JP4832889B2 - 複屈折素子とその製造方法、液晶装置、及び投射型表示装置 - Google Patents
複屈折素子とその製造方法、液晶装置、及び投射型表示装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4832889B2 JP4832889B2 JP2005374516A JP2005374516A JP4832889B2 JP 4832889 B2 JP4832889 B2 JP 4832889B2 JP 2005374516 A JP2005374516 A JP 2005374516A JP 2005374516 A JP2005374516 A JP 2005374516A JP 4832889 B2 JP4832889 B2 JP 4832889B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- liquid crystal
- vapor deposition
- film
- birefringent element
- layer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 title claims description 140
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 15
- 238000000034 method Methods 0.000 title description 7
- 239000010408 film Substances 0.000 claims description 251
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 claims description 137
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims description 119
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 53
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 37
- 230000008021 deposition Effects 0.000 claims description 32
- 239000012071 phase Substances 0.000 claims description 25
- 210000002858 crystal cell Anatomy 0.000 claims description 22
- 239000011148 porous material Substances 0.000 claims description 20
- 239000002356 single layer Substances 0.000 claims description 14
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 claims description 14
- 239000003989 dielectric material Substances 0.000 claims description 5
- 239000012528 membrane Substances 0.000 claims description 4
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 claims description 3
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 claims description 3
- 238000001947 vapour-phase growth Methods 0.000 claims description 3
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 claims 1
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 229910001928 zirconium oxide Inorganic materials 0.000 claims 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 31
- 239000000463 material Substances 0.000 description 24
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 10
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 9
- 239000013598 vector Substances 0.000 description 9
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 description 7
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 7
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 7
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000012788 optical film Substances 0.000 description 5
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 4
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 4
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 4
- 230000010287 polarization Effects 0.000 description 4
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 4
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 4
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 3
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 3
- 238000000634 powder X-ray diffraction Methods 0.000 description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 3
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910004261 CaF 2 Inorganic materials 0.000 description 2
- MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N Dioxygen Chemical compound O=O MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005076 Van der Waals potential Methods 0.000 description 2
- 210000004027 cell Anatomy 0.000 description 2
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 2
- 238000013461 design Methods 0.000 description 2
- 229910001882 dioxygen Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 2
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 2
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 2
- 238000012544 monitoring process Methods 0.000 description 2
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 description 2
- 230000001699 photocatalysis Effects 0.000 description 2
- 239000011941 photocatalyst Substances 0.000 description 2
- 229910052702 rhenium Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 2
- 239000011800 void material Substances 0.000 description 2
- 229910006404 SnO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003463 adsorbent Substances 0.000 description 1
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 1
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 1
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 1
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 239000010432 diamond Substances 0.000 description 1
- 229910003460 diamond Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 230000012447 hatching Effects 0.000 description 1
- 239000002346 layers by function Substances 0.000 description 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 1
- 229910001954 samarium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229940075630 samarium oxide Drugs 0.000 description 1
- FKTOIHSPIPYAPE-UHFFFAOYSA-N samarium(iii) oxide Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[Sm+3].[Sm+3] FKTOIHSPIPYAPE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052594 sapphire Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010980 sapphire Substances 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009751 slip forming Methods 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
- G02F1/13363—Birefringent elements, e.g. for optical compensation
- G02F1/133632—Birefringent elements, e.g. for optical compensation with refractive index ellipsoid inclined relative to the LC-layer surface
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F2413/00—Indexing scheme related to G02F1/13363, i.e. to birefringent elements, e.g. for optical compensation, characterised by the number, position, orientation or value of the compensation plates
- G02F2413/10—Indexing scheme related to G02F1/13363, i.e. to birefringent elements, e.g. for optical compensation, characterised by the number, position, orientation or value of the compensation plates with refractive index ellipsoid inclined, or tilted, relative to the LC-layer surface O plate
- G02F2413/105—Indexing scheme related to G02F1/13363, i.e. to birefringent elements, e.g. for optical compensation, characterised by the number, position, orientation or value of the compensation plates with refractive index ellipsoid inclined, or tilted, relative to the LC-layer surface O plate with varying inclination in thickness direction, e.g. hybrid oriented discotic LC
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Nonlinear Science (AREA)
- Mathematical Physics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Liquid Crystal (AREA)
- Polarising Elements (AREA)
Description
前記無機斜方蒸着膜は、前記透光性基材の表面に対して斜め方向に延びる多数の柱状構造体と、該多数の柱状構造体の間に形成され、該柱状構造体と略同方向に延びる多数の空孔とからなる膜構造を有するものであり、
前記単層又は複層の無機斜方蒸着膜のうち、少なくとも最上層に位置する無機斜方蒸着膜の前記空孔の平均断面積が10〜7500nm2であることを特徴とするものである。
前記複屈折素子は、該複屈折素子に入射する光の基準波長の透過率が75%以上であり、ヘーズ値が1%以下であることが好ましい。
「ヘーズ値」は、JIS K7136に準拠して測定するものとする。
上記構成の本発明によれば、製造工程を増やすことなく低コストに、しかも安定的に湿度依存性を改善することができ、複屈折性、透過率、ヘーズ値等の光学特性も良好な無機の複屈折素子を提供することができる。
本発明によれば、60℃相対湿度90%の雰囲気下に3日間静置したときのレターデーション値の減少率が、30%以下である無機の複屈折素子を実現することができる。
図面を参照して、本発明に係る第1実施形態の複屈折素子及びこれを備えた液晶装置について説明する。本実施形態では、電圧無印加時に明状態となるノーマリホワイトモードのTNモードの透過型液晶装置を例として説明する。また、プロジェクタ等の投射型表示装置に搭載され、特定波長域の色光(赤色光、緑色光、青色光のうちいずれか)を変調する光変調装置として用いられる液晶装置を例として説明する。本実施形態は、特に光学系への影響が大きい紫外光に近い青色光(例えば、430nm)用の液晶装置に好ましく適用できる。
以下、複屈折素子1の層構成について詳述する。本実施形態の複屈折素子1は無機の複屈折素子であり、すべての構成要素が無機材料により構成されている。本実施形態では、特に第二位相差補償層13の構成が特徴的である。
透光性基材11の材質は特に制限なく、ガラス、サファイヤ、水晶等が挙げられる。形状も特に制限なく、板状等が好ましい。本実施形態では、透光性基材11として液晶セル及び偏光子とは別個の基材を用いているが、液晶セルの基板又は偏光子を透光性基材11として用いることも差し支えない。
第一位相差補償層12は、電圧印加時に略垂直配向状態(略一軸配向状態)となる液晶分子27m(図2で示す領域Vの液晶分子27m)の複屈折性に対して位相差補償を行う層である。
NTE=√{(an1 2+bn2 2)/(a+b)}
NTM=√〔(a+b)/{(a/n1 2)+(b/n2 2)}〕
Δn=NTM−NTE
式中、n1,n2は各々高屈折率膜12A,低屈折率膜12Bの屈折率、a,bは各々、高屈折率膜12A,低屈折率膜12Bの物理的膜厚である。
−2×Re(LC)≦Re(0)≦−0.5×Re(LC)・・・(i)
第二位相差補償層13は、電圧印加時に配向膜25、26近傍の液晶分子27mが配向膜25、26の影響を受けて、略垂直方向から配向膜の配向方向に向けて連続的に液晶分子27mの配向方向が変化しハイブリッド配向状態となる液晶分子27mの複屈折性に対して位相差補償を行う層である。
斜方蒸着方向の極角は、柱状構造体Xの構造性複屈折の効率のよい発現を考慮すれば大きい方が好ましく、50°以上、特に60°以上が好ましい。斜方蒸着方向の極角は90°付近では成膜速度が遅く生産効率が低下するため、成膜速度を考慮すれば、85°未満、特に80°未満が好ましい。
斜方蒸着方向の極角を40°以上90°未満として蒸着を行った場合、柱状構造体Xの光軸の極角β(図3を参照)は、0°以上50°未満となる。
(2)真空度が高い程、緻密な膜が形成される傾向にある。真空度は0.001Pa以上が好ましく、0.01Pa以上がより好ましい。また、真空度が低くなりすぎると、柱状構造体Xを均一に成長させることが難しくなり、内部ヘーズが大きくなる傾向にあるので、真空度は0.01〜0.1Paが特に好ましい。
(3)基材温度は高温になる程、緻密な膜が形成される傾向にある。基材温度は200℃以下が好ましく、100℃以下がより好ましく、非加熱が特に好ましい。
上記条件(1)〜(3)は少なくとも一つを充足すればよい。
Pi(x,y,z)=(Re(i)×cosαi×sinβi,Re(i)×sinαi×sinβi,Re(i)×cosβi)・・・(ii)
0nm≦|Ax|≦100nm、50nm≦|Ay|≦200nm・・・(iii)
反射防止層14、15は複屈折素子1の表面反射を防止し、光の利用効率を高める層である。
かかる構成の本実施形態によれば、製造工程を増やすことなく低コストに、しかも安定的に湿度依存性を改善することができ、複屈折性、透過率、ヘーズ値等の光学特性も良好な無機の複屈折素子1を提供することができる。
本実施形態によれば、60℃相対湿度90%の雰囲気下に3日間静置したときのレターデーション値Reの減少率が、30%以下である無機の複屈折素子1を実現することができる。本実施形態によれば、上記のレターデーション値Reの減少率が、10%以下である無機の複屈折素子1を実現することもできる。
図面を参照して、本発明に係る第2実施形態の複屈折素子について説明する。第1実施形態と同じ構成要素には同じ参照符号を付して、説明は省略する。
本発明は上記実施形態に限らず、本発明の趣旨を逸脱しない範囲内において、適宜設計変更可能である。
図6に基づいて、本発明に係る実施形態の投射型表示装置について説明する。本実施形態は、赤色光L(R)、緑色光L(G)、青色光L(B)を各々変調する液晶装置(光変調装置)40R、40G、40Bを搭載したフルカラーの投射型表示装置である。本実施形態では、プロジェクタを例として説明する。
以下の手順にて、透光性基材の表面に単層の無機斜方蒸着膜を備えた、青色光(基準波長430nm)用の複屈折素子を製造した。
比較例1においても、透光性基材の表面に単層の無機斜方蒸着膜を備えた、青色光(基準波長430nm)用の複屈折素子を製造した。
11 透光性基材
12 第一位相差補償層
12A 高屈折率膜(無機正面気相成長膜)
12B 低屈折率膜(無機正面気相成長膜)
13 第二位相差補償層
13A〜13D 無機斜方蒸着膜
14、15 反射防止層
X 柱状構造体
Y 空孔
40 液晶装置
20 液晶セル
21、22 基板
23、24 電極
25、26 配向膜
27 液晶層
27m 液晶分子
V 電圧印加時に液晶分子が略垂直配向状態(略一軸配向状態)となる領域
H 電圧印加時に液晶分子がハイブリッド配向状態となる領域
50 投射型表示装置
52 光源
40R、40G、40B 液晶装置(光変調装置)
65 投射レンズ(投射光学系)
Claims (12)
- 透光性基材の表面に、誘電材料からなる単層又は複層の無機斜方蒸着膜が積層された複屈折素子において、
前記無機斜方蒸着膜は、前記透光性基材の表面に対して斜め方向に延びる多数の柱状構造体と、該多数の柱状構造体の間に形成され、該柱状構造体と略同方向に延びる多数の空孔とからなる膜構造を有するものであり、
前記単層又は複層の無機斜方蒸着膜のうち、少なくとも最上層に位置する無機斜方蒸着膜の前記空孔の平均断面積が10〜7500nm2であり、
全ての前記単層又は複層の無機斜方蒸着膜が酸化チタンと酸化ジルコニウムとにより構成されてなる(不可避不純物を含んでもよい)ことを特徴とする複屈折素子。 - 前記透光性基材に対して正面方向に気相成長された無機正面気相成長膜を、前記無機斜方蒸着膜の下地としてさらに備えたことを特徴とする請求項1に記載の複屈折素子。
- 液晶層を挟持して対向配置された一対の基板を備え、該一対の基板に前記液晶層に電圧を印加する電極が設けられた液晶セルと組み合わされて使用されるものであり、
前記無機正面気相成長膜は、略一軸配向状態の液晶分子の複屈折性に対して位相差補償を行う層であり、前記単層又は複層の無機斜方蒸着膜は、ハイブリッド配向状態の液晶分子の複屈折性に対して位相差補償を行う層であることを特徴とする請求項2に記載の複屈折素子。 - 前記単層又は複層の無機斜方蒸着膜のうち、少なくとも最上層に位置する無機斜方蒸着膜は、アモルファス構造を有することを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の複屈折素子。
- 60℃相対湿度90%の雰囲気下に3日間静置したときのレターデーション値の減少率が、30%以下であることを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載の複屈折素子。
- 前記レターデーション値が150nm以下であることを特徴とする請求項1〜5のいずれかに記載の複屈折素子。
- 前記複屈折素子に入射する光の基準波長の透過率が75%以上であり、ヘーズ値が1%以下であることを特徴とする請求項1〜6のいずれかに記載の複屈折素子。
- 請求項2又は3に記載の複屈折素子の製造方法であって、
前記無機斜方蒸着膜のうち最下層に位置する無機斜方蒸着膜を、前記前記無機正面気相成長膜を下地とし、斜方蒸着方向を前記透光性基材の蒸着面の法線方向から40°以上90°未満の角度方向として、前記無機斜方蒸着膜を成膜することを特徴とする複屈折素子の製造方法。 - 前記無機斜方蒸着膜を、0.001Pa以上の真空度で成膜することを特徴とする請求項8に記載の複屈折素子の製造方法。
- 前記単層又は複層の無機斜方蒸着膜のうち、少なくとも最上層に位置する無機斜方蒸着膜を、基材温度200℃以下で成膜することを特徴とする請求項8又は9に記載の複屈折素子の製造方法。
- 液晶層を挟持して対向配置され、電圧無印加時の前記液晶層内の液晶分子の配向を規定する配向膜を有する一対の基板を備え、該一対の基板に前記液晶層に電圧を印加する電極が設けられた液晶セルに、請求項1〜7のいずれかに記載の複屈折素子が対向配置されたことを特徴とする液晶装置。
- 光源と、該光源から出射された光を変調する、請求項11に記載の液晶装置からなる光変調装置と、該光変調装置により変調された光を投射する投射光学系とを備えたことを特徴とする投射型表示装置。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005374516A JP4832889B2 (ja) | 2005-12-27 | 2005-12-27 | 複屈折素子とその製造方法、液晶装置、及び投射型表示装置 |
US11/645,525 US20070146596A1 (en) | 2005-12-27 | 2006-12-27 | Birefringence element, method of manufacture thereof, liquid crystal device, and projection display apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005374516A JP4832889B2 (ja) | 2005-12-27 | 2005-12-27 | 複屈折素子とその製造方法、液晶装置、及び投射型表示装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007178536A JP2007178536A (ja) | 2007-07-12 |
JP4832889B2 true JP4832889B2 (ja) | 2011-12-07 |
Family
ID=38193195
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005374516A Active JP4832889B2 (ja) | 2005-12-27 | 2005-12-27 | 複屈折素子とその製造方法、液晶装置、及び投射型表示装置 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20070146596A1 (ja) |
JP (1) | JP4832889B2 (ja) |
Families Citing this family (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2006064956A1 (en) * | 2004-12-15 | 2006-06-22 | Fujifilm Corporation | Phase difference compensator, light modurating system, liquid crystal display and liquid crystal projector |
JP4672469B2 (ja) * | 2005-07-11 | 2011-04-20 | 富士フイルム株式会社 | 液晶装置及び投射型表示装置 |
US20080204635A1 (en) * | 2005-09-23 | 2008-08-28 | Andy Christopher Van Popta | Transparent, Conductive Film with a Large Birefringence |
JP2009222933A (ja) * | 2008-03-14 | 2009-10-01 | Seiko Epson Corp | 液晶装置、プロジェクタ及び位相差板 |
JP2010197764A (ja) * | 2009-02-26 | 2010-09-09 | Ricoh Co Ltd | 偏光制御素子及びそれを使用した画像表示装置 |
JP5703774B2 (ja) | 2011-01-21 | 2015-04-22 | セイコーエプソン株式会社 | プロジェクター |
JP2015025830A (ja) * | 2013-03-29 | 2015-02-05 | 富士フイルム株式会社 | 液晶表示装置 |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3458763B2 (ja) * | 1998-05-29 | 2003-10-20 | 株式会社豊田中央研究所 | 複屈折板 |
JP2002372620A (ja) * | 2001-06-13 | 2002-12-26 | Toyota Central Res & Dev Lab Inc | 偏光制御素子及びその製造方法 |
TWI284230B (en) * | 2002-05-17 | 2007-07-21 | Merck Patent Gmbh | Compensator comprising a positive and a negative birefringent retardation film and use thereof |
CN1669334A (zh) * | 2002-07-19 | 2005-09-14 | 富士胶片株式会社 | 液晶投影仪、液晶器件以及用于液晶器件的衬底 |
JP2004325670A (ja) * | 2003-04-23 | 2004-11-18 | Fuji Photo Film Co Ltd | カラー液晶素子及び単板式カラー液晶プロジェクタ |
-
2005
- 2005-12-27 JP JP2005374516A patent/JP4832889B2/ja active Active
-
2006
- 2006-12-27 US US11/645,525 patent/US20070146596A1/en not_active Abandoned
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20070146596A1 (en) | 2007-06-28 |
JP2007178536A (ja) | 2007-07-12 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4672469B2 (ja) | 液晶装置及び投射型表示装置 | |
JP4832889B2 (ja) | 複屈折素子とその製造方法、液晶装置、及び投射型表示装置 | |
US8842365B2 (en) | Phase difference element and method for manufacturing the same | |
JP4897707B2 (ja) | 位相差補償素子、液晶表示装置及び液晶プロジェクタ | |
JP5227507B2 (ja) | 薄膜光学リターダ | |
WO2014168185A1 (ja) | 位相差補償素子及び投射型画像投影装置 | |
JP2006171327A (ja) | 位相差補償素子並びにこれを用いた液晶表示装置及び液晶プロジェクタ | |
US9952368B2 (en) | Polarization conversion element and optical device | |
JP2015082035A (ja) | 位相差素子及びその製造方法、液晶表示装置、並びに投射型画像表示装置 | |
CN110095833B (zh) | 相位差补偿元件、液晶显示装置及投射型图像显示装置 | |
US10317599B2 (en) | Wavelength plate and optical device | |
JP2006171328A (ja) | 位相差補償素子、光変調システム、液晶表示装置及び液晶プロジェクタ | |
JP2006119444A (ja) | 位相差補償素子およびそれを用いた液晶装置 | |
CN106033158B (zh) | 相位差元件、液晶显示装置以及投影型图像显示装置 | |
JP5625416B2 (ja) | 液晶装置及び投射型表示装置 | |
WO2022004712A1 (ja) | 位相差板、液晶プロジェクタ及びコントラスト調整方法 | |
JP6027199B2 (ja) | 位相差素子及びその製造方法 | |
JP7236225B2 (ja) | 位相差補償素子、液晶表示装置および投射型画像表示装置 | |
JP7141353B2 (ja) | 位相差補償素子の製造方法 | |
US11550091B2 (en) | Phase difference compensation element, liquid crystal display device, and projection image display device | |
JP2007078779A (ja) | クロスダイクロイックプリズム、光学装置、プロジェクタ、および、クロスダイクロイックプリズムの製造方法 | |
JPS5997105A (ja) | 干渉型偏光子 | |
JP2012247454A (ja) | 位相差板およびそれを有する光学装置 | |
JP2007310190A (ja) | 光学素子、光学補償素子、液晶表示素子、画像投影装置 | |
JP2018060089A (ja) | 光学系および画像投射装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20080714 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20100824 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100831 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20101026 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20110830 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20110921 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4832889 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140930 Year of fee payment: 3 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |