JP4789446B2 - Substrate processing equipment - Google Patents

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Description

この発明はチャンバ内を搬送される基板を、気体によって加圧された液体で処理する基板の処理装置に関する。   The present invention relates to a substrate processing apparatus for processing a substrate transported in a chamber with a liquid pressurized by a gas.

半導体装置や液晶表示装置などの製造過程には、半導体ウエハやガラス基板などの基板に回路パタ−ンを形成するリソグラフィープロセスがある。このリソグラフィープロセスは、周知のように前記基板にレジストを塗布し、このレジストに回路パターンが形成されたマスクを介して光を照射する。   A manufacturing process of a semiconductor device or a liquid crystal display device includes a lithography process in which a circuit pattern is formed on a substrate such as a semiconductor wafer or a glass substrate. In this lithography process, as is well known, a resist is applied to the substrate, and light is irradiated through a mask having a circuit pattern formed on the resist.

ついで、レジストの光が照射されない部分（あるいは光が照射された部分）を除去し、除去された部分をエッチングするという、一連の工程を複数回繰り返すことで、前記基板に回路パターンを形成するようにしている。   Next, a circuit pattern is formed on the substrate by repeating a series of steps of removing a portion of the resist not irradiated with light (or a portion irradiated with light) and etching the removed portion a plurality of times. I have to.

前記一連の各工程において、前記基板が汚染されていると、回路パターンを精密に形成することができなくなり、不良品の発生原因となる。したがって、それぞれの工程で回路パターンを形成する際には、レジストや塵埃などの微粒子が残留しない清浄な状態に前記基板を液体である、処理液によって処理するということが行われている。つまり、基板に付着した微粒子を除去する処理が行われる。   If the substrate is contaminated in each of the series of steps, it becomes impossible to form a circuit pattern precisely, which causes a defective product. Therefore, when forming a circuit pattern in each step, the substrate is treated with a treatment liquid, which is a liquid, in a clean state in which fine particles such as resist and dust do not remain. That is, a process for removing fine particles adhering to the substrate is performed.

前記基板に付着した微粒子を除去する場合、処理液を所定の圧力に加圧してノズルから基板に向けて噴射するということが行われている。ノズルにはスリット状の噴射孔が形成され、処理液はこの噴射孔から扇状に拡がって基板に噴射される。しかしながら、処理液を単に加圧してノズルの噴射孔から噴射させるだけでは、基板に与える衝撃力が弱いため、基板に付着した微粒子の除去率が低くなるということがあった。   When removing the fine particles adhering to the substrate, the treatment liquid is pressurized to a predetermined pressure and sprayed from the nozzle toward the substrate. A slit-like spray hole is formed in the nozzle, and the processing liquid spreads in a fan shape from the spray hole and is sprayed onto the substrate. However, simply pressurizing and injecting the treatment liquid from the nozzle injection hole has a low impact force applied to the substrate, and thus the removal rate of the fine particles adhering to the substrate may be lowered.

そこで、基板に付着した微粒子の除去率を高めるために、ノズルに加圧された処理液とともに加圧気体を供給することで混合流体とし、基板に与える衝撃力を高めるようにした、二流体噴射ノズルが用いられる。   Therefore, in order to increase the removal rate of the fine particles adhering to the substrate, a two-fluid injection is made by supplying a pressurized gas together with the processing liquid pressurized to the nozzle to obtain a mixed fluid and increasing the impact force applied to the substrate. A nozzle is used.

すなわち、基板を所定方向に沿って搬送するチャンバ内に、この基板の搬送方向に対して交差する方向に所定間隔で複数、たとえば十〜数十個の二流体噴射ノズルを配置し、これら二流体噴射ノズルから搬送される基板に対し、気体により加圧された処理液を噴射するようにしている。二流体噴射ノズルを用いれば、処理液だけを基板に噴射する場合に比べ、基板に与える衝撃力を大きくすることが可能となるから、処理液による基板の処理を効率よく確実に行うことが可能となる。   That is, a plurality of, for example, ten to several tens of two-fluid jet nozzles are arranged at predetermined intervals in a direction that intersects the transport direction of the substrate in a chamber that transports the substrate along a predetermined direction. A treatment liquid pressurized by a gas is ejected onto a substrate conveyed from the ejection nozzle. By using a two-fluid injection nozzle, the impact force applied to the substrate can be increased compared to when only the processing liquid is injected onto the substrate, so that the substrate can be efficiently and reliably processed with the processing liquid. It becomes.

従来、チャンバ内に複数の二流体噴射ノズルを設ける場合、複数の二流体噴射ノズルが取り付けられた取り付け軸を、前記チャンバ内の前記基板の搬送方向に対して交差する方向に沿って配置する。そして、各二流体噴射ノズルに処理液を供給する給液管と、気体を供給する給気管とを、前記チャンバの外部から内部へ導入し、これら給液管と給気管とをそれぞれ前記二流体噴射ノズルに接続するようにしていた。   Conventionally, in the case where a plurality of two-fluid ejection nozzles are provided in a chamber, an attachment shaft to which the plurality of two-fluid ejection nozzles are attached is disposed along a direction intersecting with the substrate transport direction in the chamber. Then, a liquid supply pipe for supplying a processing liquid to each of the two-fluid ejection nozzles and an air supply pipe for supplying a gas are introduced from the outside to the inside of the chamber. It was supposed to be connected to the injection nozzle.

しかしながら、取り付け軸に取り付けられた複数の二流体噴射ノズルに、給液管と給気管とをそれぞれ接続するようにすると、チャンバの外部から内部に引き込まなければならない給液管と給気管との数が二流体噴射ノズルの数に応じて非常に多くなる。そのため、チャンバ内に前記給液管や給気管を通すためのスペースを確保しなければならないから、その分、チャンバが大型化するということがある。   However, when the liquid supply pipe and the air supply pipe are respectively connected to the plurality of two-fluid injection nozzles attached to the mounting shaft, the number of the liquid supply pipe and the air supply pipe that must be drawn into the inside from the outside of the chamber. However, it becomes very large depending on the number of two-fluid injection nozzles. Therefore, a space for passing the liquid supply pipe and the air supply pipe must be secured in the chamber, and the chamber may be enlarged accordingly.

しかも、チャンバ内にたくさんの給液管と給気管が配置されていると、これらの配管に汚れが付着することが避けられない。そのため、配管に付着した汚れを定期的に清掃しなければならないから、その作業に手間が掛かるということがあったり、確実に清掃できずに基板に滴下し、汚染の原因になるということがあった。   Moreover, if a large number of liquid supply pipes and air supply pipes are arranged in the chamber, it is inevitable that dirt is attached to these pipes. For this reason, the dirt adhering to the pipes must be periodically cleaned, which can be time consuming and can be dripping onto the board without being reliably cleaned, causing contamination. It was.

さらに、各二流体噴射ノズルに給液管と給気管とを配管接続する構成によると、それぞれの二流体噴射ノズルに接続される給液管と給気管との長さが一定にならないなどのことによって流れの抵抗が異なってしまう。そのような場合、各二流体噴射ノズルから噴射される処理液の圧力が一定にならないから、前記処理液による基板の処理にむらが生じるということがある。   Furthermore, according to the configuration in which a liquid supply pipe and an air supply pipe are connected to each two-fluid injection nozzle, the length of the liquid supply pipe and the air supply pipe connected to each two-fluid injection nozzle is not constant. Depending on the flow resistance, it will be different. In such a case, since the pressure of the processing liquid ejected from each of the two-fluid ejection nozzles is not constant, the processing of the substrate with the processing liquid may be uneven.

この発明は、二流体噴射ノズルの数が多くても、チャンバの外部から内部に引き込まれる配管の数を少なくすることができるばかりか、各二流体噴射ノズルから液体を同じ状態で噴射することができるようにした基板の処理装置を提供することにある。   The present invention can reduce the number of pipes drawn from the outside to the inside of the chamber even when the number of the two-fluid jet nozzles is large, and can jet the liquid from each of the two-fluid jet nozzles in the same state. An object of the present invention is to provide a substrate processing apparatus which can be used.

この発明は、チャンバ内を搬送される基板に、気体によって加圧された液体を噴射して処理する基板の処理装置であって、
気体が供給されるとともに前記チャンバ内に前記基板の搬送方向と交差する方向に沿って配置された気体用配管と、
液体が供給されるとともに前記チャンバ内に前記気体用配管と所定間隔で平行に配置された液体用配管と、
前記気体用配管の長手方向両端に接続されこの気体用配管に気体を供給する給気管及び前記液体用配管の長手方向両端に接続されこの液体用配管に液体を供給する給液管と、
液体供給部、気体供給部及び噴射孔を有し、前記液体供給部を前記液体用配管に接続するとともに、前記気体供給部を前記気体用配管に接続してこれら配管の長手方向に所定間隔で設けられ、前記液体用配管から前記液体供給部を通じて供給された液体を前記気体用配管から前記気体供給部を通じて供給された気体によって加圧して前記噴射孔から噴射する複数の二流体噴射ノズルとを具備し、
前記気体用配管が上側で、前記液体用配管が下側に位置するよう上下方向に配置され、
前記二流体噴射ノズルは、ノズル本体を有し、このノズル本体には側部に前記液体供給部が設けられ上端部に前記気体供給部が設けられていて、
前記液体供給部と前記液体用配管とは直接的に接続され、前記気体供給部と前記気体用配管とは金属管によって接続されることで、前記気体用配管と前記液体用配管とが一体化されていることを特徴とする基板の処理装置にある。 The present invention is a substrate processing apparatus for performing processing by injecting a liquid pressurized by a gas onto a substrate transported in a chamber,
A gas pipe arranged along the direction in which the gas is supplied and intersects the transport direction of the substrate in the chamber;
A liquid pipe which is supplied with liquid and arranged in parallel with the gas pipe in the chamber at a predetermined interval ;
An air supply pipe that is connected to both ends of the gas pipe in the longitudinal direction and supplies gas to the gas pipe, and a liquid supply pipe that is connected to both ends of the liquid pipe in the longitudinal direction and supplies liquid to the liquid pipe;
A liquid supply unit, a gas supply unit, and an injection hole; the liquid supply unit is connected to the liquid pipe; and the gas supply unit is connected to the gas pipe at predetermined intervals in the longitudinal direction of the pipes. A plurality of two-fluid injection nozzles that pressurize the liquid supplied from the liquid pipe through the liquid supply unit with the gas supplied from the gas pipe through the gas supply unit and inject from the injection holes. Equipped,
The gas pipe is arranged on the upper side and the liquid pipe is arranged on the lower side so as to be located on the lower side,
The two-fluid injection nozzle has a nozzle body, and the nozzle body is provided with the liquid supply part on the side and the gas supply part on the upper end.
The directly connected to the liquid supply portion and the liquid pipe, the at Rukoto connected by the gas supply unit and the metal pipe and the gas pipe, and the gas pipe and the pipe for liquid integrated The substrate processing apparatus is characterized by the above.

一体化された前記気体用配管と液体用配管とは、これらの両端に設けられた高さ調整機構によって前記チャンバ内に高さ調整可能に設けられていて、
前記高さ調整機構は、上下方向に沿う長孔が形成され前記チャンバの側壁内面に取り付けられたブラケットと、前記気体用配管と液体用配管とのどちらか一方の両端に設けられ前記長孔に上下方向に沿って移動可能に挿入される取り付け軸部と、前記ブラケットに設けられ先端部が前記取り付け軸部に螺合されていて、回転させることで前記取り付け軸部を介して前記気体用配管と液体用配管とを上下動させる調整ねじとによって構成されていることが好ましい。 The integrated gas pipe and liquid pipe are provided in the chamber so as to be height-adjustable by height adjusting mechanisms provided at both ends thereof,
The height adjusting mechanism includes a bracket formed on the inner surface of the side wall of the chamber formed with a long hole along the vertical direction, and provided at both ends of either the gas pipe or the liquid pipe. An attachment shaft portion that is movably inserted along the vertical direction, and a tip provided on the bracket is screwed to the attachment shaft portion, and the gas pipe is rotated through the attachment shaft portion by rotating. And an adjustment screw that moves the liquid pipe up and down.

前記気体用配管と前記液体用配管とは、これらの長手方向の両端部が連結板によって一体的に連結されていることが好ましい。It is preferable that both ends in the longitudinal direction of the gas pipe and the liquid pipe are integrally connected by a connecting plate.

この発明によれば、チャンバ内に気体用配管及びこの気体用配管と一体化された液体用配管とを配設し、これらの配管に、複数の二流体噴射ノズルの気体供給部と液体供給部を接続するようにした。   According to the present invention, the gas pipe and the liquid pipe integrated with the gas pipe are disposed in the chamber, and the gas supply unit and the liquid supply unit of the plurality of two-fluid injection nozzles are provided in these pipes. Was connected.

そのため、複数の二流体噴射ノズルに対し、それぞれ１本の気体用配管と液体用配管とによって気体と液体とを供給できるから、チャンバの内部に多数の配管を設けることなく、複数の二流体噴射ノズルに液体と気体とを供給することが可能となる。   Therefore, since a gas and a liquid can be supplied to a plurality of two-fluid injection nozzles by one gas pipe and a liquid pipe, respectively, a plurality of two-fluid injection can be performed without providing a large number of pipes inside the chamber. It becomes possible to supply liquid and gas to the nozzle.

以下、この発明の一実施の形態を図面を参照して説明する。   An embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings.

図１はこの発明の処理装置を示す縦断面図であって、この処理装置はチャンバ１を備えている。このチャンバ１は、幅方向両側に位置する一対の外側壁１ａ、一対の外側壁１ａの上端部に設けられた天井壁１ｂ、一対の外側壁１aの下端部に設けられた底壁１ｃ、一対の外側壁１ａの幅方向内方に所定間隔で離間して設けられた一対の内側壁１ｄ、及び外側壁１ａの長手方向両端に設けられた一対の端面壁１ｅ（一方のみ図示）とによって構成されている。   FIG. 1 is a longitudinal sectional view showing a processing apparatus according to the present invention. The processing apparatus includes a chamber 1. The chamber 1 includes a pair of outer walls 1a located on both sides in the width direction, a ceiling wall 1b provided at the upper end of the pair of outer walls 1a, a bottom wall 1c provided at the lower end of the pair of outer walls 1a, and a pair The inner wall 1a is formed by a pair of inner side walls 1d that are spaced apart at a predetermined interval in the width direction of the outer wall 1a, and a pair of end face walls 1e that are provided at both ends in the longitudinal direction of the outer wall 1a. Has been.

前記天井壁１ｂの幅方向中央部には、長手方向全長にわたって角筒状の排気ダクト２が設けられている。この排気ダクト２のチャンバ１内に臨んだ両側面には排気口３が形成されている。前記排気ダクト２は図示しない排気装置に接続されている。それによって、チャンバ１内の雰囲気を前記排気口３から排出することができるようになっている。しかも、排気ダクト２は角筒状であるため、天井壁１ｂが補強され、チャンバ１全体の剛性を高めている。   At the center in the width direction of the ceiling wall 1b, a rectangular tube-shaped exhaust duct 2 is provided over the entire length in the longitudinal direction. Exhaust ports 3 are formed on both side surfaces of the exhaust duct 2 facing the chamber 1. The exhaust duct 2 is connected to an exhaust device (not shown). Thereby, the atmosphere in the chamber 1 can be discharged from the exhaust port 3. Moreover, since the exhaust duct 2 has a rectangular tube shape, the ceiling wall 1b is reinforced, and the rigidity of the entire chamber 1 is increased.

前記天井壁１ｂには、前記排気ダクト２の両側に点検口４が開口形成され、この点検口４は開閉可能な蓋体５によって気密に閉塞されている。
前記チャンバ１の一対の端面壁１ｅの一方には例えば液晶表示パネルに用いられるガラス製の基板Ｗ（図１に示す）を導入する搬入口６が開口形成され、他方にはチャンバ１内で処理された前記基板Ｗを搬出する搬出口（図示せず）が開口形成されている。なお、底壁１ｃはチャンバの幅方向中央に行くにつれて低くなっていて、最も低い位置には排液管７が接続されている。 In the ceiling wall 1b, inspection ports 4 are formed on both sides of the exhaust duct 2, and the inspection ports 4 are airtightly closed by a lid 5 that can be opened and closed.
One of the pair of end face walls 1e of the chamber 1 is formed with an opening 6 for introducing a glass substrate W (shown in FIG. 1) used for, for example, a liquid crystal display panel, and the other is processed in the chamber 1. An opening (not shown) for carrying out the substrate W formed is formed with an opening. The bottom wall 1c is lowered toward the center of the chamber in the width direction, and the drainage pipe 7 is connected to the lowest position.

前記チャンバ１内には、前記搬入口６からチャンバ１内に搬入された基板Ｗを前記搬出口へ向かって搬送する複数の搬送ユニット１１（１つだけ図示）がチャンバ１の長手方向に沿って並設されている。この搬送ユニット１１は角パイプによって形成された矩形状のフレーム１２を有する。このフレーム１２の幅方向両側の外面には、それぞれ取り付け板１３が長手方向に沿って設けられている。各取り付け板１３には複数の軸受１４が幅方向と交差する長手方向に沿って所定間隔で着脱可能に保持されている。   In the chamber 1, a plurality of transfer units 11 (only one is shown) for transferring the substrate W carried into the chamber 1 from the carry-in port 6 toward the carry-out port are provided along the longitudinal direction of the chamber 1. It is installed side by side. The transport unit 11 has a rectangular frame 12 formed by square pipes. Attachment plates 13 are respectively provided along the longitudinal direction on the outer surfaces of both sides of the frame 12 in the width direction. A plurality of bearings 14 are detachably held at each mounting plate 13 at a predetermined interval along a longitudinal direction intersecting the width direction.

フレーム１２の幅方向において対応する各一対の軸受１４には、それぞれ搬送軸１５（１本のみ図示）の両端部が回転可能に支持されている。各搬送軸１５には複数の搬送ローラ１６が軸方向に所定間隔で設けられている。   Each pair of bearings 14 corresponding to each other in the width direction of the frame 12 rotatably supports both ends of a conveyance shaft 15 (only one is shown). Each conveyance shaft 15 is provided with a plurality of conveyance rollers 16 at predetermined intervals in the axial direction.

前記搬入口６からチャンバ１内に搬入された基板Ｗは各搬送ローラ１６によって搬送される。基板Ｗの幅方向両端部は、前記フレーム１２の幅方向と交差する方向に位置する一対の側辺の両端部に設けられたガイドローラ１７によって幅方向の両端がガイドされるようになっている。   The substrate W carried into the chamber 1 from the carry-in entrance 6 is carried by each carrying roller 16. Both end portions in the width direction of the substrate W are guided by guide rollers 17 provided at both end portions of a pair of sides located in a direction intersecting the width direction of the frame 12. .

前記搬送軸１５の長手方向一端部には、動力伝達軸１９が軸線を前記搬送軸１５の軸線と直交させて回転可能に配置されている。動力伝達軸１９には前記搬送軸１５の一端部に設けられた第１の傘歯車に噛合する第２の傘歯車（ともに図示せず）が設けられている。さらに、動力伝達軸１９には従動歯車２１が設けられている。この従動歯車２１には駆動歯車２２が噛合している。駆動歯車２２はチャンバ１の外部に設けられたモータ２３の回転軸２４に嵌着されている。   A power transmission shaft 19 is disposed at one end in the longitudinal direction of the transport shaft 15 so as to be rotatable with its axis orthogonal to the axis of the transport shaft 15. The power transmission shaft 19 is provided with a second bevel gear (both not shown) that meshes with a first bevel gear provided at one end of the transport shaft 15. Further, the power transmission shaft 19 is provided with a driven gear 21. A driving gear 22 is engaged with the driven gear 21. The drive gear 22 is fitted on a rotating shaft 24 of a motor 23 provided outside the chamber 1.

したがって、前記モータ２３が作動すれば、駆動歯車２２及び従動歯車２１を介して動力伝達軸１９が回転するから、この動力伝達軸１９の回転が前記第２、第１の傘歯車を介して前記搬送軸１５に伝達されることになる。   Accordingly, when the motor 23 is operated, the power transmission shaft 19 is rotated via the drive gear 22 and the driven gear 21. Therefore, the rotation of the power transmission shaft 19 is performed via the second and first bevel gears. It is transmitted to the conveyance shaft 15.

前記チャンバ１の一対の内側壁１ｄには、上記搬送軸１５よりも上方の位置に取り付けブロック２６が設けられている。一対の取り付けブロック２６には、図２に示すようにブラケット２７がねじ２８によって取り付け固定されている。ブラケット２７には、図４に示すように上下方向に沿って長孔２９が形成されている。この長孔２９には液体用配管３１の端面に連結された取り付け軸部３２が挿入される。この取り付け軸部３２の外周面には第１のねじ孔３３が形成されている。   A pair of inner walls 1 d of the chamber 1 is provided with a mounting block 26 at a position above the transport shaft 15. As shown in FIG. 2, a bracket 27 is attached and fixed to the pair of attachment blocks 26 by screws 28. A long hole 29 is formed in the bracket 27 along the vertical direction as shown in FIG. An attachment shaft portion 32 connected to the end face of the liquid pipe 31 is inserted into the long hole 29. A first screw hole 33 is formed on the outer peripheral surface of the mounting shaft portion 32.

前記ブラケット２７にはその上端面に一端を開口させ他端を前記長孔２９の内面に開口させた第２のねじ孔３４が形成されている。この第２のねじ孔３４にはロックナット３５を有する位置決めねじ３６が螺合される。この位置決めねじ３６と前記ブラケット２７はこの発明の高さ調整機構４０を構成している。   The bracket 27 is formed with a second screw hole 34 having one end opened at the upper end surface and the other end opened at the inner surface of the long hole 29. A positioning screw 36 having a lock nut 35 is screwed into the second screw hole 34. The positioning screw 36 and the bracket 27 constitute a height adjusting mechanism 40 of the present invention.

前記ブラケット２７の長孔２９に挿入された前記取り付け軸部３２の端面には第３のねじ孔３７が形成されている。前記取り付け軸部３２の端面には、前記第３のねじ孔３７に螺合した取り付けねじ３８によって前記長孔２９の幅寸法よりも大径な鍔３９が取り付けられる。   A third screw hole 37 is formed on the end surface of the mounting shaft portion 32 inserted into the long hole 29 of the bracket 27. A flange 39 having a diameter larger than the width of the long hole 29 is attached to the end surface of the attachment shaft portion 32 by an attachment screw 38 screwed into the third screw hole 37.

すなわち、液体用配管３１は、ブラケット２７の上端面に圧接したロックナット３５を緩めて前記位置決めねじ３６を回転させれば、前記長孔２９に沿って上下動させることができる。所定の位置で、前記ロックナット３５及び取り付けねじ３８を閉め込めば、前記液体用配管３１をブラケット２７に固定することができるようになっている。   That is, the liquid pipe 31 can be moved up and down along the long hole 29 by loosening the lock nut 35 pressed against the upper end surface of the bracket 27 and rotating the positioning screw 36. The liquid pipe 31 can be fixed to the bracket 27 by closing the lock nut 35 and the mounting screw 38 at a predetermined position.

図１に示すように前記液体用配管３１の上方には気体用配管４１が所定間隔で平行に配置されている。前記液体用配管３１と前記気体用配管４１とは、これらの長手方向両端部がそれぞれ溶接などで固定された連結板４２によって一体的に連結されている。つまり、前記液体用配管３１と前記気体用配管４１とは一体化されている。   As shown in FIG. 1, gas pipes 41 are arranged in parallel at predetermined intervals above the liquid pipe 31. The liquid pipe 31 and the gas pipe 41 are integrally connected by a connecting plate 42 whose longitudinal ends are fixed by welding or the like. That is, the liquid pipe 31 and the gas pipe 41 are integrated.

一体化された前記液体用配管３１と前記気体用配管４１とには、軸方向に所定間隔で複数の二流体噴射ノズル４４が取り付けられている。この二流体噴射ノズル４４は図５に示すようにノズル本体４５を有する。このノズル本体４５には上端面に開口した第１のねじ孔４６と、外周面に開口した第２のねじ孔４７とが形成されている。第１のねじ孔４６と第２のねじ孔４７とは連通している。   A plurality of two-fluid injection nozzles 44 are attached to the integrated liquid pipe 31 and gas pipe 41 at predetermined intervals in the axial direction. The two-fluid injection nozzle 44 has a nozzle body 45 as shown in FIG. The nozzle body 45 is formed with a first screw hole 46 opened in the upper end surface and a second screw hole 47 opened in the outer peripheral surface. The first screw hole 46 and the second screw hole 47 communicate with each other.

前記第１のねじ孔４６の先端部には混合室４８の一端が連通している。この混合室４８の他端は前記ノズル本体４５の先端面に開口している。ノズル本体４５の先端面にはノズルチップ４９がキャップ５１によって取り付け固定される。このノズルチップ４９には噴射孔５２が形成されている。   One end of a mixing chamber 48 communicates with the tip of the first screw hole 46. The other end of the mixing chamber 48 opens at the tip surface of the nozzle body 45. A nozzle tip 49 is attached and fixed to the tip surface of the nozzle body 45 by a cap 51. An injection hole 52 is formed in the nozzle tip 49.

前記第１のねじ孔４６には気体供給部となる気体供給口体５３がねじ込まれる。前記第２のねじ孔４７には液体供給部となる液体供給口体５４がねじ込まれる。前記気体供給口体５３の前記第１のねじ孔４６内に位置する先端部は、この第１のねじ孔４６よりも小径に形成されていて、その小径部の外周面と第１のねじ孔４６の内周面との間には前記液体供給口体５４に供給された純水などの処理液を前記混合室４８に導入する環状の導入路５５が形成されている。   A gas supply port body 53 serving as a gas supply unit is screwed into the first screw hole 46. A liquid supply port body 54 serving as a liquid supply unit is screwed into the second screw hole 47. The distal end portion of the gas supply port 53 located in the first screw hole 46 is formed to have a smaller diameter than the first screw hole 46, and the outer peripheral surface of the small diameter portion and the first screw hole. An annular introduction path 55 for introducing a treatment liquid such as pure water supplied to the liquid supply port body 54 to the mixing chamber 48 is formed between the inner peripheral surface of the liquid supply port body 54.

前記液体供給口体５４から前記導入路５５に後述するごとく供給された処理液は、前記気体供給口体５３から前記混合室４８に後述するごとく供給される、所定の圧力の気体と混合して加圧され、前記噴射孔５２から噴射するようになっている。   The processing liquid supplied from the liquid supply port body 54 to the introduction path 55 as described later is mixed with a gas having a predetermined pressure supplied from the gas supply port body 53 to the mixing chamber 48 as described later. The air is pressurized and is ejected from the ejection hole 52.

前記構成の二流体噴射ノズル４４は、図３に示すように液体供給口体５４が前記液体用配管３１に継ぎ手５７によって接続されている。前記気体供給口体５３には逆Ｕ字状に曲成されたステンレス管などの剛性を備えた金属管５８の一端が継ぎ手５９によって接続されている。この金属管５８の他端は前記気体用配管４１に継ぎ手６１によって接続されている。   As shown in FIG. 3, the two-fluid injection nozzle 44 having the above-described configuration has a liquid supply port body 54 connected to the liquid pipe 31 by a joint 57. One end of a metal tube 58 having rigidity such as a stainless tube bent in an inverted U shape is connected to the gas supply port 53 by a joint 59. The other end of the metal pipe 58 is connected to the gas pipe 41 by a joint 61.

図１乃至図４に示すように、前記液体用配管３１と気体用配管４１の両端部にはそれぞれ接続ブロック３１ａ，４１ａが設けられている。液体用配管３１に設けられた一対の接続ブロック３１ａにはそれぞれ前記液体用配管３１に処理液を供給するために給液管６３が接続されている。気体用配管４１に設けられた一対の接続ブロック４１ａには、前記気体用配管４１に所定の圧力に加圧された清浄空気などの気体を供給する給気管６４が接続されている。   As shown in FIGS. 1 to 4, connection blocks 31a and 41a are provided at both ends of the liquid pipe 31 and the gas pipe 41, respectively. A liquid supply pipe 63 is connected to the pair of connection blocks 31 a provided in the liquid pipe 31 in order to supply the processing liquid to the liquid pipe 31. An air supply pipe 64 that supplies a gas such as clean air pressurized to a predetermined pressure to the gas pipe 41 is connected to the pair of connection blocks 41 a provided in the gas pipe 41.

このような構成の処理装置によれば、処理液が供給される液体用配管３１と、気体が供給される気体用配管４１とを連結板４２で一体化し、これらの配管３１，４１に二流体噴射ノズル４４を一体的に取り付けるようにした。   According to the processing apparatus having such a configuration, the liquid pipe 31 to which the processing liquid is supplied and the gas pipe 41 to which the gas is supplied are integrated by the connecting plate 42, and two fluids are connected to these pipes 31 and 41. The injection nozzle 44 is integrally attached.

前記液体用配管３１には両端に接続された給液管６３によって処理液が供給され、前記気体用配管４１には両端に接続された給気管６４によって加圧された気体が供給される。それによって、複数の二流体噴射ノズル４４には前記液体用配管３１と気体用配管４１とから処理液と気体とが供給されるから、複数の二流体噴射ノズル４４にそれぞれ液体と気体とを供給するための配管をチャンバ１の外部から内部に導入して接続するということをせずにすむ。   A treatment liquid is supplied to the liquid pipe 31 by a supply pipe 63 connected to both ends, and a gas pressurized by a supply pipe 64 connected to both ends is supplied to the gas pipe 41. Accordingly, the processing liquid and the gas are supplied to the plurality of two-fluid injection nozzles 44 from the liquid pipe 31 and the gas pipe 41, respectively, and thus the liquid and the gas are supplied to the plurality of two-fluid injection nozzles 44, respectively. Therefore, it is not necessary to introduce and connect the piping for carrying out from the outside to the inside of the chamber 1.

すなわち、チャンバ１内に設けられた複数の二流体噴射ノズル４４に対し、それぞれ液体と気体とを供給するための配管を接続するということをせずにすむから、チャンバ１内に設けられる配管を少なくし、構成や組立作業の簡略化を図ることができる。   That is, it is not necessary to connect the pipes for supplying the liquid and the gas to the plurality of two-fluid injection nozzles 44 provided in the chamber 1. Therefore, the configuration and the assembly work can be simplified.

前記液体用配管３１、気体用配管４１、二流体噴射ノズル４４及び高さ調整機構４０は予めユニット化しておくことができるため、チャンバ１内への組み込み作業を容易に行うことができる。   Since the liquid pipe 31, the gas pipe 41, the two-fluid injection nozzle 44 and the height adjusting mechanism 40 can be unitized in advance, the assembling work into the chamber 1 can be easily performed.

前記液体用配管３１と気体用配管４１とには、これらの両端部に接続された給液管６３と給気管６４とから処理液及び気体をそれぞれ供給するようにした。そのため、複数の二流体噴射ノズル４４で使用される処理液及び気体の総量に比べ、十分に多い量の処理液と気体とが液体用配管３１と気体用配管４１とに供給されていれば、複数の二流体ノズル４４に対して処理液と気体とを同じ圧力で供給することができる。   The liquid pipe 31 and the gas pipe 41 are respectively supplied with a processing liquid and a gas from a liquid supply pipe 63 and an air supply pipe 64 connected to both ends thereof. Therefore, if a sufficiently large amount of processing liquid and gas are supplied to the liquid pipe 31 and the gas pipe 41 as compared to the total amount of processing liquid and gas used in the plurality of two-fluid injection nozzles 44, The treatment liquid and the gas can be supplied to the plurality of two fluid nozzles 44 at the same pressure.

液体用配管３１と気体用配管４１とは両端部が連結板４２によって一体化されているばかりか、液体用配管３１に液体供給口体５４を接続するとともに気体用配管４１に金属管５８を介して気体供給口体５３を接続した二流体噴射ノズル４４によっても一体的に連結されている。   The liquid pipe 31 and the gas pipe 41 are not only integrated at both ends by the connecting plate 42, but also the liquid supply port 54 is connected to the liquid pipe 31 and the metal pipe 58 is connected to the gas pipe 41. The two fluid injection nozzles 44 connected to the gas supply port body 53 are also integrally connected.

このように、液体用配管３１と気体用配管４１とが連結板４２と二流体噴射ノズル４４とによって一体化されれば、基板Ｗの大型化にともなってチャンバ１の幅方向の寸法が大きくなり、それに応じて前記液体用配管３１と気体用配管４１とが長尺化しても、これら配管３１，４１に撓みが生じることのない剛性を持たせることができる。つまり、液体用配管３１と気体用配管４１とを必要以上に大径化せずに、撓みが生じることのない剛性を備えることができる。   Thus, if the liquid pipe 31 and the gas pipe 41 are integrated by the connecting plate 42 and the two-fluid injection nozzle 44, the dimension in the width direction of the chamber 1 increases as the substrate W increases in size. Accordingly, even if the liquid pipe 31 and the gas pipe 41 are lengthened, the pipes 31 and 41 can be provided with rigidity that does not bend. In other words, the liquid pipe 31 and the gas pipe 41 can be provided with rigidity that does not cause bending without increasing the diameter more than necessary.

前記液体用配管３１及び気体用配管４１は、これらの両端が高さ調整機構４０によって高さ調整可能に設けられている。そのため、高さ調整機構４０によって前記配管３１，４１に一体的に設けられた複数の二流体噴射ノズル４４の高さを調整し、各二流体噴射ノズル４４による処理液の基板Ｗに対する噴射領域を設定することができる。それによって、基板Ｗの搬送方向と交差する幅方向に対し、所定間隔で設けられた複数の二流体噴射ノズル４４から処理液をむらなくほぼ均一に噴射させることが可能となる。   Both ends of the liquid pipe 31 and the gas pipe 41 are provided so that the height can be adjusted by the height adjusting mechanism 40. Therefore, the height adjustment mechanism 40 adjusts the heights of the plurality of two-fluid injection nozzles 44 provided integrally with the pipes 31 and 41, and sets the injection region of the processing liquid to the substrate W by each of the two-fluid injection nozzles 44. Can be set. Accordingly, the processing liquid can be ejected substantially uniformly from the plurality of two-fluid ejection nozzles 44 provided at predetermined intervals in the width direction intersecting the transport direction of the substrate W.

しかも、複数の二流体噴射ノズル４４は、液体用配管３１及び気体用配管４１に一体的に設けられているから、これら配管３１，４１の高さを調整することで、複数の二流体噴射ノズル４４の高さ調整を一度に行うことができる。つまり、複数の二流体噴射ノズル４４の高さ調整を容易かつ確実に行うことができる。 In addition, since the plurality of two-fluid injection nozzles 44 are integrally provided in the liquid pipe 31 and the gas pipe 41, the plurality of two-fluid injection nozzles can be adjusted by adjusting the heights of the pipes 31 and 41. 44 height adjustments can be made at once. That is, the height adjustment of the plurality of two-fluid injection nozzles 44 can be performed easily and reliably.

前記一実施の形態では、高さ調整機構を構成するブラケットの長孔に挿入されて位置決めねじが螺合される取り付け軸部を液体用配管の端部に設けるようにしたが、この取り付け軸部を気体用配管の端部に設けるようにしてもよい。つまり、気体用配管を介して高さ調整機構により、一対の配管の高さを調整するようにしてもよい。   In the one embodiment, the mounting shaft portion that is inserted into the long hole of the bracket constituting the height adjusting mechanism and is screwed with the positioning screw is provided at the end of the liquid pipe. May be provided at the end of the gas pipe. That is, the height of the pair of pipes may be adjusted by the height adjusting mechanism via the gas pipe.

この発明の一実施の形態を示すチャンバの縦断面図。The longitudinal cross-sectional view of the chamber which shows one Embodiment of this invention. 高さ調整機構が設けられた気体用配管と液体用配管との端部を拡大して示す正面図。The front view which expands and shows the edge part of the piping for gas and the piping for liquid in which the height adjustment mechanism was provided. 気体用配管と液体用配管とを断面して二流体噴射ノズルの取付け構造を示す図。The figure which shows the attachment structure of the two-fluid injection nozzle by carrying out a cross section of the piping for gas and the piping for liquid. 高さ調整機構を分解して示す斜視図。The perspective view which decomposes | disassembles and shows a height adjustment mechanism. 二流体噴射ノズルの断面図。Sectional drawing of a two-fluid injection nozzle.

符号の説明Explanation of symbols

１…チャンバ、２７…ブラケット、３１…液体用配管、３２…取り付け軸部、３６…位置決めねじ、４０…高さ調整機構、４１…気体用配管、４４…二流体噴射ノズル、４５…ノズル本体、５２…噴射孔、５３…気体供給口体（気体供給部）、５４…液体供給口体（液体供給部）、６３…給液管、６４…給気管。   DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Chamber, 27 ... Bracket, 31 ... Pipe for liquid, 32 ... Mounting shaft part, 36 ... Positioning screw, 40 ... Height adjustment mechanism, 41 ... Pipe for gas, 44 ... Two fluid injection nozzle, 45 ... Nozzle main body, 52 ... injection hole, 53 ... gas supply port body (gas supply part), 54 ... liquid supply port body (liquid supply part), 63 ... liquid supply pipe, 64 ... air supply pipe.

Claims (3)

チャンバ内を搬送される基板に、気体によって加圧された液体を噴射して処理する基板の処理装置であって、
気体が供給されるとともに前記チャンバ内に前記基板の搬送方向と交差する方向に沿って配置された気体用配管と、
液体が供給されるとともに前記チャンバ内に前記気体用配管と所定間隔で平行に配置された液体用配管と、
前記気体用配管の長手方向両端に接続されこの気体用配管に気体を供給する給気管及び前記液体用配管の長手方向両端に接続されこの液体用配管に液体を供給する給液管と、
液体供給部、気体供給部及び噴射孔を有し、前記液体供給部を前記液体用配管に接続するとともに、前記気体供給部を前記気体用配管に接続してこれら配管の長手方向に所定間隔で設けられ、前記液体用配管から前記液体供給部を通じて供給された液体を前記気体用配管から前記気体供給部を通じて供給された気体によって加圧して前記噴射孔から噴射する複数の二流体噴射ノズルとを具備し、
前記気体用配管が上側で、前記液体用配管が下側に位置するよう上下方向に配置され、
前記二流体噴射ノズルは、ノズル本体を有し、このノズル本体には側部に前記液体供給部が設けられ上端部に前記気体供給部が設けられていて、
前記液体供給部と前記液体用配管とは直接的に接続され、前記気体供給部と前記気体用配管とは金属管によって接続されることで、前記気体用配管と前記液体用配管とが一体化されていることを特徴とする基板の処理装置。 A substrate processing apparatus that performs processing by injecting a liquid pressurized by a gas onto a substrate transported in a chamber,
A gas pipe arranged along the direction in which the gas is supplied and intersects the transport direction of the substrate in the chamber;
A liquid pipe which is supplied with liquid and arranged in parallel with the gas pipe in the chamber at a predetermined interval ;
An air supply pipe that is connected to both ends of the gas pipe in the longitudinal direction and supplies gas to the gas pipe, and a liquid supply pipe that is connected to both ends of the liquid pipe in the longitudinal direction and supplies liquid to the liquid pipe;
A liquid supply unit, a gas supply unit, and an injection hole; the liquid supply unit is connected to the liquid pipe; and the gas supply unit is connected to the gas pipe at predetermined intervals in the longitudinal direction of the pipes. A plurality of two-fluid injection nozzles that pressurize the liquid supplied from the liquid pipe through the liquid supply unit with the gas supplied from the gas pipe through the gas supply unit and inject from the injection holes. Equipped,
The gas pipe is arranged on the upper side and the liquid pipe is arranged on the lower side so as to be located on the lower side,
The two-fluid injection nozzle has a nozzle body, and the nozzle body is provided with the liquid supply part on the side and the gas supply part on the upper end.
The directly connected to the liquid supply portion and the liquid pipe, the at Rukoto connected by the gas supply unit and the metal pipe and the gas pipe, and the gas pipe and the pipe for liquid integrated the substrate processing apparatus is characterized in that it is. 一体化された前記気体用配管と液体用配管とは、これらの両端に設けられた高さ調整機構によって前記チャンバ内に高さ調整可能に設けられていて、
前記高さ調整機構は、上下方向に沿う長孔が形成され前記チャンバの側壁内面に取り付けられたブラケットと、前記気体用配管と液体用配管とのどちらか一方の両端に設けられ前記長孔に上下方向に沿って移動可能に挿入される取り付け軸部と、前記ブラケットに設けられ先端部が前記取り付け軸部に螺合されていて、回転させることで前記取り付け軸部を介して前記気体用配管と液体用配管とを上下動させる調整ねじとによって構成されていることを特徴とする請求項１記載の基板の処理装置。 The integrated gas pipe and liquid pipe are provided in the chamber so as to be height-adjustable by height adjusting mechanisms provided at both ends thereof,
The height adjusting mechanism includes a bracket formed on the inner surface of the side wall of the chamber formed with a long hole along the vertical direction, and provided at both ends of either the gas pipe or the liquid pipe. An attachment shaft portion that is movably inserted along the vertical direction, and a tip provided on the bracket is screwed to the attachment shaft portion, and the gas pipe is rotated through the attachment shaft portion by rotating. The substrate processing apparatus according to claim 1, wherein the substrate processing apparatus includes an adjustment screw that moves the pipe and the liquid pipe up and down. 前記気体用配管と前記液体用配管とは、これらの長手方向の両端部が連結板によって一体的に連結されていることを特徴とする請求項１記載の基板の処理装置。   The substrate processing apparatus according to claim 1, wherein the gas pipe and the liquid pipe are integrally connected to each other at both ends in a longitudinal direction by a connecting plate.
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