JP2003001475A - Surface plate for laser beam machining, and film carrier manufacturing method - Google Patents

Surface plate for laser beam machining, and film carrier manufacturing method

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JP2003001475A
JP2003001475A JP2001188626A JP2001188626A JP2003001475A JP 2003001475 A JP2003001475 A JP 2003001475A JP 2001188626 A JP2001188626 A JP 2001188626A JP 2001188626 A JP2001188626 A JP 2001188626A JP 2003001475 A JP2003001475 A JP 2003001475A
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Japan
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film
laser
laser beam
surface plate
opening
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JP2001188626A
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Koji Imayoshi
孝二 今吉
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Toppan Inc
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Toppan Printing Co Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a laser beam apparatus capable of performing the stable machining with excellent accuracy when cutting a fine pattern by irradiating the laser beam in manufacturing a printed circuit board. SOLUTION: A surface plate 20 for laser beam machining is for patterning a film with laser beam irradiation and is provided with, in the laser beam irradiation part thereof, an aperture 21 having an exhaust function. In addition, in a manufacturing method for a film carrier 10, the film with an adhesive layer laminated on an organic film in this order is fixed on the surface plate for laser beam machining with the aperture 21 formed in the laser beam irradiation part at a film placement part, the film is patterned by irradiating the laser beam irradiation part with the laser beam while exhausting the aperture 21, a metal foil for circuit wiring is laminated on the adhesive layer, the metal foil is patterned, and a conductive electrode is provided in the aperture 21 as necessary.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、配線基板の製造に
関し、特にフィルムキャリア用フィルムにおける微細な
パタンの切断加工を行うレーザー加工定盤、およびフィ
ルムキャリアの製造方法に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for manufacturing a wiring board, and more particularly to a laser processing platen for cutting fine patterns in a film for a film carrier and a method for manufacturing the film carrier.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来のベースフィルムに導体回路と導通
電極を設けた構成とするフィルムキャリアの製造方法
は、樹脂基材に金属箔を積層形成した材料を使用し、チ
ップや外部配線と導通を取るための導通電極を形成する
ビア、ランド等の開口部を樹脂基材層をフォトリソ処理
により形成している。
2. Description of the Related Art A conventional method of manufacturing a film carrier having a conductor circuit and a conductive electrode provided on a base film uses a material in which a metal foil is laminated on a resin base material, and is electrically connected to a chip or an external wiring. Openings such as vias and lands for forming conductive electrodes for taking are formed by photolithography of the resin base material layer.

【0003】フィルムキャリアの最近の技術動向とし
て、ビア部で数十μmからなる小径化、狭ピッチ化して
いる。これに対応して従来のフィルムキャリアの製造方
法では、フィルムキャリアに形成できるビアの径・ピッ
チが限界に近づいており、さらに高密度に回路配線を形
成する事は極めて困難になっている。
As a recent technical trend of the film carrier, the diameter of the via portion is reduced to several tens of μm and the pitch is narrowed. In response to this, in the conventional film carrier manufacturing method, the diameter and pitch of the vias that can be formed in the film carrier are approaching their limits, and it is extremely difficult to form circuit wiring with higher density.

【0004】他に、金型を用いて、ベースフィルムに全
パタンを一括して加工した後、金属箔とラミネートする
方法も知られている。しかしながら、これらの方法では
複雑な形状や微細なパタンへの対応が難しい為同方法で
は開口部の形成に限界があるという問題がある。
In addition, there is also known a method in which all the patterns are collectively processed on a base film using a mold and then laminated on a metal foil. However, since it is difficult for these methods to deal with complicated shapes and fine patterns, there is a problem in that the method has a limit in forming the openings.

【0005】また、未硬化の接着剤を付したベースフィ
ルムを使用し、上記開口部をレーザービームにて切断、
穴開け加工した後金属箔をラミネートする方式も知られ
ている。しかしながらこの方法では、ベースフィルムを
切断したレーザービームがレーザー装置の加工定盤まで
切削してしまう問題がある。また切断後、断裁片がベー
スフィルムに再付着し、金属箔のラミネート時金属箔と
接着剤の間に異物として挟持され接着不良となるといっ
た問題がある。
Further, a base film with an uncured adhesive is used, and the opening is cut by a laser beam,
A method of laminating a metal foil after perforating is also known. However, in this method, there is a problem that the laser beam that cuts the base film cuts the processing surface plate of the laser device. In addition, after cutting, the cut pieces are reattached to the base film, and when laminating the metal foil, it is sandwiched as a foreign substance between the metal foil and the adhesive, resulting in poor adhesion.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】配線基板の製造におい
てレーザービームを照射して微細なパタンの切断加工を
行う際、安定して精度良く加工できるレーザー装置を提
供する事を目的とする。
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a laser device capable of stably and accurately processing a fine pattern by irradiating a laser beam in the manufacture of a wiring board.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】本発明は、上記目的を達
成するため、以下に示すような課題を解決するための手
段を提供するものである。
SUMMARY OF THE INVENTION In order to achieve the above object, the present invention provides means for solving the following problems.

【0008】すなわち請求項1に係る発明においては、
レーザー照射部に開口部が設けてある、レーザー照射に
よりフィルムをパターン化のためのレーザー加工定盤に
おいて、前記開口部に排気機能を具備する事を特徴とす
るレーザー加工定盤を提供するものである。
That is, in the invention according to claim 1,
A laser processing surface plate for patterning a film by laser irradiation, wherein an opening is provided in a laser irradiation portion, the laser processing surface plate having an exhaust function in the opening. is there.

【0009】すなわち請求項2に係る発明においては、
フィルムの位置固定手段を有する事を特徴とする請求項
1記載のレーザー加工定盤を提供するものである。
That is, in the invention according to claim 2,
The laser processing platen according to claim 1, further comprising a film position fixing means.

【0010】すなわち請求項3に係る発明においては、
フィルムの除電装置を具備することを特徴とする請求項
1または2記載のレーザー加工装置を提供するものであ
る。
That is, in the invention according to claim 3,
The laser processing apparatus according to claim 1 or 2, further comprising a film static eliminator.

【0011】すなはち請求項4に係る発明においては、
フィルムが、有機フィルムに接着剤層が積層された構成
である、レーザー照射後に回路配線用の金属箔を積層
し、金属箔をパターン化し、必要により開口部に導通電
極をすることでフィルムキャリアとなるフィルムである
ことを特徴とする請求項1、2、3いずれか1項記載の
レーザー加工装置を提供するものである。
That is, in the invention according to claim 4,
The film is a structure in which an adhesive layer is laminated on an organic film, a metal foil for circuit wiring is laminated after laser irradiation, the metal foil is patterned, and a conductive electrode is formed in the opening if necessary to form a film carrier. The present invention provides a laser processing apparatus according to any one of claims 1, 2 and 3.

【0012】すなわち請求項5に係る発明においては、
順に、有機フィルムに接着剤層が積層された構成である
フィルムをフィルム載置部のレーザー照射部に開口部が
設けてあるレーザー加工定盤上に固定し、開口部を排気
しながらレーザー照射部にレーザー照射することで前記
フィルムをパターン化し、接着剤層上に回路配線用の金
属箔を積層し、金属箔をパターン化し、必要により開口
部に導通電極を形成することを特徴とするフィルムキャ
リアを提供するものである。
That is, in the invention according to claim 5,
Sequentially, the film consisting of the adhesive layer laminated on the organic film is fixed on the laser processing surface plate having the opening in the laser irradiation part of the film mounting part, and the laser irradiation part is exhausted while the opening is exhausted. A film carrier characterized by patterning the film by irradiating the film with a laser, laminating a metal foil for circuit wiring on the adhesive layer, patterning the metal foil, and forming a conductive electrode in the opening if necessary. Is provided.

【0013】請求項1に係る発明により、レーザービー
ムを使用してベースフィルムを切断加工する加工装置に
おいて、レーザーによる切断時、貫通したレーザービー
ムが定盤を切削するのを防ぐために、定盤に開口部を設
けるものであるが、その前記開口部ないし定盤側からの
排気回収機能を具備する事により、その開口部に落ちる
切断した切断片の基材への再付着を防止できたものであ
る。
According to the first aspect of the present invention, in a processing device for cutting a base film by using a laser beam, in order to prevent the laser beam that has penetrated through the surface plate from being cut by the laser during cutting by a laser, the surface plate is cut. Although an opening is provided, it is possible to prevent reattachment of cut pieces falling in the opening to the base material by providing an exhaust gas recovery function from the opening or the platen side. is there.

【0014】また、請求項2に係る発明により、フィル
ムを確実に固定できる様になったもので、これによりレ
ーザー加工時の加工位置精度の向上を目的とするもので
ある。
According to the second aspect of the invention, the film can be securely fixed, and it is an object of the present invention to improve the processing position accuracy during laser processing.

【0015】さらに、従来はフィルムが帯電した場合、
レーザー照射により切断したときに剥離した切断片がフ
ィルムに再吸着し易く、物理的な排気だけでは吸引回収
しきれない場合があった。そこで請求項3は、上記排気
機構を効率よく行うことを目的とし、前記加工定盤に切
断片の再付着を防止することができたものである。
Further, conventionally, when the film is charged,
The cut pieces that were peeled off when cut by laser irradiation were likely to be re-adsorbed on the film, and in some cases, physical exhaustion could not completely absorb and collect. Therefore, in order to efficiently perform the exhaust mechanism, the third aspect of the present invention can prevent the reattachment of the cut piece to the working surface plate.

【0016】さらに、請求項4においては、本発明の効
果が顕著なフィルムを示すものであり、このフィルムに
適用する事により、フィルムキャリア面内の加工位置精
度に対して求められる数μmレベルの位置精度が得られ
るものである。
Further, in claim 4, the present invention shows a film in which the effect of the present invention is remarkable. By applying this film, it is possible to obtain a film having a level of several μm which is required for the processing position accuracy in the plane of the film carrier. Position accuracy can be obtained.

【0017】本発明のレーザーとしては、切断に使用で
きるものであればどのようなものでも構わないが、一般
に使われている、CO2、エキシマ、YAGレーザー等
を使用するのが一般的であり、必要に応じCO2レーザ
ーとエキシマレーザーの併用にて加工するなどの方式も
可能である。
As the laser of the present invention, any laser can be used as long as it can be used for cutting, but generally used are CO 2 , excimer, YAG laser and the like. If necessary, it is possible to use a method in which a CO 2 laser and an excimer laser are used in combination.

【0018】レーザー照射部としては、フィルムと定盤
の位置が決められている事と、フィルムの所望する切断
部もしくは切断部の輪郭部分が予め定められている事を
前提として、フィルムの切断部もしくは切断部の輪郭部
分が予め定められている位置に対応する定盤の位置のこ
とである。その様な部分にレーザー照射を行われること
により、レーザー照射部およびレーザー照射部により囲
まれる部分が他のフィルム部分から分離され、開口部内
に落下するものである。
As the laser irradiating section, it is premised that the positions of the film and the surface plate are determined, and that the desired cutting section of the film or the contour of the cutting section is predetermined. Alternatively, it means the position of the surface plate corresponding to the predetermined position of the contour portion of the cutting portion. By performing laser irradiation on such a portion, the laser irradiation portion and the portion surrounded by the laser irradiation portion are separated from other film portions and fall into the opening.

【0019】開口部とは、他の部分に設けられている定
盤が、その部分に定盤が無く開口している部分の事であ
る。フィルムのパターン化とは、レーザー照射部にレー
ザー照射を行われることにより、レーザー照射部および
レーザー照射部により囲まれる部分が他のフィルム部分
から分離されることにより、分離されずに残った部分の
フィルムを形成することである。
The opening means a part where the surface plate provided in the other part is open without the surface plate. The patterning of the film means that by irradiating the laser irradiation portion with laser, the laser irradiation portion and the portion surrounded by the laser irradiation portion are separated from other film portions, and thus the remaining portion not separated is separated. Forming a film.

【0020】レーザー加工定盤は、レーザー照射の的に
なるものであり、レーザー加工の対象ではないが、レー
ザーとフィルムとの位置関係を規定するものである。フ
ィルムの位置固定手段としては、各種の手段を用いる事
ができる。例えば、加工定盤に開口部と開口部近傍以外
の部分に、バキュームによる吸着機能を持たせ、フィル
ムを直接定盤に吸着する位置固定手段などがある。
The laser processing platen serves as a target of laser irradiation and is not a target of laser processing, but it defines the positional relationship between the laser and the film. Various means can be used as the means for fixing the position of the film. For example, there is a position fixing means for directly adsorbing the film to the surface plate so that the processing surface plate has a suction function by vacuum at the opening and a portion other than the vicinity of the opening.

【0021】また、これ以外に、フィルムの外周部・加
工エリア外を挟み持つ機能を有する治具を設けテンショ
ンをかける手段、ないし、スプロケットホールにガイド
ピンを掛けテンションをかける手段等が可能である。
In addition to this, a means having a function of holding the outer periphery of the film and the outside of the processing area may be provided to apply tension, or a means for applying a guide pin to the sprocket hole to apply tension. .

【0022】なおこの際、フィルムは定盤に対しギャッ
プを取ったものであっても、ギャップがなく定盤に直接
接している場合であっても良いが、ギャップを取った場
合の方が位置精度が上がる。
At this time, the film may have a gap with respect to the surface plate or may have no gap and is in direct contact with the surface plate. The accuracy increases.

【0023】この様に、レーザーによる切断時、フィル
ムの反り膨張伸縮による位置精度の低下を抑えるため、
フィルムの外周部・加工エリア外を挟み持つ機能を有す
る治具を設けテンションをかける手段を用いるのが好ま
しい。テンションをかける手段をフィルムに施すことに
より、フィルムがたわみにくく、位置ずれが少なくなる
からである。
As described above, in order to suppress the deterioration of the positional accuracy due to the warp expansion / contraction of the film during the cutting by the laser,
It is preferable to use a means for applying a tension by providing a jig having a function of holding the outer peripheral portion of the film and the outside of the processing area. The reason for this is that by applying a means for applying tension to the film, the film is less likely to bend and the positional deviation is reduced.

【0024】また、フィルムの材質はどのようなもので
も構わないが、特に一般に使用されるフィルムは有機フ
ィルムであり、その中でも帯電しやすい材料が用いられ
る場合が多い。従来の技術では、この様なフィルムは帯
電しやすかったために、フィルム自身に再吸着され易い
ものであった。対して、本願発明では、フィルムの材質
は有機フィルムでも、有機フィルムの中でも特に帯電し
やすい材料であっても、レーザー照射により切断したと
きに剥離した切断片が、再吸着されない。従って、この
様な再吸着され易い材料を用いなければならない場合に
本願発明を用いれば従来果たせなかった再吸着なしのレ
ーザー照射による切断が行えることとなり、効果が高
い。
The film may be made of any material, but particularly commonly used films are organic films, and among them, materials that are easily charged are often used. In the conventional technique, since such a film was easily charged, it was easily re-adsorbed by the film itself. On the other hand, in the present invention, even if the material of the film is an organic film or a material that is particularly easily charged among the organic films, the cut pieces peeled off when cut by laser irradiation are not re-adsorbed. Therefore, when such a material that is easily re-adsorbed must be used, the use of the present invention makes it possible to perform cutting by laser irradiation without re-adsorption, which could not be achieved conventionally, and is highly effective.

【0025】特に、請求項4、5に係るフィルムキャリ
ア用フィルムの有機フィルムとしてはポリイミド樹脂、
フェノール樹脂、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂、フ
ッ素系樹脂、ポリフェニルエーテル樹脂、高分子液晶等
からなる有機フィルムが使用可能である。厚さは問わな
いが、実際は10から60μm程度が実用的である。
Particularly, as the organic film of the film carrier film according to claims 4 and 5, a polyimide resin,
An organic film made of a phenol resin, an acrylic resin, a polyester resin, a fluorine resin, a polyphenyl ether resin, a polymer liquid crystal or the like can be used. The thickness is not limited, but in practice, about 10 to 60 μm is practical.

【0026】また接着剤材料としては、ポリイミド系接
着剤、ポリエステル系接着剤、エポキシ系接着剤、オレ
フィン系接着剤、シリコン系接着剤等、及びこれらの材
料を2種類以上混合した接着剤が使用可能である。厚さ
は問わないが、実際は5から15μm程度が実用的であ
る。
As the adhesive material, a polyimide adhesive, a polyester adhesive, an epoxy adhesive, an olefin adhesive, a silicone adhesive, etc., and an adhesive obtained by mixing two or more of these materials are used. It is possible. The thickness is not limited, but in practice, about 5 to 15 μm is practical.

【0027】排気機能については、開口部の側部などに
設けられた吸引口を設け、その吸引口から裁断片を吸引
できる機能であればどの様なものでも良い。また、除電
装置としては、切断片の再付着を防止するためのフィル
ムの除電がおこなえるものであればどの様なものでもよ
く、除電用のイオナイザー、除電シート等各種の装置が
用いられるものであり、物理的な排気だけでは吸引回収
しきれない場合に特に有効である。
As for the exhaust function, any function may be used as long as it has a suction port provided at the side of the opening and the like and can suck the cut pieces from the suction port. Further, as the static eliminator, any device can be used as long as it can remove static electricity from the film to prevent reattachment of cut pieces, and various devices such as an ionizer for static elimination and a static elimination sheet are used. It is especially effective when the physical exhaust cannot be used for suction and recovery.

【0028】一般に市販されている有機フィルムの仕様
としては、裏面に接着剤が貼り合わせてありユーザー側
で銅箔等の金属箔と貼り合わせ使用するタイプと、銅箔
等の金属箔が積層形成ないし貼り合わせ積層されたタイ
プとがあるが、請求項4、5に関するフィルムとして
は、前者のタイプのものが好適である。
Generally, the specifications of commercially available organic films include a type in which an adhesive is attached to the back surface and a user side is used to attach a metal foil such as copper foil, and a metal foil such as copper foil is laminated. Or the laminated type, but the former type is preferable as the film relating to claims 4 and 5.

【0029】この場合には、レーザーで開口部を形成後
裏面の金属箔との導通を確保し配線回路として使用する
為、前者のタイプを使用し、フィルム層と接着剤層を同
時に切断加工し金属箔とラミネートして使用する場合に
効果が大きい。
In this case, the former type is used and the film layer and the adhesive layer are cut at the same time in order to secure continuity with the metal foil on the back surface and use it as a wiring circuit after forming the opening with a laser. Greatly effective when used by laminating with metal foil.

【0030】金属箔としては、材質としては圧延銅箔、
電解銅箔などが用いられ得るが厚さは問わないが、実際
は5から20μm程度が実用的である。この金属箔のパ
ターン化方法としては、前記銅箔をサブトラクティブ法
にて溶解し形成する方法と、前記銅箔より薄い膜厚の銅
箔をラミネートし、セミアディティブ法により配線をメ
ッキにて形成し、不要な部分の銅箔を溶解除去するなど
の方法を採りうるが、実際はサブトラクティブ法が銅箔
の供給、ラミネートの容易さという点で好ましく、実用
的である。
As the metal foil, the material is rolled copper foil,
Although an electrolytic copper foil or the like may be used, the thickness is not limited, but in practice, about 5 to 20 μm is practical. As a method for patterning this metal foil, a method of melting and forming the copper foil by a subtractive method and a method of laminating a copper foil having a film thickness thinner than the copper foil and forming a wiring by plating by a semi-additive method However, a method of dissolving and removing an unnecessary portion of the copper foil can be adopted, but in reality, the subtractive method is preferable and practical in terms of the ease of supplying and laminating the copper foil.

【0031】導通電極としては材質としては銅ないし銅
合金系及びはんだなどを採りうるが、実際は銅ないし銅
合金系が膜の強度、電気特性という点で好ましく、実用
的である。
As the material of the conductive electrode, copper or copper alloy system and solder can be adopted, but in reality, copper or copper alloy system is preferable and practical in view of film strength and electric characteristics.

【0032】導通電極のパターン化方法としては、電解
めっき、無電解めっき及び導電ペーストを含有するイン
キを必要箇所に選択的に印刷するなどの方法を採りうる
が、実際はめっき法の方が微小径への充填の制御の容易
さという点で好ましく、実用的である。導通電極は、こ
の様に、開口部を途中まで塞ぐ様に、10から60μm
程度の厚さ埋めて導通電極として用いられるものであ
る。
As a method of patterning the conductive electrodes, electrolytic plating, electroless plating, and a method of selectively printing an ink containing a conductive paste at required places can be used, but in practice, the plating method has a smaller diameter. It is preferable and practical in terms of easiness of control of filling into. The conductive electrode is 10 to 60 μm so that the opening is partially closed in this way.
It is used as a conductive electrode by filling up to a certain thickness.

【0033】[0033]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につ
き、図面を用いて詳細に説明する。図1は本発明による
加工したフィルムを用いたフィルムキャリアのパターン
配置と部分断面図を、図2に本発明の定盤の構成を示す
断面図を、それぞれ示す。図1に示すように、フィルム
キャリア10は中央部にビア形成部11、周囲にランド
形成部12、更に配線回路13によりビア形成部11と
ランド形成部12の導通を確保した構造からなる。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Embodiments of the present invention will be described in detail below with reference to the drawings. FIG. 1 shows a pattern arrangement and a partial sectional view of a film carrier using a processed film according to the present invention, and FIG. 2 shows a sectional view showing a constitution of a surface plate of the present invention. As shown in FIG. 1, the film carrier 10 has a structure in which a via forming portion 11 is provided in the central portion, a land forming portion 12 is provided around the film carrier, and a wiring circuit 13 ensures electrical continuity between the via forming portion 11 and the land forming portion 12.

【0034】本発明のレーザー装置用加工定盤20は、
図2に示すように、レーザー34によるダメージを回避
し切断片を回収するための開口部21と基材を保持する
為のバキューム孔22、及び開口部21に繋がる排気機
構からなる。ここで、加工定盤20上のビア形成部11
とランド形成部12に相当する部位に開口部21が設け
られている。
The processing surface plate 20 for the laser device of the present invention is
As shown in FIG. 2, it comprises an opening 21 for avoiding damage by the laser 34 and collecting cut pieces, a vacuum hole 22 for holding the base material, and an exhaust mechanism connected to the opening 21. Here, the via forming portion 11 on the processing surface plate 20
The opening 21 is provided at a portion corresponding to the land forming portion 12.

【0035】以下、本発明のレーザー加工装置を用いた
フィルムキャリアの形成方法について述べる。図3は、
加工定盤にフィルムを載せ、レーザー照射をしている状
態の断面図である。図4は、それに金属箔を付加した状
態の断面図である。図5それらのフィルムを用いたフィ
ルムキャリアの断面図である。
A method of forming a film carrier using the laser processing apparatus of the present invention will be described below. Figure 3
It is a sectional view of a state where a film is placed on a processing surface plate and laser irradiation is performed. FIG. 4 is a sectional view showing a state in which a metal foil is added to it. <Figure 5> It is the cross section diagram of the film carrier which uses those films.

【0036】まず、接着剤31つきベースフィルム32
をカバーフィルムム33をつけたままで、上記加工定盤
20を設置したレーザー装置を用いてレーザー41を照
射し、ビア形成部11、ランド形成部12、アライメン
トマーク及びその他のパタンを形成する。
First, the base film 32 with the adhesive 31
While the cover film 33 is still attached, the laser 41 is irradiated using the laser device on which the processing surface plate 20 is installed to form the via forming portion 11, the land forming portion 12, the alignment mark and other patterns.

【0037】基板の保持は、加工定盤20に設けられた
バキュ−ム孔22により行い、UVYAG加工機により
ベースフィルム32側から接着剤31、カバーフィルム
33迄切断する形で行う。
The substrate is held by a vacuum hole 22 provided in the processing surface plate 20, and is cut by the UVYAG processing machine from the base film 32 side to the adhesive 31 and the cover film 33.

【0038】また、ベースフィルムを定盤に対し浮かし
て加工する事も可能で、ベースフィルムの外周部・加工
エリア外を挟み持つ機能を有する治具を設けテンション
をかける方法、ないし、スプロケットホールにガイドピ
ンを掛けテンションをかける方法等が可能である。
It is also possible to process the base film by floating it on a surface plate, and to provide a jig having a function of holding the outer periphery of the base film and the outside of the processing area to apply tension, or to a sprocket hole. A method of applying a guide pin and applying tension is possible.

【0039】レーザー加工の際、接着剤31迄でレーザ
ーによる切断を止めても良いが、カバーフィルム33を
剥離するまで切断片が基材上に残ることになり、カバー
フィルム33を剥離する際、切断片が基材に再付着する
ことがあるのでカバーフィルム33まで切断し、切断片
として本工程で排気回収するのが望ましい。
During the laser processing, the laser cutting may be stopped up to the adhesive 31, but the cut pieces remain on the base material until the cover film 33 is peeled off. Since the cut pieces may redeposit on the base material, it is desirable that the cover film 33 is cut and exhausted and collected as the cut pieces in this step.

【0040】また、カバーフィルム33は仕様に合わせ
剥離してレーザー加工しても良いが、接着剤層31のレ
ーザー加工時のスミアによる汚染や環境による汚染を防
止する為、カバーフィルム33を具備した状態で加工す
るのが望ましい。
Although the cover film 33 may be peeled off and laser-processed according to the specifications, the cover film 33 is provided to prevent the smearing of the adhesive layer 31 due to smearing and the environmental pollution. It is desirable to process in the state.

【0041】レーザー加工機としてはエキシマレーザー
或いは炭酸ガスレーザー加工機を用いることもできる。
切断片の排気回収は、レーザーによる切断処理終了後、
上記開口部21より吸引する事により行う。
As the laser processing machine, an excimer laser or carbon dioxide laser processing machine can be used.
Exhaust gas collection of the cut pieces is done after the laser cutting process is completed.
It is performed by sucking through the opening 21.

【0042】常に除電処理、排気処理の為の送風を行っ
ても良いが、基材の加工部が浮いた状態で保持されてお
り、必要以上に圧力をかけると基材の反り、膨張伸縮の
原因と成る為、レーザー照射時は弱めに起動させ切断終
了時排気回収効果の得られる圧力まで強めるのが望まし
い。
Although air may be blown for static elimination processing and exhaust processing at all times, the processed portion of the base material is held in a floating state, and if pressure is applied more than necessary, warpage of the base material and expansion / contraction of the base material will occur. Since it causes the cause, it is desirable to start weakly at the time of laser irradiation and increase the pressure to obtain the exhaust gas recovery effect at the end of cutting.

【0043】こうしてレーザー加工したフィルムキャリ
ア用基材のカバーフィルム33を剥離して、接着剤31
つきベースフィルム32に、図4に示す配線回路パター
ン用の金属箔35をラミネートし、配線回路13と必要
により導通電極35をめっき法などにより図5に示す様
に形成し、フィルムキャリアを提供する事ができる。
The cover film 33 of the film carrier substrate thus laser-processed is peeled off, and the adhesive 31
The laminated base film 32 is laminated with the metal foil 35 for the wiring circuit pattern shown in FIG. 4, and the wiring circuit 13 and the conducting electrode 35 are formed by plating or the like as shown in FIG. 5 to provide a film carrier. I can do things.

【0044】[0044]

【実施例】以下実施例により本発明を図面を用いて詳細
に説明する。まず、接着剤つきベースフィルムをカバー
フィルムをつけたままで、上記加工定盤を具備したレー
ザー装置を用いて、ビア形成部、ランド形成部、アライ
メントマーク及びその他のパタンを形成する。
The present invention will be described in detail below with reference to the accompanying drawings. First, the base film with the adhesive is still attached to the cover film, and the via forming portion, the land forming portion, the alignment mark and other patterns are formed by using the laser device equipped with the processing surface plate.

【0045】ベースフィルムはユーピレックス(50μ
m厚:材質はポリイミド系樹脂、宇部興産(株)製)に
接着剤には東レ8500(8μm厚:材質はエポキシ系
樹脂)を貼り合わせた構成のもを使用した。
The base film is UPILEX (50μ
m thickness: Polyimide resin as the material, Ube Industries, Ltd., and Toray 8500 (8 μm thickness: epoxy resin as the adhesive material) bonded to the adhesive were used.

【0046】フィルムの保持は、加工定盤に設けられた
バキュ−ム孔により行い、UVYAG加工機(住友重機
(株)製:LAVIA UV 2000)によりベース
フィルム側から接着剤、カバーフィルム(50μm厚)
迄切断する形で行った。
The film is held by a vacuum hole provided on a processing surface plate, and an adhesive and a cover film (50 μm thick) are applied from the base film side by a UVYAG processing machine (Sumitomo Heavy Industries Ltd .: LAVIA UV 2000). )
I went to cut it up.

【0047】切断片の排気回収は上記開口部より吸引
し、除電処理は基材上面よりイオナイザーを動作させる
事により行った。その際、基材の反り、膨張伸縮の防止
のため、レーザー照射時は弱めに起動させ切断終了時排
気回収効果の得られる圧力まで強めるといった圧力調整
を行った。
Exhaust gas recovery of the cut pieces was carried out by suction through the above-mentioned opening, and static elimination processing was carried out by operating an ionizer from the upper surface of the substrate. At that time, in order to prevent warping of the base material and expansion / contraction, pressure adjustment was performed such that the laser irradiation was started weakly and the pressure at which the exhaust gas recovery effect was obtained at the end of cutting was increased.

【0048】こうしてレーザー加工したフィルムキャリ
ア用基材のカバーフィルムを剥離して接着剤つきベース
フィルムムに配線回路パターン用の金属箔電解銅箔(日
本電解(株)製SLP:18μm)をラミネートし、サ
ムトラクティブ法によりパターン化して配線回路とし、
必要により導通電極を、電解めっき法により順次銅を4
0μm厚、ニッケルを2μm厚、金を0.4μm厚形成
し、本発明により加工したフィルムキャリアを提供する
事ができた。
The cover film of the substrate for the film carrier thus laser-processed is peeled off, and a metal foil electrolytic copper foil for wiring circuit pattern (SLP: 18 μm, manufactured by Nippon Denshoku Co., Ltd.) is laminated on the base film with adhesive. , Patterned by the Sumtractive method to form a wiring circuit,
If necessary, connect the conductive electrode and the copper by electroplating sequentially.
It was possible to provide a film carrier having a thickness of 0 μm, a thickness of 2 μm of nickel, and a thickness of 0.4 μm of gold, and processed according to the present invention.

【0049】[0049]

【発明の効果】本発明は以上説明したように構成されて
いるため、レーザーを用いる事で数十μmからなる小径
のバンプの形成が可能となり、微細且つ高密度な回路配
線を有するフィルムキャリアを容易に且つ安価に提供す
ることがでる。更に、本発明のフィルムキャリアを使用
することにより狭エリア内に形成できるバンプ数も増や
せ、半導体装置の高密度実装対応が容易に可能となる。
Since the present invention is configured as described above, it is possible to form bumps having a small diameter of several tens of μm by using a laser, and to provide a film carrier having fine and high density circuit wiring. It can be provided easily and at low cost. Furthermore, by using the film carrier of the present invention, the number of bumps that can be formed in a narrow area can be increased, and it becomes possible to easily support high-density mounting of semiconductor devices.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明により形成されるフィルムキャリアの基
本構成を示したパターン図及び断面図である。
FIG. 1 is a pattern diagram and a sectional view showing a basic configuration of a film carrier formed according to the present invention.

【図2】本発明の加工定盤にフィルムを載せ、切断片が
排気未完了状態の断面図である。
FIG. 2 is a cross-sectional view showing a state in which a film is placed on a processing surface plate of the present invention, and a cut piece is in an uncompleted exhaust state.

【図3】本発明の第1の実施形態の加工定盤にフィルム
を載せ、レーザー照射をしている状態の断面図である。
FIG. 3 is a cross-sectional view of a state in which a film is placed on the processing surface plate of the first embodiment of the present invention and laser irradiation is performed.

【図4】図3の実施形態の金属箔付加状態の断面図であ
る。
4 is a cross-sectional view of the embodiment of FIG. 3 with a metal foil added.

【図5】図3の実施形態のフィルムを用いたフィルムキ
ャリアの断面図である。
5 is a cross-sectional view of a film carrier using the film of the embodiment of FIG.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10 フィルムキャリア 11 ビア形成部 12 ランド形成部 13 配線回路パタン 20 レーザー装置用加工定盤 21 開口部 22 バキューム孔 31 接着剤 32 ベースフィルム 33 カバーフィルム 34 イオナイザー 35 金属箔 36 導通電極 41 レーザー 10 film carrier 11 Via formation part 12 Land formation part 13 Wiring circuit pattern 20 Processing surface plate for laser equipment 21 opening 22 Vacuum hole 31 Adhesive 32 base film 33 cover film 34 Ionizer 35 metal foil 36 Conductive electrode 41 laser

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】レーザー照射部に開口部が設けてある、レ
ーザー照射によりフィルムをパターン化のためのレーザ
ー加工定盤において、前記開口部に排気機能を具備する
事を特徴とするレーザー加工定盤。
1. A laser processing surface plate for patterning a film by laser irradiation, wherein an opening is provided in a laser irradiation portion, wherein the opening has an exhaust function. .
【請求項2】フィルムの位置固定手段を有する事を特徴
とする請求項1記載のレーザー加工定盤。
2. The laser processing surface plate according to claim 1, further comprising a film position fixing means.
【請求項3】フィルムの除電装置を具備することを特徴
とする請求項1または2記載のレーザー加工装置。
3. The laser processing apparatus according to claim 1, further comprising a film static eliminator.
【請求項4】フィルムが、有機フィルムに接着剤層が積
層された構成である、レーザー照射後に回路配線用の金
属箔を積層し、金属箔をパターン化し、必要により開口
部に導通電極をすることでフィルムキャリアとなるフィ
ルムであることを特徴とする請求項1、2、3いずれか
1項記載のレーザー加工装置。
4. The film has a constitution in which an adhesive layer is laminated on an organic film, a metal foil for circuit wiring is laminated after laser irradiation, the metal foil is patterned, and a conductive electrode is formed in the opening if necessary. The laser processing apparatus according to claim 1, wherein the film is a film carrier.
【請求項5】順に、有機フィルムに接着剤層が積層され
た構成であるフィルムをフィルム載置部のレーザー照射
部に開口部が設けてあるレーザー加工定盤上に固定し、
開口部を排気しながらレーザー照射部にレーザー照射す
ることで前記フィルムをパターン化し、接着剤層上に回
路配線用の金属箔を積層し、金属箔をパターン化し、必
要により開口部に導通電極をすることを特徴とするフィ
ルムキャリアの製造方法。
5. A film having a structure in which an adhesive layer is laminated on an organic film is fixed in order on a laser processing surface plate having an opening at a laser irradiation portion of a film mounting portion,
The film is patterned by irradiating the laser irradiation part with laser while exhausting the opening, laminating a metal foil for circuit wiring on the adhesive layer, patterning the metal foil, and if necessary, a conductive electrode in the opening. A method of manufacturing a film carrier, comprising:
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