JP4797889B2 - 転写方法 - Google Patents
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- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 55
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 234
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims description 84
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 claims description 59
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims description 7
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 claims description 7
- 238000005401 electroluminescence Methods 0.000 claims description 3
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims description 3
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 9
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 9
- 239000000463 material Substances 0.000 description 9
- 230000005525 hole transport Effects 0.000 description 6
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 6
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 6
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000010408 film Substances 0.000 description 5
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 5
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 5
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 5
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 5
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 4
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 4
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 4
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 3
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 2
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 2
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 2
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 2
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 2
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 2
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 239000011229 interlayer Substances 0.000 description 1
- 230000031700 light absorption Effects 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- PQXKHYXIUOZZFA-UHFFFAOYSA-M lithium fluoride Chemical compound [Li+].[F-] PQXKHYXIUOZZFA-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- SJCKRGFTWFGHGZ-UHFFFAOYSA-N magnesium silver Chemical compound [Mg].[Ag] SJCKRGFTWFGHGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 1
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 1
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
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- Electroluminescent Light Sources (AREA)
Description
まず、図1の要部拡大断面図を用いて、本発明の転写方法に用いる被転写基板10について説明する。この図に示すように、被転写基板10には、TFT(thin film transistor)(図示省略)を配列形成してなる例えば矩形状のガラス基板からなる基板11上に、層間絶縁膜(図示省略)を介して、例えばクロム(Cr)からなる複数の下部電極(陽極)12が各画素毎にパターン形成されている。また、基板11上には、上記下部電極12を露出する状態の開口を有する各画素を分離する絶縁層13が設けられている。
次に、図2の断面模式図を用いて、本実施形態の転写方法に用いる転写用基板20について説明する。
次いで、転写用基板20から被転写基板10に、RGBのうち、例えばRの発光層23を転写する転写方法について、図3〜図4を用いて説明する。
治具基体31上に載置された重ね合わせた状態の被転写基板10と転写用基板20の側周面に対向配置される側壁32aと、この側壁32aに連続して設けられ、上記治具基体31に対向配置される枠状の上部32bとを有している。
Claims (5)
- 真空雰囲気下で、一主面側に転写層が設けられた転写用基板を、前記転写層を被転写基板側に向けた状態で、当該被転写基板に重ね合わせる重ね合わせ工程と、
前記被転写基板と前記転写用基板の間の真空雰囲気を維持した状態で、重ね合わせた前記被転写基板と前記転写用基板とを大気中に搬出する搬出工程と、
大気中で、前記転写用基板から前記転写層を前記被転写基板に転写する転写工程とを有する
ことを特徴とする転写方法。 - 前記搬出工程では、前記被転写基板側を支持する治具基体と、枠状の蓋体とを備えた治具を用い、前記治具基体と前記蓋体とで重ね合わせた前記被転写基板と前記転写用基板を挟持した状態で、大気中に搬出する
ことを特徴とする請求項1記載の転写方法。 - 前記搬出工程では、板状部材からなる治具により、重ね合わせた前記被転写基板と前記転写用基板の当該被転写基板側を支持した状態で、大気中に搬出する
ことを特徴とする請求項1記載の転写方法。 - 前記転写工程では、前記転写用基板に輻射線を照射することにより、前記転写層を前記被転写基板に転写する
ことを特徴とする請求項1記載の転写方法。 - 前記被転写基板は、有機電界発光素子に用いる基板の一主面側に電極を設けてなり、
前記転写層は、少なくとも発光層を含む有機層である
ことを特徴とする請求項1記載の転写方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006237117A JP4797889B2 (ja) | 2006-09-01 | 2006-09-01 | 転写方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006237117A JP4797889B2 (ja) | 2006-09-01 | 2006-09-01 | 転写方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2008059961A JP2008059961A (ja) | 2008-03-13 |
JP4797889B2 true JP4797889B2 (ja) | 2011-10-19 |
Family
ID=39242441
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006237117A Expired - Fee Related JP4797889B2 (ja) | 2006-09-01 | 2006-09-01 | 転写方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4797889B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5111427B2 (ja) * | 2009-04-16 | 2013-01-09 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 成膜用基板および成膜方法 |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6688365B2 (en) * | 2001-12-19 | 2004-02-10 | Eastman Kodak Company | Method for transferring of organic material from a donor to form a layer in an OLED device |
US6703179B2 (en) * | 2002-03-13 | 2004-03-09 | Eastman Kodak Company | Transfer of organic material from a donor to form a layer in an OLED device |
-
2006
- 2006-09-01 JP JP2006237117A patent/JP4797889B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2008059961A (ja) | 2008-03-13 |
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A621 | Written request for application examination |
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RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
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RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
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TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
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Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20110705 |
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A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
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A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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