JP4801569B2 - 液晶表示装置 - Google Patents
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Description
本発明は液晶表示装置に関する。特に、視野角の広い液晶表示装置に関する。
表示装置には、自発光の表示装置と非発光の表示装置とがあり、液晶表示装置は、非発光の表示装置の最も代表的なものである。そして、液晶表示装置には、液晶の駆動方法に関して、基板に対して垂直に電圧を印加する縦電界方式と、基板に対して概ね平行に電圧を印加する横電界方式がある。縦電界方式と、横電界方式は、互いに利点、及び欠点を有する。例えば、ＴＮ方式に代表される縦電界方式に比べて、横電界方式は、広視野角、高コントラスト、高中間調表示といった特性を有し、モニターやテレビ用途として使用されている。このような各液晶表示装置は、液晶分野において共存しており、製品開発が行われている。また横電界方式用の液晶材料、縦電界方式用の液晶材料はそれぞれ開発が行われ、電圧の印加方向によって異なる材料特性を有する。
さらに横電界方式の液晶表示装置には、ＩＰＳ（Ｉｎ−Ｐｌａｎｅ Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）方式と、ＦＦＳ（Ｆｒｉｎｇｅ Ｆｉｅｌｄ Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）方式がある。ＩＰＳ方式は、櫛歯状やスリットの入った画素電極と、櫛歯状やスリットの入った共通電極とが互い違いに配置されており、画素電極と共通電極との間で、基板に概ね平行な方向の電界を発生させて駆動する方式である（特許文献１参照）。一方、ＦＦＳ方式は、画素部一面に形成された平面状の共通電極の上に、櫛歯状やスリットの入った画素電極が配置されている。そして、画素電極と共通電極との間で、基板に概ね平行な方向の電界を発生させて駆動する方式である。
ＦＦＳ方式の液晶表示装置は、高透過率、広視野角、低消費電力、クロストークのないことが示されている（非特許文献１参照）。
特開平９−１０５９１８号公報
Ｕｌｔｒａ−ＦＦＳ ＴＦＴ−ＬＣＤ ｗｉｔｈ Ｓｕｐｅｒ Ｉｍａｇｅ Ｑｕａｌｉｔｙ ａｎｄ Ｆａｓｔ Ｒｅｓｐｏｎｓｅ Ｔｉｍｅ， ２００１ Ｔｈｅ Ｓｏｃｉｅｔｙ Ｆｏｒ Ｉｎｆｏｒｍａｔｉｏｎ Ｄｉｓｐｌａｙ， ｐｐ．４８４−４８７
従来の横電界方式を代表とする横電界方式の液晶表示装置では、液晶材料にかかる電界が十分でなかった。これは、共通電極や画素電極直上にある液晶材料に電界が上手くかからなかったことによる。
また、ＩＰＳ方式やＦＦＳ方式のような横電界方式を用いた広視野角技術は、主にテレビ向けに使用されていた。そのため、透過型に限定されていた。しかし、より消費電力を下げる場合や、屋外でも使用したい場合には、反射型や半透過型にする必要があった。しかし、反射型や半透過型は、ＴＮ方式に代表される縦電界方式を用いて実現されていた。
そこで本発明は、横電界方式の液晶表示装置において、液晶材料にかかる電界を十分なものとする構成を提供することを目的とする。
また、広視野角であり、また表示画面を見る角度に依存した色味の変化が少なく、さらに室内でも屋外でも良好に視認される画像表示をすることのできる液晶表示装置を提供することを課題とする。
上記課題を鑑み本発明は、横電界方式において、１組の電極ではなく、複数組の電極を用いて、液晶材料に電界をかけることを特徴とする。１組の電極は、櫛歯状に設けられた共通電極と、櫛歯状に設けられた画素電極との組である。その他の組の電極は、画素部に設けられた共通電極と、櫛歯状に設けられた画素電極との組がある。画素部に設けられた共通電極は、薄膜トランジスタ以外の領域に渡って設けることができる。さらに、画素部に設けられた共通電極の形状を櫛歯状としても構わない。このような液晶表示装置では、１組の電極に加えて、その他の組の電極を用いて液晶材料にかかる電界を制御することができる。
また、本発明の液晶表示装置は、光の透過によって表示を行う第１の部分と、光の反射によって表示を行う第２の部分とを有することを特徴としている。さらに、液晶層には、液晶層よりも下方に設けられた二つの液晶素子の電極の間に電位差が生じたときに電極面と平行な方向、つまり基板と平行な面内において、回転する液晶分子を含んでいることを特徴としている。
なお、本発明において「電極面と平行な方向に回転」とは、人間の目で視認できない程度のずれを有していても良い程度に平行な回転も含む。言い換えると、面方向のベクトル成分を主とするが面方向のベクトル成分以外に法線方向のベクトル成分を僅かに有する回転も「電極面と平行な方向に回転」に含まれる。
液晶層８０１に含まれた液晶分子８０２は、液晶層の下方に設けられた電極８０３と電極８０４との間に電位差が生じたときに、横方向の電界の影響により、図７７（Ａ）のような状態から図７７（Ｂ）のような状態へ、または、図７７（Ｂ）のような状態から図７７（Ａ）のような状態へと回転する。図７７（Ａ）、図７７（Ｂ）は、断面図を示している。この回転を平面上からみると図７７（Ｃ）の矢印で表される。
同様に、液晶層９８０１に含まれた液晶分子９８０２は、液晶層の下方に設けられた電極９８０３と電極９８０５との間、および、電極９８０４と電極９８０５との間に電位差が生じたときに、横方向の電界の影響により、図１１２（Ａ）のような状態から図１１２（Ｂ）のような状態へ、または、図１１２（Ｂ）のような状態から図１１２（Ａ）のような状態へと回転する。図１１２（Ａ）、図１１２（Ｂ）は、断面図を示している。この回転を平面上からみると図１１２（Ｃ）の矢印で表される。
なお、電極８０３と電極８０４の位置関係などは、図７７に限定されない。
同様に、電極９８０３と電極９８０４と電極９８０５の位置関係などは、図１１２に限定されない。
上記した第１の部分では、液晶層の下方にそれぞれ異なる層に設けられた一対の電極を有する。第１の部分において、液晶層の下方には液晶素子の電極が２つ設けられており、これらの電極は、それぞれ、異なる層に設けられている。そして、これらの電極のうちいずれか一方を反射体として機能させることによって、またはこれらの電極と重なるように反射体を設けることによって、光を反射させる。また、第２の部分において、液晶層の下方には液晶素子の電極が２つ設けられており、これらの電極は、いずれも透光性を有し、同じ層上に、若しくは絶縁層を介して異なる層上に設けられている。
以下に本発明の具体的な構成を示す。
本発明の一形態は、第１の共通電極と、第１の共通電極上に設けられた絶縁層と、絶縁層上に設けられた画素電極及び第２の共通電極と、画素電極及び第２の共通電極上に設けられた液晶材料と、を有し、画素電極と第１の共通電極との間の電界、及び画素電極と第２の共通電極との間の電界によって、液晶材料の傾きが制御されることを特徴とする液晶表示装置である。
本発明の別形態は、絶縁基板上に形成された薄膜トランジスタと、薄膜トランジスタが有する半導体層と同一層に設けられた第１の共通電極と、第１の共通電極を覆うように設けられた絶縁層と、絶縁層上に設けられた画素電極及び第２の共通電極と、画素電極及び第２の共通電極上に設けられた液晶材料と、を有し、画素電極は、薄膜トランジスタにより制御され、第１の共通電極と、第２の共通電極とは電気的に接続され、画素電極と第１の共通電極との間の電界、及び画素電極と第２の共通電極との間の電界によって、液晶材料の傾きが制御されることを特徴とする液晶表示装置である。
本発明の別形態は、絶縁基板上に形成された薄膜トランジスタと、薄膜トランジスタが有するソース電極及びドレイン電極と同一層に設けられた第１の共通電極と、第１の共通電極に接続された導電層と、第１の共通電極及び導電層上に設けられた絶縁層と、絶縁層上に設けられた画素電極及び第２の共通電極と、画素電極及び第２の共通電極上に設けられた液晶材料と、を有し、画素電極と第１の共通電極との間の電界、及び画素電極と第２の共通電極との間の電界によって、液晶材料の傾きが制御されることを特徴とする液晶表示装置である。
本発明の別形態は、絶縁基板上に形成された薄膜トランジスタと、薄膜トランジスタが有する半導体層と同一層に設けられた第１の共通電極と、第１の共通電極に接続された導電層と、第１の共通電極及び導電層上に設けられた絶縁層と、絶縁層上に設けられた画素電極及び第２の共通電極と、画素電極及び第２の共通電極上に設けられた液晶材料と、を有し、画素電極と第１の共通電極との間の電界、及び画素電極と第２の共通電極との間の電界によって、液晶材料の傾きが制御されることを特徴とする液晶表示装置である。
本発明の構成において、薄膜トランジスタは結晶性の半導体層を有することができる。
本発明の構成において、第１の共通電極上及び薄膜トランジスタ上に設けられたパッシベーション層と、パッシベーション層を介して第１の共通電極上に設けられたカラーフィルターと、パッシベーション層を介して薄膜トランジスタ上に設けられたブラックマトリクスと、を有することができる。
本発明の構成において、第１の共通電極上及び薄膜トランジスタ上に設けられたパッシベーション層と、パッシベーション層を介して第１の共通電極上及び薄膜トランジスタ上に設けられたカラーフィルターと、絶縁基板に対向して設けられた対向基板と、対向基板に設けられたブラックマトリクスと、を有することができる。
本発明の構成において、薄膜トランジスタ上に設けられたパッシベーション層と、パッシベーション層を介して設けられたカラーフィルターと、カラーフィルターを介して設けられた第１の共通電極と、パッシベーション層を介して薄膜トランジスタ上に設けられたブラックマトリクスと、を有することができる。
本発明の別形態は、絶縁基板上に形成されたゲート電極、ゲート電極と同一層に形成された第１の共通電極と、ゲート電極及び第１の共通電極を覆って設けられた絶縁層と、絶縁層を介して、ゲート電極上に設けられた半導体層と、半導体層に設けられたソース電極及びドレイン電極と、ソース電極及びドレイン電極と同一層に形成され、第１の共通電極に接して設けられた導電層と、ソース電極又はドレイン電極に接続された画素電極と、導電層を介して、第１の共通電極と接続された第２の共通電極と、画素電極及び第２の共通電極上に設けられた液晶材料と、を有し、画素電極と第１の共通電極との間の電界、及び画素電極と第２の共通電極との間の電界によって、液晶材料の傾きが制御されることを特徴とする液晶表示装置である。
本発明の別形態は、絶縁基板上に形成されたゲート電極、及びゲート電極と同一層に形成された導電層と、導電層に接して設けられた第１の共通電極と、ゲート電極及び第１の共通電極を覆って設けられた絶縁層と、絶縁層を介して、ゲート電極上に設けられた半導体層と、半導体層に設けられたソース電極及びドレイン電極と、ソース電極又はドレイン電極に接続された画素電極と、導電層を介して、第１の共通電極と接続された第２の共通電極と、画素電極及び第２の共通電極上に設けられた液晶材料と、を有し、画素電極と第１の共通電極との間の電界、及び画素電極と第２の共通電極との間の電界によって、液晶材料の傾きが制御されることを特徴とする液晶表示装置である。
本発明の構成において、半導体層は非晶質半導体層を有することができる。
本発明の構成において、第１の共通電極上に設けられたパッシベーション層と、パッシベーション層を介して第１の共通電極上に設けられたカラーフィルターと、ソース電極及びドレイン電極上に設けられたブラックマトリクスと、を有することができる。
本発明の構成において、第１の共通電極上及びゲート電極上に設けられたパッシベーション層と、ソース電極及びドレイン電極上、及びパッシベーション層を介して第１の共通電極上に設けられたカラーフィルターと、絶縁基板に対向して設けられた対向基板と、対向基板に設けられたブラックマトリクスと、を有することができる。
本発明の構成において画素電極は櫛歯形状を有することができる。
本発明の構成において、第１の共通電極は、櫛歯形状を有することができる。
本発明の構成において、第２の共通電極は、櫛歯形状を有することができる。
本発明の構成において、画素電極は、透光性を有する材料であってもよい。
本発明の構成において、第１の共通電極は、透光性を有する材料であってもよい。
本発明の構成において、第２の共通電極は、透光性を有する材料であってもよい。
このような本発明により、２組以上の電極を用いて液晶材料に十分な電界をかけることができる。そして２組の電極間に生じる電界によって、液晶材料の傾きを制御し、階調表示を行うことができる。
また、本発明により、広視野角であり、また表示画面を見る角度に依存した色味の変化が少なく、さらに太陽光が照らされた外界においても暗い室内（若しくは夜の屋外）においても良好に視認される画像を得ることができる。
以下に、本発明の実施の形態を図面に基づいて説明する。但し、本発明は多くの異なる態様で実施することが可能であり、本発明の趣旨及びその範囲から逸脱することなくその形態及び詳細を様々に変更し得ることは当業者であれば容易に理解される。従って、本実施の形態の記載内容に限定して解釈されるものではない。なお、実施の形態を説明するための全図において、同一部分又は同様な機能を有する部分には同一の符号を付し、その繰り返しの説明は省略する。
なお、本発明において、適用可能なトランジスタの種類に限定はなく、非晶質シリコンや多結晶シリコンに代表される非単結晶半導体膜を用いた薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）、半導体基板やＳＯＩ基板を用いて形成されるトランジスタ、ＭＯＳ型トランジスタ、接合型トランジスタ、バイポーラトランジスタ、有機半導体やカーボンナノチューブを用いたトランジスタ、その他のトランジスタを適用することができる。また、トランジスタが配置されている基板の種類に限定はなく、単結晶基板、ＳＯＩ基板、ガラス基板などに配置することが出来る。
なお、本発明において、接続されているとは、電気的に接続されていることと同義である。したがって、本発明が開示する構成において、所定の接続関係に加え、その間に電気的な接続を可能とする他の素子（例えば、別の素子やスイッチやトランジスタや容量素子や抵抗素子やダイオードなど）が配置されていてもよい。
なお、本発明において示すスイッチは、電気的スイッチであっても機械的なスイッチであっても良い。電流の流れを制御できるものであれば良い。トランジスタでもよいし、ダイオードでもよいし、それらを組み合わせた論理回路でもよい。よって、スイッチとしてトランジスタを用いる場合、そのトランジスタは、単なるスイッチとして動作するため、トランジスタの極性（導電型）は特に限定されない。ただし、オフ電流が少ない方が望ましい場合、オフ電流が少ない方の極性のトランジスタを用いることが望ましい。オフ電流が少ないトランジスタとしては、ＬＤＤ領域を設けているものや、マルチゲート構造にしたもの等がある。また、スイッチとして動作させるトランジスタのソース端子の電位が、低電位側電源（Ｖｓｓ、Ｖｇｎｄ、０Ｖなど）に近い状態で動作する場合はｎチャネル型を、反対に、ソース端子の電位が、高電位側電源（Ｖｄｄなど）に近い状態で動作する場合はｐチャネル型を用いることが望ましい。なぜなら、ゲートとソース間の電圧の絶対値を大きくできるため、スイッチとして、機能しやすくなるからである。なお、ｎチャネル型とｐチャネル型の両方を用いて、ＣＭＯＳ型のスイッチにしてもよい。
なお、すでに述べたように、本発明におけるトランジスタは、どのようなタイプのトランジスタでもよいし、どのような基板上に形成されていてもよい。したがって、画素を駆動する回路が、全てガラス基板上に形成されていてもよいし、プラスチック基板に形成されていてもよいし、単結晶基板に形成されていてもよいし、ＳＯＩ基板上に形成されていてもよいし、どのような基板上に形成されていてもよい。あるいは、画素を駆動する回路の一部が、ある基板に形成されており、画素を駆動する回路の別の一部が、別の基板に形成されていてもよい。つまり、画素を駆動する回路の全てが同じ基板上に形成されていなくてもよい。例えば、画素部とゲート線駆動回路とは、ガラス基板上にＴＦＴを用いて形成し、信号線駆動回路（もしくはその一部）は、単結晶基板上に形成し、そのＩＣチップをＣＯＧ（Ｃｈｉｐ Ｏｎ Ｇｌａｓｓ）で接続してガラス基板上に配置してもよい。あるいは、そのＩＣチップをＴＡＢ（Ｔａｐｅ Ａｕｔｏ Ｂｏｎｄｉｎｇ）やプリント基板を用いてガラス基板と接続してもよい。
なお、画素に配置するのは、特定の素子に限定されない。画素に配置する表示素子の例としては、ＥＬ素子（エレクトロルミネッセンス（Ｅｌｅｃｔｒｏ Ｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｃｅ：ＥＬ）；有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ（Ｏｒｇａｎｉｃ Ｌｉｇｈｔ Ｅｍｉｔｔｉｎｇ Ｄｉｏｄｅ）、有機ＥＬ素子、無機ＥＬなどとも言う）やフィールドエミッションディスプレイ（ＦＥＤ）で用いる素子、ＦＥＤの一種であるＳＥＤ（Ｓｕｒｆａｃｅ−ｃｏｎｄｕｃｔｉｏｎ Ｅｌｅｃｔｒｏｎ−ｅｍｉｔｔｅｒ Ｄｉｓｐｌａｙ）、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、ＧＬＶ（グレーティングライトバルブ）プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、電子ペーパーディスプレイ、デジタルマイクロミラーデバイス（ＤＭＤ）、圧電セラミックディスプレイなど、どのような表示素子でもよい。
なお、半導体装置とは、トランジスタやダイオードなどの半導体素子を有する装置のことをいう。なお、表示装置とは、液晶素子やＥＬ素子などの表示素子を有する装置のことを言う。なお、液晶表示装置とは、液晶素子を有する表示装置のことをいう。発光装置とは、ＥＬ素子やＦＥＤで用いる素子などの発光素子を有する装置のことをいう。
（実施の形態１）
本発明の液晶表示装置の一態様について図７８を参照して説明する。液晶表示装置にはマトリクス状に配列された複数の画素が設けられおり、図７８には、一画素の断面構造の一態様が示されている。
本発明の液晶表示装置の一態様について図７８を参照して説明する。液晶表示装置にはマトリクス状に配列された複数の画素が設けられおり、図７８には、一画素の断面構造の一態様が示されている。
図７８に示すように、光を反射させて表示を行う部分（反射部）１００１と光を透過させて表示を行う部分（透過部）１００２とを有する。各々の領域において、画素電極として機能する電極と、共通電極として機能する電極とを有する。
画素電極として機能する電極は、櫛歯状やスリット状などになっている。一方、共通電極として機能する電極は、平面状などになっている部分と、櫛歯状やスリット状などになっている部分とがある。ただし、これらの組み合わせに限定されない。
そして、画素電極として機能する電極と、共通電極として機能する電極に電圧が供給され、それによって電界が生じる。その電界は、基板に平行な成分を多く含んでいる。そして、液晶分子は、その電界に応じて、基板と平行方向な面内で回転する。それにより、光の透過率や反射率を制御することができ、階調を表示することが出来る。
共通電極として機能する電極が複数ある場合は、絶縁層に開口部（コンタクトホール）を開けたり、電極を重ねたりすることにより、互いに電気的に接続させることが望ましい。
また、画素電極として機能する電極と共通電極として機能する電極とが、絶縁層を介して配置されている場合、その部分は、容量として機能することができる。容量は、画像信号を保持するための保持容量として機能させることが出来る。
光を反射させて表示を行う部分（反射部）１００１においては、反射電極を有しており、反射電極で光を反射させて、表示が行われる。反射電極は、共通電極を兼ねる場合があり、この場合、反射電極は共通電極と接続されて、電圧が供給されている場合がある。勿論、反射電極と、共通電極とを別々の電極とする場合もある。このように反射電極と共通電極とが別々に存在する場合には、反射電極には電圧が供給されていなかったり、別の電圧が供給されている場合もある。
光を透過させて表示を行う部分（透過部）１００２においては、透明電極を有している場合があり、そこで光を透過させたり、電極の隙間から光を透過させて、表示が行われる。透明電極は、共通電極を兼ねる場合もあり、この場合、透明電極は共通電極と接続されて、電圧が供給されている場合がある。勿論、透明電極と、共通電極とを別々の電極とする場合もある。このように透明電極が共通電極とは別々に存在する場合には、透明電極には電圧が供給されていなかったり、別の電圧が供給されている場合もある。また、透明電極は、画素電極を兼ねる場合もある。
次に、図７８の構成について述べる。反射部１００１においては、液晶素子の電極９１０３と、液晶素子の電極９３０５とは間に絶縁層９２０４、９３０４を挟んで重なっている。また、透過部１００２においては、液晶素子の電極９１０３と液晶素子の電極９１０４とは間に絶縁層９３０４を挟んで重なっている。
また、反射部１００１、透過部１００２において、液晶素子の電極９１０３と液晶素子の電極９１０５とは、互い違いとなるように交互に配置されている。
液晶素子の電極９１０３、９１０５は、櫛歯状に形成されており、液晶素子の電極９３０５、液晶素子の電極９１０４は、平面状に形成されている。ただし、これに限定されない。液晶素子の電極９３０５、液晶素子の電極９１０４に、スリットのような隙間があったり、穴があいていたり、櫛歯状になっていてもよい。
液晶素子の電極９１０３が、画素電極として機能し、液晶素子の電極９３０５、液晶素子の電極９１０４、液晶素子の電極９１０５は、共通電極として機能する。ただし、これに限定されない。液晶素子の電極９１０３が、共通電極として機能し、液晶素子の電極９３０５、液晶素子の電極９１０４、液晶素子の電極９１０５が画素電極として機能してもよい。
共通電極として機能する電極は、絶縁層にコンタクトホールを開けたり、電極を重ねたりすることにより、各々の電極を電気的に接続されることが望ましい。
液晶素子の電極９３０５は、導電性を有すると共に光を反射する材料で形成されている。よって、反射電極として機能している。また、液晶素子の電極９１０４は、透光性を有すると共に光を透過する材料で形成されている。よって、透明電極として機能している。
液晶素子の電極９１０３、９１０５は、導電性を有すると共に光を透過する材料で形成されていることが望ましい。なぜなら、光を透過できるため、画像を表示する部分に寄与できるためである。ただし、液晶素子の電極９１０３、９１０５は、光を反射する材料で形成されていてもよい。その場合は、例え、透過部１００２であっても、光を反射するため、反射部として機能させることが出来る。
なお、液晶素子の電極９１０３、９１０５は、同時に形成されていることが望ましい。同時に形成することにより、プロセス工程を簡略化でき、マスク（レチクル）数を低減することができ、コストを下げることが出来るためである。ただし、これに限定されず、別々に形成してもよい。その場合、液晶素子の電極９１０３、９１０５のいずれか一方が透過性を有し、他方が反射性を有していても良い。
また、画素電極として機能する電極（液晶素子の電極９１０３）と共通電極として機能する電極（液晶素子の電極９３０５、液晶素子の電極９１０４、液晶素子の電極９１０５）とが、絶縁層を介して配置されている場合、その部分は、容量として機能する。よって、画像信号を保持するための保持容量として機能させることも出来る。
図７８や図７９に示すように、液晶素子の電極９１０３と液晶素子の電極９３０５、液晶素子の電極９１０５の間に電位差が生じたとき、液晶層９３０３に含まれている液晶分子（９３０３ａ，９３０３ｂ）は、液晶素子の電極９１０３、９３０５、９１０４の電極面と平行な方向（つまり基板と平行な面内において）に回転し、光が、液晶層９３０３を通る量を制御できるようになる。すなわち、光の偏光状態を制御できるようになり、基板の外部に設けられている偏光板を通過できる光の量を制御することが出来るようになる。図７９は、図７７（Ａ）や図１１２（Ａ）に相当し、図７９に示した液晶分子（９３０３ａ，９３０３ｂ）も図７７（Ａ）及び（Ｂ）、図１１２（Ａ）及び（Ｂ）と同様に回転する。外界から液晶表示装置内に入射した光は液晶層９３０３を通った後、液晶素子の電極９１０３や絶縁層９２０４、９３０４を透過して、液晶素子の電極９３０５において反射した後、再び、絶縁層９２０４、９３０４や液晶素子の電極９１０３や液晶層９３０３を通って液晶表示装置内から射出する。
なお、図７９における電極９００４は、図７８における液晶素子の電極９３０５や液晶素子の電極９１０４に相当し、図７９における絶縁層９００５は、図７８における絶縁層９２０４や絶縁層９３０４に相当する。
図７９に示したように、画素電極として機能する電極の下方や横方向や斜め方向（斜め上方向や斜め下方向も含む）に、共通電極として機能する電極が存在することにより、領域９００２や領域９００３において、基板に平行な電界成分が、より多く生じるようになる。その結果、視野角特性がさらに向上する。
なお、絶縁層９２０４、９３０４は、屈折率異方性をほとんど有しないため、そこを光が通っても、偏光状態は変化しない。
なお、光を反射させて表示を行う部分（反射部）１００１や光を透過させて表示を行う部分（透過部）１００２において、光が通る光路上にはカラーフィルターが設けられており、所望の色の光に変換される。このようにして各画素から射出された光が合成されることによって画像が映し出される。
よって、液晶層９３０３の上に配置される対向基板上にカラーフィルターが設けられていてもよいし、液晶素子の電極９１０３の上方に設けられていてもよいし、絶縁層９３０４の中やその一部に設けられていても良い。
なお、カラーフィルターと同様に、ブラックマトリクスが設けられていても良い。
なお、光を反射させて表示を行う部分（反射部）１００１においては、液晶層９３０３の中を光が２回通る。つまり、外光が対向基板側から液晶層９３０３に入り、液晶素子の電極９３０５で反射されて、再度、液晶層９３０３に入って、対向基板側の外に出て行くので、液晶層９３０３を２回通ることになる。
一方、光を透過させて表示を行う部分（透過部）１００２においては、光は、液晶素子の電極９１０４を通って液晶層９３０３に入り、対向基板から出て行く。つまり、液晶層９３０３の中を光が１回通る。
ここで、液晶層９３０３は、屈折率異方性を有しているため、液晶層９３０３を通る距離によって、光の偏光状態が変わってくる。そのため、画像を表示する場合に、正しく表示できなくなってしまう。そこで、光の偏光状態を調整する必要がある。そのための方法として、光を反射させて表示を行う部分（反射部）１００１の液晶層９３０３の厚さ（いわゆるセルギャップ）を薄くすることにより、２回通っても、距離が長くなりすぎないようにすればよい。
なお、絶縁層９２０４、９３０４は、屈折率異方性をほとんど有しないため、そこを光が通っても、偏光状態は変化しない。よって、絶縁層９２０４、９３０４の有無や厚さなどは、大きな影響は与えない。
そこで、液晶層９３０３の厚さ（いわゆるセルギャップ）を薄くするために、厚さを調整する膜を配置すればよい。図７８においては、絶縁層９２０４がそれに相当する。つまり、光を反射させて表示を行う部分（反射部）１００１において、絶縁層９２０４は液晶層の厚さを調整する為に設けられている層である。絶縁層９２０４を設けることによって反射部１００１における液晶層の厚さを、透過部１００２における液晶層の厚さよりも薄くすることが出来る。
なお、反射部１００１での液晶層９３０３の厚さは、透過部１００２における液晶層９３０３の厚さの２分の１となることが望ましい。ここで、２分の１とは、人間の目で視認できない程度のずれを有していても良い程度のずれ量も含む。
ただし、光は基板と垂直な方向、つまり法線方向のみから入射するわけではない。斜めから入射する場合も多い。よって、それらの場合を総合して、反射部１００１と透過部１００２とで、光の通る距離が概ね同じ程度になればよい。したがって、反射部１００１での液晶層９３０３の厚さは、透過部１００２における液晶層９３０３の厚さの概ね３分の１以上、３分の２以下となることが望ましい。
このように、液晶素子の電極９１０３が設けられている基板側に、厚さを調整する膜を配置することにより、膜の形成が容易になる。つまり、液晶素子の電極９１０３が設けられている基板側では、様々な配線や電極や膜を形成している。従って、それらの配線や電極や膜を用いて厚さを調整する膜を形成できるので、膜の形成する上で、困難が少なくてすむ。また、他の機能を有する膜を同一工程により形成することも可能となるため、プロセス工程を簡略化でき、コストを低減することが出来る。
以上のような構成を有する本発明の液晶表示装置は、広視野角であり、また表示画面を見る角度に依存した色味の変化が少なく、さらに太陽光が照らされた外界においても暗い室内（若しくは夜の屋外）においても良好に視認される画像を提供することができる。
なお、図７８において、液晶素子の電極９３０５と液晶素子の電極９１０４とは、同一平面の上に配置されているが、これに限定されない。異なる平面の上に形成されていてもよい。
なお、図７８において、液晶素子の電極９３０５と液晶素子の電極９１０４とは、離れて配置されているが、これに限定されない。接触させて配置されていてもよいし、同じ電極で形成されていてもよい。また、液晶素子の電極９３０５と液晶素子の電極９１０４とは、電気的に接続されていてもよい。また、液晶素子の電極９３０５と液晶素子の電極９１０５とは、電気的に接続されていてもよい。また、液晶素子の電極９１０５と液晶素子の電極９１０４とは、電気的に接続されていてもよい。
なお、図７８において、液晶層９３０３の厚さを調整するための膜として、絶縁層９２０４が配置されているが、これに限定されない。対向基板側に液晶層９３０３の厚さを調整するための膜が配置されていてもよい。
なお、液晶層９３０３の厚さを薄くするために、膜が配置されているが、逆に、液晶層９３０３の厚さを厚くするために、所定の領域において、膜を除去するようにしてもよい。
なお、反射電極は、その表面が平坦であってもよいが、凹凸を有していることが望ましい。凹凸を有することによって、光を拡散して反射させることが出来る。その結果、光を散らすことができるため、輝度を向上させることが出来る。
なお、図８０に示すように、透過部１００２において、液晶素子の電極９１０４は、なくても良い。
その場合は、図８１に示すように、液晶素子の電極９１０５、液晶素子の電極９１０３の間に電圧を加えて、液晶分子（９３０３ａ，９３０３ｂ）を制御する。
このように、透過部１００２において、液晶素子の電極９１０４を配置しないため、その分だけ、プロセス工程を簡略化でき、マスク（レチクル）数を低減することができ、コストを下げることが出来る。
（実施の形態２）
実施の形態１と構成の異なる本発明の液晶表示装置の態様について説明する。なお、実施の形態１と同じ機能を有するものについては同じ符号を用いて表す。
実施の形態１と構成の異なる本発明の液晶表示装置の態様について説明する。なお、実施の形態１と同じ機能を有するものについては同じ符号を用いて表す。
図８２には、液晶素子の電極９３０５と液晶素子の電極９１０４が積層しているという点で、図７８の液晶表示装置と異なる液晶表示装置の態様が示されている。液晶素子の電極９３０５と液晶素子の電極９１０４を共に同じ電位としたい場合、このように積層させ電気的に接続させてもよい。
なお、液晶素子の電極９３０５の下に液晶素子の電極９１０４が配置されているが、これに限定されない。液晶素子の電極９３０５の上に液晶素子の電極９１０４が配置されていてもよい。
なお、液晶素子の電極９３０５の下の全域にわたって、液晶素子の電極９１０４が配置されているが、これに限定されない。液晶素子の電極９１０４が、液晶素子の電極９３０５の下や上に、一部のみ配置されていてもよい。
なお、液晶素子の電極９３０５の下の全域にわたって、液晶素子の電極９１０４が配置されている場合、液晶素子の電極９３０５と液晶素子の電極９１０４とを１枚のマスクで形成することが可能である。通常、液晶素子の電極９３０５と液晶素子の電極９１０４とは、別々のマスクで形成されるが、この場合は、ハーフトーン、グレートーン等というマスクを作って、レジストの厚さを領域によって変えることにより、１枚のマスクで形成することが可能である。その結果、プロセス工程を簡略化でき、工程数を減らすことができ、マスク数（レチクル数）を減らすことが出来る。そのため、コストを低減することが可能となる。
図８３では、液晶素子の電極９３０５及び液晶素子の電極９１０４のそれぞれの一部を積層させて、両電極を電気的に接続させている液晶表示装置の態様が示されている。このような構成によって、両電極を電気的に接続させてもよい。
なお、液晶素子の電極９３０５の上に、液晶素子の電極９１０４を配置して接触させているが、これに限定されない。液晶素子の電極９１０４の上に、液晶素子の電極９３０５を配置して接触させてもよい。
このように、液晶素子の電極９３０５の上の多くの領域において、液晶素子の電極９１０４を上に配置しないことにより、そこでの光の損失を低減することが出来る。
図８４では、液晶素子の電極９３０５及び液晶素子の電極９１０４は、絶縁層９３０６を挟んで異なる層に設けられている。このように、液晶素子の電極９３０５、９１０４はそれぞれ異なる層に設けられていてもよい。
このように、液晶素子の電極９３０５と液晶素子の電極９１０４とを異なる層に配置することにより、反射部１００１における液晶素子の電極９３０５と液晶素子の電極９１０３との距離と、透過部１００２における液晶素子の電極９１０４と液晶素子の電極９１０３との距離とを、概ね同程度にすることが出来る。そのため、反射部１００１と透過部１００２とにおいて、電極の間隔を同程度にすることが出来る。電界のかかり方や強度は、電極間の距離によって変化するため、電極の間隔を同程度とすることにより、反射部１００１と透過部１００２とにおいて、液晶層９３０３に加わる電界も同程度にすることが出来るため、液晶分子の制御を正確に行うことが出来る。また、反射部１００１と透過部１００２とで、液晶分子の回転度合いが概ね等しくなるので、透過型として表示・閲覧する場合と、反射型として表示・閲覧する場合とで、概ね等しい階調として画像を閲覧することが出来る。
なお、液晶素子の電極９１０４は、液晶素子の電極９３０５の下方の領域全体に配置されているが、これに限定されない。液晶素子の電極９１０４は、少なくとも、透過部１００２に配置されていればよい。
なお、絶縁層９３０６にコンタクトホールを形成し、液晶素子の電極９１０４と液晶素子の電極９３０５とを接続させてもよい。
図８５には、液晶素子の電極９３０５の方が液晶素子の電極９１０４よりも下層（液晶層９３０３よりも遠い方）に設けられている点で図８４の液晶表示装置と異なる液晶表示装置の態様が示されている。
なお、液晶素子の電極９１０４は、反射部１００１にも形成されているが、これに限定されない。少なくとも、透過部１００２に配置されていればよい。
なお、液晶素子の電極９１０４が反射部１００１にも形成されている場合、反射部１００１においても、液晶素子の電極９１０４と液晶素子の電極９１０３の間の電圧によって、液晶層９３０３を制御することになる。その場合は、液晶素子の電極９３０５は、反射電極としてのみ機能することとなり、反射部１００１における共通電極は液晶素子の電極９１０４が役割を担うこととなる。
したがって、その場合、液晶素子の電極９３０５に供給される電圧は任意となる。液晶素子の電極９１０４と同じ電圧を供給してもよいし、液晶素子の電極９１０３と同じ電圧を供給してもよい。その場合、液晶素子の電極９３０５と液晶素子の電極９１０４との間で容量素子が形成されたこととなり、画像信号を保持するための保持容量として機能させることも出来る。
なお、絶縁層９３０６にコンタクトホールを形成し、液晶素子の電極９１０４と液晶素子の電極９３０５とを接続させてもよい。
図８６には、絶縁層９３０４上に、反射部１００１の液晶素子の電極９３０５と透過部１００２の液晶素子の電極９１０３、９１０５が形成されている。そして、絶縁層９２０４が、液晶素子の電極９３０５の上に形成され、その上に、反射部の液晶素子の電極９１０３、９１０５が形成されている。液晶素子の電極９１０４は、絶縁層９３０４の下に形成されている。
なお、液晶素子の電極９１０４は、反射部１００１にも形成されているが、これに限定されない。少なくとも、透過部１００２に配置されていればよい。
なお、絶縁層９３０４にコンタクトホールを形成し、液晶素子の電極９１０４と液晶素子の電極９３０５とを接続させてもよい。
なお、図９３に示すように、透過部１００２において、液晶素子の電極９１０４は、なくても良い。
その場合は、図８１に示すように、液晶素子の電極９１０５、液晶素子の電極９１０３の間に電圧を加えて、液晶分子（９３０３ａ，９３０３ｂ）を制御する。
このように、透過部１００２において、液晶素子の電極９１０４を配置しないため、その分だけ、プロセス工程を簡略化でき、マスク（レチクル）数を低減することができ、コストを下げることが出来る。
なお、図７８から図８６、図９３において、電極の表面には、凹凸は記載していなかったが、液晶素子の電極９１０３、液晶素子の電極９３０５、液晶素子の電極９１０４、液晶素子の電極９１０５に関して、その表面が平坦であることに限定されない。表面に凹凸を有していても良い。
また、図７８から図８６、図９３において、絶縁層９２０４，９３０４、９３０６の表面には、凹凸は記載していなかったが、絶縁層９２０４，９３０４、９３０６に関して、その表面が平坦であることに限定されない。表面に凹凸を有していても良い。
なお、反射電極の表面に、大きな凹凸を多く設けることにより、光を拡散させることができる。その結果、表示装置の輝度を向上させることが出来る。そこで、図７８から図８６、図９３に示した反射電極や透明電極（液晶素子の電極９３０５、液晶素子の電極９１０４）は、表面に凹凸があってもよい。
なお、反射電極の表面の凹凸の形状は、出来るだけ光が拡散されやすくなっていればよい。
透過部１００２においては、電界のかかり方が乱れないようにするため、透明電極に凹凸がない方が望ましい。ただし、凹凸があっても、表示に影響がなければ問題ない。
図７８において反射電極の表面に凹凸がある場合の図を図８７に示し、図８２において反射電極の表面に凹凸がある場合の図を図８８、図８９に示し、図８３において反射電極の表面に凹凸がある場合の図を図９０に示し、図８４において反射電極の表面に凹凸がある場合の図を図９１に示し、図８５において反射電極の表面に凹凸がある場合の図を図９２に示す。
よって、図７８から図８６、図９３において、反射電極の表面に凹凸がない場合に述べた内容は、図８６から図９２の場合にも適用できる。
図８７には、液晶素子の電極９３０５の下方にｃｏｎｖｅｘ形の散乱体９３０７が設けられているという点で図７８の液晶表示装置と異なる液晶表示装置の態様が示されている。このようにｃｏｎｖｅｘ形の散乱体を設け、液晶素子の電極９３０５の表面に凹凸を設けることによって、光を散乱させることができ、光の反射に起因したコントラストの低下や、映り込みを防ぐことができ、輝度を向上させることが出来る。
なお、散乱体９３０７の形状は、出来るだけ光が拡散されやすくなっていることが望ましい。ただし、その上に電極や配線を配置する場合があるため、電極や配線が断線してしまわないような、滑らかな形状が望ましい。
図８９には、液晶素子の電極９３０５と液晶素子の電極９１０４が積層しているという点で、図８８の液晶表示装置と異なる液晶表示装置の態様が示されている。
液晶素子の電極９１０４と液晶素子の電極９３０５とを密着させる面積が多いため、接触抵抗を低くすることが出来る。
図９０には、散乱体９２０３が液晶素子の電極９３０５と液晶素子の電極９１０４との間に設けられているという点で、図８９の液晶表示装置と異なる液晶表示装置の態様が示されている。
液晶素子の電極９１０４を形成した後に、散乱体９２０３を形成するため、反射部１００１において、液晶素子の電極９１０４を平坦にすることが出来る。
図９０には、液晶素子の電極９３０５の下方にｃｏｎｖｅｘ形の散乱体９２０３が設けられているという点で図８３の液晶表示装置と異なる液晶表示装置の態様が示されている。
図９１には、絶縁層９３０６の表面の一部に凹凸を有するという点で図８４の液晶表示装置と異なる液晶表示装置の態様が示されている。このような絶縁層９３０６の形状を反映して液晶素子の電極９３０５の表面に凹凸が設けられる。
図９２には、液晶素子の電極９３０５の下に、表面の一部に凹凸を有する絶縁層９３０８を設けることによって液晶素子の電極９３０５の表面に凹凸が設けられているという点で、図８５の液晶表示装置と異なる液晶表示装置の態様が示されている。
これまで、図７８から図９３において、液晶層９３０３の厚さを調整する膜は、液晶素子の電極９１０３の下に形成されていたが、これに限定されない。図９４に示すように、液晶素子の電極９１０３、９１０５の上に、液晶層９３０３の厚さを調整する絶縁層９２０４が配置されていてもよい。
なお、このとき、図９５に示すように、透過部１００２において、液晶素子の電極９１０４は、なくても良い。
その場合は、図８１に示すように、液晶素子の電極９１０５、液晶素子の電極９１０３の間に電圧を加えて、液晶分子（９３０３ａ，９３０３ｂ）を制御する。
このように、透過部１００２において、液晶素子の電極９１０４を配置しないため、その分だけ、プロセス工程を簡略化でき、マスク（レチクル）数を低減することができ、コストを下げることが出来る。
ここで、図９４は、図７８に対応するものである。図８２から図９２の場合においても、図９４と同様、液晶素子の電極９１０３の上に、液晶層９３０３の厚さを調整する絶縁層９２０４を配置することが出来る。
これまで、図７８から図９４の中の多くの図において、液晶層９３０３の厚さを調整する膜は、液晶素子の電極９１０３が形成されている基板側に配置されていたが、これに限定されない。対向基板側に配置されていてもよい。
対向基板側に、液晶層９３０３の厚さを調整する膜を配置することにより、液晶素子の電極９１０３を、反射部１００１と透過部１００２において、同一平面上に配置することが可能となる。そのため、画素電極と共通電極との距離が、反射部１００１と透過部１００２とで、概ね等しくすることが可能となる。電界のかかり方や強度は、電極間の距離によって変化するため、電極の間隔を同程度とすることにより、反射部１００１と透過部１００２とにおいて、液晶層９３０３に加わる電界も同程度にすることが出来るため、液晶分子の制御が正確に行うことが出来る。また、反射部１００１と透過部１００２とで、液晶分子の回転度合いが概ね等しくなるので、透過型として表示・閲覧する場合と、反射型として表示・閲覧する場合とで、概ね等しい階調として画像を閲覧することが出来る。
また、液晶層９３０３の厚さを調整する膜があると、その近傍において、液晶分子の配向状態が乱れてしまう可能性があり、ディスクリネーションなどの不良を生んでしまう可能性がある。しかし、対向基板上に液晶層９３０３の厚さを調整する膜を配置することにより、対向基板９２０２を液晶素子の電極９１０３から離すことができるので、液晶層にかかる電界が弱くなるために液晶分子の配向状態が乱れ、見にくくなってしまうことを防ぐことが出来る。
また、対向基板は、カラーフィルターやブラックマトリクスなどを形成するだけなので、工程数が少ない。よって、対向基板９２０２に液晶層９３０３の厚さを調整する膜を形成しても、歩留まりを低下させにくくなる。仮に、不良が出ても、工程数が少なく、コストも安いので、製造コストが無駄になる量を少なくすることが出来る。
なお、対向基板９２０２に液晶層９３０３の厚さを調整する膜を形成する場合、厚さ調整膜の中に、光を拡散させて輝度を向上させることができるように散乱材として機能する粒子を含ませてもよい。粒子は、ギャップ調整膜を構成している基材（例えばアクリル樹脂など）と屈折率が異なると共に、透光性を有する樹脂材料から成る。このように粒子を含ませることによって、光を散乱させることができ、表示画像のコントラスト、輝度も向上する。
そこで、図７８において対向基板に厚さ調整膜がある場合の図を図９６に示し、図８２において対向基板に厚さ調整膜がある場合の図を図９７に示し、図８３において対向基板に厚さ調整膜がある場合の図を図９８に示し、図８４において対向基板に厚さ調整膜がある場合の図を図９９に示し、図８５において対向基板に厚さ調整膜がある場合の図を図１００に示し、図８０において対向基板に厚さ調整膜がある場合の図を図１０１に示す。
よって、図７８から図８６において述べた内容は、図９６から図１０１の場合にも適用できる。
図９６には、液晶層９３０３の厚さを調整する為の絶縁層９２０１が液晶層９３０３を挟んで、液晶素子の電極９１０３と反対側に設けられており、さらに、液晶素子の電極９１０３が絶縁層９３０４上に設けられているという点で図７８の液晶表示装置と異なる液晶表示装置の態様が示されている。
図９７には、液晶層９３０３の厚さを調整する為の絶縁層９２０１が液晶層９３０３を挟んで、液晶素子の電極９１０３と反対側に設けられており、さらに、液晶素子の電極９１０３が絶縁層９３０４上に設けられているという点で図８２の液晶表示装置と異なる液晶表示装置の態様が示されている。
図９８には、液晶層９３０３の厚さを調整する為の絶縁層９２０１が液晶層９３０３を挟んで、液晶素子の電極９１０３と反対側に設けられており、さらに、液晶素子の電極９１０３が絶縁層９３０４上に設けられているという点で図８３の液晶表示装置と異なる液晶表示装置の態様が示されている。
図９９には、液晶層９３０３の厚さを調整する為の絶縁層９２０１が液晶層９３０３を挟んで、液晶素子の電極９１０３と反対側に設けられており、さらに、液晶素子の電極９１０３が絶縁層９３０４上に設けられているという点で図８４の液晶表示装置と異なる液晶表示装置の態様が示されている。
図１００には、液晶層９３０３の厚さを調整する為の絶縁層９２０１が液晶層９３０３を挟んで、液晶素子の電極９１０３と反対側に設けられており、さらに、液晶素子の電極９１０３が絶縁層９３０４上に設けられているという点で図８７の液晶表示装置と異なる液晶表示装置の態様が示されている。
図１０１には、液晶層９３０３の厚さを調整する為の絶縁層９２０１が液晶層９３０３を挟んで、液晶素子の電極９１０３と反対側に設けられており、さらに、液晶素子の電極９１０３が絶縁層９３０４上に設けられているという点で図８０の液晶表示装置と異なる液晶表示装置の態様が示されている。
なお、図９６から図１０１までにおいて、電極の表面には、凹凸は記載していなかったが、液晶素子の電極９１０３、液晶素子の電極９３０５、液晶素子の電極９１０４、液晶素子の電極９１０５に関して、その表面が平坦であることに限定されない。表面に凹凸を有していても良い。
また、図９６から図１０１までにおいて、絶縁層９２０１、絶縁層９３０４、絶縁層９３０６の表面には、凹凸は記載していなかったが、絶縁層９２０１、絶縁層９３０４、絶縁層９３０６などに関して、その表面が平坦であることに限定されない。表面に凹凸を有していても良い。
なお、反射電極の表面に、大きな凹凸を多く設けることにより、光を拡散させることができる。その結果、表示装置の輝度を向上させることが出来る。そこで、図９６から図１０１に示した反射電極や透明電極（液晶素子の電極９３０５、液晶素子の電極９１０４）は、表面に凹凸があってもよい。
なお、反射電極の表面の凹凸の形状は、出来るだけ光が拡散されやすくなっていればよい。
透過部１００２においては、液晶層における電界のかかり方が乱れないようにするため、透明電極に凹凸がない方が望ましい。ただし、凹凸があっても、表示に影響がなければ問題ない。
なお、これは、図７８から図８６に対して、凹凸のある場合を示した図８７から図９２と同等である。つまり、図９６から図１０１に対して、反射電極の表面に凹凸があってもよい。そこで図９６に対して、凹凸がある場合の例を、図１０２に示す。また、図９７から図１０１に対しても、同様に適用させることができる。
なお、図９６において、反射電極の表面に凹凸がない場合に述べた内容は、図１０２の場合にも適用できる。
図１０２には、液晶層９３０３の厚さを調整する為の絶縁層９２０１が液晶層９３０３を挟んで、液晶素子の電極９１０３と反対側に設けられており、さらに、液晶素子の電極９１０３が絶縁層９３０４上に設けられているという点で図９６の液晶表示装置と異なる液晶表示装置の態様が示されている。
これまで、図７８から図１０２において、液晶層９３０３の厚さを調整する膜は、液晶素子の電極９１０３が形成されている基板側や対向基板側に配置されていた場合があるが、これに限定されない。液晶層９３０３の厚さを調整する膜自体が配置されていなくてもよい。その場合を図１０３に示す。図１０３は、図７８、図９６に対応するものである。図７８、図９６以外の場合の図７９から図９５、図９７から図１０２の場合においても、図１０３と同様、液晶層９３０３の厚さを調整する膜自体が配置されていなくてもよい。
液晶層９３０３の厚さを調整する膜自体が配置されていない場合は、反射部と透過部とで、光が液晶層を通る距離が異なってくる。したがって、光の偏光状態を変化させるもの、例えば、位相差板（λ／４板など）や屈折率異方性を有する材料（液晶など）を光が通る経路に配置することが望ましい。例えば、対向基板の液晶層と接しない側で、偏光板と対向基板との間に、位相差板を配置することにより、反射部と透過部とで、同様な光の透過状態を作ることが出来る。
なお、図７８から図１０３までや、これまでの説明において、透過部１００２において、液晶素子の電極９１０３は、同じ平面の上に形成されていた場合があるが、これに限定されない。液晶素子の電極９１０３が、各々異なる平面の上に形成されていてもよい。
なお、図７８から図１０３までや、これまでの説明において、透過部１００２において、液晶素子の電極９１０５は、同じ平面の上に形成されていた場合があるが、これに限定されない。液晶素子の電極９１０３が、各々異なる平面の上に形成されていてもよい。
同様に、図７８から図１０３までや、これまでの説明において、反射部１００１において、液晶素子の電極９１０３は、同じ平面の上に形成されていた場合があるが、これに限定されない。液晶素子の電極９１０３が、各々異なる平面の上に形成されていてもよい。
同様に、図７８から図１０３までや、これまでの説明において、反射部１００１において、液晶素子の電極９１０５は、同じ平面の上に形成されていた場合があるが、これに限定されない。液晶素子の電極９１０３が、各々異なる平面の上に形成されていてもよい。
なお、図７８から図１０３までや、これまでの説明において、反射部１００１において、液晶素子の電極９３０５や液晶素子の電極９１０４は、平面状で配置されていた場合があるが、これに限定されない。櫛歯状や、スリットや隙間があるような形状でもよい。
なお、図７８から図１０３までや、これまでの説明において、透過部１００２において、液晶素子の電極９１０４は、平面状で配置されていた場合があるが、これに限定されない。櫛歯状や、スリットや隙間があるような形状でもよい。
なお、図７８から図１０３までや、これまでの説明において、反射部１００１において、液晶素子の電極９３０５や液晶素子の電極９１０４は、液晶素子の電極９１０３の下側に配置されていた場合があるが、これに限定されない。櫛歯状や、スリットや隙間があるような形状であれば、液晶素子の電極９１０３と同じ平面上であったり、液晶素子の電極９１０３よりも上方に配置されていてもよい。
なお、図７８から図１０３までや、これまでの説明において、反射部１００１において、液晶素子の電極９３０５や液晶素子の電極９１０４は、液晶素子の電極９１０５の下側に配置されていた場合があるが、これに限定されない。櫛歯状や、スリットや隙間があるような形状であれば、液晶素子の電極９１０５と同じ平面上であったり、液晶素子の電極９１０５よりも上方に配置されていてもよい。
なお、図７８から図１０３までや、これまでの説明において、透過部１００２において、液晶素子の電極９３０５や液晶素子の電極９１０４は、液晶素子の電極９１０３の下側に配置されていた場合があるが、これに限定されない。櫛歯状や、スリットや隙間があるような形状であれば、液晶素子の電極９１０３と同じ平面上であったり、液晶素子の電極９１０３よりも上方に配置されていてもよい。
なお、図７８から図１０３までや、これまでの説明において、透過部１００２において、液晶素子の電極９３０５や液晶素子の電極９１０４は、液晶素子の電極９１０５の下側に配置されていた場合があるが、これに限定されない。櫛歯状や、スリットや隙間があるような形状であれば、液晶素子の電極９１０５と同じ平面上であったり、液晶素子の電極９１０５よりも上方に配置されていてもよい。
なお、図７８から図１０３までや、それらの図の組み合わせなど、これまでに述べてきた構成において、液晶層９３０３の上に配置される対向基板上にカラーフィルターが設けられていてもよいし、液晶素子の電極９１０３の設けられた基板に設けられていてもよい。
例えば、絶縁層９３０４、９２０４，９３０６、９３０８などに関して、その中やその一部にカラーフィルターが設けられていても良い。
なお、カラーフィルターと同様に、ブラックマトリクスが設けられていても良い。もちろん、カラーフィルターとブラックマトリクスの両方が設けられていてもよい。
このように、絶縁層をカラーフィルターやブラックマトリクスとすることにより、材料費を節約することが出来る。
また、液晶素子の電極９１０３の設けられた基板にカラーフィルターやブラックマトリクスなどを配置することにより、対向基板との位置合わせのマージンが向上する。
なお、液晶素子の電極の位置や種類や形状、絶縁層の位置や形状などは、様々な形態をとることが出来る。つまり、ある図の液晶素子の電極の位置と、別の図の絶縁層の位置とを組み合わせることにより、さまざまな形態をとることが出来る。例えば、図７９における液晶素子の電極９３０５の形状を凹凸状にしたものを図８８に示し、図７９における液晶素子の電極９１０４の位置と形状を変更したものを図８７に示す。これまで述べた図において、各々の部分に関して、各々を組み合わせることにより、非常に多くの図を構成させることが出来る。
（実施の形態３）
実施の形態１から２においては、反射部と透過部とを有する場合、つまり、半透過型の場合について述べた。ただし、これに限定されない。
実施の形態１から２においては、反射部と透過部とを有する場合、つまり、半透過型の場合について述べた。ただし、これに限定されない。
液晶素子の電極９３０５、液晶素子の電極９１０４のいずれか一方を除去し、他方を全面に配置することにより、反射型や透過型にすることが出来る。
液晶素子の電極９３０５を除去し、液晶素子の電極９１０４を全面に配置した場合は透過型となる。屋内で使用する場合は、透過型を用いることにより、開口率が高くなるため、明るい、綺麗な表示を行うことが出来る。
液晶素子の電極９１０４を除去し、液晶素子の電極９３０５を全面に配置した場合は反射型となる。屋外で使用する場合は、反射率が高いため、見やすい表示を行うことができ、消費電力が少ない表示装置を実現することが出来る。屋内で使用する場合は、フロントライトを表示部の上側に配置することにより、表示させることができる。
なお、反射型、透過型として用いる場合は、１画素内において、液晶層の中で、光の通る距離が大きく異なる場所がない。よって、液晶層の厚さ（セルギャップ）を調整するための絶縁層９２０４は、必要ない。
そこで、図７８を透過型にした場合を図１０４、図８７を反射型にした場合を図１０５に示す。
図１０４，図１０５に示すように、絶縁層９３０４にコンタクトホールを開けることにより、液晶素子の電極９３０５や液晶素子の電極９１０４と、液晶素子の電極９１０５とを接続してもよい。これらは、共通電極として動作するため、電気的に接続されていることが望ましい。
なお、図７７から図１０３までの図や説明に関しても、図１０４、図１０５と同様に、透過型や反射型とすることが出来る。
したがって、実施の形態１から実施の形態２で述べた内容は、本実施の形態にも適用させたり、組み合わせたりすることが出来る。
（実施の形態４）
アクティブマトリクス型の本発明の液晶表示装置の一態様について説明する。
アクティブマトリクス型の本発明の液晶表示装置の一態様について説明する。
本実施の形態では、実施の形態１から３において述べた構成や、そこで示した図の各々のパーツから組み合わせにより実現できる構成について、トランジスタも一緒に形成した場合の実現例について示す。
なお、本発明において、トランジスタは必須ではないため、トランジスタが配置されていない、いわゆるパッシブマトリクス型の表示装置にも適用可能である。
本実施の形態では、透過型として動作し、トップゲート型トランジスタを用いて制御した場合について述べる。
ただし、これに限定されない。ボトムゲート型トランジスタを用いてもよい。
図１には、絶縁表面を有する基板（以下、絶縁基板と記す）１００上に、薄膜トランジスタ１０２と、薄膜トランジスタに接続された第１電極１０３、第２電極１０４、第３電極１０５を有する液晶表示装置を示す。第１電極１０３は、画素電極として機能する。第２電極１０４は、共通電極として機能する。第３電極１０５は、共通電極として機能する。
なお、ゲート電極は、ゲート線の一部である。ゲート線のなかで、特に薄膜トランジスタ１０２をスイッチングさせる為の電極として機能する部分がゲート電極である。
コモン配線（共通配線）は、液晶表示装置に設けられた複数の画素に含まれている液晶素子の電極が同じ電位となるように引き回されている配線であり、液晶素子の電極と電気的に接続している。このようにコモン配線と電気的に接続した液晶素子の電極は、一般的に共通電極とも呼ばれる。これに対し、ソース線からの伝わる電位によって電位が随時変化する液晶素子の電極は、一般的に画素電極とも呼ばれる。
薄膜トランジスタ１０２は、絶縁基板１００上に、下地層１０１を介して形成するとよい。下地層１０１を設けることにより、絶縁基板１００から、薄膜トランジスタ１０２、特に半導体層への不純物元素の侵入を防止することができる。このような下地層１０１には、酸化珪素又は窒化珪素、もしくはそれらの積層を用いることができ、窒化珪素は不純物侵入を防止する効果が高く好ましい。酸化珪素は、半導体層と直接接しても、電荷のトラップや電気特性のヒステリシスを起こさないため、好ましい。
なお、薄膜トランジスタ１０２は、トップゲート型であるが、これに限定されない。ボトムゲート型でもよい。
薄膜トランジスタ１０２は、所定の形状に加工された半導体層１１１、半導体層を覆う、又は半導体層上に設けられたゲート絶縁層１１２、ゲート絶縁層を介して半導体層上に設けられたゲート電極１１３、ソース電極及びドレイン電極１１６を有する。
半導体層を覆うように設けられたゲート絶縁層によって、プロセス工程途中、半導体層が大気にふれる場合があっても、半導体層への不純物の付着又は侵入を防止することができる。また半導体層上に設けられたゲート絶縁層は、ゲート電極をマスクとして加工することができ、マスク枚数を減らすことができる。このようにゲート絶縁層１１２の形状は、プロセス工程等に応じて決定することができ、ゲート絶縁層１１２をゲート電極の下にのみ配置してもよいし、全面に配置してもよいし、ゲート電極の下や近傍では厚くなっていて、それ以外では薄くなっていてもよい。
半導体層には、不純物領域１１４が設けられており、不純物領域の極性によりＮ型又はＰ型の薄膜トランジスタとなる。不純物領域は、ゲート電極１１３をマスクとして、不純物元素を自己整合的に添加する方法により、形成することができる。ただし、別途マスクを用意して、形成してもよい。
不純物領域は、濃度を異ならせることができ、例えば低濃度不純物領域と、高濃度不純物領域とを設けることができる。低濃度不純物領域は、ゲート電極１１３の端にテーパー形状を設け、このようなゲート電極を用いた自己整合的な不純物元素添加によって形成することができる。また、ゲート絶縁層１１２の厚さを変えて、テーパー形状にして、低濃度不純物領域を形成してもよい。その他、ゲート電極１１３の側面に設けられたサイドウォール構造により、不純物領域の濃度を異ならせることができる。低濃度不純物領域と、高濃度不純物領域を有する構造をＬＤＤ（Ｌｉｇｈｔｌｙ Ｄｏｐｅｄ Ｄｒａｉｎ）構造と呼び、低濃度不純物領域とゲート電極とが重なっている構造をＧＯＬＤ（Ｇａｔｅ−ｄｒａｉｎ Ｏｖｅｒｌａｐｐｅｄ ＬＤＤ）構造と呼ぶ。このような低濃度不純物領域を有する薄膜トランジスタは、ゲート長が短くなるにつれて生じる短チャネル現象を防止することができる。また、オフ電流を低減させたり、ドレイン領域での電界の集中を抑制できるため、トランジスタの信頼性を向上させることが出来る。
半導体層１１１及びゲート電極１１３を覆うように絶縁層１０６が設けられる。絶縁層１０６は単層構造又は積層構造とすることができる。絶縁層１０６には無機材料又は有機材料を用いることができる。無機材料には、酸化珪素又は窒化珪素を用いることができる。有機材料には、ポリイミド、アクリル、ポリアミド、ポリイミドアミド、レジスト又はベンゾシクロブテン、シロキサン、ポリシラザンを用いることができる。シロキサンは、シリコン（Ｓｉ）と酸素（Ｏ）との結合で骨格構造が構成される。置換基として、少なくとも水素を含む有機基（例えばアルキル基、芳香族炭化水素）が用いられる。置換基として、フルオロ基を用いてもよい。または置換基として、少なくとも水素を含む有機基と、フルオロ基とを用いてもよい。ポリシラザンは、珪素（Ｓｉ）と窒素（Ｎ）の結合を有するポリマー材料を出発原料として形成される材料である。絶縁層１０６に有機材料を用いると、その表面の平坦性を高めることができ、好ましい。絶縁層１０６に無機材料を用いると、半導体層やゲート電極の表面形状に沿うような表面を有し、この場合であっても、厚膜化することにより平坦性を有しうる。
このような絶縁層１０６に開口部を形成し、不純物領域を露出させ、開口部に導電層を形成することにより、ソース電極及びドレイン電極１１６を形成する。ソース電極又はドレイン電極に適用される導電層は、タンタル（Ｔａ）、タングステン（Ｗ）、チタン（Ｔｉ）、モリブデン（Ｍｏ）、アルミニウム（Ａｌ）、クロム（Ｃｒ）、銀（Ａｇ）、銅（Ｃｕ）、ネオジウム（Ｎｄ）等から選ばれた元素、または当元素を主成分とする合金材料、及び窒化チタン、窒化タンタル、窒化モリブデン等の金属窒化物等の導電性を有する材料を用いて形成される。導電層は、これら材料の単層構造又は積層構造とすることができる。積層構造とすることにより、低抵抗化を図ることができる。ソース電極又はドレイン電極と同一導電層から、その他の電極１１７等も形成される。
ソース電極及びドレイン電極１１６を覆って、絶縁層１０７を形成する。絶縁層１０７は、絶縁層１０６と同様に形成することができる。すなわち、有機材料を用いて絶縁層１０７を形成すると平坦性を高めることができる。絶縁層１０７上には、第１電極１０３や第３電極１０５を形成するため、絶縁層１０７の平坦性は高いことが望まれる。第１電極１０３や第３電極１０５は、液晶材料に電圧を印加するための電極であり、これら電極に平坦性が必要とされるため絶縁層１０７の平坦性は高いことが望まれる。
第１電極１０３や第３電極１０５は、櫛歯状やスリットが入った状態などに加工されている。そして、第１電極１０３と、第３電極１０５は交互になるように配置される。つまり、互い違いに配置されることが可能なように、第１電極１０３や第３電極１０５が加工されていればよい。第１電極１０３と、第３電極１０５との間隔は、２μｍから８μｍ、より望ましくは、３μｍから４μｍとするとよい。このような第１電極１０３と、第３電極１０５とに電圧を印加すると、これら電極間に電界が生じ、液晶材料の向きを制御することができる。このときに生じる電界は、基板と平行方向の成分を多く含む。よって、概ね基板と平行な面内において、液晶分子が回転する。これにより、光の透過を制御することが出来る。
絶縁層１０７上に形成された第１電極１０３、第３電極１０５は、導電性材料を用いて形成される。例えば、タンタル（Ｔａ）、タングステン（Ｗ）、チタン（Ｔｉ）、モリブデン（Ｍｏ）、アルミニウム（Ａｌ）、クロム（Ｃｒ）、銀（Ａｇ）等から選ばれた元素、または当元素を主成分とする合金材料を用いて形成される。また第１電極１０３や第３電極１０５に透光性が必要な場合、インジウム錫酸化物（ＩＴＯ）、インジウム亜鉛酸化物（ＩＺＯ）、酸化珪素を添加したインジウム錫酸化物（ＩＴＳＯ）、酸化亜鉛（ＺｎＯ）、リンやボロンが含まれるシリコン（Ｓｉ）等の導電性材料であって、透光性を有する材料を用いることができる。
次に、第２電極１０４について説明する。第２電極１０４は、下地層１０１、あるいは、ゲート絶縁層１１２上に設けられ、一画素領域、具体的には一画素領域であって薄膜トランジスタ形成領域以外に形成される。すなわち第２電極１０４は、櫛歯状の第３電極１０５とは異なり、一画素領域に渡って、つまり、櫛歯状の第３電極１０５や第１電極１０３が設けられる領域下方に渡って、設けられている。つまり、平面状に設けられている。なお第２電極１０４は、一画素領域に渡って形成されることを特徴とし、その形状には限定されない。例えば、一画素領域に渡って全面に第２電極１０４を形成しても、一画素領域に渡って櫛歯形状やスリットや穴を有する第２電極１０４を形成してもよい。
第２電極１０４は、導電性材料を用いて形成され、導電性材料として、タンタル（Ｔａ）、タングステン（Ｗ）、チタン（Ｔｉ）、モリブデン（Ｍｏ）、アルミニウム（Ａｌ）、クロム（Ｃｒ）、銀（Ａｇ）、インジウム錫酸化物（ＩＴＯ）、インジウム亜鉛酸化物（ＩＺＯ）、酸化珪素を添加したインジウム錫酸化物（ＩＴＳＯ）、酸化亜鉛（ＺｎＯ）、リンやボロンが含まれるシリコン（Ｓｉ）が挙げられる。第２電極１０４は、半導体層１１１と同一層に形成されてもよいため、半導体層を用いてもよい。但し、導電性を有する必要があるため、結晶化された半導体層、又は不純物元素が添加された半導体層、または、結晶化されて不純物元素が添付された半導体層を用いる。
その場合、薄膜トランジスタ１０２の有する半導体層と、半導体層で形成された第２電極１０４とは、同時に形成されることが望ましい。その結果、製造プロセスを簡略化でき、コストを低減することが出来る。
このような第２電極１０４は、電極１１７を介して第３電極１０５と電気的に接続されている。
透過型の液晶表示装置を形成する場合、第２電極１０４、第３電極１０５はインジウム錫酸化物（ＩＴＯ）、インジウム亜鉛酸化物（ＩＺＯ）、酸化珪素を添加したインジウム錫酸化物（ＩＴＳＯ）、酸化亜鉛（ＺｎＯ）、リンやボロンが含まれるシリコン（Ｓｉ）等の導電性材料であって、かつ透光性を有する材料から形成する。このような透光性も有する材料は、Ａｌ等の他の導電性材料と比較すると抵抗が高くなる。そのため、タンタル（Ｔａ）、タングステン（Ｗ）、チタン（Ｔｉ）、モリブデン（Ｍｏ）、アルミニウム（Ａｌ）、クロム（Ｃｒ）、銀（Ａｇ）等の抵抗の低い導電性材料から形成される電極１１７や、ゲート電極１１３と同時に形成できる配線などを用いて、第２電極１０４及び第３電極１０５を接続することにより、第２電極１０４、第３電極１０５の補助電極や補助配線として機能させることができる。その結果、第２電極１０４、第３電極１０５へ均一な電圧を印加することができる。すなわち第２電極１０４、第３電極１０５において、電極の抵抗により生じうる電圧降下を防止することができる。
このとき、補助配線は、ゲート電極１１３と同時に形成される導電層を用いることが望ましい。その場合、ゲート配線と概ね平行に配置することが望ましい。それにより、効率的にレイアウトすることが出来る。
このような第２電極１０４と、櫛歯状の第１電極１０３とに電圧を印加すると、これら電極の間にも電界が生じる。すなわち、第２電極１０４と第１電極１０３、及び櫛歯状の第３電極１０５と第１電極１０３とに電界が生じる。このような２組の電極間に生じる電界によって、液晶材料の傾きや回転角度を制御し、階調表示を行うことができる。その結果、櫛歯状の第３電極１０５と、櫛歯状の第１電極１０３の１組の電極によって生じる電界では、上手く傾きが制御されなかった液晶材料に対しても、２組の電極による電界によって、液晶材料の傾きを上手く制御することができる。具体的には、櫛歯状の第３電極１０５直上や、櫛歯状の第１電極１０３の直上に配置する液晶材料に対して上手く傾きを制御することはできなかったが、第２電極１０４を設けたことにより、上記のような液晶材料に対しても上手く傾きを制御することができる。これは櫛歯状の第３電極１０５と、櫛歯状の第１電極１０３との間に生じる電界の方向に加えて、第２電極１０４と、櫛歯状の第１電極１０３との間に電界が生じるからである。このように複数の組の電極を設け、これら電極間に生じる電界の方向を複数とすることにより、液晶材料の傾きの制御は十分なものとなる。
なお、絶縁基板１００と対向するように設けられた基板には、トランジスタと重畳するように、遮光層が設けられていてもよい。遮光層は、例えばタングステン、クロム、およびモリブデン等の導電物、タングテンシリサイド等のシリサイド、または黒色の顔料若しくはカーボンブラックを含む樹脂材料を用いて形成されている。また、櫛歯状の第１電極１０３、第３電極１０５と重畳するようにカラーフィルターが設けられている。カラーフィルターの上には、さらに配向膜が設けられている。
絶縁基板１００と対向基板との間には液晶層が設けられている。また、絶縁基板１００と対向基板の上には、それぞれ偏光板が設けられている。偏光板は、それぞれ、絶縁基板１００と対向基板を中心として液晶層が設けられている側とは逆側に設けられている。
なお、本実施の形態は、実施の形態１から実施の形態３で述べた内容を、トランジスタと共に具現化した場合の一例を示している。したがって、実施の形態１から実施の形態３で述べた内容は、本実施の形態にも適用させたり、組み合わせたりすることが出来る。
（実施の形態５）
本実施の形態では、上記実施の形態とは異なり、共通電極を薄膜トランジスタのソース電極又はドレイン電極と同一層に設けた液晶表示装置の構造について説明する。
本実施の形態では、上記実施の形態とは異なり、共通電極を薄膜トランジスタのソース電極又はドレイン電極と同一層に設けた液晶表示装置の構造について説明する。
なお、ボトムゲート型トランジスタを用いてもよい。
図２に示すように、絶縁層１０６上に配線１２１に接して共通電極１２２が設けられている。共通電極１２２は、上記実施の形態４で示した第２電極１０４と同様に作製することができる。
図１と同様に、絶縁層１０７上に櫛歯状の第３電極１０５及び櫛歯状の第１電極１０３が設けられており、第３電極１０５は絶縁層１０７に設けられた開口部を介して、共通電極１２２に接続されている。
共通電極１２２は、配線１２１に接して設けられ、第３電極１０５も電気的に配線１２１に接続される。そのため、共通電極１２２、第３電極１０５にインジウム錫酸化物（ＩＴＯ）、インジウム亜鉛酸化物（ＩＺＯ）、酸化珪素を添加したインジウム錫酸化物（ＩＴＳＯ）、酸化亜鉛（ＺｎＯ）、リンやボロンが含まれるシリコン（Ｓｉ）等の、Ａｌ等と比較して抵抗の高い導電性材料を用いる場合、Ａｌ等を用いて形成された配線１２１や、ゲート電極１１３と同時に形成できる配線などを用いて、補助配線として機能させることができる。その結果、上述したように、共通電極１２２、第３電極１０５の配線抵抗による電圧降下を防止することができる。
このとき、補助配線は、ゲート電極１１３と同時に形成される導電層を用いることが望ましい。その場合、ゲート配線と概ね平行に配置することが望ましい。それにより、効率的にレイアウトすることが出来る。
その他の構成は、図１と同様であるため説明を省略する。
このような共通電極１２２と、櫛歯状の第１電極１０３とに電圧を印加すると、これら電極の間にも電界が生じる。すなわち、共通電極１２２と第１電極１０３、及び櫛歯状の第３電極１０５と第１電極１０３とに電界が生じる。このような２組の電極間に生じる電界によって、液晶材料の傾きを制御し、階調表示を行うことができる。その結果、櫛歯状の第３電極１０５と、櫛歯状の第１電極１０３の１組の電極によって生じる電界では、上手く傾きが制御されなかった液晶材料に対しても、２組の電極による電界によって、液晶材料の傾きを上手く制御することができる。具体的には、櫛歯状の第３電極１０５直上や、櫛歯状の第１電極１０３の直上に配置する液晶材料に対して上手く傾きを制御することはできなかったが、共通電極１２２を設けたことにより、上記のような液晶材料に対しても上手く傾きを制御することができる。
このように複数の組の電極を設け、これら電極間に生じる電界の方向を複数とすることにより、液晶材料の傾きの制御は十分なものとなる。さらに本実施の形態では、共通電極１２２は絶縁層１０６上に形成されるため、第１電極１０３との距離が近くなり、印加する電圧を低くおさえることが可能となる。
なお、本実施の形態は、実施の形態１から実施の形態３で述べた内容を、トランジスタと共に具現化した場合の一例を示しており、実施の形態４を変形したものを示している。したがって、実施の形態１から実施の形態４で述べた内容は、本実施の形態にも適用させたり、組み合わせたりすることが出来る。
（実施の形態６）
本実施の形態では、上記実施の形態と異なり、共通電極を下地層１０１上に設けた液晶表示装置の構造について説明する。
本実施の形態では、上記実施の形態と異なり、共通電極を下地層１０１上に設けた液晶表示装置の構造について説明する。
図３に示すように、絶縁基板１００上に下地層１０１が設けられ、下地層１０１上に共通電極１３２が設けられている。共通電極１３２は、上記実施の形態で示した第２電極１０４と同様に作製することができる。共通電極１３２上には、絶縁層１０６が設けられ、絶縁層１０６に設けられた開口部を介して第３電極１０５と接続されている。そのため、共通電極１３２、第３電極１０５にインジウム錫酸化物（ＩＴＯ）、インジウム亜鉛酸化物（ＩＺＯ）、酸化珪素を添加したインジウム錫酸化物（ＩＴＳＯ））、酸化亜鉛（ＺｎＯ）、リンやボロンが含まれるシリコン（Ｓｉ）等の、Ａｌ等と比較して抵抗の高い導電性材料を用いる場合、Ａｌ等を用いて形成された配線１３１を補助配線として機能させることができる。その結果、上述したように、共通電極１３２、第３電極１０５の配線抵抗による電圧降下を防止することができる。配線１３１は、薄膜トランジスタ１０２のゲート電極１１３と同一導電層から形成することができる。その場合、ゲート配線と概ね平行に配置することが望ましい。それにより、効率的にレイアウトすることが出来る。
なお本実施の形態において、ボトムゲート型トランジスタを用いてもよい。
その他の構成は、図１と同様であるため説明を省略する。
このような共通電極１３２と、櫛歯状の第１電極１０３とに電圧を印加すると、これら電極の間にも電界が生じる。すなわち、共通電極１３２と第１電極１０３、及び櫛歯状の第３電極１０５と第１電極１０３とに電界が生じる。このような２組の電極間に生じる電界によって、液晶材料の傾きを制御し、階調表示を行うことができる。その結果、櫛歯状の第３電極１０５と、櫛歯状の第１電極１０３の１組の電極によって生じる電界では、上手く傾きが制御されなかった液晶材料に対しても、２組の電極による電界によって、液晶材料の傾きを上手く制御することができる。具体的には、櫛歯状の第３電極１０５直上や、櫛歯状の第１電極１０３の直上に配置する液晶材料に対して上手く傾きを制御することはできなかったが、共通電極１３２を設けたことにより、上記のような液晶材料に対しても上手く傾きを制御することができる。
このように複数の組の電極を設け、これら電極間に生じる電界の方向を複数とすることにより、液晶材料の傾きの制御は十分なものとなる。さらに本実施の形態では、共通電極１３２は下地層１０１上に形成されるため、絶縁層１０６を単層構造として適用することができる。その結果、共通電極１３２と、第１電極１０３との距離が近くなり、印加する電圧を低くおさえることが可能となる。
なお、本実施の形態は、実施の形態１から実施の形態３で述べた内容を、トランジスタと共に具現化した場合の一例を示しており、実施の形態４や実施の形態５を変形したものを示している。したがって、実施の形態１から実施の形態５で述べた内容は、本実施の形態にも適用させたり、組み合わせたりすることが出来る。
（実施の形態７）
本実施の形態では、上記実施の形態と異なり、薄膜トランジスタの半導体層に非晶質半導体層を用いる場合について説明する。
本実施の形態では、上記実施の形態と異なり、薄膜トランジスタの半導体層に非晶質半導体層を用いる場合について説明する。
図４に示すように、下地層１０１上に非晶質半導体層を有する薄膜トランジスタ１６０を形成する。薄膜トランジスタ１６０は、半導体層よりゲート電極が下方に設けられた、所謂ボトムゲート型である。
下地層１０１上に、ゲート電極１１３を形成し、ゲート電極１１３を覆うようにゲート絶縁層１１２を形成する。ゲート絶縁層１１２を介して、ゲート電極上に非晶質半導体層４１１を形成する。珪素を有する材料を用いて形成することができる。
非晶質半導体層４１１の両端を覆うように、ソース電極及びドレイン電極１１６を形成する。配線抵抗を低くするため、非晶質半導体層のソース電極及びドレイン電極に接する領域にＮ型不純物領域を形成するとよい。Ｎ型不純物領域は、非晶質半導体層４１１の表面に不純物を添加することにより形成することができる。
その後、ソース電極及びドレイン電極を用いて、非晶質半導体層４１１を所定の形状となるように加工する。このとき、薄膜トランジスタ１６０において、半導体層のチャネル形成領域の上側がエッチング除去され、このような形状を有する薄膜トランジスタをチャネルエッチ型と呼ぶ。
このように形成された薄膜トランジスタ１６０を覆って、絶縁層１０６を形成する。絶縁層１０６に有機材料を用いることで、その表面の平坦性を高めることができる。勿論、絶縁層１０６に無機材料を用いることもでき、無機材料と有機材料の積層構造を用いてもよい。このような絶縁層１０６に開口部を形成し、ソース電極及びドレイン電極１１６を露出させ、絶縁層１０６に形成される第１電極１０３と、ソース電極及びドレイン電極１１６とを電気的に接続する。第１電極１０３は、上記実施の形態と同様に、絶縁層１０６上に櫛歯状に形成されている。
次いで、共通電極４０１の構造について説明する。下地層１０１上に共通電極４０１を形成する。共通電極４０１は、上記実施の形態で示した第２電極１０４と同様に作製することができる。共通電極４０１は、画素領域に渡って形成されるように、その形状を加工する。加工された共通電極４０１の一部に、導電層４０２を形成する。導電層４０２は、薄膜トランジスタ１６０のゲート電極１１３と同一導電層を加工することにより得ることができる。共通電極４０１と、導電層４０２とは、ゲート絶縁層１１２によって覆われる。
絶縁層１０６及びゲート絶縁層１１２に開口部を設けて、導電層４０２を露出させる。そして、絶縁層１０６上に櫛歯状に形成された第３電極１０５と、導電層４０２とを電気的に接続し、結果として第３電極１０５と、共通電極４０１とが接続される。このとき、導電層４０２が共通電極４０１、第３電極１０５に接続しているため、導電層４０２を補助配線として機能させることができる。そして、上述したように、共通電極４０１、第３電極１０５の配線抵抗による電圧降下を防止することができる。
本実施の形態は、非晶質半導体層を用いたボトムゲート型の薄膜トランジスタを用いており、上記実施の形態で示したトップゲート型の薄膜トランジスタと比較して、全体の膜厚を薄くすることができる。特に、絶縁層１０６、１０７を積層した構成と比較すると、本実施の形態は絶縁層１０６のみの構成であるため、全体の膜厚が薄くなる。その結果、液晶表示装置の薄型化、軽量化を図ることができる。
なお本実施の形態では、チャネルエッチ型を用いて説明したが、チャネル保護型を適用することもできる。チャネル保護型とは、半導体層上に保護層があり、保護層の両端にソース電極及びドレイン電極が設けられる。ソース電極及びドレイン電極を用いて半導体層を加工するとき、半導体層の表面が除去されない構成をする薄膜トランジスタを指す。
なお本実施の形態において、ボトムゲート型でもよい。
なお、本実施の形態は、実施の形態１から実施の形態３で述べた内容を、トランジスタと共に具現化した場合の一例を示しており、実施の形態４から６を変形したものを示している。したがって、実施の形態１から実施の形態６で述べた内容は、本実施の形態にも適用させたり、組み合わせたりすることが出来る。
（実施の形態８）
本実施の形態では、上記実施の形態と異なり、補助配線として機能する導電層を、共通電極の下方に設けた液晶表示装置の構造について説明する。
本実施の形態では、上記実施の形態と異なり、補助配線として機能する導電層を、共通電極の下方に設けた液晶表示装置の構造について説明する。
図５に示すように、下地層１０１上に、先に導電層５０２を形成する。その後、導電層５０２と接するように、共通電極５０１を形成する。共通電極５０１は、上記実施の形態で示した第２電極１０４と同様に作製することができる。導電層５０２は、薄膜トランジスタ１６０のゲート電極１１３、又はソース電極及びドレイン電極１１６と同一導電層を加工することにより得ることができる。導電層５０２及び共通電極５０１は、絶縁層１０６により覆われる。
絶縁層１０６及びゲート絶縁層１１２に開口部を設けて、共通電極５０１を露出させる。そして、絶縁層１０６上に櫛歯状に形成された第３電極１０５と、共通電極５０１とを電気的に接続する。このとき、導電層５０２が共通電極４０１、第３電極１０５に接続しているため、導電層５０２を補助配線として機能させることができる。そして、上述したように、共通電極５０１、第３電極１０５の配線抵抗による電圧降下を防止することができる。
その他の構成は、図４と同様であるため説明を省略する。
本実施の形態においても、絶縁層１０６のみの構成であるため、絶縁層１０６、１０７を積層した構成と比較すると、全体の膜厚が薄くなる。その結果、液晶表示装置の薄型化、軽量化を図ることができる。
また本実施の形態ではチャネルエッチ型の薄膜トランジスタを用いて説明したが、上記実施の形態で示したように、チャネル保護型の薄膜トランジスタを用いてもよい。
なお、本実施の形態は、実施の形態１から実施の形態３で述べた内容を、トランジスタと共に具現化した場合の一例を示しており、実施の形態４から７を変形したものを示している。したがって、実施の形態１から実施の形態７で述べた内容は、本実施の形態にも適用させたり、組み合わせたりすることが出来る。
（実施の形態９）
本実施の形態では、上記実施の形態１で示した構造において、カラーフィルター及びブラックマトリクスを設けた液晶表示装置の構造について説明する。
本実施の形態では、上記実施の形態１で示した構造において、カラーフィルター及びブラックマトリクスを設けた液晶表示装置の構造について説明する。
図６（Ａ）に示すように、実施の形態１（図１）に示した液晶表示装置の構造において、絶縁層１０７の代わりに、カラーフィルター１５０及びブラックマトリクス１５１を設ける。カラーフィルター１５０と、ブラックマトリクス１５１とは、それらの一部が重なるように設けられる。
カラーフィルター１５０は、所定の色を呈するような材料を用いて形成する。所定の色とは、赤、緑、青が一般的であり、これらを組み合わせることでフルカラー表示が可能となる。一方、モノカラー表示を行う場合、赤、緑、青のいずれか、又はオレンジや黄色といった色を呈する材料を用いて形成することができる。モノカラー表示は、単純な文字や図形を表示するのに適し、車載オーディオや携帯型オーディオの表示画面として使用することがある。
ブラックマトリクス１５１は、薄膜トランジスタ１０２に光が照射されることを防止させたり、薄膜トランジスタ１０２が有する電極の反射を抑えたり、液晶分子が画像信号によって制御されない部分において、光が漏れてしまうのを防いだり、一画素を区分けするために設けられる。ブラックマトリクス１５１は、黒色を呈すればよく、例えばクロムを有する導電層、顔料やブラックカーボンを有する有機材料から形成することができる。その他、アクリルやポリイミド等の有機材料を染色した材料を用いて形成することができる。
ただし、電界のかかり方に影響を及ぼさないようにするため、ブラックマトリクス１５１は、非導電材料で形成されることが望ましい。
カラーフィルター１５０及びブラックマトリクス１５１を設ける場合、絶縁層１０６を積層構造とし、その上層には無機材料や有機材料を用いて絶縁層を形成することが望まれる。
カラーフィルター１５０及びブラックマトリクス１５１は、有機材料から形成されることが多く、これらの材料には薄膜トランジスタの電気特性にとって好ましくない不純物元素が含まれる。不純物元素が、薄膜トランジスタの半導体層１１１に侵入することを防止するため、絶縁層を形成することが望まれる。
カラーフィルター１５０及びブラックマトリクス１５１は、有機材料から形成されることが多く、これらの材料には薄膜トランジスタの電気特性にとって好ましくない不純物元素が含まれる。不純物元素が、薄膜トランジスタの半導体層１１１に侵入することを防止するため、絶縁層を形成することが望まれる。
そのため、絶縁層を作製する無機材料として、窒化珪素を用いるとよい。このような絶縁層をパッシベーション層とも呼ぶ。パッシベーション層は、積層構造を有する絶縁層１０６の上層として設けることに限定されず、半導体層１１１と、カラーフィルター１５０及びブラックマトリクス１５１との間に設けられればよい。例えば、積層構造を有する絶縁層１０６の下層として、パッシベーション層を設けてもよい。
ただし、カラーフィルター１５０及びブラックマトリクス１５１を形成する前に、窒化珪素などの無機材料を形成しておいてもよい。
その後、カラーフィルター１５０及びブラックマトリクス１５１を覆うように絶縁層１５２を形成する。絶縁層１５２により、表面が平坦化される。特に、カラーフィルター１５０と、ブラックマトリクス１５１とが重なった領域は、ブラックマトリクス１５１の膜厚によって段差が生じる。この段差を絶縁層１５２によって、平坦化することができる。
その他の構成は、図１と同様であるため説明を省略する。
図６（Ｂ）には、図６（Ａ）と異なり、カラーフィルター１５０と、ブラックマトリクス１５１とが重ならないように設ける。カラーフィルター１５０は光が透過する領域に積極的に設け、ブラックマトリクス１５１は薄膜トランジスタ１０２を覆う領域に積極的に設ける。その結果、薄膜トランジスタ１０２と、第２電極１０４との境界領域を境にして、第２電極１０４が形成される領域にカラーフィルター１５０が形成され、薄膜トランジスタ１０２が形成される領域にブラックマトリクス１５１が形成される。そして、カラーフィルター１５０及びブラックマトリクス１５１を覆うように絶縁層１５２を形成する。
このようにカラーフィルター１５０と、ブラックマトリクス１５１とが重ならないように設けることにより、重なった領域で全体の膜厚が厚くなることがなく、好ましい。
その他の構成は、図６（Ａ）と同様であるため説明を省略する。
図６（Ｃ）には、図６（Ａ）（Ｂ）と異なり、ブラックマトリクス１５１を対向基板１５５側に設けた構造を示す。ブラックマトリクス１５１を設ける領域は、少なくとも薄膜トランジスタ１０２上方であればよい。
なお、この場合、隣り合う画素の、異なる色のカラーフィルターを重ねて配置してもよい。これにより、カラーフィルターが重なった領域は、光の透過率が低減するので、ブラックマトリクスとして機能させることも出来る。
ブラックマトリクス１５１を対向基板１５５に設けたことにより、カラーフィルター１５０を薄膜トランジスタ１０２及び第２電極１０４に渡って形成することができる。上述したようにカラーフィルター１５０は有機材料を用いて形成するため、平坦化膜としての機能も有する。すなわち、絶縁層１０７の代わりに、カラーフィルター１５０を設け、その表面も平坦化することが可能となる。
なおブラックマトリクス１５１は、絶縁基板１００の裏面側に設けてもよい。
なお、絶縁基板１００側にブラックマトリクスを設けて、対向基板側にカラーフィルターを配置してもよい。絶縁基板１００側にブラックマトリクスを設けることにより、基板の合わせマージンを向上させることが出来る。
その他の構成は、図６（Ａ）と同様であるため説明を省略する。
本実施の形態であっても、実施の形態１と同様に、第２電極１０４と、櫛歯状の第１電極１０３とに電圧を印加すると、これら電極の間にも電界が生じるため、液晶材料の傾きを制御し、階調表示を行うことができる。
その結果、櫛歯状の第３電極１０５と、櫛歯状の第１電極１０３の１組の電極によって生じる電界では、上手く傾きが制御されなかった液晶材料に対しても、２組の電極による電界によって、液晶材料の傾きを上手く制御することができる。
その結果、櫛歯状の第３電極１０５と、櫛歯状の第１電極１０３の１組の電極によって生じる電界では、上手く傾きが制御されなかった液晶材料に対しても、２組の電極による電界によって、液晶材料の傾きを上手く制御することができる。
なお、本実施の形態は、実施の形態１から実施の形態３で述べた内容を、トランジスタと共に具現化した場合の一例を示しており、実施の形態４から８を変形したものを示している。したがって、実施の形態１から実施の形態８で述べた内容は、本実施の形態にも適用させたり、組み合わせたりすることが出来る。
（実施の形態１０）
本実施の形態では、上記実施の形態１で示した構造において、絶縁層１０６の代わりに、カラーフィルター１５０及びブラックマトリクス１５１を設けた液晶表示装置の構造について説明する。
本実施の形態では、上記実施の形態１で示した構造において、絶縁層１０６の代わりに、カラーフィルター１５０及びブラックマトリクス１５１を設けた液晶表示装置の構造について説明する。
図７（Ａ）に示すように、実施の形態１（図１）に示した液晶表示装置の構造において、絶縁層１０６の代わりに、カラーフィルター１５０及びブラックマトリクス１５１を設ける。カラーフィルター１５０と、ブラックマトリクス１５１とは、それらの一部が重なるように設けられる。カラーフィルター１５０やブラックマトリクス１５１は、上記実施の形態と同様に作製することができる。カラーフィルター１５０及びブラックマトリクス１５１を覆うように、絶縁層１５２を形成する。絶縁層１５２により、表面を平坦化することができる。
カラーフィルター１５０及びブラックマトリクス１５１を設ける場合、カラーフィルター１５０及びブラックマトリクス１５１と薄膜トランジスタ１０２が有する半導体層１１１との間に、パッシベーション層を設けることが望ましい。本実施の形態では、ゲート電極１１３及び第２電極１０４を覆うように、パッシベーション層１５４を形成する。
このように、絶縁層１０６の代わりにカラーフィルター１５０及びブラックマトリクス１５１を設けた構成は、薄膜トランジスタ１０２に近接してブラックマトリクス１５１が形成される。そのため、薄膜トランジスタ１０２に照射される光の遮光効果が高く好ましい。
その他の構成は、図６（Ａ）と同様であるため説明を省略する。
図７（Ｂ）には、図７（Ａ）と異なり、カラーフィルター１５０と、ブラックマトリクス１５１とが重ならないように設ける。
その他の構成は、図６（Ｂ）と同様であるため説明を省略する。
図７（Ｃ）には、図７（Ａ）、（Ｂ）と異なり、ブラックマトリクス１５１を対向基板１５５側に設けた構造を示す。
その他の構成は、図７（Ｂ）と同様であるため説明を省略する。
本実施の形態であっても、実施の形態１と同様に、第２電極１０４と、櫛歯状の第１電極１０３とに電圧を印加すると、これら電極の間にも電界が生じるため、液晶材料の傾きを制御し、階調表示を行うことができる。
その結果、櫛歯状の第３電極１０５と、櫛歯状の第１電極１０３の１組の電極によって生じる電界では、上手く傾きが制御されなかった液晶材料に対しても、２組の電極による電界によって、液晶材料の傾きを上手く制御することができる。
その結果、櫛歯状の第３電極１０５と、櫛歯状の第１電極１０３の１組の電極によって生じる電界では、上手く傾きが制御されなかった液晶材料に対しても、２組の電極による電界によって、液晶材料の傾きを上手く制御することができる。
なお、本実施の形態は、実施の形態１から実施の形態３で述べた内容を、トランジスタと共に具現化した場合の一例を示しており、実施の形態４から９を変形したものを示している。したがって、実施の形態１から実施の形態９で述べた内容は、本実施の形態にも適用させたり、組み合わせたりすることが出来る。
（実施の形態１１）
本実施の形態では、上記実施の形態２で示した構造において、カラーフィルター及びブラックマトリクスを設けた液晶表示装置の構造について説明する。
本実施の形態では、上記実施の形態２で示した構造において、カラーフィルター及びブラックマトリクスを設けた液晶表示装置の構造について説明する。
図８（Ａ）に示すように、実施の形態２（図２）に示した液晶表示装置の構造において、絶縁層１０７の代わりに、カラーフィルター１５０及びブラックマトリクス１５１を設ける。カラーフィルター１５０と、ブラックマトリクス１５１とは、それらの一部が重なるように設けられる。カラーフィルター１５０やブラックマトリクス１５１は、上記実施の形態と同様に作製することができる。カラーフィルター１５０及びブラックマトリクス１５１を覆うように、絶縁層１５２を形成する。絶縁層１５２により、表面を平坦化することができる。
カラーフィルター１５０及びブラックマトリクス１５１を設ける場合、カラーフィルター１５０及びブラックマトリクス１５１と薄膜トランジスタ１０２が有する半導体層１１１との間に、パッシベーション層を設けることが望ましい。本実施の形態では、絶縁層１０６を積層構造とし、その上層には無機材料を用いてパッシベーション層１５３を形成する。パッシベーション層は、積層構造を有する絶縁層１０６の上層として設けることに限定されず、半導体層１１１と、カラーフィルター１５０及びブラックマトリクス１５１との間に設けられればよい。例えば、積層構造を有する絶縁層１０６の下層として、パッシベーション層を設けてもよい。
このようなカラーフィルター１５０、ブラックマトリクス１５１、絶縁層１５２、パッシベーション層１５３の構造は、図６（Ａ）と同様である。その他の構成は、図２と同様であるため説明を省略する。
図８（Ｂ）には、図８（Ａ）と異なり、カラーフィルター１５０と、ブラックマトリクス１５１とが重ならないように設ける。重ならないカラーフィルター１５０と、ブラックマトリクス１５１の構成は図６（Ｂ）と同様である。
その他の構成は、図８（Ａ）と同様であるため説明を省略する。
図８（Ｃ）には、図８（Ａ）（Ｂ）と異なり、ブラックマトリクス１５１を対向基板１５５側に設けた構造を示す。ブラックマトリクス１５１を設ける領域は、少なくとも薄膜トランジスタ１０２上方であればよい。
ブラックマトリクス１５１を対向基板１５５に設けたことにより、カラーフィルター１５０を薄膜トランジスタ１０２及び第２電極１０４に渡って形成することができる。上述したようにカラーフィルター１５０は有機材料を用いて形成するため、平坦化膜としての機能も有する。すなわち、絶縁層１０７の代わりに、カラーフィルター１５０を設け、その表面も平坦化することが可能となる。このようなブラックマトリクス１５１を対向基板１５５側に設ける構造は、図６（Ｃ）と同様である。
なおブラックマトリクス１５１は、絶縁基板１００の裏面側に設けてもよい。
その他の構成は、図８（Ａ）と同様であるため説明を省略する。
本実施の形態であっても、実施の形態２と同様に、共通電極１２２と、櫛歯状の第１電極１０３とに電圧を印加すると、これら電極の間にも電界が生じるため、液晶材料の傾きを制御し、階調表示を行うことができる。その結果、櫛歯状の第３電極１０５と、櫛歯状の第１電極１０３の１組の電極によって生じる電界では、上手く傾きが制御されなかった液晶材料に対しても、２組の電極による電界によって、液晶材料の傾きを上手く制御することができる。
なお、本実施の形態は、実施の形態１から実施の形態３で述べた内容を、トランジスタと共に具現化した場合の一例を示しており、実施の形態４から１０を変形したものを示している。したがって、実施の形態１から実施の形態１０で述べた内容は、本実施の形態にも適用させたり、組み合わせたりすることが出来る。
（実施の形態１２）
本実施の形態では、上記実施の形態２で示した構造において、絶縁層１０６の代わりに、カラーフィルター及びブラックマトリクスを設けた液晶表示装置の構造について説明する。
本実施の形態では、上記実施の形態２で示した構造において、絶縁層１０６の代わりに、カラーフィルター及びブラックマトリクスを設けた液晶表示装置の構造について説明する。
図９（Ａ）に示すように、実施の形態２（図２）に示した液晶表示装置の構造において、絶縁層１０６の代わりに、カラーフィルター１５０及びブラックマトリクス１５１を設ける。カラーフィルター１５０と、ブラックマトリクス１５１とは、それらの一部が重なるように設けられる。カラーフィルター１５０やブラックマトリクス１５１は、上記実施の形態と同様に作製することができる。カラーフィルター１５０及びブラックマトリクス１５１を覆うように、絶縁層１５２を形成する。絶縁層１５２により、表面を平坦化することができる。
カラーフィルター１５０及びブラックマトリクス１５１を設ける場合、カラーフィルター１５０及びブラックマトリクス１５１と薄膜トランジスタ１０２が有する半導体層１１１との間に、パッシベーション層を設けることが望ましい。本実施の形態では、ゲート電極１１３及び第２電極１０４を覆うように、パッシベーション層１５４を形成する。
このようなカラーフィルター１５０及びブラックマトリクス１５１を設ける構造は、図７（Ａ）と同様である。その他の構成は、図２と同様であるため説明を省略する。
図９（Ｂ）には、図９（Ａ）と異なり、カラーフィルター１５０と、ブラックマトリクス１５１とが重ならないように設ける。重ならないカラーフィルター１５０と、ブラックマトリクス１５１の構成は図７（Ｂ）と同様である。
その他の構成は、図９（Ａ）と同様であるため説明を省略する。
図９（Ｃ）には、図９（Ａ）（Ｂ）と異なり、ブラックマトリクス１５１を対向基板１５５側に設けた構造を示す。ブラックマトリクス１５１を設ける領域は、少なくとも薄膜トランジスタ１０２上方であればよい。
ブラックマトリクス１５１を対向基板１５５に設けたことにより、カラーフィルター１５０を薄膜トランジスタ１０２及び第２電極１０４に渡って形成することができる。上述したようにカラーフィルター１５０は有機材料を用いて形成するため、平坦化膜としての機能も有する。すなわち、絶縁層１０６の代わりに、カラーフィルター１５０を設け、その表面も平坦化することが可能となる。このようなブラックマトリクス１５１を対向基板１５５側に設ける構造は、図７（Ｃ）と同様である。
なおブラックマトリクス１５１は、絶縁基板１００の裏面側に設けてもよい。
その他の構成は、図９（Ａ）と同様であるため説明を省略する。
本実施の形態であっても、実施の形態２と同様に、共通電極１２２と、櫛歯状の第１電極１０３とに電圧を印加すると、これら電極の間にも電界が生じるため、液晶材料の傾きを制御し、階調表示を行うことができる。その結果、櫛歯状の第３電極１０５と、櫛歯状の第１電極１０３の１組の電極によって生じる電界では、上手く傾きが制御されなかった液晶材料に対しても、２組の電極による電界によって、液晶材料の傾きを上手く制御することができる。
なお、本実施の形態は、実施の形態１から実施の形態３で述べた内容を、トランジスタと共に具現化した場合の一例を示しており、実施の形態４から１１を変形したものを示している。したがって、実施の形態１から実施の形態１１で述べた内容は、本実施の形態にも適用させたり、組み合わせたりすることが出来る。
（実施の形態１３）
本実施の形態では、上記実施の形態３で示した構造において、絶縁層１０６の代わりに、カラーフィルター及びブラックマトリクスを設けた液晶表示装置の構造について説明する。
本実施の形態では、上記実施の形態３で示した構造において、絶縁層１０６の代わりに、カラーフィルター及びブラックマトリクスを設けた液晶表示装置の構造について説明する。
図１０（Ａ）に示すように、実施の形態３（図３）に示した液晶表示装置の構造において、絶縁層１０６の代わりに、カラーフィルター１５０及びブラックマトリクス１５１を設ける。カラーフィルター１５０と、ブラックマトリクス１５１とは、それらの一部が重なるように設けられる。カラーフィルター１５０やブラックマトリクス１５１は、上記実施の形態と同様に作製することができる。カラーフィルター１５０及びブラックマトリクス１５１を覆うように、絶縁層１５２を形成する。絶縁層１５２により、表面を平坦化することができる。
カラーフィルター１５０及びブラックマトリクス１５１を設ける場合、カラーフィルター１５０及びブラックマトリクス１５１と薄膜トランジスタ１０２が有する半導体層１１１との間に、パッシベーション層を設けることが望ましい。本実施の形態では、ゲート電極１１３及び第２電極１０４を覆うように、パッシベーション層１５４を形成する。
このようなカラーフィルター１５０及びブラックマトリクス１５１を設ける構造は、図７（Ａ）と同様である。その他の構成は、図３と同様であるため説明を省略する。
図１０（Ｂ）には、図１０（Ａ）と異なり、カラーフィルター１５０と、ブラックマトリクス１５１とが重ならないように設ける。重ならないカラーフィルター１５０と、ブラックマトリクス１５１の構成は図７（Ｂ）と同様である。
その他の構成は、図１０（Ａ）と同様であるため説明を省略する。
図１０（Ｃ）には、図１０（Ａ）（Ｂ）と異なり、ブラックマトリクス１５１を対向基板１５５側に設けた構造を示す。ブラックマトリクス１５１を設ける領域は、少なくとも薄膜トランジスタ１０２上方であればよい。
ブラックマトリクス１５１を対向基板１５５に設けたことにより、カラーフィルター１５０を薄膜トランジスタ１０２及び第２電極１０４に渡って形成することができる。上述したようにカラーフィルター１５０は有機材料を用いて形成するため、平坦化膜としての機能も有する。すなわち、絶縁層１０６の代わりに、カラーフィルター１５０を設け、その表面も平坦化することが可能となる。このようなブラックマトリクス１５１を対向基板１５５側に設ける構造は、図７（Ｃ）と同様である。
なおブラックマトリクス１５１は、絶縁基板１００の裏面側に設けてもよい。
その他の構成は、図１０（Ａ）と同様であるため説明を省略する。
本実施の形態であっても、実施の形態３と同様に、共通電極１２２と、櫛歯状の第１電極１０３とに電圧を印加すると、これら電極の間にも電界が生じるため、液晶材料の傾きを制御し、階調表示を行うことができる。その結果、櫛歯状の第３電極１０５と、櫛歯状の第１電極１０３の１組の電極によって生じる電界では、上手く傾きが制御されなかった液晶材料に対しても、２組の電極による電界によって、液晶材料の傾きを上手く制御することができる。
なお、本実施の形態は、実施の形態１から実施の形態３で述べた内容を、トランジスタと共に具現化した場合の一例を示しており、実施の形態４から１２を変形したものを示している。したがって、実施の形態１から実施の形態１２で述べた内容は、本実施の形態にも適用させたり、組み合わせたりすることが出来る。
（実施の形態１４）
本実施の形態では、上記実施の形態４で示した構造において、絶縁層１０６の代わりにカラーフィルター及びブラックマトリクスを設けた液晶表示装置の構造について説明する。
本実施の形態では、上記実施の形態４で示した構造において、絶縁層１０６の代わりにカラーフィルター及びブラックマトリクスを設けた液晶表示装置の構造について説明する。
図１１（Ａ）に示すように、実施の形態４（図４）に示した液晶表示装置の構造において、絶縁層１０６の代わりに、カラーフィルター１５０及びブラックマトリクス１５１を設ける。カラーフィルター１５０と、ブラックマトリクス１５１とは、それらの一部が重なるように設けられる。カラーフィルター１５０やブラックマトリクス１５１は、上記実施の形態と同様に作製することができる。カラーフィルター１５０及びブラックマトリクス１５１を覆うように、絶縁層１５２を形成する。絶縁層１５２により、表面を平坦化することができる。
本実施の形態において、薄膜トランジスタ１６０は、非晶質半導体層４１１上に絶縁層４０３を有するチャネル保護型であるとよい。チャネル保護のための絶縁層４０３の両端を覆うように、ソース電極及びドレイン電極１１６が設けられる。絶縁層４０３によって、非晶質半導体層４１１が露出されない。そのため、薄膜トランジスタ１６０を覆ってブラックマトリクス１５１が設けられる場合、ブラックマトリクスからの不純物元素が非晶質半導体層４１１に侵入することを防止できる。勿論、実施の形態４で示したチャネルエッチ型の薄膜トランジスタ１６０を用いてもよいが、非晶質半導体層４１１とブラックマトリクス１５１とが接しないように、絶縁層４０３を設けることが望ましい。
カラーフィルター１５０及びブラックマトリクス１５１を設ける場合、カラーフィルター１５０及びブラックマトリクス１５１と薄膜トランジスタ１６０が有する非晶質半導体層４１１との間に、パッシベーション層を設けることが望ましい。本実施の形態では、ゲート電極１１３、共通電極４０１、及び導電層４０２を覆うように、パッシベーション層１５４を形成する。
このようなカラーフィルター１５０及びブラックマトリクス１５１を設ける構造は、図７（Ａ）と同様である。その他の構成は、図４と同様であるため説明を省略する。
図１１（Ｂ）には、図１１（Ａ）と異なり、カラーフィルター１５０と、ブラックマトリクス１５１とが重ならないように設ける。重ならないカラーフィルター１５０と、ブラックマトリクス１５１の構成は図７（Ｂ）と同様である。
その他の構成は、図１１（Ａ）と同様であるため説明を省略する。
図１１（Ｃ）には、図１１（Ａ）（Ｂ）と異なり、ブラックマトリクス１５１を対向基板１５５側に設けた構造を示す。ブラックマトリクス１５１を設ける領域は、少なくとも薄膜トランジスタ１６０上方であればよい。
ブラックマトリクス１５１を対向基板１５５に設けたことにより、カラーフィルター１５０を薄膜トランジスタ１６０、共通電極４０１、及び導電層４０２に渡って形成することができる。
本実施の形態において、薄膜トランジスタ１６０は、非晶質半導体層４１１上に絶縁層４０３を有するチャネル保護型であるとよい。チャネル保護のための絶縁層４０３の両端を覆うように、ソース電極及びドレイン電極１１６が設けられる。絶縁層４０３によって、非晶質半導体層４１１が露出されない。そのため、薄膜トランジスタ１６０を覆ってカラーフィルター１５０が設けられる場合、カラーフィルターからの不純物元素が非晶質半導体層４１１に侵入することを防止できる。勿論、実施の形態４で示したチャネルエッチ型の薄膜トランジスタ１６０を用いてもよいが、非晶質半導体層４１１とカラーフィルター１５０とが接しないように、絶縁層４０３を設けることが望ましい。
上述したようにカラーフィルター１５０は有機材料を用いて形成するため、平坦化膜としての機能も有する。すなわち、絶縁層１０６の代わりに、カラーフィルター１５０を設け、その表面も平坦化することが可能となる。このようなブラックマトリクス１５１を対向基板１５５側に設ける構造は、図７（Ｃ）と同様である。
なおブラックマトリクス１５１は、絶縁基板１００の裏面側に設けてもよい。
その他の構成は、図１１（Ａ）と同様であるため説明を省略する。
本実施の形態であっても、実施の形態４と同様に、共通電極４０１と、櫛歯状の第１電極１０３とに電圧を印加すると、これら電極の間にも電界が生じるため、液晶材料の傾きを制御し、階調表示を行うことができる。その結果、櫛歯状の第３電極１０５と、櫛歯状の第１電極１０３の１組の電極によって生じる電界では、上手く傾きが制御されなかった液晶材料に対しても、２組の電極による電界によって、液晶材料の傾きを上手く制御することができる。
なお、本実施の形態は、実施の形態１から実施の形態３で述べた内容を、トランジスタと共に具現化した場合の一例を示しており、実施の形態４から１３を変形したものを示している。したがって、実施の形態１から実施の形態１３で述べた内容は、本実施の形態にも適用させたり、組み合わせたりすることが出来る。
（実施の形態１５）
本実施の形態では、上記実施の形態５で示した構造において、絶縁層１０６の代わりに、カラーフィルター及びブラックマトリクスを設けた液晶表示装置の構造について説明する。
本実施の形態では、上記実施の形態５で示した構造において、絶縁層１０６の代わりに、カラーフィルター及びブラックマトリクスを設けた液晶表示装置の構造について説明する。
図１２（Ａ）に示すように、実施の形態５（図５）に示した液晶表示装置の構造において、絶縁層１０６の代わりに、カラーフィルター１５０及びブラックマトリクス１５１を設ける。カラーフィルター１５０と、ブラックマトリクス１５１とは、それらの一部が重なるように設けられる。カラーフィルター１５０やブラックマトリクス１５１は、上記実施の形態と同様に作製することができる。カラーフィルター１５０及びブラックマトリクス１５１を覆うように、絶縁層１５２を形成する。絶縁層１５２により、表面を平坦化することができる。
本実施の形態において、薄膜トランジスタ１６０は、非晶質半導体層４１１上に絶縁層４０３を有するチャネル保護型であるとよい。チャネル保護のための絶縁層４０３の両端を覆うように、ソース電極及びドレイン電極１１６が設けられる。絶縁層４０３によって、非晶質半導体層４１１が露出されない。そのため、薄膜トランジスタ１６０を覆ってブラックマトリクス１５１が設けられる場合、ブラックマトリクスからの不純物元素が非晶質半導体層４１１に侵入することを防止できる。勿論、実施の形態４で示したチャネルエッチ型の薄膜トランジスタ１６０を用いてもよいが、非晶質半導体層４１１とブラックマトリクス１５１とが接しないように、絶縁層４０３を設けることが望ましい。
カラーフィルター１５０及びブラックマトリクス１５１を設ける場合、カラーフィルター１５０及びブラックマトリクス１５１と薄膜トランジスタ１６０が有する非晶質半導体層４１１との間に、パッシベーション層を設けることが望ましい。本実施の形態では、ゲート電極１１３、共通電極４０１、及び導電層４０２を覆うように、パッシベーション層１５４を形成する。
このようなカラーフィルター１５０及びブラックマトリクス１５１を設ける構造は、図７（Ａ）と同様である。その他の構成は、図５と同様であるため説明を省略する。
図１２（Ｂ）には、図１２（Ａ）と異なり、カラーフィルター１５０と、ブラックマトリクス１５１とが重ならないように設ける。重ならないカラーフィルター１５０と、ブラックマトリクス１５１の構成は図７（Ｂ）と同様である。
その他の構成は、図１２（Ａ）と同様であるため説明を省略する。
図１２（Ｃ）には、図１２（Ａ）（Ｂ）と異なり、ブラックマトリクス１５１を対向基板１５５側に設けた構造を示す。ブラックマトリクス１５１を設ける領域は、少なくとも薄膜トランジスタ１６０上方であればよい。
ブラックマトリクス１５１を対向基板１５５に設けたことにより、カラーフィルター１５０を薄膜トランジスタ１６０、共通電極４０１、及び導電層４０２に渡って形成することができる。
本実施の形態において、薄膜トランジスタ１６０は、非晶質半導体層４１１上に絶縁層４０３を有するチャネル保護型であるとよい。チャネル保護のための絶縁層４０３の両端を覆うように、ソース電極及びドレイン電極１１６が設けられる。絶縁層４０３によって、非晶質半導体層４１１が露出されない。そのため、薄膜トランジスタ１６０を覆ってカラーフィルター１５０が設けられる場合、カラーフィルターからの不純物元素が非晶質半導体層４１１に侵入することを防止できる。勿論、実施の形態４で示したチャネルエッチ型の薄膜トランジスタ１６０を用いてもよいが、非晶質半導体層４１１とカラーフィルター１５０とが接しないように、絶縁層４０３を設けることが望ましい。
上述したようにカラーフィルター１５０は有機材料を用いて形成するため、平坦化膜としての機能も有する。すなわち、絶縁層１０６の代わりに、カラーフィルター１５０を設け、その表面も平坦化することが可能となる。このようなブラックマトリクス１５１を対向基板１５５側に設ける構造は、図７（Ｃ）と同様である。
なおブラックマトリクス１５１は、絶縁基板１００の裏面側に設けてもよい。
その他の構成は、図１２（Ａ）と同様であるため説明を省略する。
本実施の形態であっても、実施の形態５と同様に、共通電極４０１と、櫛歯状の第１電極１０３とに電圧を印加すると、これら電極の間にも電界が生じるため、液晶材料の傾きを制御し、階調表示を行うことができる。その結果、櫛歯状の第３電極１０５と、櫛歯状の第１電極１０３の１組の電極によって生じる電界では、上手く傾きが制御されなかった液晶材料に対しても、２組の電極による電界によって、液晶材料の傾きを上手く制御することができる。
なお、本実施の形態は、実施の形態１から実施の形態３で述べた内容を、トランジスタと共に具現化した場合の一例を示しており、実施の形態４から１４を変形したものを示している。したがって、実施の形態１から実施の形態１４で述べた内容は、本実施の形態にも適用させたり、組み合わせたりすることが出来る。
（実施の形態１６）
本実施の形態では、液晶表示装置の画素部の上面図について説明する。
本実施の形態では、液晶表示装置の画素部の上面図について説明する。
図１３には、上記実施の形態４（図４）に示す断面構造に相当する上面図を示す。薄膜トランジスタ（ＴＦＴとも記す）１６０は、非晶質半導体層４１１を有し、ゲート電極１１３が下方に設けられたボトムゲート型構造をとる。ゲート電極１１３と同一層で、走査線４１３を形成することができる。
ゲート電極１１３を覆って、非晶質半導体層４１１を形成する。また、非晶質半導体層４１１を用いて、共通電極４０１を形成することができる。但し、共通電極４０１は導電性が高い材料から形成されることが望まれるため、半導体層に不純物元素を添加するとよい。また非晶質半導体層４１１を用いることなく、導電性材料を用いて共通電極４０１を形成してもよい。
非晶質半導体層４１１の両端を覆うようにソース電極及びドレイン電極１１６を形成する。ソース電極及びドレイン電極１１６と同一層で、信号線４１６を形成することができる。
第１電極１０３と、第３電極１０５とを同一層から形成する。第１電極１０３及び第３電極１０５は、櫛歯状に加工されており、交互になるように配置される。第１電極１０３は、開口部を介してソース電極及びドレイン電極１１６のいずれか一方に接続される。第３電極１０５は、開口部を介して共通電極４０１に接続される。
また第３電極１０５と同一層（図１３中Ａで示す領域）で、一画素中に設けられた共通電極４０１同士を、電気的に接続する。
なお、本実施の形態は、実施の形態１から実施の形態３で述べた内容を、トランジスタと共に具現化した場合の一例を示しており、実施の形態４から１５を変形したものを示している。したがって、実施の形態１から実施の形態１５で述べた内容は、本実施の形態にも適用させたり、組み合わせたりすることが出来る。
よって、本実施の形態の画素部の構造は、上記実施の形態と自由に組み合わせることができる。
（実施の形態１７）
本実施の形態では、上記実施の形態と異なる画素部の上面図について説明する。
本実施の形態では、上記実施の形態と異なる画素部の上面図について説明する。
図１４には、図１３と異なり、櫛歯状の第１電極１０３及び櫛歯状の第３電極１０５が長辺の中心部で曲がったくの字型を有する。曲げられる箇所は中心部でなくともよい。また複数箇所で曲げられてもよい。このようにくの字型に曲げられた第１電極１０３及び第３電極１０５により、視野角を広くすることができ好ましい。くの字型の第１電極１０３及び第３電極１０５の第１の方向に沿う液晶分子と、第２の方向に沿う液晶分子が存在するからである。
また、同様の効果を得るために、画素の中心線から２つの領域にわけ、第１の領域では直線状の第１電極１０３及び第３電極１０５が一定の角度をもって配置されており、第２の領域では中心線を基準に線対称とするように直線状の第１電極１０３及び第３電極１０５が配置される形態であってもよい。
なお、本実施の形態は、実施の形態１から実施の形態３で述べた内容を、トランジスタと共に具現化した場合の一例を示しており、実施の形態４から１６を変形したものを示している。したがって、実施の形態１から実施の形態１６で述べた内容は、本実施の形態にも適用させたり、組み合わせたりすることが出来る。
（実施の形態１８）
本実施の形態では、図１に示した構成において、反射領域Ａと透過領域Ｂとを有する液晶表示装置の構造について説明する。
本実施の形態では、図１に示した構成において、反射領域Ａと透過領域Ｂとを有する液晶表示装置の構造について説明する。
図１５に示すように、反射領域には反射電極６５２が設けられている。透過領域には反射電極６５２と接続された透光性電極６５４が設けられている。透光性電極６５４は共通電極としても機能する。また液晶材料６５３を介して対向基板１５５が設けられている。
また液晶材料６５３を介して設けられた対向基板１５５の外側に位相差板６５０を配置する。つまり、対向基板１５５と偏光板の間に、位相差板６５０を配置する。位相差板には、λ／４板やλ／２板がある。位相差板を設けることにより、反射領域と、透過領域とで、光の透過量を適切に制御することができる。そのため、透過型として表示させるときと、反射型として表示させるときとで、概ね同様な画像を表示させることができる。
その他の構成は図１と同様であるため説明を省略する。
本実施の形態であっても、２組の電極による電界によって、液晶材料の傾きを上手く制御することができる。
なお、実施の形態１から実施の形態１７で述べた内容は、本実施の形態にも適用させたり、組み合わせたりすることが出来る。
（実施の形態１９）
本実施の形態では上記実施の形態と異なり、位相差板を対向基板の内側に設ける構造を説明する。
本実施の形態では上記実施の形態と異なり、位相差板を対向基板の内側に設ける構造を説明する。
図１６に示すように、対向基板１５５の内側、つまり液晶材料６５３側に位相差板６５０を配置する。このような構成により、反射領域と、透過領域とで、光の透過量を適切に制御することができる。そのため、透過型として表示させるときと、反射型として表示させるときとで、概ね同様な画像を表示させることができる。
その他の構成は図１５と同様であるため説明を省略する。
本実施の形態であっても、２組の電極による電界によって、液晶材料の傾きを上手く制御することができる。
なお、実施の形態１から実施の形態１８で述べた内容は、本実施の形態にも適用させたり、組み合わせたりすることが出来る。
（実施の形態２０）
本実施の形態では、反射領域と透過領域とにおけるセルギャップを制御する構成について説明する。
本実施の形態では、反射領域と透過領域とにおけるセルギャップを制御する構成について説明する。
図１７に示すように、対向基板１５５側に、セルギャップを調整するための膜６５７を設ける。膜６５７の上（液晶に近い側）に、配向膜を形成する。このような膜６５７はアクリルなどの有機材料によって作製される。セルギャップは、反射領域の方が、透過領域より小さくなるようにする。このような構成により、反射領域と、透過領域とで、光の透過量を適切に制御することができる。そのため、透過型として表示させるときと、反射型として表示させるときとで、概ね同様な画像を表示させることができる。
その他の構成は図１５と同様であるため説明を省略する。
本実施の形態であっても、２組の電極による電界によって、液晶材料の傾きを上手く制御することができる。
なお、実施の形態１から実施の形態１９で述べた内容は、本実施の形態にも適用させたり、組み合わせたりすることが出来る。
（実施の形態２１）
本実施の形態では、上記実施の形態と異なり、セルギャップを調整するための膜に、光散乱用粒子を混在させた構成について説明する。
本実施の形態では、上記実施の形態と異なり、セルギャップを調整するための膜に、光散乱用粒子を混在させた構成について説明する。
図１８に示すように、セルギャップを調整するための膜６５７に、光散乱用粒子６５８を混在させる。光散乱用粒子６５８とは、セルギャップ調整膜とは異なる屈折率を有する材質で出来ている。このような光散乱用粒子を、セルギャップを調整するための膜に混在させて作製すればよい。
このような構成により、光を拡散させることが出来るため、輝度を向上させることが出来る。
その他の構成は図１５と同様であるため説明を省略する。
本実施の形態であっても、２組の電極による電界によって、液晶材料の傾きを上手く制御することができる。
なお、実施の形態１から実施の形態２０で述べた内容は、本実施の形態にも適用させたり、組み合わせたりすることが出来る。
（実施の形態２２）
本実施の形態では、図１に示した構成において、反射領域を設けた構成について説明する。
本実施の形態では、図１に示した構成において、反射領域を設けた構成について説明する。
図１９に示すように、本実施の形態は、ゲート電極１１３と同時に形成した電極を反射電極６５２としている反射型である。この反射電極６５２を、ゲート配線と概ね平行に配置することにより、レイアウトが効率的にできるようになる。また、ゲート配線と同時に形成できるため、プロセス工程を低減し、コストを低減することが出来る。
なお、実施の形態１から実施の形態２１で述べた内容は、本実施の形態にも適用させたり、組み合わせたりすることが出来る。
（実施の形態２３）
本実施の形態では、上記実施の形態２２と、反射領域と、透過領域を設けた点が異なる構成について説明する。
本実施の形態では、上記実施の形態２２と、反射領域と、透過領域を設けた点が異なる構成について説明する。
図２０に示すように、本実施の形態の構成は、ゲート電極１１３と同時に形成した電極を反射電極６５２としている半透過型である。この反射電極６５２を、コモン配線として使用できる。また、ゲート配線と概ね平行に配置することにより、レイアウトが効率的にできるようになる。また、ゲート配線と同時に形成できるため、プロセス工程を低減し、コストを低減することが出来る。
なお、実施の形態１から実施の形態２２で述べた内容は、本実施の形態にも適用させたり、組み合わせたりすることが出来る。
（実施の形態２４）
本実施の形態では、上記実施の形態２３と、反射電極と、透光性電極との作製順序が異なる構成について説明する。
本実施の形態では、上記実施の形態２３と、反射電極と、透光性電極との作製順序が異なる構成について説明する。
図２１に示すように、先に透光性電極６５４を形成し、透光性電極６５４上の一部に反射電極６５２を形成する。そして反射電極６５２には、電極１１７が接続される。
このような構成により、反射電極６５２をゲート電極１１３と同時に形成できる。この反射電極６５２を、コモン配線として使用できる。また、ゲート配線と概ね平行に配置することにより、レイアウトが効率的にできるようになる。ゲート配線と同時に形成できるため、プロセス工程を低減し、コストを低減することが出来る。
その他の構成は図２０と同様であるため説明を省略する。
本実施の形態であっても、２組の電極による電界によって、液晶材料の傾きを上手く制御することができる。
なお、実施の形態１から実施の形態２３で述べた内容は、本実施の形態にも適用させたり、組み合わせたりすることが出来る。
（実施の形態２５）
本実施の形態では、上記実施の形態２４と、透光性電極を設けない点が異なる構成について説明する。
本実施の形態では、上記実施の形態２４と、透光性電極を設けない点が異なる構成について説明する。
図２２に示すように、反射領域には反射電極６５２を形成するが、透過領域には電極を形成しない。そして反射電極６５２には、電極１１７が接続される。
このような構成により、反射電極６５２をゲート電極１１３と同時に形成できる。この反射電極６５２を、コモン配線として使用できる。また、ゲート配線と概ね平行に配置することにより、レイアウトが効率的にできるようになる。ゲート配線と同時に形成できるため、プロセス工程を低減し、コストを低減することが出来る。
その他の構成は図２１と同様であるため説明を省略する。
本実施の形態であっても、２組の電極による電界によって、液晶材料の傾きを上手く制御することができる。
なお、実施の形態１から実施の形態２４で述べた内容は、本実施の形態にも適用させたり、組み合わせたりすることが出来る。
（実施の形態２６）
本実施の形態では、上記実施の形態２２と、コモン配線として機能する導電層６５９を設けた点が異なる構成について説明する。
本実施の形態では、上記実施の形態２２と、コモン配線として機能する導電層６５９を設けた点が異なる構成について説明する。
図２３に示すように、反射領域において、下地層１０１上に導電層６５９を形成する。導電層６５９はゲート電極と同時に作製することができる。そして、導電層６５９に接続した反射電極として機能する電極１１７を有する。
このような構成により、この導電層６５９を、コモン配線として使用できる。また、ゲート配線と概ね平行に配置することにより、レイアウトが効率的にできるようになる。ゲート配線と同時に形成できるため、プロセス工程を低減し、コストを低減することが出来る。
その他の構成は図１９と同様であるため説明を省略する。
本実施の形態であっても、２組の電極による電界によって、液晶材料の傾きを上手く制御することができる。
なお、実施の形態１から実施の形態２５で述べた内容は、本実施の形態にも適用させたり、組み合わせたりすることが出来る。
（実施の形態２７）
本実施の形態では、上記実施の形態２６と、コモン配線として機能する導電層６５９を反射領域に有し、さらに透過領域を設けた点が異なる構成について説明する。
本実施の形態では、上記実施の形態２６と、コモン配線として機能する導電層６５９を反射領域に有し、さらに透過領域を設けた点が異なる構成について説明する。
図２４に示すように、反射領域において、下地層１０１上に導電層６５９を形成し、導電層６５９に接続された反射電極として機能させる電極１１７を形成する。さらに透過領域には、電極１１７に接続された透光性電極６５４を形成する。
このような構成により、この導電層６５９を、コモン配線として使用できる。また、ゲート配線と概ね平行に配置することにより、レイアウトが効率的にできるようになる。ゲート配線と同時に形成できるため、プロセス工程を低減し、コストを低減することが出来る。
その他の構成は図２３と同様であるため説明を省略する。
本実施の形態であっても、２組の電極による電界によって、液晶材料の傾きを上手く制御することができる。
なお、実施の形態１から実施の形態２６で述べた内容は、本実施の形態にも適用させたり、組み合わせたりすることが出来る。
（実施の形態２８）
本実施の形態では、上記実施の形態２７と、反射電極と、透光性電極との作製順序が異なる構成について説明する。
本実施の形態では、上記実施の形態２７と、反射電極と、透光性電極との作製順序が異なる構成について説明する。
図２５に示すように、先に透光性電極６５４を形成し、透光性電極６５４上の一部に反射電極として機能させる電極１１７を形成する。
このような構成により、導電層６５９を、コモン配線として使用できる。また、ゲート配線と概ね平行に配置することにより、レイアウトが効率的にできるようになる。ゲート配線と同時に形成できるため、プロセス工程を低減し、コストを低減することが出来る。
その他の構成は図２４と同様であるため説明を省略する。
本実施の形態であっても、２組の電極による電界によって、液晶材料の傾きを上手く制御することができる。
なお、実施の形態１から実施の形態２７で述べた内容は、本実施の形態にも適用させたり、組み合わせたりすることが出来る。
（実施の形態２９）
本実施の形態では、上記実施の形態２８と、コモン配線として機能する導電層６５９を反射領域に形成し、透光性電極を設けない点が異なる構成について説明する。
本実施の形態では、上記実施の形態２８と、コモン配線として機能する導電層６５９を反射領域に形成し、透光性電極を設けない点が異なる構成について説明する。
図２６に示すように、反射領域には導電層６５９を形成するが、透過領域には電極を形成しない。そして導電層６５９には、反射電極として機能する電極１１７が接続される。
このような構成により、導電層６５９を、コモン配線として使用できる。また、ゲート配線と概ね平行に配置することにより、レイアウトが効率的にできるようになる。ゲート配線と同時に形成できるため、プロセス工程を低減し、コストを低減することが出来る。
その他の構成は図２５と同様であるため説明を省略する。
本実施の形態であっても、２組の電極による電界によって、液晶材料の傾きを上手く制御することができる。
なお、実施の形態１から実施の形態２８で述べた内容は、本実施の形態にも適用させたり、組み合わせたりすることが出来る。
（実施の形態３０）
本実施の形態では、上記実施の形態２９と、透過領域に透光性電極を形成する点が異なる構成について説明する。
本実施の形態では、上記実施の形態２９と、透過領域に透光性電極を形成する点が異なる構成について説明する。
図２７に示すように、反射領域に形成された導電層６５９を有し、透過領域には、導電層６５９に接続された透光性電極６５４を形成する。そして導電層６５９には、電極１１７が接続される。導電層６５９は、反射電極としても機能し、コモン配線としても機能する。
このような構成により、導電層６５９を、コモン配線として使用できる。また、ゲート配線と概ね平行に配置することにより、レイアウトが効率的にできるようになる。ゲート配線と同時に形成できるため、プロセス工程を低減し、コストを低減することが出来る。
その他の構成は図２５と同様であるため説明を省略する。
本実施の形態であっても、２組の電極による電界によって、液晶材料の傾きを上手く制御することができる。
なお、実施の形態１から実施の形態２９で述べた内容は、本実施の形態にも適用させたり、組み合わせたりすることが出来る。
（実施の形態３１）
本実施の形態では、上記実施の形態３０と、反射領域において、絶縁層に凹凸形状部を形成した点が異なる構成について説明する。
本実施の形態では、上記実施の形態３０と、反射領域において、絶縁層に凹凸形状部を形成した点が異なる構成について説明する。
図２８に示すように、反射領域において、絶縁層１０６に凹凸部を形成する。
絶縁層１０６の凹凸部に沿うように、導電層６６０を形成する。導電層６６０は、反射性の高い材料を使用する。導電層６６０は、電極１１７と同一材料から形成してもよい。絶縁層１０６の凹凸部に沿うように形成された導電層６６０により、反射率を高めることができる。
また、凹凸部は、絶縁層１０６にコンタクトホールを開けるのと同時に形成することが出来る。よって、プロセス工程の増加が必要なく、反射領域に凹凸を形成することができる。
また透過領域において、導電層６５９に接続された透光性電極６５４を形成する。透光性電極６５４は、導電層６６０とも接続される。導電層６５９は、反射電極として機能する。
その他の構成は図２７と同様であるため説明を省略する。
本実施の形態であっても、２組の電極による電界によって、液晶材料の傾きを上手く制御することができる。
なお、実施の形態１から実施の形態３０で述べた内容は、本実施の形態にも適用させたり、組み合わせたりすることが出来る。
（実施の形態３２）
本実施の形態では、上記実施の形態３１と、反射電極と、透光性電極との作製順序が異なる構成について説明する。
本実施の形態では、上記実施の形態３１と、反射電極と、透光性電極との作製順序が異なる構成について説明する。
図２９に示すように、先に、透光性電極６５４を形成する。そして、反射領域のみに、透光性電極６５４に接続される導電層６５９を形成する。導電層６５９は、反射電極として機能する。その後、絶縁層１０６に凹凸部を設け、この凹凸部に沿うように、導電層６６０を形成する。導電層６６０は、導電層６５９に接続される。
また、凹凸部は、絶縁層１０６にコンタクトホールを開けるのと同時に行うことが出来る。よって、プロセス工程の増加が必要なく、反射領域に凹凸を形成することができる。
その他の構成は図２８と同様であるため説明を省略する。
本実施の形態であっても、２組の電極による電界によって、液晶材料の傾きを上手く制御することができる。
なお、実施の形態１から実施の形態３１で述べた内容は、本実施の形態にも適用させたり、組み合わせたりすることが出来る。
（実施の形態３３）
本実施の形態では、上記実施の形態３２と、透光性電極を形成しない点が異なる構成について説明する。
本実施の形態では、上記実施の形態３２と、透光性電極を形成しない点が異なる構成について説明する。
図３０に示すように、反射領域に導電層６５９を形成する。導電層６５９は反射電極として機能する。そして、透過領域には、透光性電極を形成しない。その後絶縁層１０６に凹凸部を設け、この凹凸部に沿うように導電層６６０は設けられ、導電層６５９と接続される。このとき、導電層６６０の下面、つまり凹部に設けられた導電層６６０の底面は、すべて導電層６５９に接する構成とする。
また、凹凸部は、絶縁層１０６にコンタクトホールを開けるのと同時に行うことが出来る。よって、プロセス工程の増加が必要なく、反射領域に凹凸を形成することができる。
その他の構成は図２９と同様であるため説明を省略する。
本実施の形態であっても、２組の電極による電界によって、液晶材料の傾きを上手く制御することができる。
なお、実施の形態１から実施の形態３２で述べた内容は、本実施の形態にも適用させたり、組み合わせたりすることが出来る。
（実施の形態３４）
本実施の形態では、上記実施の形態３３と、凹部に設けられた導電層６６０の底面の一部のみが、導電層６５９に接する点が異なる構成について説明する。
本実施の形態では、上記実施の形態３３と、凹部に設けられた導電層６６０の底面の一部のみが、導電層６５９に接する点が異なる構成について説明する。
図３１に示すように、導電層６６０の下面、つまり凹部に設けられた導電層６６０の底面の一部のみ、導電層６５９に接し、導電層の底面の他部は、下地層１０１に接する。
また、この凹凸部は、絶縁層１０６にコンタクトホールを開けるのと同時に行うことが出来る。よって、プロセス工程の増加が必要なく、反射領域に凹凸部を形成することができる。
その他の構成は図３１と同様であるため説明を省略する。
本実施の形態であっても、２組の電極による電界によって、液晶材料の傾きを上手く制御することができる。
なお、実施の形態１から実施の形態３３で述べた内容は、本実施の形態にも適用させたり、組み合わせたりすることが出来る。
（実施の形態３５）
本実施の形態では、上記実施の形態２５と、絶縁層１０７に開口部を設けた点が異なる構成について説明する。
本実施の形態では、上記実施の形態２５と、絶縁層１０７に開口部を設けた点が異なる構成について説明する。
図３２に示すように、絶縁層１０７に開口部を形成する。開口部を形成する領域は、透過領域とする。
このような構成により、透過領域でのセルギャップを厚くすることが出来る。
また反射領域に設けられた導電層６５９は、反射電極として機能し、電極１１７を介して第３電極１０５に接続される。
その他の構成は図２２と同様であるため説明を省略する。
本実施の形態であっても、２組の電極による電界によって、液晶材料の傾きを上手く制御することができる。
なお、実施の形態１から実施の形態３４で述べた内容は、本実施の形態にも適用させたり、組み合わせたりすることが出来る。
（実施の形態３６）
本実施の形態では、上記実施の形態３５と、透過領域に透光性電極を形成した点が異なる構成について説明する。
本実施の形態では、上記実施の形態３５と、透過領域に透光性電極を形成した点が異なる構成について説明する。
図３３に示すように、透過領域に透光性電極６５４を形成する。透光性電極６５４は、反射領域に設けられた導電層６５９と接続される。
このような構成により、透過領域でのセルギャップを厚くすることが出来る。
その他の構成は図３２と同様であるため説明を省略する。
本実施の形態であっても、２組の電極による電界によって、液晶材料の傾きを上手く制御することができる。
なお、実施の形態１から実施の形態３５で述べた内容は、本実施の形態にも適用させたり、組み合わせたりすることが出来る。
（実施の形態３７）
本実施の形態では、上記実施の形態３６と、反射電極と、透光性電極との作製順序が異なる構成について説明する。
本実施の形態では、上記実施の形態３６と、反射電極と、透光性電極との作製順序が異なる構成について説明する。
図３４に示すように、下地層１０１上に、透光性電極６５４を形成する。その後、反射領域のみに、導電層６５９を形成する。導電層６５９は、反射電極として機能する。
このような構成により、透過領域でのセルギャップを厚くすることが出来る。
その他の構成は図３３と同様であるため説明を省略する。
本実施の形態であっても、２組の電極による電界によって、液晶材料の傾きを上手く制御することができる。
なお、実施の形態１から実施の形態３６で述べた内容は、本実施の形態にも適用させたり、組み合わせたりすることが出来る。
（実施の形態３８）
本実施の形態では、上記実施の形態３７と、反射電極を絶縁層１０６上に形成した点が異なる構成について説明する。
本実施の形態では、上記実施の形態３７と、反射電極を絶縁層１０６上に形成した点が異なる構成について説明する。
図３５に示すように、絶縁層１０６に開口部を形成し、導電層６５９と接続された電極１１７を形成する。電極１１７を反射電極として機能させるため、反射領域にのみ形成される。その後、電極１１７を覆うように、絶縁層１０７を形成し、透過領域において、絶縁層１０７に開口部を形成する。
このような構成により、透過領域でのセルギャップを厚くすることが出来る。
その他の構成は図３４と同様であるため説明を省略する。
本実施の形態であっても、２組の電極による電界によって、液晶材料の傾きを上手く制御することができる。
なお、実施の形態１から実施の形態３７で述べた内容は、本実施の形態にも適用させたり、組み合わせたりすることが出来る。
（実施の形態３９）
本実施の形態では、上記実施の形態３８と、絶縁層１０６に凹凸部を設けた点が異なる構成について説明する。
本実施の形態では、上記実施の形態３８と、絶縁層１０６に凹凸部を設けた点が異なる構成について説明する。
図３６に示すように、下地層１０１上に設けられた導電層６５９と、導電層６５９を覆う絶縁層１０６を有する。絶縁層１０６は、導電層６５９上方にて、凹凸部が形成される。この凹凸部を沿うように導電層６６０が形成される。導電層６６０は、導電層６５９と接続される。導電層６６０は、電極１１７と同一材料から形成してもよい。このとき、導電層６６０の下面、つまり凹部に設けられた導電層６６０の底面全体が、導電層６５９に接する。
このような構成により、透過領域でのセルギャップを厚くすることが出来る。
その他の構成は図３５と同様であるため説明を省略する。
本実施の形態であっても、２組の電極による電界によって、液晶材料の傾きを上手く制御することができる。
なお、実施の形態１から実施の形態３８で述べた内容は、本実施の形態にも適用させたり、組み合わせたりすることが出来る。
（実施の形態４０）
本実施の形態では、上記実施の形態３９と、凹部に設けられた導電層６６０の底面の一部のみ、導電層６５９に接した点が異なる構成について説明する。
本実施の形態では、上記実施の形態３９と、凹部に設けられた導電層６６０の底面の一部のみ、導電層６５９に接した点が異なる構成について説明する。
図３７に示すように、絶縁層１０６は、導電層６５９上方にて、凹凸部が形成される。この凹凸部に沿うように形成された導電層６６０を有する。導電層６６０は、その下面、つまり凹部に設けられた導電層６６０の底面の一部のみ、導電層６５９に接する。また導電層６５９に接して透光性電極６５４が設けられており、導電層の底面の他部は、透光性電極６５４に接する。
このような構成により、透過領域でのセルギャップを厚くすることが出来る。
その他の構成は図３６と同様であるため説明を省略する。
本実施の形態であっても、２組の電極による電界によって、液晶材料の傾きを上手く制御することができる。
なお、実施の形態１から実施の形態３９で述べた内容は、本実施の形態にも適用させたり、組み合わせたりすることが出来る。
（実施の形態４１）
本実施の形態では、上記実施の形態３０と、導電層６６０が、同一絶縁層上に形成された導電層６５９と、透光性電極６５４とに接続した点が異なる構成について説明する。
本実施の形態では、上記実施の形態３０と、導電層６６０が、同一絶縁層上に形成された導電層６５９と、透光性電極６５４とに接続した点が異なる構成について説明する。
図３８に示すように、下地層１０１上に形成された導電層６５９、及び透光性電極６５４を覆って、絶縁層１０６は形成される。絶縁層１０６には、導電層６５９、及び透光性電極６５４が露出されるような開口部が形成される。開口部に導電層６６０を形成することにより、導電層６５９と、透光性電極６５４とに接続する。
このような構成により、導電層６５９をコモン配線として用いることが出来る。
その他の構成は図２７と同様であるため説明を省略する。
本実施の形態であっても、２組の電極による電界によって、液晶材料の傾きを上手く制御することができる。
なお、実施の形態１から実施の形態４０で述べた内容は、本実施の形態にも適用させたり、組み合わせたりすることが出来る。
（実施の形態４２）
本実施の形態では、上記実施の形態４１と、絶縁層１０７に開口部を設けた点が異なる構成について説明する。
本実施の形態では、上記実施の形態４１と、絶縁層１０７に開口部を設けた点が異なる構成について説明する。
図３９に示すように、透過領域において、絶縁層１０７に開口部が設けられ、一部の第１電極１０３、第３電極１０５は、絶縁層１０６上に形成される。
このような構成により、導電層６５９をコモン配線として用いることが出来る。
その他の構成は図３８と同様であるため説明を省略する。
本実施の形態であっても、２組の電極による電界によって、液晶材料の傾きを上手く制御することができる。
なお、実施の形態１から実施の形態４１で述べた内容は、本実施の形態にも適用させたり、組み合わせたりすることが出来る。
（実施の形態４３）
本実施の形態では、上記実施の形態４２と、絶縁層１０６に凹凸形状の開口部を形成する点が異なる構成について説明する。
本実施の形態では、上記実施の形態４２と、絶縁層１０６に凹凸形状の開口部を形成する点が異なる構成について説明する。
図４０に示すように、反射領域において、絶縁層１０６に凹凸部を形成する。この凹凸部を沿うように、導電層６６０を形成する。そして導電層６６０の一部に第３電極１０５が接続され、導電層６６０の他部に導電層６５９と、透光性電極６５４とが接続される。
このような構成により、導電層６５９をコモン配線として用いることが出来る。
その他の構成は図３９と同様であるため説明を省略する。
本実施の形態であっても、２組の電極による電界によって、液晶材料の傾きを上手く制御することができる。
なお、実施の形態１から実施の形態４２で述べた内容は、本実施の形態にも適用させたり、組み合わせたりすることが出来る。
（実施の形態４４）
本実施の形態では、図２の構成において、反射領域と透過領域を設け、反射領域のみに反射電極６５２を有する構成について説明する。
本実施の形態では、図２の構成において、反射領域と透過領域を設け、反射領域のみに反射電極６５２を有する構成について説明する。
図４１に示すように、反射領域において、反射電極６５２を絶縁層１０６上に形成する。そして、反射電極６５２と、第３電極１０５とが接続される。
その他の構成は図２と同様であるため説明を省略する。
本実施の形態であっても、２組の電極による電界によって、液晶材料の傾きを上手く制御することができる。
なお、実施の形態１から実施の形態４３で述べた内容は、本実施の形態にも適用させたり、組み合わせたりすることが出来る。
（実施の形態４５）
本実施の形態では、上記実施の形態４４と、凹凸部を有する絶縁層１０６に反射電極を形成する点が異なる構成について説明する。
本実施の形態では、上記実施の形態４４と、凹凸部を有する絶縁層１０６に反射電極を形成する点が異なる構成について説明する。
図４２に示すように、反射領域において、絶縁層１０６に凹凸部を形成する。この凹凸部を沿うように、反射電極６５２を形成する。そして反射電極６５２と、第３電極１０５とが接続される。
また、この凹凸部は、絶縁層１０６にコンタクトホールを開けるのと同時に形成することが出来る。よって、プロセス工程の増加が必要なく、凹凸形状の反射電極を形成することができる。
その他の構成は図４１と同様であるため説明を省略する。
本実施の形態であっても、２組の電極による電界によって、液晶材料の傾きを上手く制御することができる。
なお、実施の形態１から実施の形態４４で述べた内容は、本実施の形態にも適用させたり、組み合わせたりすることが出来る。
（実施の形態４６）
本実施の形態では、上記実施の形態４４と、絶縁層１０７に開口部を形成した点が異なる構成について説明する。
本実施の形態では、上記実施の形態４４と、絶縁層１０７に開口部を形成した点が異なる構成について説明する。
図４３に示すように、透過領域において、絶縁層１０７に開口部を形成する。また反射電極６５２は、絶縁層１０６上に形成される。
その他の構成は図４１と同様であるため説明を省略する。
本実施の形態であっても、２組の電極による電界によって、液晶材料の傾きを上手く制御することができる。
なお、実施の形態１から実施の形態４５で述べた内容は、本実施の形態にも適用させたり、組み合わせたりすることが出来る。
（実施の形態４７）
本実施の形態では、図２に示した構成において、反射領域のみを設けた構成について説明する。
本実施の形態では、図２に示した構成において、反射領域のみを設けた構成について説明する。
図４４に示すように、図２に示した配線１２１を形成せず、反射領域において、絶縁層１０６上に反射電極６５２を形成する。
その他の構成は図２と同様であるため説明を省略する。
本実施の形態であっても、２組の電極による電界によって、液晶材料の傾きを上手く制御することができる。
なお、実施の形態１から実施の形態４６で述べた内容は、本実施の形態にも適用させたり、組み合わせたりすることが出来る。
（実施の形態４８）
本実施の形態では、上記実施の形態４７と、絶縁層１０６に凹凸形状の開口部を設け、凹凸形状に沿うように反射電極を形成した点が異なる構成について説明する。
本実施の形態では、上記実施の形態４７と、絶縁層１０６に凹凸形状の開口部を設け、凹凸形状に沿うように反射電極を形成した点が異なる構成について説明する。
図４５に示すように、反射領域において、絶縁層１０６の表面に凹凸部を設け、この凹凸部に沿うように反射電極６５２を形成する。絶縁層１０６に形成する凹凸形状は、開口部でなくても構わない。また薄膜トランジスタのソース電極、及びドレイン電極用の開口部と同時に形成することもできる。なお、凹凸形状により反射率を高めることを目的としており、その範囲を逸脱しない形状であれば、どのような形状であってもよい。
また、この凹凸部は、絶縁層１０６にコンタクトホールを開けるのと同時に形成することが出来る。よって、プロセス工程の増加が必要なく、反射電極に凹凸を形成することができる。
その他の構成は図４４と同様であるため説明を省略する。
本実施の形態であっても、２組の電極による電界によって、液晶材料の傾きを上手く制御することができる。
なお、実施の形態１から実施の形態４７で述べた内容は、本実施の形態にも適用させたり、組み合わせたりすることが出来る。
（実施の形態４９）
本実施の形態では、上記実施の形態４７と、絶縁層１０６上に突起物を形成した点が異なる構成について説明する。
本実施の形態では、上記実施の形態４７と、絶縁層１０６上に突起物を形成した点が異なる構成について説明する。
図４６に示すように、反射領域において、絶縁層１０６上に導電層６０２を形成する。導電層６０２は、ソース電極及びドレイン電極１１６と同一層で形成することができる。
導電層６０２上に凹凸形状を形成するため、突起物６０３を形成する。突起物６０３は、有機層をパターニングすることにより形成する。突起物６０３を覆うように、導電層６０４を形成する。導電層６０２と、導電層６０４とは、突起物６０３の間で、接続される。導電層６０４は、反射電極として機能する。
導電層６０４は、絶縁層１０７に設けられた開口部を介して、第３電極１０５と接続される。
その他の構成は図４４と同様であるため説明を省略する。
本実施の形態であっても、２組の電極による電界によって、液晶材料の傾きを上手く制御することができる。
なお、実施の形態１から実施の形態４８で述べた内容は、本実施の形態にも適用させたり、組み合わせたりすることが出来る。
（実施の形態５０）
本実施の形態では、上記実施の形態４９と、導電層６０２を形成しない点が異なる構成について説明する。
本実施の形態では、上記実施の形態４９と、導電層６０２を形成しない点が異なる構成について説明する。
図４７に示すように、絶縁層１０６上に、突起物６０３を形成し、突起物６０３を覆うように、導電層６０４を形成する。導電層６０４は、反射電極として機能する。
その他の構成は図４６と同様であるため説明を省略する。
本実施の形態であっても、２組の電極による電界によって、液晶材料の傾きを上手く制御することができる。
なお、実施の形態１から実施の形態４９で述べた内容は、本実施の形態にも適用させたり、組み合わせたりすることが出来る。
（実施の形態５１）
本実施の形態では、上記実施の形態４７と、反射領域と、透過領域とを設けた点が異なる構成について説明する。
本実施の形態では、上記実施の形態４７と、反射領域と、透過領域とを設けた点が異なる構成について説明する。
図４８に示すように、反射領域において、絶縁層１０６上に反射電極６５２を形成する。反射電極６５２に接続された透光性電極６５４を、透過領域において形成する。
その他の構成は図４４と同様であるため説明を省略する。
本実施の形態であっても、２組の電極による電界によって、液晶材料の傾きを上手く制御することができる。
なお、実施の形態１から実施の形態５０で述べた内容は、本実施の形態にも適用させたり、組み合わせたりすることが出来る。
（実施の形態５２）
本実施の形態では、上記実施の形態５１と、反射電極と、透光性電極との作製順序が異なる構成について説明する。
本実施の形態では、上記実施の形態５１と、反射電極と、透光性電極との作製順序が異なる構成について説明する。
図４９に示すように、反射領域及び透過領域に渡って、透光性電極６５４を形成する。その後反射領域に、透光性電極６５４に接続された反射電極６５２を形成する。
その他の構成は図４８と同様であるため説明を省略する。
本実施の形態であっても、２組の電極による電界によって、液晶材料の傾きを上手く制御することができる。
なお、実施の形態１から実施の形態５１で述べた内容は、本実施の形態にも適用させたり、組み合わせたりすることが出来る。
（実施の形態５３）
本実施の形態では、上記実施の形態５１と、透過領域において、絶縁層１０６、１０７に開口部を設けた点が異なる構成について説明する。
本実施の形態では、上記実施の形態５１と、透過領域において、絶縁層１０６、１０７に開口部を設けた点が異なる構成について説明する。
図５０に示すように、透過領域の絶縁層１０６に開口部を形成する。反射領域では、絶縁層１０６上に反射電極６５２を形成する。反射電極６５２に接続された透光性電極６５４を、絶縁層１０６の開口部に形成する。
その後、透過領域において、絶縁層１０７にも開口部を形成する。開口部を形成することにより、透光性電極６５４が露出する。露出された透光性電極６５４に、一部の第１電極１０３、第３電極１０５を形成する。
その他の構成は図４８と同様であるため説明を省略する。
本実施の形態であっても、２組の電極による電界によって、液晶材料の傾きを上手く制御することができる。
なお、実施の形態１から実施の形態５２で述べた内容は、本実施の形態にも適用させたり、組み合わせたりすることが出来る。
（実施の形態５４）
本実施の形態では、上記実施の形態５１と、反射領域において、絶縁層１０６に凹凸形状を設けた点が異なる構成について説明する。
本実施の形態では、上記実施の形態５１と、反射領域において、絶縁層１０６に凹凸形状を設けた点が異なる構成について説明する。
図５１に示すように、反射領域において、絶縁層１０６に凹凸部を設け、この凹凸部に沿うように、反射電極６５２を形成する。凹凸形状により、反射電極６５２の反射率を高めることができる。
また、この凹凸形状は、絶縁層１０６にコンタクトホールを開けるのと同時に形成することが出来る。よって、プロセス工程の増加が必要なく、反射電極に凹凸を形成することができる。
そして、反射領域、及び透過領域に渡って、透光性電極６５４を形成する。透光性電極６５４は、反射領域に設けられた反射電極６５２に接続される。また透光性電極６５４は、第３電極１０５と接続される。
その他の構成は図４８と同様であるため説明を省略する。
本実施の形態であっても、２組の電極による電界によって、液晶材料の傾きを上手く制御することができる。
なお、実施の形態１から実施の形態５３で述べた内容は、本実施の形態にも適用させたり、組み合わせたりすることが出来る。
（実施の形態５５）
本実施の形態では、上記実施の形態５１と、反射領域において、突起物を形成した点が異なる構成について説明する。
本実施の形態では、上記実施の形態５１と、反射領域において、突起物を形成した点が異なる構成について説明する。
図５２に示すように、反射領域において、絶縁層１０６上に突起物６０３を形成する。突起物６０３を覆うように、導電層６０４を形成する。導電層６０４は、反射電極として機能する。
透過領域において、透光性電極６５４を形成する。透光性電極６５４は、反射領域に形成された導電層６０４と接続される。
その他の構成は図４８と同様であるため説明を省略する。
本実施の形態であっても、２組の電極による電界によって、液晶材料の傾きを上手く制御することができる。
なお、実施の形態１から実施の形態５４で述べた内容は、本実施の形態にも適用させたり、組み合わせたりすることが出来る。
（実施の形態５６）
本実施の形態では、上記実施の形態５５と、反射電極６５２と、透光性電極６５４との作製順序が異なる構成について説明する。
本実施の形態では、上記実施の形態５５と、反射電極６５２と、透光性電極６５４との作製順序が異なる構成について説明する。
図５３に示すように、反射領域、及び透過領域に渡って、透光性電極６５４を形成する。反射領域において、透光性電極６５４と接続するように、反射電極６５２を形成する。本実施の形態では、透光性電極６５４の一部と重なるように反射電極６５２を形成する。
反射領域において、反射電極６５２上に、突起物６０３を形成する。突起物６０３を覆うように、導電層６０４を形成する。導電層６０４と、反射電極６５２は、突起物の間で接続される。
その他の構成は図５２と同様であるため説明を省略する。
本実施の形態であっても、２組の電極による電界によって、液晶材料の傾きを上手く制御することができる。
なお、実施の形態１から実施の形態５５で述べた内容は、本実施の形態にも適用させたり、組み合わせたりすることが出来る。
（実施の形態５７）
本実施の形態では、上記実施の形態５６と、反射電極６５２を形成しない点が異なる構成について説明する。
本実施の形態では、上記実施の形態５６と、反射電極６５２を形成しない点が異なる構成について説明する。
図５４に示すように、反射領域、及び透過領域に渡って、透光性電極６５４を形成する。反射領域において、突起物６０３を形成する。一部の突起物６０３は、透光性電極６５４上にも形成される。
これら突起物６０３を覆うように、導電層６０４を形成する。導電層６０４は、反射電極として機能する。
その他の構成は図５３と同様であるため説明を省略する。
本実施の形態であっても、２組の電極による電界によって、液晶材料の傾きを上手く制御することができる。
なお、実施の形態１から実施の形態５６で述べた内容は、本実施の形態にも適用させたり、組み合わせたりすることが出来る。
（実施の形態５８）
本実施の形態では、上記実施の形態５１と、反射領域において絶縁層１０６上に突起物６０３を形成した点が異なる構成について説明する。
本実施の形態では、上記実施の形態５１と、反射領域において絶縁層１０６上に突起物６０３を形成した点が異なる構成について説明する。
図５５に示すように、反射領域において、絶縁層１０６上に反射電極６５２を形成する。反射電極６５２上には、突起物６０３を形成する。突起物６０３を覆うように、導電層６０４を形成する。
その他の構成は図４８と同様であるため説明を省略する。
本実施の形態であっても、２組の電極による電界によって、液晶材料の傾きを上手く制御することができる。
なお、実施の形態１から実施の形態５７で述べた内容は、本実施の形態にも適用させたり、組み合わせたりすることが出来る。
（実施の形態５９）
本実施の形態では、上記実施の形態５８と異なり、反射電極６５２を形成しない構成について説明する。
本実施の形態では、上記実施の形態５８と異なり、反射電極６５２を形成しない構成について説明する。
図５６に示すように、反射領域において、突起物６０３を形成する。これら突起物６０３を覆うように、導電層６０４を形成する。導電層６０４は、反射電極として機能する。
その他の構成は図５５と同様であるため説明を省略する。
本実施の形態であっても、２組の電極による電界によって、液晶材料の傾きを上手く制御することができる。
なお、実施の形態１から実施の形態５８で述べた内容は、本実施の形態にも適用させたり、組み合わせたりすることが出来る。
（実施の形態６０）
本実施の形態では、上記実施の形態５９と反射領域のみを有する点が異なる構成について説明する。
本実施の形態では、上記実施の形態５９と反射領域のみを有する点が異なる構成について説明する。
図５７に示すように、反射領域のみを有し、反射領域に突起物６０３を形成する。突起物６０３を覆って、導電層６０４が形成される。導電層６０４は、ソース電極及びドレイン電極１１６と同一層から形成することができる。
その他の構成は図５６と同様であるため説明を省略する。
本実施の形態であっても、２組の電極による電界によって、液晶材料の傾きを上手く制御することができる。
なお、実施の形態１から実施の形態５９で述べた内容は、本実施の形態にも適用させたり、組み合わせたりすることが出来る。
（実施の形態６１）
本実施の形態では、上記実施の形態５９と反射領域に形成する突起物及び導電層を形成した後、透過領域に導電層を形成した点が異なる構成について説明する。
本実施の形態では、上記実施の形態５９と反射領域に形成する突起物及び導電層を形成した後、透過領域に導電層を形成した点が異なる構成について説明する。
図５８に示すように、反射領域において、突起物６０３を形成する。突起物６０３を覆うように、導電層６０４を形成する。導電層６０４は、反射電極として機能する。
反射領域、及び透過領域に渡って、透光性電極６５４を形成する。透光性電極６５４は、導電層６０４と接続される。
その他の構成は図５６と同様であるため説明を省略する。
本実施の形態であっても、２組の電極による電界によって、液晶材料の傾きを上手く制御することができる。
なお、実施の形態１から実施の形態６０で述べた内容は、本実施の形態にも適用させたり、組み合わせたりすることが出来る。
（実施の形態６２）
本実施の形態では、上記実施の形態６１とは、導電層６０４と、透光性電極６５４との作製順序が異なる構成について説明する。
本実施の形態では、上記実施の形態６１とは、導電層６０４と、透光性電極６５４との作製順序が異なる構成について説明する。
図５９に示すように、反射領域に突起物６０３を形成する。一部の突起物６０３を覆いつつ、透過領域に透光性電極６５４を形成する。その後、反射領域に、透光性電極６５４に接続された導電層６０４を形成する。導電層６０４は、反射電極として機能する。
その他の構成は図５８と同様であるため説明を省略する。
本実施の形態であっても、２組の電極による電界によって、液晶材料の傾きを上手く制御することができる。
なお、実施の形態１から実施の形態６１で述べた内容は、本実施の形態にも適用させたり、組み合わせたりすることが出来る。
（実施の形態６３）
本実施の形態では、上記実施の形態５９と反射領域に突起物６０３を形成し、突起物６０３を覆う導電層に、ソース電極及びドレイン電極と同一層を用いた点が異なる構成について説明する。
本実施の形態では、上記実施の形態５９と反射領域に突起物６０３を形成し、突起物６０３を覆う導電層に、ソース電極及びドレイン電極と同一層を用いた点が異なる構成について説明する。
図６０に示すように、反射領域に突起物６０３を形成する。突起物６０３を覆うように導電層６０４を形成する。導電層６０４は、ソース電極及びドレイン電極と同一層を用いることができ、反射電極として機能する。
その他の構成は図５６と同様であるため説明を省略する。
本実施の形態であっても、２組の電極による電界によって、液晶材料の傾きを上手く制御することができる。
なお、実施の形態１から実施の形態６２で述べた内容は、本実施の形態にも適用させたり、組み合わせたりすることが出来る。
（実施の形態６４）
本実施の形態では、図３に示した構成において、反射領域を設けた構成について説明する。
本実施の形態では、図３に示した構成において、反射領域を設けた構成について説明する。
図６１に示すように、図３で示した配線１３１を形成せず、下地層１０１上に反射電極６５２を形成する。
その他の構成は図３と同様であるため説明を省略する。
本実施の形態であっても、２組の電極による電界によって、液晶材料の傾きを上手く制御することができる。
なお、実施の形態１から実施の形態６３で述べた内容は、本実施の形態にも適用させたり、組み合わせたりすることが出来る。
（実施の形態６５）
本実施の形態では、上記実施の形態６４と、反射領域と透過領域を設けた点が異なる構成について説明する。
本実施の形態では、上記実施の形態６４と、反射領域と透過領域を設けた点が異なる構成について説明する。
図６２に示すように、反射領域において反射電極６５２を形成した後、反射領域、及び透過領域に渡って、透光性電極６５４を形成する。
その他の構成は図６１と同様であるため説明を省略する。
本実施の形態であっても、２組の電極による電界によって、液晶材料の傾きを上手く制御することができる。
なお、実施の形態１から実施の形態６４で述べた内容は、本実施の形態にも適用させたり、組み合わせたりすることが出来る。
（実施の形態６６）
本実施の形態では、上記実施の形態６５とは、反射電極と、透光性電極との作製順序が異なる構成について説明する。
本実施の形態では、上記実施の形態６５とは、反射電極と、透光性電極との作製順序が異なる構成について説明する。
図６３に示すように、反射領域、及び透過領域に渡って透光性電極６５４を形成する。その後、反射領域にのみ、反射電極６５２を形成する。
その他の構成は図６２と同様であるため説明を省略する。
本実施の形態であっても、２組の電極による電界によって、液晶材料の傾きを上手く制御することができる。
なお、実施の形態１から実施の形態６５で述べた内容は、本実施の形態にも適用させたり、組み合わせたりすることが出来る。
（実施の形態６７）
本実施の形態では、上記実施の形態６５と反射電極を反射領域のみに選択的に形成した点が異なる構成について説明する。
本実施の形態では、上記実施の形態６５と反射電極を反射領域のみに選択的に形成した点が異なる構成について説明する。
図６４に示すように、反射領域にのみ、反射電極６５２を形成する。
その他の構成は図６１と同様であるため説明を省略する。
本実施の形態であっても、２組の電極による電界によって、液晶材料の傾きを上手く制御することができる。
なお、実施の形態１から実施の形態６６で述べた内容は、本実施の形態にも適用させたり、組み合わせたりすることが出来る。
（実施の形態６８）
本実施の形態では、図４に示した構成において、反射領域を設けた構成について説明する。
本実施の形態では、図４に示した構成において、反射領域を設けた構成について説明する。
図６５に示すように、図４で示した導電層４０２を形成せず、反射領域において、反射電極６５２を形成する。その後、反射電極６５２は、薄膜トランジスタ１６０のゲート絶縁層４１２に覆われる。ゲート絶縁層４１２、絶縁層１０６に開口部を設け、開口部を介して、反射電極６５２と、第３電極１０５とが接続される。
このような構成により、反射電極６５２をコモン配線として用いることが出来る。
その他の構成は図４と同様であるため説明を省略する。
本実施の形態であっても、２組の電極による電界によって、液晶材料の傾きを上手く制御することができる。
なお、実施の形態１から実施の形態６７で述べた内容は、本実施の形態にも適用させたり、組み合わせたりすることが出来る。
（実施の形態６９）
本実施の形態では、上記実施の形態６８と、反射領域及び透過領域を設けた点が異なる構成について説明する。
本実施の形態では、上記実施の形態６８と、反射領域及び透過領域を設けた点が異なる構成について説明する。
図６６に示すように、反射領域、及び透過領域に渡って、透光性電極６５４を形成する。そして、反射領域にのみ、透光性電極６５４と接続される反射電極６５２を形成する。透光性電極６５４及び反射電極６５２は、ゲート絶縁層４１２によって覆われる。ゲート絶縁層４１２、絶縁層１０６に開口部を設け、開口部を介して、反射電極６５２と、第３電極１０５とが接続される。
このような構成により、反射電極６５２をコモン配線として用いることが出来る。
その他の構成は図６５と同様であるため説明を省略する。
本実施の形態であっても、２組の電極による電界によって、液晶材料の傾きを上手く制御することができる。
なお、実施の形態１から実施の形態６８で述べた内容は、本実施の形態にも適用させたり、組み合わせたりすることが出来る。
（実施の形態７０）
本実施の形態では、上記実施の形態６８と、反射領域にのみ選択的に反射電極を形成した点が異なる構成について説明する。
本実施の形態では、上記実施の形態６８と、反射領域にのみ選択的に反射電極を形成した点が異なる構成について説明する。
図６７に示すように、反射領域にのみ選択的に反射電極６５２を形成する。反射電極６５２は、ゲート絶縁層４１２によって覆われる。ゲート絶縁層４１２、絶縁層１０６に開口部を設け、開口部を介して、反射電極６５２と、第３電極１０５とが接続される。
このような構成により、反射電極６５２をコモン配線として用いることが出来る。
その他の構成は図６５と同様であるため説明を省略する。
本実施の形態であっても、２組の電極による電界によって、液晶材料の傾きを上手く制御することができる。
なお、実施の形態１から実施の形態６９で述べた内容は、本実施の形態にも適用させたり、組み合わせたりすることが出来る。
（実施の形態７１）
本実施の形態では、上記実施の形態６９と、透過領域において、絶縁層１０６に開口部を形成した点が異なる構成について説明する。
本実施の形態では、上記実施の形態６９と、透過領域において、絶縁層１０６に開口部を形成した点が異なる構成について説明する。
図６８に示すように、透過領域、及び反射領域に渡って、透光性電極６５４を形成する。そして反射領域にのみ選択的に反射電極６５２を形成する。透光性電極６５４、及び反射電極６５２は、ゲート絶縁層４１２によって覆われる。
透過領域において、絶縁層１０６に開口部を形成する。開口部において、ゲート絶縁層４１２上に、一部の第１電極１０３、第３電極１０５を形成する。
このような構成により、反射電極６５２をコモン配線として用いることが出来る。
その他の構成は図６６と同様であるため説明を省略する。
本実施の形態であっても、２組の電極による電界によって、液晶材料の傾きを上手く制御することができる。
なお、実施の形態１から実施の形態７０で述べた内容は、本実施の形態にも適用させたり、組み合わせたりすることが出来る。
（実施の形態７２）
本実施の形態では、上記実施の形態６９と異なり、透過領域において、絶縁層１０６に開口部を形成し、透光性電極を形成しない構成について説明する。
本実施の形態では、上記実施の形態６９と異なり、透過領域において、絶縁層１０６に開口部を形成し、透光性電極を形成しない構成について説明する。
図６９に示すように、反射領域にのみ反射電極６５２を形成する。反射電極６５２は、ゲート絶縁層４１２によって覆われる。
透過領域において、絶縁層１０６に開口部を形成する。開口部において、ゲート絶縁層４１２上に、一部の第１電極１０３、第３電極１０５を形成する。本実施の形態において、透過領域には、透光性電極は形成しない。
このような構成により、反射電極６５２をコモン配線として用いることが出来る。
その他の構成は図６６と同様であるため説明を省略する。
本実施の形態であっても、２組の電極による電界によって、液晶材料の傾きを上手く制御することができる。
なお、実施の形態１から実施の形態７１で述べた内容は、本実施の形態にも適用させたり、組み合わせたりすることが出来る。
（実施の形態７３）
本実施の形態では、図５に示した構成において、反射領域を設けた構成について説明する。
本実施の形態では、図５に示した構成において、反射領域を設けた構成について説明する。
図７０に示すように、図５で示した導電層５０２を形成せず、反射領域に、反射電極６５２を形成する。反射電極６５２は、薄膜トランジスタ１６０のゲート絶縁層４１２上に設けられる。絶縁層１０６に開口部を設け、開口部を介して、反射電極６５２と、第３電極１０５とが接続される。
またコモン配線として導電層６０１を形成する。導電層６０１は、ゲート絶縁層４１２、絶縁層１０６の開口部を介して、第３電極１０５が接続される。
その他の構成は図５と同様であるため説明を省略する。
本実施の形態であっても、２組の電極による電界によって、液晶材料の傾きを上手く制御することができる。
なお、実施の形態１から実施の形態７２で述べた内容は、本実施の形態にも適用させたり、組み合わせたりすることが出来る。
（実施の形態７４）
本実施の形態では、上記実施の形態７３と反射領域に突起物を設けた点が異なる構成について説明する。
本実施の形態では、上記実施の形態７３と反射領域に突起物を設けた点が異なる構成について説明する。
図７１に示すように、反射領域において、導電層６６１を形成する。導電層６６１は、ソース電極及びドレイン電極１１６と同一層から形成することができる。
導電層６６１上に突起物６０３を形成する。突起物６０３を覆うように導電層６０４を形成する。導電層６０４は、反射電極として機能する。導電層６０４と、導電層６６１は、突起物６０３の間で接続される。
導電層６０４を覆って設けられた絶縁層１０６に開口部を形成する。開口部を介して導電層６０４と、第３電極１０５とは接続する。
その他の構成は図７０と同様であるため説明を省略する。
本実施の形態であっても、２組の電極による電界によって、液晶材料の傾きを上手く制御することができる。
なお、実施の形態１から実施の形態７３で述べた内容は、本実施の形態にも適用させたり、組み合わせたりすることが出来る。
（実施の形態７５）
本実施の形態では、上記実施の形態７４と、導電層６６１を形成しない点が異なる構成について説明する。
本実施の形態では、上記実施の形態７４と、導電層６６１を形成しない点が異なる構成について説明する。
図７２に示すように、反射領域において、ゲート絶縁層４１２上に突起物６０３を形成する。突起物６０３を覆うように、導電層６０４を形成する。導電層６０４を覆って設けられた絶縁層１０６に開口部を形成する。開口部を介して導電層６０４と、第３電極１０５とは接続する。
その他の構成は図７１と同様であるため説明を省略する。
本実施の形態であっても、２組の電極による電界によって、液晶材料の傾きを上手く制御することができる。
なお、実施の形態１から実施の形態７４で述べた内容は、本実施の形態にも適用させたり、組み合わせたりすることが出来る。
（実施の形態７６）
本実施の形態では、上記実施の形態７３と、透過領域及び反射領域を有し、反射領域にのみ反射電極を形成する点が異なる構成について説明する。
本実施の形態では、上記実施の形態７３と、透過領域及び反射領域を有し、反射領域にのみ反射電極を形成する点が異なる構成について説明する。
図７３に示すように、反射領域において、ゲート絶縁層４１２上に、選択的に反射電極６５２を形成する。そして、反射領域、及び透過領域に渡って、透光性電極６５４を形成する。
このような構成により、ゲート電極１１３と同時に形成する導電層６０１をコモン配線として用いることが出来る。
その他の構成は図７０と同様であるため説明を省略する。
本実施の形態であっても、２組の電極による電界によって、液晶材料の傾きを上手く制御することができる。
なお、実施の形態１から実施の形態７５で述べた内容は、本実施の形態にも適用させたり、組み合わせたりすることが出来る。
（実施の形態７７）
本実施の形態では、上記実施の形態７６と、反射領域にのみ反射電極を形成し、透光性電極を形成しない点が異なる構成について説明する。
本実施の形態では、上記実施の形態７６と、反射領域にのみ反射電極を形成し、透光性電極を形成しない点が異なる構成について説明する。
図７４に示すように、反射領域において、ゲート絶縁層４１２上に、選択的に反射電極６５２を形成する。透過領域には、透光性電極６５４は形成しない。
このような構成により、ゲート電極１１３と同時に形成する導電層６０１をコモン配線として用いることが出来る。
その他の構成は図７３と同様であるため説明を省略する。
本実施の形態であっても、２組の電極による電界によって、液晶材料の傾きを上手く制御することができる。
なお、実施の形態１から実施の形態７６で述べた内容は、本実施の形態にも適用させたり、組み合わせたりすることが出来る。
（実施の形態７８）
本実施の形態では、上記実施の形態７７と、反射領域にのみ反射電極を形成し、反射電極上に突起物を形成する点が異なる構成について説明する。
本実施の形態では、上記実施の形態７７と、反射領域にのみ反射電極を形成し、反射電極上に突起物を形成する点が異なる構成について説明する。
図７５に示すように、反射領域において、ゲート絶縁層４１２上に、選択的に反射電極６５２を形成する。反射電極６５２上に、突起物６０３を形成する。突起物６０３を覆うように、導電層６０４を形成する。導電層６０４は、第３電極１０５と接続される。
このような構成により、ゲート電極１１３と同時に形成する導電層６０１をコモン配線として用いることが出来る。
その他の構成は図７４と同様であるため説明を省略する。
本実施の形態であっても、２組の電極による電界によって、液晶材料の傾きを上手く制御することができる。
なお、実施の形態１から実施の形態７７で述べた内容は、本実施の形態にも適用させたり、組み合わせたりすることが出来る。
（実施の形態７９）
本実施の形態では、上記実施の形態７８と、反射電極６５２を形成しない点が異なる構成について説明する。
本実施の形態では、上記実施の形態７８と、反射電極６５２を形成しない点が異なる構成について説明する。
図７６に示すように、反射領域において、ゲート絶縁層４１２上に、突起物６０３を形成する。突起物６０３を覆うように、導電層６０４を形成する。導電層６０４は、反射電極として機能する。
このような構成により、ゲート電極１１３と同時に形成する導電層６０１をコモン配線として用いることが出来る。
その他の構成は図７５と同様であるため説明を省略する。
本実施の形態であっても、２組の電極による電界によって、液晶材料の傾きを上手く制御することができる。
なお、実施の形態１から実施の形態７８で述べた内容は、本実施の形態にも適用させたり、組み合わせたりすることが出来る。
（実施の形態８０）
図１３、図１４の上面図では、ソース線からの電位を伝えられる液晶素子の電極（第１電極１０３）と、コモン配線からの電位を伝えられる液晶素子の電極（第３電極１０５）との少なくとも一方が櫛歯形である態様が表されているが、第１電極及び第３電極の形状は、図１３，図１４で表されるものに限定されるわけではなく、例えばジグザグ形であってもよいし、波のようにくねくねと曲がっていても良い。本形態では、図１３，図１４に示した態様とは異なる電極形状を有する液晶表示装置の態様について図１０６、１０７を用いて説明する。
図１３、図１４の上面図では、ソース線からの電位を伝えられる液晶素子の電極（第１電極１０３）と、コモン配線からの電位を伝えられる液晶素子の電極（第３電極１０５）との少なくとも一方が櫛歯形である態様が表されているが、第１電極及び第３電極の形状は、図１３，図１４で表されるものに限定されるわけではなく、例えばジグザグ形であってもよいし、波のようにくねくねと曲がっていても良い。本形態では、図１３，図１４に示した態様とは異なる電極形状を有する液晶表示装置の態様について図１０６、１０７を用いて説明する。
図１０６には、ソース線からの電位を伝えられる液晶素子の電極２０４と、コモン配線からの電位を伝えられる液晶素子の電極２０３とがいずれもジグザグ形である液晶表示装置の態様について表されている。なお、図１０６の液晶表示装置の液晶素子の電極形状は、図１３，図１４の液晶表示装置と異なるが、その他の構成については同様である。
また、図１０７（Ａ）のように第１電極１０３と第３電極をそれぞれ櫛歯形にさせたり、図１０７（Ｂ）のように、第１電極と第３電極のどちらか一方を櫛歯型にし、隣り合う櫛歯の一端がつながっていたり、図１０７（Ｃ）のように第１電極と第３電極のどちらか一方を櫛歯型にし、隣り合う櫛歯の一端がつながっており、他端が次の櫛歯の一端とつながっている形状にさせたり、図１０７（Ｃ）の形状の最初の櫛歯の一端と最後の櫛歯の一端をつなげた図１０７（Ｄ）の形状にすることも可能である。
このような配置にすることにより、液晶分子の回転する方向などを、１画素内で異なる領域が存在できるようになる。つまり、マルチドメイン構造にすることが出来る。マルチドメイン構造にすることにより、ある特定の角度から見たときに、表示を正しく行えないということを低減することが出来る。
なお、実施の形態１から実施の形態７９で述べた内容は、本実施の形態にも適用させたり、組み合わせたりすることが出来る。
（実施の形態８１）
本発明の液晶表示装置に含まれる画素の構成について図１３，１４の上面図を用いて説明したが、画素部に設けられた配線の引き回し方については、図１０８で表される回路を含む構成であり、本発明の趣旨及びその範囲から逸脱することない範囲では、異なる態様も許容される。本発明の液晶表示装置の画素回路について図１０８を用いて説明する。
本発明の液晶表示装置に含まれる画素の構成について図１３，１４の上面図を用いて説明したが、画素部に設けられた配線の引き回し方については、図１０８で表される回路を含む構成であり、本発明の趣旨及びその範囲から逸脱することない範囲では、異なる態様も許容される。本発明の液晶表示装置の画素回路について図１０８を用いて説明する。
図１０８において、ゲート線７００１は、ソース線７００２と交差している。また、コモン配線７００３ａ及びコモン配線７００３ｂは縦横に引き回されている。ゲート線７００１は、トランジスタ７００４のゲート電極に接続している。また、ソース線７００２は、トランジスタ７００４のソース電極又はドレイン電極に接続している。なお、液晶表示装置を交流駆動させる場合は、トランジスタ７００４のソース電極及びドレイン電極は、ソース線７００２から伝えられる電位によって入れ替わる為、本形態では、ソース電極又はドレイン電極という表記をしている。液晶素子ＣＬＣは、トランジスタ７００４のソース電極又はドレイン電極とコモン配線７００３ａとの間に設けられている。トランジスタ７００４がオン状態のときソース線７００２からの電位は液晶素子ＣＬＣへ伝えられ、トランジスタ７００４がオフ状態のときソース線７００２からの電位は液晶素子ＣＬＣへは伝えられない。このようにトランジスタ７００４がオフ状態でありソース線７００２からの電位が液晶素子ＣＬＣへ伝えられないときにも液晶層を光が通るような状態にしたい場合は、液晶素子ＣＬＣと並列に容量素子Ｃｓを設けておくことが好ましい。容量素子に電圧を保持させることによって、トランジスタ７００４がオフ状態でも液晶層を光が通るような状態にすることができる。
本実施の形態で示す表示装置の上面図を図１０９（Ａ）に示し、図１０９（Ａ）において線Ｋ−Ｌに対応する断面図を図１０９（Ｂ）に示す。図１０９（Ａ）（Ｂ）における表示装置は、外部端子接続領域８５２、封止領域８５３、信号線駆動回路を有する走査線駆動回路８５４を有している。
本実施の形態における図１０９（Ａ）（Ｂ）に示す表示装置は、基板８５１、薄膜トランジスタ８２７、薄膜トランジスタ８２９、薄膜トランジスタ８２５、シール材８３４、対向基板８３０、配向膜８３１、対向電極８３２、スペーサー８３３、偏光板８３５ａ、偏光板８３５ｂ、第１の端子電極層８３８ａ、第２の端子電極層８３８ｂ、異方性導電層８３６、ＦＰＣ８３７によって構成されている。表示装置は、外部端子接続領域８５２、封止領域８５３、走査線駆動回路８５４、画素領域８５６、信号線駆動回路８５７を有している。
基板８５１上に設けられた画素領域８５６と、走査線駆動回路８５４とを囲むようにしてシール材８３４が設けられる。よって画素領域８５６と走査線駆動回路８５４の上に対向基板８３０が設けられる。よって画素領域８５６と走査線駆動回路８５４とは、基板８５１とシール材８３４と対向基板８３０とによって、液晶材料と共に封止される。
基板８５１上に設けられた画素領域８５６と、走査線駆動回路８５４は、薄膜トランジスタを複数有し、図１０９（Ｂ）では、画素領域８５６に含まれる薄膜トランジスタ８２５を例示している。
なお、実施の形態１から実施の形態８０で述べた内容は、本実施の形態にも適用させたり、組み合わせたりすることが出来る。
（実施の形態８２）
図１１０に表されているのは、実施の形態１から８１で説明したような本発明の液晶表示装置を含むモジュールの態様について表す図である。基板９００上には画素部９３０及びゲートドライバー９２０及びソースドライバー９４０が設けられている。ゲートドライバー９２０及びソースドライバー９４０には、フレキシブルプリントサーキット９６０を介して集積回路９５０から信号が入力され、入力された信号に従って画素部９３０にて画像が表示される。
図１１０に表されているのは、実施の形態１から８１で説明したような本発明の液晶表示装置を含むモジュールの態様について表す図である。基板９００上には画素部９３０及びゲートドライバー９２０及びソースドライバー９４０が設けられている。ゲートドライバー９２０及びソースドライバー９４０には、フレキシブルプリントサーキット９６０を介して集積回路９５０から信号が入力され、入力された信号に従って画素部９３０にて画像が表示される。
（実施の形態８３）
本発明の液晶表示装置を表示部に含む本発明の電子機器について図１１１を用いて説明する。
本発明の液晶表示装置を表示部に含む本発明の電子機器について図１１１を用いて説明する。
図１１１（Ａ）はディスプレイであり、筐体２００１、支持台２００２、表示部２００３、スピーカー部２００４、ビデオ入力端子２００５等を有し、表示部２００３に実施の形態１から８２を用いて説明した本発明の液晶表示装置を含む。
図１１１（Ｂ）はカメラであり、本体２１０１、表示部２１０２、受像部２１０３、操作キー２１０４、外部接続ポート２１０５、シャッター２１０６等を有し、表示部２１０２に実施の形態１から８２を用いて説明した本発明の液晶表示装置を含む。
図１１１（Ｃ）はコンピュータであり、本体２２０１、筐体２２０２、表示部２２０３、キーボード２２０４、外部接続ポート２２０５、ポインティングマウス２２０６等を有し、表示部２２０３に実施の形態１から８２を用いて説明した本発明の液晶表示装置を含む。
図１１１（Ｄ）はモバイルコンピュータであり、本体２３０１、表示部２３０２、スイッチ２３０３、操作キー２３０４、赤外線ポート２３０５等を有し、表示部２３０２に実施の形態１から８２を用いて説明した本発明の液晶表示装置を含む。
図１１１（Ｅ）は記録媒体を備えた携帯型の画像再生装置（具体的にはＤＶＤ再生装置）であり、本体２４０１、筐体２４０２、表示部Ａ２４０３、表示部Ｂ２４０４、記録媒体（ＤＶＤ等）読み込み部２４０５、操作キー２４０６、スピーカー部２４０７等を有し、表示部Ａ２４０３に実施の形態１から８２を用いて説明した本発明の液晶表示装置を含む。
図１１１（Ｆ）は電子書籍であり、本体２５０１、表示部２５０２、操作キー２５０３を有し、表示部２５０２に実施の形態１から８２を用いて説明した本発明の液晶表示装置を含む。
図１１１（Ｇ）はビデオカメラであり、本体２６０１、表示部２６０２、筐体２６０３、外部接続ポート２６０４、リモコン受信部２６０５、受像部２６０６、バッテリー２６０７、音声入力部２６０８、操作キー２６０９等を有し、表示部２６０２に実施の形態１から８４を用いて説明した本発明の液晶表示装置を含む。
図１１１（Ｈ）は携帯電話機であり、本体２７０１、筐体２７０２、表示部２７０３、音声入力部２７０４、音声出力部２７０５、操作キー２７０６、外部接続ポート２７０７、アンテナ２７０８等を有し、表示部２７０３に実施の形態１から８２を用いて説明した本発明の液晶表示装置を含む。
以上のように本発明の液晶表示装置を表示部に組み込むことで本発明の電子機器が完成する。このような本発明の電子機器は、屋内でも屋外でも良好な画像を提供することができる。特にカメラや撮像装置等、屋外でも屋内でも使用頻度が高い電子機器においては、屋内及び屋外の両方において広視野角であり、画面を見る角度に依存した色味の変化が少ないという有利な効果を存分に発揮することができる。
１００ 絶縁基板
１０１ 下地層
１０２ 薄膜トランジスタ
１０３ 第１電極
１０４ 第２電極
１０５ 第３電極
１０６ 絶縁層
１０７ 絶縁層
１１１ 半導体層
１１２ ゲート絶縁層
１１３ ゲート電極
１１４ 不純物領域
１１６ ソース電極及びドレイン電極
１１７ 電極
１２１ 配線
１２２ 共通電極
１３１ 配線
１３２ 共通電極
１５０ カラーフィルター
１５１ ブラックマトリクス
１５２ 絶縁層
１５３ パッシベーション層
１５４ パッシベーション層
１５５ 対向基板
１６０ 薄膜トランジスタ
２０３ 電極
２０４ 電極
４０１ 共通電極
４０２ 導電層
４０３ 絶縁層
４１１ 非晶質半導体層
４１２ ゲート絶縁層
４１３ 走査線
４１６ 信号線
５０１ 共通電極
５０２ 導電層
６０１ 導電層
６０２ 導電層
６０３ 突起物
６０４ 導電層
６５０ 位相差板
６５２ 反射電極
６５３ 液晶材料
６５４ 透光性電極
６５７ 膜
６５８ 光散乱用粒子
６５９ 導電層
６６０ 導電層
６６１ 導電層
８０１ 液晶層
８０２ 液晶分子
８０３ 電極
８０４ 電極
８２５ 薄膜トランジスタ
８２７ 薄膜トランジスタ
８２９ 薄膜トランジスタ
８３０ 対向基板
８３１ 配向膜
８３２ 対向電極
８３３ スペーサー
８３４ シール材
８３５ａ 偏光板
８３５ｂ 偏光板
８３６ 異方性導電層
８３７ ＦＰＣ
８３８ａ 第１の端子電極層
８３８ｂ 第２の端子電極層
８５１ 基板
８５２ 外部端子接続領域
８５３ 封止領域
８５４ 走査線駆動回路
８５６ 画素領域
８５７ 信号線駆動回路
９００ 基板
９２０ ゲートドライバー
９３０ 画素部
９４０ ソースドライバー
９５０ 集積回路
９６０ フレキシブルプリントサーキット
１００１ 反射部
１００２ 透過部
２００１ 筐体
２００２ 支持台
２００３ 表示部
２００４ スピーカー部
２００５ ビデオ入力端子
２１０１ 本体
２１０２ 表示部
２１０３ 受像部
２１０４ 操作キー
２１０５ 外部接続ポート
２１０６ シャッター
２２０１ 本体
２２０２ 筐体
２２０３ 表示部
２２０４ キーボード
２２０５ 外部接続ポート
２２０６ ポインティングマウス
２３０１ 本体
２３０２ 表示部
２３０３ スイッチ
２３０４ 操作キー
２３０５ 赤外線ポート
２４０１ 本体
２４０２ 筐体
２４０３ 表示部Ａ
２４０４ 表示部Ｂ
２４０５ 部
２４０６ 操作キー
２４０７ スピーカー部
２５０１ 本体
２５０２ 表示部
２５０３ 操作キー
２６０１ 本体
２６０２ 表示部
２６０３ 筐体
２６０４ 外部接続ポート
２６０５ リモコン受信部
２６０６ 受像部
２６０７ バッテリー
２６０８ 音声入力部
２６０９ 操作キー
２７０１ 本体
２７０２ 筐体
２７０３ 表示部
２７０４ 音声入力部
２７０５ 音声出力部
２７０６ 操作キー
２７０７ 外部接続ポート
２７０８ アンテナ
７００１ ゲート線
７００２ ソース線
７００４ トランジスタ
９００２ 領域
９００３ 領域
９００４ 電極
９００５ 絶縁層
９１０３ 電極
９１０４ 電極
９１０５ 電極
９２０１ 絶縁層
９２０２ 対向基板
９２０３ 散乱体
９２０４ 絶縁層
９３０３ 液晶層
９３０４ 絶縁層
９３０５ 電極
９３０６ 絶縁層
９３０７ 散乱体
９３０８ 絶縁層
９８０１ 液晶層
９８０２ 液晶分子
９８０３ 電極
９８０４ 電極
９８０５ 電極
７００１ ゲート線
７００２ ソース線
７００３ａ コモン配線
７００３ｂ コモン配線
７００４ トランジスタ
１０１ 下地層
１０２ 薄膜トランジスタ
１０３ 第１電極
１０４ 第２電極
１０５ 第３電極
１０６ 絶縁層
１０７ 絶縁層
１１１ 半導体層
１１２ ゲート絶縁層
１１３ ゲート電極
１１４ 不純物領域
１１６ ソース電極及びドレイン電極
１１７ 電極
１２１ 配線
１２２ 共通電極
１３１ 配線
１３２ 共通電極
１５０ カラーフィルター
１５１ ブラックマトリクス
１５２ 絶縁層
１５３ パッシベーション層
１５４ パッシベーション層
１５５ 対向基板
１６０ 薄膜トランジスタ
２０３ 電極
２０４ 電極
４０１ 共通電極
４０２ 導電層
４０３ 絶縁層
４１１ 非晶質半導体層
４１２ ゲート絶縁層
４１３ 走査線
４１６ 信号線
５０１ 共通電極
５０２ 導電層
６０１ 導電層
６０２ 導電層
６０３ 突起物
６０４ 導電層
６５０ 位相差板
６５２ 反射電極
６５３ 液晶材料
６５４ 透光性電極
６５７ 膜
６５８ 光散乱用粒子
６５９ 導電層
６６０ 導電層
６６１ 導電層
８０１ 液晶層
８０２ 液晶分子
８０３ 電極
８０４ 電極
８２５ 薄膜トランジスタ
８２７ 薄膜トランジスタ
８２９ 薄膜トランジスタ
８３０ 対向基板
８３１ 配向膜
８３２ 対向電極
８３３ スペーサー
８３４ シール材
８３５ａ 偏光板
８３５ｂ 偏光板
８３６ 異方性導電層
８３７ ＦＰＣ
８３８ａ 第１の端子電極層
８３８ｂ 第２の端子電極層
８５１ 基板
８５２ 外部端子接続領域
８５３ 封止領域
８５４ 走査線駆動回路
８５６ 画素領域
８５７ 信号線駆動回路
９００ 基板
９２０ ゲートドライバー
９３０ 画素部
９４０ ソースドライバー
９５０ 集積回路
９６０ フレキシブルプリントサーキット
１００１ 反射部
１００２ 透過部
２００１ 筐体
２００２ 支持台
２００３ 表示部
２００４ スピーカー部
２００５ ビデオ入力端子
２１０１ 本体
２１０２ 表示部
２１０３ 受像部
２１０４ 操作キー
２１０５ 外部接続ポート
２１０６ シャッター
２２０１ 本体
２２０２ 筐体
２２０３ 表示部
２２０４ キーボード
２２０５ 外部接続ポート
２２０６ ポインティングマウス
２３０１ 本体
２３０２ 表示部
２３０３ スイッチ
２３０４ 操作キー
２３０５ 赤外線ポート
２４０１ 本体
２４０２ 筐体
２４０３ 表示部Ａ
２４０４ 表示部Ｂ
２４０５ 部
２４０６ 操作キー
２４０７ スピーカー部
２５０１ 本体
２５０２ 表示部
２５０３ 操作キー
２６０１ 本体
２６０２ 表示部
２６０３ 筐体
２６０４ 外部接続ポート
２６０５ リモコン受信部
２６０６ 受像部
２６０７ バッテリー
２６０８ 音声入力部
２６０９ 操作キー
２７０１ 本体
２７０２ 筐体
２７０３ 表示部
２７０４ 音声入力部
２７０５ 音声出力部
２７０６ 操作キー
２７０７ 外部接続ポート
２７０８ アンテナ
７００１ ゲート線
７００２ ソース線
７００４ トランジスタ
９００２ 領域
９００３ 領域
９００４ 電極
９００５ 絶縁層
９１０３ 電極
９１０４ 電極
９１０５ 電極
９２０１ 絶縁層
９２０２ 対向基板
９２０３ 散乱体
９２０４ 絶縁層
９３０３ 液晶層
９３０４ 絶縁層
９３０５ 電極
９３０６ 絶縁層
９３０７ 散乱体
９３０８ 絶縁層
９８０１ 液晶層
９８０２ 液晶分子
９８０３ 電極
９８０４ 電極
９８０５ 電極
７００１ ゲート線
７００２ ソース線
７００３ａ コモン配線
７００３ｂ コモン配線
７００４ トランジスタ
Claims (10)
- 絶縁基板上の同一の下地層上に形成された、薄膜トランジスタ及び第１の共通電極と、
前記薄膜トランジスタ及び前記第１の共通電極上に設けられた絶縁層と、
前記絶縁層上に設けられた画素電極及び第２の共通電極と、
前記画素電極及び前記第２の共通電極上に設けられた液晶材料と、を有し、
前記画素電極は、前記薄膜トランジスタと前記絶縁層に形成されたコンタクトホールを介して接続され、
前記第１の共通電極は、前記薄膜トランジスタの形成領域を除き、前記画素電極及び前記第２の共通電極が設けられる領域の下方に一画素領域に渡って全面に設けられ、
前記第１の共通電極は、透光性を有する材料であり、
前記画素電極と前記第１の共通電極との間の電界、及び前記画素電極と前記第２の共通電極との間の電界によって、前記液晶材料の傾きが制御されることを特徴とする液晶表示装置。 - 請求項１において、
前記薄膜トランジスタは、結晶性の半導体層を有することを特徴とする液晶表示装置。 - 請求項１において、
前記薄膜トランジスタは、非晶質の半導体層を有することを特徴とする液晶表示装置。 - 請求項１乃至３のいずれか一において、
前記第１の共通電極と前記第２の共通電極とは接続されていることを特徴とする液晶表示装置。 - 請求項１乃至４のいずれか一において、
前記第１の共通電極上及び前記薄膜トランジスタ上に設けられたパッシベーション層と、
前記パッシベーション層を介して前記第１の共通電極上に設けられたカラーフィルターと、
前記パッシベーション層を介して前記薄膜トランジスタ上に設けられたブラックマトリクスと、を有することを特徴とする液晶表示装置。 - 請求項１乃至４のいずれか一において、
前記第１の共通電極上及び前記薄膜トランジスタ上に設けられたパッシベーション層と、
前記パッシベーション層を介して前記第１の共通電極上及び前記薄膜トランジスタ上に設けられたカラーフィルターと、
前記絶縁基板に対向して設けられた対向基板と、
前記対向基板に設けられたブラックマトリクスと、を有することを特徴とする液晶表示装置。 - 請求項１乃至６のいずれか一において、
前記画素電極は、櫛歯形状であることを特徴とする液晶表示装置。 - 請求項１乃至７のいずれか一において、
前記第２の共通電極は、櫛歯形状であることを特徴とする液晶表示装置。 - 請求項１乃至８のいずれか一において、
前記画素電極は、透光性を有する材料であることを特徴とする液晶表示装置。 - 請求項１乃至９のいずれか一において、
前記第２の共通電極は、透光性を有する材料であることを特徴とする液晶表示装置。
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