JP4732787B2 - プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法 - Google Patents
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Description
まず,本発明の一実施形態にかかるマイクロ波プラズマ処理装置について,図1を参照しながら説明する。図1は,マイクロ波プラズマ処理装置100をx軸方向およびz軸方向に平行な面で切断した断面図である。マイクロ波プラズマ処理装置100は,プラズマ処理装置の一例である。本実施形態では,マイクロ波プラズマ処理装置100により実行される処理プロセスとして,図7に示した3つの成膜プロセスを挙げて説明する。
つぎに,第2の誘電体について,図2の一部分の斜視図である図3(a)を参照して,詳細に説明する。第2の誘電体28aおよび第2の誘電体28bは,給電用導波管26と同形状の底面を持ち,厚さがLの直方体であり,たとえば,比誘電率kが「4」の石英や比誘電率kが「9」のアルミナ(酸化アルミニウム Al2O3)などにより形成されている。本実施形態では,各第2の誘電体28は,アルミナにて形成されている。
λ1g=λ1/{1−(λ1/2a)2}1/2・・・(1)
λ2g=λ2/{1−(λ2/2a)2}1/2・・・(2)
λ1=c/ν・・・(3)
式(3)に,マイクロ波の速度c=30×104(km/s),マイクロ波の周波数ν=2.45(GHz)を代入すると,λ1=122(mm)≒120(mm)となる。
λ2=λ1/(k)1/2・・・(4)
式(4)に,大気中の波長λ1(=真空中の波長λ0)=120(mm),比誘電率k=9を代入すると,λ2=40(mm)となる。
λ1g=120/{1−(120/200)2}1/2=150(mm)となる。
λ2g=40/{1−(40/200)2}1/2=41(mm)となる。
n1=x1/λ2g=28/41=0.68(個)となる。
n0=x0/λ1g=122/150=0.81(個)となる。
N=n0+n1=0.68+0.81≒1.5(個)となる。
つぎに,このような原理を用いて給電方式を制御しながら,膜を生成する3つの工程について説明する。図7に示したように,マイクロ波プラズマ処理装置100は,第1工程のアモルファスシリコンCVDプロセスにてアモルファスシリコン膜を生成し,所望のアニール行程を施して,アモルファスシリコン膜をポリシリコン膜に変化させた後,第2工程の酸化プロセスにて酸化膜を生成し,第3工程の二酸化シリコンCVDプロセスにて二酸化シリコン膜を生成する。
第1工程のアモルファスシリコンCVDプロセスでは,給電方式は同相給電と逆相給電である。このような場合,マイクロ波プラズマ処理装置100は,図8に示したように,隣り合う放射用導波管22bおよび放射用導波管22cの境界部分の延長上にて給電用導波管26を塞ぐように第2の誘電体28aを装着する。同様に,隣り合う放射用導波管22dおよび放射用導波管22eの境界部分の延長上にて給電用導波管26を塞ぐように第2の誘電体28bを装着する。
第2工程の酸化プロセスでは,マイクロ波プラズマ処理装置100は,図9に示したように,各放射用導波管22に伝播されるマイクロ波の位相がすべて同位相となるように,第2の誘電体28aおよび第2の誘電体28bを,給電用導波管26を開口する位置まで降下させる。そうすると,各放射用導波管22下部のスロットから処理容器10内に漏れ出すマイクロ波の干渉により,マイクロ波の電界強度は非常に強められる。
最終工程である第3工程の二酸化シリコンCVDプロセスでは,給電方式は同相給電である。よって,図10に示したように,マイクロ波プラズマ処理装置100は,第2工程と同様に,第2の誘電体28を,給電用導波管26を開口する位置まで降下させたままにする。
11 サセプタ
20 蓋体
22a〜22f 放射用導波管
23a〜23f スロットアンテナ
24a〜24f 第1の誘電体
26 給電用導波管
27 マイクロ波発生器
28a,28b 第2の誘電体
29 梁
30a〜30g ガス導入管
32 ガス供給源
100 マイクロ波プラズマ処理装置
Claims (5)
- マイクロ波をスロットに通して第1の誘電体から処理容器内に伝播させ,伝播させたマイクロ波により処理容器内に供給された処理ガスをプラズマ化させて,基板をプラズマ処理するプラズマ処理装置であって:
マイクロ波発生器から発生されたマイクロ波を伝播させる矩形の給電用導波管と;
前記給電用導波管の長手方向に対して略垂直に同一平面上に配置され,前記給電用導波管から分岐し,前記給電用導波管を伝播したマイクロ波をスロットに伝播させる複数の放射用導波管と;
前記給電用導波管と前記複数の放射用導波管とが分岐する複数の結合窓間で隣り合う放射用導波管の境界部分の延長上にて前記給電用導波管内のマイクロ波が伝播する伝播方向全体を閉塞するように、前記給電用導波管の一部にてマイクロ波の伝播方向に対して垂直に設けられ、マイクロ波の管内波長を変化させる第2の誘電体と;
を備え、
前記第2の誘電体は,
前記第2の誘電体を通過して前記複数の放射用導波管のいずれかに伝播されるマイクロ波の位相と該第2の誘電体を通過しないで前記複数の放射用導波管の他のいずれかに伝播されるマイクロ波の位相とが略逆位相になるようにマイクロ波の管内波長を変化させることを特徴とするプラズマ処理装置。 - 前記複数の放射用導波管のうち,第1の放射用導波管に伝搬されるマイクロ波の位相と第1の放射用導波管の隣に位置する第2の放射用導波管に伝搬されるマイクロ波の位相とが略逆位相になり,第2の放射用導波管に伝搬されるマイクロ波の位相と第2の放射用導波管の隣に位置する第3の放射用導波管に伝搬されるマイクロ波の位相とが略同位相になる場合,第1および第2の放射用導波管の境界付近と,第2および第3の放射用導波管の境界付近と,に異なるガスをそれぞれ供給することを特徴とする請求項1に記載されたプラズマ処理装置。
- 前記第2の誘電体の厚さは,
前記第2の誘電体の誘電率と前記給電用導波管の幅とに基づいて求められることを特徴とする請求項1又は2に記載されたプラズマ処理装置。 - 前記第2の誘電体は,
前記給電用導波管内のマイクロ波が伝播する伝播方向に対して垂直な面で可動可能に配置され、前記給電用導波管内のマイクロ波が伝播する伝播方向全体を閉塞又は開口することを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載されたプラズマ処理装置。 - マイクロ波をスロットに通して第1の誘電体に伝播させ,処理容器内に供給された処理ガスをプラズマ化させて,基板をプラズマ処理するプラズマ処理方法であって:
マイクロ波発生器から発生されたマイクロ波を矩形の給電用導波管に伝播させる工程と;
前記給電用導波管を伝播した前記マイクロ波を、前記給電用導波管の長手方向に対して略垂直に同一平面上に配置された複数の放射用導波管であって、前記給電用導波管から分岐した複数の放射用導波管を介してスロットに伝播させる工程と;
前記給電用導波管と前記複数の放射用導波管とが分岐する複数の結合窓間で隣り合う放射用導波管の境界部分の延長上にて前記給電用導波管内のマイクロ波が伝播する伝播方向全体を閉塞するように、前記給電用導波管の一部にてマイクロ波の伝播方向に対して垂直に設けられた第2の誘電体によって,前記第2の誘電体を通過して前記複数の放射用導波管のいずれかに伝播されるマイクロ波の位相と該第2の誘電体を通過しないで前記複数の放射用導波管の他のいずれかに伝播されるマイクロ波の位相とが略逆位相になるようにマイクロ波の管内波長を変化させる工程と;
を含むことを特徴とするプラズマ処理方法。
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JP2004200390A (ja) * | 2002-12-18 | 2004-07-15 | Advanced Lcd Technologies Development Center Co Ltd | プラズマ処理装置 |
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