JP4726123B2 - Application system - Google Patents

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本発明は、基板に流動性材料を塗布する塗布システムに関する。   The present invention relates to an application system for applying a flowable material to a substrate.

従来より、有機EL(Electro Luminescence)材料を利用した有機EL表示装置の開発が行われており、例えば、高分子有機EL材料を用いたアクティブマトリックス駆動方式の有機EL表示装置の製造では、ガラス基板(以下、単に「基板」という。)に対して、TFT(Thin Film Transistor)回路の形成、陽極となるITO(Indium Tin Oxide)電極の形成、隔壁の形成、正孔輸送材料を含む塗布液の塗布、加熱処理による正孔輸送層の形成、有機EL材料を含む塗布液の塗布、加熱処理による有機EL層の形成、陰極の形成、および、絶縁膜の形成による封止が順次行われる。   2. Description of the Related Art Conventionally, an organic EL display device using an organic EL (Electro Luminescence) material has been developed. For example, in the production of an active matrix drive type organic EL display device using a polymer organic EL material, a glass substrate is used. (Hereinafter simply referred to as “substrate”), the formation of TFT (Thin Film Transistor) circuits, the formation of ITO (Indium Tin Oxide) electrodes as anodes, the formation of barrier ribs, and the application liquid containing hole transport materials Application, formation of a hole transport layer by heat treatment, application of a coating solution containing an organic EL material, formation of an organic EL layer by heat treatment, formation of a cathode, and sealing by formation of an insulating film are sequentially performed.

このような有機EL表示装置の製造では、生産性の向上や装置コストの低減、有機EL表示装置の高品質化等を目的として様々な技術が提案されている。例えば、特許文献1の製造装置では、基板に対して有機正孔注入材料を含むインクを噴出して塗布するインクジェット装置、有機EL材料を含むインクを噴出して塗布するインクジェット装置、および、インクが塗布された基板を加熱して正孔注入層や有機発光層を形成する複数の乾燥炉をロボットアームの周囲に略円周状に配置し、各工程を連続して行うことにより有機EL素子の生産性の向上が図られている。   In the manufacture of such an organic EL display device, various techniques have been proposed for the purpose of improving productivity, reducing device cost, and improving the quality of the organic EL display device. For example, in the manufacturing apparatus of Patent Document 1, an inkjet apparatus that ejects and applies ink containing an organic hole injection material to a substrate, an inkjet apparatus that ejects and applies ink containing an organic EL material, and an ink A plurality of drying furnaces for heating the coated substrate to form a hole injection layer and an organic light emitting layer are arranged around the robot arm in a substantially circumferential shape, and each step is performed continuously to perform an organic EL element. Productivity is improved.

特許文献2の製造装置では、基板を搬送する複数の搬送装置を直線状に配列し、これらの搬送装置の一方側に正孔注入/輸送材料または有機EL材料を含むインクを塗布するインクジェット装置を配置し、他方側にインクが塗布された基板に対する加熱処理を行う加熱装置および冷却装置を配置することにより、インクジェット装置と加熱装置等との間の振動や熱の伝達を抑制して発光素子の品質向上が図られている。   In the manufacturing apparatus of Patent Document 2, an inkjet apparatus in which a plurality of conveyance apparatuses that convey a substrate are arranged linearly and an ink containing a hole injection / transport material or an organic EL material is applied to one side of these conveyance apparatuses. By disposing a heating device and a cooling device that perform heat treatment on the substrate coated with ink on the other side, vibration and heat transfer between the ink jet device and the heating device are suppressed, and the light emitting element The quality is improved.

特許文献3では、正孔輸送材料または有機EL材料を含む液体をノズルから連続的に吐出しつつノズルを走査することにより基板に液体を塗布する塗布ユニット、および、当該液体が塗布された基板に対して加熱処理を行うベークユニットを備える薄膜形成装置が開示されている。当該薄膜形成装置では、減圧雰囲気を必須とする工程を実施するユニットが含まれていないため、装置コストの低減および制御の簡素化が実現される。また、特許文献3の薄膜形成装置では、インクジェット装置による塗布を行う特許文献1や特許文献2の装置に比べて、基板に対する液体の均一な塗布を高スループットにて行うことができる。
特開2003−142260号公報 特開2003−217844号公報 特開2004−111073号公報
In Patent Document 3, an application unit that applies a liquid to a substrate by continuously scanning the nozzle while discharging a liquid containing a hole transport material or an organic EL material from the nozzle, and a substrate on which the liquid is applied On the other hand, a thin film forming apparatus including a bake unit that performs heat treatment is disclosed. Since the thin film forming apparatus does not include a unit that performs a process that requires a reduced-pressure atmosphere, the apparatus cost can be reduced and the control can be simplified. In addition, the thin film forming apparatus disclosed in Patent Document 3 can perform uniform liquid application on a substrate at a higher throughput than the apparatuses disclosed in Patent Document 1 and Patent Document 2 that perform application using an inkjet apparatus.
JP 2003-142260 A JP 2003-217844 A JP 2004-111073 A

ところで、基板の表面には、有機EL材料等を含む液体が塗布されるべき塗布領域(すなわち、発光領域)の周囲に、ドライバ回路が組み込まれた領域や絶縁膜による封止のために必要な領域が設けられている。有機EL表示装置の製造では、正孔輸送層や有機EL層の形成工程においてこれらの塗布領域の周囲の領域(以下、「塗布禁止領域」という。)に有機EL材料等を含む流動性材料が付着する可能性があり、流動性材料が付着した状態で後工程が行われると、電極の特性劣化や封止不良等が発生する可能性がある。   By the way, the surface of the substrate is necessary for sealing with a region where a driver circuit is incorporated or an insulating film around an application region (that is, a light emitting region) where a liquid containing an organic EL material or the like is to be applied. An area is provided. In the manufacture of an organic EL display device, a fluid material containing an organic EL material or the like is provided in a region around these application regions (hereinafter referred to as “application prohibited region”) in the step of forming a hole transport layer or an organic EL layer. If the post-process is performed in a state where the flowable material is adhered, there is a possibility that electrode characteristic deterioration, sealing failure, or the like may occur.

このため、塗布禁止領域に付着した流動性材料の除去を行う必要があるが、有機EL表示装置では、基板に塗布された後の有機EL材料等に水分や溶剤等が付着すると有機EL層の特性に悪影響が及ぼされるため、エッジリンスや酸洗浄等、溶剤を用いた除去方法を利用することができない。また、1枚の基板から複数の有機EL表示装置を製造する(いわゆる、多面取りを行う)場合、塗布禁止領域が基板の外周以外の部位にも設けられるため、エッジリンスによる除去を行うことはできない。   For this reason, it is necessary to remove the fluid material adhering to the application-prohibited region. However, in the organic EL display device, when water or a solvent adheres to the organic EL material applied to the substrate, the organic EL layer Since the properties are adversely affected, removal methods using a solvent such as edge rinsing and acid cleaning cannot be used. In addition, when a plurality of organic EL display devices are manufactured from one substrate (so-called multi-chamfering is performed), the application prohibited region is also provided at a portion other than the outer periphery of the substrate, so that removal by edge rinsing is not performed. Can not.

本発明は、上記課題に鑑みなされたものであり、塗布禁止領域に付着した流動性材料を除去し、塗布領域のみに流動性材料が定着した基板を容易に得ることを主な目的としている。   The present invention has been made in view of the above problems, and has as its main object to easily obtain a substrate in which the fluid material is fixed only in the application region by removing the fluid material adhering to the application prohibited region.

請求項1に記載の発明は、基板に流動性材料を塗布する塗布システムであって、処理ユニット群と、前記処理ユニット群による処理前の未処理基板および前記処理ユニット群による処理後の処理済基板が載置されるインデクサと、前記インデクサおよび前記処理ユニット群に対して基板の受け渡しを行い、前記インデクサから前記処理ユニット群の少なくとも一部を経由して前記インデクサへと至る所定の搬送経路に沿って前記基板を搬送する基板搬送機構とを備え、前記処理ユニット群が、加熱機構が内蔵された基板保持部により保持される基板に向けて流動性材料をノズルから連続的に吐出しつつ前記ノズルを前記基板に対して相対的に移動し、前記基板上の塗布禁止領域を含む領域に前記流動性材料を塗布するとともに、前記加熱機構により前記流動性材料を生乾きの状態とする塗布ユニットと、前記塗布禁止領域に塗布された流動性材料に向けてエネルギー波または微粒子を照射して前記塗布禁止領域から前記流動性材料を除去する除去ユニットと、前記流動性材料が塗布された前記基板を加熱して前記流動性材料を前記基板上に定着させるベークユニットとを含み、前記除去ユニットが、前記ベークユニットにより加熱される前の前記基板から前記流動性材料を除去するThe invention according to claim 1 is a coating system for applying a flowable material to a substrate, the processing unit group, an unprocessed substrate before processing by the processing unit group, and a processing after processing by the processing unit group An indexer on which a substrate is placed, and the delivery of the substrate to the indexer and the processing unit group, and a predetermined transport path from the indexer to the indexer via at least a part of the processing unit group A substrate transport mechanism that transports the substrate along the substrate, and the processing unit group continuously discharges the flowable material from the nozzle toward the substrate held by the substrate holding unit in which the heating mechanism is built. relatively moving the nozzle relative to the substrate, thereby applying the flowable material in a region including the coating prohibition region on the substrate, the heating mechanism A coating unit for more said flowable material half-dried state, removal of removing the flowable material by irradiating an energy wave or particle toward the flowable material applied to said coating forbidden area from the coating prohibition region seen containing a unit, and the flowable material is the flowable material and heating the substrate coated bake unit for fixing on the substrate, wherein the removal unit, wherein before being heated by the bake unit The flowable material is removed from the substrate .

請求項2に記載の発明は、請求項1に記載の塗布システムであって、前記処理ユニット群が、前記基板を一時的に保持するバッファユニットをさらに含む。   A second aspect of the present invention is the coating system according to the first aspect, wherein the processing unit group further includes a buffer unit that temporarily holds the substrate.

請求項3に記載の発明は、請求項1または2に記載の塗布システムであって、前記処理ユニット群のうち、前記除去ユニットが、他のいずれの処理ユニットよりも前記インデクサに近い位置に配置される。   Invention of Claim 3 is an application | coating system of Claim 1 or 2, Comprising: The said removal unit is arrange | positioned in the position closer to the said indexer than any other processing unit among the said processing unit groups. Is done.

請求項4に記載の発明は、請求項1ないし3のいずれかに記載の塗布システムであって、前記除去ユニットにより前記基板上の前記塗布禁止領域に向けて行われる前記エネルギー波の照射が、レーザ光の照射である。   Invention of Claim 4 is an application | coating system in any one of Claim 1 thru | or 3, Comprising: The irradiation of the said energy wave performed toward the said application | coating prohibition area | region on the said board | substrate by the said removal unit, Laser light irradiation.

請求項5に記載の発明は、請求項1ないし4のいずれかに記載の塗布システムであって、前記基板が、有機EL表示装置用のガラス基板である。   A fifth aspect of the present invention is the coating system according to any one of the first to fourth aspects, wherein the substrate is a glass substrate for an organic EL display device.

請求項6に記載の発明は、請求項5に記載の塗布システムであって、前記流動性材料が正孔輸送材料を含む。   A sixth aspect of the present invention is the coating system according to the fifth aspect, wherein the flowable material includes a hole transport material.

請求項7に記載の発明は、請求項5に記載の塗布システムであって、前記流動性材料が有機EL材料である。   The invention according to claim 7 is the coating system according to claim 5, wherein the fluid material is an organic EL material.

請求項に記載の発明は、請求項1ないし7のいずれかに記載の塗布システムであって、前記基板搬送機構が、前記基板を前記塗布ユニットから前記除去ユニットへと搬送する際に保持する保持部と、前記基板を前記除去ユニットから前記ベークユニットへと搬送する際に保持するもう1つの保持部とを備える。 Invention of Claim 8 is an application | coating system in any one of Claim 1 thru | or 7, Comprising : When the said board | substrate conveyance mechanism conveys the said board | substrate from the said coating unit to the said removal unit, it hold | maintains. A holding unit and another holding unit configured to hold the substrate when the substrate is transported from the removal unit to the bake unit.

請求項に記載の発明は、請求項7に記載の塗布システムであって、前記塗布ユニットが、複数の流動性材料をそれぞれ吐出する複数のノズルを備え、前記複数の流動性材料が、互いに色が異なる複数の有機EL材料をそれぞれ含む。 Invention of Claim 9 is an application | coating system of Claim 7, Comprising: The said application unit is provided with the some nozzle which discharges several fluid material, respectively, These fluid materials are mutually A plurality of organic EL materials having different colors are included.

請求項10に記載の発明は、請求項7に記載の塗布システムであって、前記処理ユニット群が、もう1つの塗布ユニットをさらに含み、前記塗布ユニットが、一の色の有機EL材料を含む第1流動性材料を前記基板に塗布し、前記もう1つの塗布ユニットが、前記一の色とは異なる他の一の色の有機EL材料を含む第2流動性材料を前記基板に塗布する。 The invention described in claim 10 is the coating system according to claim 7, wherein the processing unit group further includes another coating unit, and the coating unit includes an organic EL material of one color. A first fluid material is applied to the substrate, and the other application unit applies a second fluid material containing an organic EL material of another color different from the one color to the substrate.

請求項11に記載の発明は、請求項10に記載の塗布システムであって、前記除去ユニットが、前記塗布禁止領域からの前記第1流動性材料の除去および前記第2流動性材料の除去を並行して行う。 The invention of claim 11 is a coating system according to claim 10, wherein the removal unit, the removal and elimination of the second flowable material of the first flowable material from the coating prohibition region Do it in parallel.

請求項12に記載の発明は、請求項11に記載の塗布システムであって、前記処理ユニット群がもう1つのベークユニットをさらに含み、前記基板搬送機構が、前記塗布ユニット、前記ベークユニット、前記もう1つの塗布ユニット、前記もう1つのベークユニットおよび前記除去ユニットの順に前記基板を搬送する。 The invention according to claim 12 is the coating system according to claim 11 , wherein the processing unit group further includes another baking unit, and the substrate transport mechanism includes the coating unit, the baking unit, and the baking unit. The substrate is transferred in the order of another coating unit, the other baking unit, and the removing unit.

請求項13に記載の発明は、請求項5に記載の塗布システムであって、前記処理ユニット群が、もう1つの塗布ユニットをさらに含み、前記塗布ユニットが、正孔輸送材料を含む第1流動性材料を前記基板に塗布し、前記もう1つの塗布ユニットが、有機EL材料を含む第2流動性材料を前記基板に塗布する。 The invention according to claim 13 is the coating system according to claim 5, wherein the processing unit group further includes another coating unit, and the coating unit includes a first flow including a hole transport material. A conductive material is applied to the substrate, and the second application unit applies a second fluid material containing an organic EL material to the substrate.

請求項14に記載の発明は、請求項13に記載の塗布システムであって、前記処理ユニット群が、もう1つの除去ユニットをさらに含み、前記除去ユニットが、前記塗布禁止領域から前記第1流動性材料を除去し、前記もう1つの除去ユニットが、前記塗布禁止領域から前記第2流動性材料を除去する。 The invention described in claim 14 is the coating system according to claim 13 , wherein the processing unit group further includes another removal unit, and the removal unit is moved from the coating prohibited area to the first flow. And the second removal unit removes the second fluid material from the application-prohibited area.

請求項15に記載の発明は、請求項2に記載の塗布システムであって、前記処理ユニット群が、もう1つの塗布ユニットおよびもう1つの除去ユニットをさらに含み、前記塗布ユニットおよび前記除去ユニットが前記バッファユニットの一方側に配列されるとともに前記もう1つの塗布ユニットおよび前記もう1つの除去ユニットが前記バッファユニットの他方側に配列され、前記塗布ユニットが、正孔輸送材料を含む第1流動性材料を前記基板に塗布し、前記除去ユニットが、前記塗布禁止領域から前記第1流動性材料を除去し、前記もう1つの塗布ユニットが、有機EL材料を含む第2流動性材料を前記基板に塗布し、前記もう1つの除去ユニットが、前記塗布禁止領域から前記第2流動性材料を除去する。 The invention according to claim 15 is the coating system according to claim 2, wherein the processing unit group further includes another coating unit and another removal unit, and the coating unit and the removal unit are A first fluidity which is arranged on one side of the buffer unit and wherein the another application unit and the other removal unit are arranged on the other side of the buffer unit, the application unit comprising a hole transport material; A material is applied to the substrate, the removal unit removes the first fluid material from the application prohibited area, and the other application unit applies a second fluid material containing an organic EL material to the substrate. Applying, the another removal unit removes the second flowable material from the application prohibited area.

請求項16に記載の発明は、請求項1ないし15に記載の塗布システムであって、前記処理ユニット群による前記基板の処理が常圧下において行われる。 A sixteenth aspect of the present invention is the coating system according to the first to fifteenth aspects, wherein the processing of the substrate by the processing unit group is performed under normal pressure.

本発明では、塗布領域のみに流動性材料が定着した基板を容易に得ることができる。請求項2および11の発明では、基板の処理時間を短縮することができる。請求項3の発明では、塗布ユニットおよびベークユニットを容易に増設することができる。 In the present invention, it is possible to easily obtain a substrate in which the fluid material is fixed only in the application region. In the inventions of claims 2 and 11 , the processing time of the substrate can be shortened. In the invention of claim 3, the coating unit and the bake unit can be easily added.

請求項4の発明では、流動性材料を位置精度良く除去することができる。請求項の発明では、流動性材料を容易に除去することができる。請求項の発明では、流動性材料が搬送機構を介してベークユニットに付着することを防止することができる。 In the invention of claim 4, the fluid material can be removed with high positional accuracy. In the invention of claim 1 , the fluid material can be easily removed. In invention of Claim 8 , it can prevent that fluid material adheres to a bake unit via a conveyance mechanism.

請求項の発明では、複数の流動性材料を並行して基板に塗布することができる。請求項10および12の発明では、複数の流動性材料を各流動性材料に適した塗布条件下で基板に塗布することができる。請求項12の発明では、さらに、複数の流動性材料を各流動性材料に適した温度条件にて加熱することができる。 In the invention of claim 9 , a plurality of flowable materials can be applied to the substrate in parallel. In the inventions of claims 10 and 12 , a plurality of fluid materials can be applied to the substrate under application conditions suitable for each fluid material. In the twelfth aspect of the present invention, it is possible to heat a plurality of flowable materials under temperature conditions suitable for each flowable material.

請求項15の発明では、正孔輸送材料の処理に係る処理ユニットと有機EL材料の処理に係る処理ユニットとの間における雰囲気の移動を抑制することができる。請求項16の発明では、塗布システムの構成を簡素化することができる。 According to the fifteenth aspect of the present invention, it is possible to suppress the movement of the atmosphere between the processing unit related to the hole transport material processing and the processing unit related to the organic EL material processing. In the invention of claim 16 , the configuration of the coating system can be simplified.

図1は、本発明の第1の実施の形態に係る塗布システム1の構成を示す図である。塗布システム1は、有機EL(Electro Luminescence)表示装置用のガラス基板(以下、単に「基板」という。)に流動性材料を塗布するシステムであって、本実施の形態では、アクティブマトリックス駆動方式の有機EL表示装置用の基板に、正孔輸送材料および有機EL材料をそれぞれ含む流動性材料が塗布される(以下の実施の形態においても同様)。塗布システム1では、TFT回路、ITO電極および隔壁が形成された基板上に正孔輸送材料の層(以下、「正孔輸送層」という。)および有機EL材料の層(以下、「有機EL層」という。)が形成される。   FIG. 1 is a diagram showing a configuration of a coating system 1 according to the first embodiment of the present invention. The application system 1 is a system that applies a flowable material to a glass substrate (hereinafter simply referred to as “substrate”) for an organic EL (Electro Luminescence) display device. In the present embodiment, the application system 1 uses an active matrix drive system. A fluid material containing a hole transport material and an organic EL material is applied to a substrate for an organic EL display device (the same applies to the following embodiments). In the coating system 1, a layer of a hole transport material (hereinafter referred to as “hole transport layer”) and a layer of an organic EL material (hereinafter referred to as “organic EL layer”) are formed on a substrate on which a TFT circuit, an ITO electrode and a partition wall are formed. ") Is formed.

ここで、「正孔輸送層」とは、正孔を有機EL層へと輸送する狭義の正孔輸送層のみを意味するのではなく、狭義の正孔輸送層の他に正孔の注入を行う正孔注入層も含む。また、「正孔輸送材料」とは、狭義の正孔輸送材料の他に正孔注入材料も含む。   Here, the “hole transport layer” does not mean only a narrow hole transport layer that transports holes to the organic EL layer, but injects holes other than the narrow hole transport layer. Also included is a hole injection layer to be performed. The “hole transport material” includes a hole injection material in addition to a hole transport material in a narrow sense.

図1に示すように、塗布システム1は、複数の処理ユニットを含む処理ユニット群2、処理ユニット群2による処理が行われる前の未処理基板および処理が行われた後の処理済基板が載置される基板搬入搬出部としてのインデクサ3、並びに、処理ユニット群2およびインデクサ3に対して基板の受け渡しを行い、インデクサ3から処理ユニット群2の少なくとも一部を経由してインデクサ3へと至る所定の搬送経路に沿って基板を搬送する基板搬送機構であるマルチ搬送ロボット4を備える。塗布システム1では、処理ユニット群2の複数の処理ユニットによる基板の処理が常圧下において行われる。   As shown in FIG. 1, the coating system 1 includes a processing unit group 2 including a plurality of processing units, an unprocessed substrate before processing by the processing unit group 2 and a processed substrate after processing is performed. The substrate is transferred to the indexer 3 serving as a substrate loading / unloading unit and the processing unit group 2 and the indexer 3, and reaches the indexer 3 from the indexer 3 via at least a part of the processing unit group 2. A multi-transport robot 4 which is a substrate transport mechanism for transporting a substrate along a predetermined transport path is provided. In the coating system 1, the substrate processing by the plurality of processing units in the processing unit group 2 is performed under normal pressure.

処理ユニット群2は、正孔輸送材料を含む流動性材料である正孔輸送液を基板に向けて連続的に吐出して基板に正孔輸送液を塗布する正孔輸送塗布ユニット21、正孔輸送液が塗布された基板を加熱することにより正孔輸送液を基板上に定着させて(すなわち、正孔輸送液を乾燥させて正孔輸送液に含まれる正孔輸送材料を基板上に固着させて)正孔輸送材料の層(すなわち、正孔輸送層)を基板上に形成する正孔輸送ベークユニット22、有機EL材料を含む流動性材料である有機EL液を正孔輸送層が形成された基板に向けて連続的に吐出して基板に有機EL液を塗布する有機EL塗布ユニット24、および、有機EL液が塗布された基板を加熱することにより有機EL液を基板上に定着させて(すなわち、有機EL液を乾燥させて有機EL液に含まれる有機EL材料を基板上に固着させて)有機EL材料の層(すなわち、有機EL層)を基板上の正孔輸送層上に形成する有機ELベークユニット25を含む。   The processing unit group 2 includes a hole transport coating unit 21 that continuously ejects a hole transport liquid, which is a fluid material containing a hole transport material, toward the substrate and applies the hole transport liquid to the substrate. The hole transport liquid is fixed on the substrate by heating the substrate coated with the transport liquid (that is, the hole transport liquid is dried and the hole transport material contained in the hole transport liquid is fixed on the substrate). A hole transport bake unit 22 that forms a layer of a hole transport material (ie, a hole transport layer) on the substrate, and an organic EL liquid that is a fluid material containing the organic EL material is formed by the hole transport layer. The organic EL application unit 24 that continuously discharges the organic EL liquid onto the substrate and applies the organic EL liquid onto the substrate, and the organic EL liquid is fixed on the substrate by heating the substrate on which the organic EL liquid is applied. (That is, the organic EL liquid is dried and organic The organic EL material contained in the L solution is fixed on a substrate) layer of an organic EL material (i.e., the organic EL layer) containing an organic EL baking unit 25 for forming the hole transport layer on the substrate.

図2は、基板9を示す平面図である。図2では、基板9上において正孔輸送液および有機EL液が塗布されて正孔輸送層および有機EL層が形成される領域(以下、「塗布領域」という。)91に平行斜線を付す。本実施の形態では、基板9上に4つの塗布領域91が設けられ、1枚の基板9から4つの有機EL表示装置が製造される。4つの塗布領域91の周囲の格子状の領域92は、ドライバ回路の組み込みや後工程における絶縁膜による封止等に利用されるため、正孔輸送層や有機EL層が形成されるべきではない領域であり、以下、「塗布禁止領域92」という。   FIG. 2 is a plan view showing the substrate 9. In FIG. 2, parallel oblique lines are applied to a region 91 (hereinafter referred to as “coating region”) where a hole transport liquid and an organic EL liquid are applied on the substrate 9 to form a hole transport layer and an organic EL layer. In the present embodiment, four application regions 91 are provided on the substrate 9, and four organic EL display devices are manufactured from one substrate 9. Since the lattice-shaped region 92 around the four coating regions 91 is used for incorporating a driver circuit or sealing with an insulating film in a later process, a hole transport layer or an organic EL layer should not be formed. This region is hereinafter referred to as “application prohibited region 92”.

図1に示すように、処理ユニット群2は、正孔輸送塗布ユニット21により正孔輸送液が塗布された基板9の塗布禁止領域92から正孔輸送液を除去する正孔輸送除去ユニット23、および、有機EL塗布ユニット24により有機EL液が塗布された基板9の塗布禁止領域92から有機EL液を除去する有機EL除去ユニット26をさらに含む。正孔輸送除去ユニット23では、基板9上の塗布禁止領域92に塗布された正孔輸送液に向けてエネルギー波を照射することにより塗布禁止領域92から正孔輸送液が除去される。有機EL除去ユニット26においても同様に、基板9上の塗布禁止領域92に塗布された有機EL液に向けてエネルギー波を照射することにより塗布禁止領域92から有機EL液が除去される。本実施の形態では、正孔輸送除去ユニット23および有機EL除去ユニット26により基板9上の塗布禁止領域92に向けて行われるエネルギー波の照射は、レーザ光の照射による光エネルギーの照射であり、塗布禁止領域92上の正孔輸送液および有機EL液は、レーザアブレーションによって気化することにより塗布禁止領域92上から除去される(以下の実施の形態においても同様)。   As shown in FIG. 1, the processing unit group 2 includes a hole transport removal unit 23 that removes the hole transport liquid from the coating prohibited region 92 of the substrate 9 on which the hole transport liquid is coated by the hole transport coating unit 21. The organic EL removal unit 26 further removes the organic EL solution from the application prohibited area 92 of the substrate 9 on which the organic EL solution has been applied by the organic EL application unit 24. In the hole transport removal unit 23, the hole transport liquid is removed from the coating prohibited area 92 by irradiating energy waves toward the hole transport liquid applied to the coating prohibited area 92 on the substrate 9. Similarly, in the organic EL removal unit 26, the organic EL liquid is removed from the application prohibited area 92 by irradiating the organic EL liquid applied to the application prohibited area 92 on the substrate 9 with energy waves. In the present embodiment, the energy wave irradiation performed by the hole transport removal unit 23 and the organic EL removal unit 26 toward the coating prohibited region 92 on the substrate 9 is light energy irradiation by laser light irradiation, The hole transport liquid and the organic EL liquid on the coating prohibited area 92 are removed from the coating prohibited area 92 by vaporizing by laser ablation (the same applies to the following embodiments).

処理ユニット群2では、マルチ搬送ロボット4が移動する直線状の移動路41の一方側に、正孔輸送塗布ユニット21、正孔輸送ベークユニット22および正孔輸送除去ユニット23が配列されており、移動路41の他方側に有機EL塗布ユニット24、有機ELベークユニット25および有機EL除去ユニット26が配列されている。塗布システム1では、処理ユニット群2のうち、正孔輸送除去ユニット23および有機EL除去ユニット26が、他のいずれの処理ユニット(すなわち、正孔輸送塗布ユニット21、正孔輸送ベークユニット22、有機EL塗布ユニット24および有機ELベークユニット25)よりもインデクサ3に近い位置に配置される。   In the processing unit group 2, a hole transport coating unit 21, a hole transport bake unit 22, and a hole transport removal unit 23 are arranged on one side of a linear moving path 41 along which the multi-transport robot 4 moves. On the other side of the moving path 41, an organic EL coating unit 24, an organic EL baking unit 25, and an organic EL removal unit 26 are arranged. In the coating system 1, in the processing unit group 2, the hole transport removal unit 23 and the organic EL removal unit 26 are any other processing units (that is, the hole transport coating unit 21, the hole transport bake unit 22, the organic The EL coating unit 24 and the organic EL baking unit 25) are disposed at a position closer to the indexer 3 than the EL coating unit 24 and the organic EL baking unit 25).

インデクサ3は、複数枚の基板9をそれぞれ収容する複数のカセット90が載置されるカセット載置部31、処理ユニット群2側に設けられてカセット90に対する基板9の搬出および搬入を行うインデクサロボット32を備える。インデクサ3は、クリーンルーム通路(図示省略)に面しており、クリーンルーム通路を走行する運搬装置(図示省略)により、処理前の未処理基板が収容されたカセット90がインデクサ3に搬入されてカセット載置部31に載置され、また、処理後の処理済基板が収容されたカセット90がインデクサ3から搬出される。   The indexer 3 is provided on the cassette mounting unit 31 on which a plurality of cassettes 90 that respectively accommodate a plurality of substrates 9 are mounted, and on the processing unit group 2 side, and an indexer robot that carries the substrates 9 to and from the cassettes 90. 32. The indexer 3 faces a clean room passage (not shown), and a cassette 90 containing unprocessed substrates before processing is carried into the indexer 3 by a transport device (not shown) traveling in the clean room passage. The cassette 90 placed on the placement unit 31 and containing the processed substrate after processing is unloaded from the indexer 3.

インデクサロボット32は、マルチ搬送ロボット4の移動路41と略垂直な直線状の移動路33を移動して各カセット90に対応する位置に位置する。また、インデクサロボット32がマルチ搬送ロボット4との間で基板9の受け渡しを行うことにより、インデクサ3と処理ユニット群2との間における基板9の移送が行われる。   The indexer robot 32 moves along a linear movement path 33 substantially perpendicular to the movement path 41 of the multi-transport robot 4 and is positioned at a position corresponding to each cassette 90. Further, the indexer robot 32 delivers the substrate 9 to and from the multi-transport robot 4, whereby the substrate 9 is transferred between the indexer 3 and the processing unit group 2.

図3は、インデクサロボット32およびマルチ搬送ロボット4を示す図である。図3に示すように、インデクサロボット32は、基板9を保持する2つのハンド321,322、ハンド321,322を基台部323に対して個別に進退させる進退機構324,325、および、基台部323を移動する基台部移動機構(図示省略)を備える。進退機構324,325は多関節アーム型であり、ハンド321,322を姿勢を保持した状態で水平方向に進退させる。インデクサロボット32の基台部323は、基台部移動機構により、移動路33(図1参照)上を水平方向に移動するとともに垂直方向に昇降し、さらに、垂直方向を向く回転軸を中心として回転する。   FIG. 3 is a diagram showing the indexer robot 32 and the multi-transport robot 4. As shown in FIG. 3, the indexer robot 32 includes two hands 321 and 322 that hold the substrate 9, advance / retreat mechanisms 324 and 325 that individually advance and retract the hands 321 and 322 with respect to the base unit 323, and a base The base part moving mechanism (illustration omitted) which moves the part 323 is provided. The advance / retreat mechanisms 324 and 325 are multi-joint arm types, and advance and retract the hands 321 and 322 in the horizontal direction while maintaining their postures. The base part 323 of the indexer robot 32 moves on the moving path 33 (see FIG. 1) in the horizontal direction and moves up and down in the vertical direction by the base part moving mechanism, and further, with the rotation axis pointing in the vertical direction as the center. Rotate.

マルチ搬送ロボット4も、インデクサロボット32と同様に、基板9を保持する保持部である2つのハンド421,422、ハンド421,422を基台部423に対して個別に進退させる進退機構424,425、および、基台部423を移動する基台部移動機構(図示省略)を備える。進退機構424,425は多関節アーム型であり、ハンド421,422を姿勢を保持した状態で水平方向に進退させる。また、基台部移動機構により、基台部423が移動路41に沿って水平方向に移動するとともに垂直方向に昇降し、さらに、垂直方向を向く回転軸を中心として回転する。   Similarly to the indexer robot 32, the multi-transport robot 4 also has two hands 421 and 422, which are holding parts for holding the substrate 9, and advance / retreat mechanisms 424 and 425 that advance and retreat the base part 423 individually. And a base part moving mechanism (not shown) for moving the base part 423. The advance / retreat mechanisms 424 and 425 are multi-joint arm types, and advance and retract the hands 421 and 422 in the horizontal direction while maintaining their postures. Further, the base part 423 moves in the horizontal direction along the movement path 41 and moves up and down in the vertical direction by the base part moving mechanism, and further rotates around the rotation axis facing the vertical direction.

図1に示す塗布システム1では、インデクサロボット32から基板9を受け取ったマルチ搬送ロボット4が、移動路41上を移動して処理ユニット群2の各処理ユニットにアクセスし、基板9を保持するハンド421,422が進退機構424,425により進退することにより、各処理ユニットに対する基板9の搬入および搬出が行われ、さらに、マルチ搬送ロボット4からインデクサロボット32へと処理後の基板9が渡されることにより基板9が処理ユニット群2から搬出される。このように、塗布システム1では、マルチ搬送ロボット4により基板9が所定の搬送経路に沿って搬送される。   In the coating system 1 shown in FIG. 1, the multi-transport robot 4 that has received the substrate 9 from the indexer robot 32 moves on the moving path 41 to access each processing unit of the processing unit group 2 and holds the substrate 9. When the substrates 421 and 422 are advanced and retracted by the advance / retreat mechanisms 424 and 425, the substrate 9 is carried into and out of each processing unit, and the processed substrate 9 is transferred from the multi-transport robot 4 to the indexer robot 32. Thus, the substrate 9 is unloaded from the processing unit group 2. As described above, in the coating system 1, the substrate 9 is transported along the predetermined transport path by the multi-transport robot 4.

ここで、「搬送経路」とは、基板搬送機構により搬送される基板9が移動する経路を意味する。例えば、本実施の形態のように、移動するマルチ搬送ロボット4により基板9が搬送される場合には、搬送経路は、ハンド421,422により保持された状態でマルチ搬送ロボット4が移動することにより基板9が移動する経路、および、ハンド421,422が進退機構424,425により進退することにより基板9が移動する経路となり、また、固定された複数の搬送アーム等により基板9が各ユニット間を順次搬送される場合には、搬送経路は当該複数の搬送アームにより基板9が移動する経路となる。   Here, the “transport route” means a route along which the substrate 9 transported by the substrate transport mechanism moves. For example, when the substrate 9 is transported by the moving multi-transport robot 4 as in the present embodiment, the transport path is as the multi-transport robot 4 moves while being held by the hands 421 and 422. A path through which the board 9 moves and a path through which the hands 421 and 422 move back and forth by the advancing / retreating mechanisms 424 and 425, and the board 9 moves between the units by a plurality of fixed transfer arms or the like. When sequentially transported, the transport path is a path along which the substrate 9 is moved by the plurality of transport arms.

図4は、正孔輸送除去ユニット23の構成を示す正面図である。正孔輸送除去ユニット23は、基板9を保持する基板保持部231、基板9を互いに垂直な2つの水平方向(すなわち、図4中の左右方向および奥行き方向)に移動する基板移動機構232、基板9の塗布禁止領域92にレーザ光を照射して塗布された正孔輸送液を除去する除去ヘッド233、および、これらの構成を制御する制御部234を備える。   FIG. 4 is a front view showing the configuration of the hole transport removal unit 23. The hole transport removal unit 23 includes a substrate holding unit 231 that holds the substrate 9, a substrate moving mechanism 232 that moves the substrate 9 in two horizontal directions perpendicular to each other (that is, the left-right direction and the depth direction in FIG. 4), a substrate 9 is provided with a removal head 233 that removes the hole transport liquid applied by irradiating laser beam to the 9 coating prohibited areas 92 and a control unit 234 that controls these configurations.

図5は、除去ヘッド233の内部構成を拡大して示す正面図である。図5では、除去ヘッド233のハウジング2330に収容される構成を説明するため、ハウジング2330の内部を描いている。図5に示すように、除去ヘッド233は、レーザ光を出射するレーザ照射部2331、レーザアブレーションにより気化された除去物(すなわち、正孔輸送液)を吸引する吸引部2332、および、これらの構成を収容するハウジング2330を備える。   FIG. 5 is an enlarged front view showing the internal configuration of the removal head 233. In FIG. 5, the inside of the housing 2330 is drawn to describe the configuration of the removal head 233 accommodated in the housing 2330. As shown in FIG. 5, the removal head 233 includes a laser irradiation unit 2331 that emits laser light, a suction unit 2332 that sucks a removed material (that is, a hole transport liquid) vaporized by laser ablation, and a configuration thereof. A housing 2330 is provided.

レーザ照射部2331は、高強度のパルスレーザ光を発振するレーザ発振器2333、レーザ発振器2333からのレーザ光を拡大する拡大光学系2334、拡大光学系2334からのレーザ光の断面形状をスリット状(幅の狭い矩形状)に整形するマスク2335、および、マスク2335により整形されたレーザ光を集束させつつ基板9へと導く縮小光学系2336を備える。図5では、レーザ発振器2333から基板9へと導かれるレーザ光の主軸を破線にて示している。吸引部2332は、基板9に向けて突出する吸引ノズル2337を備え、レーザ照射部2331からのレーザ光が照射される基板9上の領域の上方において周囲のガスを吸引する。   The laser irradiation unit 2331 includes a laser oscillator 2333 that oscillates high-intensity pulsed laser light, a magnifying optical system 2334 that magnifies laser light from the laser oscillator 2333, and a cross-sectional shape of the laser light from the magnifying optical system 2334 that is slit-shaped (width). And a reduction optical system 2336 that guides the laser light shaped by the mask 2335 to the substrate 9 while focusing the laser light. In FIG. 5, the main axis of the laser beam guided from the laser oscillator 2333 to the substrate 9 is indicated by a broken line. The suction unit 2332 includes a suction nozzle 2337 that protrudes toward the substrate 9, and sucks ambient gas above a region on the substrate 9 irradiated with the laser light from the laser irradiation unit 2331.

図4に示す正孔輸送除去ユニット23により基板9上の塗布禁止領域92(図2参照)から正孔輸送液が除去される際には、まず、基板移動機構232により基板9が移動されて除去開始位置に位置する。すなわち、基板9の塗布禁止領域92の端部が、除去ヘッド233の縮小光学系2336の下方に位置する。   When the hole transport liquid is removed from the coating prohibited area 92 (see FIG. 2) on the substrate 9 by the hole transport removal unit 23 shown in FIG. 4, first, the substrate 9 is moved by the substrate moving mechanism 232. Located at the removal start position. That is, the end portion of the coating prohibited area 92 of the substrate 9 is positioned below the reduction optical system 2336 of the removal head 233.

続いて、基板9が静止した状態において、吸引部2332による吸引が開始されるとともにレーザ照射部2331から塗布禁止領域92に向けてパルスレーザ光の照射が開始される。塗布禁止領域92では、レーザ光の照射が繰り返し行われることにより、レーザアブレーションが繰り返し生じ、これにより、基板9の塗布禁止領域92に付着している正孔輸送液が気化されて除去される。気化された正孔輸送液は、吸引部2332により周囲のガスと共に吸引される。その結果、気化した正孔輸送液が基板9や正孔輸送除去ユニット23に再付着することが防止される。   Subsequently, in a state where the substrate 9 is stationary, suction by the suction unit 2332 is started and irradiation of pulsed laser light from the laser irradiation unit 2331 toward the application prohibited region 92 is started. In the coating prohibited area 92, laser ablation is repeatedly generated by repeatedly performing laser light irradiation, whereby the hole transport liquid adhering to the coating prohibited area 92 of the substrate 9 is vaporized and removed. The vaporized hole transport liquid is sucked together with the surrounding gas by the suction unit 2332. As a result, the vaporized hole transport liquid is prevented from reattaching to the substrate 9 and the hole transport removal unit 23.

正孔輸送除去ユニット23では、所定のパルス数のレーザ光が基板9上の一の照射領域に照射されると、基板移動機構232により基板9が移動されて塗布禁止領域92におけるレーザ光が照射される領域が移動する。そしてレーザ光の照射および基板9の移動が繰り返されることにより、基板9上の塗布禁止領域92の全域に対してレーザ光が照射され、塗布禁止領域92に付着した正孔輸送液が除去される。   In the hole transport removal unit 23, when a laser beam having a predetermined number of pulses is irradiated to one irradiation region on the substrate 9, the substrate 9 is moved by the substrate moving mechanism 232, and the laser beam is irradiated in the coating prohibited region 92. Area to be moved. Then, by repeating the laser light irradiation and the movement of the substrate 9, the entire region of the coating prohibited area 92 on the substrate 9 is irradiated with the laser light, and the hole transport liquid adhering to the coating prohibited area 92 is removed. .

有機EL除去ユニット26は、図4に示す正孔輸送除去ユニット23と同様の構造を有するため、図示を省略する。有機EL除去ユニット26は、正孔輸送除去ユニット23と同様に、基板9を保持する基板保持部、基板9を移動する基板移動機構、基板9の塗布禁止領域92にレーザ光を照射して塗布された有機EL液を除去する除去ヘッド、および、これらの構成を制御する制御部を備える。   The organic EL removal unit 26 has the same structure as the hole transport removal unit 23 shown in FIG. Similarly to the hole transport removal unit 23, the organic EL removal unit 26 applies a laser beam to the substrate holding unit that holds the substrate 9, the substrate moving mechanism that moves the substrate 9, and the coating prohibited area 92 of the substrate 9. The removal head which removes the organic EL liquid which was made, and the control part which controls these structures are provided.

除去ヘッドの内部構成も、図5に示す正孔輸送除去ユニット23の除去ヘッド233と同様である。有機EL除去ユニット26でも、正孔輸送除去ユニット23と同様に、除去ヘッドのレーザ照射部からのパルスレーザ光の照射によるレーザアブレーションにより、基板9の塗布禁止領域92から有機EL液を気化させて除去し、吸引部により気化した有機EL液を周囲のガスと共に吸引することにより、除去された有機EL液が、基板9や有機EL除去ユニット26に再付着することが防止される。   The internal configuration of the removal head is the same as that of the removal head 233 of the hole transport removal unit 23 shown in FIG. In the organic EL removal unit 26, as in the hole transport removal unit 23, the organic EL liquid is vaporized from the coating prohibited area 92 of the substrate 9 by laser ablation by pulse laser light irradiation from the laser irradiation part of the removal head. By removing the organic EL liquid that has been removed and vaporized by the suction unit together with the surrounding gas, the removed organic EL liquid is prevented from reattaching to the substrate 9 or the organic EL removal unit 26.

図6および図7は、有機EL塗布ユニット24の構成を示す平面図および正面図である。図7に示すように、有機EL塗布ユニット24は、図示しないヒータによる加熱機構を内蔵するとともに基板9を保持する基板保持部241、および、基板保持部241を所定の移動方向(すなわち、図6中における上下方向)に水平移動するとともに垂直方向に向く軸を中心として回転する基板移動機構242を備え、また、図6および図7に示すように、基板9上に形成されたアライメントマーク(図示省略)を撮像して検出するアライメントマーク検出部243、基板保持部241上の基板9に向けて有機EL液を吐出して塗布する塗布ヘッド244、塗布ヘッド244を基板保持部241の移動方向とは垂直な水平方向(すなわち、図6中における左右方向)に移動するヘッド移動機構245、および、これらの構成を制御する制御部を備える。   6 and 7 are a plan view and a front view showing the configuration of the organic EL coating unit 24. As shown in FIG. 7, the organic EL coating unit 24 incorporates a heating mechanism using a heater (not shown) and holds the substrate 9 and the substrate holder 241 in a predetermined movement direction (that is, FIG. 6). A substrate moving mechanism 242 that horizontally moves in the vertical direction and rotates about an axis that is oriented in the vertical direction is provided. As shown in FIGS. 6 and 7, alignment marks (illustrated) formed on the substrate 9 are provided. An alignment mark detection unit 243 for imaging and detecting, a coating head 244 for discharging and applying an organic EL liquid toward the substrate 9 on the substrate holding unit 241, and a movement direction of the substrate holding unit 241. Is a head moving mechanism 245 that moves in the vertical horizontal direction (that is, the left-right direction in FIG. 6), and a control that controls these components. Equipped with a.

塗布ヘッド244は、有機EL液をそれぞれ吐出する3本のノズル247a,247b,247c、および、3本のノズル247a〜247cに有機EL液をそれぞれ供給する塗布液供給部248a,248b,248cを備える。ノズル247a〜247cは、図6中における左右方向(すなわち、塗布ヘッド244の移動方向)に略直線状に配列されるとともに図6中における上下方向(すなわち、基板9の移動方向)に僅かにずれて配置される。図6中における上下方向に関し、ノズル247aとノズル247bとの間の距離、および、ノズル247bとノズル247cとの間の距離は、基板9上に予め形成されている図6中の左右方向に伸びる隔壁間のピッチ(以下、「隔壁ピッチ」という。)と等しくされる。   The coating head 244 includes three nozzles 247a, 247b, and 247c that discharge the organic EL liquid, and coating liquid supply units 248a, 248b, and 248c that supply the organic EL liquid to the three nozzles 247a to 247c, respectively. . The nozzles 247a to 247c are arranged substantially linearly in the left-right direction in FIG. 6 (that is, the moving direction of the coating head 244) and are slightly shifted in the vertical direction in FIG. 6 (that is, the moving direction of the substrate 9). Arranged. 6, the distance between the nozzle 247a and the nozzle 247b and the distance between the nozzle 247b and the nozzle 247c extend in the left-right direction in FIG. It is made equal to the pitch between the partition walls (hereinafter referred to as “partition wall pitch”).

塗布液供給部248aは、有機EL液を貯溜する貯溜タンク、貯溜タンクから有機EL液を吸引するポンプ、有機EL液の流量を検出する流量計、および、有機EL液中の異物を除去するフィルタを備え、流量計からの出力に基づいてポンプが制御部により制御されることにより、有機EL液が予め設定された設定流量にてノズル247aに供給されて基板9に向けて吐出される(塗布液供給部248b,248c、および、ノズル247b,247cにおいても同様)。塗布ヘッド244では、赤色(R)、緑色(G)、青色(B)と互いに色が異なる3種類の有機EL材料をそれぞれ含む3種類の有機EL液がそれぞれ、3つの塗布液供給部から3本のノズル247a〜247cに供給されて吐出される。   The coating liquid supply unit 248a includes a storage tank that stores the organic EL liquid, a pump that sucks the organic EL liquid from the storage tank, a flowmeter that detects the flow rate of the organic EL liquid, and a filter that removes foreign matter in the organic EL liquid. And the pump is controlled by the control unit based on the output from the flowmeter, whereby the organic EL liquid is supplied to the nozzle 247a at a preset flow rate and discharged toward the substrate 9 (application) The same applies to the liquid supply units 248b and 248c and the nozzles 247b and 247c). In the coating head 244, three types of organic EL liquids each including three types of organic EL materials having different colors from red (R), green (G), and blue (B) are respectively supplied from three coating liquid supply units. It is supplied to the nozzles 247a to 247c and discharged.

有機EL塗布ユニット24により有機EL液の塗布が行われる際には、まず、基板9が基板保持部241に載置されて保持され、アライメントマーク検出部243からの出力に基づいて基板移動機構242が駆動されて基板9が図6中に実線にて示す塗布開始位置に位置する。塗布ヘッド244は予め図6および図7中に実線にて示す位置に位置している。   When the organic EL liquid application is performed by the organic EL application unit 24, first, the substrate 9 is placed and held on the substrate holding unit 241, and the substrate moving mechanism 242 is based on the output from the alignment mark detection unit 243. Is driven and the substrate 9 is positioned at the application start position indicated by the solid line in FIG. The coating head 244 is previously positioned at a position indicated by a solid line in FIGS. 6 and 7.

続いて、塗布液供給部248a〜248cが制御されてノズル247a〜247cから有機EL液の吐出が開始されるとともに、ヘッド移動機構245が駆動されて塗布ヘッド244(すなわち、ノズル247a〜247c)の移動が開始される。有機EL塗布ユニット24では、塗布ヘッド244の3本のノズル247a〜247cから3種類の有機EL液を基板9に向けて連続的に吐出しつつ、ノズル247a〜247cを基板9に対して図6中の左側から右側へと相対的に移動することにより、基板9上に有機EL液がストライプ状に塗布される。基板9上の塗布領域91には上述のように複数の隔壁が予め形成されており、3種類の有機EL液は隔壁間の隣接する3つの溝部に塗布される。   Subsequently, the coating liquid supply units 248a to 248c are controlled to start discharging the organic EL liquid from the nozzles 247a to 247c, and the head moving mechanism 245 is driven to drive the coating head 244 (that is, the nozzles 247a to 247c). The move starts. In the organic EL coating unit 24, the three nozzles 247 a to 247 c of the coating head 244 are continuously discharged from the three nozzles 247 a to 247 c toward the substrate 9, while the nozzles 247 a to 247 c are ejected from the substrate 9 as shown in FIG. By relatively moving from the left side to the right side, the organic EL liquid is applied in a stripe pattern on the substrate 9. As described above, a plurality of partition walls are formed in advance in the application region 91 on the substrate 9, and three types of organic EL liquids are applied to adjacent three groove portions between the partition walls.

塗布ヘッド244が図6および図7中に二点鎖線にて示す位置まで移動すると、基板移動機構242が駆動され、基板9が基板保持部241と共に図6中の上側に隔壁ピッチの3倍の距離だけ移動する。そして、塗布ヘッド244が有機EL液を吐出しつつ図6中において右側から左側へと移動することにより、基板9上に3種類の有機EL液がストライプ状に塗布される。   When the coating head 244 moves to the position indicated by the two-dot chain line in FIGS. 6 and 7, the substrate moving mechanism 242 is driven, and the substrate 9 together with the substrate holding portion 241 is three times the partition pitch on the upper side in FIG. Move a distance. Then, the coating head 244 moves from the right side to the left side in FIG. 6 while discharging the organic EL liquid, whereby three types of organic EL liquids are applied on the substrate 9 in stripes.

図8は、基板9を示す平面図であり、図9は、図8中のA−Aの位置における基板9の断面図である。有機EL塗布ユニット24では、塗布ヘッド244の左右方向への移動、および、基板9のピッチ移動が繰り返されることにより、図8および図9に示すように、基板9上の塗布禁止領域92を含む領域(すなわち、塗布禁止領域92のうち塗布領域91の左右の領域、および、塗布領域91の隔壁間の溝部)に有機EL液93がストライプ状に塗布される。なお、図8では、図示の都合上、基板9上に塗布された有機EL液93の幅およびピッチを実際よりも大きく描いている。   FIG. 8 is a plan view showing the substrate 9, and FIG. 9 is a cross-sectional view of the substrate 9 at the position AA in FIG. 8. In the organic EL coating unit 24, by repeatedly moving the coating head 244 in the left-right direction and the pitch movement of the substrate 9, as shown in FIGS. 8 and 9, the coating prohibited region 92 on the substrate 9 is included. The organic EL liquid 93 is applied in stripes to the regions (that is, the left and right regions of the application region 91 in the application prohibited region 92 and the groove between the partition walls of the application region 91). In FIG. 8, for convenience of illustration, the width and pitch of the organic EL liquid 93 applied on the substrate 9 are drawn larger than actual.

有機EL塗布ユニット24では、有機EL液93の塗布が行われている間、塗布ヘッド244のノズル247a〜247c(図6および図7参照)から有機EL液93が連続的に吐出されている。有機EL塗布ユニット24では、塗布禁止領域92のうち基板9の移動方向に垂直に伸びる領域(すなわち、図8中において左右方向に伸びる領域)に対して、塗布ヘッド244を基板9上から待避させた状態で、基板9を当該領域の幅(すなわち、図8中の上下方向の幅)と等しい距離だけ移動することにより、当該領域への有機EL液93の塗布が回避される。   In the organic EL application unit 24, the organic EL liquid 93 is continuously discharged from the nozzles 247a to 247c (see FIGS. 6 and 7) of the application head 244 while the organic EL liquid 93 is being applied. In the organic EL coating unit 24, the coating head 244 is retracted from the substrate 9 with respect to a region of the coating prohibited region 92 that extends perpendicularly to the moving direction of the substrate 9 (that is, a region that extends in the left-right direction in FIG. 8). In this state, by moving the substrate 9 by a distance equal to the width of the region (that is, the vertical width in FIG. 8), the application of the organic EL liquid 93 to the region is avoided.

基板9が図6中に二点鎖線にて示す塗布終了位置まで移動すると、ノズル247a〜247cからの有機EL液93の吐出が停止されて基板9に対する有機EL液93の塗布が終了する。そして、上述の有機EL除去ユニット26において、基板9の塗布禁止領域92から有機EL液93が除去されることにより、図10に示すように、基板9の塗布領域91上にのみ有機EL液93が残置される。   When the substrate 9 moves to the application end position indicated by a two-dot chain line in FIG. 6, the discharge of the organic EL liquid 93 from the nozzles 247a to 247c is stopped, and the application of the organic EL liquid 93 to the substrate 9 is completed. Then, in the organic EL removal unit 26 described above, the organic EL liquid 93 is removed from the application prohibited area 92 of the substrate 9, so that the organic EL liquid 93 is only on the application area 91 of the substrate 9 as shown in FIG. 10. Is left behind.

正孔輸送塗布ユニット21は、図6および図7に示す有機EL塗布ユニット24と同様の構成を有するため、図示を省略する。正孔輸送塗布ユニット21は、有機EL塗布ユニット24と同様に、基板9を保持する基板保持部、基板保持部を移動するとともに回転する基板移動機構、アライメントマークを撮像して検出するアライメントマーク検出部、基板9に向けて正孔輸送液を塗布する塗布ヘッド、塗布ヘッドを移動するヘッド移動機構、および、これらの構成を制御する制御部を備える。   The hole transport coating unit 21 has the same configuration as the organic EL coating unit 24 shown in FIG. 6 and FIG. Similar to the organic EL coating unit 24, the hole transport coating unit 21 is a substrate holding unit that holds the substrate 9, a substrate moving mechanism that moves and rotates the substrate holding unit, and an alignment mark detection that detects and detects an alignment mark. A coating head that coats the hole transport liquid toward the substrate 9, a head moving mechanism that moves the coating head, and a control unit that controls these configurations.

正孔輸送塗布ユニット21の塗布ヘッドは、正孔輸送塗布ユニット21の塗布ヘッド244と同様に、正孔輸送液をそれぞれ吐出する3本のノズル、および、3本のノズルに正孔輸送液をそれぞれ供給する塗布液供給部を備え、基板9の移動方向に関するノズルの間隔は隔壁ピッチに等しくされる。正孔輸送塗布ユニット21では、3本のノズルに単一種類の正孔輸送液が供給されて吐出され、基板9上の隔壁間の隣接する3つの溝部に塗布される。正孔輸送塗布ユニット21でも、有機EL塗布ユニット24と同様に、塗布禁止領域92のうち基板9の移動方向に垂直に伸びる領域に対して、塗布ヘッドを基板9上から待避させた状態で基板9を移動することにより、正孔輸送液の塗布が回避される。   As with the coating head 244 of the hole transport coating unit 21, the coating head of the hole transport coating unit 21 has three nozzles that discharge the hole transport liquid and the hole transport liquid to the three nozzles, respectively. Each is provided with a coating liquid supply unit for supplying, and the interval between the nozzles in the moving direction of the substrate 9 is made equal to the partition pitch. In the hole transport coating unit 21, a single type of hole transport liquid is supplied to and discharged from three nozzles, and is applied to three adjacent grooves between the partition walls on the substrate 9. In the hole transport coating unit 21, as in the organic EL coating unit 24, the coating head is retracted from the substrate 9 with respect to the region of the coating prohibited region 92 that extends perpendicular to the moving direction of the substrate 9. By moving 9, the application of the hole transport liquid is avoided.

図11は、正孔輸送ベークユニット22を示す斜視図である。図11に示すように正孔輸送ベークユニット22は、正孔輸送液が塗布された基板9を加熱して正孔輸送液を基板9上に定着させる加熱部221、および、加熱部221により加熱された基板9を常温まで冷却する冷却部222を備える。図11では、図示の都合上、加熱部221と冷却部222とを分離させて描いているが、実際は冷却部222上に加熱部221が重ねて配置されている。   FIG. 11 is a perspective view showing the hole transport bake unit 22. As shown in FIG. 11, the hole transport bake unit 22 is heated by the heating unit 221 that heats the substrate 9 coated with the hole transport liquid and fixes the hole transport liquid on the substrate 9, and the heating unit 221. A cooling unit 222 is provided for cooling the substrate 9 to room temperature. In FIG. 11, for convenience of illustration, the heating unit 221 and the cooling unit 222 are drawn separately, but in actuality, the heating unit 221 is arranged over the cooling unit 222.

加熱部221は、ヒータ(図示省略)が内蔵されたホットプレート2211、および、ホットプレート2211を内部に収容するハウジング2212を備え、ハウジング2212には、基板9の搬出入に利用される開口2213が形成されている。加熱部221では、ヒータにより加熱されて高温となっているホットプレート2211上に基板9が載置されることにより(あるいは、ホットプレート2211上においてホットプレート2211と微小距離だけ離れた位置に保持されることにより)基板9が加熱され、基板9に塗布された正孔輸送液から溶媒成分が蒸発して正孔輸送液が基板9上に定着し、基板9上に正孔輸送層が形成される。   The heating unit 221 includes a hot plate 2211 in which a heater (not shown) is incorporated, and a housing 2212 that accommodates the hot plate 2211 therein. The housing 2212 has an opening 2213 that is used for loading and unloading the substrate 9. Is formed. In the heating unit 221, the substrate 9 is placed on the hot plate 2211 that is heated by the heater and is at a high temperature (or is held on the hot plate 2211 at a position separated from the hot plate 2211 by a minute distance. The substrate 9 is heated, the solvent component is evaporated from the hole transport liquid applied to the substrate 9, the hole transport liquid is fixed on the substrate 9, and a hole transport layer is formed on the substrate 9. The

冷却部222は、内部に冷媒が流れるクールプレート2221、および、クールプレート2221を内部に収容するハウジング2222を備え、ハウジング2222には、基板9の搬出入に利用される開口2223が形成されている。冷却部222では、加熱部221により加熱された基板9がクールプレート2221上に載置されて冷却されることにより、高温の基板9を常温まで迅速に冷却することができる。   The cooling unit 222 includes a cool plate 2221 through which a coolant flows and a housing 2222 that accommodates the cool plate 2221. The housing 2222 has an opening 2223 that is used for loading and unloading the substrate 9. . In the cooling unit 222, the substrate 9 heated by the heating unit 221 is placed on the cool plate 2221 and cooled, so that the high-temperature substrate 9 can be rapidly cooled to room temperature.

有機ELベークユニット25は、図11に示す正孔輸送ベークユニット22と同様の構成を有するため、図示を省略する。有機ELベークユニット25は、正孔輸送ベークユニット22と同様に、有機EL液が塗布された基板9を加熱して有機EL液を基板9上に定着させる加熱部、および、加熱部により加熱された基板9を常温まで冷却する冷却部を備える。加熱部は、ヒータが内蔵されたホットプレート、および、ホットプレートを内部に収容するハウジングを備え、冷却部は、内部に冷媒が流れるクールプレート、および、クールプレートを内部に収容するハウジングを備える。   Since the organic EL bake unit 25 has the same configuration as the hole transport bake unit 22 shown in FIG. The organic EL bake unit 25 is heated by the heating unit that heats the substrate 9 on which the organic EL liquid is applied and fixes the organic EL liquid on the substrate 9, as in the hole transport bake unit 22. A cooling unit for cooling the substrate 9 to room temperature. The heating unit includes a hot plate with a built-in heater and a housing that accommodates the hot plate therein, and the cooling unit includes a cool plate through which the refrigerant flows and a housing that accommodates the cool plate therein.

有機ELベークユニット25でも、正孔輸送ベークユニット22と同様に、加熱部のホットプレート上に基板9が載置されることにより、基板9に塗布された有機EL液から溶媒成分が蒸発して有機EL液が基板9上に定着し、基板9上に有機EL層が形成される。そして、加熱後の基板9が冷却部のクールプレート上に載置されることにより、高温の基板9が迅速に常温まで冷却される。   In the organic EL bake unit 25, similarly to the hole transport bake unit 22, the solvent component is evaporated from the organic EL liquid applied to the substrate 9 by placing the substrate 9 on the hot plate of the heating unit. The organic EL liquid is fixed on the substrate 9, and an organic EL layer is formed on the substrate 9. And the board | substrate 9 after a heating is mounted on the cool plate of a cooling part, and the high temperature board | substrate 9 is rapidly cooled to normal temperature.

次に、塗布システム1の動作について説明する。図12.Aないし図12.Cは、塗布システム1の動作の流れを示す図である。図1に示す塗布システム1では、TFT回路、ITO電極および隔壁が形成された複数の基板9が収容されているカセット90が、インデクサ3のカセット載置部31上に予め載置されており、まず、インデクサ3のインデクサロボット32(図3参照)により、カセット載置部31上のカセット90から基板9が取り出され、マルチ搬送ロボット4により、インデクサロボット32のハンド321に保持された基板9が受け取られてハンド421(図3参照)に保持される(ステップS11)。   Next, the operation of the coating system 1 will be described. FIG. A thru | or FIG. C is a diagram showing a flow of operation of the coating system 1. In the coating system 1 shown in FIG. 1, a cassette 90 in which a plurality of substrates 9 on which TFT circuits, ITO electrodes, and partition walls are formed is housed is placed in advance on the cassette placing portion 31 of the indexer 3. First, the substrate 9 is taken out from the cassette 90 on the cassette placement unit 31 by the indexer robot 32 (see FIG. 3) of the indexer 3, and the substrate 9 held by the hand 321 of the indexer robot 32 is removed by the multi-transport robot 4. It is received and held in the hand 421 (see FIG. 3) (step S11).

続いて、マルチ搬送ロボット4が、移動路41上を正孔輸送塗布ユニット21の前まで移動し、ハンド421に保持された基板9が正孔輸送塗布ユニット21に搬入されて基板保持部に載置される(ステップS12)。正孔輸送塗布ユニット21では、基板9に向けて正孔輸送液が吐出され、塗布禁止領域92上を含む基板9上の領域(すなわち、塗布領域91の隔壁間の溝部および塗布禁止領域92)に正孔輸送液がストライプ状に塗布される(ステップS13)。   Subsequently, the multi-transport robot 4 moves on the moving path 41 to the front of the hole transport coating unit 21, and the substrate 9 held by the hand 421 is carried into the hole transport coating unit 21 and placed on the substrate holding unit. (Step S12). In the hole transport coating unit 21, the hole transport liquid is discharged toward the substrate 9, and the region on the substrate 9 including the coating prohibited region 92 (that is, the groove between the partition walls of the coating region 91 and the coating prohibited region 92). A hole transport liquid is applied in a stripe pattern (step S13).

正孔輸送液の塗布が終了すると、マルチ搬送ロボット4により基板9が正孔輸送塗布ユニット21から搬出され(ステップS14)、正孔輸送除去ユニット23へと搬送されて正孔輸送除去ユニット23に搬入される(ステップS15)。このとき、基板9は、マルチ搬送ロボット4のハンド421により保持されて搬送される。また、基板9上では、正孔輸送塗布ユニット21により塗布された正孔輸送液の溶媒成分の一部が基板保持部の加熱機構により蒸発し、正孔輸送液がある程度乾燥した状態(いわゆる、生乾きの状態)にて塗布禁止領域92および塗布領域91上に付着している。正孔輸送除去ユニット23では、除去ヘッド233(図5参照)からのレーザ光の照射によるレーザアブレーションにより、基板保持部231に保持された基板9の塗布禁止領域92から正孔輸送液が除去される(ステップS16)。   When the application of the hole transport liquid is completed, the substrate 9 is unloaded from the hole transport coating unit 21 by the multi-transport robot 4 (step S14), and is transported to the hole transport removal unit 23 to the hole transport removal unit 23. It is carried in (step S15). At this time, the substrate 9 is held and transported by the hand 421 of the multi-transport robot 4. In addition, on the substrate 9, a part of the solvent component of the hole transport liquid applied by the hole transport coating unit 21 is evaporated by the heating mechanism of the substrate holding part, and the hole transport liquid is in a certain dry state (so-called It adheres on the application prohibited area 92 and the application area 91 in a state of being dried. In the hole transport removal unit 23, the hole transport liquid is removed from the coating prohibited area 92 of the substrate 9 held by the substrate holder 231 by laser ablation by laser light irradiation from the removal head 233 (see FIG. 5). (Step S16).

塗布禁止領域92から正孔輸送液が除去されると、マルチ搬送ロボット4により基板9が正孔輸送除去ユニット23から搬出され(ステップS17)、正孔輸送ベークユニット22へと搬送されて正孔輸送ベークユニット22に搬入される(ステップS21)。基板9が正孔輸送除去ユニット23から正孔輸送ベークユニット22へと搬送される際には、基板9は、マルチ搬送ロボット4のハンド422(すなわち、正孔輸送塗布ユニット21から正孔輸送除去ユニット23へと搬送する際に保持する保持部とは異なるもう1つの保持部)により保持される。   When the hole transport liquid is removed from the coating prohibited area 92, the substrate 9 is unloaded from the hole transport removal unit 23 by the multi-transport robot 4 (step S17), and is transported to the hole transport bake unit 22 and the holes. It is carried into the transport bake unit 22 (step S21). When the substrate 9 is transported from the hole transport removal unit 23 to the hole transport bake unit 22, the substrate 9 is removed from the hand 422 (that is, the hole transport removal unit 21 from the hole transport coating unit 21) of the multi-transport robot 4. It is held by another holding unit that is different from the holding unit held when transported to the unit 23.

正孔輸送ベークユニット22では、塗布禁止領域92から正孔輸送液が除去された基板9が、加熱部221のホットプレート2211(図11参照)に載置されて加熱され、塗布領域91において隔壁間の溝部に塗布された正孔輸送液が、基板9(のITO電極)上に定着して正孔輸送層が形成される(ステップS22)。続いて、マルチ搬送ロボット4により基板9が加熱部221から搬出されて冷却部222へと搬入され、クールプレート2221(図11参照)上に載置されて常温まで冷却される(ステップS23)。   In the hole transport bake unit 22, the substrate 9 from which the hole transport liquid has been removed from the coating prohibited area 92 is placed on the hot plate 2211 (see FIG. 11) of the heating unit 221 and heated. The hole transport liquid applied to the grooves in between is fixed on the substrate 9 (its ITO electrode) to form a hole transport layer (step S22). Subsequently, the substrate 9 is unloaded from the heating unit 221 by the multi-transport robot 4 and loaded into the cooling unit 222, and is placed on the cool plate 2221 (see FIG. 11) and cooled to room temperature (step S23).

基板9の冷却が終了すると、マルチ搬送ロボット4により基板9が正孔輸送ベークユニット22から搬出され(ステップS24)、有機EL塗布ユニット24に搬入される(ステップS25)。有機EL塗布ユニット24では、基板保持部241に保持された基板9に向けて3種類の有機EL液が吐出され、塗布禁止領域92を含む基板9上の領域(すなわち、塗布禁止領域92、および、塗布領域91の隔壁間の溝部に形成された正孔輸送層上の領域)に3種類の有機EL液がストライプ状に塗布される(ステップS26)。   When the cooling of the substrate 9 is completed, the substrate 9 is unloaded from the hole transport bake unit 22 by the multi-transport robot 4 (step S24), and is loaded into the organic EL coating unit 24 (step S25). In the organic EL coating unit 24, three types of organic EL liquids are discharged toward the substrate 9 held by the substrate holding unit 241, and the region on the substrate 9 including the coating prohibited region 92 (that is, the coating prohibited region 92, and Then, three types of organic EL liquids are applied in stripes to the region on the hole transport layer formed in the groove between the partition walls of the application region 91 (step S26).

有機EL液の塗布が終了すると、マルチ搬送ロボット4により基板9が有機EL塗布ユニット24から搬出され(ステップS27)、有機EL除去ユニット26へと搬入される(ステップS31)。基板9上では、有機EL塗布ユニット24により塗布された有機EL液の溶媒成分の一部が基板保持部241の加熱機構により蒸発し、有機EL液がある程度乾燥した状態(いわゆる、生乾きの状態)にて塗布禁止領域92および塗布領域91(の正孔輸送層)上に付着している。有機EL除去ユニット26では、除去ヘッドからのレーザ光の照射によるレーザアブレーションにより、基板保持部に保持された基板9の塗布禁止領域92から有機EL液が除去される(ステップS32)。   When the application of the organic EL liquid is completed, the substrate 9 is unloaded from the organic EL coating unit 24 by the multi-transport robot 4 (step S27), and is loaded into the organic EL removal unit 26 (step S31). On the substrate 9, a part of the solvent component of the organic EL liquid applied by the organic EL application unit 24 is evaporated by the heating mechanism of the substrate holding unit 241, and the organic EL liquid is dried to some extent (so-called “dried state”). Are adhered on the coating prohibited area 92 and the coating area 91 (hole transport layer). In the organic EL removal unit 26, the organic EL liquid is removed from the coating prohibited area 92 of the substrate 9 held by the substrate holding part by laser ablation by irradiation of the laser beam from the removal head (step S32).

塗布禁止領域92から有機EL液が除去されると、マルチ搬送ロボット4により基板9が有機EL除去ユニット26から搬出され(ステップS33)、有機ELベークユニット25に搬入される(ステップS34)。基板9が有機EL除去ユニット26から有機ELベークユニット25へと搬送される際には、基板9は、マルチ搬送ロボット4のハンド421,422のうち、有機EL塗布ユニット24から有機EL除去ユニット26へと基板9を搬送する際に利用されたハンドとは異なるハンドにより保持される。   When the organic EL liquid is removed from the application prohibited area 92, the multi-transport robot 4 carries the substrate 9 out of the organic EL removal unit 26 (step S33) and into the organic EL bake unit 25 (step S34). When the substrate 9 is transported from the organic EL removal unit 26 to the organic EL bake unit 25, the substrate 9 is transferred from the organic EL coating unit 24 to the organic EL removal unit 26 among the hands 421 and 422 of the multi-transport robot 4. It is held by a hand different from the hand used when transporting the substrate 9 to the edge.

有機ELベークユニット25では、塗布禁止領域92から有機EL液が除去された基板9が加熱部のホットプレートにより加熱され、基板9の正孔輸送層上に塗布された有機EL液が基板9(の正孔輸送層)上に定着して有機EL層が形成される(ステップS35)。続いて、マルチ搬送ロボット4により基板9が加熱部から搬出されて冷却部へと搬入され、クールプレートにより常温まで冷却される(ステップS36)。   In the organic EL baking unit 25, the substrate 9 from which the organic EL liquid has been removed from the application prohibited region 92 is heated by the hot plate of the heating unit, and the organic EL liquid applied on the hole transport layer of the substrate 9 is transferred to the substrate 9 ( And the organic EL layer is formed (step S35). Subsequently, the substrate 9 is unloaded from the heating unit by the multi-transport robot 4 and loaded into the cooling unit, and cooled to room temperature by the cool plate (step S36).

基板9の塗布領域91において正孔輸送層上に積層される有機EL層の形成が終了すると、基板9が、マルチ搬送ロボット4により有機ELベークユニット25から搬出され(ステップS37)、インデクサ3へと搬送されてインデクサロボット32により受け取られ、カセット載置部31上のカセット90に収容される(ステップS38)。塗布システム1では、カセット90に所定枚数の処理済基板が収容されると、当該カセット90が塗布システム1外に搬出され、他の装置により陰極の形成、および、絶縁膜による封止が行われて有機EL表示装置が製造される。   When the formation of the organic EL layer laminated on the hole transport layer in the coating region 91 of the substrate 9 is completed, the substrate 9 is unloaded from the organic EL bake unit 25 by the multi-transport robot 4 (step S37), and is sent to the indexer 3. And is received by the indexer robot 32 and stored in the cassette 90 on the cassette mounting portion 31 (step S38). In the coating system 1, when a predetermined number of processed substrates are stored in the cassette 90, the cassette 90 is unloaded from the coating system 1, and the cathode is formed and sealed with an insulating film by another device. Thus, an organic EL display device is manufactured.

以上に説明した塗布システム1において、正孔輸送層の形成に係る構成に注目すると、処理ユニット群2が、基板9に正孔輸送液を塗布する正孔輸送塗布ユニット21、正孔輸送液が塗布された基板9の塗布禁止領域92から正孔輸送液を除去する正孔輸送除去ユニット23、および、基板9を加熱して正孔輸送液を基板9上に定着させる正孔輸送ベークユニット22を含む。これにより、塗布領域91のみに正孔輸送液が定着して正孔輸送層が形成された基板9を容易に得ることができる。また、正孔輸送液の塗布、塗布禁止領域92からの正孔輸送液の除去、および、正孔輸送液の定着を1つのシステム内にて行うことができるため、基板9の処理時間を短縮することができるとともに塗布システム1の製造コストを低減することができる(本段落にて説明した事項は、以下の第2ないし第の実施の形態において同様である。)。 In the coating system 1 described above, paying attention to the configuration relating to the formation of the hole transport layer, the processing unit group 2 includes a hole transport coating unit 21 for coating the substrate 9 with a hole transport liquid, and a hole transport liquid. A hole transport removal unit 23 that removes the hole transport liquid from the coating prohibited area 92 of the coated substrate 9, and a hole transport bake unit 22 that heats the substrate 9 and fixes the hole transport liquid onto the substrate 9. including. Thereby, the board | substrate 9 with which the positive hole transport liquid fixed only to the application | coating area | region 91 and the positive hole transport layer was formed can be obtained easily. Also, the processing time of the substrate 9 can be shortened because the application of the hole transport liquid, the removal of the hole transport liquid from the coating prohibited area 92, and the fixing of the hole transport liquid can be performed in one system. In addition, the manufacturing cost of the coating system 1 can be reduced (the matters described in this paragraph are the same in the following second to sixth embodiments).

正孔輸送除去ユニット23では、正孔輸送ベークユニット22により加熱される前の基板9の塗布禁止領域92から正孔輸送液が除去される。すなわち、正孔輸送液が基板9に定着する前に除去することができるため、正孔輸送液を容易に除去することができる(第2ないし第の実施の形態において同様)。 In the hole transport removal unit 23, the hole transport liquid is removed from the coating prohibited area 92 of the substrate 9 before being heated by the hole transport bake unit 22. That is, since the hole transport fluid can be removed prior to fixing the substrate 9, it is possible to easily remove the hole transporting liquid (the same in the second of stone sixth embodiment).

また、正孔輸送除去ユニット23では、レーザ光の照射によるレーザアブレーションにより正孔輸送液が除去される。レーザ光の照射においては、レーザ光が照射される領域を高精度に規定することができるため、正孔輸送液を位置精度良く除去することができる。また、波長を制御したレーザ光の照射では、正孔輸送液に影響を与える可能性があるオゾン(O)が発生しないため、高品質な正孔輸送層の形成を実現することができる(第2ないし第の実施の形態において同様)。 In the hole transport removal unit 23, the hole transport liquid is removed by laser ablation by laser light irradiation. In laser light irradiation, the region irradiated with the laser light can be defined with high accuracy, so that the hole transport liquid can be removed with high positional accuracy. In addition, irradiation with laser light having a controlled wavelength does not generate ozone (O 3 ) that may affect the hole transport liquid, so that a high-quality hole transport layer can be formed ( The same applies to the second to sixth embodiments).

次に、有機EL層の形成に係る構成に注目すると、正孔輸送層の形成に係る構成と同様に、有機EL塗布ユニット24により基板9に有機EL液が塗布され、有機EL除去ユニット26により塗布禁止領域92から有機EL液が除去され、さらに、有機ELベークユニット25により基板9の塗布領域91に有機EL液が定着されることにより、塗布領域91のみに有機EL液が定着されて有機EL層が形成された基板9を容易に得ることができる。また、有機EL液の塗布、塗布禁止領域92からの有機EL液の除去、および、有機EL液の定着を1つのシステム内に行うことができるため、基板9の処理時間の短縮および塗布システム1の製造コストの低減を実現することができる(第および第の実施の形態において同様)。 Next, paying attention to the configuration related to the formation of the organic EL layer, similarly to the configuration related to the formation of the hole transport layer, the organic EL liquid is applied to the substrate 9 by the organic EL application unit 24, and the organic EL removal unit 26 The organic EL liquid is removed from the coating prohibited area 92, and the organic EL liquid is fixed to the coating area 91 of the substrate 9 by the organic EL bake unit 25. The substrate 9 on which the EL layer is formed can be easily obtained. Further, since the application of the organic EL liquid, the removal of the organic EL liquid from the coating prohibited area 92, and the fixing of the organic EL liquid can be performed in one system, the processing time of the substrate 9 can be shortened and the coating system 1 can be used. The manufacturing cost can be reduced (the same applies to the third and fifth embodiments).

有機EL除去ユニット26では、有機ELベークユニット25により加熱される前の基板9の塗布禁止領域92から有機EL液が除去される。すなわち、有機EL液が基板9に定着する前に除去することができるため、有機EL液を容易に除去することができる(第2ないし第の実施の形態において同様)。 In the organic EL removal unit 26, the organic EL liquid is removed from the coating prohibited area 92 of the substrate 9 before being heated by the organic EL bake unit 25. That is, since the organic EL liquid can be removed prior to fixing the substrate 9, it is possible to easily remove the organic EL solution (same as in the second of stone sixth embodiment).

また、有機EL除去ユニット26でも、正孔輸送除去ユニット23と同様に、レーザ光の照射によるレーザアブレーションにより有機EL液を除去することにより、有機EL液を位置精度良く除去することができる。また、波長を制御したレーザ光の照射では、有機EL液に影響を与える可能性があるオゾンが発生しないため、高品質な有機EL層の形成を実現することができる(第2ないし第の実施の形態において同様)。 In the organic EL removal unit 26 as well, as with the hole transport removal unit 23, the organic EL liquid can be removed with high positional accuracy by removing the organic EL liquid by laser ablation by laser light irradiation. In addition, irradiation with laser light having a controlled wavelength does not generate ozone that may affect the organic EL liquid, so that a high-quality organic EL layer can be formed (second to sixth ). The same applies to the embodiment).

有機EL塗布ユニット24では、特に、3色の有機EL材料をそれぞれ含む3種類の有機EL液を並行して基板9に塗布することができる。これにより、複数の有機EL液の塗布のために複数の有機EL塗布ユニットを設ける必要がなく、塗布システム1の小型化を実現することができる。また、複数の有機EL塗布ユニット間における基板9の移動を省略することができるため、基板9の処理時間を短縮することもできる(第および第の実施の形態において同様)。 In the organic EL application unit 24, in particular, three types of organic EL liquids each containing three colors of organic EL materials can be applied to the substrate 9 in parallel. Thereby, it is not necessary to provide a plurality of organic EL coating units for coating a plurality of organic EL liquids, and the coating system 1 can be downsized. In addition, since the movement of the substrate 9 between the plurality of organic EL coating units can be omitted, the processing time of the substrate 9 can be shortened (the same applies to the third and fifth embodiments).

次に、塗布システム1全体に注目すると、処理ユニット群2が、基板9に正孔輸送液を塗布する正孔輸送塗布ユニット21、および、基板9に有機EL液を塗布する有機EL塗布ユニット24を含むことにより、正孔輸送液と有機EL液とを1つのシステム内において塗布することができるため、基板9の処理時間をさらに短縮することができる。塗布システム1は、有機EL表示装置用の基板9に正孔輸送液および有機EL液を塗布するシステムに特に適している(第2ないし第の実施の形態において同様)。 Next, paying attention to the entire coating system 1, the processing unit group 2 applies a hole transport coating unit 21 for coating the substrate 9 with a hole transport liquid, and an organic EL coating unit 24 for coating the substrate 9 with an organic EL liquid. Since the hole transport liquid and the organic EL liquid can be applied in one system, the processing time of the substrate 9 can be further shortened. The coating system 1 is particularly suitable for a system in which a hole transport liquid and an organic EL liquid are applied to the substrate 9 for an organic EL display device (the same applies to the second to sixth embodiments).

処理ユニット群2では、正孔輸送除去ユニット23により基板9の塗布禁止領域92から正孔輸送液が除去され、有機EL除去ユニット26により塗布禁止領域92から有機EL液が除去される。仮に、共通の除去ユニットにより正孔輸送液および有機EL液の除去が行われるとすると、除去ユニットに正孔輸送液が付着した場合、その後に搬入される基板9上の定着前の有機EL液に正孔輸送液が混入してしまう可能性がある。また、除去ユニットに有機EL液が付着した場合、その後に搬入される基板9上の定着前の正孔輸送液に有機EL液が混入してしまう可能性がある。塗布システム1では、処理ユニット群2に正孔輸送除去ユニット23および有機EL除去ユニット26を設けることにより、基板9上における正孔輸送液と有機EL液との混合を確実に防止することができる。さらには、処理ユニット群2に複数の除去ユニットを設けることにより、基板9の処理時間を短縮することもできる(第2ないし第の実施の形態において同様)。 In the processing unit group 2, the hole transport liquid is removed from the application prohibited area 92 of the substrate 9 by the hole transport removal unit 23, and the organic EL liquid is removed from the application prohibited area 92 by the organic EL removal unit 26. Assuming that the hole transport liquid and the organic EL liquid are removed by a common removal unit, when the hole transport liquid adheres to the removal unit, the organic EL liquid before fixing on the substrate 9 that is subsequently carried in is removed. There is a possibility that the hole transport liquid will be mixed in. Further, when the organic EL liquid adheres to the removal unit, the organic EL liquid may be mixed in the hole transport liquid before fixing on the substrate 9 that is subsequently carried. In the coating system 1, by providing the hole transport removal unit 23 and the organic EL removal unit 26 in the processing unit group 2, mixing of the hole transport liquid and the organic EL liquid on the substrate 9 can be reliably prevented. . Furthermore, the processing time of the substrate 9 can be shortened by providing a plurality of removal units in the processing unit group 2 (the same applies to the second to sixth embodiments).

ところで、正孔輸送液と有機EL液とでは、除去を効率的に行うためのレーザ光の特性(例えば、波長や周波数、(レーザ)フルエンス等)が異なる。塗布システム1では、処理ユニット群2に正孔輸送除去ユニット23および有機EL除去ユニット26を設けることにより、正孔輸送液および有機EL液のそれぞれを、異なる特性を有するレーザ光により除去することができるため、正孔輸送液の除去および有機EL液の除去をそれぞれ効率的に行うことができる(第2ないし第の実施の形態において同様)。 By the way, the hole transport liquid and the organic EL liquid have different characteristics (for example, wavelength, frequency, (laser) fluence, etc.) of laser light for efficient removal. In the coating system 1, by providing the hole transport removal unit 23 and the organic EL removal unit 26 in the processing unit group 2, each of the hole transport liquid and the organic EL liquid can be removed by laser light having different characteristics. Therefore, removal of the hole transport liquid and removal of the organic EL liquid can be performed efficiently (the same applies to the second to sixth embodiments).

塗布システム1では、処理ユニット群2のうち、正孔輸送除去ユニット23および有機EL除去ユニット26が、他のいずれの処理ユニットよりもインデクサ3に近い位置に配置される。これにより、処理ユニット群2において、他の正孔輸送塗布ユニット、正孔輸送ベークユニット、有機EL塗布ユニットおよび有機ELベークユニットを、複数の処理ユニットの配列の外側(すなわち、インデクサ3から遠い側)に容易に増設することができる(第2、および第の実施の形態において同様)。 In the coating system 1, in the processing unit group 2, the hole transport removal unit 23 and the organic EL removal unit 26 are arranged at a position closer to the indexer 3 than any other processing unit. Thereby, in the processing unit group 2, the other hole transport coating unit, hole transport bake unit, organic EL coating unit, and organic EL bake unit are placed outside the array of the plurality of processing units (that is, on the side far from the indexer 3). Can be easily added (similarly in the second, fifth and sixth embodiments).

また、塗布システム1では、基板9が、マルチ搬送ロボット4により正孔輸送塗布ユニット21から正孔輸送除去ユニット23へと搬送される際にハンド421により保持され、正孔輸送除去ユニット23から正孔輸送ベークユニット22に搬送される際にハンド422により保持されるため、正孔輸送液がマルチ搬送ロボット4(のハンド421,422)を介して正孔輸送ベークユニット22に付着することを確実に防止することができる。その結果、正孔輸送ベークユニット22に順次搬入される基板9に、不要な正孔輸送液が付着することを確実に防止することができる(第2、および第の実施の形態において同様)。 In the coating system 1, the substrate 9 is held by the hand 421 when the substrate 9 is transported from the hole transport coating unit 21 to the hole transport removal unit 23 by the multi-transport robot 4, and the substrate 9 is correctly transferred from the hole transport removal unit 23. Since it is held by the hand 422 when transported to the hole transport bake unit 22, it is ensured that the hole transport liquid adheres to the hole transport bake unit 22 via the multi transport robot 4 (hands 421, 422). Can be prevented. As a result, it is possible to reliably prevent unnecessary hole transport liquid from adhering to the substrate 9 sequentially carried into the hole transport bake unit 22 (in the second, fifth and sixth embodiments). The same).

同様に、基板9がマルチ搬送ロボット4により有機EL塗布ユニット24から有機EL除去ユニット26へと搬送される際にハンド421により保持され、有機EL除去ユニット26から有機ELベークユニット25に搬送される際にハンド422により保持されるため、有機EL液がマルチ搬送ロボット4(のハンド421,422)を介して有機ELベークユニット25に付着することを確実に防止することができる。その結果、有機ELベークユニット25に順次搬入される基板9に、不要な有機EL液が付着することを確実に防止することができる(第2、および第の実施の形態において同様)。 Similarly, when the substrate 9 is transported from the organic EL coating unit 24 to the organic EL removal unit 26 by the multi-transport robot 4, the substrate 9 is held by the hand 421 and transported from the organic EL removal unit 26 to the organic EL bake unit 25. Since it is held by the hand 422 at this time, the organic EL liquid can be reliably prevented from adhering to the organic EL bake unit 25 via the multi-transport robot 4 (the hands 421 and 422). As a result, it is possible to reliably prevent unnecessary organic EL liquid from adhering to the substrate 9 sequentially carried into the organic EL bake unit 25 (the same applies to the second, fifth and sixth embodiments). .

塗布システム1では、処理ユニット群2における基板9に対する処理が全て常圧下で行われるため、塗布システム1の構成を簡素化して製造コストをより低減することができる(第2ないし第の実施の形態において同様)。 In the coating system 1, since all the processing on the substrate 9 in the processing unit group 2 is performed under normal pressure, the configuration of the coating system 1 can be simplified and the manufacturing cost can be further reduced (second to sixth embodiments). Same in form).

次に、本発明の第2の実施の形態に係る塗布システム1aについて説明する。図13は、塗布システム1aの構成を示す図である。図13に示すように、塗布システム1aでは、処理ユニット群2が、図1に示す塗布システム1の有機EL塗布ユニット24に代えて、赤色(R)の有機EL材料を含む有機EL液(以下、「有機EL液(R)」という。)を基板9に塗布する第1有機EL塗布ユニット24a、緑色(G)の有機EL材料を含む有機EL液(以下、「有機EL液(G)」という。)を基板9に塗布する第2有機EL塗布ユニット24b、および、青色(B)の有機EL材料を含む有機EL液(以下、「有機EL液(B)」という。)を基板9に塗布する第3有機EL塗布ユニット24cを含む。以下、必要に応じて、第1有機EL塗布ユニット24a〜第3有機EL塗布ユニット24cを「有機EL塗布ユニット24a〜24c」と総称する。また、その他の構成は図1と同様であり、以下の説明において同符号を付す。   Next, the coating system 1a according to the second embodiment of the present invention will be described. FIG. 13 is a diagram showing a configuration of the coating system 1a. As shown in FIG. 13, in the coating system 1a, the processing unit group 2 replaces the organic EL coating unit 24 of the coating system 1 shown in FIG. , “Organic EL liquid (R)”) on the substrate 9, an organic EL liquid containing green (G) organic EL material (hereinafter, “organic EL liquid (G)”) And the second organic EL coating unit 24b for coating the substrate 9 and an organic EL liquid containing a blue (B) organic EL material (hereinafter referred to as “organic EL liquid (B)”). A third organic EL coating unit 24c to be coated is included. Hereinafter, the first organic EL coating unit 24a to the third organic EL coating unit 24c are collectively referred to as “organic EL coating units 24a to 24c” as necessary. Other configurations are the same as those in FIG. 1, and the same reference numerals are given in the following description.

有機EL塗布ユニット24a〜24cの構造は、図6および図7に示す有機EL塗布ユニット24とほぼ同様であるが、基板9の移動方向に関して塗布ヘッドの3本のノズルのそれぞれの間隔が基板9上の隔壁ピッチの3倍とされ、3本のノズルから同色の有機EL液(すなわち、有機EL液(R)、有機EL液(G)および有機EL液(B)のうちのいずれかであり、以下、これら3種類を区別する必要がない場合には、第1の実施の形態同様に、「有機EL液」と総称する。)が吐出される点で異なる。   The structure of the organic EL coating units 24 a to 24 c is substantially the same as that of the organic EL coating unit 24 shown in FIGS. 6 and 7, but the intervals between the three nozzles of the coating head are different from each other in the movement direction of the substrate 9. It is 3 times the upper partition wall pitch, and is an organic EL liquid of the same color from three nozzles (that is, one of the organic EL liquid (R), organic EL liquid (G), and organic EL liquid (B)) Hereinafter, when it is not necessary to distinguish between these three types, they are different from each other in that they are collectively referred to as “organic EL liquid” as in the first embodiment.

第1有機EL塗布ユニット24aでは、有機EL液(R)を吐出するノズルおよび基板9の移動が繰り返されることにより、塗布禁止領域92および塗布領域91上の隔壁間の複数の溝部に有機EL液(R)がストライプ状に塗布される。第1有機EL塗布ユニット24aにより塗布されるストライプ状の有機EL液(R)は、基板9の移動方向に関して隔壁ピッチの3倍の間隔をあけて配列される。換言すれば、有機EL液(R)が塗布された2本の溝部の間には、有機EL液(R)が塗布されない2本の溝部が挟まれている。   In the first organic EL coating unit 24a, the nozzle that discharges the organic EL liquid (R) and the movement of the substrate 9 are repeated, whereby the organic EL liquid is formed in the plurality of grooves between the partition walls on the coating prohibited area 92 and the coating area 91. (R) is applied in stripes. The stripe-shaped organic EL liquid (R) applied by the first organic EL application unit 24 a is arranged with an interval of three times the partition wall pitch in the moving direction of the substrate 9. In other words, two grooves to which the organic EL liquid (R) is not applied are sandwiched between the two grooves to which the organic EL liquid (R) is applied.

第2有機EL塗布ユニット24bでも同様に、有機EL液(G)を吐出するノズルおよび基板9の移動が繰り返されることにより、有機EL液(R)が塗布された塗布禁止領域92を含む基板9上の領域(すなわち、有機EL液(R)が塗布された複数の溝部の一方側に隣接する複数の溝部、および、有機EL液(R)が塗布された塗布禁止領域92)に、有機EL液(G)が隔壁ピッチの3倍の間隔をあけてストライプ状に塗布され、第3有機EL塗布ユニット24cでも、有機EL液(R)が塗布された溝部と有機EL液(G)が塗布された溝部との間の溝部に、有機EL液(B)が隔壁ピッチの3倍の間隔をあけてストライプ状に塗布される。   Similarly, in the second organic EL application unit 24b, the substrate 9 including the application prohibited region 92 to which the organic EL liquid (R) is applied by repeating the movement of the nozzle that discharges the organic EL liquid (G) and the substrate 9 is repeated. In the upper region (that is, the plurality of groove portions adjacent to one side of the plurality of groove portions coated with the organic EL liquid (R) and the coating prohibited region 92 coated with the organic EL liquid (R)), the organic EL The liquid (G) is applied in stripes at intervals of 3 times the partition pitch, and the organic EL liquid (G) and the groove where the organic EL liquid (R) is applied are also applied to the third organic EL application unit 24c. The organic EL liquid (B) is applied in stripes at intervals of 3 times the partition pitch in the grooves between the grooves.

図14は、塗布システム1aの動作の流れの一部を示す図である。図14に示す動作(ステップS51〜S59)の前後における動作の流れはそれぞれ、図12.Aないし図12.Cに示すステップS11〜S24、および、ステップS31〜S38と同様である。   FIG. 14 is a diagram showing a part of the operation flow of the coating system 1a. The flow of operations before and after the operations shown in FIG. 14 (steps S51 to S59) are shown in FIG. A thru | or FIG. This is the same as steps S11 to S24 and steps S31 to S38 shown in FIG.

塗布システム1aでは、第1の実施の形態同様に、インデクサ3のカセット90からインデクサロボット32により取り出された基板9が、マルチ搬送ロボット4により受け取られて正孔輸送塗布ユニット21に搬入され、正孔輸送塗布ユニット21において塗布禁止領域92を含む基板9上の領域に正孔輸送液が塗布された後、正孔輸送塗布ユニット21から搬出される(図12.A:ステップS11〜S14)。   In the coating system 1a, as in the first embodiment, the substrate 9 taken out from the cassette 90 of the indexer 3 by the indexer robot 32 is received by the multi-transport robot 4 and loaded into the hole transport coating unit 21, where After the hole transport liquid is applied to the area on the substrate 9 including the application prohibited area 92 in the hole transport application unit 21, it is carried out of the hole transport application unit 21 (FIG. 12.A: steps S11 to S14).

正孔輸送塗布ユニット21から搬出された基板9は、正孔輸送除去ユニット23に搬入されて塗布禁止領域92から正孔輸送液が除去され、正孔輸送除去ユニット23から搬出されて正孔輸送ベークユニット22に搬入される(ステップS15〜S21)。そして、基板9が加熱部221により加熱されることにより正孔輸送液が基板9の塗布領域91上に定着して正孔輸送層が形成され、冷却部222により常温まで冷却された基板9が正孔輸送ベークユニット22から搬出される(ステップS22〜S24)。   The substrate 9 transported from the hole transport coating unit 21 is transported to the hole transport removal unit 23 where the hole transport liquid is removed from the coating prohibited area 92 and transported from the hole transport removal unit 23 to transport holes. It is carried into the bake unit 22 (steps S15 to S21). Then, the substrate 9 is heated by the heating unit 221, whereby the hole transport liquid is fixed on the coating region 91 of the substrate 9 to form a hole transport layer, and the substrate 9 cooled to room temperature by the cooling unit 222 is formed. It is unloaded from the hole transport bake unit 22 (steps S22 to S24).

正孔輸送ベークユニット22から搬出された基板9は、マルチ搬送ロボット4により搬送されて第1有機EL塗布ユニット24aに搬入され(図14:ステップS51)、塗布禁止領域92を含む基板9上の領域(すなわち、塗布禁止領域92上および正孔輸送層上の領域)に有機EL液(R)がストライプ状に塗布される(ステップS52)。続いて、基板9が第1有機EL塗布ユニット24aから搬出されて第2有機EL塗布ユニット24bに搬入され(ステップS53,S54)、有機EL液(G)がストライプ状に塗布される(ステップS55)。次に、基板9が第2有機EL塗布ユニット24bから搬出されて第3有機EL塗布ユニット24cに搬入され(ステップS56,S57)、有機EL液(B)がストライプ状に塗布されて基板9に対する3種類の有機EL液(すなわち、有機EL液(R)、有機EL液(G)および有機EL液(B))の塗布が終了する(ステップS58)。   The substrate 9 carried out from the hole transport bake unit 22 is carried by the multi-carrying robot 4 and carried into the first organic EL coating unit 24a (FIG. 14: step S51), on the substrate 9 including the coating prohibited area 92. The organic EL liquid (R) is applied in stripes to the regions (that is, the regions on the coating prohibited region 92 and the hole transport layer) (step S52). Subsequently, the substrate 9 is unloaded from the first organic EL coating unit 24a and loaded into the second organic EL coating unit 24b (steps S53 and S54), and the organic EL liquid (G) is coated in a stripe shape (step S55). ). Next, the substrate 9 is unloaded from the second organic EL coating unit 24b and loaded into the third organic EL coating unit 24c (steps S56 and S57), and the organic EL liquid (B) is applied in a stripe shape to the substrate 9. The application of the three types of organic EL liquids (that is, organic EL liquid (R), organic EL liquid (G), and organic EL liquid (B)) is completed (step S58).

基板9に対する3種類の有機EL液の塗布が終了すると、マルチ搬送ロボット4により基板9が第3有機EL塗布ユニット24cから搬出され(ステップS59)、有機EL除去ユニット26へと搬入される(図12.C:ステップS31)。有機EL除去ユニット26では、塗布禁止領域92からの有機EL液(R)、有機EL液(G)および有機EL液(B)の除去が並行して行われ、その後、基板9が有機EL除去ユニット26から搬出されて有機ELベークユニット25に搬入される(ステップS32〜S34)。   When the application of the three types of organic EL liquids to the substrate 9 is completed, the substrate 9 is unloaded from the third organic EL coating unit 24c by the multi-transport robot 4 (step S59) and loaded into the organic EL removal unit 26 (FIG. 12. C: Step S31). In the organic EL removal unit 26, the organic EL liquid (R), the organic EL liquid (G), and the organic EL liquid (B) are removed from the coating prohibited area 92 in parallel, and then the substrate 9 is removed from the organic EL liquid. It is carried out from the unit 26 and carried into the organic EL bake unit 25 (steps S32 to S34).

有機ELベークユニット25では、基板9が加熱部により加熱されることにより有機EL液が基板9の塗布領域91上に定着して有機EL層が形成された後、冷却部により基板9が常温まで冷却される(ステップS35,S36)。その後、基板9が有機ELベークユニット25から搬出され、インデクサ3へと搬送されてインデクサロボット32により受け取られる(ステップS37,S38)。   In the organic EL baking unit 25, after the substrate 9 is heated by the heating unit, the organic EL liquid is fixed on the coating region 91 of the substrate 9 to form the organic EL layer, and then the substrate 9 is cooled to room temperature by the cooling unit. It is cooled (steps S35 and S36). Thereafter, the substrate 9 is unloaded from the organic EL bake unit 25, transferred to the indexer 3, and received by the indexer robot 32 (steps S37 and S38).

塗布システム1aでは、処理ユニット群2が、基板9に3種類の有機EL液をそれぞれ順次塗布する有機EL塗布ユニット24a〜24c、基板9の塗布禁止領域92から3種類の有機EL液を除去する有機EL除去ユニット26、並びに、基板9を加熱して有機EL液を定着させる有機ELベークユニット25を含むため、塗布領域91のみに有機EL液が定着して有機EL層が形成された基板9を容易に得ることができ、また、基板9の処理時間を短縮するとともに塗布システム1aの製造コストを低減することができる(第4および第の実施の形態において同様)。 In the coating system 1 a, the processing unit group 2 removes the three types of organic EL liquids from the organic EL coating units 24 a to 24 c that sequentially apply the three types of organic EL liquids to the substrate 9 and the coating prohibited area 92 of the substrate 9. Since the organic EL removing unit 26 and the organic EL baking unit 25 for fixing the organic EL liquid by heating the substrate 9 are included, the substrate 9 on which the organic EL liquid is fixed only in the coating region 91 and the organic EL layer is formed. In addition, the processing time of the substrate 9 can be shortened and the manufacturing cost of the coating system 1a can be reduced ( the same applies to the fourth and sixth embodiments).

上述のように、処理ユニット群2では、3種類の有機EL液がそれぞれ個別の処理ユニットである有機EL塗布ユニット24a〜24cにより基板9に塗布される。このため、3種類の有機EL液を、それぞれに適した塗布条件下で基板9に塗布することができ、その結果、3種類の有機EL液の塗布の質を向上することができる(第4および第の実施の形態において同様)。 As described above, in the processing unit group 2, three types of organic EL liquids are applied to the substrate 9 by the organic EL application units 24a to 24c, which are individual processing units. For this reason, three types of organic EL liquids can be applied to the substrate 9 under application conditions suitable for each, and as a result, the quality of application of the three types of organic EL liquids can be improved ( fourth). And the same in the sixth embodiment).

また、塗布禁止領域92からの有機EL液(R)、有機EL液(G)および有機EL液(B)の除去を1つの有機EL除去ユニット26により並行して行うことにより、基板9の処理時間をより短縮することができる(第および第の実施の形態において同様)。なお、塗布システム1aでは、有機EL液(R)、有機EL液(G)および有機EL液(B)の塗布順序は自由に変更されてよい。 Further, the organic EL liquid (R), the organic EL liquid (G), and the organic EL liquid (B) are removed from the coating prohibited area 92 by the single organic EL removal unit 26 in parallel, thereby processing the substrate 9. Time can be further shortened (the same applies to the fourth and sixth embodiments). In the coating system 1a, the coating order of the organic EL liquid (R), the organic EL liquid (G), and the organic EL liquid (B) may be freely changed.

次に、本発明に関連する技術に係る塗布システム1bついて説明する。図15は、塗布システム1bの構成を示す図である。図15に示すように、塗布システム1bでは、処理ユニット群2が、図13に示す有機ELベークユニット25に代えて、有機EL液(R)が塗布された基板9を加熱する第1有機ELベークユニット25a、有機EL液(G)が塗布された基板9を加熱する第2有機ELベークユニット25b、および、有機EL液(B)が塗布された基板9を加熱する第3有機ELベークユニット25cを含む。以下、必要に応じて、第1有機ELベークユニット25a〜第3有機ELベークユニット25cを「有機ELベークユニット25a〜25c」と総称する。有機ELベークユニット25a〜25cの構造は、図11に示す正孔輸送ベークユニット22と同様である。その他の構成は図13と同様であり、以下の説明において同符号を付す。 Next, the coating system 1b according to the technique related to the present invention will be described. FIG. 15 is a diagram showing a configuration of the coating system 1b. As shown in FIG. 15, in the coating system 1b, the processing unit group 2 replaces the organic EL baking unit 25 shown in FIG. 13 and heats the substrate 9 coated with the organic EL liquid (R). Bake unit 25a, second organic EL baking unit 25b for heating substrate 9 coated with organic EL liquid (G), and third organic EL baking unit for heating substrate 9 coated with organic EL liquid (B) 25c. Hereinafter, the first organic EL baking unit 25a to the third organic EL baking unit 25c are collectively referred to as “organic EL baking units 25a to 25c” as necessary. The structure of the organic EL baking units 25a to 25c is the same as that of the hole transport baking unit 22 shown in FIG. Other configurations are the same as those in FIG. 13, and the same reference numerals are given in the following description.

図16は、塗布システム1bの動作の流れの一部を示す図である。図16に示す動作(ステップS61〜S67)の前後における動作の流れは、図12.Aないし図12.Cに示すステップS11〜S24、および、ステップS38と同様であるため、以下では説明を簡略化する。   FIG. 16 is a diagram showing a part of the operation flow of the coating system 1b. The flow of the operation before and after the operation (steps S61 to S67) shown in FIG. A thru | or FIG. Since this is the same as steps S11 to S24 and step S38 shown in C, the description will be simplified below.

塗布システム1bでは、マルチ搬送ロボット4によりインデクサロボット32から基板9が受け取られた後、基板9が正孔輸送塗布ユニット21、正孔輸送除去ユニット23、正孔輸送ベークユニット22、の順に搬送されることにより、基板9に対する正孔輸送液の塗布、塗布禁止領域92からの正孔輸送液の除去、および、正孔輸送液の定着が行われて基板9上に正孔輸送層が形成される(ステップS11〜S24)。   In the coating system 1b, after the substrate 9 is received from the indexer robot 32 by the multi-transport robot 4, the substrate 9 is transported in the order of the hole transport coating unit 21, the hole transport removal unit 23, and the hole transport bake unit 22. As a result, the hole transport liquid is applied to the substrate 9, the hole transport liquid is removed from the coating prohibited area 92, and the hole transport liquid is fixed to form a hole transport layer on the substrate 9. (Steps S11 to S24).

正孔輸送層が形成されると、マルチ搬送ロボット4により、第1有機EL塗布ユニット24aおよび第1有機ELベークユニット25aの順に基板9が搬送され、基板9に対する有機EL液(R)の塗布、および、基板9の加熱による有機EL液(R)の定着が行われて基板9の正孔輸送層上に赤色(R)の有機EL材料の層が形成される(ステップS61,S62)。   When the hole transport layer is formed, the multi-transport robot 4 transports the substrate 9 in the order of the first organic EL coating unit 24a and the first organic EL baking unit 25a, and coats the substrate 9 with the organic EL liquid (R). Then, the organic EL liquid (R) is fixed by heating the substrate 9, and a layer of red (R) organic EL material is formed on the hole transport layer of the substrate 9 (steps S61 and S62).

続いて、マルチ搬送ロボット4により、第2有機EL塗布ユニット24bおよび第2有機ELベークユニット25bの順に基板9が搬送され、基板9に対する有機EL液(G)の塗布、および、基板9の加熱による有機EL液(G)の定着が行われて基板9の正孔輸送層上に緑色(G)の有機EL材料の層が形成される(ステップS63,S64)。   Subsequently, the multi-transport robot 4 transports the substrate 9 in the order of the second organic EL coating unit 24 b and the second organic EL baking unit 25 b, coating the substrate 9 with the organic EL liquid (G), and heating the substrate 9. The organic EL liquid (G) is fixed by the above, and a green (G) organic EL material layer is formed on the hole transport layer of the substrate 9 (steps S63 and S64).

さらに、マルチ搬送ロボット4により、第3有機EL塗布ユニット24cおよび第3有機ELベークユニット25cの順に基板9が搬送され、基板9に対する有機EL液(B)の塗布、および、基板9の加熱による有機EL液(B)の定着が行われて基板9の正孔輸送層上に青色(B)の有機EL材料の層が形成される(ステップS65,S66)。   Further, the multi-transport robot 4 transports the substrate 9 in the order of the third organic EL coating unit 24 c and the third organic EL baking unit 25 c, and applies the organic EL liquid (B) to the substrate 9 and heats the substrate 9. The organic EL liquid (B) is fixed to form a blue (B) organic EL material layer on the hole transport layer of the substrate 9 (steps S65 and S66).

3種類の有機EL液の塗布および定着が終了すると、基板9が第3有機ELベークユニット25cから搬出されて有機EL除去ユニット26に搬入され、有機EL除去ユニット26において、塗布禁止領域92に定着した3種類の有機EL液に対してレーザ光が照射されて有機EL液の除去が行われる(ステップS67)。その後、有機EL除去ユニット26から搬出された基板9はインデクサ3へと搬送されてインデクサロボット32により受け取られる(ステップS38)。   When the application and fixing of the three types of organic EL liquids are completed, the substrate 9 is unloaded from the third organic EL baking unit 25c and loaded into the organic EL removal unit 26. In the organic EL removal unit 26, the substrate 9 is fixed to the coating prohibited area 92. The three types of organic EL liquids are irradiated with laser light to remove the organic EL liquid (step S67). Thereafter, the substrate 9 unloaded from the organic EL removal unit 26 is transported to the indexer 3 and received by the indexer robot 32 (step S38).

塗布システム1bでは、3種類の有機EL液がそれぞれ、個別の処理ユニットである有機EL塗布ユニット24a〜24cにより基板9に塗布され、さらに、それぞれの塗布後に、個別の処理ユニットである有機ELベークユニット25a〜25cにより加熱されて基板9に定着する。このため、3種類の有機EL液を、それぞれに適した塗布条件下で基板9に塗布することができ、さらに、それぞれに適した温度条件にて加熱することができる。その結果、3種類の有機EL液の塗布および加熱処理の質を向上することができる。また、個別に塗布された3種類の有機EL液を1つの有機EL除去ユニット26により並行して除去することにより、基板9の処理時間をより短縮することができる。   In the coating system 1b, the three types of organic EL liquids are respectively applied to the substrate 9 by the organic EL coating units 24a to 24c, which are individual processing units, and further, after each coating, the organic EL baking that is an individual processing unit. The unit 25a to 25c is heated and fixed to the substrate 9. For this reason, three types of organic EL liquids can be applied to the substrate 9 under application conditions suitable for each, and further, heating can be performed under temperature conditions suitable for each. As a result, it is possible to improve the quality of the application and heat treatment of the three types of organic EL liquids. Moreover, the processing time of the board | substrate 9 can be shortened more by removing three types of organic EL liquid apply | coated separately by the one organic EL removal unit 26 in parallel.

次に本発明の第の実施の形態に係る塗布システム1cについて説明する。図17は、塗布システム1cの構成を示す図である。図17に示すように、塗布システム1cは、図1に示す移動路41を移動するマルチ搬送ロボット4に代えて、インデクサ3と処理ユニット群2との間、および、処理ユニット群2の各処理ユニットの間に配置される固定型の複数の搬送アーム4aを搬送機構として備える。その他の構成は図1と同様であり、以下の説明において同符号を付す。 Next, a coating system 1c according to a third embodiment of the present invention will be described. FIG. 17 is a diagram illustrating a configuration of the coating system 1c. As shown in FIG. 17, the coating system 1 c is configured to replace each processing of the processing unit group 2 between the indexer 3 and the processing unit group 2, instead of the multi-transport robot 4 moving on the moving path 41 shown in FIG. 1. A plurality of fixed transfer arms 4a arranged between the units are provided as a transfer mechanism. Other configurations are the same as those in FIG. 1, and the same reference numerals are given in the following description.

塗布システム1cでは、複数の搬送アーム4aにより、基板9が、インデクサ3から正孔輸送塗布ユニット21、正孔輸送除去ユニット23、正孔輸送ベークユニット22、有機EL塗布ユニット24、有機EL除去ユニット26および有機ELベークユニット25を順に経由してインデクサ3へと至る所定の搬送経路に沿って搬送される。そして、各ユニットにおいてそれぞれ処理されることにより、第1の実施の形態同様に、基板9の塗布領域91に正孔輸送層および有機EL層が形成される。   In the coating system 1c, the substrate 9 is moved from the indexer 3 to the hole transport coating unit 21, the hole transport removal unit 23, the hole transport bake unit 22, the organic EL coating unit 24, and the organic EL removal unit by the plurality of transfer arms 4a. 26 and the organic EL bake unit 25 are sequentially conveyed along a predetermined conveyance path to the indexer 3. Then, by processing each unit, a hole transport layer and an organic EL layer are formed in the coating region 91 of the substrate 9 as in the first embodiment.

塗布システム1cでは、基板9を正孔輸送除去ユニット23から正孔輸送ベークユニット22へと搬送する搬送アーム4aが、正孔輸送塗布ユニット21から正孔輸送除去ユニット23へと搬送する搬送アーム4aとは別のものとされるため、正孔輸送液が搬送アーム4aを介して正孔輸送ベークユニット22に付着することを確実に防止することができる。その結果、正孔輸送ベークユニット22に順次搬入される基板9に、不要な正孔輸送液が付着することを確実に防止することができる(第の実施の形態において同様)。 In the coating system 1c, the transport arm 4a that transports the substrate 9 from the hole transport removal unit 23 to the hole transport bake unit 22 transports the substrate 9 from the hole transport coating unit 21 to the hole transport removal unit 23. Therefore, it is possible to reliably prevent the hole transport liquid from adhering to the hole transport bake unit 22 via the transport arm 4a. As a result, it is possible to reliably prevent unnecessary hole transport liquid from adhering to the substrate 9 sequentially carried into the hole transport bake unit 22 (the same applies to the fourth embodiment).

同様に、基板9を有機EL除去ユニット26から有機ELベークユニット25へと搬送する搬送アーム4aが、有機EL塗布ユニット24から有機EL除去ユニット26へと搬送する搬送アーム4aとは別のものとされるため、有機EL液が搬送アーム4aを介して有機ELベークユニット25に付着することを確実に防止することができる。その結果、有機ELベークユニット25に順次搬入される基板9に、不要な有機EL液が付着することを確実に防止することができる(第の実施の形態において同様)。 Similarly, the transfer arm 4a for transferring the substrate 9 from the organic EL removal unit 26 to the organic EL bake unit 25 is different from the transfer arm 4a for transferring the substrate 9 from the organic EL coating unit 24 to the organic EL removal unit 26. Therefore, it is possible to reliably prevent the organic EL liquid from adhering to the organic EL bake unit 25 via the transport arm 4a. As a result, it is possible to reliably prevent unnecessary organic EL liquid from adhering to the substrate 9 sequentially carried into the organic EL bake unit 25 (the same applies to the fourth embodiment).

図18は、本発明の第の実施の形態に係る塗布システム1dの構成を示す図である。図18に示すように、塗布システム1dは第2の実施の形態に係る塗布システム1a(図13参照)とほぼ同様の構成を備えるが、マルチ搬送ロボット4に代えて複数の搬送アーム4aが設けられる点で異なる。その他の構成は図13と同様であり、以下の説明において同符号を付す。 FIG. 18 is a diagram showing a configuration of a coating system 1d according to the fourth embodiment of the present invention. As shown in FIG. 18, the coating system 1 d has substantially the same configuration as the coating system 1 a (see FIG. 13) according to the second embodiment, but a plurality of transfer arms 4 a are provided instead of the multi-transfer robot 4. Is different. Other configurations are the same as those in FIG. 13, and the same reference numerals are given in the following description.

図18に示す塗布システム1dでは、第2の実施の形態と同様に、正孔輸送層の形成終了後の基板9に対して有機EL液(R)、有機EL液(G)および有機EL液(B)が順次塗布され、塗布禁止領域92から3種類の有機EL液が除去された後に加熱処理が行われて有機EL層が形成される。   In the coating system 1d shown in FIG. 18, as in the second embodiment, the organic EL liquid (R), the organic EL liquid (G), and the organic EL liquid are applied to the substrate 9 after the formation of the hole transport layer. (B) is sequentially applied, and after the three types of organic EL liquids are removed from the application prohibited region 92, a heat treatment is performed to form an organic EL layer.

図19は、本発明の第の実施の形態に係る塗布システム1eの構成を示す図である。図19に示すように、塗布システム1eでは、処理ユニット群2が、図1に示す塗布システム1の複数の処理ユニットに加えて、処理ユニット群2における処理途上の基板9を一時的に保持するバッファユニット27をさらに含む。その他の構成は図1と同様であり、以下の説明において同符号を付す。 FIG. 19 is a diagram showing a configuration of a coating system 1e according to the fifth embodiment of the present invention. As shown in FIG. 19, in the coating system 1e, the processing unit group 2 temporarily holds the substrate 9 being processed in the processing unit group 2 in addition to the plurality of processing units of the coating system 1 shown in FIG. A buffer unit 27 is further included. Other configurations are the same as those in FIG. 1, and the same reference numerals are given in the following description.

処理ユニット群2では、各処理ユニットにおける処理時間が異なる。例えば、正孔輸送ベークユニット22および有機ELベークユニット25における基板9の加熱および冷却に要する時間は、正孔輸送塗布ユニット21および有機EL塗布ユニット24における正孔輸送液および有機EL液の塗布に要する時間よりも長く、また、正孔輸送除去ユニット23および有機EL除去ユニット26における正孔輸送液および有機EL液の除去に要する時間よりも長い。   In the processing unit group 2, the processing time in each processing unit is different. For example, the time required for heating and cooling the substrate 9 in the hole transport bake unit 22 and the organic EL bake unit 25 depends on the hole transport liquid and the organic EL liquid applied in the hole transport coating unit 21 and the organic EL coating unit 24. It is longer than the time required and longer than the time required for removing the hole transport liquid and the organic EL liquid in the hole transport removal unit 23 and the organic EL removal unit 26.

塗布システム1eでは、処理途上の基板9を一時的にバッファユニット27のカセット(図示省略)に収納して保持することにより、複数の基板9の処理を行う際に、各処理ユニット間の処理時間(すなわち、タクトタイム)の差を調整し、基板9の処理順序に柔軟性を持たせることができるため、基板9の処理時間を短縮することができる。例えば、搬送途上の基板9を一時的にバッファユニット27に収納して、処理時間が長い正孔輸送ベークユニット22および有機ELベークユニット25に対する基板9の搬出入を優先させることができる。この観点からは、バッファユニット27は正孔輸送ベークユニット22および有機ELベークユニット25に最も近い位置に配置されることが好ましい。   In the coating system 1e, the processing time between the processing units when processing a plurality of substrates 9 by temporarily storing and holding the processing substrate 9 in a cassette (not shown) of the buffer unit 27 is provided. In other words, the processing time of the substrate 9 can be shortened because the difference in the (tact time) can be adjusted and the processing order of the substrate 9 can be made flexible. For example, the substrate 9 on the way of transport can be temporarily stored in the buffer unit 27, and priority can be given to the loading / unloading of the substrate 9 with respect to the hole transport bake unit 22 and the organic EL bake unit 25 with a long processing time. From this viewpoint, it is preferable that the buffer unit 27 is disposed at a position closest to the hole transport bake unit 22 and the organic EL bake unit 25.

また、正孔輸送ベークユニット22において1枚の基板9に対する加熱処理を行っている間、正孔輸送液の塗布および塗布禁止領域92からの除去が終了した後続の基板9をバッファユニット27に収納しておくことにより、正孔輸送塗布ユニット21において複数の基板9に対して連続的に正孔輸送液の塗布を行うことができる。正孔輸送塗布ユニット21では、正孔輸送液の吐出を停止すると、吐出を再開した際の流量等の安定に多少の時間を要するため、複数の基板9に対して塗布を行う際には、基板9の搬入を待っている間も吐出を停止しないことが好ましい。このため、仮に基板9の搬入を待つ時間が長いと、正孔輸送液の使用量が増大してしまう。塗布システム1eでは、バッファユニット27を設けることにより、複数の基板9に対する連続的な塗布を実現し、正孔輸送液の使用量を低減することができる(有機EL液の塗布についても同様)。   In addition, while the hole transport bake unit 22 performs the heat treatment on one substrate 9, the subsequent substrate 9 in which the application of the hole transport liquid and the removal from the coating prohibited area 92 has been completed is stored in the buffer unit 27. By doing so, the hole transport liquid can be continuously applied to the plurality of substrates 9 in the hole transport coating unit 21. In the hole transport coating unit 21, when the ejection of the hole transport liquid is stopped, it takes some time to stabilize the flow rate when the ejection is restarted. It is preferable not to stop the discharge while waiting for the substrate 9 to be carried. For this reason, if the time which waits for carrying in of the board | substrate 9 is long, the usage-amount of a positive hole transport liquid will increase. In the coating system 1e, by providing the buffer unit 27, continuous coating on the plurality of substrates 9 can be realized, and the amount of the hole transport liquid used can be reduced (the same applies to the coating of the organic EL liquid).

図20は、本発明の第の実施の形態に係る塗布システム1fの構成を示す図である。図20に示すように、塗布システム1fの処理ユニット群2は、正孔輸送層の形成に係る処理ユニットとして正孔輸送除去ユニット23、3つの正孔輸送塗布ユニット21および正孔輸送ベークユニット22を含み、有機EL層の形成に係る処理ユニットとして有機EL除去ユニット26、第1有機EL塗布ユニット24a、第2有機EL塗布ユニット24b、第3有機EL塗布ユニット24cおよび有機ELベークユニット25を含む。処理ユニット群2は、また、処理途上の基板9を一時的に保持するバッファユニット27aを備える。バッファユニット27aは、処理ユニットの配列に沿って伸びる横長の形状とされる。 FIG. 20 is a diagram showing a configuration of a coating system 1f according to the sixth embodiment of the present invention. As shown in FIG. 20, the processing unit group 2 of the coating system 1f includes a hole transport removing unit 23, three hole transport coating units 21, and a hole transport bake unit 22 as processing units for forming a hole transport layer. The organic EL removal unit 26, the first organic EL coating unit 24a, the second organic EL coating unit 24b, the third organic EL coating unit 24c, and the organic EL baking unit 25 are included as processing units for forming the organic EL layer. . The processing unit group 2 also includes a buffer unit 27a that temporarily holds the substrate 9 being processed. The buffer unit 27a has a horizontally long shape extending along the arrangement of the processing units.

処理ユニット群2では、正孔輸送層の形成に係る処理ユニットがバッファユニット27aの一方側に配列され、有機EL層の形成に係る処理ユニットが他方側に配列される。塗布システム1fは、基板9の搬送機構として2台のマルチ搬送ロボット4を備え、正孔輸送層の形成に係る複数の処理ユニットとバッファユニット27aとの間、および、有機EL層の形成に係る複数の処理ユニットとバッファユニット27aとの間にはそれぞれ、マルチ搬送ロボット4が移動する移動路41が設けられる。   In the processing unit group 2, processing units related to the formation of the hole transport layer are arranged on one side of the buffer unit 27a, and processing units related to the formation of the organic EL layer are arranged on the other side. The coating system 1f includes two multi-transport robots 4 as a transport mechanism for the substrate 9, and includes a plurality of processing units related to the formation of the hole transport layer and the buffer unit 27a, and a formation of the organic EL layer. A moving path 41 on which the multi-transport robot 4 moves is provided between the plurality of processing units and the buffer unit 27a.

塗布システム1fでは、正孔輸送ベークユニット22の内部に3つの加熱部(図示省略)が設けられており、3つの正孔輸送塗布ユニット21により正孔輸送液が塗布された3枚の基板9が、塗布禁止領域92からの有機EL液の除去後、3つの加熱部により並行して加熱されて正孔輸送層が形成される。正孔輸送層の形成に係る処理が終了した3枚の基板9は、一方のマルチ搬送ロボット4によりバッファユニット27aに収納され、他方のマルチ搬送ロボット4により順次バッファユニット27aから取り出されて有機EL層の形成に係る処理ユニットに順に搬送されることにより有機EL層が形成される。   In the coating system 1 f, three heating units (not shown) are provided inside the hole transport bake unit 22, and the three substrates 9 on which the hole transport liquid is coated by the three hole transport coating units 21. However, after removal of the organic EL liquid from the coating prohibited area 92, the hole transport layer is formed by being heated in parallel by the three heating units. The three substrates 9 for which the processing relating to the formation of the hole transport layer has been completed are accommodated in the buffer unit 27a by one multi-transport robot 4, and are sequentially taken out from the buffer unit 27a by the other multi-transport robot 4 to be organic EL. The organic EL layer is formed by being sequentially conveyed to the processing unit relating to the formation of the layer.

塗布システム1fでは、バッファユニット27aを挟んで、正孔輸送層の形成に係る処理ユニットと有機EL層の形成に係る処理ユニットとを分離して配置することにより、正孔輸送層および有機EL層の形成に係る処理時間の差を調整することができるとともに、正孔輸送層の形成に係る処理ユニットと有機EL層の形成に係る処理ユニットとの間における雰囲気の移動を抑制することができる。その結果、基板9に対する処理の質を向上することができる。   In the coating system 1f, the hole transport layer and the organic EL layer are disposed by separating the processing unit for forming the hole transport layer and the processing unit for forming the organic EL layer with the buffer unit 27a interposed therebetween. The difference of the processing time concerning formation of can be adjusted, and the movement of the atmosphere between the processing unit related to the formation of the hole transport layer and the processing unit related to the formation of the organic EL layer can be suppressed. As a result, the quality of processing for the substrate 9 can be improved.

次に、塗布システムの他の例を示す。以下の例では、処理ユニット群2から正孔輸送層の形成に係る処理ユニットが省略されており、他のシステムや装置等、外部において正孔輸送層の形成が行われた基板9が塗布システムに搬入される。   Next, another example of the coating system is shown. In the following example, the processing unit related to the formation of the hole transport layer is omitted from the processing unit group 2, and the substrate 9 on which the hole transport layer is formed externally, such as another system or apparatus, is applied to the coating system. It is carried in.

図21に示す塗布システム1gは、インデクサ3、マルチ搬送ロボット4および処理ユニット群2を備え、処理ユニット群2は、有機EL除去ユニット26、有機EL塗布ユニット24および有機ELベークユニット25をそれぞれ2つずつ含む。図22に示す塗布システム1hの処理ユニット群2は、2つの有機EL除去ユニット26、第1有機EL塗布ユニット24a、第2有機EL塗布ユニット24b、第3有機EL塗布ユニット24cおよび有機ELベークユニット25を含む。図23に示す塗布システム1jの処理ユニット群2は、図22に示す有機ELベークユニット25に代えて、第1有機ELベークユニット25a、第2有機ELベークユニット25bおよび第3有機ELベークユニット25cを含む。   A coating system 1g shown in FIG. 21 includes an indexer 3, a multi-transport robot 4, and a processing unit group 2. The processing unit group 2 includes two organic EL removal units 26, two organic EL coating units 24, and two organic EL baking units 25. Includes one by one. The processing unit group 2 of the coating system 1h shown in FIG. 22 includes two organic EL removal units 26, a first organic EL coating unit 24a, a second organic EL coating unit 24b, a third organic EL coating unit 24c, and an organic EL baking unit. 25. The processing unit group 2 of the coating system 1j shown in FIG. 23 replaces the organic EL baking unit 25 shown in FIG. 22 with a first organic EL baking unit 25a, a second organic EL baking unit 25b, and a third organic EL baking unit 25c. including.

図24および図25に示す塗布システム1k,1mは、インデクサ3、複数の搬送アーム4aおよび処理ユニット群2を備える。塗布システム1kでは、基板9が有機EL塗布ユニット24、有機EL除去ユニット26および有機ELベークユニット25の順に搬送されて処理されることにより、基板9上に有機EL層が形成される。塗布システム1mでは、基板9が第1有機EL塗布ユニット24a、第2有機EL塗布ユニット24b、第3有機EL塗布ユニット24c、有機EL除去ユニット26および有機ELベークユニット25の順に搬送される。   The coating systems 1k and 1m shown in FIGS. 24 and 25 include an indexer 3, a plurality of transfer arms 4a, and a processing unit group 2. In the coating system 1k, the substrate 9 is transported and processed in the order of the organic EL coating unit 24, the organic EL removal unit 26, and the organic EL baking unit 25, whereby an organic EL layer is formed on the substrate 9. In the coating system 1m, the substrate 9 is transported in the order of the first organic EL coating unit 24a, the second organic EL coating unit 24b, the third organic EL coating unit 24c, the organic EL removal unit 26, and the organic EL baking unit 25.

なお、塗布システムでは、必ずしも3種類の有機EL液が塗布される必要はなく、1種類または2種類、あるいは、4種類以上の有機EL液が塗布されてもよい。また、塗布システムでは、処理ユニット群2から有機EL層の形成に係る処理ユニットが省略され、正孔輸送層の形成のみが行われてもよい。   In the application system, it is not always necessary to apply three types of organic EL liquids, and one type, two types, or four or more types of organic EL liquids may be applied. In the coating system, the processing unit related to the formation of the organic EL layer may be omitted from the processing unit group 2, and only the hole transport layer may be formed.

以上、本発明の実施の形態について説明してきたが、本発明は上記実施の形態に限定されるものではなく、様々な変更が可能である。   As mentioned above, although embodiment of this invention has been described, this invention is not limited to the said embodiment, A various change is possible.

例えば、第の実施の形態に係る塗布システム1eでは、処理ユニット群2に複数のバッファユニット27が含まれてもよい。バッファユニット27は、他の構成を有する処理ユニット群2に設けられてもよく、例えば、図21ないし図23に示す塗布システム1g,1h,1jの処理ユニット群2に設けられてもよい。また、第2の実施の形態に係る塗布システム1a、および、関連技術に係る塗布システム1bに設けられてもよい。塗布システム1a,1bの正孔輸送塗布ユニット21では、基板9の塗布領域91の全ての溝部に対して正孔輸送液の塗布が行われるが、第1有機EL塗布ユニット24a、第2有機EL塗布ユニット24bおよび第3有機EL塗布ユニット24cではそれぞれ、1/3の本数の溝部に対して有機EL液(R)、有機EL液(G)および有機EL液(B)の塗布が行われる。したがって、正孔輸送塗布ユニット21における処理時間は、有機EL塗布ユニット24a〜24cのそれぞれにおける処理時間の約3倍となる。塗布システム1a,1bでは、バッファユニット27により、このような各ユニットにおける処理時間の差を調整することもできる。 For example, in the coating system 1e according to the fifth embodiment, the processing unit group 2 may include a plurality of buffer units 27. The buffer unit 27 may be provided in the processing unit group 2 having another configuration. For example, the buffer unit 27 may be provided in the processing unit group 2 of the coating systems 1g, 1h, and 1j illustrated in FIGS. Moreover, you may provide in the coating system 1a which concerns on 2nd Embodiment , and the coating system 1b which concerns on related technology . In the hole transport coating unit 21 of the coating systems 1a and 1b, the hole transport liquid is applied to all the groove portions of the coating region 91 of the substrate 9, but the first organic EL coating unit 24a and the second organic EL. In the coating unit 24b and the third organic EL coating unit 24c, the organic EL liquid (R), the organic EL liquid (G), and the organic EL liquid (B) are applied to the 1/3 number of grooves. Accordingly, the processing time in the hole transport coating unit 21 is about three times the processing time in each of the organic EL coating units 24a to 24c. In the coating systems 1a and 1b, the buffer unit 27 can also adjust the difference in processing time between the units.

正孔輸送除去ユニット23および有機EL除去ユニット26における正孔輸送液および有機EL液の除去は、必ずしもレーザ光の照射によるものには限定されず、例えば、プラズマやコロナ等、他のエネルギー波の照射により行われてもよい。また、ドライアイス(CO)等の微粒子の照射によるブラスト法により行われてもよい。なお、塗布システムの小型化の要請がある場合には、1つの除去ユニットにより、塗布禁止領域92からの正孔輸送液および有機EL液の除去が行われてもよい。 Removal of the hole transport liquid and the organic EL liquid in the hole transport removal unit 23 and the organic EL removal unit 26 is not necessarily limited to that by laser light irradiation. For example, other energy waves such as plasma and corona can be removed. It may be performed by irradiation. May also be performed by a blasting method by irradiation of fine particles such as dry ice (CO 2). When there is a request for downsizing of the coating system, the hole transport liquid and the organic EL liquid may be removed from the coating prohibited area 92 by one removal unit.

上記実施の形態に係る塗布システムでは、基板9の塗布禁止領域92全体に対してレーザ光の照射が行われてもよい。例えば、正孔輸送除去ユニット23では、塗布禁止領域92のうち一の方向に伸びる領域にレーザ光が照射されて正孔輸送液が除去され、基板移動機構232により基板9が90°だけ回転した後、当該一の方向に垂直に伸びる領域に対してレーザ光が照射される。このように、塗布禁止領域92のうち正孔輸送塗布ユニット21において正孔輸送液の塗布が行われない領域にもレーザ光を照射することにより、何らかの異常等により当該領域に付着した異物を除去することができる(有機EL除去ユニット26等においても同様)。   In the coating system according to the above-described embodiment, laser light irradiation may be performed on the entire coating prohibited area 92 of the substrate 9. For example, in the hole transport removal unit 23, a region extending in one direction of the coating prohibited region 92 is irradiated with laser light to remove the hole transport liquid, and the substrate moving mechanism 232 rotates the substrate 9 by 90 °. Thereafter, a laser beam is applied to a region extending perpendicularly to the one direction. In this way, by irradiating the region where the hole transport liquid is not applied in the hole transport coating unit 21 in the coating prohibited region 92, the foreign matter adhering to the region due to some abnormality is removed. (The same applies to the organic EL removal unit 26 and the like).

有機EL液(R)、有機EL液(G)および有機EL液(B)を基板9にそれぞれ塗布する有機EL塗布ユニット24a〜24cでは、有機EL液を吐出するノズルが、1本または2本、あるいは、4本以上設けられてもよい(正孔輸送塗布ユニット21においても同様)。また、有機EL液(R)、有機EL液(G)および有機EL液(B)を並行して塗布する有機EL塗布ユニット24では、ノズルの本数は3の倍数であればよい。   In the organic EL application units 24a to 24c that apply the organic EL liquid (R), the organic EL liquid (G), and the organic EL liquid (B) to the substrate 9, respectively, one or two nozzles that discharge the organic EL liquid are used. Alternatively, four or more may be provided (the same applies to the hole transport coating unit 21). In the organic EL application unit 24 that applies the organic EL liquid (R), the organic EL liquid (G), and the organic EL liquid (B) in parallel, the number of nozzles may be a multiple of three.

上記実施の形態に係る塗布システムでは、塗布対象となる基板は、必ずしも有機EL表示装置用のガラス基板には限定されず、また、塗布される流動性材料も、正孔輸送液や有機EL液以外のものであってよい。塗布システムは、例えば、液晶表示装置やプラズマ表示装置に利用される基板に対する流動性材料の塗布に用いられてもよく、半導体基板に対する流動性材料の塗布に用いられてもよい。   In the coating system according to the above embodiment, the substrate to be coated is not necessarily limited to the glass substrate for the organic EL display device, and the fluid material to be coated is not limited to the hole transport liquid or the organic EL liquid. Other than that. The coating system may be used, for example, to apply a fluid material to a substrate used in a liquid crystal display device or a plasma display device, or may be used to apply a fluid material to a semiconductor substrate.

第1の実施の形態に係る塗布システムの構成を示す図である。It is a figure which shows the structure of the coating system which concerns on 1st Embodiment. 基板を示す平面図である。It is a top view which shows a board | substrate. インデクサロボットおよびマルチ搬送ロボットを示す図である。It is a figure which shows an indexer robot and a multi conveyance robot. 正孔輸送除去ユニットの構成を示す正面図である。It is a front view which shows the structure of a positive hole transport removal unit. 除去ヘッドを拡大して示す正面図である。It is a front view which expands and shows a removal head. 有機EL塗布ユニットの構成を示す平面図である。It is a top view which shows the structure of an organic electroluminescent application unit. 有機EL塗布ユニットの構成を示す正面図である。It is a front view which shows the structure of an organic EL application | coating unit. 基板を示す平面図である。It is a top view which shows a board | substrate. 基板を示す断面図である。It is sectional drawing which shows a board | substrate. 基板を示す断面図である。It is sectional drawing which shows a board | substrate. 正孔輸送ベークユニットを示す斜視図である。It is a perspective view which shows a positive hole transport bake unit. 塗布システムの動作の流れを示す図である。It is a figure which shows the flow of operation | movement of a coating system. 塗布システムの動作の流れを示す図である。It is a figure which shows the flow of operation | movement of a coating system. 塗布システムの動作の流れを示す図である。It is a figure which shows the flow of operation | movement of a coating system. 第2の実施の形態に係る塗布システムの構成を示す図である。It is a figure which shows the structure of the coating system which concerns on 2nd Embodiment. 塗布システムの動作の流れの一部を示す図である。It is a figure which shows a part of operation | movement flow of a coating system. 関連技術に係る塗布システムの構成を示す図である。It is a figure which shows the structure of the coating system which concerns on related technology . 塗布システムの動作の流れの一部を示す図である。It is a figure which shows a part of operation | movement flow of a coating system. の実施の形態に係る塗布システムの構成を示す図である。It is a figure which shows the structure of the coating system which concerns on 3rd Embodiment. の実施の形態に係る塗布システムの構成を示す図である。It is a figure which shows the structure of the coating system which concerns on 4th Embodiment. の実施の形態に係る塗布システムの構成を示す図である。It is a figure which shows the structure of the coating system which concerns on 5th Embodiment. の実施の形態に係る塗布システムの構成を示す図である。It is a figure which shows the structure of the coating system which concerns on 6th Embodiment. 他の塗布システムの構成を示す図である。It is a figure which shows the structure of another coating system. 他の塗布システムの構成を示す図である。It is a figure which shows the structure of another coating system. 他の塗布システムの構成を示す図である。It is a figure which shows the structure of another coating system. 他の塗布システムの構成を示す図である。It is a figure which shows the structure of another coating system. 他の塗布システムの構成を示す図である。It is a figure which shows the structure of another coating system.

符号の説明Explanation of symbols

1,1a〜1m 塗布システム
2 処理ユニット群
3 インデクサ
4 マルチ搬送ロボット
4a 搬送アーム
9 基板
21 正孔輸送塗布ユニット
22 正孔輸送ベークユニット
23 正孔輸送除去ユニット
24 有機EL塗布ユニット
24a 第1有機EL塗布ユニット
24b 第2有機EL塗布ユニット
24c 第3有機EL塗布ユニット
25 有機ELベークユニット
25a 第1有機ELベークユニット
25b 第2有機ELベークユニット
25c 第3有機ELベークユニット
26 有機EL除去ユニット
27,27a バッファユニット
92 塗布禁止領域
247a〜247c ノズル
421,422 ハンド
S11〜S17,S21〜S27,S31〜S38,S51〜S59,S61〜S67 ステップ
1, 1a-1m coating system 2 processing unit group 3 indexer 4 multi-transport robot 4a transport arm 9 substrate 21 hole transport coating unit 22 hole transport bake unit 23 hole transport removal unit 24 organic EL coating unit 24a first organic EL Coating unit 24b Second organic EL coating unit 24c Third organic EL coating unit 25 Organic EL baking unit 25a First organic EL baking unit 25b Second organic EL baking unit 25c Third organic EL baking unit 26 Organic EL removal unit 27, 27a Buffer unit 92 Application prohibited area 247a to 247c Nozzle 421 and 422 Hand S11 to S17, S21 to S27, S31 to S38, S51 to S59, S61 to S67 Steps

Claims (16)

基板に流動性材料を塗布する塗布システムであって、
処理ユニット群と、
前記処理ユニット群による処理前の未処理基板および前記処理ユニット群による処理後の処理済基板が載置されるインデクサと、
前記インデクサおよび前記処理ユニット群に対して基板の受け渡しを行い、前記インデクサから前記処理ユニット群の少なくとも一部を経由して前記インデクサへと至る所定の搬送経路に沿って前記基板を搬送する基板搬送機構と、
を備え、
前記処理ユニット群が、
加熱機構が内蔵された基板保持部により保持される基板に向けて流動性材料をノズルから連続的に吐出しつつ前記ノズルを前記基板に対して相対的に移動し、前記基板上の塗布禁止領域を含む領域に前記流動性材料を塗布するとともに、前記加熱機構により前記流動性材料を生乾きの状態とする塗布ユニットと、
前記塗布禁止領域に塗布された流動性材料に向けてエネルギー波または微粒子を照射して前記塗布禁止領域から前記流動性材料を除去する除去ユニットと、
前記流動性材料が塗布された前記基板を加熱して前記流動性材料を前記基板上に定着させるベークユニットと、
を含み、
前記除去ユニットが、前記ベークユニットにより加熱される前の前記基板から前記流動性材料を除去することを特徴とする塗布システム。
An application system for applying a flowable material to a substrate,
A group of processing units;
An indexer on which an unprocessed substrate before processing by the processing unit group and a processed substrate after processing by the processing unit group are placed;
Substrate transport for delivering a substrate to the indexer and the processing unit group, and transporting the substrate along a predetermined transport path from the indexer to the indexer via at least a part of the processing unit group Mechanism,
With
The processing unit group is
The nozzle is moved relative to the substrate while continuously ejecting the flowable material from the nozzle toward the substrate held by the substrate holding unit having a built-in heating mechanism. An application unit that applies the flowable material to a region that includes:
A removal unit that irradiates an energy wave or fine particles toward the flowable material applied to the application prohibited area to remove the flowable material from the application prohibited area;
A baking unit that heats the substrate coated with the flowable material to fix the flowable material on the substrate;
Only including,
The coating system , wherein the removing unit removes the flowable material from the substrate before being heated by the bake unit .
請求項1に記載の塗布システムであって、
前記処理ユニット群が、前記基板を一時的に保持するバッファユニットをさらに含むことを特徴とする塗布システム。
The coating system according to claim 1,
The coating system, wherein the processing unit group further includes a buffer unit that temporarily holds the substrate.
請求項1または2に記載の塗布システムであって、
前記処理ユニット群のうち、前記除去ユニットが、他のいずれの処理ユニットよりも前記インデクサに近い位置に配置されることを特徴とする塗布システム。
The coating system according to claim 1 or 2,
In the treatment unit group, the removal unit is disposed at a position closer to the indexer than any other treatment unit.
請求項1ないし3のいずれかに記載の塗布システムであって、
前記除去ユニットにより前記基板上の前記塗布禁止領域に向けて行われる前記エネルギー波の照射が、レーザ光の照射であることを特徴とする塗布システム。
The coating system according to any one of claims 1 to 3,
The coating system according to claim 1, wherein the irradiation of the energy wave performed toward the coating prohibited area on the substrate by the removing unit is a laser beam.
請求項1ないし4のいずれかに記載の塗布システムであって、
前記基板が、有機EL表示装置用のガラス基板であることを特徴とする塗布システム。
The coating system according to any one of claims 1 to 4,
The coating system, wherein the substrate is a glass substrate for an organic EL display device.
請求項5に記載の塗布システムであって、
前記流動性材料が正孔輸送材料を含むことを特徴とする塗布システム。
The coating system according to claim 5,
An application system, wherein the flowable material includes a hole transport material.
請求項5に記載の塗布システムであって、
前記流動性材料が有機EL材料であることを特徴とする塗布システム。
The coating system according to claim 5,
The coating system, wherein the fluid material is an organic EL material.
請求項1ないし7のいずれかに記載の塗布システムであって、
前記基板搬送機構が、
前記基板を前記塗布ユニットから前記除去ユニットへと搬送する際に保持する保持部と、
前記基板を前記除去ユニットから前記ベークユニットへと搬送する際に保持するもう1つの保持部と、
を備えることを特徴とする塗布システム。
The coating system according to any one of claims 1 to 7 ,
The substrate transport mechanism is
A holding unit for holding the substrate when the substrate is transported from the coating unit to the removal unit;
Another holding unit for holding the substrate when the substrate is transported from the removal unit to the bake unit;
An application system comprising:
請求項7に記載の塗布システムであって、
前記塗布ユニットが、複数の流動性材料をそれぞれ吐出する複数のノズルを備え、
前記複数の流動性材料が、互いに色が異なる複数の有機EL材料をそれぞれ含むことを特徴とする塗布システム。
The application system according to claim 7,
The application unit includes a plurality of nozzles that respectively discharge a plurality of flowable materials,
The coating system, wherein the plurality of flowable materials each include a plurality of organic EL materials having different colors.
請求項7に記載の塗布システムであって、
前記処理ユニット群が、もう1つの塗布ユニットをさらに含み、
前記塗布ユニットが、一の色の有機EL材料を含む第1流動性材料を前記基板に塗布し、前記もう1つの塗布ユニットが、前記一の色とは異なる他の一の色の有機EL材料を含む第2流動性材料を前記基板に塗布することを特徴とする塗布システム。
The application system according to claim 7,
The processing unit group further includes another coating unit,
The application unit applies a first fluid material containing an organic EL material of one color to the substrate, and the other application unit uses an organic EL material of another color different from the one color. A coating system comprising: coating a second fluid material containing: on the substrate.
請求項10に記載の塗布システムであって、
前記除去ユニットが、前記塗布禁止領域からの前記第1流動性材料の除去および前記第2流動性材料の除去を並行して行うことを特徴とする塗布システム。
The coating system according to claim 10 ,
The application system, wherein the removal unit performs the removal of the first fluid material from the application prohibited area and the removal of the second fluid material in parallel.
請求項11に記載の塗布システムであって、
前記処理ユニット群がもう1つのベークユニットをさらに含み、
前記基板搬送機構が、前記塗布ユニット、前記ベークユニット、前記もう1つの塗布ユニット、前記もう1つのベークユニットおよび前記除去ユニットの順に前記基板を搬送することを特徴とする塗布システム。
The coating system according to claim 11 ,
The processing unit group further includes another baking unit;
The coating system, wherein the substrate transport mechanism transports the substrate in the order of the coating unit, the bake unit, the another coating unit, the another baking unit, and the removal unit.
請求項5に記載の塗布システムであって、
前記処理ユニット群が、もう1つの塗布ユニットをさらに含み、
前記塗布ユニットが、正孔輸送材料を含む第1流動性材料を前記基板に塗布し、前記もう1つの塗布ユニットが、有機EL材料を含む第2流動性材料を前記基板に塗布することを特徴とする塗布システム。
The coating system according to claim 5,
The processing unit group further includes another coating unit,
The application unit applies a first fluid material containing a hole transport material to the substrate, and the another application unit applies a second fluid material containing an organic EL material to the substrate. Application system.
請求項13に記載の塗布システムであって、
前記処理ユニット群が、もう1つの除去ユニットをさらに含み、
前記除去ユニットが、前記塗布禁止領域から前記第1流動性材料を除去し、前記もう1つの除去ユニットが、前記塗布禁止領域から前記第2流動性材料を除去することを特徴とする塗布システム。
The coating system according to claim 13 ,
The processing unit group further includes another removal unit;
The application system, wherein the removal unit removes the first fluid material from the application prohibited area, and the other removal unit removes the second fluid material from the application prohibited area.
請求項2に記載の塗布システムであって、
前記処理ユニット群が、もう1つの塗布ユニットおよびもう1つの除去ユニットをさらに含み、
前記塗布ユニットおよび前記除去ユニットが前記バッファユニットの一方側に配列されるとともに前記もう1つの塗布ユニットおよび前記もう1つの除去ユニットが前記バッファユニットの他方側に配列され、
前記塗布ユニットが、正孔輸送材料を含む第1流動性材料を前記基板に塗布し、前記除去ユニットが、前記塗布禁止領域から前記第1流動性材料を除去し、前記もう1つの塗布ユニットが、有機EL材料を含む第2流動性材料を前記基板に塗布し、前記もう1つの除去ユニットが、前記塗布禁止領域から前記第2流動性材料を除去することを特徴とする塗布システム。
The coating system according to claim 2,
The processing unit group further includes another application unit and another removal unit;
The application unit and the removal unit are arranged on one side of the buffer unit and the another application unit and the other removal unit are arranged on the other side of the buffer unit;
The application unit applies a first fluid material containing a hole transport material to the substrate, the removal unit removes the first fluid material from the application prohibited region, and the other application unit A coating system, wherein a second fluid material containing an organic EL material is coated on the substrate, and the other removal unit removes the second fluid material from the coating prohibited area.
請求項1ないし15に記載の塗布システムであって、
前記処理ユニット群による前記基板の処理が常圧下において行われることを特徴とする塗布システム。
A coating system according to claim 1-15 ,
The coating system, wherein the processing of the substrate by the processing unit group is performed under normal pressure.
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