JP4804925B2 - 改質器 - Google Patents

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本発明は原料ガスを水蒸気改質して水素リッチな改質ガスを生成する自己酸化内部加熱型の改質器に関し、特に、酸化空気を供給する供給管の熱変形を防止すると共に、空気の流通を円滑に行う自己酸化内部加熱型の改質器に関する。
従来から、原料ガスと水蒸気の混合物(以下、原料一水蒸気混合物という。)を改質触媒の存在下に水蒸気改質し、水素リッチな改質ガスを生成する改質器が知られている。改質器で得られる水素リッチな改質ガスは、残留するCO(一酸化炭素)をCO低減手段で触媒の存在下に酸素含有ガスと反応させてCOへ変換し、特に低温で作動する固体高分子電解質型燃料電池用には、数ppmレベルまでCOを低減してから燃料として供給される。原料ガスには、メタン等の炭化水素、メタノール等の脂肪族アルコール類、或いはジメチルエーテル等のエーテル類、都市ガスなどが用いられる。このような改質器において、メタンを原料ガスとして使用した場合の水蒸気改質の反応式は、CH+2HO→CO+4Hで示すことができ、好ましい改質反応温度は、650〜750℃の範囲である。
改質器の改質反応に必要な熱を供給する方式として外部加熱型と、内部加熱型がある。外部加熱型の改質器は、外部に加熱部を設け、その熱源で原料ガスと水蒸気を反応させて改質ガスを生成するようになっている。内部加熱型の改質器はその供給側(上流側)に部分酸化反応層を設け、該部分酸化反応層で発生した熱を用いて下流側に配備した水蒸気改質反応層を水蒸気改質反応温度まで加熱し、該加熱された水蒸気改質触媒層で水蒸気改質反応をさせて水素リッチな改質ガスを生成するようになっている。
部分酸化反応は、CH+1/2・O→CO+2Hで示すことができ、好ましい部分酸化反応の温度は250℃以上の範囲である。内部加熱型の改質器を改良したものとして自己酸化内部加熱型の改質器が例えば特許文献1、2に記載されている.特許文献1、2の改質器は外側の予備改質室と内側の主改質室を備えた二重構造になっており、予備改質室には原料一水蒸気混合物の供給部、改質触媒層および排出部が設けられ、主改質室には前記排出部からの排出物を受け入れる供給部、酸化空気の供給管、改質触媒と酸化触媒を混合した混合触媒層、シフト触媒層および改質ガスの排出部が設けられている。
図5は自己酸化内部加熱型の改質器を模式的に示す断面図、図6は図5のA−A断面図である。改質器1は二重筒状に配置した外側の予備改質室2と内側の主改質室3を備えており全体が薄型に形成されている。予備改質室2と主改質室3はそれぞれ細長く断面が偏平状(図示の例では偏平な方形)に形成されると共に、それらの断面は互いに略相似形とされる。予備改質室2は外筒2aと内筒3aの間に形成され、主改質室3は内筒3aの内側に形成される。予備改質室2に改質触媒層4が設けられ、主改質室3に改質触媒と酸化触媒を混合した混合触媒層5とシフト触媒層6が設けられ、シフト触媒層6は高温シフト触媒層7と低温シフト触媒層8により構成される。なお、これら触媒層に充填される触媒は一般に粒子状またはハニカム状のものが用いられる。
改質触媒は原料ガスを水蒸気改質するものであり、例えばNiO−A1あるいはNiO−SiO・A1などのNi系改質反応触媒やWO−SiO・A1やNiO−WO・SiO・A1などが使用される。混合触媒層5を構成する改質触媒は上記と同様なものが使用され、それに均一に分散される酸化触媒は原料一水蒸気混合物中の原料ガスを酸化発熱させて水蒸気改質反応に必要な温度を得るもので、例えば白金(Pt)やロジウム(Rh)あるいはルテニウム(Ru)あるいはパラジウム(Pd)が使用される。なお改質触媒に対する酸化触媒の混合割合は、水蒸気改質すべき原料ガスの種類に応じて1〜15%程度の範囲で選択され、例えば原料ガスとしてメタンを使用する場合は5%±2%程度、メタノールの場合は2%±1%程度の混合割合とされる。
予備改質室2の下部に原料―水蒸気混合物の供給部9が設けられ、予備改質室2の上部に予備改質後の流出物が排出する排出部10が設けられる。主改質室3の上部には前記予備改質室2の排出部10に連通する供給部11が設けられ、主改質室3の中央部に酸化空気を供給する酸素供給管14が延長され、その酸素供給管14が混合触媒層5に延長する部分に複数のノズルからなる空気噴出部17が形成されている。さらに主改質室3の下部には改質ガスの排出部12が設けられる。なお酸素供給管14の断面は偏平状(図示の例では偏平な方形)に形成されると共に、前記予備改質室2と主改質室3の断面と略相似形になっている。
主改質室3には上部から下部に順に混合触媒層5、高温シフト触媒層7および低温シフト触媒層8が設けられるが、各触媒層の境界部および排出部12を含む低温シフト触媒層8の下側には触媒粒子を支持する支持板15が配置される。(なお予備改質室2にも同様な支持板15が配置される。さらには、シフト層境界には支持板を挿入しなくてもよい。)これら支持板15は気体流通性を有するが触媒粒子は通過させない孔径を有しており、通常、板状のパンチメタルやメッシュ等の多孔性の部材が使用される。
排出部12には支持板15の下方空間に設けたマニホールドと、そのマニホールドが改質器1の外側に延長する端部に連接した出口用タンクが存在する。そして排出部12に流出した改質ガスは支持板15を通過してマニホールドに入り、そこから出口タンクを通って外部に排出される。
一方、主改質室3の上部には起動用のプレヒーター13が連接される。プレヒーター13はシステム起動時に混合触媒層5を迅速に酸化反応温度まで昇温するものであり、その内部に電気ヒーターが配置されると共に、白金(Pt)やパラジウム(Pd)等の酸化触媒が充填される。そして起動時にプレヒーター13に吸引混合手段16から原料ガスとスタート空気が供給され、原料ガスが空気中の酸素により酸化反応し、その酸化熱により発生する高温ガスで混合触媒層5を酸化反応可能な温度まで加熱するようになっている。
一方、エジェクタにより構成される吸引混合手段16の流体導入部には、図示しない水蒸気発生手段からの水蒸気と原料供給部からの原料ガスが導入される。また吸引混合手段16の排出部は予備改質室2の供給部9に連通される。
次に、図5の改質器1の作用を概略的に説明する。供給部9から供給される原料―水蒸気混合物は、予備改質室2の改質触媒4の作用でその原料ガスの一部が改質されて水素リッチな改質ガスを生成し、生成した改質ガスと残りの原料―水蒸気混合物は排出部10から主改質室3の供給部11に流入する。
主改質室3に流入した原料―水蒸気混合物は、混合触媒層5に含まれる酸化触媒の作用で原料ガスの一部が空気中の酸素と反応(酸化反応)し、その酸化熱で原料ガスが水蒸気と反応(改質反応)して改質ガスを生成する。生成した改質ガスは高温シフト触媒層7で残存するCO(一酸化炭素)を水素に変換し、次いで低温シフト触媒層8でさらに残存するCOを水素に変換して排出部12から外部に排出される。
図7は実用的な改質器1の部分断面図、図8は図7のVIII−VIII線断面図である。これらの図に示す例は改質器1が2つの薄型の改質器を重ねた構造とすることにより、ユニットあたりの処理容量を増加させたものであるが、構成及び作用は図5に示すものと実質的に同一である。これら図7、図8における図3と同じ部分には図3と同一符号を付している。なお符号18はサーミスタ等の温度検出器であり、改質器1の温度監視もしくは温度制御に利用される。
本例の酸化空気の酸素供給管14は、図7,8に示すように、混合触媒層5中に延長した部分の断面の長径に平行な平面において、その平面に小さな貫通孔からなる空気噴出孔17の群がそれぞれ設けられる。これら空気噴出孔17は供給管の先端部付近に2列配置されているが、3列以上配置することもできる。そして酸素供給管14の先端部はロウ付け等により閉鎖されている。
特開2001−192201号公報 特開2005−149860号公報
前記のような改質器1の混合触媒層5は、酸化反応による発熱と改質反応による吸熱が同時に起こるが、酸化反応は酸化空気の噴出部分が最も大きく、そこから遠ざかるほど次第に小さくなる傾向がある。そのため空気噴出孔に近い領域の温度は高くなり、それから離れた周辺領域の温度はそれより低くなって両領域の間に温度差が生じる傾向がある。このような温度差が生じると、ステンレスなどの金属で作られる熱膨張率の大きい酸素供給管14とアルミナ等の無機担体に担持された熱膨張率の小さい混合触媒層5の熱膨張差による応力や、酸素供給管14各部の温度差により酸素供給管14に変形を生じることがある。
また、熱膨張率の小さい混合触媒層5とステンレス等の金属で作られた熱膨張率の大きい内筒3aの熱膨張差により、改質器1が平常運転して高温になっているときには、図9のごとく混合触媒層5が下方に沈み込み、改質器1が停止して低温になっているときにその沈み込みが回復せず、酸素供給管14が周囲から押しつぶされるような変形を受けることもある。
図9は酸素供給管14が周囲からの応力で変形を受ける状態を模式的に説明する図である。図9(A)は改質器1が運転停止中で例えば150℃程度の保温されている場合であり、図9(B)は改質器1が700℃程度で平常運転している場合であり、図9(C)は改質器1が平常運転から再び運転停止の状態に戻った場合である。
最初、図9(A)の状態で混合触媒層5が正常なレベルであったとすると、改質器1が高温の図9(B)の状態になると、内筒3aの熱膨張がアルミナ等の無機担体に担持される混合触媒層5の熱膨張より大きいので、結果として図示のように混合触媒層5が内筒3a内で下方に沈み込む状態になる。すなわち混合触媒層5の全体容積は殆ど変化しないので、内筒3aの内径が拡大する分だけ混合触媒層5の上面が下降することになる。
そして、再び改質器1が低温に戻る図9(C)の状態になっても、内筒3a内に沈み込んだ混合触媒層5の全体の容積は殆ど変化しないので、沈み込んで半径方向に拡大した混合触媒層5によって内筒3aは元の状態に回復できずに外側に膨らむような変形を起こす。この変形によって内側に向かう応力が生じ、その応力は混合触媒層5を通して酸素供給管14に加わり、酸素供給管14を外側から押し潰すような変形を与える。そしてこの変形の程度は酸素供給管14の空気噴出孔17に近い領域が最も大きいことが分かった。
酸素供給管14に変形が生じると酸化空気の供給能力が低下し、空気噴出も不均一になるおそれがある。そこで本発明は、このような従来の自己酸化内部加熱型の改質器における酸化空気の供給管における問題を解決することを課題とし、そのための新しい構造の改質器を提供することを目的とする。
前記課題を解決する本発明の改質器は、主改質室内に配置された混合触媒層中に酸化空気を供給する供給管が延長され、前記供給管の前記延長部分に複数の空気噴出孔が設けられた自己酸化内部加熱型の改質器である。そして、前記供給管は断面が偏平状とされ、その断面の長径に平行な両壁に複数の空気噴出孔がそれぞれ複数列設けられ、前記両壁が互いに接近することを防止すると共に、気体の流通を可能とする支持部が前記空気噴出孔の列間に配置されていることを特徴とする(請求項1)。
上記改質器において、前記支持部は、両壁に所定間隔で列状に形成した複数のディンプルまたは両壁の間に配置した断面波形のフィン若しくはスペーサとすることができる(請求項2)。
上記改質器において、前記複数のディンプル、フィン若しくはスペーサのピッチは、供給管の板厚の25倍以下とすることができる(請求項3)。
本発明の改質器は、供給管は断面が偏平状とされ、その長径に平行な両壁に複数の空気噴出孔がそれぞれ複数列設けられ、前記両壁が互い接近することを防止すると共に、気体の流通を可能とする支持部が前記空気噴出孔の列間に配置されていることを特徴とする。このように構成すると、供給管、混合触媒層および内筒等の熱膨張差により、供給管の長径に平行な両壁に外側からの応力が加わったとしても、複数の支持部により供給管の変形を防止することができる。
上記改質器において、前記支持部は、両壁に所定間隔で列状に形成した複数のディンプルまたは両壁の間に配置した断面波形のフィン若しくはスペーサとすることができる。このような複数のディンプルまたはフィンやスペーサを用いることにより、気体流通性を有し且つ変形防止機能の高い支持部を容易に構成できる。
上記改質器において、前記複数のディンプル、フィン若しくはスペーサのピッチを供給管の板厚の25倍以下とすると、支持部に実用上十分な変形防止機能を確実に発揮させることができる。
次に、図面を参照して本発明を実施するための最良の形態を説明する。図1は本発明の改質器における供給管部分を具体的に示す縦断面図およびその部分拡大図であり、図2は図1のII−II線断面図およびその部分拡大図である。これらの図に示す改質器1は図7、図8の改質器1と主要部は同じである。そこで、同じ部分には同一符号を付し、重複する説明は出来るだけ省略する。なお本発明が適用できる改質器1はこのような二重構造に構成されたものに限らず、予備改質室2と主改質室3が別体として構成されるもの、あるいは予備改質室2を有さず主改質室3のみで水蒸気改質を行うように構成されたものにも適用できる。したがって本発明における酸素供給管14が配置される「主改質室3」は、図1のような二重構造の内側に配置される主改質室3以外に、別体として配置される主改質室3または予備改質室2を有しない主改質室3なども含むことを意味する。
本発明の改質器1に設けられる酸化空気の酸素供給管14は、内筒3aで囲まれた主改質室3の長手方向に平行に且つその中央部に沿って延長され、その先端側は混合触媒層5の上部に達し、その先端は上蓋14a(図1(B))のロウ付け等により閉鎖されている。酸素供給管14の断面は偏平状とされ、混合触媒層5中に延長した部分には、その断面の長径に平行な両壁に貫通孔からなる空気噴出孔17が多数設けられている。図2(A)に示す如く、これら空気噴出孔17は酸素供給管14の両壁にそれぞれ2列平行して設けられ、第1列にはこの例では13個配列され、第2列には12個の空気噴出孔17が定間隔で配列されている。なお、酸素供給管14の断面は、偏平な方形状であっても偏平な楕円形状、或いは断面の長径端のみ円弧状に形成されたものであってもよい。
2列の空気噴出孔17の列間には、両壁が互い接近することを防止すると共に、気体の流通を確保する一対づつの円錐台形(截頭円錐形)の支持部19が両壁から凹陥し、その対向面が接している。図示の支持部19は、所定間隔で列状に設けられた複数(この例では13個)のディンプル20により構成される。これらディンプル20は、図1(B)に示すように、酸素供給管14の両壁を外側から内側に向かって押し込んだ形状を有し、対向するそれぞれのディンプル20の先端部は互いに密着してろう付けされている。このような支持部19を設けることにより、断面の短径方向両側から加わる外力がその支持部19で受け止められ、その支持力により酸素供給管14の変形が防止される。また各ディンプル20は所定間隔で互いに離反しているので内部の気体流通性を損なうことはない。なお各ディンプル20は例えば酸素供給管14の長径を外側からプレス加工して形成することができる。
酸素供給管14は前記のように空気噴出孔17付近の領域において応力を受け易いが、このように空気噴出孔17の列間に支持部19を配置することにより、その応力に対する抵抗力を該領域において重点的に増大することができる。本実施形態では空気噴出孔17を酸素供給管14の両壁にそれぞれ2列設けられているが、3列以上設けることもできる。空気噴出孔17を3列以上設ける場合は、それらの列間ごとに支持部19を設ければよい。
本実施形態では支持部19を空気噴出部17の列間に設けているが、図示のように、それ以外の混合触媒層5の部分およびシフト触媒層6(特に高温シフト触媒層7)の領域にも空気流通に偏りが生じない配列で支持部19を配置し、それらの領域の補強も行うこともできる。なお場合によっては、これら列間以外の支持部19は省略することもできる。また、シフト触媒層6にはインナーフィン22を配置してもよい。
ディンプル20の平面形状は円形、楕円形、方形、多角形など任意のものであってよい。またその平面寸法、例えば円形の場合、その平面の直径は板厚の2倍〜10倍程度がよい。また、支持部19として複数のディンプル20を用いる場合、実験によればそのピッチ(隣接するディンプル19の中心間の間隔)を酸素供給管14の板厚(短径側と長径の板厚が異なる場合は、その長軸側の板厚)の25倍以下に設定することにより、十分な補強効果を発揮することが確かめられている。例えば酸素供給管14の板厚が0.8mmの場合、ディンプル20のピッチを20mm以下とすることが望ましい。
図3に本発明の改質器1の他の実施形態を図2に準じて示す。図3が図2に示す構造と異なる部分は、酸素供給管14に設ける支持部19の形状であり、そのほかは同様に構成される。支持部19は図4(A)に示すような幅方向に細長い波型若しくは図4(B)に示すような細長い矩形のフィン21で構成される。このフィン21の山部や谷部を酸素供給管14の長径に平行な両壁間に接触させて配置することにより、図2(図1)の例と同様な補強効果を発揮することができる。なお支持部19はフィン21の変わりにスペーサであってもよい。そのようなスペーサは図示していないが、例えば酸素供給管14の長軸側の両壁の内面の少なくとも一方に連結もしくは接合可能な複数の板材や棒材で構成することができる。
本発明の改質器は原料ガスを水蒸気改質して水素リッチな改質ガスを生成する改質器に利用できる。
本発明の改質器の1例を示す縦断面図。 図1の右側面図。 本発明の改質器の他の例を示す側面図。 図3の支持部19として使用されるフィン21の部分斜視図。 自己酸化内部加熱型の改質器を模式的に示す断面図。 図5のA−A断面図。 実用的な改質器1の部分断面図。 図7の右側面図。 酸素供給管14が周囲からの応力で変形を受ける状態を模式的に説明する図。
符号の説明
1 改質器
2 予備改質室
2a 外筒
3 主改質室
3a 内筒
4 改質触媒層
5 混合触媒層
6 シフト触媒層
7 高温シフト触媒層
8 低温シフト触媒層
9 供給部
10 排出部
11 供給部
12 排出部
13 プレヒーター
14 酸素供給管
14a 上蓋
14b 空気導入管
14c マニホールド
15 支持板
16 吸引混合手段
17 空気噴出部
19 支持部
20 ディンプル
21 フィン
22 インナーフィン
23 断熱材
24 酸化用空気
26 改質ガス

Claims (3)

  1. 主改質室3内に配置された混合触媒層5中に酸化空気を供給する供給管14が延長され、前記供給管14の前記延長部分に複数の空気噴出孔17が設けられた自己酸化内部加熱型の改質器1において、前記供給管14は断面が偏平状とされ、その長径側の両壁に複数の空気噴出孔17がそれぞれ複数列設けられ、前記両壁が互い接近することを防止すると共に、気体の流通を可能とする支持部19が前記空気噴出孔17の列間に配置されていることを特徴とする改質器。
  2. 請求項1において、前記支持部19は前記両壁に所定間隔で列状に形成した複数のディンプル20または前記両壁の間に配置した断面波形のフィン21若しくはスペーサであることを特徴とする改質器。
  3. 請求項2において、前記複数のディンプル20、フィン21若しくはスペーサのピッチは供給管14の板厚の25倍以下であることを特徴とする改質器。
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