JP4753188B2 - 潜像焼付け用フィルムへの潜像の加工方法 - Google Patents
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これら潜像の製造法としては、熱により発色する感熱発色インキを用いて潜像を形成する方法、紫外線の照射により発色するフォトクロミックインキを用いて潜像を形成する方法、磁性インキを用いて潜像を形成する方法、赤外光を吸収するインキを用いて潜像を形成する方法などがこれまでに提案され利用されてきている。しかしながら、これらの方法による潜像では、耐久性が低い、繰り返し表示が困難、情報の書き換えが可能、真偽判定に特定の検出装置が必要になるなどの問題点があった。
この図1では、複屈折誘起材料の1つの例として、光反応性側鎖型液晶高分子としてポリ{〔4−シンナモイルオキシエチルオキシ−4´−(6−メタクリロイルオキシヘキシルオキシ)ビフェニル〕0.85−co−(メチルメタクリレート)0.15}78.4重量%、低分子化合物として4,4´−ビス(6−メタクリロイルオキシヘキシルオキシ)ビフェニル19.6重量%を用い、ここに光増感剤として4,4´−ビス(ジメチルアミノ)ベンゾフェノン2重量%を添加している。この混合物をo−ジクロロベンゼンに溶解し、正面レタデーションの無いTACフィルム上に約3μmの厚みとなるよう塗布し、等方性の膜とし、ここに高圧水銀灯からの紫外光を直線偏光性の光に変換して膜全面に730mJ/cm2照射し、次に、高圧水銀灯からの紫外光を直線偏光性の光に変換せず(自然光のまま)、照射量0から約2000mJ/cm2の間で変化させて光照射したときのレタデーションを測定した例である。レタデーションは、照射量と共に低下することから、照射量によってレタデーションを制御可能であることが判る。前述のように、偏光板を介して潜像を認識する方法では、レタデーションの大きさが明暗として認識される。このことにより、高精細な連続階調の偏光性潜像を比較的簡素な製造方法で提供できる。
また、本発明の製造方法を用いることにより、マスクを用いることなくレーザー光線の制御によりパターンを焼き付けることができるマスクレス露光でも偏光性の潜像を作製することも可能である
複屈折誘起材料として、ポリ{〔4−シンナモイルオキシエチルオキシ−4´−(6−メタクリロイルオキシヘキシルオキシ)ビフェニル〕0.85−co−(メチルメタクリレート)0.15}78.4重量%に4,4´−ビス(6−メタクリロイルオキシヘキシルオキシ)ビフェニル19.6重量%の混合物を用い、ここに、光増感剤として4,4´−ビス(ジメチルアミノ)ベンゾフェノン2重量%を添加した。これらをシクロヘキサノンに14重量%の濃度で溶解し、PETフィルム上にスピンコーターを用いて約1.4μmの厚みとなるよう塗布し、加熱急冷処理により等方性の状態にした。このフィルムに高圧水銀灯からの紫外光を、偏光素子を介して直線偏光性に変換し、この塗布膜で異方性が最大となる条件である550mJ/cm2照射し、偏光性潜像製造用フィルムを作製した。この時点では塗布膜に異方性は無かった。
P2、P4 偏光板
21 複屈折誘起材料の塗布層(薄膜)
22 粘着層
23 反射板
2a 異方性の小さい領域
2b 異方性の大きい領域
31、41 積層体
Claims (1)
- 光反応性側鎖型液晶性高分子、または該高分子と低分子化合物の混合物である複屈折誘起材料からなる光学的に等方性の樹脂薄膜に直線偏光成分を含む光線を照射して、前記薄膜中に光架橋反応点を形成してなる潜像焼付け用フィルムを用い、
この潜像焼付け用フィルムに対して、加工をおこなおうとする潜像に相当する自然光透過性の階調を有するフィルタを介して、所定エネルギーの自然光を照射した後、所定の温度に加熱し常温に冷却することを特徴とする、潜像焼付け用フィルムへの潜像の加工方法。
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