JP4773497B2 - Masking material, solder paste printing method using the masking material, and solder bump forming method - Google Patents

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本発明は、基板に形成された電極にはんだペーストを印刷する際に用いるマスキング材料及び該マスキング材料を用いたはんだペーストの印刷方法に関するものであり、特に、ビヒクルとナノシリカとを含有するマスキング材料及び該マスキング材料を用いたはんだペーストの印刷方法に関する。   The present invention relates to a masking material used when printing a solder paste on an electrode formed on a substrate, and a solder paste printing method using the masking material, and in particular, a masking material containing a vehicle and nano silica, and The present invention relates to a solder paste printing method using the masking material.

電子機器の小型化、高機能化が進むにつれて、基板上の電子部品の小型化や高密度実装の要請が高まっている。かかる要請に対応するために、電極上にはんだバンプを形成し、このはんだバンプを利用して実装基板と電子部品を接続するフリップチップ実装法が広く利用されている。従来のはんだバンプの形成方法には、例えば、はんだ粉末とビヒクルとを混合したはんだペーストを、基板上に配列された電極パターンに従った開口部を有する印刷用メタルマスクを用いて印刷転写し、これをリフロー炉で加熱して、はんだペーストを溶融させた後、ビヒクル残渣を洗浄するという工法がある。しかし、印刷法では、メタルマスクの厚みと開口部の比に制約があることから、電極に供給できるはんだ量が十分ではなく、はんだバンプの量的不良が生じて接続信頼性が低いという問題がある。また、はんだペーストの加熱溶融時に、はんだペーストが電極領域の外側ににじみ出て、電極のはんだ量がさらに少なくなり、接続信頼性が一層低下するという問題がある。   As electronic devices become smaller and more functional, there is a growing demand for smaller and higher density electronic components on the board. In order to meet such a demand, a flip chip mounting method in which solder bumps are formed on electrodes and a mounting substrate and an electronic component are connected using the solder bumps is widely used. In a conventional method for forming solder bumps, for example, a solder paste in which solder powder and a vehicle are mixed is printed and transferred using a printing metal mask having openings according to electrode patterns arranged on a substrate, There is a method of cleaning the vehicle residue after heating this in a reflow furnace to melt the solder paste. However, the printing method has a limitation in the ratio between the thickness of the metal mask and the opening, so that the amount of solder that can be supplied to the electrode is not sufficient, and there is a problem that the solder bump has a quantitative defect and connection reliability is low. is there. Further, when the solder paste is heated and melted, the solder paste oozes out to the outside of the electrode region, and there is a problem that the amount of solder of the electrode is further reduced and the connection reliability is further lowered.

そこで、基板上のはんだペースト供給部の周囲に感光性樹脂を設けて、はんだペーストが電極領域からにじみ出るのを防止して、はんだバンプの不良発生を抑えることも行われている。しかし、はんだバンプ形成後に基板から感光性樹脂を剥離する作業が煩雑であるという問題がある。また、この感光性樹脂に代えて、洗浄による除去が容易であることから、はんだペースト用ビヒクルを用いることも試みられているが、はんだペーストの加熱溶融工程で、加熱硬化するビヒクルの形状がだれてしまい、ビヒクルのマスキングパターン精度が劣るという問題がある。   Therefore, a photosensitive resin is provided around the solder paste supply unit on the substrate to prevent the solder paste from oozing out from the electrode region, thereby suppressing the occurrence of solder bump defects. However, there is a problem that the operation of peeling the photosensitive resin from the substrate after forming the solder bumps is complicated. In addition, since it is easy to remove by washing instead of this photosensitive resin, it has been attempted to use a vehicle for solder paste. Therefore, there is a problem that the masking pattern accuracy of the vehicle is inferior.

このようなことから、特許文献1では、まず、ダミーチップにはんだパンプを形成し、はんだバンプの良否状態を検査してから、良品に形成されているはんだバンプのみを実際のチップに転写させることが開示されている。しかし、特許文献1のはんだバンプ形成方法は、検査工程、転写工程と工程が多く、生産性に劣る。
特願平10−99259
For this reason, in Patent Document 1, first, a solder bump is formed on a dummy chip, the quality state of the solder bump is inspected, and then only the solder bump formed on the non-defective product is transferred to the actual chip. Is disclosed. However, the solder bump forming method of Patent Document 1 has many inspection processes, transfer processes, and inferior productivity.
Japanese Patent Application No. 10-99259

本発明は上記従来技術の問題点に鑑み、加熱ダレを防止してマスキングパターンの精度を向上させ、また、はんだペーストの転写量を多くすることができ、さらに、加熱硬化後の洗浄性に優れたマスキング材料、該マスキング材料を用いたはんだペーストの印刷方法及びはんだバンプ形成方法を提供することを目的とする。   In view of the above problems of the prior art, the present invention can prevent heating sagging to improve the accuracy of the masking pattern, increase the transfer amount of the solder paste, and is excellent in cleanability after heat curing. An object of the present invention is to provide a masking material, a solder paste printing method and a solder bump forming method using the masking material.

本発明の第1の態様は、基板に形成された電極にはんだペーストを印刷するために用いるマスキング材料であって、前記はんだペーストに用いるビヒクルと主成分が同じであるビヒクルと、無機質の粉体と、を含有し、前記はんだペーストのビヒクルの残渣とともに洗浄除去できるマスキング材料である。マスキング材料にビヒクル単体を使用すると、マスキング材料の加熱硬化工程及びはんだ粉を加熱溶融させる工程において、マスクの形状がだれて、印刷前よりもマスクの幅が広がってしまう、いわゆる加熱ダレが生じるが、ビヒクルに無機粉体を添加することによりマスクの加熱ダレを防止できる。ここで、「マスキング材料」とは、基板にはんだペーストを所定のパターンで印刷転写するためのマスクに用いる材料を意味する。 A first aspect of the present invention is a masking material used for printing a solder paste on an electrode formed on a substrate, the vehicle having the same main component as the vehicle used for the solder paste, and an inorganic powder And a masking material that can be cleaned and removed together with the vehicle residue of the solder paste . If a vehicle alone is used for the masking material, the mask shape is distorted in the heat curing step of the masking material and the step of heating and melting the solder powder, so that the mask becomes wider than before printing, so-called heating sagging occurs. By adding an inorganic powder to the vehicle, the sagging of the mask can be prevented. Here, the “masking material” means a material used for a mask for printing and transferring a solder paste in a predetermined pattern onto a substrate.

本発明の第2の態様は、前記無機質の粉体が、親水性ナノシリカであることを特徴とするマスキング材料である。   According to a second aspect of the present invention, there is provided a masking material characterized in that the inorganic powder is hydrophilic nanosilica.

本発明の第3の態様は、前記無機質の粉体の含有量が、2質量%以上15質量%以下であることを特徴とするマスキング材料である。   A third aspect of the present invention is a masking material characterized in that the content of the inorganic powder is 2% by mass or more and 15% by mass or less.

本発明の第4の態様は、粘度が5Pa・s以上1000Pa・s以下であることを特徴とするマスキング材料である。この「粘度」は、室温における粘度である。   A fourth aspect of the present invention is a masking material having a viscosity of 5 Pa · s or more and 1000 Pa · s or less. This “viscosity” is the viscosity at room temperature.

本発明の第5の態様は、基板上の電極が設けられていない領域に、はんだペーストに用いるビヒクルと主成分が同じであるビヒクルと、無機質の粉体と、を含有し、前記はんだペーストのビヒクルの残渣とともに洗浄除去できるマスキング材料を供給する工程と、前記マスキング材料を加熱硬化する工程と、前記電極が設けられていない領域に隣接する電極が設けられている領域に、はんだ粉と前記ビヒクルを含有したはんだペーストを供給する工程と、を備えたことを特徴とするマスキング材料を用いたはんだペーストの印刷方法である。「電極が設けられていない領域」とは、基板上に配置された電極と電極との間の領域のことである。 According to a fifth aspect of the present invention, a region of the substrate on which no electrode is provided includes a vehicle having the same main component as the vehicle used for the solder paste, and an inorganic powder . A step of supplying a masking material which can be washed and removed together with a residue of the vehicle; a step of heat-curing the masking material; and a region where the electrode adjacent to the region where the electrode is not provided is provided with solder powder and the vehicle And a solder paste printing method using a masking material, characterized by comprising: The “region where no electrode is provided” is a region between the electrodes arranged on the substrate.

本発明の第6の態様は、基板上の所定部位に形成された電極配列領域の周囲に、はんだペーストに用いるビヒクルと主成分が同じであるビヒクルと、無機質の粉体と、を含有し、前記はんだペーストのビヒクルの残渣とともに洗浄除去できるマスキング材料を供給する工程と、前記マスキング材料を加熱硬化する工程と、前記電極配列領域に、はんだ粉と前記ビヒクルを含有したはんだペーストを供給する工程と、を備えたことを特徴とするマスキング材料を用いたはんだペーストの印刷方法である。ここで、「基板上の所定部位」とは、ダイシング後の基板表面の外縁部や基板表面の中央部などのことである。また、「電極配列領域」とは、複数個の電極が所定の間隔で配列されている領域をいう。 According to a sixth aspect of the present invention, a vehicle having the same main component as the vehicle used for the solder paste and an inorganic powder around the electrode array region formed in a predetermined portion on the substrate , A step of supplying a masking material that can be cleaned and removed together with a vehicle residue of the solder paste, a step of heat-curing the masking material, and a step of supplying a solder paste containing solder powder and the vehicle to the electrode array region; And a solder paste printing method using a masking material. Here, the “predetermined portion on the substrate” means an outer edge portion of the substrate surface after dicing, a center portion of the substrate surface, or the like. The “electrode arrangement region” refers to a region where a plurality of electrodes are arranged at a predetermined interval.

本発明の第7の態様は、基板上に形成されたアラインメントマーク部に、はんだペーストに用いるビヒクルと主成分が同じであるビヒクルと、無機質の粉体と、を含有し、前記はんだペーストのビヒクルの残渣とともに洗浄除去できるマスキング材料を供給する工程と、前記マスキング材料を加熱硬化する工程と、基板上の所定部位に形成された電極配列領域に、はんだ粉と前記ビヒクルを含有したはんだペーストを供給する工程と、を備えたことを特徴とするマスキング材料を用いたはんだペーストの印刷方法である。アラインメントマークとは基板に実装される半導体素子との位置合わせ用の印である。 According to a seventh aspect of the present invention, the alignment mark portion formed on the substrate contains a vehicle having the same main component as the vehicle used for the solder paste, and an inorganic powder, and the vehicle of the solder paste Supplying a masking material that can be cleaned and removed together with the residue , heating and curing the masking material, and supplying a solder paste containing the solder powder and the vehicle to an electrode array region formed at a predetermined position on the substrate And a solder paste printing method using a masking material. The alignment mark is a mark for alignment with a semiconductor element mounted on a substrate.

本発明の第8の態様は、前記マスキング材料を、基板上に形成されたアラインメントマーク部にさらに供給することを特徴とする請求項6に記載のマスキング材料を用いたはんだペーストの印刷方法である。   The eighth aspect of the present invention is the solder paste printing method using the masking material according to claim 6, wherein the masking material is further supplied to an alignment mark portion formed on the substrate. .

本発明の第9の態様は、前記無機質の粉体が、親水性ナノシリカであることを特徴とするマスキング材料を用いたはんだペーストの印刷方法である。   A ninth aspect of the present invention is a solder paste printing method using a masking material, wherein the inorganic powder is hydrophilic nanosilica.

本発明の第10の態様は、前記無機質の粉体の含有量が、2質量%以上15質量%以下であることを特徴とするマスキング材料を用いたはんだペーストの印刷方法である。   A tenth aspect of the present invention is a solder paste printing method using a masking material, wherein the content of the inorganic powder is 2% by mass or more and 15% by mass or less.

本発明の第11の態様は、前記マスキング材料の粘度が5Pa・s以上1000Pa・s以下であることを特徴とするマスキング材料を用いたはんだペーストの印刷方法である。この「粘度」は、室温における粘度である。   An eleventh aspect of the present invention is a solder paste printing method using a masking material, wherein the masking material has a viscosity of 5 Pa · s or more and 1000 Pa · s or less. This “viscosity” is the viscosity at room temperature.

本発明の第12の態様は、前記基板が、樹脂基板または半導体ウエハであることを特徴とするマスキング材料を用いたはんだペーストの印刷方法である。   A twelfth aspect of the present invention is a solder paste printing method using a masking material, wherein the substrate is a resin substrate or a semiconductor wafer.

本発明の第13の態様は、請求項1ないし4のいずれか1項に記載のビヒクルを含有したマスキング材料を、基板に形成された電極上以外の所定部位に供給して、前記マスキング材料を加熱硬化する工程と、前記電極上にビヒクルを含有したはんだペーストを供給して加熱溶融する工程と、前記はんだペーストのビヒクル残渣とともに前記マスキング材料を洗浄する工程と、を備えたことを特徴とするはんだバンプ形成方法である。   According to a thirteenth aspect of the present invention, the masking material containing the vehicle according to any one of claims 1 to 4 is supplied to a predetermined portion other than an electrode formed on a substrate, and the masking material is supplied. A step of heating and curing; a step of supplying and melting a solder paste containing a vehicle on the electrode; and a step of washing the masking material together with a vehicle residue of the solder paste. This is a solder bump forming method.

本発明の第1、5、6、7の態様によれば、マスキング材料にビヒクルを使用しているので、はんだ粉の加熱溶融工程の後に行うビヒクル残渣の洗浄工程にて、マスキング材料も一緒に除去でき、生産効率が向上する。マスキング材料であるビヒクルに無機質の粉体が含有していると、マスキング材料の加熱硬化工程及びはんだ粉の加熱溶融工程において、マスクの形状がだれるのを抑えられるので、マスクのパターニング精度が向上する。さらに、基板上にマスキング材料を重ね印刷することにより、マスキング材料の転写量を増やしてマスクの膜厚を厚くすることができるので、メタルマスクよりも電極上におけるはんだペーストの供給量を増やすことができ、接続信頼性が向上する。   According to the first, fifth, sixth, and seventh aspects of the present invention, since the vehicle is used as the masking material, the masking material is also used in the cleaning step of the vehicle residue performed after the heating and melting step of the solder powder. It can be removed and production efficiency is improved. When inorganic powder is contained in the masking material vehicle, the mask pattern can be prevented from sagging in the masking material heat curing process and solder powder heating and melting process, improving mask patterning accuracy. To do. Furthermore, by overprinting the masking material on the substrate, it is possible to increase the transfer amount of the masking material and increase the film thickness of the mask, so that it is possible to increase the supply amount of solder paste on the electrode rather than the metal mask. Connection reliability is improved.

本発明の第1、6の態様によれば、マスキング材料の加熱硬化工程及びはんだ粉の加熱溶融工程において、マスクの形状がだれるのを抑えられるので、マスクが基板に配置された電極に接するのを防止できる。さらに、マスクの加熱ダレによるマスクの膜厚低減が防止できるので、はんだペーストがマスクを超えて余分な部分に流れるのを回避し、また、マスク近傍の電極のはんだ量が低下するのを防ぐことができる。   According to the first and sixth aspects of the present invention, since the mask shape can be prevented from sagging in the heat curing step of the masking material and the heat melting step of the solder powder, the mask is in contact with the electrode disposed on the substrate. Can be prevented. Furthermore, since the mask thickness can be prevented from being reduced due to heat sagging of the mask, it is possible to prevent the solder paste from flowing beyond the mask to the excess part, and to prevent the solder amount of the electrode near the mask from being reduced. Can do.

本発明の第7、8の態様によれば、電極と同じ材料からなるアラインメントマーク部にマスキング材料が供給されるので、その後のはんだ粉の加熱溶融の際、はんだペーストのアラインメントマーク部への拡散が起こらず、アラインメントマーク部に隣接する電極のはんだが不足する現象を防止できる。   According to the seventh and eighth aspects of the present invention, since the masking material is supplied to the alignment mark portion made of the same material as the electrode, the diffusion of the solder paste to the alignment mark portion during subsequent heat melting of the solder powder. This prevents the phenomenon that the solder of the electrode adjacent to the alignment mark portion is insufficient.

本発明の第2、9の態様によれば、親水性ナノシリカを用いることにより、マスキング材料の加熱硬化工程及びはんだ粉の加熱溶融工程におけるマスクの加熱ダレを防止する効果が特に向上する。また、親水性ナノシリカは市販されており、ナノシリカ粒子の表面処理等、特別な処理を施さなくても使用できるので、マスキング材料の製造が容易である。   According to the second and ninth aspects of the present invention, by using hydrophilic nanosilica, the effect of preventing the mask from sagging in the masking material heating and curing step and the solder powder heating and melting step is particularly improved. In addition, hydrophilic nanosilica is commercially available and can be used without any special treatment such as surface treatment of nanosilica particles, so that the masking material can be easily produced.

本発明の第3、10の態様によれば、無機粉体の含有量を2〜15質量%とすることで、加熱ダレ抑制効果を有しつつ、マスキング材料の粘度を基板上への印刷転写に適した範囲に抑えることができるので、生産効率が向上する。また、マスキング材料の加熱硬化工程及びはんだ粉の加熱溶融工程におけるマスクの加熱ダレ抑制効果にムラが発生するのを防止できるので、マスキングパターンの精度が向上する。   According to the third and tenth aspects of the present invention, by setting the content of the inorganic powder to 2 to 15% by mass, the viscosity of the masking material can be transferred onto the substrate while having the effect of suppressing heat sag. Therefore, the production efficiency can be improved. Further, since it is possible to prevent unevenness from occurring in the effect of suppressing the heating sag of the mask in the step of heating and curing the masking material and the step of heating and melting the solder powder, the accuracy of the masking pattern is improved.

本発明の第4、11の態様によれば、マスキング材料の粘度が5Pa・s以上1000Pa・s以下なので、基板上へのマスキング材料の印刷転写に適した粘度であり、生産効率が向上する。   According to the fourth and eleventh aspects of the present invention, since the masking material has a viscosity of 5 Pa · s or more and 1000 Pa · s or less, the viscosity is suitable for printing transfer of the masking material onto the substrate, and the production efficiency is improved.

本発明の第12の態様によれば、前記基板が、樹脂基板または半導体ウエハなので、樹脂基板の場合には、インターポーザ基板(再配線基板)に広く利用でき、半導体ウエハの場合には、半導体チップを高密度に実装するウエハに適用できるので、適用範囲が広い。   According to the twelfth aspect of the present invention, since the substrate is a resin substrate or a semiconductor wafer, in the case of a resin substrate, it can be widely used as an interposer substrate (redistribution substrate). In the case of a semiconductor wafer, a semiconductor chip is used. Can be applied to a wafer mounted with high density, so the application range is wide.

本発明の第13の態様によれば、はんだペーストのビヒクル残渣とともに前記マスキング材料を洗浄することができるので、はんだバンプ形成の効率が向上する。   According to the thirteenth aspect of the present invention, since the masking material can be cleaned together with the vehicle residue of the solder paste, the efficiency of solder bump formation is improved.

次に、本発明の実施形態例に係るマスキング材料を説明し、さらに、このマスキング材料を用いたはんだペーストの印刷方法の実施形態例を図面に基づいて説明する。図1は、本発明の第1の実施形態例であるマスキング材料を用いたはんだ印刷方法のうち、印刷用マスクを用いて基板にマスキング材料を供給した態様を示す概略図である。図2は、本発明の第1の実施形態例であるマスキング材料を用いたはんだ印刷方法のうち、マスクキング材料の供給後に、印刷用マスクを用いて基板上の電極にはんだペーストを供給した態様を示す概略図である。図3は、本発明の第1の実施形態例であるマスキング材料を用いたはんだ印刷方法を用いて作製した、はんだバンプが形成された基板の概略図である。図4は、本発明に係るマスキング材料を用いたはんだ印刷方法の第2の実施形態例の概略図である。図5は、図4のa−a´線断面図である。図6は、本発明に係るマスキング材料を用いたはんだ印刷方法の第3の実施形態例の概略図である。図7は、本発明に係るマスキング材料を用いたはんだ印刷方法の第4の実施形態例の概略図である。図8は、はんだバンプ形成方法のフローチャートである。   Next, a masking material according to an embodiment of the present invention will be described, and further, an embodiment of a solder paste printing method using this masking material will be described with reference to the drawings. FIG. 1 is a schematic view showing an aspect in which a masking material is supplied to a substrate using a printing mask in a solder printing method using a masking material according to a first embodiment of the present invention. FIG. 2 shows an aspect in which a solder paste is supplied to an electrode on a substrate using a printing mask after the masking material is supplied in the solder printing method using the masking material according to the first embodiment of the present invention. FIG. FIG. 3 is a schematic view of a substrate on which solder bumps are formed using a solder printing method using a masking material according to the first embodiment of the present invention. FIG. 4 is a schematic view of a second embodiment of a solder printing method using a masking material according to the present invention. FIG. 5 is a cross-sectional view taken along the line aa ′ of FIG. FIG. 6 is a schematic view of a third embodiment of a solder printing method using a masking material according to the present invention. FIG. 7 is a schematic view of a fourth embodiment of a solder printing method using a masking material according to the present invention. FIG. 8 is a flowchart of the solder bump forming method.

まず、本発明の実施形態例に係るマスキング材料について説明する。前記マスキング材料の主成分は、はんだペースト用ビヒクルと親水性のナノシリカである。   First, a masking material according to an embodiment of the present invention will be described. The main components of the masking material are a solder paste vehicle and hydrophilic nanosilica.

前記マスキング材料を構成するはんだペースト用ビヒクルは、はんだペーストに粘着性等を持たせるためのものであり、従来からはんだペースト用ビヒクルとして使用されているビヒクルをそのまま使用すればよい。はんだペースト用ビヒクルは、ロジンやその誘導体及び樹脂を主成分とするものであり、必要に応じて、有機酸、チクソ剤、耐酸化剤、ハロゲンやアミンといった活性剤、粘度調整剤である溶剤などを添加することもできる。   The solder paste vehicle constituting the masking material is for giving the solder paste an adhesive property, and a vehicle conventionally used as a solder paste vehicle may be used as it is. The vehicle for solder paste is mainly composed of rosin, its derivatives and resins, and if necessary, an organic acid, a thixotropic agent, an antioxidant, an activator such as halogen or amine, a solvent which is a viscosity modifier, etc. Can also be added.

本発明の実施形態例では、はんだペースト用ビヒクルに、無機質の粉体、例えば、親水性ナノシリカが含まれていることに特徴があるマスキング材料である。ビヒクル単体のマスキング材料からなるマスクを用いると、マスキング材料の加熱硬化工程及びはんだ粉の加熱溶融工程で、マスクの形状がだれてしまうが、ビヒクルに親水性ナノシリカを添加したマスキング材料にてマスクを作成すると、マスクの形状がだれるのを防止できる。   The embodiment of the present invention is a masking material characterized in that the solder paste vehicle contains an inorganic powder, for example, hydrophilic nanosilica. If a mask made of a masking material of a single vehicle is used, the mask shape will be distorted during the heating and curing process of the masking material and the heating and melting process of the solder powder. When created, the mask shape can be prevented from sagging.

前記親水性ナノシリカの粒子径は特に限定されないが、分散性の点から5nm以上が好ましく、加熱ダレを抑える点から500nm以下が好ましい。入手容易性の点から市販品として広く流通している5nm以上50nm以下の粒径が、特に好ましい。   The particle diameter of the hydrophilic nanosilica is not particularly limited, but is preferably 5 nm or more from the viewpoint of dispersibility, and is preferably 500 nm or less from the viewpoint of suppressing heating sagging. From the viewpoint of availability, a particle diameter of 5 nm to 50 nm that is widely distributed as a commercial product is particularly preferable.

マスキング材料中の親水性ナノシリカの含有量は、加熱ダレ抑制効果を発揮させる点から2質量%以上が好ましく、特に、マスク全域に加熱ダレ抑制効果を確実に生じさせる点から4質量%以上が好ましい。2質量%未満では加熱ダレ抑制効果にムラがあり、マスクに加熱ダレが生じる部位と加熱ダレが生じない部位があるので、マスクのパターニング精度が低下する。一方、親水性ナノシリカの添加量が増えるとマスキング材料の粘度が上昇していく傾向があるが、親水性ナノシリカの含有量が10質量%を超えるとマスキング材料の粘度が急上昇する。このようなことから、親水性ナノシリカの含有量は、マスクを基板上に印刷転写できる程度にマスキング材料の粘度を抑える点から15質量%以下が好ましく、特に、マスキング材料の粘度の急激な上昇を抑える点から10質量%以下が好ましい。   The content of the hydrophilic nanosilica in the masking material is preferably 2% by mass or more from the viewpoint of exerting a heating sag suppressing effect, and particularly preferably 4% by mass or more from the viewpoint of surely producing a heating sag suppressing effect over the entire mask. . If it is less than 2% by mass, the effect of suppressing heating sag is uneven, and there are parts where heating sag occurs and parts where heating sag does not occur, so the mask patterning accuracy decreases. On the other hand, when the amount of hydrophilic nanosilica added increases, the viscosity of the masking material tends to increase. However, when the content of hydrophilic nanosilica exceeds 10% by mass, the viscosity of the masking material increases rapidly. For this reason, the content of hydrophilic nanosilica is preferably 15% by mass or less from the viewpoint of suppressing the viscosity of the masking material to such an extent that the mask can be printed and transferred onto the substrate. In particular, the viscosity of the masking material is rapidly increased. 10 mass% or less is preferable from the point to suppress.

マスキング材料の室温における粘度は、良好な印刷性を確保できる範囲であれば特に限定されないが、印刷にじみの発生を防止する点から50Pa・s以上が好ましく、特に、90Pa・s以上が好ましい。また、印刷方向にスジが発生するのを防止する点から1000Pa・s以下が好ましく、特に、スクリーン印刷時のメッシュ痕の発生を防止する点から900Pa・s以下が好ましい。また、ディスペンスを用いてマスキング材料を塗布する場合には、5〜200Pa・sが好ましい。ディスペンスはスクリーン印刷とは異なり印刷にじみが発生しないので、マスキング材料の室温における粘度は、5Pa・s以上が適当となる。マスキング材料に使用するビヒクルの室温における粘度は、マスキング材料が上記粘度の範囲内となるものであればよいので、親水性ナノシリカの添加量に応じてビヒクルの組成を適宜選択すればよい。   The viscosity at room temperature of the masking material is not particularly limited as long as good printability can be ensured, but is preferably 50 Pa · s or more, and particularly preferably 90 Pa · s or more from the viewpoint of preventing the occurrence of printing bleeding. Further, it is preferably 1000 Pa · s or less from the viewpoint of preventing streaking in the printing direction, and particularly preferably 900 Pa · s or less from the viewpoint of preventing generation of mesh marks during screen printing. Moreover, when apply | coating a masking material using dispense, 5-200 Pa.s is preferable. Dispensing does not cause printing blur unlike screen printing, so the viscosity of the masking material at room temperature is suitably 5 Pa · s or more. The vehicle used for the masking material may have a viscosity at room temperature as long as the masking material is within the above viscosity range, and the composition of the vehicle may be appropriately selected according to the amount of hydrophilic nanosilica added.

上記実施形態例では、無機質の粉体に親水性ナノシリカを用いているが、親水性ナノシリカに限られず、例えば、アルミナ粉、タルク、無機酸塩、金属酸化物などであってもよい。また、特に、粒径が5〜50nmの場合には、乾式・湿式法で製造でき、かつ凝集度合いが緩やかなものか、またはナノ金属粒子であればよい。   In the above embodiment, hydrophilic nanosilica is used for the inorganic powder, but it is not limited to hydrophilic nanosilica, and may be alumina powder, talc, inorganic acid salt, metal oxide, or the like. In particular, when the particle size is 5 to 50 nm, it can be produced by a dry / wet method and has a moderate degree of aggregation or nano metal particles.

次に、本発明のマスキング材料を用いたはんだペーストの印刷方法について、図面を参照しながら具体的に説明する。   Next, a solder paste printing method using the masking material of the present invention will be specifically described with reference to the drawings.

まず、本発明に係るマスキング材料を用いたはんだ印刷方法の第1の実施形態例を図1〜3を用いて説明する。図1に示すように、電極3の間にソルダーレジスト6を塗布した樹脂基板1上に、マスキング材料印刷用のマスクを用いて、ペースト状のマスキング材料2を、例えば電極表面から40μmの厚さに印刷転写して供給する。マスキング材料2の供給部位は、ソルダーレジスト6が塗布されている各電極3の間の隙間である。   First, a first embodiment of a solder printing method using a masking material according to the present invention will be described with reference to FIGS. As shown in FIG. 1, on a resin substrate 1 having a solder resist 6 applied between the electrodes 3, using a mask for printing the masking material, the paste-like masking material 2 is, for example, 40 μm thick from the electrode surface. Print and transfer to The supply site of the masking material 2 is a gap between the electrodes 3 to which the solder resist 6 is applied.

このとき、マスキング材料2は、上記した通りの構成を有するものであれば特に限定されないが、この実施形態例では、ロジンを主成分とするはんだペースト用ビヒクルに、親水性ナノシリカ5質量%を添加した、粘度331Pa・sのマスキング材料2を使用している。また、電極3の間の隙間に形成するマスクを高くすることで、次工程で供給するはんだペースト5の量を増やしたい場合には、適宜マスキング材料2を重ね印刷すればよい。電極3へのはんだペースト5の供給量を増やすことで、接続信頼性を高めることができる。   At this time, the masking material 2 is not particularly limited as long as it has the configuration as described above. In this embodiment, 5% by mass of hydrophilic nanosilica is added to the solder paste vehicle mainly composed of rosin. The masking material 2 having a viscosity of 331 Pa · s is used. Further, when it is desired to increase the amount of solder paste 5 to be supplied in the next step by increasing the mask formed in the gap between the electrodes 3, the masking material 2 may be appropriately overprinted. By increasing the supply amount of the solder paste 5 to the electrode 3, the connection reliability can be increased.

マスキング材料2は、印刷後に数分間加熱して硬化させる。マスキング材料2には親水性ナノシリカが添加されているので、印刷したマスキング材料2の形状がだれるのを抑えることができる。加熱温度は、100〜250℃であり、150〜180℃が好ましい。   The masking material 2 is cured by heating for several minutes after printing. Since hydrophilic nano silica is added to the masking material 2, it is possible to prevent the printed masking material 2 from being distorted. The heating temperature is 100 to 250 ° C, preferably 150 to 180 ° C.

次に、図2に示すように、はんだペースト5を、電極3上に、例えば、電極表面から60μmの厚さで印刷転写して供給する。はんだペースト5は、従来一般に使用されるものでよいが、この実施形態例のはんだペースト5は、30質量%のはんだ粉と、残部がロジンを主成分とするビヒクルとからなり、このビヒクルは上記マスキング材料2で使用するものと主成分が同じである。印刷方法は特に限定されないが、ここでは前記マスキング材料印刷用のマスクとは別の印刷用マスクを用いている。   Next, as shown in FIG. 2, the solder paste 5 is printed and transferred onto the electrode 3 with a thickness of 60 μm from the electrode surface, for example. The solder paste 5 may be one generally used in the past, but the solder paste 5 of this embodiment example is composed of 30% by mass of solder powder and the remaining vehicle mainly composed of rosin. The main component is the same as that used in the masking material 2. Although the printing method is not particularly limited, a printing mask different from the mask for printing the masking material is used here.

図3に、はんだペースト5を溶融加熱させた後、ビヒクル洗浄した樹脂基板1の概略図を示す。図3に示すとおり、各電極3上には、ほぼ同じ大きさのはんだバンプ7が形成される。電極3上にはんだバンプ7を形成させるために、マスキング材料2とはんだペースト5とを供給した樹脂基板1を加熱処理(例えば、リフロー炉を用いた加熱処理)しても、マスキング材料2に親水性ナノシリカが添加されているので、加熱硬化したマスク形状がだれるのを抑えることができる。従って、マスクが隣接する電極3に接触するのを防止できるので、マスキングパターンの精度が向上する。また、はんだペースト5の電極3からのはみ出しを防止できるので、各電極3には、ほぼ等量のはんだバンプ7を搭載することができる。   FIG. 3 shows a schematic view of the resin substrate 1 that has been subjected to vehicle cleaning after melting and heating the solder paste 5. As shown in FIG. 3, solder bumps 7 having substantially the same size are formed on each electrode 3. Even if the resin substrate 1 supplied with the masking material 2 and the solder paste 5 is subjected to heat treatment (for example, heat treatment using a reflow furnace) in order to form the solder bumps 7 on the electrode 3, the masking material 2 is hydrophilic. Since the functional nano silica is added, it is possible to prevent the heat-cured mask shape from sagging. Accordingly, it is possible to prevent the mask from coming into contact with the adjacent electrode 3, thereby improving the accuracy of the masking pattern. Further, since the solder paste 5 can be prevented from protruding from the electrodes 3, almost equal amounts of solder bumps 7 can be mounted on each electrode 3.

また、マスキング材料2のビヒクルとはんだペースト5のビヒクルとは、その主成分は共通しているので、はんだバンプ形成後に、はんだペースト5に含まれていたビヒクルの残渣を溶剤で洗浄する際に、マスクも一緒に洗浄除去できる。   Further, since the main components of the vehicle of the masking material 2 and the vehicle of the solder paste 5 are the same, when the residue of the vehicle contained in the solder paste 5 is washed with a solvent after the solder bump is formed, The mask can be cleaned and removed together.

上記第1の実施形態例では、電極3の配列領域は特に限定されず、樹脂基板1表面の外縁部、中央部等どこであってもよく、樹脂基板1の全面に配列されていてもよい。また、上記第1の実施形態例では、樹脂基板を用いたが、半導体ウエハなど他の基板でもよい。   In the first embodiment, the arrangement region of the electrodes 3 is not particularly limited, and may be anywhere such as an outer edge portion or a central portion on the surface of the resin substrate 1 or may be arranged on the entire surface of the resin substrate 1. In the first embodiment, the resin substrate is used, but another substrate such as a semiconductor wafer may be used.

次に、本発明に係るマスキング材料を用いたはんだ印刷方法の第2の実施形態例を図4〜5を用いて説明する。図4は、本発明に係るマスキング材料を用いたはんだ印刷方法の第2の実施形態例を示す概略図である。図4に示すように、四角形のベリフェラル状のチップ11の外縁部には、各辺に電極配列領域4があり、中央部は電極3が配置されていない領域となっている。また、4つの角部の一部には、アラインメントマーク8を設けている。   Next, a second embodiment of the solder printing method using the masking material according to the present invention will be described with reference to FIGS. FIG. 4 is a schematic view showing a second embodiment of the solder printing method using the masking material according to the present invention. As shown in FIG. 4, the outer peripheral portion of the rectangular peripheral chip 11 has an electrode array region 4 on each side, and the central portion is a region where the electrode 3 is not disposed. In addition, alignment marks 8 are provided at some of the four corners.

まず、マスキング材料印刷用のマスクを用いて、ペースト状のマスキング材料2を、このベリフェラル状のチップ11の電極配列領域4の外周を囲む領域及びアラインメントマーク8の部位に印刷転写する。マスキング材料2は、上記した通りの構成を有するものであれば特に限定されないが、この実施形態例では、ロジンを主成分とするはんだペースト用ビヒクルに、親水性ナノシリカ5質量%を添加した、粘度331Pa・sのマスキング材料2を使用している。また、ベリフェラル状のチップ11に形成させるマスクを高くして、次工程で供給するはんだペースト量を増やしたい場合には、マスキング材料2の加熱硬化後、さらにマスキング材料2を重ね印刷すればよい。電極3へのはんだペースト5の供給量を増やすことで、接続信頼性を高めることができる。   First, using a mask for masking material printing, the paste-like masking material 2 is printed and transferred to a region surrounding the outer periphery of the electrode array region 4 of the peripheral chip 11 and the alignment mark 8. The masking material 2 is not particularly limited as long as it has the configuration as described above. In this embodiment, the viscosity is obtained by adding 5% by mass of hydrophilic nanosilica to a vehicle for solder paste mainly composed of rosin. A masking material 2 of 331 Pa · s is used. In addition, when the mask to be formed on the peripheral chip 11 is increased to increase the amount of solder paste supplied in the next process, the masking material 2 may be overprinted after the masking material 2 is heated and cured. By increasing the supply amount of the solder paste 5 to the electrode 3, the connection reliability can be increased.

印刷したマスキング材料2は、数分間加熱して硬化させる。マスキング材料2には親水性ナノシリカが添加されているので、印刷したマスキング材料2の形状がだれるのを抑えることができる。加熱温度は、100〜250℃であり、150〜180℃が好ましい。   The printed masking material 2 is cured by heating for several minutes. Since hydrophilic nano silica is added to the masking material 2, it is possible to prevent the printed masking material 2 from being distorted. The heating temperature is 100 to 250 ° C, preferably 150 to 180 ° C.

次に、電極配列領域4に、はんだペースト5を、例えば、電極から60μmの厚さで印刷転写して供給する。このとき、硬化させたマスキング材料の上にスクリーンマスクを載せてはんだペースト5の印刷を行うため、供給されるはんだペースト5は、スクリーンマスクの厚み分だけマスキング材料2より厚くなっている。はんだペースト5は、従来一般に使用されるものでよいが、この実施形態例のはんだペースト5は、30質量%のはんだ粉と、残部がロジンを主成分とするビヒクルとからなり、このビヒクルは上記マスキング材料2で使用するものと主成分が同じである。印刷方法は特に限定されないが、ここではシルクマスクを用いたスクリーン印刷を用いている。   Next, the solder paste 5 is printed and transferred from the electrode to the electrode array region 4 with a thickness of 60 μm, for example. At this time, since the solder paste 5 is printed by placing the screen mask on the cured masking material, the supplied solder paste 5 is thicker than the masking material 2 by the thickness of the screen mask. The solder paste 5 may be one generally used in the past, but the solder paste 5 of this embodiment example is composed of 30% by mass of solder powder and the remaining vehicle mainly composed of rosin. The main component is the same as that used in the masking material 2. The printing method is not particularly limited, but screen printing using a silk mask is used here.

図5は、第2の実施形態例を断面から示した概略図である。図5に示すように、マスキング材料2は、電極配列領域4を囲むように配置され、電極配列領域4にははんだペースト5が印刷転写されている。マスキング材料2が、電極配列領域4を囲んでいるので、はんだペースト5を溶融加熱させる際に、はんだペースト5が電極配列領域4からはみ出るのを防止できる。従って、マスキング材料2は、電極3のはんだバンプの容量が不足するのを抑えることができる。   FIG. 5 is a schematic view showing the second embodiment from the cross section. As shown in FIG. 5, the masking material 2 is disposed so as to surround the electrode array region 4, and the solder paste 5 is printed and transferred to the electrode array region 4. Since the masking material 2 surrounds the electrode array region 4, it is possible to prevent the solder paste 5 from protruding from the electrode array region 4 when the solder paste 5 is melted and heated. Therefore, the masking material 2 can suppress the shortage of the solder bump capacity of the electrode 3.

次に、はんだペースト5を溶融加熱させた後、ビヒクル洗浄すると、第1の実施形態例と同様に、各電極3上には、ほぼ同じ大きさのはんだバンプ7が形成される。電極3上にはんだバンプ7を形成させるために、マスキング材料2とはんだペースト5とを供給したベリフェラル状のチップ11を加熱処理(例えば、リフロー炉を用いた加熱処理)しても、マスキング材料2に親水性ナノシリカが添加されているので、加熱硬化したマスク形状がだれるのを抑えることができる。従って、加熱硬化したマスクが隣接する電極3に接触したり、加熱硬化して形状がだれたマスクをはんだペースト5が超えて電極配列領域4からはみ出ることを防止できるので、各電極3には、ほぼ等量のはんだバンプ7を搭載することができる。   Next, after the solder paste 5 is melted and heated, and the vehicle is cleaned, solder bumps 7 having substantially the same size are formed on each electrode 3 as in the first embodiment. Even if the peripheral chip 11 supplied with the masking material 2 and the solder paste 5 is subjected to heat treatment (for example, heat treatment using a reflow furnace) in order to form the solder bumps 7 on the electrode 3, the masking material 2 Since hydrophilic nanosilica is added to, it is possible to prevent the heat-cured mask shape from sagging. Therefore, it is possible to prevent the heat-cured mask from coming into contact with the adjacent electrode 3 or the solder paste 5 from exceeding the mask that has been deformed by heat-curing, so that the electrode 3 does not protrude from the electrode array region 4. An approximately equal amount of solder bumps 7 can be mounted.

また、マスキング材料2のビヒクルとはんだペースト5のビヒクルとは、その主成分は共通しているので、はんだバンプ形成後に、はんだペースト5に含まれていたビヒクルの残渣を溶剤で洗浄する際に、マスクも一緒に洗浄除去できる。   Further, since the main components of the vehicle of the masking material 2 and the vehicle of the solder paste 5 are the same, when the residue of the vehicle contained in the solder paste 5 is washed with a solvent after the solder bump is formed, The mask can be cleaned and removed together.

上記第2の実施形態例では、電極3はベリフェラル状のチップ11の外縁部の各辺に配列されているが、電極3の位置はこれに限定されず、ベリフェラル状のチップ11のどこであってもよい。この場合にも、電極配列領域4の周囲に、マスキング材料2を印刷転写する。また、電極3の配列が一部分途切れている場合のように、電極配列領域4の一部にマスクしたい領域があるときには、はんだペースト供給部4の周囲とは別に、当該部分にもマスキング材料2を供給してもよい。   In the second embodiment, the electrodes 3 are arranged on each side of the outer edge portion of the peripheral chip 11. However, the position of the electrode 3 is not limited to this, and the position of the peripheral chip 11 is any place. Also good. Also in this case, the masking material 2 is printed and transferred around the electrode array region 4. Further, when there is a region to be masked in a part of the electrode array region 4 as in the case where the array of the electrodes 3 is partially interrupted, the masking material 2 is also applied to the portion apart from the periphery of the solder paste supply unit 4. You may supply.

また、上記第2の実施形態例では、ベリフェラル状のチップ11を用いたが、半導体ウエハなど他の基板でもよい。上記第2の実施形態例では、ベリフェラル状のチップ11は四角形であるが、形状は特に限定されず、また、電極3の形状は、長方形でも円形でも、またその他の形状でもよい。   In the second embodiment, the peripheral chip 11 is used, but another substrate such as a semiconductor wafer may be used. In the second embodiment, the peripheral chip 11 is square, but the shape is not particularly limited, and the shape of the electrode 3 may be rectangular, circular, or other shapes.

次に、本発明に係るマスキング材料を用いたはんだ印刷方法の第3の実施形態例を図6を用いて説明する。第3の実施形態例は、電極配列領域4の位置及びマスキング材料2の供給位置の点において、第2の実施形態例と相違する。第3の実施形態例では、図6に示すように、各辺に電極配列領域4があり中央部は電極3が配置されていない領域となっている代わりに、四角形のエリアアレイ状のチップ21の略全面が、電極配列領域4となっている。また、4つの角部の一部には、アラインメントマーク8を設けている。   Next, a third embodiment of the solder printing method using the masking material according to the present invention will be described with reference to FIG. The third embodiment is different from the second embodiment in the position of the electrode array region 4 and the supply position of the masking material 2. In the third embodiment, as shown in FIG. 6, instead of having an electrode array region 4 on each side and a region where the electrode 3 is not arranged in the center, a chip 21 in the form of a square area array is provided. Is substantially the electrode array region 4. In addition, alignment marks 8 are provided at some of the four corners.

第3の実施形態例では、マスキング材料印刷用のマスクを用いて、ペースト状のマスキング材料2を、このエリアアレイ状のチップ21のアラインメントマーク8の部位に印刷転写する。マスキング材料2は、第2の実施形態例と同じものを使用している。また、エリアアレイ状のチップ21に形成させるマスクを高くして、次工程で供給するはんだペースト量を増やしたい場合には、マスキング材料2の加熱硬化後、さらにマスキング材料2を重ね印刷すればよい。電極3へのはんだペースト5の供給量を増やすことで、接続信頼性を高めることができる。   In the third embodiment, using a mask for printing a masking material, the paste-like masking material 2 is printed and transferred to the alignment mark 8 portion of the area array chip 21. The same masking material 2 as in the second embodiment is used. In addition, when the mask formed on the area array chip 21 is increased and the amount of solder paste supplied in the next process is increased, the masking material 2 may be overprinted after the masking material 2 is heat-cured. . By increasing the supply amount of the solder paste 5 to the electrode 3, the connection reliability can be increased.

次に、電極配列領域4に、はんだペースト5を、例えば、電極から60μmの厚さで印刷転写して供給する。このとき、硬化させたマスキング材料の上にスクリーンマスクを載せてはんだペースト5の印刷を行うため、供給されるはんだペースト5は、スクリーンマスクの厚み分だけマスキング材料2より厚くなっている。はんだペースト5は、第2の実施形態例と同じものである。印刷方法は特に限定されないが、ここではシルクマスクを用いたスクリーン印刷を用いている。   Next, the solder paste 5 is printed and transferred from the electrode to the electrode array region 4 with a thickness of 60 μm, for example. At this time, since the solder paste 5 is printed by placing the screen mask on the cured masking material, the supplied solder paste 5 is thicker than the masking material 2 by the thickness of the screen mask. The solder paste 5 is the same as that in the second embodiment. The printing method is not particularly limited, but screen printing using a silk mask is used here.

次に、本発明に係るマスキング材料を用いたはんだ印刷方法の第4の実施形態例を図7を用いて説明する。第4の実施形態例は、アラインメントマーク8の有無に係らず各角部にマスキング材料2を供給する点及び樹脂基板1の外縁部と中央部にソルダーレジスト6が設けられている点において、第3の実施形態例と相違する。図7に示すように、第4の実施形態例では、樹脂基板1の各辺に電極配列領域4が設けられている。また、4つの角部の一部には、アラインメントマーク8を設けている。   Next, a fourth embodiment of the solder printing method using the masking material according to the present invention will be described with reference to FIG. In the fourth embodiment, the masking material 2 is supplied to each corner regardless of the presence or absence of the alignment mark 8 and the solder resist 6 is provided on the outer edge and the center of the resin substrate 1. This is different from the third embodiment. As shown in FIG. 7, in the fourth embodiment, an electrode array region 4 is provided on each side of the resin substrate 1. In addition, alignment marks 8 are provided at some of the four corners.

第4の実施形態例では、マスキング材料印刷用のマスクを用いて、ペースト状のマスキング材料2を、樹脂基板1の各角部に印刷転写する。マスキング材料2は、第2、3の実施形態例と同じものを使用している。また、樹脂基板1に形成させるマスクを高くして、次工程で供給するはんだペースト量を増やしたい場合には、マスキング材料2の加熱硬化後、さらにマスキング材料2を重ね印刷すればよい。電極3へのはんだペースト5の供給量を増やすことで、接続信頼性を高めることができる。   In the fourth embodiment, the mask material for masking material printing is used to print and transfer the paste-like masking material 2 to each corner of the resin substrate 1. The masking material 2 is the same as in the second and third embodiments. If the mask to be formed on the resin substrate 1 is made high and the amount of solder paste supplied in the next process is increased, the masking material 2 may be overprinted after the masking material 2 is heat-cured. By increasing the supply amount of the solder paste 5 to the electrode 3, the connection reliability can be increased.

次に、電極配列領域4に、はんだペースト5を、例えば、電極から60μmの厚さで印刷転写して供給する。このとき、硬化させたマスキング材料の上にスクリーンマスクを載せてはんだペースト5の印刷を行うため、供給されるはんだペースト5は、スクリーンマスクの厚み分だけマスキング材料2より厚くなっている。はんだペースト5は、第2、3の実施形態例と同じものである。印刷方法は特に限定されないが、ここではシルクマスクを用いたスクリーン印刷を用いている。   Next, the solder paste 5 is printed and transferred from the electrode to the electrode array region 4 with a thickness of 60 μm, for example. At this time, since the solder paste 5 is printed by placing the screen mask on the cured masking material, the supplied solder paste 5 is thicker than the masking material 2 by the thickness of the screen mask. The solder paste 5 is the same as in the second and third embodiments. The printing method is not particularly limited, but screen printing using a silk mask is used here.

上記、第3、4の実施形態例においても、第2の実施形態例と同様に、エリアアレイ状のチップ21及び樹脂基板1の形状や、電極3の位置・形状は、特に限定されない。   Also in the third and fourth embodiment examples, as in the second embodiment example, the shape of the area array chip 21 and the resin substrate 1 and the position and shape of the electrode 3 are not particularly limited.

次に、本発明のはんだバンプ形成方法について、図8のフローチャートを用いて説明する。図8に示すように、はんだバンプ形成方法の第1ステップは、マスキング材料塗布工程である。この工程は、基板上の電極の設けられていない所定領域にマスキング材料を供給するものであり、例えば、スクリーン印刷またはディスペンサにより行う。マスキング材料は、これまで詳述してきたとおり、はんだペーストに用いるビヒクルと、無機質の粉体、例えば親水性ナノシリカとを含有しているものである。第2ステップは、マスキング材料加熱硬化工程である。この工程は、第1ステップで供給したマスキング材料を硬化するものであり、硬化のための加熱条件は、100〜250℃、数分間であり、好ましくは150℃、3分間である。   Next, the solder bump forming method of the present invention will be described with reference to the flowchart of FIG. As shown in FIG. 8, the first step of the solder bump forming method is a masking material application process. This step is to supply a masking material to a predetermined region on the substrate where no electrode is provided, and is performed, for example, by screen printing or a dispenser. As described in detail above, the masking material contains a vehicle used for the solder paste and an inorganic powder, for example, hydrophilic nanosilica. The second step is a masking material heat curing process. This process cures the masking material supplied in the first step, and the heating conditions for curing are 100 to 250 ° C. for several minutes, preferably 150 ° C. for 3 minutes.

第3ステップは、はんだペースト材料塗布工程である。この工程は、電極の設けられた領域にはんだペーストを供給するものであり、例えば、スクリーン印刷またはディスペンサにより行う。また、このはんだペーストを構成するビヒクルは、マスキング材料に使用するビヒクルと同じものである。第4ステップは、はんだペースト材料溶融加熱工程である。この工程では、各種はんだペーストに適した加熱プロファイルにて、はんだ粉を溶融する。例えば、Sn−3Ag−0.5Cuはんだでは、180℃プリヒート‐240℃ピークプロファイルなどが用いられる。   The third step is a solder paste material application process. This step is to supply a solder paste to the region where the electrodes are provided, and is performed by, for example, screen printing or a dispenser. The vehicle constituting the solder paste is the same as that used for the masking material. The fourth step is a solder paste material melting and heating step. In this step, the solder powder is melted with a heating profile suitable for various solder pastes. For example, with Sn-3Ag-0.5Cu solder, a 180 ° C. preheat-240 ° C. peak profile or the like is used.

第5ステップは、マスキング材料及びビヒクル残渣の洗浄工程である。この工程では、はんだペーストのビヒクル残渣とともにマスキング材料も一緒に洗浄することができる。この洗浄工程を経て、基板上のはんだバンプが完成する。この工程の洗浄方法は、特に限定されず、通常用いられているビヒクル洗浄方法であればよく、例えば、クリーンスルーを用いたスプレー洗浄などを用いる。   The fifth step is a cleaning process for the masking material and the vehicle residue. In this process, the masking material can be cleaned together with the vehicle residue of the solder paste. Through this cleaning process, solder bumps on the substrate are completed. The cleaning method in this step is not particularly limited, and may be any commonly used vehicle cleaning method. For example, spray cleaning using clean through is used.

以下に、本発明に係るマスキング材料の加熱ダレ抑制効果について、実施例を示して説明する。   Below, an Example is shown and demonstrated about the heating sagging suppression effect of the masking material which concerns on this invention.

4inshミラーウエハに、325メッシュ‐φ18‐乳剤厚18μmの印刷用マスクを使用してマスキング材料を印刷転写し、これを150℃のオーブンにて180秒加熱した。加熱後のマスキング材料の加熱ダレを測定することで、マスキング材料の加熱ダレ抑制効果を評価した。   The masking material was printed and transferred onto a 4 inch mirror wafer using a 325 mesh-φ18-emulsion thickness 18 μm printing mask, which was heated in an oven at 150 ° C. for 180 seconds. The heating sagging suppression effect of the masking material was evaluated by measuring the heating sagging of the masking material after heating.

前記マスキング材料は、ロジンを主成分としたビヒクルに無機粉体として親水性ナノシリカ Aerosil200(比表面積 約200m2/g、1次粒子径 12nm)を所定量添加し、乳鉢で混錬して作製した。印刷機にはC.W.Priceを使用し、スキージ速度:15mm/sec、押し込み量:100μm、印圧:30Psi、クリアランス:1.2mm、スキージ硬度:80度(角スキージ)の印刷条件にて、マスキング材料をミラーウエハ上に、300μmの幅で印刷した。マスキング材料の加熱ダレ量は、印刷直後のマスキング材料の幅と加熱硬化後のマスキング材料の幅との差をそれぞれ計測することで測定した。通常の電極ピッチは100μm以上であることから、加熱ダレ量が50μm以下の場合に加熱ダレ抑制効果ありとした。 The masking material was prepared by adding a predetermined amount of hydrophilic nanosilica Aerosil 200 (specific surface area: about 200 m 2 / g, primary particle size: 12 nm) as an inorganic powder to a rosin-based vehicle and kneading in a mortar. . CWPrice is used for the printing machine. Masking material is used under printing conditions of squeegee speed: 15 mm / sec, push-in amount: 100 μm, printing pressure: 30 Psi, clearance: 1.2 mm, squeegee hardness: 80 degrees (square squeegee). Printing was performed on a mirror wafer with a width of 300 μm. The amount of sagging of the masking material was measured by measuring the difference between the width of the masking material immediately after printing and the width of the masking material after heat curing. Since the normal electrode pitch is 100 μm or more, when the amount of heating sag is 50 μm or less, it is considered that there is a heating sag suppressing effect.

なお、ビヒクル粘度は、ビヒクルの溶剤含有量を変えることにより調整し、粘度の測定装置にはHTBブルックフィールド粘度計の少量サンプル用4号ローターを用い、回転数5rpmにて試料を3分間攪拌してからビヒクル粘度の測定を実施した。   The vehicle viscosity was adjusted by changing the solvent content of the vehicle. The viscosity measuring device was a No. 4 rotor for small sample of HTB Brookfield viscometer, and the sample was stirred for 3 minutes at 5 rpm. The vehicle viscosity was then measured.

表1に、ビヒクル粘度(Pa・s)、親水性ナノシリカ添加量(質量%)、マスキング材料の加熱ダレ量(μm)の関係を示す。加熱ダレが不均一で測定できなかった材料及び印刷不良の材料は、NGとした。   Table 1 shows the relationship between the vehicle viscosity (Pa · s), the amount of hydrophilic nanosilica added (mass%), and the amount of heating sagging (μm) of the masking material. Materials that could not be measured due to uneven heating sagging and materials with poor printing were evaluated as NG.

Figure 0004773497
Figure 0004773497

表1の結果から、ビヒクル粘度に因らず、親水性ナノシリカの添加量が多くなるとマスキング材料の加熱ダレが抑制されることがわかる。特に、親水性ナノシリカの含有量が2〜15質量%の場合には、良好な加熱ダレ抑制効果が見られた。しかし、親水性ナノシリカの添加量が20質量%の場合には、親水性ナノシリカの過剰添加によりマスキング材料の粘度が高くなりすぎてペースト状ではなくなるので、被印刷転写物としては不適であった。また、親水性ナノシリカの添加量が1質量%の場合には、不均一な加熱ダレが生じ、顕著な加熱ダレ抑制効果は見られなかった。   From the results in Table 1, it can be seen that heating sagging of the masking material is suppressed when the amount of hydrophilic nanosilica added increases regardless of the vehicle viscosity. In particular, when the content of hydrophilic nanosilica was 2 to 15% by mass, a good effect of suppressing heat sagging was observed. However, when the amount of hydrophilic nanosilica added is 20% by mass, the viscosity of the masking material becomes too high due to the excessive addition of hydrophilic nanosilica, so that it is not in the form of a paste. Further, when the amount of hydrophilic nanosilica added was 1% by mass, non-uniform heating sag occurred, and no significant heating sag suppressing effect was observed.

次に、表2に、マスキング材料の粘度と印刷性との関係を示す。粘度の測定方法及び粘度の調製方法は、上記表1の場合と同様の方法で行い、印刷性は目視で観察して評価した。   Next, Table 2 shows the relationship between the viscosity of the masking material and the printability. The viscosity measurement method and the viscosity preparation method were the same as in Table 1 above, and the printability was evaluated by visual observation.

Figure 0004773497
Figure 0004773497

表2の結果から、親水性ナノシリカを添加したマスキング材料の粘度が45Pa・sの場合には、印刷にじみが発生し、被印刷転写物として不適であった。また、親水性ナノシリカを添加したマスキング材料の粘度が1435Pa・sの場合には、印刷方向にスジが発生し、被印刷転写物として不適であった。   From the results shown in Table 2, when the viscosity of the masking material to which hydrophilic nanosilica was added was 45 Pa · s, printing bleeding occurred and it was not suitable as a printed material to be printed. Further, when the viscosity of the masking material to which hydrophilic nanosilica was added was 1435 Pa · s, streaks were generated in the printing direction, which was unsuitable as a printed material to be printed.

次に、親水性ナノシリカ(Aerosil200)と、疎水性ナノシリカ(Aerosil R974)及び疎水性ナノシリカ(DM‐20S:粒子径約10nm)との加熱ダレ抑制効果の比較試験を行った。試験結果を表3に示す。なお、シリカの添加量はいずれも4質量%とし、このときのマスキング材料の粘度は300Pa・s程度とした。他の条件は、上記表1、2の場合と同様とした。   Next, a comparative test of the heat sagging suppression effect of hydrophilic nanosilica (Aerosil 200), hydrophobic nanosilica (Aerosil R974) and hydrophobic nanosilica (DM-20S: particle diameter of about 10 nm) was conducted. The test results are shown in Table 3. The amount of silica added was 4% by mass, and the viscosity of the masking material at this time was about 300 Pa · s. Other conditions were the same as in Tables 1 and 2 above.

Figure 0004773497
Figure 0004773497

表3の結果から、疎水性ナノシリカには加熱ダレ抑制効果は見られなかったものの、親水性ナノシリカには加熱ダレ抑制効果があることがわかる。   From the results of Table 3, it can be seen that hydrophilic nanosilica has a heating sag suppressing effect although hydrophobic nano silica did not have a heating sag suppressing effect.

本発明のマスキング材料及びはんだ印刷方法は、加熱硬化時の加熱ダレを抑え、また、ビヒクル残渣の洗浄工程において、マスクも一緒に洗浄除去できるので、電子部品を基板に実装する技術分野において利用価値が高い。   The masking material and the solder printing method of the present invention suppress heating sag at the time of heat curing, and the mask can be cleaned and removed together in the cleaning process of the vehicle residue. Is expensive.

第1の実施形態例に係るはんだ印刷方法のうち、基板にマスクキング材料を供給した態様を示す概略図である。It is the schematic which shows the aspect which supplied the masking material to the board | substrate among the solder printing methods which concern on the example of 1st Embodiment. 第1の実施形態例に係るはんだ印刷方法のうち、基板上の電極にはんだペーストを供給した態様を示す概略図である。It is the schematic which shows the aspect which supplied the solder paste to the electrode on a board | substrate among the solder printing methods which concern on the example of 1st Embodiment. 第1の実施形態例であるはんだ印刷方法にて作製した、バンプが形成された基板の概略図である。It is the schematic of the board | substrate with which the bump produced by the solder printing method which is the example of 1st Embodiment was formed. マスキング材料を用いたはんだ印刷方法の第2の実施形態例の概略図である。It is the schematic of 2nd Embodiment of the solder printing method using a masking material. 図4のa−a´線断面図である。It is the sectional view on the aa 'line of FIG. マスキング材料を用いたはんだ印刷方法の第3の実施形態例の概略図である。It is the schematic of the 3rd embodiment of the solder printing method using a masking material. マスキング材料を用いたはんだ印刷方法の第4の実施形態例の概略図である。It is the schematic of the example of 4th Embodiment of the solder printing method using a masking material. はんだバンプ形成方法のフローチャートである。It is a flowchart of a solder bump formation method.

符号の説明Explanation of symbols

1 樹脂基板
2 マスキング材料
3 電極
4 電極配列領域
5 はんだペースト
6 ソルダーレジスト
7 はんだバンプ
8 アラインメントマーク
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Resin board 2 Masking material 3 Electrode 4 Electrode arrangement area 5 Solder paste 6 Solder resist 7 Solder bump 8 Alignment mark

Claims (13)

基板に形成された電極にはんだペーストを印刷するために用いるマスキング材料であって、
前記はんだペーストに用いるビヒクルと主成分が同じであるビヒクルと、無機質の粉体と、を含有し、前記はんだペーストのビヒクルの残渣とともに洗浄除去できるマスキング材料。
A masking material used for printing a solder paste on an electrode formed on a substrate,
A masking material containing a vehicle having the same main component as that of the vehicle used for the solder paste and an inorganic powder, and capable of being cleaned and removed together with a residue of the vehicle of the solder paste .
前記無機質の粉体が、親水性ナノシリカであることを特徴とする請求項1に記載のマスキング材料。   The masking material according to claim 1, wherein the inorganic powder is hydrophilic nanosilica. 前記無機質の粉体の含有量が、2質量%以上15質量%以下であることを特徴とする請求項1または2に記載のマスキング材料   The masking material according to claim 1 or 2, wherein the content of the inorganic powder is 2% by mass or more and 15% by mass or less. 粘度が5Pa・s以上1000Pa・s以下であることを特徴とする請求項1ないし3のいずれか1項に記載のマスキング材料。   The masking material according to any one of claims 1 to 3, wherein the viscosity is 5 Pa · s or more and 1000 Pa · s or less. 基板上の電極が設けられていない領域に、はんだペーストに用いるビヒクルと主成分が同じであるビヒクルと、無機質の粉体と、を含有し、前記はんだペーストのビヒクルの残渣とともに洗浄除去できるマスキング材料を供給する工程と、
前記マスキング材料を加熱硬化する工程と、
前記電極が設けられていない領域に隣接する電極が設けられている領域に、はんだ粉と前記ビヒクルを含有したはんだペーストを供給する工程と、を備えたことを特徴とするマスキング材料を用いたはんだペーストの印刷方法。
A masking material which contains a vehicle having the same main component as the vehicle used for the solder paste and an inorganic powder in a region where no electrode is provided on the substrate, and can be cleaned and removed together with the residue of the vehicle of the solder paste. A process of supplying
Heat-curing the masking material;
Supplying a solder paste containing solder powder and the vehicle to a region where an electrode adjacent to a region where the electrode is not provided is provided, and a solder using a masking material How to print the paste.
基板上の所定部位に形成された電極配列領域の周囲に、はんだペーストに用いるビヒクルと主成分が同じであるビヒクルと、無機質の粉体と、を含有し、前記はんだペーストのビヒクルの残渣とともに洗浄除去できるマスキング材料を供給する工程と、
前記マスキング材料を加熱硬化する工程と、
前記電極配列領域に、はんだ粉と前記ビヒクルを含有したはんだペーストを供給する工程と、を備えたことを特徴とするマスキング材料を用いたはんだペーストの印刷方法。
Around the electrode arrangement region formed in a predetermined part on the substrate, a vehicle having the same main component as the vehicle used for the solder paste and an inorganic powder are washed together with the residue of the vehicle of the solder paste. Supplying a masking material that can be removed ;
Heat-curing the masking material;
And a step of supplying a solder paste containing solder powder and the vehicle to the electrode array region. A method of printing a solder paste using a masking material.
基板上に形成されたアラインメントマーク部に、はんだペーストに用いるビヒクルと主成分が同じであるビヒクルと、無機質の粉体と、を含有し、前記はんだペーストのビヒクルの残渣とともに洗浄除去できるマスキング材料を供給する工程と、
前記マスキング材料を加熱硬化する工程と、
基板上の所定部位に形成された電極配列領域に、はんだ粉と前記ビヒクルを含有したはんだペーストを供給する工程と、を備えたことを特徴とするマスキング材料を用いたはんだペーストの印刷方法。
A masking material containing an alignment mark formed on the substrate and a vehicle having the same main component as the vehicle used for the solder paste and an inorganic powder, which can be cleaned and removed together with the residue of the vehicle of the solder paste. Supplying, and
Heat-curing the masking material;
A method of printing a solder paste using a masking material, comprising: supplying a solder paste containing solder powder and the vehicle to an electrode array region formed at a predetermined portion on a substrate.
前記マスキング材料を、基板上に形成されたアラインメントマーク部にさらに供給することを特徴とする請求項6に記載のマスキング材料を用いたはんだペーストの印刷方法。   The method of printing a solder paste using a masking material according to claim 6, wherein the masking material is further supplied to an alignment mark portion formed on the substrate. 前記無機質の粉体が、親水性ナノシリカであることを特徴とする請求項5ないし7のいずれか1項に記載のマスキング材料を用いたはんだペーストの印刷方法。   The solder paste printing method using a masking material according to any one of claims 5 to 7, wherein the inorganic powder is hydrophilic nano silica. 前記無機質の粉体の含有量が、2質量%以上15質量%以下であることを特徴とする請求項5ないし7のいずれか1項に記載のマスキング材料を用いたはんだペーストの印刷方法。   The method for printing a solder paste using a masking material according to any one of claims 5 to 7, wherein the content of the inorganic powder is 2% by mass or more and 15% by mass or less. 前記マスキング材料の粘度が5Pa・s以上1000Pa・s以下であることを特徴とする請求項5ないし8のいずれか1項に記載のマスキング材料を用いたはんだペーストの印刷方法。   The solder paste printing method using a masking material according to any one of claims 5 to 8, wherein the viscosity of the masking material is 5 Pa · s or more and 1000 Pa · s or less. 前記基板が、樹脂基板または半導体ウエハであることを特徴とする請求項5ないし8のいずれか1項に記載のマスキング材料を用いたはんだペーストの印刷方法。   9. The method for printing solder paste using a masking material according to claim 5, wherein the substrate is a resin substrate or a semiconductor wafer. 請求項1ないし4のいずれか1項に記載のビヒクルを含有したマスキング材料を、基板に形成された電極上以外の所定部位に供給して、前記マスキング材料を加熱硬化する工程と、
前記電極上にビヒクルを含有したはんだペーストを供給して加熱溶融する工程と、
前記はんだペーストのビヒクル残渣とともに前記マスキング材料を洗浄する工程と、を備えたことを特徴とするはんだバンプ形成方法。
Supplying a masking material containing the vehicle according to any one of claims 1 to 4 to a predetermined portion other than on an electrode formed on a substrate, and heating and curing the masking material;
Supplying a solder paste containing a vehicle on the electrode and heating and melting;
And a step of cleaning the masking material together with a vehicle residue of the solder paste.
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