JP4777322B2 - Cleaning processing method and cleaning processing apparatus - Google Patents
Cleaning processing method and cleaning processing apparatus Download PDFInfo
- Publication number
- JP4777322B2 JP4777322B2 JP2007260618A JP2007260618A JP4777322B2 JP 4777322 B2 JP4777322 B2 JP 4777322B2 JP 2007260618 A JP2007260618 A JP 2007260618A JP 2007260618 A JP2007260618 A JP 2007260618A JP 4777322 B2 JP4777322 B2 JP 4777322B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- cleaning
- ipa
- wafer
- drug
- substrate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Landscapes
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
Description
本発明は、半導体ウエハやLCD基板等の各種基板に所定の処理液を供給して行う洗浄処理方法と洗浄処理装置に関する。 The present invention relates to a cleaning processing method and a cleaning processing apparatus which are performed by supplying a predetermined processing liquid to various substrates such as a semiconductor wafer and an LCD substrate.
例えば、半導体デバイスの製造工程においては、基板である半導体ウエハ(ウエハ)を所定の薬液や純水等の洗浄液によって洗浄処理し、ウエハからパーティクル、有機汚染物、金属不純物等のコンタミネーションや有機物、酸化膜を除去している。このような洗浄処理は、通常、薬液による洗浄処理、純水による洗浄処理、揮発性薬剤例えばイソプロピルアルコール(IPA)を用いた乾燥処理、ガスを供給して行うブロー乾燥処理またはスピン乾燥処理の順序で行われる。 For example, in a semiconductor device manufacturing process, a semiconductor wafer (wafer), which is a substrate, is cleaned with a cleaning solution such as a predetermined chemical solution or pure water, and contamination such as particles, organic contaminants, metal impurities, organic matter, The oxide film is removed. Such a cleaning process is usually performed in the order of a cleaning process using a chemical solution, a cleaning process using pure water, a drying process using a volatile agent such as isopropyl alcohol (IPA), a blow drying process or a spin drying process performed by supplying a gas. Done in
このうちIPA乾燥処理は、例えば、IPAが貯留されたタンク内にウエハを浸漬させた後にウエハを引き上げる方法、またはウエハを低速回転状態として液状のIPAをウエハに供給し、その後にウエハを高速で回転させてウエハに付着したIPAを振り切る方法等を用いて行われている。 Among these, the IPA drying process is, for example, a method in which the wafer is lifted after being immersed in a tank in which IPA is stored, or liquid IPA is supplied to the wafer while the wafer is rotated at a low speed, and then the wafer is moved at a high speed. This is performed by using a method of rotating off the IPA attached to the wafer by rotation.
しかしながら、IPAが貯留されたタンク内にウエハを浸漬させる方法では、経時的にIPAの汚れが進むためにIPA内のパーティクルがウエハに付着する問題がある。さらに、停止または低速回転状態にあるウエハに液状のIPAを供給した場合には、IPAを多量に消費するために処理コストが嵩み、製品コストが高くなるという問題がある。 However, in the method of immersing the wafer in the tank in which the IPA is stored, there is a problem that particles in the IPA adhere to the wafer because the contamination of the IPA progresses with time. Further, when liquid IPA is supplied to a wafer that is stopped or rotated at a low speed, a large amount of IPA is consumed, which increases processing costs and increases product costs.
本発明はこのような従来技術の問題点に鑑みてなされたものであり、その目的は、薬剤を効率的に基板表面に供給することでその消費量を抑制することができる洗浄処理方法とその洗浄処理方法を行う洗浄処理装置を提供することにある。 The present invention has been made in view of such problems of the prior art, and an object of the present invention is to provide a cleaning method that can suppress consumption by efficiently supplying a drug to the surface of a substrate, and the method thereof. An object of the present invention is to provide a cleaning processing apparatus that performs a cleaning processing method.
また本発明の他の目的は、基板の表面に発生する洗浄痕(ウォーターマーク)を低減することが可能な洗浄処理方法を提供することにある。 Another object of the present invention is to provide a cleaning method capable of reducing cleaning marks (watermarks) generated on the surface of a substrate.
すなわち、本発明の第1の観点によれば、処理容器内に保持された基板の洗浄処理方法であって、前記基板を停止または低速回転させた状態において、蒸気状の薬剤を前記基板に供給する第1工程と、前記薬剤の供給を停止した後に前記基板を前記低速回転よりも高い回転速度で高速回転させることにより前記基板に付着した薬剤を振り切る第2工程と、を有し、前記第1工程では、薬剤を吐出するノズルに薬剤を供給する薬剤供給管に液体状の薬剤を所定量滞留させた後に、前記薬剤供給管の液体状の薬剤が滞留された部分の上流側から前記薬剤供給管に高温のガスを供給することにより、前記所定量の液体状の薬剤を前記高温のガスにより蒸気状とするとともに、この蒸気状の薬剤を前記ノズルを介して基板に供給することを特徴とする洗浄処理方法が提供される。 That is, according to the first aspect of the present invention, there is provided a method for cleaning a substrate held in a processing container, wherein a vaporized chemical is supplied to the substrate while the substrate is stopped or rotated at a low speed. And a second step of shaking off the drug adhering to the substrate by rotating the substrate at a high speed higher than the low-speed rotation after stopping the supply of the drug. in one step, after the liquid drug by a predetermined amount remaining in the drug supply pipe for supplying the agent to nozzle for discharging a drug, said from the upstream side of the liquid drug is retained portion of the drug supply pipe By supplying a high-temperature gas to the drug supply pipe, the predetermined amount of liquid drug is vaporized by the high-temperature gas, and the vapor-shaped drug is supplied to the substrate through the nozzle. Characterize Kiyoshi processing method is provided.
本発明の第2の観点によれば、基板に洗浄液を供給して洗浄処理を行う洗浄処理装置であって、基板を収容する処理容器と、前記処理容器内で基板を保持する保持手段と、前記保持手段を回転させる回転機構と、前記洗浄液を前記基板に向けて吐出する洗浄液供給機構と、液体状の薬剤を蒸気状として前記保持手段に保持された基板に供給する薬剤供給機構と、を具備し、前記薬剤供給機構は、前記液体状の薬剤を貯留する薬剤供給源と、前記蒸気状の薬剤を吐出するノズルと、前記薬剤供給源と前記ノズルとの間に設けられ、前記薬剤供給源から前記液体状の薬剤が送液される薬剤供給管と、前記薬剤供給管に前記液体状の薬剤を所定量滞留させる機構と、前記薬剤供給源と前記薬剤供給管の前記液体状の薬剤が滞留している部分との間から前記薬剤供給管に高温のガスを供給するガス供給機構とを有し、前記薬剤供給管に前記液体状の薬剤が所定量滞留された後、前記所定量の液体状の薬剤が前記ガス供給機構から供給された高温ガスにより加熱されて蒸気状となり、この蒸気状の薬剤が前記ノズルから吐出されることを特徴とする洗浄処理装置が提供される。 According to a second aspect of the present invention, there is provided a cleaning processing apparatus for supplying a cleaning liquid to a substrate to perform a cleaning process, a processing container for storing the substrate, and a holding means for holding the substrate in the processing container; a rotating mechanism for rotating the holding means, and the cleaning liquid supply mechanism for ejecting the cleaning liquid to the substrate, and a drug supply mechanism for supplying a liquid medicament to the substrate held by the holding means as a vapor form, comprising a said agent supply mechanism includes a drug source for storing the liquid medicament, and Roh nozzle that discharges the vapor form medicament, is provided between the nozzle and the drug source, a drug supply pipe the liquid drug is fed from the drug supply, a mechanism for the liquid agent prior Symbol agent supply pipe retained predetermined amount, the said drug supply and the drug supply pipe Is it between the part where the liquid drug stays? Wherein the drug feed tube and a gas supply mechanism for supplying a high-temperature gas, before SL after the liquid drug is a predetermined amount remaining in the drug supply pipe, liquid drug is the gas supply of said predetermined amount is heated by the hot gas supplied from the mechanism becomes steam shape, cleaning apparatus is provided, characterized in that the vaporous agent is ejected from the front Keno nozzle.
本発明によれば、薬剤供給管に前記薬剤を所定量滞留させた後に薬剤供給管の所定量の液体状の薬剤が滞留された部分の上流側から薬剤供給管に高温のガスを供給することにより、所定量の薬剤を蒸気状としてノズルから供給することができ、薬剤の使用量を低減して、処理コストを低減することができる。また、供給された薬剤は基板にむらなく付着して、例えば基板表面に水分が残留していた場合には水分と揮発性薬剤が置換されて振り切りが容易となり、基板の表面に発生する洗浄痕(ウオーターマーク)が低減される。こうして、基板を高い品質に維持することが可能となる。 According to the present invention, a high temperature gas is supplied to the drug supply pipe from the upstream side of a portion where a predetermined amount of the liquid drug is stored in the drug supply pipe after the predetermined amount of the drug is held in the drug supply pipe. Thus, a predetermined amount of medicine can be supplied in the form of vapor from the nozzle , the amount of medicine used can be reduced, and processing costs can be reduced. In addition, the supplied medicine adheres evenly to the substrate. For example, if moisture remains on the surface of the substrate, the moisture and volatile chemicals are replaced, making it easy to shake off, and cleaning marks generated on the surface of the substrate. (Water mark) is reduced. In this way, it is possible to maintain the substrate with high quality.
さらに、本発明の洗浄処理装置は、薬剤を用いた乾燥処理工程前に純水によるリンス処理等の他の液処理を行っている場合にも、基板を移動させることなく処理を行うことができるために、装置の構造が複雑とならない。これによって、装置の大型化も抑制される。 Furthermore, the cleaning processing apparatus of the present invention can perform processing without moving the substrate even when other liquid processing such as rinsing processing with pure water is performed before the drying processing step using a chemical. For this reason, the structure of the apparatus is not complicated. Thereby, the enlargement of the apparatus is also suppressed.
以下、添付図面を参照して、本発明の実施の態様について具体的に説明する。本実施態様では、半導体ウエハ(ウエハ)の搬入、洗浄、乾燥、搬出をバッチ式に一貫して行うように構成された洗浄処理システムとその洗浄処理システムを用いた洗浄処理方法について説明する。また、本実施態様においては、洗浄処理工程の中の1工程である薬剤を用いた乾燥処理について、揮発性溶媒であるイソプロピルアルコール(IPA)を用いた場合について説明することとする。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be specifically described with reference to the accompanying drawings. In the present embodiment, a cleaning processing system configured to carry in, cleaning, drying, and unloading semiconductor wafers (wafers) in a batch manner and a cleaning processing method using the cleaning processing system will be described. Moreover, in this embodiment, the case where isopropyl alcohol (IPA) which is a volatile solvent is used about the drying process using the chemical | medical agent which is 1 process in a washing | cleaning process process is demonstrated.
図1は洗浄処理システム1の斜視図であり、図2はその平面図である。これら図1および図2に示されるように、洗浄処理システム1は、ウエハWを収納可能なキャリア(基板収納容器)Cの搬入出が行われるイン・アウトポート(容器搬入出部)2と、ウエハWに対して洗浄処理を実施する洗浄処理ユニット3と、
イン・アウトポート2と洗浄処理ユニット3との間に設けられ、洗浄処理ユニット3に対してキャリアCの搬入出を行うためのステージ部4と、キャリアCを洗浄するキャリア洗浄ユニット5と、複数のキャリアCをストックするキャリアストックユニット6とを備えている。なお、参照符号7は電源ユニットであり、8は薬液貯蔵ユニットである。
FIG. 1 is a perspective view of the
A stage unit 4 provided between the in / out
イン・アウトポート2は、4個のキャリアCを載置可能な載置台10と、キャリアCの配列方向に沿って形成された搬送路11と、載置台10のキャリアCをステージ部4に搬送し、かつステージ部4のキャリアCを載置台10に搬送するためのキャリア搬送機構12とを有している。キャリア搬送機構12は、搬送路11をキャリアCの配列方向に沿って移動可能である。
The in / out
キャリアC内には、例えば、25枚または26枚のウエハWが収納可能となっており、キャリアCはウエハWの面が略垂直(略鉛直)となるように載置台10に配置される。 For example, 25 or 26 wafers W can be stored in the carrier C, and the carrier C is arranged on the mounting table 10 so that the surface of the wafer W is substantially vertical (substantially vertical).
ステージ部4は、キャリアCを載置するステージ13を有しており、ステージ13にはスライドステージ32が設けられている。イン・アウトポート2からこのスライドステージ32に搬送され、載置されたキャリアCは、スライドステージ32を駆動することによって洗浄処理ユニット3内に搬入され、洗浄処理ユニット3内のキャリアCはこのスライドステージ32によりステージ13に搬出される。
The stage unit 4 includes a
なお、ステージ13には、載置台10からキャリア搬送機構12のアームを回転させてキャリアCが載置されるため、載置台10とは逆向きにキャリアCが載置される。このため、ステージ13にはキャリアCの向きを戻すための反転機構(図示せず)が設けられている。
In addition, since the carrier C is mounted on the
ステージ部4と洗浄処理ユニット3との間には仕切壁14が設けられており、仕切壁14にはキャリアCの搬入出用の開口部14aが形成されている。この開口部14aはシャッター15により開閉可能となっており、処理中にはシャッター15が閉じられ、キャリアCの搬入出時にはシャッター15が開けられる。
A
キャリア洗浄ユニット5は、キャリア洗浄槽16を有しており、後述するように洗浄処理ユニット3においてウエハWが取り出されて空になったキャリアCが洗浄されるようになっている。
The
キャリアストックユニット6は、洗浄前のウエハWが入ったキャリアCや洗浄前のウエハWが取り出されて空になったキャリアCを一時的に待機させるためや、洗浄後のウエハWを収納するための空のキャリアCを予め待機させるためのものであり、上下方向に複数のキャリアCがストック可能となっており、その中の所定のキャリアCを載置台10に載置したり、その中の所定の位置にキャリアCをストックしたりするためのキャリア移動機構を内蔵している。 The carrier stock unit 6 temporarily waits for the carrier C containing the wafer W before cleaning or the carrier C that is empty after the wafer W before cleaning is taken out, or for storing the wafer W after cleaning. A plurality of carriers C can be stocked in the vertical direction, and a predetermined carrier C among them can be placed on the mounting table 10, A carrier moving mechanism for stocking the carrier C at a predetermined position is incorporated.
次に、洗浄処理ユニット3について説明する。図3は洗浄処理ユニット3の内部を示す断面図、図4および図5は洗浄処理ユニット3の洗浄処理部20を示す断面図である。
Next, the
図3は、ロータ24とウエハ保持部材42との間でウエハWの受け渡しができるように、外側チャンバ26と内側チャンバ27を退避位置(図3において実線で示される位置)へ移動させた状態を示している。また、図4は、外側チャンバ26を用いてロータ24に保持されたウエハWの洗浄処理を行うために、外側チャンバ26が処理位置にあり、内側チャンバ27が退避位置にある状態を示している。さらに、図5は、内側チャンバ27を用いてロータ24に保持されたウエハWの洗浄処理を行うために、内側チャンバ27が処理位置にある状態を示している。なお、内側チャンバ27が処理位置にあるときには、外側チャンバ26も処理位置にある。
FIG. 3 shows a state in which the
洗浄処理ユニット3の内部には、図3に示すように、洗浄処理部20と、洗浄処理部20の直下にキャリアCを待機させるキャリア待機部30と、キャリア待機部30に搬入されたキャリアCと、洗浄処理部20に設けられたロータ24との間でウエハWを搬送するウエハ移動機構40とが設けられている。
ステージ13上に設けられたスライドステージ32は、例えば、3段に構成されており、上方の2段をそれぞれキャリア待機部30側にスライドさせることで、最上段のステージに載置されたキャリアCをキャリア待機部30におけるロータ24の直下に搬入して待機させることが可能となっている。
As shown in FIG. 3, the
The
図3に示すように、キャリア待機部30上方のウエハ移動路の途中には、ウエハ移動路を挟んで前後に発光子および受光子が配置された複数対の光学センサーからなるウエハ検知部31が設けられており、このウエハ検知部31をウエハが通過することにより、ウエハWの枚数確認および正規に保持されていないウエハ(いわゆるジャンプスロット)の有無の確認が行われる。
As shown in FIG. 3, in the middle of the wafer movement path above the
ウエハ移動機構40は、ウエハWを保持するウエハ保持部材41と、鉛直に配置されウエハ保持部材41を支持する支持棒42と、支持棒42を介してウエハ保持部材41を昇降する昇降駆動部43とを有している。昇降駆動部43によりウエハ保持部材41を昇降させることで、キャリア待機部30にあるキャリアCに収納された洗浄処理前のウエハWを上方の洗浄処理部20のロータ24内に移動させ、またはロータ24内の洗浄処理後のウエハWをキャリア待機部30にあるキャリアCに移動させるようになっている。
The
このような動作を実現するために、キャリアCが載置されたスライドステージ32の最上段のステージは額縁状に形成されおり、ウエハ保持部材41がこの最上段のステージを通過することができるようになっている。
In order to realize such an operation, the uppermost stage of the
ウエハ保持部材41にはウエハWを保持するための保持溝が所定のピッチで、例えば、52箇所形成されている。洗浄処理前のウエハWをロータ24へ搬入するために使用する保持溝と、洗浄処理が終了した後のウエハWを保持するための保持溝とを区別して用いることができるように、ウエハWはこれらの保持溝に1箇所飛ばしに保持される。こうして、洗浄後のウエハWへのパーティクル等の付着を防止することができる。
For example, 52 holding grooves for holding the wafer W are formed in the
洗浄処理部20は、ウエハWのエッチング処理後にレジストマスク、エッチング残渣であるポリマー層等を除去するものであり、鉛直に設けられた支持壁18と、回転軸23aが水平となるように支持壁18に固定部材18aによって固定されたモータ23と、モータ23の回転軸23aに取り付けられたロータ24と、モータ23の回転軸23aを囲繞する円筒状の支持筒25と、ロータ24に保持されたウエハWに対して所定の洗浄処理を施す外側チャンバ26および内側チャンバ27とを有している。
The
ロータ24は、所定間隔で配置された一対の円盤70a・70bと、円盤70a・70b間に架設された係止部材71a・71b(71bは71aの背面に位置する)・72a・72b(72bは72aの背面に位置する)と、円盤70a・70b間に設けられた開閉動作を行うことができるウエハ保持部材83a・83b(83bは83aの背面に位置する)とを有する。ロータ24においては、ウエハWは係止部材71a・71b・72a・72bによって係止され、かつ、ウエハ保持部材83a・83bにより保持される。こうして、ロータ24は、例えば、複数(例えば26枚)のウエハWを略垂直な姿勢で水平方向に所定間隔で並べて保持することができる。モータ23を駆動すると回転軸23aを介してロータ24が回転し、ロータ24に保持されたウエハWも回転する。
The
外側チャンバ26は円筒状をなし、処理位置(図3において二点鎖線で示される位置または図4および図5に示す位置)と退避位置(図3において実線で示される位置)との間で移動可能に構成されており、ウエハWの搬入出時には図3に示すように退避位置に位置される。図4に示すように、外側チャンバ26が処理位置にあり、内側チャンバ27が退避位置にある際には、外側チャンバ26と、モータ23側の垂直壁26aと、先端側の垂直壁26bとで処理容器が構成され、その中に処理空間51が規定される。
The
垂直壁26aは支持筒25に取り付けられており、支持筒25と回転軸23aとの間にはベアリング28が設けられている。また、垂直壁26aと支持筒25の先端部はラビリンスシール29によりシールされており、モータ23で発生するパーティクル等が処理空間51に侵入することが防止されている。支持筒25のモータ23側端部には外側チャンバ26、内側チャンバ27を係止する係止部材25aが設けられている。
The
内側チャンバ27は外側チャンバ26よりも径が小さい円筒状の形状を有する。内側チャンバ27は図5に示す処理位置と図3と図4に示す支持筒25の外側の退避位置との間で移動可能であり、ウエハWの搬入出時には外側チャンバ26とともに退避位置に保持される。また、図5に示すように内側チャンバ27が処理位置にある際には、内側チャンバ27と垂直壁26a・26bによって処理容器が構成され、その中に処理空間52が規定される。処理空間51および処理空間52はシール機構により密閉空間とされる。
The
外側チャンバ26の上壁部には、多数の吐出口53を有する2本(図3から図5において1本のみ図示)の吐出ノズル54が、吐出口53が水平方向に並ぶようにして取り付けられている。吐出ノズル54からは、図示しない供給源から供給された純水、IPA等の揮発性薬剤、各種薬液や、窒素(N2)ガス等が吐出可能となっている。吐出ノズル54から吐出される上記液体は、例えば、吐出口53から円錐状に裾拡がりに拡がる液膜の形で吐出され、ウエハWに均一に液体が当たるように吐出することができるようになっている。
Two discharge nozzles 54 (only one is shown in FIGS. 3 to 5) having a large number of
内側チャンバ27の上壁部には、多数の吐出口55を有する2本(図3から図5において1本のみ図示)の吐出ノズル56が、吐出口55が水平方向に並ぶようにして取り付けられている。吐出ノズル56からは、図示しない供給源から供給された各種薬液、純水、IPA、N2ガス等が吐出可能となっている。吐出ノズル56から吐出される上記液体は、例えば、吐出口55から扇状に拡がる液膜の形で吐出され、1箇所の吐出口55から吐出される液体が1枚のウエハに当たるように吐出することができるようになっている。
Two discharge nozzles 56 (only one is shown in FIGS. 3 to 5) having a large number of
これらの吐出ノズル54・56は外側チャンバ26・内側チャンバ27にそれぞれ2本より多く設けることが可能であり、また、吐出ノズル54・56の他にも、処理液の種類に応じて異なる構造のノズルを、各チャンバの上部以外の場所に設けることもできる。これら吐出ノズル54・56としては、例えば、PTFEやPFA等のフッ素樹脂製のものや、ステンレス製のものが好適に用いられる。
More than two of these
内側チャンバ27の上部内壁には、円盤70a・70bの内側面(ウエハWに対向する面)を水洗等するために純水等を吐出する図示しない吐出ノズルが配置されている。また、垂直壁26a・26bには、円盤70a・70bのそれぞれ垂直壁26a・26bと対向する外側面を水洗等するための純水等を吐出する吐出ノズル74a・74bが設けられている。
Disposed on the upper inner wall of the
図6の(a),(b)に、外側チャンバ26が有する各種吐出ノズルの取り付け位置を示す正面図と展開図を示す。外側チャンバ26の斜め上方には3個のIPA吐出ノズル76aが水平方向1列に配置され、外側チャンバ26の横方向(水平方向)には3個のIPA吐出ノズル76bが水平方向1列に配置されている。IPA吐出ノズル76aと76bとは、同じ構造を有している。
FIGS. 6A and 6B are a front view and a development view showing the attachment positions of various discharge nozzles of the
上述したように、吐出ノズル54からもIPAを吐出することが可能であるが、吐出ノズル54からはIPAは液膜状で吐出されるのに対し、IPA吐出ノズル76a・76bからはIPAはミスト状(霧状)として吐出されるという相違点がある。
As described above, IPA can be discharged from the
IPA吐出ノズル76a・76bからは、ミスト状のIPAがウエハW全体に散布されるように、略三角錐状等のように裾拡がりにミスト状のIPAが吐出されることが好ましい。
From the
IPA吐出ノズル76a・76bは、IPAをミスト状として吐出することができる限りにおいて、その形状が限定されることはない。例えば、先端部に小孔や幅の狭いスリット等を形成して、その小孔等からIPAが吐出される構成とすることができる。
The shapes of the
水平方向に1列に配置された3個のIPA吐出ノズル76aから吐出されるミスト状のIPAがウエハWに散布される前に互いにぶつかり合うことがないように、個々のIPA吐出ノズル76aの間隔とIPAが拡がる角度が調節されている。
The distance between the individual
また、IPA吐出ノズル76a間の間隔DとIPA吐出ノズル76b間の間隔Dは同じであるが、IPA吐出ノズル76aとIPA吐出ノズル76bは、外側チャンバ27の長手方向においてD/2ずれた位置に配置されている。このようにIPA吐出ノズル76a・76bを互いにずらして配置することで、ウエハWに均一にミスト状のIPAを散布することができる。
Further, the interval D between the
図7の(a),(b)は、IPA吐出ノズル76aを例として、IPA吐出ノズルからミスト状IPAを吐出させる機構の態様を示す模式図である。IPA吐出ノズル76aからミスト状のIPAを吐出させるためには、IPA吐出ノズル76aの吐出口に小孔やスリット等を形成した所定の形状とし、図7の(a),(b)に示すようにガス圧を利用してIPAを吐出口に衝突させる。これにより、容易にIPAをミスト状とすることが可能である。
FIGS. 7A and 7B are schematic views showing an aspect of a mechanism for discharging the mist-like IPA from the IPA discharge nozzle by taking the
IPA吐出ノズル76aにはIPA供給管77が取り付けられ、IPA供給管77の他端にはN2ガスとIPAの切替とこれらの供給/停止を制御する切替制御弁78aが設けられている。また、切替制御弁78aは配管81を介してIPA供給源79と連通し、N2ガスを供給/停止を制御するN2制御弁78bとも連通している。N2制御弁78bにはN2ガス供給源80から配管82を介してN2ガスが供給される。
An
IPAの供給の方法としては、例えば図7の(a)に示されるように、切替制御弁78aを操作して所定量(例えば100ml)のIPAをIPA供給管77内に滞留するように供給しておき、その後にN2制御弁78bおよび切替制御弁78aを開いてN2ガス供給源80から所定の圧力でIPA供給管77にN2ガスを供給し、そのガス圧でIPAをIPA吐出ノズル76aからミスト状に吐出させる方法を採用することができる。
As a method for supplying IPA, for example, as shown in FIG. 7A, a switching
また、図7の(b)に示されるように、例えば、合計100mlのIPAと所定量のN2ガスが交互にIPA供給管77内に滞留するように切替制御弁78aとN2制御弁78bを操作した後に、N2ガスをIPA供給管77に導入することにより、IPA供給管77内に滞留しているIPAをIPA吐出ノズル76aからミスト状として間欠的に吐出させることもできる。図7の(b)ではIPAがほぼ等量に分割されてIPA供給管77内に滞留している状態が示されているが、IPAは等量に分割される必要はなく、分割されたIPA間のN2ガスの量もそれぞれ異なっていてもよい。
Further, as shown in FIG. 7B, for example, the switching
このようなIPAの吐出方法を用いた場合には、供給するIPAの量が例えば100mlと少量であっても、ウエハWの表面に均一にIPAのミストを付着させことができるため、従来のようにIPAを液状でウエハWに供給、塗布する場合と比べると、IPAの使用量を著しく減少させることが可能となる。こうして、IPAの消費量が低減されれば処理コストが低減される。
また、ウエハWをIPA貯留槽中に浸漬する方法を用いる方法と比較すると、IPA貯留槽を設ける必要がなく、IPA貯留槽を用いた場合に生ずる経時的なIPAの汚れによるパーティクル等のウエハWへの再付着の問題も生じない。
When such an IPA discharge method is used, even if the amount of IPA supplied is as small as 100 ml, for example, IPA mist can be uniformly attached to the surface of the wafer W. In comparison with the case where IPA is supplied and applied to the wafer W in a liquid state, the amount of IPA used can be significantly reduced. Thus, if the consumption of IPA is reduced, the processing cost is reduced.
Further, as compared with the method using the method of immersing the wafer W in the IPA storage tank, it is not necessary to provide the IPA storage tank, and the wafer W such as particles due to IPA contamination over time that occurs when the IPA storage tank is used. There is no problem of reattachment.
なお、IPA吐出ノズル76a・76bからは純水をも吐出することができるようにすることも好ましい。この場合には、例えば、ミスト状の純水をウエハWに供給してウエハWの表面を均一に濡らした後に、ミスト状のIPAをウエハWに供給する。その後にロータ24を回転させてウエハWからIPAを振り切ることで、ウエハWの表面をより均一に乾燥させることができる。
It is also preferable that pure water can be discharged from the
垂直壁26bの下部には、図4の状態において処理空間51から使用済みの洗浄液を排出する第1の排液ポート61が設けられており、第1の排液ポート61の上方には図5の状態において処理空間52から使用済みの洗浄液を排出する第2の排液ポート62が設けられている。また、第1の排液ポート61および第2の排液ポート62には、それぞれ第1の排液管63および第2の排液管64が接続されている。
A
また、垂直壁26bの上部には、図4の状態において処理空間51を排気する第1の排気ポート65が設けられており、第1の排気ポート65の下方には図5の状態において処理空間52を排気する第2の排気ポート66が設けられている。また、第1の排気ポート65および第2の排気ポート66には、それぞれ第1の排気管67および第2の排気管68が接続されている。
In addition, a
次に、上述した洗浄処理システム1を用いたウエハWの洗浄処理方法について説明する。まず、載置台10の所定位置に処理すべきウエハWが収容されたキャリアCを載置する。続いて、キャリア搬送機構12を用いてこのキャリアCをステージ部4へ搬入して、ステージ13上に設けられたスライドステージ32上に載置する。続いて、スライドステージ32をキャリア待機部30側へ移動させ、また、外側チャンバ26および内側チャンバ27を待避位置にスライドさせた状態とする。この状態で昇降駆動部43によりウエハ保持部材41を上昇させると、ウエハ保持部材41は上昇途中でキャリアC内のウエハWを保持して、ウエハWを洗浄処理部20のロータ24内に移動させる。ウエハ保持部材41に保持されたウエハWの枚数が、上昇の途中にウエハ検知部31によって検査される。ロータ24にウエハWを保持させた後にウエハ保持部材41を降下させる。
Next, a method for cleaning the wafer W using the above-described
次に、外側チャンバ26を処理位置に戻し、続いて内側チャンバ27も処理位置にスライドさせて処理空間52を形成する。モータ23による回転駆動によりロータ24を所定回転速度で回転させて、ウエハWを回転させながら吐出ノズル56から、例えば、所定の薬液を吐出してレジスト除去処理を行う。この処理は1回または複数回行う。
Next, the
続いて、内側チャンバ27を待避位置へスライドさせて外側チャンバ26による処理空間51を形成し、純水によるリンス処理を行う。このリンス処理に際しては、モータ23による回転駆動によりロータ24を所定速度で回転させ、ウエハWを回転させながら、吐出ノズル54から純水を吐出させる。
Subsequently, the
このリンス処理が終了した後にIPA乾燥処理を行う。IPA乾燥処理の最初の工程は、IPA吐出ノズル76a・76bから所定量のミスト状のIPAをウエハW全体に散布するIPA供給工程である。このとき、ロータ24は停止した状態であってもよく、またウエハWの表面にIPAのミストが付着することができる程度に低速で回転させておいてもよい。ここで、「低速で回転」とは、ミスト状の薬剤がウエハWの表面に十分接触可能な回転速度で、後述する中速回転、高速回転よりも低い回転速度で回転させることを意味する。IPA供給工程においてロータ24を回転させる場合には、その回転速度は100rpm以下とすることが好ましい。
After this rinsing process is completed, an IPA drying process is performed. The first step of the IPA drying process is an IPA supply step of spraying a predetermined amount of mist-like IPA from the
IPA吐出ノズル76a・76bからミスト状のIPAを吐出させる方法としては、先に図7の(a),(b)を参照しながら説明したように、所定量のIPAをIPA供給管77内に滞留させて、N2ガスによるガス圧でIPA吐出ノズル76a・76bから吐出させる方法が挙げられる。
As a method of discharging the mist-like IPA from the
ウエハWの表面に付着したIPAのミストは、容易にウエハW上の水分と置換されるために、IPA供給工程後には、IPAの供給を停止してロータ24およびウエハWを中速回転させることにより水分およびIPAを振り切る第1乾燥処理を行う。ここで、中速回転とは、ミスト状の薬剤や、これが混入した水分を遠心力で振り切ることが可能な回転速度で、前述の低速回転より高い回転速度をいう。具体的には、第1乾燥処理におけるロータ24の回転速度は約100rpm以上300rpm以下とすることが好ましい。
Since the IPA mist adhering to the surface of the wafer W is easily replaced with moisture on the wafer W, the IPA supply process is stopped and the
この第1乾燥処理工程をこのような中速回転で行う主な理由は、高速回転は、ウエハWやロータ24から振り切られて飛ばされた水分やIPAが、外側チャンバ26の内壁等に当たって跳ね返り、再びウエハWに付着してウエハWを汚染するといった事態を生じるので、これを防止するためにある。このことを考慮すると、ウエハWやロータ24から振り切られた水分やIPAの跳ね返り等によるウエハWの汚染がない限りにおいて、上記範囲より高速でロータ24を回転させることも可能である。
The main reason for performing this first drying process step at such a medium speed rotation is that the high speed rotation causes the water and IPA shaken off from the wafer W and the
第1乾燥処理工程が終了した段階では、ウエハWやロータ24から大部分の水分およびIPAが振り切られていることから、次に、ウエハWを高速回転させてウエハWをほぼ乾燥した状態とする第2乾燥処理を行う。この第2乾燥処理工程においてロータ24やウエハWから飛散する水滴等は大きなものではないことから、外側チャンバ26の内壁等からの跳ね返り等が起こらず、良好な乾燥状態を得ることが可能となる。ここで、高速回転とは、前述の低速および中速回転に比べて回転速度が大きいことを意味し、約300rpm以上800rpm以下の回転速度が好ましい。このような第1乾燥工程と第2乾燥工程は、回転速度を連続的にまたは段階的に上げることによって連続して行っても構わない。
At the stage where the first drying process is completed, most of the moisture and IPA have been shaken off from the wafer W and the
このようなIPA乾燥処理、つまり、ロータ24に保持されたウエハWにミスト状のIPAを供給してウエハWを乾燥する方法を用いた場合には、IPA乾燥処理工程の前後でウエハWを他の装置へ搬送する必要がないために、装置の構造が簡単となり、また、ウエハWの搬送に伴って生ずるパーティクルの付着等の問題も回避される。さらに、ウエハWの搬送に要する時間を必要としないことから、スループットを上げることができる。
When such an IPA drying process, that is, a method of supplying a mist-like IPA to the wafer W held by the
なお、IPA吐出ノズル76a・76bからIPAのみならず、純水をも吐出することができる場合には、吐出ノズル54から純水をロータ24に保持されたウエハWに供給してリンス処理を行った後に、ミスト状の純水をウエハWに供給することによってウエハWの表面を均一に濡らし、その後にIPA乾燥処理を行うことで、ウエハWの表面をより均一に乾燥させることができる。こうして、ウォーターマークの発生をより効果的に防止することができる。
In addition, when not only IPA but also pure water can be discharged from the
IPA乾燥処理が終了した後には、吐出ノズル54から、例えばN2ガスを吐出させながらウエハWをより完全に乾燥させるガス乾燥処理を行う。このガス乾燥処理においては、ロータ24およびウエハWは静止した状態でもよく、また、例えば高速回転させる等、所定の回転速度で回転させてもよい。このガス乾燥処理により、IPA乾燥処理後にウエハWの表面に微量に残留するIPAがほぼ完全に除去される。
After the IPA drying process is completed, a gas drying process for drying the wafer W more completely while discharging, for example, N 2 gas from the
その後、外側チャンバ26を待避位置へスライドさせて図3に示した状態とし、先にウエハWをロータ24内へ搬入した際に使用された保持溝とは異なる保持溝でウエハWを受け取るようにウエハ保持部材41を上昇させる。洗浄処理が終了したウエハWを保持したウエハ保持部材41を降下させる際に、ウエハ検知部31により再びウエハWの枚数等が確認される。
Thereafter, the
ウエハ保持部材41がキャリア待機部30に待機しているキャリアCを通過する際に、ウエハWはキャリアCに収納される。スライドステージ32の駆動によってウエハWが収納されたキャリアCはステージ部4へ搬出され、次いでキャリア搬送機構12によりイン・アウトポート2の載置台10に載置され、作業者または自動搬送装置により搬出され、一連の洗浄処理が終了する。
The wafer W is stored in the carrier C when the
次に、本発明の他の実施形態について説明する。
上記実施態様では、リンス処理が終了した後のIPA乾燥処理における最初の工程として、IPA吐出ノズル76a・76bからミスト状のIPAをウエハW全体に散布するようにしたが、本実施形態では蒸気状のIPAを供給する。
Next, another embodiment of the present invention will be described.
In the above embodiment, as the first step in the IPA drying process after the rinsing process is completed, the mist-like IPA is sprayed from the
本実施形態においても、上記実施形態と同様、図6の(a),(b)に示すように配置されたIPA吐出ノズル76a・76bから蒸気状のIPAが吐出される。本実施形態においては、IPA吐出ノズル76a・76bからは、蒸気状のIPAがウエハW全体に散布されるように、略三角錐状等のように裾拡がりに蒸気状のIPAが吐出されることが好ましい。IPA吐出ノズル76a・76bは、IPAを蒸気状として吐出することができる限りにおいて、その形状が限定されることはない。
Also in this embodiment, vapor-like IPA is discharged from the
図8、図9は、IPA吐出ノズル76aを例として、IPA吐出ノズルから蒸気状IPAを吐出させる機構の態様を示す模式図である。図8、図9の機構は図7の(a),(b)の機構と類似しており、図7と同じものには同じ符号を付している。
FIG. 8 and FIG. 9 are schematic views showing an aspect of a mechanism for discharging vapor IPA from the IPA discharge nozzle, taking the
図8の機構は、IPA供給管77のIPAが滞留する部分の周囲にヒータ90が設けられている他は図7の機構と同様に構成されている。このような機構によりIPA吐出ノズル76aから蒸気状のIPAを吐出させる方法としては、切替制御弁78aを操作して所定量(例えば100ml)のIPAをIPA供給管77内に滞留するように供給しておき、ヒータ90によりIPA供給管77内のIPAを加熱して蒸気状とし、その後にN2制御弁78bおよび切替制御弁78aを開いてN2ガス供給源80からIPA供給管77にN2ガスを供給することが挙げられる。これにより、IPA供給管77内のIPA蒸気がIPA吐出ノズル76aから吐出される。この場合に上述の実施形態のようにIPAをミスト化する必要はないので、N2ガスの供給はゆっくりと行えばよい。
The mechanism of FIG. 8 is configured in the same manner as the mechanism of FIG. 7 except that a
図9の機構は、N2ガス供給源80の代わりに高温N2ガス供給源91が設けられている他は図7の機構と同様に構成されている。このような機構によりIPA吐出ノズル76aから蒸気状のIPAを吐出させる方法としては、切替制御弁78aを操作して所定量(例えば100ml)のIPAをIPA供給管77内に滞留するように供給しておき、その後にN2制御弁78bおよび切替制御弁78aを開いて高温N2ガス供給源91からIPA供給管77に高温のN2ガスを供給することが挙げられる。これにより、IPA供給管77内のIPAが高温のN2ガスによって蒸気状となり、この蒸気状のIPAがIPA吐出ノズル76aから吐出される。
The mechanism of FIG. 9 is configured in the same manner as the mechanism of FIG. 7 except that a high temperature N 2
このように蒸気状のIPAにより乾燥処理する場合にも、上記実施態様と全く同じ手順でウエハWの洗浄処理が行われる。 As described above, when the drying process is performed with the vapor IPA, the cleaning process of the wafer W is performed in exactly the same manner as the above embodiment.
このようなIPAの吐出方法を用いた場合にも、供給するIPAの量が例えば100mlと少量であっても、ウエハWの表面に均一にIPAの蒸気を付着させことができるため、従来のようにIPAを液状でウエハWに供給、塗布する場合と比べると、IPAの使用量を極端に減少させることが可能となる。こうして、IPAの消費量が低減されれば処理コストが低減される。 Even when such an IPA discharge method is used, even if the amount of IPA supplied is as small as 100 ml, for example, the IPA vapor can be uniformly adhered to the surface of the wafer W. Compared with the case where IPA is supplied and applied to the wafer W in liquid form, the amount of IPA used can be drastically reduced. Thus, if the consumption of IPA is reduced, the processing cost is reduced.
次に、本発明のさらに他の実施態様について説明する。
上記2つの実施態様では、複数枚のウエハを一度に処理する場合について説明したが、本発明の洗浄処理方法は、1枚のウエハを洗浄処理する場合にも適用することができる。
Next, still another embodiment of the present invention will be described.
In the above two embodiments, the case where a plurality of wafers are processed at a time has been described. However, the cleaning processing method of the present invention can also be applied to a case where a single wafer is cleaned.
図10は枚葉式の洗浄処理ユニット100の概略平面図であり、図11はその概略断面図である。例えば、ウエハWは、ウエハWが略水平となるように載置されたキャリアCと洗浄処理ユニット100との間で搬送装置によって搬送される。
FIG. 10 is a schematic plan view of a single wafer
洗浄処理ユニット100には、処理カップ122と、ウエハWを略水平に保持するスピンチャック123と、スピンチャック123に保持されたウエハWの下側に位置するように設けられたステージ124と、スピンチャック123に保持されたウエハWの表面に所定の洗浄液を供給する洗浄液供給機構180と、ミスト状または蒸気状のIPAをウエハWに供給するIPA供給機構190と、を有している。
The
処理カップ122は、固定されたアウターカップ122bと、昇降可能なインナーカップ122aからなり、スピンチャック123へウエハWが搬入され、またはスピンチャック123からウエハWが搬出される際には、図11の点線位置へ降下した状態に保持され、一方、洗浄処理中は図11の実線位置へ上昇した状態に保持される。アウターカップ122bの底部には、排気および洗浄液を排出するためのドレイン132が設けられている。
The
スピンチャック123は、スピンプレート126と、スピンプレート126の周縁の3箇所にそれぞれ等間隔に取り付けられた保持部材125aおよび支持ピン125bと、図示しない回転機構によって回転自在である中空状の回転軸127とを有している。スピンチャック123へウエハWが搬入される際には、ウエハWは支持ピン125bに支持される。
The
保持部材125aは、スピンプレート126に固定された支柱164と、支柱164に釣支された保持ピン165と、保持ピン165の下部に取り付けられた重錘163とからなり、スピンチャック123を回転させた際には、重錘163が遠心力によって回転の外側へ移動することで保持ピン165全体が傾斜して、保持ピン165の上部がウエハWの端面を保持する。
The holding
スピンプレート126の下方には、回転軸127を囲繞するように階段状のカバー128が設けられており、このカバー128は台座129に固定されている。カバー128の内周側には排気口131が形成されており、図示しない排気ポンプ等によって処理カップ122内の空気を吸引できるようになっている。
A step-
ステージ124は枢軸137によって支持されており、この枢軸137の下方には図示しない昇降機構が取り付けられている。この昇降機構を動作させることで、ステージ124を所定の高さ位置に上下させて、保持することができるようになっている。
The
例えば、スピンチャック123へウエハWが搬入され、またはスピンチャック123からウエハWが搬出される際には、ステージ124の下面に形成された円環状の突起部124aがスピンプレート126の上面に当接し、かつ、スピンプレート126の上面に形成された円環状の突起部126aがステージ124の下面に当接する位置にステージ124を降下させた状態とする。このようにステージ124とウエハWとの間隔を拡げることで、ウエハWの搬入出を容易に行うことができる。
For example, when the wafer W is loaded into the
ステージ124のほぼ中央を貫通するように、洗浄液供給孔141とガス供給孔142が設けられており、洗浄液供給孔141には洗浄液供給管141aが、ガス供給孔142にはガス供給管142aがそれぞれ取り付けられている。
A cleaning
洗浄液供給管141aを通して、各種の薬液や純水、IPA等の洗浄液が洗浄液供給孔141からウエハWの裏面に向けて吐出可能となっている。また、ガス供給管142aを通して、N2ガスがガス供給孔142からウエハWの裏面に向けて吐出可能となっている。つまり、洗浄処理ユニット100においては、ウエハWの裏面の洗浄と乾燥をも行うことができる。
Through the cleaning
洗浄液供給機構180は、スピンチャック123に保持されたウエハWの表面に各種の薬液や純水、IPA等の洗浄液またはN2ガスを供給する洗浄液吐出ノズル181と、洗浄液吐出ノズル181を保持する保持アーム182と、洗浄液吐出ノズル181がウエハWの表面の所定位置に移動するように、保持アーム182を支持して保持アーム182を回動させる支持回転軸183と、洗浄液吐出ノズル181に所定の洗浄液等を供給する図示しない洗浄液供給管と、を有している。支持回転軸183を所定角度回動させることによって、洗浄液吐出ノズル181をウエハW上の所定位置へ移動させて、また、ウエハW上をスキャンさせることができる。
The cleaning
IPA吐出機構190は、スピンチャック123に保持されたウエハWの表面にミスト状または蒸気状のIPAを供給するIPA吐出ノズル191と、IPA吐出ノズル191を保持する保持アーム192と、IPA吐出ノズル191がウエハWの表面の所定位置に移動するように、保持アーム192を支持して保持アーム192を回動させる支持回転軸193と、を有している。支持回転軸193を所定角度回動させることによって、IPA吐出ノズル191をウエハW上の所定位置へ移動させて、また、ウエハW上をスキャンさせることができる。
The
このような洗浄処理ユニット100を用いて、例えば、以下に記す洗浄処理を行うことができる。最初に、ウエハWをスピンチャック123に保持させ、スピンチャック123を静止させた状態または低速で回転させた状態で、洗浄液吐出ノズル181からウエハWの表面および裏面に向けて所定の薬液を供給し、ウエハWの表裏面が薬液に接した状態を所定時間保持する。こうして薬液処理が行われる。
Using such a
続いて、ウエハWから薬液を振り切るようにスピンチャック123を所定の回転速度で回転させる。このときに、回転するウエハWの表裏面に純水を供給して、ウエハWのリンス処理を行う。スピンチャック123の回転速度を下げて、ノズル保持アーム192をウエハW上で回動させながら、IPA吐出ノズル191からミスト状または蒸気状のIPAをウエハWの表面に向けて供給する。これと同時に、洗浄液供給孔141からはIPAをウエハWの裏面に向けて吐出する。
Subsequently, the
こうして、ウエハWの表面に供給するIPAの量を低減することができる。また、高い洗浄精度が要求されるウエハWの表面にウォーターマークが発生することを防止することができる。 Thus, the amount of IPA supplied to the surface of the wafer W can be reduced. In addition, it is possible to prevent a watermark from being generated on the surface of the wafer W that requires high cleaning accuracy.
その後、IPAのウエハWへの供給を停止して、スピンチャック123に保持されたウエハWを3000rpm〜5000rpmの高速で回転させる。こうして、ウエハWからIPAを振り切り、ウエハWを乾燥させることができる。このとき、N2ガスをウエハWに向けて供給することも好ましい。
Thereafter, the supply of IPA to the wafer W is stopped, and the wafer W held on the
以上、本発明の実施の態様について説明してきたが、本発明が上記実施の態様に限定されるものでないことはいうまでもなく、種々の変形が可能である。例えば、上記実施の態様では、IPAをミスト状または蒸気状にしてウエハWへ供給したが、IPAに代えて界面活性剤を添加した薬剤を用いることができる。このような界面活性剤が添加された薬剤をミスト状または蒸気状にしてウエハWに供給することで、ウエハWにウォーターマークが発生することを有効に防止することができる。界面活性剤が添加された薬剤のベースとなる溶剤は、水であってもよく、エーテル等の有機溶剤であってもよい。 Although the embodiments of the present invention have been described above, it goes without saying that the present invention is not limited to the above embodiments, and various modifications are possible. For example, in the above embodiment, IPA is supplied in the form of mist or vapor to the wafer W, but a chemical added with a surfactant in place of IPA can be used. By supplying the chemicals to which such a surfactant is added to the wafer W in the form of mist or vapor, it is possible to effectively prevent the generation of watermarks on the wafer W. The solvent serving as the base of the drug to which the surfactant is added may be water or an organic solvent such as ether.
また、上記実施の態様では外側チャンバ26および内側チャンバ27の2つの処理チャンバを用いて洗浄処理を行う場合について説明したが、チャンバは1つであってもよいし、3つ以上あってもよい。さらに、洗浄処理ユニット100にウエハWの表面に当接するブラシを設けて、ウエハWの表面をスクラブ洗浄することも可能である。上記実施の態様では本発明を半導体ウエハの洗浄処理に適用した場合について示したが、これに限らず、本発明は、液晶表示装置(LCD)用基板等、他の基板の洗浄処理にも適用することができる。
In the above embodiment, the case where the cleaning process is performed using the two processing chambers of the
1;洗浄処理システム
2;イン・アウトポート
3,100;洗浄処理ユニット
4;ステージ部
20;洗浄処理部
23;モータ
24;ロータ
26;外側チャンバ
27;内側チャンバ
30;キャリア待機部
40;ウエハ移動機構
51;処理空間
53・55;吐出口
54・56;吐出ノズル
76;IPA吐出ノズル
77;IPA供給管
78a;切替制御弁
78b;N2制御弁
79;IPA供給源
80;N2ガス供給源
91;高温N2ガス供給源
122;処理カップ
123;スピンチャック
180;洗浄液供給機構
190;IPA供給機構
W;半導体ウエハ(基板)
C;キャリア(基板収納容器)
DESCRIPTION OF
C: Carrier (substrate container)
Claims (15)
前記基板を停止または低速回転させた状態において、蒸気状の薬剤を前記基板に供給する第1工程と、
前記薬剤の供給を停止した後に前記基板を前記低速回転よりも高い回転速度で高速回転させることにより前記基板に付着した薬剤を振り切る第2工程と、
を有し、
前記第1工程では、薬剤を吐出するノズルに薬剤を供給する薬剤供給管に液体状の薬剤を所定量滞留させた後に、前記薬剤供給管の液体状の薬剤が滞留された部分の上流側から前記薬剤供給管に高温のガスを供給することにより、前記所定量の液体状の薬剤を前記高温のガスにより蒸気状とするとともに、この蒸気状の薬剤を前記ノズルを介して基板に供給することを特徴とする洗浄処理方法。 A method for cleaning a substrate held in a processing container,
A first step of supplying a vapor-form medicine to the substrate in a state where the substrate is stopped or rotated at a low speed;
A second step of shaking off the drug attached to the substrate by rotating the substrate at a higher speed than the low-speed rotation after stopping the supply of the drug;
Have
In the first step, after the liquid drug by a predetermined amount remaining in the drug supply pipe for supplying the agent to Nozzle for discharging a drug, upstream of the liquid drug is retained portion of the drug supply pipe by supplying a high-temperature gas to the drug supply pipe from the supply the liquid agent of the predetermined amount with a vaporous by the high-temperature gas, the substrate of this vapor form medicament through the nozzle A cleaning method characterized by the above.
基板を収容する処理容器と、
前記処理容器内で基板を保持する保持手段と、
前記保持手段を回転させる回転機構と、
前記洗浄液を前記基板に向けて吐出する洗浄液供給機構と、
液体状の薬剤を蒸気状として前記保持手段に保持された基板に供給する薬剤供給機構と、
を具備し、
前記薬剤供給機構は、前記液体状の薬剤を貯留する薬剤供給源と、前記蒸気状の薬剤を吐出するノズルと、前記薬剤供給源と前記ノズルとの間に設けられ、前記薬剤供給源から前記液体状の薬剤が送液される薬剤供給管と、前記薬剤供給管に前記液体状の薬剤を所定量滞留させる機構と、前記薬剤供給源と前記薬剤供給管の前記液体状の薬剤が滞留している部分との間から前記薬剤供給管に高温のガスを供給するガス供給機構とを有し、前記薬剤供給管に前記液体状の薬剤が所定量滞留された後、前記所定量の液体状の薬剤が前記ガス供給機構から供給された高温ガスにより加熱されて蒸気状となり、この蒸気状の薬剤が前記ノズルから吐出されることを特徴とする洗浄処理装置。 A cleaning processing apparatus for supplying a cleaning liquid to a substrate and performing a cleaning process,
A processing container for containing a substrate;
Holding means for holding the substrate in the processing container;
A rotation mechanism for rotating the holding means;
A cleaning liquid supply mechanism for discharging the cleaning liquid toward the substrate;
A drug supply mechanism for supplying a liquid medicament to the substrate held by the holding means as a vapor form,
Comprising
Wherein the agent supply mechanism, and a drug supply for storing the liquid medicament, and Roh nozzle that discharges the vapor form medicament, is provided between the nozzle and the drug source, the drug supply a drug supply pipe the liquid drug is fed from the front Symbol a mechanism for a predetermined amount residence said liquid drug in the drug supply pipe, the liquid agent of the drug supply pipe and the drug source There a gas supply mechanism for supplying a hot gas to the drug supply pipe from between the portion staying, after the previous SL agent supply pipe to the liquid drug is a predetermined amount residence, the plants cleaning apparatus, characterized in that the liquid drug quantitation said heated by the supplied hot gas from the gas supply mechanism becomes vaporous, this vaporous agent is ejected from the front Keno nozzle.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007260618A JP4777322B2 (en) | 2000-07-24 | 2007-10-04 | Cleaning processing method and cleaning processing apparatus |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000222863 | 2000-07-24 | ||
JP2000222863 | 2000-07-24 | ||
JP2007260618A JP4777322B2 (en) | 2000-07-24 | 2007-10-04 | Cleaning processing method and cleaning processing apparatus |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2001221274A Division JP4069316B2 (en) | 2000-07-24 | 2001-07-23 | Cleaning processing method and cleaning processing apparatus |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2008034872A JP2008034872A (en) | 2008-02-14 |
JP4777322B2 true JP4777322B2 (en) | 2011-09-21 |
Family
ID=39123906
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007260618A Expired - Fee Related JP4777322B2 (en) | 2000-07-24 | 2007-10-04 | Cleaning processing method and cleaning processing apparatus |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4777322B2 (en) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7950619B2 (en) | 2008-04-03 | 2011-05-31 | Ckd Corporation | Fluid device mounting structure |
JP5632860B2 (en) * | 2012-01-05 | 2014-11-26 | 東京エレクトロン株式会社 | Substrate cleaning method, substrate cleaning apparatus, and substrate cleaning storage medium |
JP6402216B2 (en) * | 2017-03-13 | 2018-10-10 | 株式会社Screenホールディングス | Substrate processing method and substrate processing apparatus |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3402932B2 (en) * | 1995-05-23 | 2003-05-06 | 東京エレクトロン株式会社 | Cleaning method and apparatus |
JPH0969509A (en) * | 1995-09-01 | 1997-03-11 | Matsushita Electron Corp | Cleaning/etching/drying system for semiconductor wafer and using method thereof |
JP2000124187A (en) * | 1998-10-16 | 2000-04-28 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | Substrate drying method and substrate dryer |
-
2007
- 2007-10-04 JP JP2007260618A patent/JP4777322B2/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2008034872A (en) | 2008-02-14 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US6863741B2 (en) | Cleaning processing method and cleaning processing apparatus | |
JP4570008B2 (en) | Liquid processing apparatus and liquid processing method | |
JP3958539B2 (en) | Substrate processing apparatus and substrate processing method | |
KR102566736B1 (en) | Substrate processing apparatus, substrate processing method, and storage medium | |
US6589359B2 (en) | Cleaning method and cleaning apparatus for substrate | |
KR100855129B1 (en) | Single peace type substrate cleaning method | |
CN106449470B (en) | Substrate liquid processing apparatus and substrate liquid processing method | |
JP5642574B2 (en) | Liquid processing apparatus and liquid processing method | |
JP5694118B2 (en) | Liquid processing apparatus and liquid processing method | |
JP2013128015A (en) | Substrate processing apparatus, substrate processing method, and storage medium | |
JP2003297788A (en) | Liquid treatment device and liquid treatment method | |
JP4069316B2 (en) | Cleaning processing method and cleaning processing apparatus | |
KR101583111B1 (en) | Liquid processing apparatus and liquid processing method | |
JP2001319849A (en) | Liquid processing device and liquid processing method | |
JP2007103956A (en) | Substrate treatment device | |
JP4777322B2 (en) | Cleaning processing method and cleaning processing apparatus | |
WO2017018481A1 (en) | Substrate processing device, substrate processing method, and storage medium | |
JP4007766B2 (en) | Liquid processing apparatus and liquid processing method | |
JP3984004B2 (en) | Substrate processing apparatus and substrate processing method | |
JP3958572B2 (en) | Substrate processing apparatus and substrate processing method | |
JP2001070861A (en) | Treatment of liquid and liquid treating device | |
JP4067076B2 (en) | Liquid processing method and liquid processing apparatus | |
JP5676362B2 (en) | Liquid processing apparatus and cleaning method for liquid processing apparatus | |
JP4091335B2 (en) | Liquid processing apparatus and liquid processing method | |
JP5220838B2 (en) | Liquid processing apparatus and liquid processing method |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100302 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100506 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20101130 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110121 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20110628 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20110629 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140708 Year of fee payment: 3 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |