JP4832423B2 - 表面構造化レーザ加工により光学部品の製造をするための方法 - Google Patents
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Description
以下のステップ、即ち
1)未加工状態で加工波長領域のレーザ光線を吸収する材料から成る固体を加工するステップと、
2)光学部品の段付きプロフィルを発生させるために、1つ又は複数の加工ステップで固体をレーザ加工するステップと、
3)固体が適用波長領域の電磁光線に対して透明である、予定された光学機能を満足する最終状態に固体を材料変換するステップと
が実施されること、
加工波長領域のレーザ光線を吸収する材料として、1<x<2の非化学量論組成のSiOx化合物が使用されること、SiOx材料が、材料変換ステップによりSiO 2 の最終状態に変換されること
によって解決される。
によっても解決される。
2〜2’’ 吸収層
3〜3’’ 構造
4〜4’’’ 高さ水準
5 段
6 光学部品
7〜7’’ レーザ光線
8 プロフィル
Claims (11)
- 仕上がった光学部品に適用すべき適用波長領域の電磁光線に対する光学部品の光学機能が、加工波長領域のレーザ光線によるレーザ加工により発生される、光学部品を製造するための方法において、
以下のステップ、即ち
1)未加工状態で加工波長領域のレーザ光線を吸収する材料から成る固体を加工するステップと、
2)光学部品の段付きプロフィルを発生させるために、1つ又は複数の加工ステップで固体をレーザ加工するステップと、
3)固体が適用波長領域の電磁光線に対して透明である、予定された光学機能を満足する最終状態に固体を材料変換するステップと
が実施されること、
加工波長領域のレーザ光線を吸収する材料として、1<x<2の非化学量論組成のSiOx化合物が使用されること、SiOx材料が、材料変換ステップによりSiO 2 の最終状態に変換されること
を特徴とする方法。 - 予め選択されたパルスエネルギー密度を有するUVパルスレーザにより、光学部品の材料が、レーザ光線が照射された箇所が所定の深さになるまで除去されることを特徴とする請求項1に記載の方法。
- パルスエネルギー密度とパルスの数をそれぞれ調整することにより、所定の段高さの選択可能な段数の、光学部品の段付きプロフィルが形成されることを特徴とする請求項2に記載の方法。
- 仕上がった光学部品に適用すべき適用波長領域の電磁光線に対する光学部品の光学機能が、加工波長領域のレーザ光線によるレーザ加工により発生される、光学部品を製造するための方法において、
光学部品(6)の段付きプロフィル(8)を発生させるため、それぞれ、未加工状態で加工波長領域のレーザ光線を吸収する材料から成る吸収層(2,2’,2’’)が、加工波長領域のレーザ光線に対して透明なサブストレート体(1)に装着される堆積ステップと、装着された吸収層(2,2’,2’’)が、レーザ光線が照射された箇所を少なくとも層厚さの一部にわたって除去される除去ステップとから成る加工サイクルが複数回実施されること、発生されたプロフィル(8)が適用波長領域の電磁光線に対して透明な最終状態に変換される材料変換ステップが、少なくとも一度実施されること、
加工波長領域のレーザ光線を吸収する材料として、1<x<2の非化学量論組成のSiOx化合物が使用されること、SiOx材料が、材料変換ステップによりSiO 2 の最終状態に変換されること
を特徴とする方法。 - 複数回実施される加工サイクルの各加工サイクルの後又は選択された個々の加工サイクルの後で、それぞれの吸収層(2,2’,2’’)のために材料変換ステップが実施されることを特徴とする請求項4に記載の方法。
- 複数回実施される加工サイクルが、吸収層が直接レーザ光線を照射される前側からの除去ステップ及び/又は吸収層がサブストレート体(1)を経てレーザ光線を照射される後側からの除去ステップを備えることを特徴とする請求項4又は5に記載の方法。
- 仕上がった光学部品に適用すべき適用波長領域の電磁光線に対する光学部品の光学機能が、加工波長領域のレーザ光線によるレーザ加工により発生される、光学部品を製造するための方法において、
先ず、加工波長領域のレーザ光線を透過する材料から成る層と加工波長領域のレーザ光線を吸収する材料から成る層から成る2重層から成る層構造が、加工波長領域のレーザ光線に対して透明な材料から成るサブストレート体に装着されること、引き続き、光学部品の段付きプロフィルを発生させるために、それぞれ1つの2重層の、レーザ光線が照射された箇所が除去される除去ステップが、複数回実施されること、発生されたプロフィルが適用波長領域の電磁光線に対して透明な最終状態に変換される材料変換ステップが実施されること、
加工波長領域のレーザ光線を吸収する材料として、1<x<2の非化学量論組成のSiOx化合物が使用されること、SiOx材料が、材料変換ステップによりSiO 2 の最終状態に変換されること
を特徴とする方法。 - 材料変換ステップが、酸化雰囲気内で光学部品を熱処理することによる熱酸化ステップであることを特徴とする請求項1〜7のいずれか1つに記載の方法。
- 熱酸化ステップの際、光学部品が、8〜9時間の間、約900°Cの温度に晒されることを特徴とする請求項8に記載の方法。
- 材料変換ステップが光化学酸化ステップであり、この光化学酸化ステップの際、酸化雰囲気内でレーザ光線を光学部品に照射することによって、レーザ光線が照射された材料が、少なくとも部分領域を適用波長領域の電磁光線に対して透明な最終状態に変換されることを特徴とする請求項1〜7のいずれか1つに記載の方法。
- 光学部品の加工が、連続するステップで加工面を走査する点状のレーザ光線の照射によって行なわれること、又は加工が、少なくとも1つの結像要素による全面的なレーザ光線の照射によって行なわれることを特徴とする請求項1〜10のいずれか1つに記載の方法。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE102004015142.3 | 2004-03-27 | ||
DE102004015142A DE102004015142B3 (de) | 2004-03-27 | 2004-03-27 | Verfahren zur Herstellung optischer Bauteile |
PCT/EP2005/003134 WO2005093470A1 (de) | 2004-03-27 | 2005-03-24 | Verfahren zur herstellung eines optischen bauteils mittels oberlächenstrukturierender laserbearbeitung |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007530281A JP2007530281A (ja) | 2007-11-01 |
JP4832423B2 true JP4832423B2 (ja) | 2011-12-07 |
Family
ID=34965160
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007504357A Active JP4832423B2 (ja) | 2004-03-27 | 2005-03-24 | 表面構造化レーザ加工により光学部品の製造をするための方法 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20080028792A1 (ja) |
EP (2) | EP1714172B1 (ja) |
JP (1) | JP4832423B2 (ja) |
DE (1) | DE102004015142B3 (ja) |
WO (1) | WO2005093470A1 (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
PT2574357E (pt) * | 2011-09-28 | 2014-02-05 | Q Med Ab | Injetor eletrónico |
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JP2004117774A (ja) * | 2002-09-26 | 2004-04-15 | National Institute Of Advanced Industrial & Technology | 回折格子およびその製造方法 |
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-
2004
- 2004-03-27 DE DE102004015142A patent/DE102004015142B3/de not_active Expired - Lifetime
-
2005
- 2005-03-24 EP EP05733264A patent/EP1714172B1/de active Active
- 2005-03-24 EP EP08016508A patent/EP2003474B1/de active Active
- 2005-03-24 US US10/592,226 patent/US20080028792A1/en not_active Abandoned
- 2005-03-24 WO PCT/EP2005/003134 patent/WO2005093470A1/de active Application Filing
- 2005-03-24 JP JP2007504357A patent/JP4832423B2/ja active Active
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20080028792A1 (en) | 2008-02-07 |
EP2003474A2 (de) | 2008-12-17 |
WO2005093470A1 (de) | 2005-10-06 |
DE102004015142B3 (de) | 2005-12-08 |
JP2007530281A (ja) | 2007-11-01 |
EP2003474A3 (de) | 2008-12-24 |
EP2003474B1 (de) | 2011-10-19 |
EP1714172B1 (de) | 2009-03-04 |
EP1714172A1 (de) | 2006-10-25 |
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RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
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