JP4750053B2 - 放電励起ガスレーザの放電回路 - Google Patents
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- 230000005284 excitation Effects 0.000 title claims description 13
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 claims description 86
- 230000006835 compression Effects 0.000 claims description 67
- 238000007906 compression Methods 0.000 claims description 67
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 claims description 20
- 239000007787 solid Substances 0.000 claims description 13
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 27
- 239000011162 core material Substances 0.000 description 22
- 238000004804 winding Methods 0.000 description 20
- 230000020169 heat generation Effects 0.000 description 17
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 5
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 4
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 4
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 4
- ZAKOWWREFLAJOT-CEFNRUSXSA-N D-alpha-tocopherylacetate Chemical compound CC(=O)OC1=C(C)C(C)=C2O[C@@](CCC[C@H](C)CCC[C@H](C)CCCC(C)C)(C)CCC2=C1C ZAKOWWREFLAJOT-CEFNRUSXSA-N 0.000 description 3
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 3
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 3
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 3
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 229910001004 magnetic alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052754 neon Inorganic materials 0.000 description 2
- GKAOGPIIYCISHV-UHFFFAOYSA-N neon atom Chemical compound [Ne] GKAOGPIIYCISHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003507 refrigerant Substances 0.000 description 2
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 1
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001307 helium Substances 0.000 description 1
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012212 insulator Substances 0.000 description 1
- 229910052743 krypton Inorganic materials 0.000 description 1
- DNNSSWSSYDEUBZ-UHFFFAOYSA-N krypton atom Chemical compound [Kr] DNNSSWSSYDEUBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000696 magnetic material Substances 0.000 description 1
- 230000005415 magnetization Effects 0.000 description 1
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 230000004304 visual acuity Effects 0.000 description 1
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- Generation Of Surge Voltage And Current (AREA)
- Lasers (AREA)
Description
先ず固体スイッチSWがOFFにされ、電圧値Vinに調整された高電圧電源HVによって主コンデンサC0が充電される。このときの主コンデンサの充電電圧は正であるとする。固体スイッチSWがOFFからONに切り替えられると、主コンデンサC0の充電電圧Vc1は磁気アシストSR1に印加される。主コンデンサC0の充電電圧Vc0の時間積分値が磁気アシストSR1の特性で決まる限界値に達すると、磁気アシストSR1が飽和して磁気アシストSR1のインダクタンスが低下する。このタイミングを図5の時刻t1で示す。すると、主コンデンサC0、磁気アシストSR1、昇圧用トランスTr1の1次巻線Tr1、固体スイッチSWのループに電流が流れる。同時に、昇圧用トランスTrの2次巻線Tr2、1段目の転送コンデンサC1のループにも電流が流れ、主コンデンサC0に蓄えられていた電荷が1段目の転送コンデンサC1に転送されて、1段目の転送コンデンサC1が負側に充電される。
高電圧電源(HV)と、
前記高電圧電源(HV)によって充電される主コンデンサ(C0)と、
固体スイッチ(SW)がオンされるに応じて前記主コンデンサ(C0)の電圧が印加される磁気アシスト(SR1)と、
転送コンデンサ(C1,…,Cn)および磁気スイッチ部(1,…,n)をそれぞれk(kは2以上の整数)個有し、n(n=1〜k)段目の転送コンデンサ(Cn)がn−1段目の磁気スイッチ部(n-1)を介してn−1段目の転送コンデンサ(Cn-1)に並列に接続されており、前記磁気アシスト(SR1)の磁気飽和に応じて前記主コンデンサ(C0)から1段目の転送コンデンサ(C1)に電荷が転送され、n−1段目の磁気スイッチ部(n-1)の磁気飽和に応じてn−1段目の転送コンデンサ(Cn-1)からn段目の転送コンデンサ(Cn)に順次電荷が転送される磁気パルス圧縮回路(10)と、
前記磁気パルス圧縮回路(10)のk段目の磁気スイッチ部(k)を介してk段目の転送コンデンサ(Ck)に並列に接続されるピーキングコンデンサ(Cp)と、
前記ピーキングコンデンサ(Cp)に並列に接続される一対の主放電電極(E,E)と、
を備えた放電励起ガスレーザの放電回路において、
磁気圧縮用の可飽和リアクトル(21-1,…,21-n)と回路切替用の可飽和リアクトル(22-1,…,22-n)との直列回路を複数有し、当該複数の直列回路が互いに並列に接続された並列回路を前記k段目の磁気スイッチ部(k)に備え、
パルス発振毎に前記回路切替用の可飽和リアクトル(22-1,…,22-n)の磁気リセット量を変化させて、当該回路切替用の可飽和リアクトル(22-1,…,22-n)のうち一以上の可飽和リアクトルの磁気リセット量をゼロにしてオンにすると共に残りの回路切替用の可飽和リアクトルの磁気リセット量を最大にしてオフにすること
を特徴とする。
磁気圧縮用の可飽和リアクトル(11-1,…,11-n)と回路切替用の可飽和リアクトル(12-1,…,12-n)との直列回路を複数有し、当該複数の直列回路が互いに並列に接続された並列回路を前記k段目より前段の磁気スイッチ部(1)に備え、
パルス発振毎に前記回路切替用の可飽和リアクトル(12-1,…,12-n)の磁気リセット量を変化させて、当該回路切替用の可飽和リアクトル(12-1,…,12-n)のうち一以上の可飽和リアクトルの磁気リセット量をゼロにしてオンにすると共に残りの回路切替用の可飽和リアクトルの磁気リセット量を最大にしてオフにすること
を特徴とする。
図1は第1の実施形態の放電回路を示す。図1に示す放電回路と図5に示す従来の放電回路との相違点は磁気パルス圧縮回路の最終段に設けられた磁気スイッチの構成にある。図1に示す放電回路は図5に示す従来の放電回路と同様に2段の磁気パルス圧縮を行う回路である。
昇圧用トランスTrの二次巻線Tr2の両端には磁気パルス圧縮回路10の1段目の転送コンデンサC1の両端が接続されている。二次巻線Tr2と1段目の転送コンデンサC1はループを形成する。
以下では図1に示す放電回路を図5に示す放電回路と同一周波数で動作させた場合を想定し、図5に示す単一の可飽和リアクトルSR3で1パルス発振時に発生する熱量Pを基準として、図1に示す磁気スイッチ部2の各可飽和リアクトル21-n、22-nで発生する熱量P21、P22を算出する。なお説明の便宜上、圧縮用リアクトル21-nと切替用リアクトル22-nのVt積は同一であり、非飽和時のインダクタンスも同一であるとする。また磁気スイッチ部2の前段に設けられた転送コンデンサC2の電圧はEであるとする。
Eoff=(1/2)E
となり、切替用リアクトル22-1に印加される電圧Ecoffは
Ecoff=(1/2)E
となる。
また、圧縮用リアクトル21-2に印加される電圧Eonは
Eon=E
となり、切替用リアクトル22-2に印加される電圧Econは
Econ=0
となる。電圧Econが0となるのは切替用リアクトル22-2の磁気リセット量がゼロすなわち磁気飽和状態になっているためである。こうした状況下での各リアクトルの発熱量は次のように算出される。
Poff=(1/4)P … (1)
となり、切替用リアクトル22-1の発熱量Pcoffは
Pcoff=(1/4)P … (2)
となる。
また、圧縮用リアクトル21-2の発熱量Ponは
Pon=P … (3)
となり、切替用リアクトル22-2の発熱量Pconは
Pcon=0 … (4)
となる。
P21=(1/2)×Poff+(1/2)×Pon=(5/8)P
となり、上記(2)式および(4)式の結果から、各切替用リアクトル22-nの1パルス当たりの発熱量の平均値P22は
P22=(1/2)×Pcoff+(1/2)×Pcon=(1/8)P
となる。
P21=(2/3)×Poff+(1/3)×Pon=(1/4)P
となり、上記(2)式および(4)式の結果から、各切替用リアクトル22-nの1パルス当たりの発熱量の平均値P22は
P22=(2/3)×Pcoff+(1/3)×Pcon=(1/6)P
となる。
21-1、21-2…磁気圧縮用可飽和リアクトル(圧縮用リアクトル)
22-1、22-2…回路切替用可飽和リアクトル(切替用リアクトル)
31-1、31-2…励磁回路 33-1、33-2…電流源 34-1、34-2…巻線
HV…高電圧電源 SV…固体スイッチ C0…主コンデンサ
C-1、C-2…転送コンデンサ SR-1…磁気アシスト E、E…主放電電極
Claims (2)
- 高電圧電源(HV)と、
前記高電圧電源(HV)によって充電される主コンデンサ(C0)と、
固体スイッチ(SW)がオンされるに応じて前記主コンデンサ(C0)の電圧が印加される磁気アシスト(SR1)と、
転送コンデンサ(C1,…,Cn)および磁気スイッチ部(1,…,n)をそれぞれk(kは2以上の整数)個有し、n(n=1〜k)段目の転送コンデンサ(Cn)がn−1段目の磁気スイッチ部(n-1)を介してn−1段目の転送コンデンサ(Cn-1)に並列に接続されており、前記磁気アシスト(SR1)の磁気飽和に応じて前記主コンデンサ(C0)から1段目の転送コンデンサ(C1)に電荷が転送され、n−1段目の磁気スイッチ部(n-1)の磁気飽和に応じてn−1段目の転送コンデンサ(Cn-1)からn段目の転送コンデンサ(Cn)に順次電荷が転送される磁気パルス圧縮回路(10)と、
前記磁気パルス圧縮回路(10)のk段目の磁気スイッチ部(k)を介してk段目の転送コンデンサ(Ck)に並列に接続されるピーキングコンデンサ(Cp)と、
前記ピーキングコンデンサ(Cp)に並列に接続される一対の主放電電極(E,E)と、
を備えた放電励起ガスレーザの放電回路において、
磁気圧縮用の可飽和リアクトル(21-1,…,21-n)と回路切替用の可飽和リアクトル(22-1,…,22-n)との直列回路を複数有し、当該複数の直列回路が互いに並列に接続された並列回路を前記k段目の磁気スイッチ部(k)に備え、
パルス発振毎に前記回路切替用の可飽和リアクトル(22-1,…,22-n)の磁気リセット量を変化させて、当該回路切替用の可飽和リアクトル(22-1,…,22-n)のうち一以上の可飽和リアクトルの磁気リセット量をゼロにしてオンにすると共に残りの回路切替用の可飽和リアクトルの磁気リセット量を最大にしてオフにすること
を特徴とする放電励起ガスレーザの放電回路。 - 磁気圧縮用の可飽和リアクトル(11-1,…,11-n)と回路切替用の可飽和リアクトル(12-1,…,12-n)との直列回路を複数有し、当該複数の直列回路が互いに並列に接続された並列回路を前記k段目より前段の磁気スイッチ部(1)に備え、
パルス発振毎に前記回路切替用の可飽和リアクトル(12-1,…,12-n)の磁気リセット量を変化させて、当該回路切替用の可飽和リアクトル(12-1,…,12-n)のうち一以上の可飽和リアクトルの磁気リセット量をゼロにしてオンにすると共に残りの回路切替用の可飽和リアクトルの磁気リセット量を最大にしてオフにすること
を特徴とする請求項1記載の放電励起ガスレーザの放電回路。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007028047A JP4750053B2 (ja) | 2007-02-07 | 2007-02-07 | 放電励起ガスレーザの放電回路 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007028047A JP4750053B2 (ja) | 2007-02-07 | 2007-02-07 | 放電励起ガスレーザの放電回路 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2008192974A JP2008192974A (ja) | 2008-08-21 |
JP4750053B2 true JP4750053B2 (ja) | 2011-08-17 |
Family
ID=39752763
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007028047A Expired - Fee Related JP4750053B2 (ja) | 2007-02-07 | 2007-02-07 | 放電励起ガスレーザの放電回路 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4750053B2 (ja) |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN102801093B (zh) * | 2012-07-04 | 2014-09-24 | 中国科学院安徽光学精密机械研究所 | 一种结构紧凑型kHz准分子激光器全固态脉冲激励源 |
CN102780151B (zh) * | 2012-07-25 | 2014-06-18 | 西安电子科技大学 | 一种光纤耦合输出端面泵浦固体激光器及制造工艺 |
CN103036146B (zh) * | 2012-11-28 | 2014-10-29 | 华中科技大学 | 一种准分子激光器脉冲电源 |
CN110224579A (zh) * | 2019-05-16 | 2019-09-10 | 南京航空航天大学 | 一种eGaN HEMT混合型驱动电路及控制方法 |
CN117792142B (zh) * | 2024-02-28 | 2024-05-14 | 中国空气动力研究与发展中心高速空气动力研究所 | 一种大功率高频脉冲等离子体电源及其充放电方法 |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2738077B2 (ja) * | 1989-10-30 | 1998-04-08 | 三菱電機株式会社 | 放電型パルスレーザ装置 |
JP3907092B2 (ja) * | 1998-11-11 | 2007-04-18 | 株式会社小松製作所 | パルスレーザ用電源装置 |
JP2003283017A (ja) * | 2002-03-26 | 2003-10-03 | Gigaphoton Inc | 磁気圧縮回路および放電励起ガスレーザ装置 |
-
2007
- 2007-02-07 JP JP2007028047A patent/JP4750053B2/ja not_active Expired - Fee Related
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Publication number | Publication date |
---|---|
JP2008192974A (ja) | 2008-08-21 |
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A621 | Written request for application examination |
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R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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