JP4753190B2 - 潜像焼付け用フィルムへの潜像の加工方法 - Google Patents
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これら潜像の製造法としては、熱により発色する感熱発色インキを用いて潜像を形成する方法、紫外線の照射により発色するフォトクロミックインキを用いて潜像を形成する方法、磁性インキを用いて潜像を形成する方法、赤外光を吸収するインキを用いて潜像を形成する方法などがこれまでに提案され利用されてきている。しかしながら、これらの方法による潜像では、耐久性が低い、繰り返し表示が困難、情報の書き換えが可能、真偽判定に特定の検出装置が必要になるなどの問題点があった。
本発明における偏光性潜像製造用フィルムは、特開2002−202409号、特開2004−170595号などに提案している複屈折誘起材料を基材フィルムなどに塗布して膜とする工程、次いで直線偏光性の光を膜全面に照射する工程、更に所定の温度に加熱し、常温に徐冷して光学的異方性を付与する工程によって製造される。必要に応じて、塗布した複屈折誘起材料は、直線偏光性の光を照射する前に、加熱急冷処理により等方性としておく。
また、本発明の製造方法を用いることにより、マスクを用いることなくレーザー光線の制御によりパターンを焼き付けることができるマスクレス露光でも偏光性の潜像を作製することも可能である。
(実施例1)
複屈折誘起材料として、ポリ{〔4−シンナモイルオキシエチルオキシ−4´−(6−メタクリロイルオキシヘキシルオキシ)ビフェニル〕0.85−co−(メチルメタクリレート)0.15}78.4重量%に4,4´−ビス(6−メタクリロイルオキシヘキシルオキシ)ビフェニル19.6重量%の混合物を用い、ここに、光増感剤として4,4´−ビス(ジメチルアミノ)ベンゾフェノン2重量%を添加した。これらをシクロヘキサノンに14重量%の濃度で溶解し、PET基材にスピンコーターを用いて約1.4μmの厚みとなるよう塗布し、加熱急冷処理により等方性の状態にした。このフィルムに高圧水銀灯からの紫外光を、偏光素子を介して直線偏光性に変換し、この塗布膜で異方性が最大となる条件である550mJ/cm2照射し、次いで、110℃に加熱後、降温速度2.3℃/minの条件で室温まで徐冷し偏光性潜像製造用フィルムを作製した。次いで、このフィルム上にマスクとして、写真撮影し現像したネガフィルムを配置し、高圧水銀灯からの紫外光を、偏光素子を介さず、1.95mW/cm2の強度で1000秒間照射(自然光を照射した)した。用いたネガフィルムは、連続階調の画像が現像された高圧水銀灯からの紫外光の平均透過率が20%程度のものを用いた。続いて、110℃の恒温槽中に入れた後、室温雰囲気中に取り出した(降温速度は十分に大きい)。最後に高圧水銀灯からの紫外光を、偏光素子を介さず、1000mJ/cm2照射して配向を固定した。このようにして、PETフィルム上に偏光性の潜像を形成した膜を作製した。
図4は、積層体41を偏光板P4を介して観察したときの観察図である。潜像が観察され、明部は比較的異方性の小さい領域、暗部は比較的異方性の大きい領域である。この潜像は、マスクとして用いたネガフィルムの画像を再現しており、連続階調の偏光性潜像を作製できることが確認された。
21 複屈折誘起材料の塗布層(薄膜)
22 粘着層
23 反射板
2a 異方性の小さい領域
2b 異方性の大きい領域
31、41 積層体
P2、P4 偏光板
Claims (1)
- 光反応性側鎖型液晶性高分子、または該高分子と低分子化合物の混合物である複屈折誘起材料からなる光学的に等方性の樹脂薄膜に直線偏光成分を含む光線を照射して、前記薄膜層中に光架橋反応点を形成後、所定の温度に加熱し、常温に徐冷し、光学的異方性を付与してなる潜像焼付け用フィルムを用い、
この潜像焼付け用フィルムに対して、加工をおこなおうとする潜像に相当する自然光透過性の諧調を有するフィルタを介して、所定エネルギーの自然光を照射した後、所定の温度に加熱し、常温に冷却することを特徴とする、潜像焼付け用フィルムへの潜像の加工方法。
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