JP4795377B2 - Laser processing equipment - Google Patents

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Description

本発明は、ワークを加工テーブルに吸着載置して、レーザ照射ヘッドと加工テーブルとを前後左右方向に相対移動させることによりワークを加工するレーザ加工装置に関する。   The present invention relates to a laser processing apparatus that processes a workpiece by adsorbing and placing the workpiece on a processing table and relatively moving a laser irradiation head and a processing table in the front-rear and left-right directions.

従来、プリント基板を加工するプリント基板加工装置は、ルータビットを使用して切削加工を行っていた。しかし、従来のプリント基板加工装置は、プリント基板の薄型化あるいは微細化により、プリント基板の物理的な剛性が低くなり、外形精度に優れる加工が困難になってきている。そこで、プリント基板の外形をレーザで加工するレーザ加工装置が重要視されている。レーザ加工装置は、プリント基板の外形をレーザ加工した後、作業者が掃除機により切り屑を吸引回収したり、予めワークを粘着テープで下板に固定しておき、切り屑を下板ごと廃棄したりする必要があった(特許文献1)。   Conventionally, a printed circuit board processing apparatus for processing a printed circuit board performs cutting using a router bit. However, with the conventional printed circuit board processing apparatus, the physical rigidity of the printed circuit board is lowered due to the thinning or miniaturization of the printed circuit board, and it is difficult to perform processing with excellent external accuracy. Therefore, a laser processing apparatus that processes the outer shape of the printed board with a laser is regarded as important. After laser processing the external shape of the printed circuit board, the laser processing device sucks and collects chips with a vacuum cleaner, or pre-fixes the workpiece to the lower plate with adhesive tape, and discards the entire lower plate. (Patent Document 1).

特開2005−342749号JP-A-2005-342749

しかし、従来のレーザ加工装置は、作業が終了する毎に切り屑を吸引回収するため、切り屑の回収作業に時間を要していた。また、ワークを粘着テープで下板に固定する従来のレーザ加工装置は、作業終了時の切り屑回収作業時間が短いが、粘着テープを貼る段取り作業に時間を要していた。   However, since the conventional laser processing apparatus sucks and collects chips every time the operation is completed, it takes time to collect the chips. Moreover, the conventional laser processing apparatus which fixes a workpiece | work to a lower board with an adhesive tape has a short chip collection | recovery operation time at the time of completion | finish of work, However, it took time for the setup operation | work which sticks an adhesive tape.

本発明は、薄型低剛性のワークであっても高精度に切断することができ、かつ、切り屑の回収作業や切り屑回収のための段取り作業が不要で、ワークから切断された切り屑を能率よく回収することのできるレーザ加工装置を提供することにある。   The present invention is capable of cutting a thin and low-rigidity workpiece with high precision, and does not require a chip recovery operation or a setup operation for chip recovery. An object of the present invention is to provide a laser processing apparatus that can be efficiently recovered.

上記課題を解決するため、本発明のレーザ加工装置(100)は、負圧源(16)に連通して負圧となっている中空部(11a)を内部に有し、かつ該中空部(11a)に連通してワーク載置面(61c)で開口する連通孔(61a,64a,11b)を有する加工テーブル(15)の前記ワーク載置面(61c)にワーク(W)を吸着して載置し、該ワーク(W)を、前記加工テーブル(15)とレーザ照射ヘッド(13)との相対移動によって加工するようになっており、前記加工テーブル(15)に形成されて前記中空部(11a)に連通(11b)する空間(60a)と、前記加工テーブル(15)に形成され前記ワーク載置面(61c)と前記空間(60a)とを連通してワークの切り屑(70)が前記空間(60a)に落下するのを許容する切り屑落下孔(61b)、前記空間に落下した切り屑を回収する集塵手段(17)と、前記切り屑落下孔(61b)と前記連通孔(61a)とを開閉する開閉手段(40)と、を備え、前記集塵手段(17)は、ワークが加工されて前記ワーク載置面から除去された後、前記開閉手段(40)によって前記切り屑落下孔(61b)と前記連通孔(61a)とが塞がれた状態で、前記空間(60a)のエアーを流して前記空間(60a)に落下している切り屑(70)を回収するようになっている。 In order to solve the above problems, a laser processing apparatus (100) of the present invention has a hollow portion (11a) that communicates with a negative pressure source (16) and has a negative pressure therein, and the hollow portion ( The workpiece (W) is attracted to the workpiece placement surface (61c) of the processing table (15) having communication holes (61a, 64a, 11b) that communicate with the workpiece placement surface (61c) and communicate with the workpiece placement surface (11a). The workpiece (W) is mounted and processed by relative movement between the processing table (15) and the laser irradiation head (13). The hollow portion is formed on the processing table (15). A space (60a) communicating (11b) with (11a), a workpiece placement surface (61c) formed on the processing table (15 ) and the space (60a), and a workpiece chip (70). Falls into the space (60a) And allowing chips falling hole (61b), to open and close the dust collecting means (17) for recovering chips dropped in the space, the cuttings fall hole (61b) and the communication hole and (61a) opening and closing Means (40), and the dust collecting means (17) is formed by the opening / closing means (40) and the chip dropping hole (61b) after the work is processed and removed from the work placing surface. In a state where the communication hole (61a) is closed, air in the space (60a) is flowed to collect the chips (70) falling in the space (60a).

なお、括弧内の符号は、便宜的に図面と対照しやすくするために付したものであって、本発明の構成を何ら限定するものではない。   In addition, the code | symbol in a parenthesis is given in order to make contrast with drawing easy for convenience, Comprising: The structure of this invention is not limited at all.

本発明のレーザ加工装置は、集塵手段が、ワークが加工されて除去された後、開閉手段によって切り屑落下孔と連通孔とが塞がれた空間のエアーを流して空間に落下している切り屑を回収するようになっているので、作業員による切り屑の回収のための段取り作業と、切り屑回収作業とが不必要になり、作業能率を向上させることができる。 In the laser processing apparatus of the present invention, the dust collecting means flows into the space by flowing air in the space where the chip dropping hole and the communication hole are blocked by the opening / closing means after the workpiece is processed and removed. since so as to collect the swarf are, the setup operation for the recovery of chips by the operator, chip recovery operation and is unnecessary, thereby improving the working efficiency.

また、本発明のレーザ加工装置は、切り屑落下孔を切り屑の外形よりも0.1mm乃至0.5mm大きく形成してあると、ワークが切り屑落下孔に吸引されて変形することが少なく、ワークを高精度に加工することができる。   Further, in the laser processing apparatus of the present invention, when the chip dropping hole is formed to be 0.1 mm to 0.5 mm larger than the outer shape of the chip, the work is less likely to be deformed by being sucked into the chip dropping hole. The workpiece can be processed with high accuracy.

図1は本発明の実施形態におけるレーザ加工装置の正面概略図である。なお、矢印X方向は、図1における左右方向である。矢印Y方向は、図1のレーザ加工装置の奥行き(前後)方向である。矢印X方向と矢印Y方向は互いに直交する方向である。   FIG. 1 is a schematic front view of a laser processing apparatus according to an embodiment of the present invention. The arrow X direction is the left-right direction in FIG. The arrow Y direction is the depth (front-rear) direction of the laser processing apparatus of FIG. The arrow X direction and the arrow Y direction are orthogonal to each other.

レーザ加工装置100は、レーザ加工機1と、加工テーブル15にワークを載置する載置手段としての基板搬送機2と、加工を終了したワークを加工テーブル15から除去する除去手段としての基板回収機3等で構成されている。   The laser processing apparatus 100 includes a laser processing machine 1, a substrate transport device 2 as a mounting means for mounting a work on the processing table 15, and a substrate recovery as a removing means for removing the processed workpiece from the processing table 15. It consists of machine 3 etc.

基板搬送機2は、レール21と、駆動装置22によりレール21上を矢印X方向に往復移動可能なスライダ23と、スライダ23に設けられたリフタ24と、リフタ24に設けられた複数の真空吸着パッド(以下、単に「吸着パッド」という)25等で構成されている。基板搬送機2は、ワーク供給台30に載置された未加工のプリント基板(以下、「ワーク」という。)Wをレーザ加工機1の加工テーブル15上のワーク保持機60上に供給するようになっている。   The substrate transporter 2 includes a rail 21, a slider 23 that can be reciprocated in the direction of the arrow X by the driving device 22, a lifter 24 provided on the slider 23, and a plurality of vacuum suctions provided on the lifter 24. It is composed of a pad (hereinafter simply referred to as “suction pad”) 25 and the like. The substrate transfer machine 2 supplies an unprocessed printed circuit board (hereinafter referred to as “work”) W placed on the work supply table 30 onto the work holder 60 on the processing table 15 of the laser processing machine 1. It has become.

基板搬送機2のレール21の下方には支持座26が設けられている。支持座26には遮蔽板40が載置されている。遮蔽板40はレーザ加工機1の加工テーブル15とほぼ同じ大きさに形成されている。遮蔽板40の下面には、外形が後述する切り屑70よりも小さい突起40aが設けられている。   A support seat 26 is provided below the rail 21 of the substrate transporter 2. A shielding plate 40 is placed on the support seat 26. The shielding plate 40 is formed to have almost the same size as the processing table 15 of the laser processing machine 1. On the lower surface of the shielding plate 40, a protrusion 40a having an outer shape smaller than a chip 70 described later is provided.

レーザ加工機1の加工テーブル15はベッド12上を矢印XY方向に移動できるようになっている。加工テーブル15については後述する。ワーク保持機60は基台11に固定されている。加工テーブル15の上方には、レーザ照射ヘッドとしての加工ヘッド13が配置されている。加工ヘッド13はベッド12上に固定されたコラム14上に固定されている。   The processing table 15 of the laser processing machine 1 can be moved on the bed 12 in the direction of arrow XY. The processing table 15 will be described later. The workpiece holder 60 is fixed to the base 11. A processing head 13 as a laser irradiation head is disposed above the processing table 15. The processing head 13 is fixed on a column 14 fixed on the bed 12.

基板回収機3は、レール31と、駆動装置32によりレール31上を図1の矢印X方向に往復移動可能なスライダ33と、スライダ33に設けられたリフタ34と、リフタ34に設けられた複数の真空吸着パッド(以下、単に「吸着パッド」という)35等で構成されている。基板回収機3は、加工が終了したワークWをワーク保持機60上から回収して、ワーク回収台36に載置するようになっている。   The substrate collecting machine 3 includes a rail 31, a slider 33 that can be reciprocated on the rail 31 in the direction of arrow X in FIG. 1 by a driving device 32, a lifter 34 provided on the slider 33, and a plurality of lifters 34. Vacuum suction pad (hereinafter simply referred to as “suction pad”) 35 and the like. The substrate collection machine 3 collects the workpiece W that has been processed from the workpiece holder 60 and places it on the workpiece collection table 36.

制御装置51は基板搬送機2を制御し、制御装置52は加工テーブル15および加工ヘッド13の動作を制御し、制御装置53は基板回収機3を制御するようになっている。制御手段としての制御装置50は、制御装置51、制御装置52、制御装置53を制御するようになっている。   The control device 51 controls the substrate transfer machine 2, the control device 52 controls the operations of the processing table 15 and the processing head 13, and the control device 53 controls the substrate recovery machine 3. The control device 50 as a control means controls the control device 51, the control device 52, and the control device 53.

次に、基台11とワーク保持機60等からなる加工テーブル15について説明する。   Next, the machining table 15 including the base 11 and the work holding machine 60 will be described.

図2は加工テーブルの平面図である。図3は加工テーブルの断面図である。図3(A)は図2のA−A矢視断面図である。図3(B)は図2のB−B矢視断面図である。   FIG. 2 is a plan view of the processing table. FIG. 3 is a sectional view of the processing table. 3A is a cross-sectional view taken along the line AA in FIG. 3B is a cross-sectional view taken along the line BB in FIG.

加工テーブル15の基台11の内部には中空部11aが形成されている。中空部11aは、減圧機としての負圧源16に接続されており、負圧源16によって負圧状態と大気圧状態とに内部圧が調節されるようになっている。基台11の上部には貫通孔11bが形成されている。基台11の上部に固定されたワーク保持機60は、上板61と、左ダクト62と、右ダクト63と、複数の仕切64等で構成されて、箱形に形成されている。仕切64には、吸引用の複数の貫通孔64aが形成されている。貫通孔64aの矢印X方向のピッチは、貫通孔11bの矢印X方向のピッチと同じに設定してある。   A hollow portion 11 a is formed inside the base 11 of the processing table 15. The hollow portion 11a is connected to a negative pressure source 16 as a decompressor, and the internal pressure is adjusted by the negative pressure source 16 between a negative pressure state and an atmospheric pressure state. A through hole 11 b is formed in the upper portion of the base 11. The work holding machine 60 fixed to the upper part of the base 11 includes an upper plate 61, a left duct 62, a right duct 63, a plurality of partitions 64, and the like, and is formed in a box shape. The partition 64 is formed with a plurality of through holes 64a for suction. The pitch of the through holes 64a in the arrow X direction is set to be the same as the pitch of the through holes 11b in the arrow X direction.

図3(B)に示すように、互いに隣接する仕切64(図2)で挟まれた部分の上板61には、吸引用の貫通孔61aと、切り屑回収用の貫通孔61bとが形成されている。左ダクト62は断面が角パイプ状であり、内部に空間62aを備えている。左ダクト62の側面に形成された孔62bは、空間62aと空間60aとを接続している。負圧室としての空間60aは、上板61、左ダクト62、右ダクト63及び基台11に囲まれた領域である。右ダクト63は断面が角パイプ状であり、内部に空間63aを備えている。右ダクト63の側面に設けられた孔63bは、空間63aと空間60aとを接続している。   As shown in FIG. 3B, a suction through-hole 61a and a chip collection through-hole 61b are formed in the upper plate 61 sandwiched between adjacent partitions 64 (FIG. 2). Has been. The left duct 62 has a square pipe cross section and has a space 62a inside. A hole 62b formed in the side surface of the left duct 62 connects the space 62a and the space 60a. A space 60 a serving as a negative pressure chamber is an area surrounded by the upper plate 61, the left duct 62, the right duct 63, and the base 11. The right duct 63 has a square pipe cross section and has a space 63a inside. A hole 63b provided on the side surface of the right duct 63 connects the space 63a and the space 60a.

切り屑落下孔としての貫通孔61bは、加工テーブル15のワーク載置面61cと負圧室としての空間60aとを連通してワークの切り屑70が空間60aに落下するのを許容するように、ワークWから切り落とされる切り屑70の外形と相似で、かつ切り屑70より0.1mm乃至0.5mm程大きく(一回り大きく)形成されている。   The through hole 61b as the chip dropping hole communicates the work placement surface 61c of the processing table 15 and the space 60a as the negative pressure chamber so as to allow the work chip 70 to fall into the space 60a. The outer shape of the chip 70 cut off from the workpiece W is similar to the outer shape of the chip 70 and is larger than the chip 70 by about 0.1 mm to 0.5 mm (one size larger).

空間60aは、貫通孔11bによって、中空部11aに連通している。中空部11aには、負圧源16(図2)が接続されている。したがって、負圧源16が制御装置52の制御によって作動すると、中空部11aが減圧され、そして空間60aが減圧されるようになっている。   The space 60a communicates with the hollow portion 11a through the through hole 11b. A negative pressure source 16 (FIG. 2) is connected to the hollow portion 11a. Therefore, when the negative pressure source 16 is operated under the control of the control device 52, the hollow portion 11a is decompressed and the space 60a is decompressed.

また、連通孔としての貫通孔61aは、ワーク載置面61cと空間60aとを連通して、直径を貫通孔64aと同径に、かつ貫通孔61bより断面積を小さく形成されている。そして、貫通孔61aは対応する位置の貫通孔11bと同心に形成されている。   The through hole 61a as the communication hole communicates the workpiece placement surface 61c and the space 60a, has the same diameter as the through hole 64a, and a smaller cross-sectional area than the through hole 61b. The through hole 61a is formed concentrically with the corresponding through hole 11b.

図2に示すように、左ダクト62の軸線方向の一方はシャッタ65及びホース66を介して集塵装置17に接続され、他方は閉鎖されている。また、右ダクト63の軸線方向の一方はシャッタ67及びホース68を介して圧縮空気源であるコンプレッサ18に接続され、他方は閉鎖されている。   As shown in FIG. 2, one of the left ducts 62 in the axial direction is connected to the dust collector 17 via a shutter 65 and a hose 66, and the other is closed. One of the right ducts 63 in the axial direction is connected to the compressor 18 as a compressed air source via a shutter 67 and a hose 68, and the other is closed.

次に、図4の動作説明用の図と、図5のフローチャートとに基づいて、レーザ加工装置の動作を説明する。図5のフローチャートに示す動作手順は、制御装置50に予め記憶されている。   Next, the operation of the laser processing apparatus will be described based on the operation explanatory diagram of FIG. 4 and the flowchart of FIG. The operation procedure shown in the flowchart of FIG. 5 is stored in the control device 50 in advance.

制御装置50は、制御装置51によって基板搬送機2を制御して、ワーク供給台30に載置された未加工のワーク(プリント基板)Wを加工テーブル15におけるワーク保持機60のワーク載置面61cに載置する(図4(A)、図5(S101))。   The control device 50 controls the substrate transfer machine 2 by the control device 51, and converts the unprocessed workpiece (printed circuit board) W placed on the workpiece supply table 30 to the workpiece placement surface of the workpiece holder 60 on the machining table 15. It is placed on 61c (FIG. 4A, FIG. 5 (S101)).

制御装置50は、制御装置52によってシャッタ65(図2)を閉じて、左ダクト62の空間62aを集塵装置17から遮断すると共に、シャッタ67を閉じて右ダクト63の空間63aをコンプレッサ18から遮断した後(S103)、負圧源16をオンさせる。すると、中空部11aと、貫通孔11bを介して空間60aとが負圧になり(S105)、ワークWが上板61のワーク載置面61cに吸着される(図4(A)、S107)。このときの空間60aは、負圧になる。この負圧は、ワークWが貫通孔61bに吸い込まれて変形しない程度の負圧であり、かつワークWが加工ヘッド13によってレーザ加工されるときワーク載置面61c上を位置ズレしない程度の吸引負圧である。   The control device 50 closes the shutter 65 (FIG. 2) by the control device 52 to block the space 62a of the left duct 62 from the dust collecting device 17, and closes the shutter 67 to remove the space 63a of the right duct 63 from the compressor 18. After shutting off (S103), the negative pressure source 16 is turned on. Then, the hollow portion 11a and the space 60a become negative pressure through the through hole 11b (S105), and the workpiece W is attracted to the workpiece placement surface 61c of the upper plate 61 (FIGS. 4A and S107). . The space 60a at this time becomes negative pressure. This negative pressure is such a negative pressure that the workpiece W is sucked into the through hole 61b and is not deformed, and the suction is such that the workpiece W is not displaced on the workpiece mounting surface 61c when the workpiece W is laser processed by the processing head 13. Negative pressure.

制御装置50は、制御装置52によってレーザ加工機1を制御して、ワークの加工を行う(S109)。ワークWから切り落とされた切り屑70は、貫通孔61bを通り空間60aに落下する。このとき、空間60aが負圧になっているので、切り屑70は、空間60aに吸い込まれるようにして落下して、加工テーブル15の周囲に飛散するようなことが殆どない。また、ワークに孔が形成されると、貫通孔61bが順次開放されることなり、ワークWがワーク載置面61cに吸着されにくくなるおそれがある。しかし、ワークは、貫通孔61aによって、ワーク載置面61cに吸着されて、レーザ加工されている間、位置がずれるようなことが殆どない。   The control device 50 controls the laser processing machine 1 with the control device 52 to process the workpiece (S109). The chips 70 cut off from the workpiece W pass through the through hole 61b and fall into the space 60a. At this time, since the space 60a has a negative pressure, the chips 70 are unlikely to fall into the space 60a and scatter around the processing table 15. Further, when a hole is formed in the work, the through holes 61b are sequentially opened, and the work W may be hardly attracted to the work placement surface 61c. However, the work is hardly attracted to the work placement surface 61c by the through-hole 61a and is hardly displaced during laser processing.

レーザ加工機1によるレーザ加工が終了すると、制御装置50は、制御装置52によって負圧源16をオフにして、空間60aを大気圧に戻す(図4(C)、S111)。そして、制御装置50は、制御装置53によって基板回収機3を制御して、ワークWをワーク保持機60上から回収し、基板回収機3のワーク回収台36に載置する(S113)。   When the laser processing by the laser processing machine 1 is completed, the control device 50 turns off the negative pressure source 16 by the control device 52, and returns the space 60a to atmospheric pressure (FIG. 4C, S111). And the control apparatus 50 controls the board | substrate collection | recovery machine 3 by the control apparatus 53, collect | recovers the workpiece | work W from the workpiece holding machine 60, and mounts it on the workpiece | work collection | recovery stand 36 of the board | substrate collection | recovery machine 3 (S113).

次に、制御装置50は、制御装置51によって基板搬送機2を制御して、支持座26に載置された遮蔽板40をワーク保持機60のワーク載置面61cに載置する。そして、リフタ24が、開閉手段としての遮蔽板40をワーク載置面61cに押し付ける(図4(D)、S115)。すると、遮蔽板40の突起40aが貫通孔61bに進入して貫通孔61bを塞ぐとともに、遮蔽板40は、貫通孔61aを覆って貫通孔61aを塞ぐ。また、遮蔽板40は、突起40aが貫通孔61bに進入することによって、ワーク載置面61cに対して位置決めされて、貫通孔61a、61bを塞ぎ損なうようなことがない。   Next, the control device 50 controls the substrate transporter 2 by the control device 51 to place the shielding plate 40 placed on the support seat 26 on the work placement surface 61 c of the work holder 60. Then, the lifter 24 presses the shielding plate 40 as the opening / closing means against the workpiece placement surface 61c (FIG. 4D, S115). Then, the projection 40a of the shielding plate 40 enters the through hole 61b and closes the through hole 61b, and the shielding plate 40 covers the through hole 61a and closes the through hole 61a. Further, the shielding plate 40 is not positioned with respect to the workpiece placement surface 61c by the protrusion 40a entering the through hole 61b, and does not fail to block the through holes 61a and 61b.

そして、シャッタ65が開き、空間62aが集塵装置17に接続されると共に、シャッタ67も開き、空間63aがコンプレッサ18に接続される(S117)。すると、空間63aから空間60aに送り込まれる圧縮空気と、空間60aから空間62aに吸引される吸引空気とによって、空間63aから、孔63b、空間60a及び孔62bを経て、空間62aに至るエアーの流れが発生する。この結果、空間60aに落下している切り屑70は、エアーの流れによって集められて、集塵装置17に回収される(図4(E)、S119)。   Then, the shutter 65 is opened, the space 62a is connected to the dust collector 17, the shutter 67 is also opened, and the space 63a is connected to the compressor 18 (S117). Then, the flow of air from the space 63a to the space 62a through the hole 63b, the space 60a, and the hole 62b by the compressed air sent from the space 63a to the space 60a and the suction air sucked from the space 60a to the space 62a. Will occur. As a result, the chips 70 falling in the space 60a are collected by the air flow and collected by the dust collector 17 (FIG. 4 (E), S119).

その後、制御装置50は、制御部52によってシャッタ65,67を閉じ、制御装置51によって基板搬送機2を制御して、ワーク載置面61cに載置されている遮蔽板40を支持座26に戻す(S121)。制御装置50は、レーザ加工装置100を制御して、ワークWがなくなるまで、以上の動作を繰り返す(S123)。   After that, the control device 50 closes the shutters 65 and 67 by the control unit 52 and controls the substrate transport machine 2 by the control device 51, so that the shielding plate 40 placed on the workpiece placement surface 61 c is attached to the support seat 26. Return (S121). The control device 50 controls the laser processing device 100 and repeats the above operation until the workpiece W is exhausted (S123).

なお、切り屑70は、1つのワークが加工される度に回収してもよいし、数枚のワークが加工されたとき、まとめて回収してもよい。   The chips 70 may be collected every time one workpiece is processed, or may be collected collectively when several workpieces are processed.

本実施形態のレーザ加工装置100は、空間63aにコンプレッサ18で圧縮空気を供給するようにしたので、ほとんどの切り屑70を集塵装置17に回収することができる。なお、切り屑70を回収するのに、コンプレッサ18は、必ずしも必要としないが、備えていた方が切り屑70を回収し易い。   Since the laser processing apparatus 100 of this embodiment supplies compressed air to the space 63a with the compressor 18, most of the chips 70 can be collected in the dust collector 17. In addition, although the compressor 18 is not necessarily required in order to collect | recover the chips 70, the direction which was equipped is easy to collect the chips 70.

また、貫通孔61bの外形を切り屑70(すなわち、加工しようとする孔の外形)の外形と相似で切り屑よりも0.5mm程大きくしたので、ワークWが貫通孔61bに吸引されて変形されることがほとんどなく、加工精度を向上させることができる。また、切り屑は、貫通孔61bから空間60aに容易に落下することができる。   Further, since the outer shape of the through hole 61b is similar to the outer shape of the chip 70 (that is, the outer shape of the hole to be processed) and is about 0.5 mm larger than the chip, the workpiece W is sucked into the through hole 61b and deformed. This is rarely done, and the processing accuracy can be improved. Further, the chips can easily fall into the space 60a from the through hole 61b.

さらに、遮蔽板40を基板搬送機2により移動させるようにしたので、遮蔽板40を移動させるための装置を特に設ける必要がなく、レーザ加工装置100の構造を簡素化して、レーザ加工装置を小型にすることができる。   Furthermore, since the shielding plate 40 is moved by the substrate transfer machine 2, it is not necessary to provide a device for moving the shielding plate 40, the structure of the laser processing apparatus 100 is simplified, and the laser processing apparatus is reduced in size. Can be.

なお、負圧源16が空間60aを負圧にするためにエアーの吸引力は、集塵装置17が切り屑70を吸引するためのエアーの吸引力よりも弱く設定して、薄型低剛性のワークが吸引力によって貫通孔61bに吸引されて変形することがないようにしてある。   In order for the negative pressure source 16 to make the space 60a have a negative pressure, the air suction force is set to be weaker than the air suction force for the dust collector 17 to suck the chips 70, so that the thin and low-rigidity The work is prevented from being deformed by being sucked into the through hole 61b by the suction force.

また、負圧源16と集塵装置17は、吸引手段を構成しているが、負圧源16を使用することなく集塵装置17に負圧源の役目もさせて、空間60aを負圧にしてもよい。   Further, the negative pressure source 16 and the dust collector 17 constitute suction means. However, without using the negative pressure source 16, the dust collector 17 also serves as a negative pressure source, and the space 60a is negatively pressured. It may be.

さらに、遮蔽板40の下面に突起40aを設けたが、突起40aは必ずしも設ける必要がない。   Furthermore, although the protrusion 40a is provided on the lower surface of the shielding plate 40, the protrusion 40a is not necessarily provided.

本発明の実施形態におけるレーザ加工装置の正面概略図である。It is a front schematic diagram of the laser processing apparatus in the embodiment of the present invention. 加工テーブルの平面図である。It is a top view of a process table. 図3は加工テーブルの断面図である。図3(A)は図2のA−A矢視断面図である。図3(B)は図2のB−B矢視断面図である。FIG. 3 is a sectional view of the processing table. 3A is a cross-sectional view taken along the line AA in FIG. 3B is a cross-sectional view taken along the line BB in FIG. 本発明の実施形態におけるレーザ加工装置の動作説明用の図である。(A)はワーク載置面にワークを載置した図である。(B)はワークに孔をあけときに発生した切り屑が空間に落下した図である。(C)は加工を終了したワークを取り除いた図である。(D)はワーク載置面に遮蔽板を載置した図である。(E)は切り屑を回収している状態の図である。It is a figure for operation | movement description of the laser processing apparatus in embodiment of this invention. (A) is the figure which mounted the workpiece | work on the workpiece | work mounting surface. (B) is the figure which the chip generated when making a hole in a work fell into space. (C) is the figure which removed the workpiece | work which finished the process. (D) is the figure which mounted the shielding board on the workpiece | work mounting surface. (E) is a figure of the state which has collect | recovered chips. 本発明の実施形態におけるレーザ加工装置の動作説明用のフローチャートである。It is a flowchart for operation | movement description of the laser processing apparatus in embodiment of this invention.

符号の説明Explanation of symbols

W プリント基板(ワーク)
1 レーザ加工機
2 基板搬送機(載置手段)
3 基板回収機(除去手段)
11 基台
11a 中空部
11b 貫通孔(連通孔)
13 加工ヘッド(レーザ照射ヘッド)
15 加工テーブル
16 負圧源
17 集塵装置(集塵手段)
18 コンプレッサ
26 支持座
40 遮蔽板(開閉手段)
50 制御装置(制御手段)
51 制御装置
52 制御装置
53 制御装置
60 ワーク保持機
60a 空間
61 上板
61a 貫通孔(連通孔)
61b 貫通孔(切り屑落下孔)
61c ワーク載置面
62 左ダクト
62a 空間
62b 孔
63 右ダクト
63a 空間
63b 孔
64 仕切
64a 貫通孔(連通孔)
65 シャッタ
67 シャッタ
70 切り屑
100 レーザ加工装置
W Printed circuit board (work)
1 Laser processing machine 2 Substrate transfer machine (mounting means)
3 Substrate recovery machine (removal means)
11 base 11a hollow part 11b through hole (communication hole )
13 Processing head (laser irradiation head)
15 Processing table 16 Negative pressure source 17 Dust collector ( dust collection means)
18 Compressor 26 Supporting seat 40 Shield plate (opening / closing means)
50 Control device (control means)
51 Control Device 52 Control Device 53 Control Device 60 Work Holding Machine 60a Space 61 Upper Plate 61a Through Hole (Communication Hole)
61b Through hole (chip dropping hole)
61c Workpiece mounting surface 62 Left duct 62a Space 62b Hole 63 Right duct 63a Space 63b Hole 64 Partition 64a Through hole (communication hole )
65 Shutter 67 Shutter 70 Chip 100 Laser processing device

Claims (5)

負圧源に連通して負圧となっている中空部を内部に有し、かつ該中空部に連通してワーク載置面で開口する連通孔を有する加工テーブルの前記ワーク載置面にワークを吸着して載置し、該ワークを、前記加工テーブルとレーザ照射ヘッドとの相対移動によって加工するレーザ加工装置において、
前記加工テーブルに形成されて前記中空部に連通する空間と、
前記加工テーブルに形成され前記ワーク載置面と前記空間とを連通してワークの切り屑が前記空間に落下するのを許容する切り屑落下孔と、
前記空間に落下した切り屑を回収する集塵手段と、
前記切り屑落下孔と前記連通孔とを開閉する開閉手段と、を備え、
前記集塵手段は、ワークが加工されて前記ワーク載置面から除去された後、前記開閉手段によって前記切り屑落下孔と前記連通孔とが塞がれた状態で、前記空間のエアーを流して前記空間に落下している切り屑を回収する、
ことを特徴とするレーザ加工装置。
A workpiece is placed on the workpiece mounting surface of the processing table having a hollow portion that communicates with the negative pressure source and has a negative pressure inside, and a communication hole that communicates with the hollow portion and opens at the workpiece mounting surface. In a laser processing apparatus for processing the workpiece by relative movement between the processing table and the laser irradiation head,
A space formed in the processing table and communicating with the hollow portion;
A chip dropping hole that is formed in the processing table and allows the workpiece chip to fall into the space by communicating the workpiece placement surface and the space ;
Dust collecting means for collecting chips falling in the space;
Opening and closing means for opening and closing the chip dropping hole and the communication hole,
After the workpiece is processed and removed from the workpiece mounting surface, the dust collecting means flows air in the space in a state where the chip dropping hole and the communication hole are blocked by the opening / closing means. To collect chips falling in the space,
The laser processing apparatus characterized by the above-mentioned.
前記加工テーブルは、前記中空部を有する基台と、該基台に一体に付設され、前記空間及び前記ワーク載置面を有するワーク保持機と、からなり、The processing table is composed of a base having the hollow portion, and a work holding machine integrally attached to the base and having the space and the work placement surface,
前記連通孔は、前記ワーク載置面に、前記中空部から直接又は前記空間を介して連通して開口し、The communication hole opens to the work placement surface directly from the hollow portion or through the space,
前記開閉手段は、前記ワーク載置面上に載置されることにより前記切り屑落下孔及び前記連通孔を塞ぎ、前記ワーク載置面から外すことにより前記切り屑落下孔及び前記連通孔を開放してなる、The opening / closing means closes the chip dropping hole and the communication hole by being placed on the work placement surface, and opens the chip dropping hole and the communication hole by being removed from the work placement surface. Become
請求項1記載のレーザ加工装置。The laser processing apparatus according to claim 1.
前記加工テーブルにワークを載置する載置手段と、
加工を終了したワークを前記加工テーブルから除去する除去手段と、
前記除去手段によりワークを前記加工テーブルから除去した後、前記載置手段により前記開閉手段を前記切り屑落下孔と前記連通孔とを塞ぐため移動させるように制御する制御手段と、を備えた、
請求項1に記載のレーザ加工装置。
Placing means for placing a workpiece on the processing table;
Removing means for removing the workpiece that has been machined from the machining table;
Control means for controlling the opening / closing means to move so as to close the chip dropping hole and the communication hole by the placing means after removing the workpiece from the processing table by the removing means;
The laser processing apparatus according to claim 1.
前記切り屑落下孔は、切り屑の外形よりも0.1mm乃至0.5mm大きく形成されている、
請求項1乃至3のいずれか1項に記載のレーザ加工装置。
The chip dropping hole is formed to be 0.1 mm to 0.5 mm larger than the outer shape of the chip,
The laser processing apparatus of any one of Claims 1 thru | or 3 .
前記空間に圧縮エアーを送り込むコンプレッサを備えた、
請求項1乃至4のいずれか1項に記載のレーザ加工装置。
Equipped with a compressor for sending compressed air into the space ,
The laser processing apparatus of any one of Claims 1 thru | or 4.
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