JP4715993B2 - Photocurable coating liquid, curable resin composition, and method for producing laminate using the same - Google Patents

Photocurable coating liquid, curable resin composition, and method for producing laminate using the same Download PDF

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Description

本発明は、光硬化性塗工液およびその具体的態様としての硬化性樹脂組成物に関する。より詳しくは、一般に表面張力の低い材料、例えば、シリコーン系樹脂、フッ素系樹脂やガラスなどからなる表面を有する基材の表面に比較的薄く塗布した場合であっても、得られる塗布膜に、はじきやピンホールなどの発生がなく、均一で薄い(例えば、約0.01〜10μm厚)の塗布膜を与えることのできる光硬化性塗工液およびその具体的態様である硬化性樹脂組成物に関する。また、本発明は、この光硬化性塗工液あるいは硬化性樹脂組成物を用いた積層体の製造に関する。   The present invention relates to a photocurable coating liquid and a curable resin composition as a specific embodiment thereof. More specifically, even when a relatively thin coating is applied to the surface of a substrate having a surface made of a material having a low surface tension, for example, a silicone resin, a fluorine resin, or glass, Photo-curing coating liquid capable of providing uniform and thin (for example, about 0.01 to 10 μm thickness) coating film without occurrence of repellency and pinholes and curable resin composition which is a specific embodiment thereof About. Moreover, this invention relates to manufacture of the laminated body using this photocurable coating liquid or curable resin composition.

一般的な反射防止膜が示す反射防止機能の原理は、高屈折率層の表面に低屈折率層を設け、高屈折率層で反射する光と低屈折率層で反射する光とをそれらの光路差を利用して互いに干渉させることにより反射光を低減させるものである。近年の液晶表示デバイスやプラズマディスプレイデバイス等の画像表示デバイスは、このような反射防止機能を有することが強く求められているだけでなく、更に、ハードコート機能も求められている。このような場合、反射防止膜は、ハードコート処理を施した基材上に、ディップ法やロールコート法などによって高屈折率層形成用塗工液を成膜した後に硬化させ、更に、その上に低屈折率層形成用塗工液を同様に成膜した後に硬化させることにより作製されている。   The principle of the antireflection function exhibited by a general antireflection film is that a low refractive index layer is provided on the surface of a high refractive index layer, and the light reflected by the high refractive index layer and the light reflected by the low refractive index layer are those. The reflected light is reduced by interfering with each other using the optical path difference. Image display devices such as liquid crystal display devices and plasma display devices in recent years are not only strongly required to have such an antireflection function, but also have a hard coat function. In such a case, the antireflection film is cured after a coating solution for forming a high refractive index layer is formed on the base material that has been subjected to a hard coating treatment by a dip method or a roll coating method, and further, In addition, a low refractive index layer-forming coating solution is similarly formed and then cured.

ところで、このようなハードコート処理にはポリオルガノシランが広く用いられているが、ポリオルガノシランは塗工液に対する濡れ性が十分でないために、基材上に形成されたポリオルガノシラン層の表面に高屈折率層形成用塗工液や低屈折率層形成用塗工液を塗布すると、はじきやピンホールなどが頻繁に発生するという問題があった。同様な問題は、樹脂の中でも比較的表面張力の低いフッ素系樹脂やオレフィン系樹脂で表面処理をしたプラスチック基材やガラス基材等の基材上に光硬化性樹脂塗工液を塗布する場合にも発生していた。   By the way, polyorganosilane is widely used for such hard coat treatment, but since polyorganosilane does not have sufficient wettability to the coating solution, the surface of the polyorganosilane layer formed on the substrate When a coating liquid for forming a high refractive index layer or a coating liquid for forming a low refractive index layer is applied to the film, there is a problem that repelling or pinholes frequently occur. The same problem occurs when applying a photocurable resin coating solution on a plastic substrate or glass substrate that has been surface-treated with a fluororesin or olefin resin with a relatively low surface tension among the resins. Also occurred.

この問題に対しては、光硬化性樹脂塗工液の粘度を増加させることが考えられるが、塗工が困難となるため均一薄膜が得られにくくなる。そこで、光硬化性樹脂塗工液の主成分としてエポキシ基を有する重合性化合物とフッ素系重合体とを併用すること(特許文献1)、光硬化性樹脂塗工液にフッ素系界面活性剤を添加すること(特許文献2)、また、光硬化性樹脂塗工液に金属アルコキシドあるいはその分解物を配合することが提案されている(特許文献3)。   For this problem, it is conceivable to increase the viscosity of the photocurable resin coating solution, but it becomes difficult to obtain a uniform thin film because the coating becomes difficult. Therefore, a polymerizable compound having an epoxy group and a fluoropolymer are used in combination as a main component of the photocurable resin coating liquid (Patent Document 1), and a fluorosurfactant is added to the photocurable resin coating liquid. It has been proposed to add (Patent Document 2) and to blend a metal alkoxide or a decomposition product thereof into the photo-curable resin coating liquid (Patent Document 3).

特開平6−25590号公報JP-A-6-25590 特開平11−323255号公報JP-A-11-323255 特開昭61−130382号公報JP 61-130382 A

しかしながら、特許文献1の技術の場合には、フッ素系重合体を用いているため塗工液の製造コストが高く、また、重合性化合物のエポキシ基が水と反応し易いため、光硬化性樹脂塗工液の保存安定性が大きく低下する虞があるという問題があった。特許文献2の技術の場合には、特許文献1の技術よりもフッ素含有成分の添加量が少ないために塗工液の製造コストが低いという利点があるものの、塗工液中にアルコキシシランの部分加水分解物が含まれているため、特許文献1と同様に、塗工液中に水が混入すると加水分解反応が促進されるため、塗工液の保存安定性が低下する虞があり、しかも、塗工液の塗膜の熱硬化に時間を要するために硬化樹脂層の製造コストが増大することが懸念される。また、特許文献3の技術の場合には、比較的濡れ性の良好な塗工液が得られ、また、硬化時間も熱硬化性樹脂塗工液に比べて短縮することが可能であるが、特許文献2の技術の場合と同様に、アルコキシシランの加水分解が必要なため、塗工液の保存安定性に問題が生ずる虞がある。   However, in the case of the technique of Patent Document 1, since a fluoropolymer is used, the manufacturing cost of the coating liquid is high, and the epoxy group of the polymerizable compound easily reacts with water. There has been a problem that the storage stability of the coating solution may be greatly reduced. In the case of the technique of Patent Document 2, there is an advantage that the production cost of the coating liquid is low because the amount of the fluorine-containing component added is smaller than that of the technique of Patent Document 1, but the alkoxysilane part is included in the coating liquid. Since the hydrolyzate is contained, as in Patent Document 1, if water is mixed in the coating liquid, the hydrolysis reaction is promoted, so that the storage stability of the coating liquid may be reduced, and There is a concern that the manufacturing cost of the cured resin layer increases because it takes time to thermally cure the coating film of the coating liquid. In the case of the technique of Patent Document 3, a coating solution having relatively good wettability is obtained, and the curing time can be shortened as compared with the thermosetting resin coating solution. As in the case of the technique of Patent Document 2, since hydrolysis of alkoxysilane is necessary, there is a possibility that a problem may occur in the storage stability of the coating liquid.

本発明は、一般に塗工液をはじきやすい材料、例えば、ポリオルガノシロキサンやポリフッ化ビニリデン等からなる表面層を有する基材に対して光硬化性塗工液あるいは硬化性樹脂組成物を比較的薄く塗布した際に、得られる塗布膜にはじきやピンホールなどの発生がなく、均一で薄い(例えば、約0.01〜10μm厚)塗布膜を形成できるようにすることを目的とする。   In the present invention, a photocurable coating solution or a curable resin composition is made relatively thin with respect to a material that generally repels a coating solution, for example, a substrate having a surface layer made of polyorganosiloxane, polyvinylidene fluoride, or the like. An object of the present invention is to make it possible to form a uniform and thin (for example, about 0.01 to 10 μm thick) coating film without occurrence of repelling or pinholes in the coating film obtained when applied.

本発明者らは、光硬化性塗工液を均一な液状とするのではなく、固体状重合性物質の微粒子を光硬化性塗工液中に分散させておくことにより上述の目的を達成できることを見出し、本発明を完成させた。   The present inventors can achieve the above-mentioned object by dispersing fine particles of a solid polymerizable material in the photocurable coating solution, instead of making the photocurable coating solution a uniform liquid. The present invention was completed.

本発明は、20℃で40dyn/cm以下の表面張力を示すシリコーン系ハードコート層表面を有する撥塗工液性基材に対して塗工するための光硬化性樹脂組成物であって、以下の成分(A)〜(C):
(A)(メタ)アクリル酸と、カルシウム、亜鉛、マグネシウムおよびアルミニウムのいずれか1つの2価または3価の金属とからなり、粒径が5nm〜1μmである固体状光重合性金属塩;
(B)多官能性モノマーを含む光重合性エチレン系不飽和化合物; および
(C)光重合開始剤
を含み、成分(A)の配合量(質量部)を(Awt)とし、成分(B)の配合量(質量部)を(Bwt)としたときに下記式(1a)および(2a)を満足する光硬化性樹脂組成物からなる硬化層を少なくとも一層有する積層体提供する。
The present invention is a photocurable resin composition for coating on a repellent coating liquid base material having a silicone-based hard coat layer surface exhibiting a surface tension of 40 dyn / cm or less at 20 ° C. Components (A) to (C):
(A) A solid photopolymerizable metal salt composed of (meth) acrylic acid and any one of divalent or trivalent metals of calcium, zinc, magnesium and aluminum and having a particle size of 5 nm to 1 μm;
(B) a photopolymerizable ethylenically unsaturated compound containing a polyfunctional monomer; and (C) a photopolymerization initiator, the amount (parts by mass) of component (A) being (Awt), and component (B) providing the amount (parts by mass) to (BWT) and the time in the following formula (1a) and (2a) at least one layer having laminate a photocurable resin composition or Ranaru cured layer satisfying.

Figure 0004715993
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更に、本発明は、20℃で40dyn/cm以下の表面張力を示すシリコーン系ハードコート層表面を有する撥塗工液性基材上に硬化樹脂層が積層された積層体の製造方法であって、以下の工程(a′)および(b′):
(a′)撥塗工液性基材上に前述の光硬化性樹脂組成物からなる光硬化性樹脂層を形成する工程; および
(b′)得られた光硬化性樹脂層に活性エネルギー線を照射することにより該光硬化性樹脂層を硬化させて硬化樹脂層を形成する工程
を含む前述の積層体の製造方法も提供する。
Furthermore, the present invention is a method for producing a laminate in which a cured resin layer is laminated on a repellent coating liquid-repellent substrate having a surface of a silicone-based hard coat layer exhibiting a surface tension of 40 dyn / cm or less at 20 ° C. The following steps (a ′) and (b ′):
(A ′) a step of forming a photocurable resin layer comprising the above-mentioned photocurable resin composition on a coating material that is repellent coating; and (b ′) active energy rays on the resulting photocurable resin layer. The method for producing the above-mentioned laminate including the step of curing the photocurable resin layer by irradiating and forming a cured resin layer is also provided.

本発明の光硬化性塗工液によれば、撥塗工液性あるいは低濡れ性の表面上に、はじきやピンホールを生じさせることなく、均一で薄い(例えば、約0.01〜10μm厚)薄膜を形成できる。従って、ラミネート箔や画像表示画面保護板、ヘルメットシールド等の物品に有利に利用することができる。   According to the photocurable coating solution of the present invention, a uniform and thin film (for example, a thickness of about 0.01 to 10 μm) is formed on the surface of the coating liquid-repellent or low wettability without causing repelling or pinholes. ) A thin film can be formed. Therefore, it can be advantageously used for articles such as a laminate foil, an image display screen protection plate, and a helmet shield.

本発明の光硬化性塗工液は、固体状光重合性物質の微粒子が液状光重合性組成物中に分散してなるものである。ここで、固体状光重合性物質の「固体状」という意味は、光硬化性塗工液中で固体として存在することを意味しており、従って、光硬化性塗工液に使用する溶剤種や硬化条件により、同じ光重合性物質であっても、固体状となったり液状となったりすることがあり得るが、一般的には、固体状光重合性物質とは、低級アルコール類、エステル類等の汎用溶媒に溶解せず、融点を示さずあるいは150℃以上の融点を示す光重合可能な物質を意味する。また、光硬化性塗工液の「光硬化性」とは、紫外線、可視光線、電子線、X線などの活性エネルギー線の照射で硬化する性質を意味し、同様に、固体状光重合性物質の「光重合性」とは、前述したような活性エネルギー線の照射で重合する性質を意味する。   The photocurable coating liquid of the present invention is obtained by dispersing fine particles of a solid photopolymerizable substance in a liquid photopolymerizable composition. Here, the meaning of “solid” in the solid photopolymerizable substance means that it exists as a solid in the photocurable coating liquid, and therefore, the solvent type used in the photocurable coating liquid. Depending on the curing conditions, the same photopolymerizable substance may become solid or liquid, but in general, solid photopolymerizable substances are lower alcohols, esters It means a photopolymerizable substance that does not dissolve in a general-purpose solvent such as a liquid and does not exhibit a melting point or a melting point of 150 ° C. or higher. In addition, the “photocurability” of the photocurable coating liquid means a property that is cured by irradiation with active energy rays such as ultraviolet rays, visible rays, electron beams, X-rays, and the like. The “photopolymerization” of a substance means the property of being polymerized by irradiation with active energy rays as described above.

このような構成の本発明の光硬化性液は、一般に塗工液をはじきやすい材料からなる表面層を有する基材に対して比較的薄く塗布した場合でも、得られる塗布膜にはじきやピンホールなどの発生がなく、均一で薄い(例えば、約0.01〜10μm厚)塗布膜を与えることができる。この理由は、明確ではないが以下のような理由であると考えられる。   The photocurable liquid of the present invention having such a structure is generally capable of repelling or pinholes in the obtained coating film even when applied relatively thinly to a substrate having a surface layer made of a material that easily repels the coating liquid. Thus, a coating film that is uniform and thin (for example, about 0.01 to 10 μm thick) can be provided. The reason for this is not clear but is considered as follows.

即ち、本発明の光硬化性塗工液を撥塗工液性の高い基材表面に塗布した場合には、その表面に固体状光重合性物質の微粒子が分散して存在することになる。すると、固体状光重合性物質の微粒子間あるいは微粒子と基材表面との境界に液状光重合性組成物を保持することが可能となり、即ち微粒子が塗工液保持機能を発揮し、その結果、はじきやピンホールのない均一な薄膜を形成可能となるからであると考えられる。   That is, when the photocurable coating solution of the present invention is applied to the surface of a substrate having a high repellent coating property, fine particles of a solid photopolymerizable substance are dispersed on the surface. Then, it becomes possible to hold the liquid photopolymerizable composition between the fine particles of the solid photopolymerizable substance or at the boundary between the fine particles and the substrate surface, that is, the fine particles exhibit a coating liquid holding function. This is considered to be because a uniform thin film without repelling or pinholes can be formed.

また、固体状重合性物質は、それを取り巻く液状光重合性組成物中の重合性成分と反応するので、単なる充填剤ではなく、硬化層と一体化する成分である。従って、重合後には、固体状重合体の微粒子と液状重合性組成物との境界が実質的に消失し、その結果、単なる充填剤を加える方法に比べて硬度が高くなり、硬化層の可視光線に対する光等方性的性質が一層改善されることが期待できる。   In addition, the solid polymerizable substance reacts with the polymerizable component in the liquid photopolymerizable composition surrounding the solid polymerizable substance, so that it is not a mere filler but a component integrated with the cured layer. Therefore, after the polymerization, the boundary between the solid polymer fine particles and the liquid polymerizable composition substantially disappears, and as a result, the hardness becomes higher than the method of adding a simple filler, and the visible light of the cured layer is visible. It can be expected that the optical isotropic properties of

本発明において、固体状重合性物質の微粒子の粒径は、小さすぎるとはじきが発生し、大きすぎると光等方性が確保できなくなるので、好ましくは1nm〜10μm、より好ましくは5nm〜1μmである。   In the present invention, if the particle size of the solid polymerizable substance is too small, repelling occurs, and if it is too large, the optical isotropy cannot be ensured, so 1 nm to 10 μm, more preferably 5 nm to 1 μm. is there.

固体状光重合性物質は、光硬化性塗工液に溶解せずに固体として存在し、しかも塗工液中に溶解している重合性物質と重合可能な物質である。例えば、重合性物質(重合性モノマー、オリゴマーまたはポリマー)の金属塩等、好ましくは、不飽和結合を有する有機カルボン酸の金属塩が挙げられる。ここで、有機カルボン酸の金属塩中の不飽和結合数としては、硬化層の機械的強度を向上させる点から、金属塩中に不飽和結合が少なくとも2つ存在することが好ましい。従って、有機カルボン酸に複数の不飽和結合が存在する場合には、1価の金属(ナトリウム、カリウム等)を使用可能であるが、有機カルボン酸中の不飽和結合数の如何に関わりなく、多価金属を使用することが、不飽和結合を有する有機カルボン酸の選択の幅が広がるので好ましい。但し、金属の価数が大きくなりすぎると金属塩が液状となりやすく、また、金属塩全体の立体障害が大きくなり、不飽和基(例えば二重結合)が有効に利用できず、硬化層中に不飽和基が残存する場合が考えられ、そのような場合には硬化層の耐候性が低下する可能性があるので、多価金属の価数としては2価または3価が好ましい。   The solid photopolymerizable substance is a substance that exists as a solid without being dissolved in the photocurable coating liquid and is polymerizable with the polymerizable substance dissolved in the coating liquid. For example, a metal salt of a polymerizable substance (polymerizable monomer, oligomer or polymer), preferably a metal salt of an organic carboxylic acid having an unsaturated bond. Here, as the number of unsaturated bonds in the metal salt of the organic carboxylic acid, it is preferable that at least two unsaturated bonds exist in the metal salt from the viewpoint of improving the mechanical strength of the cured layer. Therefore, when there are a plurality of unsaturated bonds in the organic carboxylic acid, a monovalent metal (sodium, potassium, etc.) can be used, but regardless of the number of unsaturated bonds in the organic carboxylic acid, Use of a polyvalent metal is preferable because the range of selection of the organic carboxylic acid having an unsaturated bond is widened. However, if the valence of the metal becomes too large, the metal salt tends to become liquid, and the steric hindrance of the entire metal salt increases, so that unsaturated groups (for example, double bonds) cannot be used effectively, and in the hardened layer In some cases, an unsaturated group may remain. In such a case, the weather resistance of the cured layer may be lowered. Therefore, the valence of the polyvalent metal is preferably divalent or trivalent.

不飽和結合を有する有機カルボン酸としては、多価金属もしくは多価金属化合物との間で造塩して固体状の金属塩を形成することができるものを使用でき、例えば、アクリル酸、メタクリル酸(以下、アクリル酸とメタクリル酸とを併せて(メタ)アクリル酸と称する。また、アクリロイル基とメタクリロイル基とを併せて(メタ)アクリロイル基と称する。)、クロトン酸、オレイン酸、ウンデセン酸、9,12−オクタジエノイル酸、9,12,15−オクタトリエノイル酸などが挙げられる。中でも、高硬度の膜を形成するためには重合時の反応性が高いものがより好ましい点から、(メタ)アクリル酸が特に好ましい。   As the organic carboxylic acid having an unsaturated bond, those capable of forming a solid metal salt by forming a salt with a polyvalent metal or polyvalent metal compound can be used. For example, acrylic acid, methacrylic acid (Hereinafter, acrylic acid and methacrylic acid are collectively referred to as (meth) acrylic acid. Also, acryloyl group and methacryloyl group are collectively referred to as (meth) acryloyl group.), Crotonic acid, oleic acid, undecenoic acid, 9,12-octadienoic acid, 9,12,15-octatrienoyl acid, etc. are mentioned. Among these, (meth) acrylic acid is particularly preferable in order to form a film having high hardness because a polymer having high reactivity during polymerization is more preferable.

2価の金属の具体例としては、ベリリウム、マグネシウム、カルシウム、バリウム、亜鉛、カドミウムなどが挙げられ、3価の金属としては、コバルト、ニッケル、アルミニウムなどが挙げられる。これらは単独でもよく、複数でもよい。中でも、安全性、入手容易性の点から、カルシウム、亜鉛、マグネシウム、アルミニウムが好ましく、特に亜鉛を用いることがより好ましい。   Specific examples of the divalent metal include beryllium, magnesium, calcium, barium, zinc, and cadmium. Examples of the trivalent metal include cobalt, nickel, and aluminum. These may be single or plural. Among these, calcium, zinc, magnesium, and aluminum are preferable from the viewpoint of safety and availability, and zinc is particularly preferable.

固体状光重合性物質の好ましい具体例としては、(メタ)アクリル酸カルシウム、(メタ)アクリル酸亜鉛、(メタ)アクリル酸マグネシウム、(メタ)アクリル酸アルミニウムなどが挙げられる。中でも塗工液中での分散性の点から(メタ)アクリル酸亜鉛、特にアクリル酸亜鉛が好ましい。   Preferable specific examples of the solid photopolymerizable substance include calcium (meth) acrylate, zinc (meth) acrylate, magnesium (meth) acrylate, aluminum (meth) acrylate and the like. Of these, zinc (meth) acrylate, particularly zinc acrylate is preferred from the viewpoint of dispersibility in the coating solution.

一方、液状光重合性組成物は、光重合性エチレン系不飽和化合物を含有する。ここで、光重合性エチレン系不飽和化合物の「光重合性」とは、活性エネルギー線の照射により重合可能な性質を意味する。このような光重合性エチレン系不飽和化合物の具体例としては、(メタ)アクリル酸、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、プロピル(メタ)アクリレート、n−ブチル(メタ)アクリレート、t−ブチル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、n−ノニル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニル(メタ)アクリレート、2−ジシクロペンテノキシエチル(メタ)アクリレート、グリシジル(メタ)アクリレート、メトキシエチル(メタ)アクリレート、エトキシエチル(メタ)アクリレート、ブトキシエチル(メタ)アクリレート、メトキシエトキシエチル(メタ)アクリレート、エトキシエトキシエチル(メタ)アクリレート、テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、4−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、フェノキシエチル(メタ)アクリレート、フェノキシエトキシエチル(メタ)アクリレート、ビフェノキシエチル(メタ)アクリレート、ビフェノキシエトキシエチル(メタ)アクリレート、ノルボルニル(メタ)アクリレート、フェニルエポキシ(メタ)アクリレート、(メタ)アクリロイルモルホリン、ダイアセトンアクリルアミド、N−[2−(メタ)アクリロイルエチル]−1,2−シクロヘキサンジカルボイミド、N−[2−(メタ)アクリロイルエチル]−1,2−シクロヘキサンジカルボイミド−1−エン、N−[2−(メタ)アクリロイルエチル]−1,2−シクロヘキサンジカルボイミド−4−エン等の単官能性(メタ)アクリレート系モノマー;N−ビニルピロリドン、N−ビニルイミダゾール、N−ビニルカプロラクタム、スチレン、α−メチルスチレン、ビニルトルエン、酢酸アリル、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、安息香酸ビニルなどのビニル系モノマー;1,4−ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、1,9−ノナンジオールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールピバリン酸エステルジ(メタ)アクリレート、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ビスフェノール−A−ジグリシジルエーテルジ(メタ)アクリレート、1,4−シクロヘキサンジメタノールのエチレンオキサイド変性ジアクリレート、エチレンオキサイド変性テトラブロモビスフェノール−A−ジ(メタ)アクリレートなどの2官能性(メタ)アクリレート;トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、エチレンオキサイド付加トリメチロールプロパンのトリ(メタ)アクリレート、エチレンオキサイド付加ジトリメチロールプロパンのテトラ(メタ)アクリレート、プロピレンオキサイド付加トリメチロールプロパンのトリ(メタ)アクリレート、エチレンオキサイド変性イソシアヌール酸トリ(メタ)アクリレート、プロピレンオキサイド付加ジトリメチロールプロパンのテトラ(メタ)アクリレート、エチレンオキサイド付加ペンタエリスリトールのテトラ(メタ)アクリレート、プロピレンオキサイド付加ペンタエリスリトールのテトラ(メタ)アクリレート、エチレンオキサイド付加ジペンタエリスリトールのペンタ(メタ)アクリレート、プロピレンオキサイド付加ジペンタエリスリトールのペンタ(メタ)アクリレート、エチレンオキサイド付加ジペンタエリスリトールのヘキサ(メタ)アクリレート、プロピレンオキサイド付加ジペンタエリスリトールのヘキサ(メタ)アクリレート、トリアリルシアヌレート、トリアリルイソシアヌレート、トリアリルホルマール、1,3,5−トリアクリロイルヘキサヒドロ−s−ヒドラジンなどの多官能性モノマー;ウレタンアクリレート、エステルアクリレートなどのオリゴマーアクリレートが挙げられる。これらは単一種でも複数種併用してもよい。これらのうち2官能以上の他官能性モノマーが好ましく使用される。   On the other hand, the liquid photopolymerizable composition contains a photopolymerizable ethylenically unsaturated compound. Here, the “photopolymerizable” of the photopolymerizable ethylenically unsaturated compound means a property capable of being polymerized by irradiation with active energy rays. Specific examples of such photopolymerizable ethylenically unsaturated compounds include (meth) acrylic acid, methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate, t -Butyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, n-nonyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, dicyclopentenyl (meth) acrylate, 2-dicyclopentenoxy Ethyl (meth) acrylate, glycidyl (meth) acrylate, methoxyethyl (meth) acrylate, ethoxyethyl (meth) acrylate, butoxyethyl (meth) acrylate, methoxyethoxyethyl (meth) acrylate, ethoxyethoxyethyl ( ) Acrylate, tetrahydrofurfuryl (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 4-hydroxybutyl (meth) acrylate, phenoxyethyl (meth) acrylate, phenoxyethoxyethyl ( (Meth) acrylate, biphenoxyethyl (meth) acrylate, biphenoxyethoxyethyl (meth) acrylate, norbornyl (meth) acrylate, phenylepoxy (meth) acrylate, (meth) acryloylmorpholine, diacetone acrylamide, N- [2- ( (Meth) acryloylethyl] -1,2-cyclohexanedicarboximide, N- [2- (meth) acryloylethyl] -1,2-cyclohexanedicarbomido-1-ene, N- Monofunctional (meth) acrylate monomers such as 2- (meth) acryloylethyl] -1,2-cyclohexanedicarbomido-4-ene; N-vinylpyrrolidone, N-vinylimidazole, N-vinylcaprolactam, styrene, Vinyl monomers such as α-methylstyrene, vinyl toluene, allyl acetate, vinyl acetate, vinyl propionate, vinyl benzoate; 1,4-butanediol di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate 1,9-nonanediol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, neopentyl glycol pivalic acid ester di (meth) acrylate, ethylene glycol di (meth) acrylate, polyethylene glycol di (meth) acrylate, tri Tylene glycol di (meth) acrylate, polypropylene glycol di (meth) acrylate, bisphenol-A-diglycidyl ether di (meth) acrylate, 1,4-cyclohexanedimethanol ethylene oxide modified diacrylate, ethylene oxide modified tetrabromobisphenol- A bifunctional (meth) acrylate such as A-di (meth) acrylate; trimethylolpropane tri (meth) acrylate, ditrimethylolpropane tetra (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, pentaerythritol penta (meth) acrylate , Pentaerythritol hexa (meth) acrylate, tri (meth) acrylate of ethylene oxide-added trimethylolpropane, ethylene Side addition ditrimethylolpropane tetra (meth) acrylate, propylene oxide addition trimethylolpropane tri (meth) acrylate, ethylene oxide modified isocyanuric acid tri (meth) acrylate, propylene oxide addition ditrimethylolpropane tetra (meth) acrylate, Tetra (meth) acrylate of ethylene oxide-added pentaerythritol, tetra (meth) acrylate of propylene oxide-added pentaerythritol, penta (meth) acrylate of ethylene oxide-added dipentaerythritol, penta (meth) acrylate of propylene oxide-added dipentaerythritol, Ethylene oxide-added dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, propylene oxide Polyfunctional monomers such as hexa (meth) acrylates of id-added dipentaerythritol, triallyl cyanurate, triallyl isocyanurate, triallyl formal, 1,3,5-triacryloylhexahydro-s-hydrazine; urethane acrylate, Examples include oligomeric acrylates such as ester acrylates. These may be used alone or in combination. Of these, bifunctional or higher functional monomers are preferably used.

また、例えば、屈折率が1.60以上の高屈折率の硬化層を得る場合には、光重合性エチレン系不飽和化合物として、9,9−ビス(アクリロイルオキシフェニル)フルオレン、9,9−ビス(EO変性アクリロイルオキシフェニル)フルオレン、9,9−ビス(エポキシ変性アクリロイルオキシフェニル)フルオレン等のフルオレン系(メタ)アクリレート、ビス(4−(メタ)アクリロイルオキシチオフェニルサルファイド)、ビス(4−ビニルチオフェニル)サルファイド等の含硫黄化合物、チタン(メタ)アクリレートトリイソプロポキサイド、チタン(メタ)アクリロイルオキシエチルアセトアセテートトリイソプロポキサイド、(2−(メタ)アクリロイルオキシエトキシ)トリイソプロポキシチタネート等のチタンカップリング剤、などの高屈折重合性化合物を使用することが好ましい。   For example, when obtaining a high refractive index cured layer having a refractive index of 1.60 or more, 9,9-bis (acryloyloxyphenyl) fluorene, 9,9- Fluorene-based (meth) acrylates such as bis (EO-modified acryloyloxyphenyl) fluorene and 9,9-bis (epoxy-modified acryloyloxyphenyl) fluorene, bis (4- (meth) acryloyloxythiophenyl sulfide), bis (4- Sulfur-containing compounds such as vinylthiophenyl) sulfide, titanium (meth) acrylate triisopropoxide, titanium (meth) acryloyloxyethyl acetoacetate triisopropoxide, (2- (meth) acryloyloxyethoxy) triisopropoxy titanate, etc. Titanium coupling Agent, it is preferable to use a high refractive polymerizable compound such.

また、液状光重合性組成物は、光重合性エチレン系不飽和化合物の他に、必要に応じて光重合可能なビニルエーテル系化合物、エポキシ系化合物またはオキセタン系化合物を含有することができる。   In addition to the photopolymerizable ethylenically unsaturated compound, the liquid photopolymerizable composition can contain a photopolymerizable vinyl ether compound, epoxy compound or oxetane compound, if necessary.

ビニルエーテル系化合物としては、エチレンオキサイド変性ビスフェノール−A−ジビニルエーテル、エチレンオキサイド変性ビスフェノール−F−ジビニルエーテル、エチレンオキサイド変性カテコールジビニルエーテル、エチレンオキサイド変性レゾルシノールジビニルエーテル、エチレンオキサイド変性ハイドロキノンジビニルエーテル、エチレンオキサイド変性−1,3,5,ベンゼントリオールトリビニルエーテル、エポキシ系化合物としては、1,2−エポキシシクロヘキサン、1,4−ブタンジオールジグリシジルエーテル、3,4−エポキシシクロヘキシルメチル−3′,4′−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、トリメチロールプロパンジグリシジルエーテル、ビス(3,4−エポキシ−6−メチルシクロヘキシルメチル)アジペート、フェノールノボラックのグリシジルエーテル、ビスフェノールAジグリシジルエーテル、オキセタン化合物としては3−エチル−3−ヒドロキシメチルオキセタン、3−エチル−3−(フェノキシメチル)オキセタン、ジ[1−エチル(3−オキセタニル)]メチルエーテル、3−エチル−3−(2−エチルヘキシロキシメチル)オキセタンなどが挙げられる。   Examples of vinyl ether compounds include ethylene oxide modified bisphenol-A-divinyl ether, ethylene oxide modified bisphenol-F-divinyl ether, ethylene oxide modified catechol divinyl ether, ethylene oxide modified resorcinol divinyl ether, ethylene oxide modified hydroquinone divinyl ether, ethylene oxide modified -1,3,5, benzenetriol trivinyl ether, epoxy compounds include 1,2-epoxycyclohexane, 1,4-butanediol diglycidyl ether, 3,4-epoxycyclohexylmethyl-3 ', 4'-epoxy Cyclohexanecarboxylate, trimethylolpropane diglycidyl ether, bis (3,4-epoxy-6-methylcyclohexyl) Methyl) adipate, phenol novolak glycidyl ether, bisphenol A diglycidyl ether, oxetane compounds such as 3-ethyl-3-hydroxymethyloxetane, 3-ethyl-3- (phenoxymethyl) oxetane, di [1-ethyl (3- Oxetanyl)] methyl ether, 3-ethyl-3- (2-ethylhexyloxymethyl) oxetane and the like.

また、活性エネルギー線の照射により重合をするために、通常、光重合開始剤を含有する。その他に光増感剤や光促進剤等の光触媒化合物を一種以上含有することが好ましい。光触媒化合物としては公知の光触媒化合物から適宜選択して使用することができる。   Moreover, in order to superpose | polymerize by irradiation of an active energy ray, a photoinitiator is usually contained. In addition, it is preferable to contain one or more photocatalytic compounds such as a photosensitizer and a photo accelerator. As a photocatalyst compound, it can select from a well-known photocatalyst compound suitably, and can be used.

光重合開始剤としては、硬化手段である活性エネルギー線の種類(紫外線、可視光線、電子線など)に応じて適宜選択することができる。   As a photoinitiator, it can select suitably according to the kind (an ultraviolet ray, visible light, an electron beam, etc.) of the active energy ray which is a hardening means.

光重合開始剤の具体例としては、2,2−ジメトキシ−2−フェニルアセトン、アセトフェノン、ベンゾフェノン、キサントフルオレノン、ベンズアルデヒド、アントラキノン、3−メチルアセトフェノン、4−クロロベンゾフェノン、4,4−ジアミノベンゾフェノン、ベンゾインプロピルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンジルジメチルケタール、1−(4−イソプロピルフェニル)−2−ヒドロキシ−2−メチルプロパン−1−オン、4−チオキサントン、カンファーキノン、2−メチル−1−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルホリノプロパン−1−オン等が挙げられる。また、N−アクリロイルオキシエチルマレイミドのように分子内に少なくとも1個の(メタ)アクリロイル基を有する光重合開始剤も用いることができる。   Specific examples of the photopolymerization initiator include 2,2-dimethoxy-2-phenylacetone, acetophenone, benzophenone, xanthofluorenone, benzaldehyde, anthraquinone, 3-methylacetophenone, 4-chlorobenzophenone, 4,4-diaminobenzophenone, Benzoin propyl ether, benzoin ethyl ether, benzyl dimethyl ketal, 1- (4-isopropylphenyl) -2-hydroxy-2-methylpropan-1-one, 4-thioxanthone, camphorquinone, 2-methyl-1- [4- (Methylthio) phenyl] -2-morpholinopropan-1-one and the like. Further, a photopolymerization initiator having at least one (meth) acryloyl group in the molecule such as N-acryloyloxyethylmaleimide can also be used.

光重合開始剤の配合量は、後述する希釈剤を除いた光硬化性塗工液の固形分(硬化前に既に固形の成分および硬化後に固形となる成分のトータル)100質量部に対し、好ましくは0.1〜10質量部、より好ましくは3〜5質量部である。   The blending amount of the photopolymerization initiator is preferably based on 100 parts by mass of the solid content of the photocurable coating liquid excluding the diluent described later (total of components already solid before curing and solid components after curing). Is 0.1 to 10 parts by mass, more preferably 3 to 5 parts by mass.

光重合を促進させるために光重合開始剤と共に使用できる光増感剤の具体例としては、2−クロロチオキサントン、2,4−ジエチルチオキサントン、2,4−ジイソプロピルチオキサントン等を挙げることができる。また、光重合を促進させるために光重合開始剤と共に使用できる光促進剤の具体例としては、p−ジメチルアミノ安息香酸エチル、p−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、p−ジメチルアミノ安息香酸2−n−ブトキシエチル、安息香酸2−ジメチルアミノエチルなどを挙げることができる。   Specific examples of photosensitizers that can be used together with a photopolymerization initiator to promote photopolymerization include 2-chlorothioxanthone, 2,4-diethylthioxanthone, 2,4-diisopropylthioxanthone, and the like. Specific examples of the photo-accelerating agent that can be used together with the photo-polymerization initiator for promoting photo-polymerization include ethyl p-dimethylaminobenzoate, isoamyl p-dimethylaminobenzoate, p-dimethylaminobenzoic acid 2-n. -Butoxyethyl, 2-dimethylaminoethyl benzoate and the like can be mentioned.

また、光硬化性塗工液には、その塗工性を改善するために、希釈剤を添加することができる。希釈剤の添加量は、形成すべき硬化層の膜厚等に応じて、適宜決定することができる。例えば、硬化層の厚みを0.1μm程度とする場合には、固形分5.25質量%に対し希釈剤94.75質量%とし、ウェット膜厚で1.9μmで塗工することが好ましい   In addition, a diluent can be added to the photocurable coating liquid in order to improve the coating property. The addition amount of the diluent can be appropriately determined according to the thickness of the cured layer to be formed. For example, when the thickness of the cured layer is about 0.1 μm, it is preferable that the coating is applied at a wet film thickness of 1.9 μm with a diluent of 94.75% by mass with respect to a solid content of 5.25% by mass.

希釈剤としては、一般の樹脂塗工液に用いられている希釈剤を使用することができ、具体的には、例えば、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン系化合物;酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸エチル、酢酸メトキシエチルなどのエステル系化合物;ジエチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、フェニルセロソルブ、ジオキサン等のエーテル系化合物;トルエン、キシレンなどの芳香族化合物;ペンタン、ヘキサンなどの脂肪族化合物;塩化メチレン、クロロベンゼン、クロロホルムなどのハロゲン系炭化水素;メタノール、エタノール、ノルマルプロパノール、イソプロパノールなどのアルコール化合物などを挙げることができる。また、稀釈剤としては、固体状光重合性物質との間に高い親和性を示す水、低級アルコール類(例えば、メタノール、エタノール、プロパノール等)を好ましく使用できる。   As the diluent, a diluent used in a general resin coating solution can be used. Specifically, for example, ketone compounds such as acetone, methyl ethyl ketone, cyclohexanone; methyl acetate, ethyl acetate, acetic acid Ester compounds such as butyl, ethyl lactate and methoxyethyl acetate; ether compounds such as diethyl ether, ethylene glycol dimethyl ether, ethyl cellosolve, butyl cellosolve, phenyl cellosolve and dioxane; aromatic compounds such as toluene and xylene; pentane and hexane Aliphatic compounds; halogen-based hydrocarbons such as methylene chloride, chlorobenzene and chloroform; alcohol compounds such as methanol, ethanol, normal propanol and isopropanol. As the diluent, water and lower alcohols (for example, methanol, ethanol, propanol, etc.) having high affinity with the solid photopolymerizable substance can be preferably used.

液状光重合性組成物には、必要に応じて、更に、無機フィラー、重合禁止剤、着色顔料、染料、消泡剤、レベリング剤、分散剤、光拡散剤、可塑剤、帯電防止剤、界面活性剤、非反応性ポリマー、近赤外線吸収剤などを本発明の効果を損なわない範囲で添加することができる。   If necessary, the liquid photopolymerizable composition may further include an inorganic filler, a polymerization inhibitor, a color pigment, a dye, an antifoaming agent, a leveling agent, a dispersant, a light diffusing agent, a plasticizer, an antistatic agent, an interface. An activator, a non-reactive polymer, a near-infrared absorber, etc. can be added in the range which does not impair the effect of this invention.

本発明の光硬化性塗工液は、以上説明した固体状光重合性物質が、液状光重合性組成物中に分散したものであるが、光硬化性塗工液中の固体状光重合性物質の配合量が少なすぎると、塗工液の基材への濡れ性が低下し、多すぎると固体状光重合性物質が沈殿しやすくなる。従って、光硬化性塗工液中の固体状光重合性物質の配合量は、全樹脂固形分(固形樹脂だけでなく硬化後に固形となる液状樹脂分も含む)中に好ましくは5〜40質量%、より好ましくは10〜30質量%である。   The photocurable coating liquid of the present invention is a solid photopolymerizable substance described above dispersed in a liquid photopolymerizable composition, but the solid photopolymerizable material in the photocurable coating liquid. When the compounding amount of the substance is too small, the wettability of the coating liquid to the substrate is lowered, and when it is too large, the solid photopolymerizable substance is easily precipitated. Therefore, the blending amount of the solid photopolymerizable substance in the photocurable coating liquid is preferably 5 to 40 mass in the total resin solid content (including not only the solid resin but also the liquid resin content that becomes solid after curing). %, More preferably 10 to 30% by mass.

特に、固体状光重合性物質が不飽和結合を有する有機カルボン酸の2価または3価金属塩で、液状光重合性組成物が光重合性エチレン系不飽和化合物を含有している場合、不飽和結合を有する有機カルボン酸の2価または3価金属塩の配合量(質量部)を(Awt)とし、光重合性エチレン系不飽和化合物の配合量(質量部)を(Bwt)としたときに、本発明の光硬化性塗工液は、下記式(1)および(2)を満足することが好ましい。この理由は、「(Awt)/{(Awt)+(Bwt)}」の数値が0.05未満であると基材への濡れ性が低下し、0.4以上であると成分(A)が沈殿しやすくなり、また、「(Bwt)/{(Awt)+(Bwt)}」の値が0.6未満であると相対的に成分(A)の含有量が増加し成分(A)沈殿しやすくなり、0.95以上になると相対的に(A)の含有量が低下するため濡れ性が低下するためである。   In particular, when the solid photopolymerizable substance is a divalent or trivalent metal salt of an organic carboxylic acid having an unsaturated bond, and the liquid photopolymerizable composition contains a photopolymerizable ethylenically unsaturated compound, When the blending amount (parts by mass) of the divalent or trivalent metal salt of the organic carboxylic acid having a saturated bond is (Awt) and the blending amount (parts by mass) of the photopolymerizable ethylenically unsaturated compound is (Bwt) Moreover, it is preferable that the photocurable coating liquid of the present invention satisfies the following formulas (1) and (2). The reason for this is that when the value of “(Awt) / {(Awt) + (Bwt)}” is less than 0.05, the wettability to the substrate is lowered, and if it is 0.4 or more, the component (A) And the content of the component (A) increases relatively when the value of “(Bwt) / {(Awt) + (Bwt)}” is less than 0.6, and the component (A) This is because precipitation tends to occur, and when it is 0.95 or more, the content of (A) is relatively lowered, and thus wettability is lowered.

Figure 0004715993
Figure 0004715993

また、硬化層の屈折率および塗工液の基材への濡れ性の観点から、本発明の光硬化性塗工液は、更に以下の式(1a)および(2a)の関係を満足することが好ましい。   In addition, from the viewpoint of the refractive index of the cured layer and the wettability of the coating liquid to the substrate, the photocurable coating liquid of the present invention further satisfies the relationship of the following formulas (1a) and (2a): Is preferred.

Figure 0004715993
Figure 0004715993

本発明の光硬化性塗工液は、上述の固体状光重合性物質と液状光重合性組成物とを常法に従って均一に混合することにより製造することができる。   The photocurable coating liquid of the present invention can be produced by uniformly mixing the above-described solid photopolymerizable substance and liquid photopolymerizable composition according to a conventional method.

なお、屈折率1.62の硬化層を得る場合、光硬化性塗工液の具体的配合例の一例として、エチレンオキサイド変性ビスフェノールAジアクリレート30質量%、ビス(4−(メタ)アクリロイルオキシチオフェニル)サルファイド40質量%、エチレンオキサイド変性イソシアヌール酸トリアクリレート10質量%およびアクリル酸亜鉛20質量%という配合を挙げることができる。   In addition, when obtaining the hardened | cured layer of refractive index 1.62, as an example of a specific compounding example of a photocurable coating liquid, ethylene oxide modified bisphenol A diacrylate 30 mass%, bis (4- (meth) acryloyloxythio) Examples thereof include 40% by mass of phenyl) sulfide, 10% by mass of ethylene oxide-modified isocyanuric acid triacrylate, and 20% by mass of zinc acrylate.

本発明の光硬化性塗工液は、重合性を示し且つ塗工液中では溶解せず粒子状に存在する光重合性物質粒子を含有するので、撥塗工液性を示す基材表面にはじきやピンホールを生じさせることなく均一で薄い膜を形成でき、しかもその膜は高屈折率(例えば1.60以上)の硬化層となる。従って、このような薄い硬化層、好ましくは0.01〜10μm厚の硬化層を基材上に少なくとも一層設けた積層体は、ラミネート箔や画像表示画面保護板、ヘルメットシールド等の物品に有利に利用することができる。   Since the photocurable coating liquid of the present invention contains photopolymerizable substance particles that are polymerizable and do not dissolve in the coating liquid and are present in a particulate form, A uniform and thin film can be formed without causing repelling or pinholes, and the film becomes a cured layer having a high refractive index (for example, 1.60 or more). Therefore, a laminate in which such a thin cured layer, preferably a cured layer having a thickness of 0.01 to 10 μm, is provided on a substrate is advantageous for articles such as a laminated foil, an image display screen protection plate, and a helmet shield. Can be used.

このような硬化層が設けられるシート状、フィルム状或いは板状の積層体の基材としては、その表面材料が本発明の光硬化性塗工液と親和性を示すものが好ましいが、前述したように本発明の光硬化性塗工液は、撥塗工液性を示す基材表面に対しても適用可能である。具体的には、20℃で少なくとも40dyn/cm以下の表面張力を示す表面を有する材料からなる基材を使用できる。そのような表面材料としては、ポリエチレン、ポリプロピレンなどのポリオレフィン、ポリフッ化ビニリデン、ポリフッ化ビニル、ポリヘキサフルオロプロピレン、ポリヘプタフルオロイソプロピル(メタ)アクリレート、などのフッ素原子含有重合体、ポリオキシジメチルシリレン、ポリオキシメチルシリレン、ポリオキシジメチルシリレン−α、ω−ジブタン酸、ポリオキシビニルシリレン、などケイ素含有重合体などが挙げられる。また、これら自体で基材を構成してもよいが、これらを、鉄、アルミニウムなどの金属、ガラス、セラミック等の無機系基材、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂、ポリカーボネートなどの有機系基材、中でも光学用途に用いる場合には、アクリル樹脂基材、ポリエステル樹脂基材がより好ましい。   The base material of the sheet-like, film-like or plate-like laminate provided with such a cured layer is preferably one whose surface material exhibits an affinity with the photocurable coating liquid of the present invention. Thus, the photocurable coating liquid of this invention is applicable also to the base-material surface which shows repellent coating liquid property. Specifically, a substrate made of a material having a surface exhibiting a surface tension of at least 40 dyn / cm or less at 20 ° C. can be used. Examples of such surface materials include polyolefins such as polyethylene and polypropylene, polyvinylidene fluoride, polyvinyl fluoride, polyhexafluoropropylene, polyheptafluoroisopropyl (meth) acrylate, and other fluorine atom-containing polymers, polyoxydimethylsilylene, Examples include silicon-containing polymers such as polyoxymethylsilylene, polyoxydimethylsilylene-α, ω-dibutanoic acid, and polyoxyvinylsilylene. Moreover, although these may constitute a base material itself, these are made of an inorganic base material such as a metal such as iron or aluminum, glass or ceramic, an organic base material such as an acrylic resin, a polyester resin, or a polycarbonate, When used for optical applications, an acrylic resin base material and a polyester resin base material are more preferable.

なお、本発明の積層体は、本発明の光硬化性塗工液から形成された少なくとも一層の硬化層の他に、熱可塑性樹脂層、熱硬化性樹脂層、光硬化性樹脂層などを有することができる。   The laminate of the present invention has a thermoplastic resin layer, a thermosetting resin layer, a photocurable resin layer, etc. in addition to at least one cured layer formed from the photocurable coating liquid of the present invention. be able to.

本発明の積層体は、以下に説明するように工程(a)と工程(b)とからなる製造方法に従って製造することができる。   The laminated body of this invention can be manufactured according to the manufacturing method which consists of a process (a) and a process (b) so that it may demonstrate below.

工程(a)
基材上に本発明の光硬化性塗工液を塗布し光硬化性膜を形成する。基材、光硬化性塗工液については、既に説明したとおりである。光硬化性塗工液の塗布方法としては、ディップ法、凸版印刷法、平版印刷法、凹版印刷法、スプレー法、カーテンフロー法、ロールコート法等の公知の塗工方法を採用することができる。光硬化性塗工液に稀釈剤が含有されている場合には、その塗工膜を加熱炉や遠赤外炉、超遠赤外炉中で加熱し乾燥することが好ましい。
Step (a)
The photocurable coating liquid of the present invention is applied on a substrate to form a photocurable film. About a base material and a photocurable coating liquid, it is as having already demonstrated. As a coating method of the photocurable coating liquid, a known coating method such as a dipping method, a relief printing method, a lithographic printing method, an intaglio printing method, a spray method, a curtain flow method, a roll coating method can be employed. . When a diluent is contained in the photocurable coating solution, the coating film is preferably heated and dried in a heating furnace, a far infrared furnace, or a super far infrared furnace.

工程(b)
工程(a)で得られた光硬化性膜に、紫外線、可視光線、レーザー、電子線、エックス線等の、既に説明したような活性エネルギー線を照射すると、光硬化性膜は硬化して硬化層となる。これにより、本発明の光硬化性塗工液からなる硬化層を有する積層体が得られる。なお、紫外線を使用する場合の光源としては、低圧水銀ランプ、高圧水銀ランプ、キセノンランプ、メタルハライドランプなどが挙げられる。
Step (b)
When the photocurable film obtained in the step (a) is irradiated with active energy rays such as ultraviolet rays, visible rays, lasers, electron beams, and X-rays as described above, the photocurable film is cured to be a cured layer. It becomes. Thereby, the laminated body which has a hardened layer which consists of a photocurable coating liquid of this invention is obtained. In addition, as a light source when using an ultraviolet-ray, a low pressure mercury lamp, a high pressure mercury lamp, a xenon lamp, a metal halide lamp etc. are mentioned.

このようにして得られる積層体は、基材と硬化層との2層構造に限られず、熱可塑性、熱硬化性、光硬化性の材料の層を予め設けていてもよく、あるいは硬化層形成後に改めて設けてもよい。   The laminate obtained in this way is not limited to a two-layer structure of a base material and a cured layer, and a layer of thermoplastic, thermosetting, or photocurable material may be provided in advance, or a cured layer is formed. It may be provided again later.

以上、本発明の光硬化性塗工液、それからなる硬化層を有する積層体およびその製造方法について説明したが、これらの光硬化性塗工液、積層体および製造方法の好ましい具体的な態様の一例を以下に示す。なお、それらの中の用語の意味は既に説明した通りである。   As mentioned above, although the photocurable coating liquid of this invention, the laminated body which has a hardened layer which consists of it, and its manufacturing method were demonstrated, of these preferable examples of a photocurable coating liquid, a laminated body, and a manufacturing method of these photocurable coating liquids. An example is shown below. In addition, the meaning of the term in them is as having already demonstrated.

本発明の光硬化性塗工液の好ましい具体的態様としては、以下の成分(A)〜(C):
(A)不飽和結合を有する有機カルボン酸と2または3価の金属とからなる固体状光重合性金属塩;
(B)光重合性エチレン系不飽和化合物; および
(C)光重合開始剤
を含み、成分(A)の配合量(質量部)を(Awt)とし、成分(B)の配合量(質量部)を(Bwt)としたときに下記式(1)および(2)を満足する光硬化性樹脂組成物が挙げられる。この場合、成分(A)は、Ca、Zn、Mg、Alのいずれか1つの金属原子を有する(メタ)アクリル酸の多価金属塩である。特に、成分(A)がアクリル酸亜鉛であることが好ましい。
Preferred specific embodiments of the photocurable coating liquid of the present invention include the following components (A) to (C):
(A) a solid photopolymerizable metal salt comprising an organic carboxylic acid having an unsaturated bond and a divalent or trivalent metal;
(B) a photopolymerizable ethylenically unsaturated compound; and (C) a photopolymerization initiator, the blending amount (parts by mass) of component (A) is (Awt), and the blending amount (parts by mass) of component (B) ) Is (Bwt), and a photocurable resin composition satisfying the following formulas (1) and (2) is exemplified. In this case, the component (A) is a polyvalent metal salt of (meth) acrylic acid having any one metal atom of Ca, Zn, Mg, and Al. In particular, the component (A) is preferably zinc acrylate.

Figure 0004715993
Figure 0004715993

また、本発明の積層体の好ましい具体的態様としては、基材上に上述の光硬化性樹脂組成物から光硬化性樹脂層を形成したものが挙げられる。この場合、この積層体は、以下の工程(a′)および(b′):
(a′)基材上に請求項11〜13のいずれかに記載の光硬化性樹脂組成物からなる光硬化性樹脂層を形成する工程; および
(b′)得られた光硬化性樹脂層に活性エネルギー線を照射することにより該光硬化性樹脂層を硬化させて硬化樹脂層を形成する工程
を含む積層体の製造方法により製造できる。
Moreover, as a preferable specific aspect of the laminated body of this invention, what formed the photocurable resin layer from the above-mentioned photocurable resin composition on the base material is mentioned. In this case, the laminate is made up of the following steps (a ′) and (b ′):
(A ′) a step of forming a photocurable resin layer comprising the photocurable resin composition according to any one of claims 11 to 13 on a substrate; and (b ′) the obtained photocurable resin layer. Can be produced by a method for producing a laminate comprising a step of irradiating an active energy ray to cure the photocurable resin layer to form a cured resin layer.

以下、本発明を実施例に基づいて具体的に説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。   EXAMPLES Hereinafter, although this invention is demonstrated concretely based on an Example, this invention is not limited to this.

実施例1〜6、比較例1〜5
シリカ微粉末(平均粒径20nm)3質量部、メチルトリエトキシシラン3質量部、酢酸0.2質量部、イソプロピルアルコール54質量部およびエタノール40質量部からなるシリコーン系ハードコート層形成用塗工液を、板厚2mmのアクリル樹脂基板上に、固形分乾燥膜厚が5μmとなるようにバーコータにて塗布し、80℃で30分間乾燥することにより、ハードコート層を形成した。この層上に、表1に示す光硬化性樹脂組成物を固形分乾燥膜厚が0.1μmとなるようにバーコータで塗布し、140℃で30秒乾燥した後、80W高圧水銀灯(ウシオ電機株式会社製)を備えたベルトコンベア(コンベア速度1m/min、光源と被照射物の距離10cm)を用いて紫外線を1回照射し、硬化させた。これによりアクリル樹脂基板/ハードコート層/高屈折率硬化樹脂層からなる積層体を得た。
Examples 1-6, Comparative Examples 1-5
Silicone hard coat layer forming coating solution comprising 3 parts by weight of fine silica powder (average particle size 20 nm), 3 parts by weight of methyltriethoxysilane, 0.2 parts by weight of acetic acid, 54 parts by weight of isopropyl alcohol and 40 parts by weight of ethanol Was coated on a 2 mm thick acrylic resin substrate with a bar coater so that the solid content dry film thickness was 5 μm, and dried at 80 ° C. for 30 minutes to form a hard coat layer. On this layer, the photocurable resin composition shown in Table 1 was applied with a bar coater so that the dry thickness of the solid content was 0.1 μm, dried at 140 ° C. for 30 seconds, and then 80 W high-pressure mercury lamp (USHIO Inc.) Using a belt conveyor (manufactured by company) (conveyor speed 1 m / min, distance between light source and irradiated object 10 cm), ultraviolet rays were irradiated once and cured. As a result, a laminate comprising an acrylic resin substrate / hard coat layer / high refractive index cured resin layer was obtained.

(評価方法)
はじき
実施例1〜6、比較例1〜5で得られた積層体を100マスになるよう区切り、硬化性樹脂層の被覆面積を測定し、得られた結果を表1および表2に示す。なお、表1および表2「被膜面積(%)」は、はじきやピンホールの発生が観察されない完全に光硬化性樹脂に覆われているマス目の数を数え、百分率表示した。
(Evaluation methods)
Hajiki :
The laminates obtained in Examples 1 to 6 and Comparative Examples 1 to 5 were divided so as to have a mass of 100, the covering area of the curable resin layer was measured, and the obtained results are shown in Tables 1 and 2. In Tables 1 and 2, “Coating area (%)” was expressed as a percentage by counting the number of squares completely covered with the photocurable resin in which no occurrence of repellency or pinholes was observed.

屈折率:
実施例1〜6、比較例1〜5で得られた積層体を5°反射率を測定(400〜700nm)し、最低反射率から高屈折率層の屈折率を算出し、得られた結果を表1および表2に示す。
Refractive index:
The laminated bodies obtained in Examples 1 to 6 and Comparative Examples 1 to 5 were measured for 5 ° reflectance (400 to 700 nm), the refractive index of the high refractive index layer was calculated from the lowest reflectance, and the obtained results Are shown in Tables 1 and 2.

反射率:
実施例1〜6、比較例1〜5で得られた積層体上に低屈折率層としてオプスタ−JN1214(JSR株式会社製)を固形分膜厚0.1μmになるように塗布したのち80℃で30分乾燥させ、5°反射率を測定(400〜700nm)し、得られた測定波長域における最低値を表1および表2に示す。
Reflectivity:
After coating OPSTA-JN1214 (manufactured by JSR Corporation) as a low refractive index layer on the laminates obtained in Examples 1 to 6 and Comparative Examples 1 to 5 to a solid content film thickness of 0.1 μm, 80 ° C. For 30 minutes, 5 ° reflectance was measured (400 to 700 nm), and the obtained minimum values in the measurement wavelength range are shown in Tables 1 and 2.

Figure 0004715993
Figure 0004715993

















Figure 0004715993
Figure 0004715993

表1および表2注
*1: 50ml3口フラスコを窒素置換した後、エタノール30gを加えた後、塩化亜鉛4.1g(Mw.136.29 30mmol)、p−スチレンスルホン酸ナトリウム6.8g(Mw.206.20 35mmol)を投入し、3時間室温にて攪拌した後得られた沈殿物をろ過後、24時間真空乾燥機にて乾燥させた後、組成物に用いた。
*2: APTMS: γ−アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン(商品名 KBM5103 信越化学工業株式会社製)
*3: ATIT :(2−アクリロイルオキシ)トリイソプロポキシチタネート 50ml3口フラスコを窒素置換した後、テトライソプロポキシチタネート10.0g(Mw.284.25 35.2mmol)を投入し、室温にてアクリル酸2.5g(Mw.72.06 35.2mmol)とイソプロパノール 8.3gの混合溶液を30分間かけて添加した後、一晩室温にて攪拌しATITの50質量%溶液を得、組成物に用いた。
*4: Mw10万(商品名 パラペットHR−L、株式会社クラレ製)
*5: エチレンオキサイド変性ビスフェノールAジアクリレート(商品名 ビスコート#540、大阪有機化学工業株式会社製)
*6: エチレンオキサイド変性イソシアヌール酸トリアクリレート(商品名 M315、東亞合成株式会社製)
*7: ビス(4−(メタ)アクリロイルオキシチオフェニル)サルファイド(商品名 MPSMA 住友精化株式会社製)
*8: 1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニルケトン(商品名 イルガキュア184、チバスペシャリティーケミカルズ社製)
*9: 固形分が分離したので塗工できず
*10: はじきが多く、成膜出来なかったため、参考値としてアクリル板上に直接塗工し、反射率から計算した屈折率値を記す。
*11: はじきが多く、成膜出来なかったため、参考値として高屈折率層の屈折率から計算した反射率を示す
Table 1 and Table 2 * 1: After replacing the nitrogen in the 50 ml three-necked flask, 30 g of ethanol was added, then 4.1 g of zinc chloride (Mw. 136.29 30 mmol), 6.8 g of sodium p-styrenesulfonate (Mw .206.20 35 mmol) was added, and the resulting precipitate was stirred for 3 hours at room temperature, filtered, dried in a vacuum dryer for 24 hours, and then used in the composition.
* 2: APTMS: γ-acryloyloxypropyltrimethoxysilane (trade name KBM5103, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.)
* 3: ATIT: (2-acryloyloxy) triisopropoxytitanate After replacing the 50 ml 3-neck flask with nitrogen, 10.0 g of tetraisopropoxytitanate (Mw. 284.25 35.2 mmol) was added and acrylic acid was used at room temperature. After adding a mixed solution of 2.5 g (Mw. 72.06 35.2 mmol) and 8.3 g of isopropanol over 30 minutes, the mixture was stirred overnight at room temperature to obtain a 50% by mass solution of ATIT. It was.
* 4: Mw 100,000 (Brand name Parapet HR-L, manufactured by Kuraray Co., Ltd.)
* 5: Ethylene oxide modified bisphenol A diacrylate (Brand name Biscote # 540, manufactured by Osaka Organic Chemical Industry Co., Ltd.)
* 6: Ethylene oxide modified isocyanuric acid triacrylate (trade name: M315, manufactured by Toagosei Co., Ltd.)
* 7: Bis (4- (meth) acryloyloxythiophenyl) sulfide (trade name: MPSMA manufactured by Sumitomo Seika Co., Ltd.)
* 8: 1-Hydroxy-cyclohexyl-phenyl ketone (trade name: Irgacure 184, manufactured by Ciba Specialty Chemicals)
* 9: Cannot be applied because the solid content was separated. * 10: Since there was much repellency and the film could not be formed, it was applied directly on the acrylic plate as a reference value, and the refractive index value calculated from the reflectance is shown.
* 11: Since the film could not be formed due to many repelling, the reflectance calculated from the refractive index of the high refractive index layer is shown as a reference value.

表1に示すように、実施例1〜6の結果から、重合性の有機カルボン酸金属塩を使用した場合には被覆率が100%であり、硬化樹脂層が基材上で、はじきやピンホールを発生させることなく均一に形成されていることが分かる。   As shown in Table 1, from the results of Examples 1 to 6, when a polymerizable organic carboxylic acid metal salt was used, the coverage was 100%, and the cured resin layer was repelled and pinned on the substrate. It can be seen that the holes are uniformly formed without generating holes.

実施例7
シリカ微粉末(平均粒径20nm)3質量部、メチルトリエトキシシラン3質量部、酢酸0.2質量部、イソプロピルアルコール54質量部およびエタノール40質量部からなるシリコーン系ハードコート層形成用塗工液を板厚2mmのアクリル樹脂基板上に固形分膜厚5μmになるようにバーコータにて塗布し、80℃で30分間乾燥した。このハードコート層上に、アクリル酸亜鉛6質量%、多官能アクリレート(商品名:アートレジンUN3320HC 根上工業株式会社製)24質量%、光重合開始剤(商品名 イルガキュア184、チバスペシャリティーケミカルズ社製)1.5質量%、メチルエチルケトン20質量%、イソプロパノール28.5質量%およびメタノール20質量%からなる光硬化性樹脂組成物を固形分膜厚で5μmになるように塗工し、140℃で30秒乾燥した後、80W高圧水銀灯(ウシオ電機株式会社製)を備えたベルトコンベア(コンベア速度1m/min、光源と被照射物の距離10cm)を用いて紫外線を1回照射し、硬化させた。これにより、アクリル樹脂基板/ハードコート層/硬化樹脂層とからなる積層体を得た。
Example 7
Silicone hard coat layer forming coating solution comprising 3 parts by weight of fine silica powder (average particle size 20 nm), 3 parts by weight of methyltriethoxysilane, 0.2 parts by weight of acetic acid, 54 parts by weight of isopropyl alcohol and 40 parts by weight of ethanol Was coated on a 2 mm thick acrylic resin substrate with a bar coater to a solid film thickness of 5 μm, and dried at 80 ° C. for 30 minutes. On this hard coat layer, zinc acrylate 6% by mass, polyfunctional acrylate (trade name: Art Resin UN3320HC, manufactured by Negami Kogyo Co., Ltd.) 24% by mass, photopolymerization initiator (trade name, Irgacure 184, manufactured by Ciba Specialty Chemicals) ) A photocurable resin composition comprising 1.5% by mass, 20% by mass of methyl ethyl ketone, 28.5% by mass of isopropanol, and 20% by mass of methanol was applied to a solid content film thickness of 5 μm, and 30 ° C. at 30 ° C. After drying for a second, ultraviolet rays were irradiated once using a belt conveyor (conveyor speed: 1 m / min, distance between light source and irradiated object: 10 cm) equipped with an 80 W high-pressure mercury lamp (USHIO INC.) And cured. Thereby, the laminated body consisting of an acrylic resin substrate / hard coat layer / cured resin layer was obtained.

得られた積層体を100マスになるように区切り、硬化性樹脂層の被覆面積を測定した。評価方法は、実施例1と同様であり、被覆面積は100%であった。   The obtained laminate was divided so as to be 100 squares, and the covering area of the curable resin layer was measured. The evaluation method was the same as in Example 1, and the coverage area was 100%.

本発明の光硬化性塗工液は、濡れ性の悪い表面に対し均一な薄膜(例えば、膜厚0.01μm以上10μm以下の皮膜)を得ることができるので、ラミネート箔や画像表示画面保護板、ヘルメットシールド等の物品に有利に利用することができる。
Since the photocurable coating liquid of the present invention can obtain a uniform thin film (for example, a film having a film thickness of 0.01 μm or more and 10 μm or less) on a surface having poor wettability, a laminate foil or an image display screen protection plate It can be advantageously used for articles such as helmet shields.

Claims (4)

硬化性樹脂組成物からなる硬化樹脂層の少なくとも1層が、20℃で40dyn/cm以下の表面張力を示すシリコーン系ハードコート層表面を有する撥塗工液性基材に積層されてなる積層体であって、
該光硬化性樹脂組成物が、以下の成分(A)〜(C):
(A)(メタ)アクリル酸と、カルシウム、亜鉛、マグネシウムおよびアルミニウムのいずれか1つの2価または3価の金属とからなり、粒径が5nm〜1μmである固体状光重合性金属塩;
(B)多官能性モノマーを含む光重合性エチレン系不飽和化合物; および
(C)光重合開始剤
を含み、成分(A)の配合量(質量部)を(Awt)とし、成分(B)の配合量(質量部)を(Bwt)としたときに下記式(1a)および(2a)
Figure 0004715993
を満足する光硬化性樹脂組成物であることを特徴とする積層体。
A laminate in which at least one of the cured resin layers made of the photocurable resin composition is laminated on a coating- repellent liquid-repellent substrate having a silicone hard coat layer surface exhibiting a surface tension of 40 dyn / cm or less at 20 ° C. Body ,
The photocurable resin composition has the following components (A) to (C):
(A) A solid photopolymerizable metal salt composed of (meth) acrylic acid and any one of divalent or trivalent metals of calcium, zinc, magnesium and aluminum and having a particle size of 5 nm to 1 μm;
(B) a photopolymerizable ethylenically unsaturated compound containing a polyfunctional monomer; and
(C) Photopolymerization initiator
When the amount (parts by mass) of component (A) is (Awt) and the amount (parts by mass) of component (B) is (Bwt), the following formulas (1a) and (2a)
Figure 0004715993
A laminate, which is a photocurable resin composition satisfying the requirements.
成分(A)がアクリル酸亜鉛である請求項1記載の積層体The laminate according to claim 1, wherein the component (A) is zinc acrylate. 硬化樹脂層の屈折率が1.60以上である請求項1又は2記載の積層体。 The laminate according to claim 1 or 2 , wherein the refractive index of the cured resin layer is 1.60 or more. 20℃で40dyn/cm以下の表面張力を示すシリコーン系ハードコート層表面を有する撥塗工液性基材上に硬化樹脂層が積層された積層体の製造方法であって、以下の工程(a′)および(b′):
(a′)撥塗工液性基材上に光硬化性樹脂組成物からなる光硬化性樹脂層を形成する工程; および
(b′)得られた光硬化性樹脂層に活性エネルギー線を照射することにより該光硬化性樹脂層を硬化させて硬化樹脂層を形成する工程
を含む積層体の製造方法であって、
該光硬化性樹脂組成物が、以下の成分(A)〜(C):
(A)(メタ)アクリル酸と、カルシウム、亜鉛、マグネシウムおよびアルミニウムのいずれか1つの2価または3価の金属とからなり、粒径が5nm〜1μmである固体状光重合性金属塩;
(B)多官能性モノマーを含む光重合性エチレン系不飽和化合物; および
(C)光重合開始剤
を含み、成分(A)の配合量(質量部)を(Awt)とし、成分(B)の配合量(質量部)を(Bwt)としたときに下記式(1a)および(2a)
Figure 0004715993
を満足する光硬化性樹脂組成物であることを特徴とする、請求項1〜3のいずれか1項に記載の積層体の製造方法。
A method for producing a laminate in which a cured resin layer is laminated on a repellent coating liquid-repellent substrate having a silicone hard coat layer surface exhibiting a surface tension of 40 dyn / cm or less at 20 ° C, comprising the following steps (a ′) And (b ′):
(A ') Bachinuriko solution group step of forming a photocurable resin layer comprising a photocurable resin composition on material; and (b') the photocurable resin layer obtained an active energy ray to the A method for producing a laminate comprising a step of curing the photocurable resin layer to form a cured resin layer ,
The photocurable resin composition has the following components (A) to (C):
(A) A solid photopolymerizable metal salt comprising (meth) acrylic acid and any one of divalent or trivalent metals of calcium, zinc, magnesium and aluminum, and having a particle size of 5 nm to 1 μm;
(B) a photopolymerizable ethylenically unsaturated compound containing a polyfunctional monomer; and
(C) Photopolymerization initiator
When the amount (parts by mass) of component (A) is (Awt) and the amount (parts by mass) of component (B) is (Bwt), the following formulas (1a) and (2a)
Figure 0004715993
The manufacturing method of the laminated body of any one of Claims 1-3 characterized by the above-mentioned.
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Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5965776B2 (en) * 2012-08-07 2016-08-10 大阪ガスケミカル株式会社 Composition for forming a gradient film and gradient film formed by the composition
JP7091659B2 (en) * 2017-12-28 2022-06-28 大日本印刷株式会社 Photopolymerizable composition
JP7354529B2 (en) 2018-08-30 2023-10-03 株式会社リコー Active energy ray curable liquid, active energy ray curable liquid set, method for manufacturing a shaped object, and apparatus for manufacturing a shaped object

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6235827B2 (en) * 1981-10-26 1987-08-04 Armstrong World Ind Inc
JPH05159380A (en) * 1991-06-11 1993-06-25 Imperial Chem Ind Plc <Ici> Data preservation medium
JPH0734005A (en) * 1992-05-26 1995-02-03 Elf Atochem It Sarl Water-drop-preventive film and board made of acrylic polymer and their production
JPH07247444A (en) * 1993-10-14 1995-09-26 Sartomer Co Inc Radiation-curable composition and its use for substrate coating
JPH0939415A (en) * 1995-07-26 1997-02-10 Ricoh Co Ltd Reversible heat-sensitive recording material
WO2005108440A1 (en) * 2004-05-10 2005-11-17 Tohcello Co., Ltd. Gas-barrier film, gas-barrier layered product, and process for producing the same
JP2007506648A (en) * 2003-07-03 2007-03-22 サゾル ジャーマニー ゲーエムベーハー Process for producing short-chain unsaturated carboxylic acid metal salt and use thereof

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB8714864D0 (en) * 1987-06-25 1987-07-29 Ciba Geigy Ag Photopolymerizable composition ii

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6235827B2 (en) * 1981-10-26 1987-08-04 Armstrong World Ind Inc
JPH05159380A (en) * 1991-06-11 1993-06-25 Imperial Chem Ind Plc <Ici> Data preservation medium
JPH0734005A (en) * 1992-05-26 1995-02-03 Elf Atochem It Sarl Water-drop-preventive film and board made of acrylic polymer and their production
JPH07247444A (en) * 1993-10-14 1995-09-26 Sartomer Co Inc Radiation-curable composition and its use for substrate coating
JPH0939415A (en) * 1995-07-26 1997-02-10 Ricoh Co Ltd Reversible heat-sensitive recording material
JP2007506648A (en) * 2003-07-03 2007-03-22 サゾル ジャーマニー ゲーエムベーハー Process for producing short-chain unsaturated carboxylic acid metal salt and use thereof
WO2005108440A1 (en) * 2004-05-10 2005-11-17 Tohcello Co., Ltd. Gas-barrier film, gas-barrier layered product, and process for producing the same

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