layer in the divided region can be made larger than the glass amount of the insulating layer in the wiring substrate region where the wiring substrate is formed. A wiring substrate with divided grooves that can be easily divided by the divided grooves can be easily manufactured.

図1に示すように、本発明の分割溝付き配線基板1は、収縮開始温度の異なる、それぞれ焼結した第1絶縁層3と第2絶縁層5との積層体の表面に分割溝7が形成され、表面また内部の少なくとも一方に配線回路(図示せず)が配置されて構成されている。   As shown in FIG. 1, the divided grooved wiring board 1 according to the present invention has divided grooves 7 on the surface of the laminated body of the first insulating layer 3 and the second insulating layer 5, which have different shrinkage start temperatures. A wiring circuit (not shown) is formed on at least one of the surface and the inside.

この分割溝付き配線基板1の分割溝7の形成された領域が分割領域9であり、この分割領域9で囲まれた部分が、配線基板11が形成された配線基板領域13である。   A region where the division groove 7 of the wiring substrate 1 with the division groove is formed is a division region 9, and a portion surrounded by the division region 9 is a wiring substrate region 13 where the wiring substrate 11 is formed.

本発明の分割溝付き配線基板1によれば、分割領域9の絶縁層のガラス量が配線基板領域13の絶縁層のガラス量よりも多いことが重要である。   According to the wiring substrate 1 with divided grooves of the present invention, it is important that the glass amount of the insulating layer in the divided region 9 is larger than the glass amount of the insulating layer in the wiring substrate region 13.

ガラス量の多い絶縁層は、ガラス量の少ない絶縁層よりも破壊に対する抵抗力が小さく、割れやすいものとなる。そのため、配線基板領域13の絶縁層よりもガラス量が多い分割領域9を備えた本発明の分割溝付き配線基板1は、分割溝7で容易に個片に分割することができ、分割溝7の幅を小さくしたり、分割溝7の深さを浅くしても容易に分割することが可能となる。   An insulating layer with a large amount of glass has a lower resistance to breakage than an insulating layer with a small amount of glass, and is easily broken. Therefore, the divided grooved wiring board 1 of the present invention having the divided region 9 having a larger glass amount than the insulating layer of the wiring substrate region 13 can be easily divided into individual pieces by the divided groove 7. Even if the width of the groove is reduced or the depth of the dividing groove 7 is reduced, it can be easily divided.

そして、このような分割領域9の絶縁層のガラス量が配線基板領域13の絶縁層のガラス量よりも多い分割溝付き配線基板1は、以下の製造方法で容易に作製することができる。   And the wiring board 1 with a division | segmentation groove | channel where the glass amount of such an insulating layer of the division area 9 is larger than the glass quantity of the insulation layer of the wiring board area | region 13 can be easily produced with the following manufacturing methods.

まず、図2(a)、(b)に示すように、焼成後に第1の絶縁層3となる第1のグリーンシート13と、この第1のグリーンシート13よりも収縮開始温度が高く、焼成後に第2の絶縁層5となる第2のグリーンシート15を準備する。   First, as shown in FIGS. 2A and 2B, the first green sheet 13 that becomes the first insulating layer 3 after firing, and the shrinkage start temperature is higher than that of the first green sheet 13, and firing is performed. A second green sheet 15 to be the second insulating layer 5 later is prepared.

これらの第1のグリーンシート13および第2のグリーンシート15は、例えば、ガラス粉末とセラミック粉末とを組み合わせた無機組成物の粉末に、有機バインダーと有機溶剤及び必要に応じて可塑剤とを混合してスラリー化し、このスラリーを用いてドクターブレード法などによりテープ成形を行い、所定寸法に切断することによって作製することができる。   These first green sheet 13 and second green sheet 15 are, for example, an organic binder, an organic solvent, and, if necessary, a plasticizer mixed with a powder of an inorganic composition obtained by combining glass powder and ceramic powder. The slurry can be made into a slurry, tape-molded by the doctor blade method using this slurry, and cut into a predetermined size.

つぎに、図2(c)に示すように、第1のグリーンシート13および第2のグリーンシート15の少なくとも一方の表面のうち分割領域となる表面に、ガラス粉末を含有するガラスペースト17を塗布する。   Next, as shown in FIG. 2 (c), a glass paste 17 containing glass powder is applied to the surface to be a divided region of at least one surface of the first green sheet 13 and the second green sheet 15. To do.

または、このガラスペーストを用いずに、図2(d)に示すように、例えばシート状に形成されたガラス粉末を含有するガラスシート19を積層してもよい。   Or you may laminate | stack the glass sheet 19 containing the glass powder formed in the sheet form, for example, as shown in FIG.2 (d), without using this glass paste.

ガラスペースト17は、ガラス粉末とバインダー、溶剤とを適宜混合したものを用いればよい。また、ガラスシート19は、ガラス粉末とバインダー、溶剤とを適宜混合したスラリーを用いて、ドクターブレード法などによりテープ成形を行い、所定寸法に切断することによって作製することができる。   The glass paste 17 may be obtained by appropriately mixing glass powder, a binder, and a solvent. Moreover, the glass sheet 19 can be produced by performing tape molding by a doctor blade method or the like using a slurry in which glass powder, a binder, and a solvent are appropriately mixed, and cutting the slurry into predetermined dimensions.

つぎに、図3(e)、(f)に示すように、ガラスペースト17またはガラスシート19を備えた第1のグリーンシート13および第2のグリーンシート15に対して、金型による打ち抜き等の方法を用いて貫通孔21を形成し、その貫通孔21内に導体ペーストを充填してビアホール導体23を形成する。なお、図3(e)以降の工程では、ガラスペースト17を用いたものについて説明する。   Next, as shown in FIGS. 3E and 3F, the first green sheet 13 and the second green sheet 15 provided with the glass paste 17 or the glass sheet 19 are punched by a mold or the like. A through hole 21 is formed using a method, and a conductor paste is filled in the through hole 21 to form a via hole conductor 23. In addition, the process using glass paste 17 is demonstrated in the process after FIG.3 (e).

次に、図3(g)、(h)に示すように、第1のグリーンシート13および第2のグリーンシート15の主面に導体ペーストをスクリーン印刷法などによって被着させて配線パターン25を形成する。   Next, as shown in FIGS. 3G and 3H, a conductive paste is deposited on the main surfaces of the first green sheet 13 and the second green sheet 15 by screen printing or the like to form a wiring pattern 25. Form.

ビアホール導体23や配線パターン25の材料は、例えば、銀粉末に、有機バインダとしてエチルセルロース、有機溶剤として2−2−4−トリメチル−3−3−ペンタジオールモノイソブチレートを添加してなるペーストを用いることができる。   The material of the via-hole conductor 23 and the wiring pattern 25 is, for example, a paste formed by adding ethyl cellulose as an organic binder and 2-2-4-trimethyl-3-3-pentadiol monoisobutyrate as an organic solvent to silver powder. Can be used.

次に、図4(i)に示すように、ビアホール導体23と配線パターン25とを形成した第1のグリーンシート13と第2のグリーンシート15とを、所定の積層順序に応じて積層して、積層体27を形成する。なお、図4(i)以降の図では、ビアホール導体23と配線パターン25は記載を省略する。この積層体27の作製においては、配線基板領域13に濡れ広がることを防止するために、ガラスペースト17は積層体27の表面に露出させず、第1のグリーンシート13と第2のグリーンシート15との界面に配置することが望ましい。   Next, as shown in FIG. 4 (i), the first green sheet 13 and the second green sheet 15 on which the via-hole conductor 23 and the wiring pattern 25 are formed are stacked in accordance with a predetermined stacking order. Then, the laminated body 27 is formed. In FIG. 4I and subsequent figures, the via hole conductor 23 and the wiring pattern 25 are not shown. In the production of the laminate 27, the glass paste 17 is not exposed on the surface of the laminate 27 in order to prevent the wiring substrate region 13 from being wet and spread, and the first green sheet 13 and the second green sheet 15. It is desirable to arrange at the interface.

次に、図4(j)に示すように、得られた積層体27の片面もしくは両面に、切刃(図示せず)を用いて、積層体27のガラスペースト17を配置した分割領域9となる領域に分割溝7を形成する。   Next, as shown in FIG. 4 (j), the divided region 9 in which the glass paste 17 of the laminate 27 is arranged on one or both sides of the obtained laminate 27 using a cutting blade (not shown) and A dividing groove 7 is formed in the region to be formed.

そして、分割溝7を形成した積層体27を焼成することで、焼成過程において、ガラスペースト17に含まれるガラス粉末が第1のグリーンシート13と第2のグリーンシート15に濡れ広がり、分割領域9のガラス量が配線基板領域13のガラス量よりも多い、図1に示すような本発明の分割溝付き配線基板1を作製することができる。   Then, by firing the laminated body 27 in which the divided grooves 7 are formed, the glass powder contained in the glass paste 17 wets and spreads on the first green sheet 13 and the second green sheet 15 in the firing process, and the divided regions 9. 1 can be produced, as shown in FIG. 1, in which the amount of glass is larger than the amount of glass in the wiring substrate region 13.

このように、ガラスを第1のグリーンシート13や第2のグリーンシート15に浸透させるため、分割領域9の中でもガラス量の分布は発生するが、その場合であっても十分に分割性を向上させることができる。   As described above, since the glass is infiltrated into the first green sheet 13 and the second green sheet 15, the distribution of the glass amount is generated in the divided region 9, but even in that case, the division property is sufficiently improved. Can be made.

本発明の分割溝付き配線基板の製造方法においては、ガラスペースト17およびガラスシート19に用いるガラス粉末は、第2のグリーンシート15の収縮開始温度よりも低い軟化点を有するものであることが重要である。   In the method for manufacturing a wiring board with divided grooves of the present invention, it is important that the glass powder used for the glass paste 17 and the glass sheet 19 has a softening point lower than the shrinkage start temperature of the second green sheet 15. It is.

すなわち、グリーンシートのうち、収縮開始温度が高い第2のグリーンシート15の収縮開始温度において、すでに軟化しているガラス粉末を用いることで、緻密化していない第2のグリーンシート15にガラス粉末が軟化して移動することができるため、分割領域9の第2の絶縁層5のガラス量を増加させることができる。   That is, among the green sheets, by using the glass powder that has already been softened at the shrinkage start temperature of the second green sheet 15 having a high shrinkage start temperature, the glass powder is applied to the second green sheet 15 that has not been densified. Since it can move by being softened, the glass amount of the second insulating layer 5 in the divided region 9 can be increased.

また、さらにガラスペースト17およびガラスシート19に用いるガラス粉末として、第1のグリーンシート13の収縮開始温度よりも低い軟化点を有するガラス粉末を用いた場合には、第1のグリーンシート13および第2のグリーンシート15が収縮を開始する前にガラス粉末が軟化するため、緻密化していない第1のグリーンシート13および第2のグリーンシート15にガラス粉末が軟化して移動することができるため、分割領域9の第1の絶縁層3および第2の絶縁層5のガラス量を増加させることができる。   Further, when glass powder having a softening point lower than the shrinkage start temperature of the first green sheet 13 is used as the glass powder used for the glass paste 17 and the glass sheet 19, the first green sheet 13 and the first green sheet 13 Since the glass powder softens before the second green sheet 15 starts to shrink, the glass powder can soften and move to the first green sheet 13 and the second green sheet 15 that are not densified. The glass amount of the first insulating layer 3 and the second insulating layer 5 in the divided region 9 can be increased.

なお、この焼成にあたって、第1および第2のグリーンシート13、15のうち収縮開始温度の低い方のグリーンシートの収縮開始温度よりも高く、第1および第2のグリーンシート13、15のうち収縮開始温度の高い方のグリーンシートの収縮開始温度よりも低い温度で一旦加熱し、収縮開始温度の低い方のグリーンシートの無機組成物をその面方向に比べて厚み方向に大きく収縮させ、しかる後、積層体27を、第1および第2のグリーンシート13、15のうち収縮開始温度の高い方のグリーンシートの収縮開始温度よりも高い温度でさらに加熱して収縮開始温度の高い方のグリーンシートの無機組成物をその面方向に比べて厚み方向に大きく収縮させることで平面方向の収縮および収縮バラツキが抑制された分割溝付き配線基板1を作製することができる。   In this firing, the first and second green sheets 13 and 15 have a lower shrinkage start temperature than the lower one, and the first and second green sheets 13 and 15 shrink. Once heated at a temperature lower than the shrinkage start temperature of the green sheet with the higher start temperature, the inorganic composition of the green sheet with the lower shrinkage start temperature is shrunk greatly in the thickness direction compared to the surface direction, and then The laminated body 27 is further heated at a temperature higher than the contraction start temperature of the green sheet having the higher contraction start temperature of the first and second green sheets 13 and 15, and the green sheet having the higher contraction start temperature. Wiring board 1 with divided grooves in which shrinkage and shrinkage variation in the plane direction are suppressed by greatly shrinking the inorganic composition in the thickness direction as compared with the surface direction. It can be produced.

また、この焼成工程の後に、必要に応じ、めっきを施し、電気素子を搭載するなどした後、分割溝付き配線基板1を分割溝7に沿って配線基板領域13ごとに、個片に分割することにより、平坦で寸法精度の高い配線基板11が得られる。   In addition, after this firing step, if necessary, after plating and mounting an electric element, the wiring substrate 1 with divided grooves is divided into individual pieces along the dividing grooves 7 for each wiring substrate region 13. As a result, the wiring substrate 11 which is flat and has high dimensional accuracy is obtained.

尚、本発明は上述の実施形態に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲内で種々の変更、改良等が可能である。   In addition, this invention is not limited to the above-mentioned embodiment, A various change, improvement, etc. are possible within the range which does not deviate from the summary of this invention.

例えば、第2のグリーンシート3の表面に第1のグリーンシート13となるスラリーをドクターブレード法等により塗布して直接形成するようにしても良い。この場合には、貫通孔21は、第1のグリーンシート13と第2のグリーンシート15とを一体的に打ち抜いて形成すればよい。このような場合には、例えば第1のグリーンシート13の厚みを第2のグリーンシート15に比べて容易に薄く形成することができる。   For example, the slurry that becomes the first green sheet 13 may be applied directly to the surface of the second green sheet 3 by a doctor blade method or the like. In this case, the through hole 21 may be formed by integrally punching the first green sheet 13 and the second green sheet 15. In such a case, for example, the thickness of the first green sheet 13 can be easily made thinner than that of the second green sheet 15.

また、厚みが50μm以下の薄いグリーンシートを用いる場合には、PETフィルム等の上にグリーンシートを形成し、PETフィルムごと打ち抜いて貫通孔21を形成してもよい。   Further, when a thin green sheet having a thickness of 50 μm or less is used, the through hole 21 may be formed by forming a green sheet on a PET film or the like and punching out the whole PET film.

なお、第1および第2のグリーンシート13、15に形成したビアホール導体23と配線パターン25は、分割溝7の無い領域に配置され、焼成後に配線回路を形成する。   The via-hole conductor 23 and the wiring pattern 25 formed on the first and second green sheets 13 and 15 are arranged in a region without the dividing groove 7 and form a wiring circuit after firing.

本発明の分割溝付き配線基板1の製造方法で用いる第1のグリーンシート13は、セラミック粉末とバインダーとを含有するもので、このセラミック粉末としては、例えば800℃〜1200℃の比較的低い温度で焼成が可能なガラス−セラミック材料が好適に用いられ、その厚みは、例えば2〜150μmに設定に設定することが望ましい。このガラス−セラミック材料にはガラス粉末及びセラミック粉末が含まれる。   The 1st green sheet 13 used with the manufacturing method of the wiring board 1 with a division | segmentation groove | channel of this invention contains ceramic powder and a binder, As this ceramic powder, comparatively low temperature, for example, 800 to 1200 degreeC. A glass-ceramic material that can be fired at 1 is preferably used, and the thickness is preferably set to 2 to 150 μm, for example. This glass-ceramic material includes glass powder and ceramic powder.

また、第2のグリーンシート15は、セラミック粉末とバインダーとを含有するもので、このセラミック粉末としては、例えば800℃〜1200℃の比較的低い温度で焼成が可能なガラス−セラミック材料が好適に用いられ、その厚みは、例えば10〜3000μmに設定に設定することが望ましい。このガラス−セラミック材料にはガラス粉末及びセラミック粉末が含まれる。   The second green sheet 15 contains a ceramic powder and a binder, and as this ceramic powder, for example, a glass-ceramic material that can be fired at a relatively low temperature of 800 ° C. to 1200 ° C. is suitable. It is desirable that the thickness be set to 10 to 3000 μm, for example. This glass-ceramic material includes glass powder and ceramic powder.

また、第1のグリーンシート13および第2のグリーンシート15は、ガラス粉末30〜100重量%とセラミック粉末0〜70%重量%からなることが望ましい。   The first green sheet 13 and the second green sheet 15 are preferably composed of 30 to 100% by weight of glass powder and 0 to 70% by weight of ceramic powder.

用いるガラス粉末の具体的な組成としては、例えば、必須成分として、SiOを10〜70質量%、Alを0.5〜30質量%、MgOを3〜60質量%、また任意成分として、CaOを0〜35質量%、BaOを0〜35質量%、SrOを0〜35質量%、Bを0〜20質量%、ZnOを0〜30質量%、TiOを0〜10質量%、NaOを0〜3質量%、LiOを0〜5質量%含有し、セラミック粉末としては、Al、SiO、MgTiO、CaZrO、CaTiO、MgSiO、BaTi、ZrTiO、SrTiO、BaTiO、TiOから選ばれる1種以上であることが望ましい。 As a specific composition of the glass powder to be used, for example, as essential components, SiO 2 is 10 to 70% by mass, Al 2 O 3 is 0.5 to 30% by mass, MgO is 3 to 60% by mass, and optional components as, CaO 0 to 35 wt%, a BaO 0-35 wt%, the SrO 0 to 35 wt%, B 2 O 3 0 to 20 wt%, the ZnO 0 to 30 wt%, the TiO 2 0 to 10% by mass, 0 to 3% by mass of Na 2 O, 0 to 5% by mass of Li 2 O, and as ceramic powder, Al 2 O 3 , SiO 2 , MgTiO 3 , CaZrO 3 , CaTiO 3 , Mg 2 It is desirable that it is at least one selected from SiO 4 , BaTi 4 O 9 , ZrTiO 4 , SrTiO 3 , BaTiO 3 and TiO 2 .

このような組成のガラス粉末とセラミック粉末との組み合わせによれば、誘電率の制御も可能であり、高誘電率化による回路の小型化、低損失化、あるいは、低誘電率化による高速伝送化に適している。しかも、上記の範囲で種々組成を制御することによって、焼成収縮挙動を容易に制御、変更することができる。また、1000℃以下での低温焼結が可能となるとともに、配線パターン及びビアホール導体として、銀(融点960℃)、銅(融点1083℃)、金(融点1063℃)などの低抵抗導体を用いて形成することが可能となり、低損失な回路を作製できる。   The combination of glass powder and ceramic powder with such a composition allows the dielectric constant to be controlled, and it is possible to reduce the size and loss of the circuit by increasing the dielectric constant, or to increase the transmission speed by reducing the dielectric constant. Suitable for In addition, by controlling various compositions within the above range, the firing shrinkage behavior can be easily controlled and changed. In addition, low-temperature sintering at 1000 ° C. or lower is possible, and low resistance conductors such as silver (melting point 960 ° C.), copper (melting point 1083 ° C.), gold (melting point 1063 ° C.) are used as wiring patterns and via-hole conductors. Therefore, a low loss circuit can be manufactured.

この積層された第1の絶縁層と第2の絶縁層とは、焼成過程において、互いに分割溝付き配線基板の面方向における収縮を抑制し合うように機能して、面方向における収縮を小さくすることができる。この収縮が小さいほど、収縮バラツキの量を小さくすることができるのである。   The laminated first insulating layer and second insulating layer function so as to suppress shrinkage in the surface direction of the wiring substrate with divided grooves in the firing process, thereby reducing shrinkage in the surface direction. be able to. The smaller the shrinkage, the smaller the amount of shrinkage variation.

また、本発明の分割溝付き配線基板は、表面に形成された分割溝7によって、分割溝付き配線基板を個片に分割することができる。すなわち、分割溝付き配線基板は、複数の配線基板が集合したものであり、分割溝7に沿って容易に分割できるものである。   Moreover, the wiring board with a division | segmentation groove | channel of this invention can divide | segment a wiring board with a division | segmentation groove | channel into the piece by the division | segmentation groove | channel 7 formed in the surface. In other words, the wiring substrate with division grooves is a collection of a plurality of wiring substrates and can be easily divided along the division grooves 7.

なお、第1のグリーンシート13を焼成して得られた第1の絶縁層及び第3のグリーンシート15を焼成して得られた第2の絶縁層からなる積層焼結体の表層及び内部には、配線やビアホール導体など(図示せず)が形成されている。表層の配線パターンは、主に電子部品素子の搭載部となる接続パッドとして機能し、絶縁層間に介在する内部の配線は、主に各回路素子を電気的に接続する配線や、インダクタ・キャパシタ等の回路素子として機能する。表層の配線と内部の配線、若しくは異なる絶縁層間に介在する内部の配線同士は、ビアホール導体により電気的に接続される。   In addition, in the surface layer of the laminated sintered body which consists of the 1st insulating layer obtained by baking the 1st green sheet 13, and the 2nd insulating layer obtained by baking the 3rd green sheet 15, and the inside Wiring, via-hole conductors and the like (not shown) are formed. The wiring pattern on the surface layer mainly functions as a connection pad for mounting the electronic component elements, and the internal wiring interposed between the insulating layers mainly includes wiring for electrically connecting each circuit element, inductor, capacitor, etc. Functions as a circuit element. A surface layer wiring and an internal wiring, or an internal wiring interposed between different insulating layers are electrically connected by a via-hole conductor.

配線及びビアホール導体の材質としては、銀、銅、金等の上記低抵抗導体材料のいずれか一種を含む導電材料からからなる。配線パターンは、厚みが例えば5〜25μmに設定される。ビアホール導体は、直径を任意に設定可能であり、ビアホール導体が埋設される絶縁層の厚みが10〜300μmの場合、ビアホール導体の直径は例えば50〜300μmに設定される。   The wiring and via-hole conductors are made of a conductive material including any one of the low-resistance conductor materials such as silver, copper, and gold. The wiring pattern is set to have a thickness of 5 to 25 μm, for example. The diameter of the via hole conductor can be arbitrarily set. When the thickness of the insulating layer in which the via hole conductor is embedded is 10 to 300 μm, the diameter of the via hole conductor is set to 50 to 300 μm, for example.

表1に示す収縮開始温度の異なる組成物A、Bに、それぞれ有機バインダーとしてエチルセルロースと、有機溶剤として2−2−4−トリメチル−3−3−ペンタジオールモノイソブチレートを添加してスラリーを調製し、これをドクターブレード法により薄層化し、基板用の50μmの厚みのグリーンシートを作製した。   To compositions A and B having different shrinkage start temperatures shown in Table 1, ethyl cellulose as an organic binder and 2-2-4-trimethyl-3-3-pentadiol monoisobutyrate as an organic solvent were added, respectively, to prepare a slurry. This was prepared and thinned by a doctor blade method to produce a green sheet having a thickness of 50 μm for a substrate.

表2に示す軟化点を有する平均粒径5μmのガラス粉末と有機バインダーと溶剤とを混合してガラスペーストを作製した。   Glass paste having a softening point shown in Table 2 and an average particle diameter of 5 μm, an organic binder, and a solvent were mixed to prepare a glass paste.

次に、作製したグリーンシートの分割領域となる表面に乾燥後に、幅30μm、厚さ20μmとなるようにガラスペーストを塗布した。   Next, a glass paste was applied to the surface to be a divided region of the produced green sheet after drying so that the width was 30 μm and the thickness was 20 μm.

そして、ガラスペーストを塗布したグリーンシートの所定の位置にパンチング等により貫通孔を形成し、この貫通孔にAg粉末を含む導電性ペーストを充填し、またこの導電性ペーストをスクリーン印刷して所定の内層導体層を印刷形成し、乾燥させた。   Then, a through hole is formed by punching or the like at a predetermined position of the green sheet coated with the glass paste, and the conductive paste containing Ag powder is filled into the through hole, and this conductive paste is screen-printed to obtain a predetermined hole. The inner conductor layer was printed and dried.

一方、最外層であって最上層、最下層となるグリーンシートに、表面導体層のパターンで上記の導電性ペーストをスクリーン印刷し、乾燥させた。   On the other hand, the above conductive paste was screen-printed with the pattern of the surface conductor layer on the green sheet which is the outermost layer, which is the uppermost layer and the lowermost layer, and was dried.

導電性ペーストが充填され、所定形状の導体が形成されたグリーンシートを表2に示す組合せで積層するとともに、最上層及び最下層に、表層導体となる導体膜形成したグリーンシートを積層し、積層体を作製した。そして、この積層体の両面に刃身を押し当てる深さを調整し、表2に示すように積層体の表面あるいは表裏面に分割溝の幅の最大径が異なる試料を各10個ずつ作製した。   A green sheet filled with a conductive paste and formed with a conductor having a predetermined shape is laminated in the combination shown in Table 2, and a green sheet having a conductor film formed as a surface layer conductor is laminated on the uppermost layer and the lowermost layer. The body was made. And the depth which presses a blade on both surfaces of this laminated body was adjusted, and as shown in Table 2, 10 samples each having different maximum diameters of the width of the dividing groove were produced on the front surface or the back surface of the laminated body. .

なお、積層体の作製にあたっては、ガラスペーストが積層体の表面に析出しないようにグリーンシート同士の界面にのみガラスペーストを配置した。   In preparing the laminate, the glass paste was disposed only at the interface between the green sheets so that the glass paste did not precipitate on the surface of the laminate.

この後、大気中400℃で脱バインダー処理し、さらに、910℃で焼成し、全てのグリーンシートが焼結された絶縁層となり、種々の深さの分割溝が形成されたような分割溝付き配線基板を作製した。尚、第1絶縁層の厚みおよび第2絶縁層の厚みは表2に示す厚みであった。また、分割溝付き配線基板の大きさは、縦10mm、横10mmで表2に示す厚みであった。   After this, the binder is removed at 400 ° C. in the atmosphere, and further baked at 910 ° C. to form an insulating layer in which all the green sheets are sintered. A wiring board was produced. In addition, the thickness of the 1st insulating layer and the thickness of the 2nd insulating layer were the thickness shown in Table 2. In addition, the size of the wiring substrate with divided grooves was 10 mm in length and 10 mm in width and the thickness shown in Table 2.

なお、ガラスの含有量は、試料のガラスの結晶化度を内部標準資料にZnOを用いたリートベルト法から求めて算出した。   The glass content was calculated by obtaining the crystallinity of the sample glass from the Rietveld method using ZnO as an internal standard material.

尚、焼成の前後においてグリーンシートの積層体と焼成後の分割溝付き配線基板に対して、所定のポイント間の長さを測定して、分割溝付き配線基板の面方向の収縮率を測定した。なお、各試料についてそれぞれ収縮率を測定し、10個の試料の収縮率の平均値として評価した。その結果、本発明の分割溝付き配線基板の収縮バラツキはいずれも0.5%以下であり、優れたものであった。   Before and after firing, the length between the predetermined points was measured for the green sheet laminate and the fired divided grooved wiring board, and the shrinkage in the surface direction of the divided grooved wiring board was measured. . In addition, shrinkage | contraction rate was measured about each sample, respectively, and it evaluated as an average value of the shrinkage | contraction rate of ten samples. As a result, the shrinkage variation of the wiring substrate with divided grooves of the present invention was 0.5% or less, which was excellent.

また、個片に分割して得た個々の分割溝付き配線基板を目視型顕微鏡にて分割溝に沿って分割されているかどうかを確認して分割性を確認した。   Moreover, it was confirmed whether each wiring board with a division | segmentation groove | channel obtained by dividing | segmenting into an individual piece was divided | segmented along the division | segmentation groove | channel with the visual microscope.

また、ガラスシートと第1絶縁層及び第2絶縁層の組成物についてそれぞれワックスを添加し、98MPaでプレスすることにより、圧粉体を形成し、この圧粉体に対して空気中でTMA(熱機械分析)による室温〜1000℃の温度範囲によりガラスシートの軟化点と第1絶縁層、第2絶縁層の組成物の収縮開始温度と収縮終了温度、熱膨張率を評価した。

Figure 0004841448
In addition, a green compact is formed by adding wax to each of the glass sheet, the first insulating layer, and the second insulating layer, and pressing the composition at 98 MPa. The softening point of the glass sheet, the shrinkage start temperature, the shrinkage end temperature, and the thermal expansion coefficient of the composition of the first insulating layer and the second insulating layer were evaluated in a temperature range of room temperature to 1000 ° C. by thermomechanical analysis.
Figure 0004841448

Figure 0004841448
Figure 0004841448

表2に示すように、比較例である試料No.1においては、分割溝に沿って分割することが困難であったが、本発明の分割溝付き配線基板は細く、浅い分割溝を形成した場合でも、容易に分割することができ、分割不良が抑制されたものとなった。   As shown in Table 2, sample No. 1, it was difficult to divide along the dividing groove. However, the wiring board with the dividing groove of the present invention is thin, and even when a shallow dividing groove is formed, it can be easily divided, and there is no division failure. It was suppressed.

本発明の分割溝付き配線基板の断面図である。It is sectional drawing of the wiring board with a division | segmentation groove | channel of this invention. 本発明の分割溝付き配線基板の製造方法を説明する断面図である。It is sectional drawing explaining the manufacturing method of the wiring board with a division | segmentation groove | channel of this invention. 本発明の分割溝付き配線基板の製造方法を説明する断面図である。It is sectional drawing explaining the manufacturing method of the wiring board with a division | segmentation groove | channel of this invention. 本発明の分割溝付き配線基板の製造方法を説明する断面図である。It is sectional drawing explaining the manufacturing method of the wiring board with a division | segmentation groove | channel of this invention.

符号の説明Explanation of symbols

1・・・分割溝付き配線基板
3・・・第1絶縁層
5・・・第2絶縁層
7・・・分割溝
9・・・分割領域
11・・・配線基板
13・・・配線基板領域
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Wiring board 3 with a dividing groove ... 1st insulating layer 5 ... 2nd insulating layer 7 ... Dividing groove 9 ... Dividing area | region 11 ... Wiring board 13 ... Wiring board area | region

Claims (2)

焼結した第1絶縁層および該第1絶縁層よりも高い温度で収縮開始して焼結した第2絶縁層とからなる絶縁基体と、配線層とを備えた配線基板領域が、分割溝が形成された分割領域を介して複数集合した分割溝付き配線基板であって、前記分割領域の絶縁層のガラス量が、前記配線基板領域の絶縁層のガラス量よりも多いことを特徴とする分割溝付き配線基板。 A wiring substrate region comprising an insulating substrate composed of a sintered first insulating layer and a second insulating layer that starts shrinking at a higher temperature than the first insulating layer and is sintered, and a wiring layer has a dividing groove. A wiring substrate with divided grooves assembled through a plurality of formed divided regions, wherein the glass amount of the insulating layer in the divided region is larger than the glass amount of the insulating layer in the wiring substrate region Grooved wiring board. 第1グリーンシートおよび該第1グリーンシートよりも収縮開始温度の高い第2グリーンシートの少なくとも一方の表面のうち、焼成後に分割領域となる表面にガラス粉末を含有するガラスペーストまたはガラスシートを配置する工程と、前記ガラスペーストまたは前記ガラスシートを配置した前記第1グリーンシートおよび前記第2グリーンシートを積層して積層体を作製する工程と、前記積層体の焼成後に分割領域となる表面に分割溝を形成する工程と、前記分割溝を設けた前記積層体を熱処理して前記ガラスペーストまたは前記ガラスシートに含まれる前記ガラス粉末を軟化させ、該ガラス粉末が軟化したガラス成分を前記第1グリーンシートおよび前記第2グリーンシートの少なくとも一方に浸透させる工程と、しかる後前記第1グリーンシートおよび前記第2グリーンシートを焼結させる工程とを具備することを特徴とする分割溝付き配線基板の製造方法。 Of at least one surface of the first green sheet and the second green sheet having a higher shrinkage start temperature than the first green sheet, a glass paste or glass sheet containing glass powder is disposed on the surface to be a divided region after firing. A step of laminating the first green sheet and the second green sheet on which the glass paste or the glass sheet is disposed, and a divided groove on a surface which becomes a divided region after firing the laminated body And forming the glass component contained in the glass paste or the glass sheet by heat-treating the laminated body provided with the dividing groove, and the glass component softened by the glass powder is converted into the first green sheet. And a step of permeating into at least one of the second green sheets, and then the first group Method of producing segmented grooved wiring board, characterized by comprising a Nshito and step of sintering the second green sheet.
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