KR20170139600A - A photocurable resin composition, a process for producing a cured film using the same, and a laminate including the cured film - Google Patents
A photocurable resin composition, a process for producing a cured film using the same, and a laminate including the cured film Download PDFInfo
- Publication number
- KR20170139600A KR20170139600A KR1020177033427A KR20177033427A KR20170139600A KR 20170139600 A KR20170139600 A KR 20170139600A KR 1020177033427 A KR1020177033427 A KR 1020177033427A KR 20177033427 A KR20177033427 A KR 20177033427A KR 20170139600 A KR20170139600 A KR 20170139600A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- meth
- cured film
- group
- polyrotaxane
- acrylate
- Prior art date
Links
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 title claims abstract description 32
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 23
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims abstract description 43
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 41
- 239000003999 initiator Substances 0.000 claims abstract description 18
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 claims abstract description 8
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 40
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 22
- 125000003647 acryloyl group Chemical group O=C([*])C([H])=C([H])[H] 0.000 claims description 10
- 238000000016 photochemical curing Methods 0.000 claims description 10
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 claims description 7
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 claims description 7
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 38
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 33
- -1 methacryloyl group Chemical group 0.000 description 25
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 21
- 229920000858 Cyclodextrin Polymers 0.000 description 18
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 17
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 17
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 17
- 239000000463 material Substances 0.000 description 14
- HFHDHCJBZVLPGP-UHFFFAOYSA-N schardinger α-dextrin Chemical group O1C(C(C2O)O)C(CO)OC2OC(C(C2O)O)C(CO)OC2OC(C(C2O)O)C(CO)OC2OC(C(O)C2O)C(CO)OC2OC(C(C2O)O)C(CO)OC2OC2C(O)C(O)C1OC2CO HFHDHCJBZVLPGP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 10
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 9
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 8
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 8
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 8
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 7
- 125000001165 hydrophobic group Chemical group 0.000 description 7
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 7
- 229910002012 Aerosil® Inorganic materials 0.000 description 6
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000004820 Pressure-sensitive adhesive Substances 0.000 description 6
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 6
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 6
- 239000002216 antistatic agent Substances 0.000 description 6
- 230000001588 bifunctional effect Effects 0.000 description 6
- RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N silicic acid Chemical compound O[Si](O)(O)O RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 5
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 5
- BTANRVKWQNVYAZ-UHFFFAOYSA-N butan-2-ol Chemical compound CCC(C)O BTANRVKWQNVYAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 5
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 5
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 5
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 5
- 230000000977 initiatory effect Effects 0.000 description 5
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 5
- ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 1-methoxypropan-2-ol Chemical compound COCC(C)O ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- KWOLFJPFCHCOCG-UHFFFAOYSA-N Acetophenone Chemical compound CC(=O)C1=CC=CC=C1 KWOLFJPFCHCOCG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- DKGAVHZHDRPRBM-UHFFFAOYSA-N Tert-Butanol Chemical compound CC(C)(C)O DKGAVHZHDRPRBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 4
- 230000006837 decompression Effects 0.000 description 4
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000002346 layers by function Substances 0.000 description 4
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 4
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 4
- 239000006097 ultraviolet radiation absorber Substances 0.000 description 4
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920001450 Alpha-Cyclodextrin Polymers 0.000 description 3
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ORILYTVJVMAKLC-UHFFFAOYSA-N adamantane Chemical group C1C(C2)CC3CC1CC2C3 ORILYTVJVMAKLC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HFHDHCJBZVLPGP-RWMJIURBSA-N alpha-cyclodextrin Chemical compound OC[C@H]([C@H]([C@@H]([C@H]1O)O)O[C@H]2O[C@@H]([C@@H](O[C@H]3O[C@H](CO)[C@H]([C@@H]([C@H]3O)O)O[C@H]3O[C@H](CO)[C@H]([C@@H]([C@H]3O)O)O[C@H]3O[C@H](CO)[C@H]([C@@H]([C@H]3O)O)O3)[C@H](O)[C@H]2O)CO)O[C@@H]1O[C@H]1[C@H](O)[C@@H](O)[C@@H]3O[C@@H]1CO HFHDHCJBZVLPGP-RWMJIURBSA-N 0.000 description 3
- 229940043377 alpha-cyclodextrin Drugs 0.000 description 3
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 3
- 229920006026 co-polymeric resin Polymers 0.000 description 3
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 3
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 3
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 3
- 210000002858 crystal cell Anatomy 0.000 description 3
- 229940097362 cyclodextrins Drugs 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 3
- 229920001477 hydrophilic polymer Polymers 0.000 description 3
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 description 3
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 3
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 3
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000002221 trityl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C([H])C([H])=C1C([*])(C1=C(C(=C(C(=C1[H])[H])[H])[H])[H])C1=C([H])C([H])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 description 3
- 125000001917 2,4-dinitrophenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(=C([H])C(=C1*)[N+]([O-])=O)[N+]([O-])=O 0.000 description 2
- NGNBDVOYPDDBFK-UHFFFAOYSA-N 2-[2,4-di(pentan-2-yl)phenoxy]acetyl chloride Chemical compound CCCC(C)C1=CC=C(OCC(Cl)=O)C(C(C)CCC)=C1 NGNBDVOYPDDBFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UJOBWOGCFQCDNV-UHFFFAOYSA-N 9H-carbazole Chemical compound C1=CC=C2C3=CC=CC=C3NC2=C1 UJOBWOGCFQCDNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N N-Heptane Chemical compound CCCCCCC IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002033 PVDF binder Substances 0.000 description 2
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 2
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 2
- ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N Propane Chemical compound CCC ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 2
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 2
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 2
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 2
- LJCFOYOSGPHIOO-UHFFFAOYSA-N antimony pentoxide Chemical compound O=[Sb](=O)O[Sb](=O)=O LJCFOYOSGPHIOO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 2
- 230000003078 antioxidant effect Effects 0.000 description 2
- HUMNYLRZRPPJDN-UHFFFAOYSA-N benzaldehyde Chemical compound O=CC1=CC=CC=C1 HUMNYLRZRPPJDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical class C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920001400 block copolymer Polymers 0.000 description 2
- WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N butane-1,4-diol Chemical compound OCCCCO WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 2
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 2
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 2
- DIOQZVSQGTUSAI-UHFFFAOYSA-N decane Chemical compound CCCCCCCCCC DIOQZVSQGTUSAI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SWXVUIWOUIDPGS-UHFFFAOYSA-N diacetone alcohol Chemical compound CC(=O)CC(C)(C)O SWXVUIWOUIDPGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 2
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N ether Substances CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RMBPEFMHABBEKP-UHFFFAOYSA-N fluorene Chemical compound C1=CC=C2C3=C[CH]C=CC3=CC2=C1 RMBPEFMHABBEKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000014509 gene expression Effects 0.000 description 2
- 229920001600 hydrophobic polymer Polymers 0.000 description 2
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 2
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 2
- 239000000113 methacrylic resin Substances 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N neopentyl glycol Chemical compound OCC(C)(C)CO SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NIHNNTQXNPWCJQ-UHFFFAOYSA-N o-biphenylenemethane Natural products C1=CC=C2CC3=CC=CC=C3C2=C1 NIHNNTQXNPWCJQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N pentaerythritol Chemical compound OCC(CO)(CO)CO WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 2
- 229920005668 polycarbonate resin Polymers 0.000 description 2
- 239000004431 polycarbonate resin Substances 0.000 description 2
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 description 2
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 description 2
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 2
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 2
- 229920005672 polyolefin resin Polymers 0.000 description 2
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 2
- 229920001451 polypropylene glycol Polymers 0.000 description 2
- 229920005990 polystyrene resin Polymers 0.000 description 2
- 229920002981 polyvinylidene fluoride Polymers 0.000 description 2
- 239000011164 primary particle Substances 0.000 description 2
- 150000003220 pyrenes Chemical class 0.000 description 2
- 239000005871 repellent Substances 0.000 description 2
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 2
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 2
- 125000003396 thiol group Chemical group [H]S* 0.000 description 2
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 2
- JNELGWHKGNBSMD-UHFFFAOYSA-N xanthone Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC=CC=C3OC2=C1 JNELGWHKGNBSMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZXHDKGCWOIPNKR-UHFFFAOYSA-N (4-methoxy-2,3-dimethylphenyl)-phenylmethanone Chemical compound CC1=C(C)C(OC)=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 ZXHDKGCWOIPNKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JOLQKTGDSGKSKJ-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxypropan-2-ol Chemical compound CCOCC(C)O JOLQKTGDSGKSKJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012956 1-hydroxycyclohexylphenyl-ketone Substances 0.000 description 1
- KWVGIHKZDCUPEU-UHFFFAOYSA-N 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OC)(OC)C(=O)C1=CC=CC=C1 KWVGIHKZDCUPEU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HIXDQWDOVZUNNA-UHFFFAOYSA-N 2-(3,4-dimethoxyphenyl)-5-hydroxy-7-methoxychromen-4-one Chemical compound C=1C(OC)=CC(O)=C(C(C=2)=O)C=1OC=2C1=CC=C(OC)C(OC)=C1 HIXDQWDOVZUNNA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LCZVSXRMYJUNFX-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-hydroxypropoxy)propoxy]propan-1-ol Chemical compound CC(O)COC(C)COC(C)CO LCZVSXRMYJUNFX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 2-[[3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propoxy]methyl]-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol Chemical compound OCC(CO)(CO)COCC(CO)(CO)CO TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 2-butoxyethanol Chemical compound CCCCOCCO POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KMNCBSZOIQAUFX-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxy-1,2-diphenylethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OCC)C(=O)C1=CC=CC=C1 KMNCBSZOIQAUFX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethanol Chemical compound CCOCCO ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940093475 2-ethoxyethanol Drugs 0.000 description 1
- XMLYCEVDHLAQEL-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one Chemical compound CC(C)(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 XMLYCEVDHLAQEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LCANECIWPMDASZ-UHFFFAOYSA-N 2-isocyanatoethanol Chemical compound OCCN=C=O LCANECIWPMDASZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KJOFMRLNOMBWIM-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1-(4-propan-2-ylphenyl)propan-1-one Chemical compound CC(C)C(=O)C1=CC=C(C(C)C)C=C1 KJOFMRLNOMBWIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CUTWSDAQYCQTGD-UHFFFAOYSA-N 2-prop-2-enoyloxypropanoic acid Chemical compound OC(=O)C(C)OC(=O)C=C CUTWSDAQYCQTGD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YEYKMVJDLWJFOA-UHFFFAOYSA-N 2-propoxyethanol Chemical compound CCCOCCO YEYKMVJDLWJFOA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WGKYSFRFMQHMOF-UHFFFAOYSA-N 3-bromo-5-methylpyridine-2-carbonitrile Chemical compound CC1=CN=C(C#N)C(Br)=C1 WGKYSFRFMQHMOF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RDFQSFOGKVZWKF-UHFFFAOYSA-N 3-hydroxy-2,2-dimethylpropanoic acid Chemical compound OCC(C)(C)C(O)=O RDFQSFOGKVZWKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JDFDHBSESGTDAL-UHFFFAOYSA-N 3-methoxypropan-1-ol Chemical compound COCCCO JDFDHBSESGTDAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UGVRJVHOJNYEHR-UHFFFAOYSA-N 4-chlorobenzophenone Chemical compound C1=CC(Cl)=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 UGVRJVHOJNYEHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LCFVJGUPQDGYKZ-UHFFFAOYSA-N Bisphenol A diglycidyl ether Chemical compound C=1C=C(OCC2OC2)C=CC=1C(C)(C)C(C=C1)=CC=C1OCC1CO1 LCFVJGUPQDGYKZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N Butyl acetate Natural products CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002134 Carboxymethyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 1
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 108010010803 Gelatin Proteins 0.000 description 1
- 229920000663 Hydroxyethyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- 239000004354 Hydroxyethyl cellulose Substances 0.000 description 1
- 229920002153 Hydroxypropyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910002651 NO3 Inorganic materials 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920003171 Poly (ethylene oxide) Polymers 0.000 description 1
- 229920002845 Poly(methacrylic acid) Polymers 0.000 description 1
- 239000005062 Polybutadiene Substances 0.000 description 1
- 229920002873 Polyethylenimine Polymers 0.000 description 1
- 229920002367 Polyisobutene Polymers 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 1
- 229910002049 SYLYSIA SY470 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920002472 Starch Polymers 0.000 description 1
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane Chemical compound CCC(CO)(CO)CO ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002433 Vinyl chloride-vinyl acetate copolymer Polymers 0.000 description 1
- QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N Vinyl ether Chemical group C=COC=C QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000010724 Wisteria floribunda Nutrition 0.000 description 1
- DBHQYYNDKZDVTN-UHFFFAOYSA-N [4-(4-methylphenyl)sulfanylphenyl]-phenylmethanone Chemical compound C1=CC(C)=CC=C1SC1=CC=C(C(=O)C=2C=CC=CC=2)C=C1 DBHQYYNDKZDVTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002250 absorbent Substances 0.000 description 1
- 230000002745 absorbent Effects 0.000 description 1
- DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N acetaldehyde Diethyl Acetal Natural products CCOC(C)OCC DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001241 acetals Chemical class 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 150000008065 acid anhydrides Chemical class 0.000 description 1
- 239000003522 acrylic cement Substances 0.000 description 1
- 229920001893 acrylonitrile styrene Polymers 0.000 description 1
- 125000002252 acyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000005456 alcohol based solvent Substances 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 125000003172 aldehyde group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N anthraquinone Natural products CCC(=O)c1c(O)c2C(=O)C3C(C=CC=C3O)C(=O)c2cc1CC(=O)OC PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004056 anthraquinones Chemical class 0.000 description 1
- GVFOJDIFWSDNOY-UHFFFAOYSA-N antimony tin Chemical compound [Sn].[Sb] GVFOJDIFWSDNOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 1
- 150000001555 benzenes Chemical class 0.000 description 1
- 125000005605 benzo group Chemical group 0.000 description 1
- RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N benzophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 description 1
- ZLSMCQSGRWNEGX-UHFFFAOYSA-N bis(4-aminophenyl)methanone Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(N)C=C1 ZLSMCQSGRWNEGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MQDJYUACMFCOFT-UHFFFAOYSA-N bis[2-(1-hydroxycyclohexyl)phenyl]methanone Chemical compound C=1C=CC=C(C(=O)C=2C(=CC=CC=2)C2(O)CCCCC2)C=1C1(O)CCCCC1 MQDJYUACMFCOFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000006664 bond formation reaction Methods 0.000 description 1
- QNRMTGGDHLBXQZ-UHFFFAOYSA-N buta-1,2-diene Chemical compound CC=C=C QNRMTGGDHLBXQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001768 carboxy methyl cellulose Substances 0.000 description 1
- 235000010948 carboxy methyl cellulose Nutrition 0.000 description 1
- 239000008112 carboxymethyl-cellulose Substances 0.000 description 1
- 239000005018 casein Substances 0.000 description 1
- BECPQYXYKAMYBN-UHFFFAOYSA-N casein, tech. Chemical compound NCCCCC(C(O)=O)N=C(O)C(CC(O)=O)N=C(O)C(CCC(O)=N)N=C(O)C(CC(C)C)N=C(O)C(CCC(O)=O)N=C(O)C(CC(O)=O)N=C(O)C(CCC(O)=O)N=C(O)C(C(C)O)N=C(O)C(CCC(O)=N)N=C(O)C(CCC(O)=N)N=C(O)C(CCC(O)=N)N=C(O)C(CCC(O)=O)N=C(O)C(CCC(O)=O)N=C(O)C(COP(O)(O)=O)N=C(O)C(CCC(O)=N)N=C(O)C(N)CC1=CC=CC=C1 BECPQYXYKAMYBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000021240 caseins Nutrition 0.000 description 1
- 230000001413 cellular effect Effects 0.000 description 1
- 239000012461 cellulose resin Substances 0.000 description 1
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 1
- 239000003431 cross linking reagent Substances 0.000 description 1
- 150000003983 crown ethers Chemical class 0.000 description 1
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 1
- YSSSPARMOAYJTE-UHFFFAOYSA-N dibenzo-18-crown-6 Chemical compound O1CCOCCOC2=CC=CC=C2OCCOCCOC2=CC=CC=C21 YSSSPARMOAYJTE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007607 die coating method Methods 0.000 description 1
- 125000000118 dimethyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000004205 dimethyl polysiloxane Substances 0.000 description 1
- 125000002147 dimethylamino group Chemical group [H]C([H])([H])N(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 238000003618 dip coating Methods 0.000 description 1
- VFHVQBAGLAREND-UHFFFAOYSA-N diphenylphosphoryl-(2,4,6-trimethylphenyl)methanone Chemical compound CC1=CC(C)=CC(C)=C1C(=O)P(=O)(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 VFHVQBAGLAREND-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SZXQTJUDPRGNJN-UHFFFAOYSA-N dipropylene glycol Chemical compound OCCCOCCCO SZXQTJUDPRGNJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- 238000002296 dynamic light scattering Methods 0.000 description 1
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 1
- 125000003700 epoxy group Chemical class 0.000 description 1
- 239000003759 ester based solvent Substances 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- CQLRGDLBSOUXNO-UHFFFAOYSA-N ethane-1,2-diol;tetradecane Chemical compound OCCO.CCCCCCCCCCCCCC CQLRGDLBSOUXNO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 1
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 1
- 239000003063 flame retardant Substances 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 229920000159 gelatin Polymers 0.000 description 1
- 239000008273 gelatin Substances 0.000 description 1
- 235000019322 gelatine Nutrition 0.000 description 1
- 235000011852 gelatine desserts Nutrition 0.000 description 1
- 125000003055 glycidyl group Chemical group C(C1CO1)* 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000009931 harmful effect Effects 0.000 description 1
- SCFQUKBBGYTJNC-UHFFFAOYSA-N heptyl prop-2-enoate Chemical compound CCCCCCCOC(=O)C=C SCFQUKBBGYTJNC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N hexane-1,6-diol Chemical compound OCCCCCCO XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N hexanoic acid Chemical compound CCCCCC(O)=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000019447 hydroxyethyl cellulose Nutrition 0.000 description 1
- 239000001863 hydroxypropyl cellulose Substances 0.000 description 1
- 235000010977 hydroxypropyl cellulose Nutrition 0.000 description 1
- RHZWSUVWRRXEJF-UHFFFAOYSA-N indium tin Chemical compound [In].[Sn] RHZWSUVWRRXEJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009776 industrial production Methods 0.000 description 1
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 1
- 239000012948 isocyanate Substances 0.000 description 1
- IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N isocyanate group Chemical group [N-]=C=O IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000005453 ketone based solvent Substances 0.000 description 1
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 1
- 125000005647 linker group Chemical group 0.000 description 1
- 239000000314 lubricant Substances 0.000 description 1
- JFHJOMSTWVDDHW-UHFFFAOYSA-N methyl prop-2-enoate;prop-2-enenitrile Chemical compound C=CC#N.COC(=O)C=C JFHJOMSTWVDDHW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 1
- 229920000847 nonoxynol Polymers 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 description 1
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QNGNSVIICDLXHT-UHFFFAOYSA-N para-ethylbenzaldehyde Natural products CCC1=CC=C(C=O)C=C1 QNGNSVIICDLXHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 1
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 1
- 229920000435 poly(dimethylsiloxane) Polymers 0.000 description 1
- 229920002037 poly(vinyl butyral) polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920002432 poly(vinyl methyl ether) polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920002401 polyacrylamide Polymers 0.000 description 1
- 229920000768 polyamine Polymers 0.000 description 1
- 229920002857 polybutadiene Polymers 0.000 description 1
- 125000003367 polycyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 1
- 229920001195 polyisoprene Polymers 0.000 description 1
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 description 1
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 229920005606 polypropylene copolymer Polymers 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 229920000909 polytetrahydrofuran Polymers 0.000 description 1
- 229920005749 polyurethane resin Polymers 0.000 description 1
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 1
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 1
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 1
- 229920000036 polyvinylpyrrolidone Polymers 0.000 description 1
- 239000001267 polyvinylpyrrolidone Substances 0.000 description 1
- 235000013855 polyvinylpyrrolidone Nutrition 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- SCUZVMOVTVSBLE-UHFFFAOYSA-N prop-2-enenitrile;styrene Chemical compound C=CC#N.C=CC1=CC=CC=C1 SCUZVMOVTVSBLE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001294 propane Substances 0.000 description 1
- LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N propylene glycol methyl ether acetate Chemical compound COCC(C)OC(C)=O LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004080 punching Methods 0.000 description 1
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 1
- 230000001846 repelling effect Effects 0.000 description 1
- 239000005060 rubber Substances 0.000 description 1
- 238000010008 shearing Methods 0.000 description 1
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000013464 silicone adhesive Substances 0.000 description 1
- 125000003808 silyl group Chemical group [H][Si]([H])([H])[*] 0.000 description 1
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 1
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 1
- 239000008107 starch Substances 0.000 description 1
- 235000019698 starch Nutrition 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- YRHRIQCWCFGUEQ-UHFFFAOYSA-N thioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC=CC=C3SC2=C1 YRHRIQCWCFGUEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002088 tosyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(=C([H])C([H])=C1C([H])([H])[H])S(*)(=O)=O 0.000 description 1
- ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N triethylene glycol Chemical compound OCCOCCOCCO ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QXJQHYBHAIHNGG-UHFFFAOYSA-N trimethylolethane Chemical compound OCC(C)(CO)CO QXJQHYBHAIHNGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ODHXBMXNKOYIBV-UHFFFAOYSA-N triphenylamine Chemical compound C1=CC=CC=C1N(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 ODHXBMXNKOYIBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SOLUNJPVPZJLOM-UHFFFAOYSA-N trizinc;distiborate Chemical compound [Zn+2].[Zn+2].[Zn+2].[O-][Sb]([O-])([O-])=O.[O-][Sb]([O-])([O-])=O SOLUNJPVPZJLOM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 1
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 1
- 229910001928 zirconium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F290/00—Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers modified by introduction of aliphatic unsaturated end or side groups
- C08F290/08—Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers modified by introduction of aliphatic unsaturated end or side groups on to polymers modified by introduction of unsaturated side groups
- C08F290/14—Polymers provided for in subclass C08G
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B27/00—Layered products comprising a layer of synthetic resin
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J7/00—Chemical treatment or coating of shaped articles made of macromolecular substances
- C08J7/04—Coating
- C08J7/043—Improving the adhesiveness of the coatings per se, e.g. forming primers
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B27/00—Layered products comprising a layer of synthetic resin
- B32B27/16—Layered products comprising a layer of synthetic resin specially treated, e.g. irradiated
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B27/00—Layered products comprising a layer of synthetic resin
- B32B27/18—Layered products comprising a layer of synthetic resin characterised by the use of special additives
- B32B27/20—Layered products comprising a layer of synthetic resin characterised by the use of special additives using fillers, pigments, thixotroping agents
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B27/00—Layered products comprising a layer of synthetic resin
- B32B27/30—Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising vinyl (co)polymers; comprising acrylic (co)polymers
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F2/00—Processes of polymerisation
- C08F2/44—Polymerisation in the presence of compounding ingredients, e.g. plasticisers, dyestuffs, fillers
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F2/00—Processes of polymerisation
- C08F2/46—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation
- C08F2/48—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light
- C08F2/50—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light with sensitising agents
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J7/00—Chemical treatment or coating of shaped articles made of macromolecular substances
- C08J7/04—Coating
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J7/00—Chemical treatment or coating of shaped articles made of macromolecular substances
- C08J7/04—Coating
- C08J7/046—Forming abrasion-resistant coatings; Forming surface-hardening coatings
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/09—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Structural Engineering (AREA)
- Architecture (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
- Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
- Coating Of Shaped Articles Made Of Macromolecular Substances (AREA)
- Polymerisation Methods In General (AREA)
- Macromonomer-Based Addition Polymer (AREA)
Abstract
2관능 이상의 다관능 (메타)아크릴레이트와, 폴리로탁산과, 실리카 입자와, 광중합 개시제를 함유하고,
상기 다관능 (메타)아크릴레이트의 함유량을 X질량부, 상기 폴리로탁산의 함유량을 Y질량부, 상기 실리카 입자의 함유량을 Z질량부로 했을 때에 하기 식(1)∼(4)의 관계를 모두 충족시키는, 광경화성 수지 조성물.
식(1) : X+Y+Z=100
식(2) : X≥50
식(3) : 3≤Y≤20
식(4) : 25≤Z≤40(Meth) acrylate having two or more functional groups, a polyrotaxane, silica particles, and a photopolymerization initiator,
(1) to (4), when the content of the polyfunctional (meth) acrylate is X parts by mass, the content of the polyrotaxane is Y parts by mass and the content of the silica particles is Z parts by mass Wherein the photo-curable resin composition satisfies the following conditions.
(1): X + Y + Z = 100
Equation (2): X? 50
(3): 3? Y? 20
Equation (4): 25? Z? 40
Description
본 발명은 광경화성 수지 조성물, 이것을 이용하는 경화막의 제조 방법 및 당해 경화막을 포함하는 적층체에 관한 것이다.The present invention relates to a photo-curing resin composition, a process for producing a cured film using the same, and a laminate including the cured film.
투명 기재(基材) 필름에 하드 코팅층을 형성하기 위한 광경화성 수지 조성물로서는, 예를 들면, 2관능 이상의 다관능 (메타)아크릴레이트와 폴리로탁산과 광중합 개시제를 포함하는 광경화성 수지 조성물이 알려져 있었다(특허문헌 1).As a photocurable resin composition for forming a hard coating layer on a transparent base film, for example, a photocurable resin composition comprising a bifunctional or higher polyfunctional (meth) acrylate and a polyrotaxane and a photopolymerization initiator is known (Patent Document 1).
상기 특허문헌 1에 기재된 광경화성 수지 조성물은, 얻어지는 경화막의 표면 경도(연필 경도)가 반드시 충분히 만족할 수 있는 것은 아니었다.In the photo-curing resin composition described in
본 발명은 이하의 〔1〕∼〔5〕에 기재된 발명을 포함한다.The present invention includes the inventions described in the following [1] to [5].
〔1〕 2관능 이상의 다관능 (메타)아크릴레이트와, 폴리로탁산과, 실리카 입자와, 광중합 개시제를 함유하고, 상기 다관능 (메타)아크릴레이트의 함유량을 X질량부, 상기 폴리로탁산의 함유량을 Y질량부, 상기 실리카 입자의 함유량을 Z질량부로 했을 때에 하기 식(1)∼(4)의 관계를 모두 충족시키는, 광경화성 수지 조성물.(1) A photopolymerizable composition comprising a polyfunctional (meth) acrylate having at least two functional groups, a polyrotaxane, silica particles and a photopolymerization initiator, wherein the content of the polyfunctional (meth) acrylate is X parts by mass, Satisfies the following expressions (1) to (4) when the content is Y mass part and the content of the silica particles is Z mass part.
식(1) : X+Y+Z=100(1): X + Y + Z = 100
식(2) : X≥50Equation (2): X? 50
식(3) : 3≤Y≤20(3): 3? Y? 20
식(4) : 25≤Z≤40Equation (4): 25? Z? 40
〔2〕 상기 폴리로탁산이 (메타)아크릴로일기를 갖는, 〔1〕기재의 광경화성 수지 조성물.[2] The photocurable resin composition according to [1], wherein the polyrotaxane has a (meth) acryloyl group.
〔3〕 〔1〕 또는 〔2〕기재의 광경화성 수지 조성물을 기재 상에 도포하여 조성물층을 얻는 공정과, 상기 조성물층에 노광하여 상기 조성물층을 경화시키는 공정을 포함하는 경화막의 제조 방법.[3] A process for producing a cured film, comprising the step of applying the photo-curable resin composition according to [1] or [2] on a substrate to obtain a composition layer, and a step of exposing the composition layer to cure the composition layer.
〔4〕 기재와, 상기 기재의 적어도 일방의 면에 적층된 경화막을 구비하고, 상기 경화막이 〔1〕 또는 〔2〕기재의 광경화성 수지 조성물의 경화물을 포함하는, 적층체.[4] A laminate comprising a substrate and a cured film laminated on at least one side of the substrate, wherein the cured film comprises a cured product of the photo-curable resin composition according to [1] or [2].
〔5〕 상기 기재가 다층 구조인 〔4〕기재의 적층체.[5] A laminate according to [4], wherein the substrate has a multilayer structure.
〔6〕 상기 기재가 (메타)아크릴 수지를 포함하는 〔4〕 또는 〔5〕기재의 적층체.[6] A laminate according to [4] or [5], wherein the substrate comprises a (meth) acrylic resin.
〔7〕 〔5〕 또는 〔6〕기재의 적층체를 구비하는 표시 장치.[7] A display device comprising a laminate according to [5] or [6].
본 발명의 광경화성 수지 조성물을 이용하면, 충분한 표면 경도를 가지고 또한 외관이 양호한 경화막이 얻어진다.When the photo-curable resin composition of the present invention is used, a cured film having sufficient surface hardness and excellent appearance can be obtained.
도 1은, 적층체의 층 구성례를 모식적으로 나타내는 단면도이다.
도 2는, 표시 장치의 제 1의 층 구성례를 모식적으로 나타내는 단면도이다.
도 3은, 표시 장치의 제 2의 층 구성례를 모식적으로 나타내는 단면도이다.BRIEF DESCRIPTION OF DRAWINGS FIG. 1 is a cross-sectional view schematically showing a layer constitution example of a laminate. FIG.
2 is a cross-sectional view schematically showing a first layer constitution example of a display device.
3 is a cross-sectional view schematically showing a second layer constitution example of the display device.
이하, 본 발명의 적합한 실시형태에 대하여 상세하게 설명한다. 본 명세서 중, 「(메타)아크릴레이트」란 아크릴레이트와 메타크릴레이트의 총칭을 나타내고, 「(메타)아크릴로일기」란 아크릴로일기와 메타크릴로일기의 총칭을 나타내며, 「(메타)아크릴 수지」란 아크릴 수지와 메타크릴 수지의 총칭을 나타낸다.Hereinafter, a preferred embodiment of the present invention will be described in detail. In the present specification, the term "(meth) acrylate" refers to the generic name of acrylate and methacrylate, and the term "(meth) acryloyl group" refers to the generic name of acryloyl group and methacryloyl group, Resin " refers to the generic name of an acrylic resin and a methacrylic resin.
[광경화성 수지 조성물][Photocurable resin composition]
본 실시형태의 광경화성 수지 조성물은, 2관능 이상의 다관능 (메타)아크릴레이트와, 폴리로탁산과, 실리카 입자와, 광중합 개시제를 함유한다.The photo-curing resin composition of the present embodiment contains a polyfunctional (meth) acrylate having two or more functional groups, a polyrotaxane, silica particles, and a photopolymerization initiator.
2관능 이상의 다관능 (메타)아크릴레이트로서는, 예를 들면 1,4-부탄디올디(메타)아크릴레이트, 1,6-헥산디올디(메타)아크릴레이트, 네오펜틸글리콜디(메타)아크릴레이트, 에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 트리에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 트리프로필렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 디프로필렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 3-메틸펜탄디올디(메타)아크릴레이트, 디에틸렌글리콜비스β-(메타)아크릴로일옥시프로피네이트, 트리메틸올에탄트리(메타)아크릴레이트, 트리메틸올프로판트리(메타)아크릴레이트, 펜타에리스리톨트리(메타)아크릴레이트, 디펜타에리스리톨헥사(메타)아크릴레이트, 트리(2-히드록시에틸)이소시아네이트디(메타)아크릴레이트, 펜타에리스리톨테트라(메타)아크릴레이트, 2,3-비스(메타)아크릴로일옥시에틸옥시메틸[2.2.1]헵탄, 폴리1,2-부타디엔디(메타)아크릴레이트, 1,2-비스(메타)아크릴로일옥시메틸헥산, 노나에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 테트라데칸에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 10-데칸디올(메타)아크릴레이트, 3,8-비스(메타)아크릴로일옥시메틸트리시클로[5.2.10]데칸, 수소 첨가 비스페놀A 디(메타)아크릴레이트, 2,2-비스(4-(메타)아크릴로일옥시디에톡시페닐)프로판, 1,4-비스((메타)아크릴로일옥시메틸)시클로헥산, 히드록시피발산 에스테르네오펜틸글리콜디(메타)아크릴레이트, 비스페놀A 디글리시딜에테르디(메타)아크릴레이트, 에폭시 변성 비스페놀A 디(메타)아크릴레이트 등을 들 수 있다.Examples of the bifunctional or higher polyfunctional (meth) acrylate include 1,4-butanediol di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) Acrylates such as ethylene glycol di (meth) acrylate, triethylene glycol di (meth) acrylate, tripropylene glycol di (meth) acrylate, dipropylene glycol di , Diethylene glycol bis [beta] - (meth) acryloyloxypropionate, trimethylol ethane tri (meth) acrylate, trimethylol propane tri (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (Meth) acrylate, tri (2-hydroxyethyl) isocyanate di (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, 2,3-bis (meth) acryloyloxyethyloxymethyl [ ] (Meth) acrylates such as heptane,
<폴리로탁산>≪ Polylotaxan >
폴리로탁산은, 복수의 환상(環狀) 분자의 개구부가 직쇄상 분자에 의해 꼬치 형상으로 관통되고, 복수의 환상 분자가 직쇄상 분자를 포접(包接)하여 이루어지는 유사 폴리로탁산의 양 말단(직쇄상 분자의 양 말단)에, 환상 분자가 유리되지 않도록 블록기를 배치하여 이루어진다.The polyrotaxane is a polyrotaxane which has openings of a plurality of ring-shaped molecules skewered by linear molecules, and both ends of a similar polyrotaxane in which a plurality of cyclic molecules are enclosed in a linear molecule (Both ends of the linear molecule), a block group is arranged so that the cyclic molecule is not liberated.
(직쇄상 분자)(Linear molecule)
폴리로탁산에 포함되는 직쇄상 분자는, 환상 분자에 포접되고, 비공유결합적으로 일체화할 수 있는 분자 또는 물질로서, 직쇄상의 것이면, 특별히 한정되지 않는다. 또한, 본 명세서에 있어서, 「직쇄상 분자」란, 고분자를 포함하는 분자 및 기타 상기의 요건을 충족시키는 모든 물질을 말한다. 또한, 본 명세서에 있어서, 「직쇄상 분자」의 「직쇄」는 실질적으로 「직쇄」인 것을 의미한다. 즉, 회전자인 환상 분자가 회전 가능, 또는 직쇄상 분자 상에서 환상 분자가 슬라이딩 또는 이동 가능하면, 직쇄상 분자는 분기쇄를 갖고 있어도 된다. 또한, 「직쇄」의 길이는, 직쇄상 분자 상에서 환상 분자가 슬라이딩 또는 이동 가능하면, 그 길이에 특별히 제한은 없다.The straight chain molecule contained in the polyrotaxane is a molecule or substance which is embedded in the cyclic molecule and can be ununohydrobondically integrated, and is not particularly limited as long as it is a straight chain. In the present specification, the term " linear molecule " refers to a molecule including a polymer and all other materials that satisfy the above requirements. In the present specification, the term "linear chain" of "linear molecule" means substantially "linear chain". That is, when the cyclic molecule, which is a rotor, is rotatable, or the cyclic molecule is slidable or movable on the linear molecule, the linear molecule may have a branched chain. The length of the " linear chain " is not particularly limited as long as the cyclic molecule can slide or move on the linear molecule.
직쇄상 분자로서는, 예를 들면. 폴리비닐알코올, 폴리비닐피롤리돈, 폴리(메타)아크릴산, 셀룰로오스계 수지(카르복시메틸셀룰로오스, 히드록시에틸셀룰로오스, 히드록시프로필셀룰로오스 등), 폴리아크릴아미드, 폴리에틸렌옥사이드, 폴리에틸렌글리콜, 폴리비닐아세탈계 수지, 폴리비닐메틸에테르, 폴리아민, 폴리에틸렌이민, 카제인, 젤라틴, 전분, 또는 이들의 공중합체 등의 친수성 폴리머; 폴리올레핀계 수지(폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 기타 올레핀계 단량체와의 공중합 수지 등), 폴리에스테르 수지, 폴리염화비닐 수지, 폴리스티렌계 수지(폴리스티렌, 아크릴로니트릴-스티렌 공중합 수지 등), 아크릴계 수지(폴리메틸메타크릴레이트, (메타)아크릴산 에스테르 공중합체, 아크릴로니트릴-메틸아크릴레이트 공중합 수지 등), 폴리카보네이트 수지, 폴리우레탄 수지, 염화비닐-아세트산비닐 공중합 수지, 폴리비닐부티랄 수지 등의 소수성 폴리머; 및 이들의 유도체 또는 변성체를 들 수 있다.As the linear molecule, for example, Polyvinyl alcohol, polyvinyl pyrrolidone, poly (meth) acrylic acid, cellulose resin (carboxymethylcellulose, hydroxyethylcellulose, hydroxypropylcellulose and the like), polyacrylamide, polyethylene oxide, polyethylene glycol, polyvinyl acetal Hydrophilic polymers such as resin, polyvinyl methyl ether, polyamine, polyethyleneimine, casein, gelatin, starch, and copolymers thereof; (Polystyrene, acrylonitrile-styrene copolymer resin, etc.), acrylic resin (such as polymethyl methacrylate), polyolefin resin (polyethylene, polypropylene and other copolymer resins with olefinic monomers), polyester resin, polyvinyl chloride resin, polystyrene resin (Meth) acrylate copolymer, acrylonitrile-methyl acrylate copolymer resin, etc.), hydrophobic polymers such as polycarbonate resin, polyurethane resin, vinyl chloride-vinyl acetate copolymer resin and polyvinyl butyral resin; And derivatives or modified products thereof.
친수성 폴리머 중에서는, 폴리에틸렌글리콜, 폴리프로필렌글리콜 및 폴리에틸렌글리콜과 폴리프로필렌글리콜의 공중합체가 바람직하다. 소수성 폴리머 중에서는, 폴리이소프렌, 폴리이소부틸렌, 폴리부타디엔, 폴리테트라히드로푸란, 폴리디메틸실록산, 폴리에틸렌 및 폴리프로필렌이 바람직하다. 직쇄상 분자로서는 친수성 폴리머가 보다 바람직하고, 폴리에틸렌글리콜이 더 바람직하다.Among the hydrophilic polymers, polyethylene glycol, polypropylene glycol, and copolymers of polyethylene glycol and polypropylene glycol are preferred. Among the hydrophobic polymers, polyisoprene, polyisobutylene, polybutadiene, polytetrahydrofuran, polydimethylsiloxane, polyethylene and polypropylene are preferred. As the linear molecule, a hydrophilic polymer is more preferable, and polyethylene glycol is more preferable.
직쇄상 분자는 그 분자량이 1,000 이상, 예를 들면 1,000∼1,000,000, 바람직하게는 5,000 이상, 예를 들면 5,000∼1,000,000 또는 5,000∼500,000, 보다 바람직하게는 10,000 이상, 예를 들면 10,000∼1,000,000, 10,000∼500,000 또는 10,000∼300,000인 것이 좋다. 또한, 직쇄상 분자가 생분해성 분자이면, 환경에 대한 부하가 적어, 「친환경(에코로지컬)」인 점에서 바람직하다.The linear molecule has a molecular weight of 1,000 or more, such as 1,000 to 1,000,000, preferably 5,000 or more, such as 5,000 to 1,000,000 or 5,000 to 500,000, more preferably 10,000 or more, such as 10,000 to 1,000,000, 500,000 or 10,000 to 300,000. In addition, when the straight-chain molecule is a biodegradable molecule, the load on the environment is small, and it is preferable from the viewpoint of being "eco-logical".
직쇄상 분자는, 그 양 말단에 반응기를 갖는 것이 바람직하다. 이 반응기를 가짐으로써, 블록기와 용이하게 반응할 수 있다. 반응기는, 이용하는 블록기에 의존하나, 예를 들면 수산기, 아미노기, 카르복실기, 티올기 등을 들 수 있다.It is preferable that the linear molecule has a reactor at both ends thereof. By having this reactor, it is possible to easily react with the block group. The reactor depends on a block group to be used, and examples thereof include a hydroxyl group, an amino group, a carboxyl group and a thiol group.
(환상 분자)(Cyclic molecule)
환상 분자는, 상기 직쇄상 분자를 포접 가능한 환상 분자이면, 어느 환상 분자여도 이용할 수 있다.Any cyclic molecule can be used as long as the cyclic molecule can encapsulate the linear molecule.
또한, 본 명세서에 있어서, 「환상 분자」란, 환상 분자를 포함한 다양한 환상 물질을 말한다. 또한, 본 명세서에 있어서, 「환상 분자」란, 실질적으로 환상인 분자 또는 물질을 말한다. 즉, 「실질적으로 환상이다」란, 영자의 「C」와 같이, 완전하게 폐환(閉環)이 아닌 것을 포함하는 뜻이고, 영자의 「C」의 일단과 다단이 결합하고 있지 않고 포개진 나선 구조를 갖는 것도 포함하는 뜻이다. 또한, 후술하는 「비시클로 분자」에 대한 환에 대해서도, 「환상 분자」의 「실질적으로 환상이다」와 동일하게 정의할 수 있다. 즉, 「비시클로 분자」의 일방의 환 또는 쌍방의 환은, 영자의 「C」와 같이, 완전하게 폐환이 아닌 것이어도 되고, 영자의 「C」의 일단과 타단이 결합하고 있지 않고 포개진 나선 구조를 갖는 것이어도 된다.In the present specification, the term " cyclic molecule " refers to various cyclic molecules including cyclic molecules. In the present specification, the term " cyclic molecule " refers to a molecule or substance that is substantially cyclic. In other words, the phrase " substantially phantom " means that the word " C " is not completely closed, such as " C " It is also meant to include having. In addition, the ring to the "bicyclo molecule" to be described later can also be defined in the same way as "substantially cyclic" of "cyclic molecule". In other words, one ring or both rings of the " bicyclo molecule " may be a ring that is not completely ring closed, such as " C " Structure.
환상 분자로서, 예를 들면, 다양한 시클로덱스트린류(예를 들면 α-시클로덱스트린, β-시클로덱스트린, γ-시클로덱스트린, 디메틸시클로덱스트린 및 글루코실시클로덱스트린, 이들의 유도체 또는 변성체 등), 크라운에테르류, 벤조크라운류, 디벤조크라운류 및 디시클로헥사노크라운류, 및 이들의 유도체 또는 변성체를 들 수 있다.Examples of the cyclic molecule include various cyclodextrins (for example,? -Cyclodextrin,? -Cyclodextrin,? -Cyclodextrin, dimethylcyclodextrin and glucocododecyldextrin, derivatives or modified products thereof, etc.) Ethers, benzo crown, dibenzo crown and dicyclohexanone crown, and derivatives or modified products thereof.
상술한 시클로덱스트린류 및 크라운에테르류 등은, 그 종류에 따라 환상 분자의 개구부의 크기가 상이하다. 따라서, 이용하는 직쇄상 분자의 종류, 구체적으로는 이용하는 직쇄상 분자를 원기둥 형상이라고 판단한 경우, 그 원기둥의 단면의 직경, 직쇄상 분자의 소수성 또는 친수성 등에 따라, 이용하는 환상 분자를 선택할 수 있다. 또한, 개구부가 상대적으로 큰 환상 분자와, 상대적으로 직경이 작은 원기둥 형상의 직쇄상 분자를 이용한 경우, 환상 분자의 개구부에 2 이상의 직쇄상 분자를 포접할 수도 있다. 이 중, 시클로덱스트린류는 생분해성을 갖기 때문에, 상술한 「친환경」인 점에서 바람직하다.The above-mentioned cyclodextrins, crown ethers and the like have different sizes of the opening portions of the cyclic molecules depending on their types. Therefore, when the type of the linear molecule to be used, specifically, the linear molecule used is determined to be a cylindrical shape, the cyclic molecule to be used can be selected depending on the diameter of the cross-section of the cylindrical shape, the hydrophobicity or hydrophilicity of the linear molecule, Further, in the case of using a linear molecule having a relatively large diameter and a relatively small diameter of an annular molecule having a relatively large opening, two or more linear molecules may be encapsulated in the opening of the cyclic molecule. Of these, cyclodextrins are biodegradable, and thus are preferred from the viewpoint of being environmentally friendly.
환상 분자로서 α-시클로덱스트린을 이용하는 것이 바람직하다.It is preferable to use alpha -cyclodextrin as the cyclic molecule.
직쇄상 분자를 포접하는 환상 분자의 개수(포접량)는, 환상 분자가 시클로덱스트린인 경우, 그 최대 포접량을 1로 하면 0.05∼0.60이 바람직하고, 0.10∼0.50이 더 바람직하고, 0.20∼0.40이 더 바람직하다. 0.05 미만에서는 도르래 효과가 발현되지 않는 경우가 있고, 0.60을 초과하면, 환상 분자인 시클로덱스트린이 너무 조밀하게 배치되어 시클로덱스트린의 가동성이 저하하는 경우가 있고, 또한 시클로덱스트린 자체의 유기 용제에 대한 비용해성이 강화되어버려, 얻어지는 폴리로탁산의 유기 용제에 대한 용해성도 저하하는 경우가 있다.When the cyclic molecule is cyclodextrin, the number (cyclic amount) of the cyclic molecule encapsulating the linear molecule is preferably 0.05 to 0.60, more preferably 0.10 to 0.50, and more preferably 0.20 to 0.40 Is more preferable. If it is less than 0.05, the pulley effect may not be exhibited. If it exceeds 0.60, the cyclodextrin, which is a cyclic molecule, may be arranged too tightly to lower the movability of the cyclodextrin, and the cost of the organic solvent of the cyclodextrin itself The solubility of the resulting polyrotaxane in an organic solvent may be lowered.
환상 분자는 그 환의 외측에 반응기를 갖는 것이 바람직하다. 환상 분자끼리를 결합 또는 가교할 때, 이 반응기를 이용하여 용이하게 반응을 행할 수 있다. 반응기는, 이용하는 가교제 등에도 의존하나, 예를 들면 수산기, 아미노기, 카르복실기, 티올기, 알데히드기 등을 들 수 있다. 또한, 직쇄상 분자와 블록기의 반응(블록화 반응) 시에 블록기와 반응하지 않는 기를 이용하는 것이 좋다.It is preferred that the cyclic molecule has a reactor outside the ring. When the cyclic molecules are bonded or crosslinked to each other, the reaction can be easily carried out using this reactor. The reactor is also dependent on the crosslinking agent and the like to be used, and examples thereof include a hydroxyl group, an amino group, a carboxyl group, a thiol group and an aldehyde group. It is also preferable to use a group which does not react with the block group at the time of the reaction (blocking reaction) between the linear molecule and the blocking group.
(블록기) (Block group)
블록기는, 환상 분자가 직쇄상 분자에 의해 꼬치 형상이 된 형태를 보지(保持)하는 기이면, 어떠한 기를 이용해도 된다. 이와 같은 기로서, 예를 들면 「큰 부피」를 갖는 기 및/또는 「이온성」을 갖는 기 등을 들 수 있다. 여기서, 「기」라는 것은, 분자기 및 고분자기를 포함한 다양한 기를 의미한다. 또한, 「이온성」을 갖는 기의 「이온성」과, 환상 분자가 갖는 「이온성」이 서로 영향을 줌으로써, 예를 들면 서로 반발함으로써, 환상 분자가 직쇄상 분자에 의해 꼬치 형상이 된 형태를 보지할 수 있다.The block group may be any group as far as the cyclic molecule is a group that retains a skewed shape by the linear molecule. Examples of such groups include groups having a " large volume " and / or groups having " ionic ". Here, the term " group " means various groups including a polar group and a polymer group. Further, the "ionic" of the group having "ionic" and the "ionic" possessed by the cyclic molecule mutually affect each other, for example, by repelling each other, whereby the cyclic molecule becomes a skewer- Can be seen.
또한, 블록기는, 상술과 같이, 꼬치 형상이 된 형태를 보지하는 것이면, 고분자의 주쇄여도 되고 측쇄여도 된다. 블록기가 고분자 A인 경우, 매트릭스로서 고분자 A가 있고 그 일부에 본 실시형태에 관련된 화합물(폴리로탁산)이 포함되는 형태여도 되고, 반대로 매트릭스로서 본 실시형태에 관련된 화합물이 있고 그 일부에 고분자 A가 포함되는 형태여도 된다. 이와 같이, 다양한 특성을 갖는 고분자 A와 조합함으로써, 본 실시형태에 관련된 화합물의 특성과 고분자 A의 특성을 조합하여 갖는 복합 재료를 형성할 수 있다.The block group may be a main chain or a side chain of the polymer as long as it has a skewer shape as described above. In the case where the block group is the polymer A, the polymer A may be present as a matrix and the compound (polyrotaxane) according to the present embodiment may be contained in a part thereof. Conversely, a compound related to the present embodiment may be contained as a matrix. May be included. Thus, by combining with the polymer A having various properties, a composite material having a combination of the characteristics of the compound related to the present embodiment and the characteristics of the polymer A can be formed.
구체적으로는, 분자기의 블록기로서, 2,4-디니트로페닐기, 3,5-디니트로페닐기 등의 디니트로페닐기류, 시클로덱스트린류, 아다만탄기류, 트리틸기류, 플루오레세인류 및 피렌류, 및 이들의 유도체 또는 변성체를 들 수 있다. 보다 구체적으로는, 예를 들면, 환상 분자로서 α-시클로덱스트린 및 직쇄상 분자로서 폴리에틸렌글리콜을 이용하는 경우의 블록기로서, 시클로덱스트린류, 2,4-디니트로페닐기, 3,5-디니트로페닐기 등의 디니트로페닐기류, 아다만탄기류, 트리틸기류, 플루오레세인류 및 피렌류, 및 이들의 유도체 또는 변성체를 들 수 있다.Specific examples of the block copolymer of the present invention include block copolymers of a dinitrophenyl group such as a 2,4-dinitrophenyl group and a 3,5-dinitrophenyl group, a cyclodextrin group, an adamantane group, a trityl group, Pyrenes, and derivatives or modified products thereof. More specifically, for example, as a block group in the case of using alpha -cyclodextrin as the cyclic molecule and polyethylene glycol as the linear molecule, a cyclodextrin, a 2,4-dinitrophenyl group, a 3,5-dinitrophenyl group , Adamantane gas streams, trityl gas streams, fluororesins and pyrenes, and derivatives or modified products thereof.
다음에, 본 실시형태의 광경화성 수지 조성물에 바람직하게 이용할 수 있는 변성 폴리로탁산에 대하여 설명한다. 본 실시형태에서는 이하에 설명하는 변성을 복수 병용한 폴리로탁산을 바람직하게 이용할 수 있다.Next, modified polyrotaxane which can be preferably used in the photo-curable resin composition of the present embodiment will be described. In the present embodiment, polyrotaxane having a plurality of modifications described below in combination is preferably used.
<가교 폴리로탁산>≪ Crosslinked polyrotaxane >
가교 폴리로탁산은, 2개 이상의 폴리로탁산이 그 환상 분자끼리가 화학 결합되어 있는 화합물을 말하고, 이 2개의 환상 분자는 동일해도 되고 상이해도 된다. 이 때, 화학 결합은 단순한 결합이여도 되고, 다양한 원자 또는 분자를 개재한 결합이어도 된다.The crosslinked polyrotaxane refers to a compound in which two or more polyrotaxanes are chemically bonded to each other and the two cyclic molecules may be the same or different. In this case, the chemical bond may be a simple bond or a bond containing various atoms or molecules.
또한 환상 분자가 가교환 구조를 갖는 분자, 즉 제 1 및 제 2 환을 갖는 「비시클로 분자」를 이용할 수 있다. 이 경우, 예를 들면 「비시클로 분자」와 직쇄상 분자를 혼합하고, 「비시클로 분자」의 제 1 환 및 제 2 환에 직쇄상 분자를 꼬치 형상으로 포접하여 가교 폴리로탁산을 얻을 수 있다.Also, a " bicyclo molecule " having a molecule having a cyclic ring structure, that is, a first and a second ring can be used. In this case, for example, a cross-linked polyrotaxane can be obtained by mixing a "bicyclo molecule" with a straight-chain molecule and skewing the straight-chain molecule in the first and second rings of the "bicyclo molecule" .
이 가교 폴리로탁산은 직쇄상 분자에 꼬치 형상으로 관통되어 있는 환상 분자가 당해 직쇄상을 따라 이동 가능하기 때문에(도르래 효과), 점탄성을 가지고, 장력이 가해져도, 이 도르래 효과에 의해 당해 장력을 균일하게 분산시켜, 내부 응력을 완화할 수 있다.This crosslinked polyrotaxane has viscoelasticity because the cyclic molecule penetrating the straight chain molecule in a skewered manner can move along the straight line (pulley effect), and even if the tension is applied, the tension due to the shearing effect It is possible to disperse them uniformly and to relax the internal stress.
<소수화 수식 폴리로탁산>≪ Hydrophobic formula polyrotaxane >
폴리로탁산의 환상 분자가 α-시클로덱스트린 등의 시클로덱스트린류인 경우, 본 실시형태에서는 시클로덱스트린의 수산기의 적어도 하나가 다른 유기기(소수기)에 의해 치환된 소수화 수식 폴리로탁산은, 도막 형성 조성물에 포함되는 용제에 대한 용해성이 향상하기 때문에, 더 바람직하게 이용된다.When the cyclic molecule of polyrotaxane is a cyclodextrin such as alpha -cyclodextrin, the hydrophobic modified polyrotaxane in which at least one of the hydroxyl groups of the cyclodextrin is replaced by another organic group (hydrophobic group) in the present embodiment, Since the solubility in a solvent contained in the solvent is improved.
소수기의 구체예로서, 예를 들면 알킬기, 벤질기, 벤젠 유도체 함유기, 아실기, 실릴기, 트리틸기, 질산 에스테르기, 토실기, 광경화 부위로서 알킬 치환 에틸렌성 불포화기, 열경화 부위로서 알킬 치환 에폭시기 등을 들 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. 또한, 상기의 소수성 수식 폴리로탁산에 있어서는, 상술한 소수기의 1종을 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 갖고 있어도 된다.Specific examples of the hydrophobic group include, for example, an alkyl group, a benzyl group, a benzene derivative-containing group, an acyl group, a silyl group, a trityl group, a nitrate ester group, a tosyl group, an alkyl-substituted ethylenic unsaturated group as a photo- Alkyl-substituted epoxy groups, and the like, but are not limited thereto. In the above hydrophobic-modified polyrotaxane, one of the above-mentioned hydrophobic groups may be used alone or two or more of them may be used in combination.
상기 소수기에 따른 수식도는, 시클로덱스트린의 수산기가 수식될 수 있는 최대수를 1로 하면, 0.02 이상인 것이 바람직하고, 0.04 이상인 것이 보다 바람직하며, 0.06 이상인 것이 더 바람직하다.When the maximum number by which the hydroxyl group of the cyclodextrin can be modified is 1, it is preferably 0.02 or more, more preferably 0.04 or more, and still more preferably 0.06 or more.
0.02 미만이면, 유기 용제에 대한 용해성이 충분한 것이 되지 않아, 불용성물(이물 부착 등에 유래하는 돌기부)이 생성되는 경우가 있다.If it is less than 0.02, solubility in an organic solvent is not sufficient, and insoluble water (protruding portion derived from foreign matter adhesion, etc.) may be produced.
여기서, 시클로덱스트린의 수산기가 수식될 수 있는 최대수란, 바꿔 말하면, 수식하기 전에 시클로덱스트린이 가지고 있었던 전체 수산기수이다. 수식도란, 바꿔 말하면, 수식된 수산기수의 전체 수산기수에 대한 비이다.Here, the maximum number of the hydroxyl groups of the cyclodextrin to which the cyclodextrin can be modified is in other words, the total number of the hydroxyl groups contained in the cyclodextrin before the modification. The formula is, in other words, the ratio of the modified number of hydroxyl groups to the total number of hydroxyl groups.
또한, 소수기는 적어도 1개이면 되지만, 그 경우, 시클로덱스트린환 1개에 대하여 1개의 소수기를 갖는 것이 바람직하다. 또한, 관능기를 갖고 있는 소수기를 도입함으로써, 다른 폴리머와의 반응성을 향상시키는 것이 가능해진다.In addition, at least one of the hydrophobic groups may be present, but in this case, it is preferable that the hydrophobic group has one hydrophobic group per one cyclodextrin ring. Further, by introducing a hydrophobic group having a functional group, the reactivity with other polymers can be improved.
<불포화 이중 결합을 갖는 폴리로탁산>≪ Polyroctic acid having an unsaturated double bond >
환상 분자 상당 부분에 불포화 결합기를 도입할 수 있다. 이 기의 도입에 의해, 중합성 화합물과의 중합이 가능해진다.It is possible to introduce an unsaturated bonding group into a substantial portion of the cyclic molecule. By the introduction of this group, polymerization with the polymerizable compound becomes possible.
불포화 결합기의 도입은, 예를 들면, 시클로덱스트린 등의 수산기(-OH)를 갖는 환상 분자의 적어도 일부를 불포화 결합기, 바람직하게는 불포화 이중 결합기로 치환함으로써 행할 수 있다.The introduction of the unsaturated bond group can be carried out, for example, by substituting at least part of the cyclic molecule having a hydroxyl group (-OH) such as cyclodextrin with an unsaturated bond group, preferably an unsaturated double bond group.
불포화 결합기, 예를 들면 불포화 이중 결합기로서, 올레피닐기(올레핀성 이중 결합을 갖는 기)를 들 수 있고, 예를 들면 아크릴기, (메타)아크릴로일기, 비닐에테르기, 스티릴기 등을 들 수 있으나, 이에 한정되지 않는다.Examples of the unsaturated bond group, such as an unsaturated double bond group, include an olefinyl group (a group having an olefinic double bond), and examples thereof include an acryl group, a (meth) acryloyl group, a vinyl ether group, But is not limited thereto.
불포화 이중 결합기의 도입은, 다음에 드는 방법을 이용할 수 있다. 즉, 이소시아네이트 화합물 등에 의한 카르바메이트 결합 형성에 의한 방법; 카르본산 화합물, 산클로라이드 화합물 또는 산무수물 등에 의한 에스테르 결합 형성에 의한 방법; 실란 화합물 등에 의한 실릴에테르 결합 형성에 의한 방법; 클로로탄산 화합물 등에 의한 카보네이트 결합 형성에 의한 방법 등을 들 수 있다.As the introduction of the unsaturated double bond group, the following method can be used. That is, a method by carbamate bond formation by an isocyanate compound or the like; A method by formation of an ester bond with a carboxylic acid compound, an acid chloride compound or an acid anhydride; A method by formation of a silyl ether bond by a silane compound or the like; And a method of forming a carbonate bond by a chlorocarbonic acid compound or the like.
카르바모일 결합을 개재하여, 불포화 이중 결합기로서 (메타)아크릴로일기를 도입하는 경우, 폴리로탁산을 DMSO, DMF 등의 탈수 용매에 용해하고, 이소시아네이트기를 가지는 (메타)아크릴로일 시약을 첨가함으로써 행한다. 그 외, 에테르 결합이나 에스테르 결합을 개재하여 도입하는 경우, 글리시딜기나 산클로라이드 등의 활성기를 가지는 (메타)아크릴로일 시약을 이용할 수도 있다.When a (meth) acryloyl group is introduced as an unsaturated double bond group via a carbamoyl bond, the polyrotaxane is dissolved in a dehydrating solvent such as DMSO or DMF, and a (meth) acryloyl reagent having an isocyanate group is added . In addition, when introduced via an ether bond or an ester bond, a (meth) acryloyl reagent having an active group such as a glycidyl group or an acid chloride may be used.
환상 분자가 갖는 수산기를 불포화 이중 결합기로 치환하는 공정은, 유사 폴리로탁산을 조제하는 공정 전이어도, 공정 사이여도, 공정 후여도 된다. 또한, 유사 폴리로탁산을 블록화하여 폴리로탁산을 조제하는 공정 전이어도, 공정 사이여도, 공정 후여도 된다. 게다가, 폴리로탁산이 가교 폴리로탁산인 경우, 폴리로탁산끼리를 가교시키는 공정 전이어도, 공정 사이여도, 공정 후여도 된다. 이들의 2 이상의 시기에 마련할 수도 있다. 치환 공정은, 유사 폴리로탁산을 블록화하여 폴리로탁산을 조제한 후로서, 폴리로탁산끼리의 가교 전에 마련하는 것이 바람직하다. 치환 공정에 있어서 이용되는 조건은, 치환하는 불포화 이중 결합기에 의존하나, 특별히 한정되지 않고, 다양한 반응 방법, 반응 조건을 이용할 수 있다.The step of replacing the hydroxyl group of the cyclic molecule with the unsaturated double bond group may be carried out before or after the step of preparing the similar polyrotaxane. Further, the polyrotaxane may be blocked before or after the step of preparing the polyrotaxane by blocking the polyrotaxane. In addition, when the polyrotaxane is a crosslinked polyrotaxane, the polyrotaxane may be crosslinked before, during or after the step of crosslinking the polyrotaxanes. Or may be provided in two or more of these periods. The substitution step is preferably carried out after the polyrotaxane is prepared by blocking the polyrotaxane to form a polyrotaxane. The conditions used in the substitution process depend on the substituted unsaturated double bond group, but are not particularly limited and various reaction methods and reaction conditions can be used.
본 실시형태에서 이용하는 폴리로탁산은, 소수화 수식 폴리로탁산이 바람직하고, 불포화 이중 결합을 갖는 폴리로탁산이 보다 바람직하며, (메타)아크릴로일기를 갖는 폴리로탁산이 더 바람직하다.The polyrotaxane used in the present embodiment is preferably a hydrophobic modified polyrotaxane, more preferably a polyrotaxane having an unsaturated double bond, and more preferably a polyrotaxane having a (meth) acryloyl group.
이러한 (메타)아크릴로일기를 갖는 폴리로탁산으로서는, 어드밴스트·소프트 머티리얼즈 주식회사 제품의 SeRM(등록상표) 키·믹스처 SM3400C, SA3400C, SA2400C 등을 들 수 있다.Examples of the polyrotaxane having such a (meth) acryloyl group include SeRM (registered trademark) key mixers SM3400C, SA3400C and SA2400C manufactured by Advance Soft Materials Co., Ltd.
<실리카 입자><Silica Particle>
실리카 입자로서는 분체 실리카나, 실리카 입자가 용매에 분산된 오르가노실리카졸 등을 이용할 수 있다. 이러한 실리카 입자는 일반에게 시판되어 있다.As the silica particles, powdery silica or organosilica sol in which silica particles are dispersed in a solvent can be used. These silica particles are commercially available.
분체 실리카로서는, 아에로실(등록상표) 130, 아에로실(등록상표) 300, 아에로실(등록상표) 380, 아에로실(등록상표) TT600, 아에로실(등록상표) OX50 등(이상, 닛폰아에로실(주) 제품), SYLYSIA 470(후지실리시아(주) 제품), SG 프레이크(일본판유리(주) 제품) 등을 들 수 있다.Examples of the powdery silica include Aerosil (registered trademark) 130, Aerosil (registered trademark) 300, Aerosil (registered trademark) 380, Aerosil (registered trademark) TT600, Aerosil (Manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd.), SYLYSIA 470 (manufactured by Fuji Silysia Co., Ltd.) and SG Flake (manufactured by Nippon Sheet Glass Co., Ltd.).
오르가노실리카졸로서는, 이소프로필알코올 분산 실리카졸(IPA-ST, IPA-ST-L, IPA-ST-UP, IPA-ST-ZL), 메탄올 분산 실리카졸(MA-ST-M, MA-ST-L, MA-ST-ZL, MA-ST-UP), 디메틸아세트아미드 분산 실리카졸(DMAC-ST, DMAC-ST-ZL), 에틸렌글리콜 분산 실리카졸(EG-ST, EG-ST-ZL), 에틸렌글리콜모노 n-프로필에테르 분산 실리카졸(NPC-ST-30), 프로필렌글리콜모노메틸에테르 분산 실리카졸(PGM-ST), 아세트산 에틸 분산 실리카졸(EAC-ST), 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 분산 실리카졸(PMA-ST), 메틸에틸케톤 분산 실리카졸(MEK-ST, MEK-ST-40, MEK-ST-L, MEK-ST-ZL, MEK-ST-UP, MEK-AC-2104Z, MEK-AC-2130Y, MEK-AC-4130Y, MEK-AC-5140Z), 메틸이소부틸케톤 분산 실리카졸(MIBK-ST, MIBK-ST-L, MIBK-SD, MIBK-SD-L)(이상, 닛산화학공업(주) 제품), OSCAL(등록상표) 시리즈(닛키촉매화성(주) 제품) 등을 들 수 있다.Examples of the organosilica sol include isopropyl alcohol-dispersed silica sol (IPA-ST, IPA-ST-L, IPA-ST- ST-ZL), dimethyl acetamide-dispersed silica sol (DMAC-ST, DMAC-ST-ZL), ethylene glycol-dispersed silica sol (EG-ST, , Propylene glycol monomethyl ether dispersed silica sol (PGM-ST), ethyl acetate dispersed silica sol (EAC-ST), propylene glycol monomethyl ether acetate (NPC-ST-30), ethylene glycol mono n-propyl ether dispersion silica sol MEK-ST-L, MEK-ST-ZL, MEK-ST-UP, MEK-AC-2104Z, (MIBK-ST, MIBK-ST-L, MIBK-SD and MIBK-SD-L) (hereinafter referred to as " MEK-AC-2130Y, MEK- (Manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.) and OSCAL (registered trademark) series (manufactured by Nikkiso Catalysts Co., Ltd.).
실리카 입자의 입자경은 바람직하게는 평균 1차 입자경이 100㎚ 이하, 보다 바람직하게는 30㎚ 이하이다. 평균 1차 입자경이 100㎚를 초과하면, 얻어지는 도막의 투명성이 손상되는 경향이 있다.The average particle size of the silica particles is preferably 100 nm or less, more preferably 30 nm or less. If the average primary particle diameter exceeds 100 nm, the transparency of the obtained coating film tends to be impaired.
또한, 본 명세서 중, 실리카 입자의 평균 1차 입자경은, JIS Z 8828 동적 광산란법에 의해 측정되는 값을 나타낸다.In the present specification, the average primary particle diameter of the silica particles represents a value measured by the JIS Z 8828 dynamic light scattering method.
본 실시형태의 광경화성 수지 조성물은, 2관능 이상의 다관능 (메타)아크릴레이트의 함유량을 X질량부, 폴리로탁산의 함유량을 Y질량부, 실리카 입자의 함유량을 Z질량부로 했을 때에 하기 식(1)∼(4)의 관계를 모두 충족시킨다.The photo-curable resin composition of the present embodiment has a structure in which the content of polyfunctional (meth) acrylate having two or more functional groups is X parts by mass, the content of polyrotaxane is Y parts by mass, and the content of silica particles is Z parts by mass, 1) to (4).
식(1) : X+Y+Z=100(1): X + Y + Z = 100
식(2) : X≥50Equation (2): X? 50
식(3) : 3≤Y≤20(3): 3? Y? 20
식(4) : 25≤Z≤40Equation (4): 25? Z? 40
식(1) 및 식(2)는, 2관능 이상의 다관능 (메타)아크릴레이트와 폴리로탁산과 실리카 입자의 합계 100질량부에 대하여, 2관능 이상의 다관능 (메타)아크릴레이트의 함유량이 50질량부 이상인 것을 나타낸다. X가 50보다 작아질수록, 얻어지는 경화막의 표면 경도가 저하하는 경향이 있다. X는 70 이하인 것이 바람직하다. 식(2)는 식(2')인 것이 보다 바람직하다. X는 50보다 큰 것이 더 바람직하다.The formula (1) and the formula (2) show that the content of the polyfunctional (meth) acrylate having two or more functional groups is 50 (meth) acrylate based on the total 100 parts by mass of the bifunctional or more polyfunctional (meth) acrylate and the polyrotaxane and the silica particles. Mass part or more. As X becomes smaller than 50, the surface hardness of the resulting cured film tends to decrease. X is preferably 70 or less. It is more preferable that the formula (2) is the formula (2 '). More preferably, X is greater than 50.
식(2') : 50≤X≤70(2 '): 50? X? 70
식(1) 및 식(3)은, 2관능 이상의 다관능 (메타)아크릴레이트와 폴리로탁산과 실리카 입자의 합계 100질량부에 대하여, 폴리로탁산의 함유량이 3질량부 이상, 20질량부 이하인 것을 나타낸다. Y가 3보다 작아질수록, 얻어지는 경화막에 크랙이 생기기 쉬워져 외관이 손상되는 경향이 있다. Y가 20보다 커질수록, 얻어지는 경화막의 표면 경도가 저하하는 경향이 있다. 식(3)은 식(3')인 것이 바람직하다.The content of the polyrotaxane is 3 parts by mass or more and 20 parts by mass or less per 100 parts by mass of the total of the polyfunctional (meth) acrylate and the polyrotaxane and the silica particles, Or less. As Y becomes smaller than 3, cracks tend to occur in the resulting cured film, and appearance tends to be damaged. As Y becomes larger than 20, the surface hardness of the resulting cured film tends to decrease. The formula (3) is preferably the formula (3 ').
식(3') : 5≤Y≤15Formula (3 '): 5? Y? 15
식(1) 및 식(4)는, 2관능 이상의 다관능 (메타)아크릴레이트와 폴리로탁산과 실리카 입자의 합계 100질량부에 대하여, 실리카 입자가 25질량부 이상, 40질량부 이하인 것을 나타낸다. Z가 25보다 작아질수록, 얻어지는 경화막의 표면 경도가 저하하는 경향이 있다. Z가 40보다 커질수록, 얻어지는 경화막에 크랙이 생기기 쉬워져 외관이 손상되는 경향이 있다. 식(4)는 식(4')인 것이 바람직하다.The formulas (1) and (4) show that the silica particles are contained in an amount of 25 parts by mass or more and 40 parts by mass or less based on 100 parts by mass of the total amount of the polyfunctional (meth) acrylate and the polyrotaxane and the silica particles . As Z becomes smaller than 25, the surface hardness of the resulting cured film tends to decrease. As Z becomes larger than 40, cracks tend to occur in the resulting cured film, and appearance tends to be damaged. The formula (4) is preferably the formula (4 ').
식(4') : 25 <Z <40Equation (4 '): 25 < Z < 40
<광중합 개시제><Photopolymerization initiator>
광중합 개시제로서는, 자외선 흡수제의 존재하에 있어서 광조사에 의해 광중합 개시능을 발현할 수 있는 중합개시제가 바람직하고, 예를 들면 아세토페논, 아세토페논벤질케탈, 안트라퀴논, 1-(4-이소프로필페닐-2-히드록시-2-메틸프로판-1-온, 카르바졸, 크산톤, 4-클로로벤조페논, 4,4'-디아미노벤조페논, 1,1-디메톡시데옥시벤조인, 3,3'-디메틸-4-메톡시벤조페논, 티오크산톤, 2,2-디메톡시-2-페닐아세토페논, 1-(4-도데실페닐)-2-히드록시-2-메틸프로판-1-온, 2-메틸-1-〔4-(메틸티오)페닐〕-2-모르폴리노프로판-1-온, 트리페닐아민, 2,4,6-트리메틸벤조일디페닐포스핀옥사이드, 1-히드록시시클로헥실페닐케톤, 2-히드록시-2-메틸-1-페닐프로판-1-온, 플루오렌온, 플루오렌, 벤즈알데히드, 벤조인에틸에테르, 벤조이소프로필에테르, 벤조페논, 미힐러케톤, 3-메틸아세토페논, 3,3',4,4'-테트라-tert-부틸퍼옥시카르보닐벤조페논(BTTB), 2-(디메틸아미노)-1-〔4-(모르폴린일)페닐〕-2-(페닐메틸)-1-부탄온, 4-벤조일-4'-메틸디페닐술파이드, 벤질 등을 들 수 있다.As the photopolymerization initiator, a polymerization initiator capable of exhibiting photopolymerization initiating ability by light irradiation in the presence of an ultraviolet absorber is preferable, and examples thereof include acetophenone, acetophenone benzylketal, anthraquinone, 1- (4-isopropylphenyl 2-methylpropane-1-one, carbazole, xanthone, 4-chlorobenzophenone, 4,4'-diaminobenzophenone, 1,1- dimethoxydeoxybenzoin, Dimethyl-4-methoxybenzophenone, thioxanthone, 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone, 1- (4-dodecylphenyl) -2-hydroxy- Methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholinopropane-1-one, triphenylamine, 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide, 1- Hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, fluorene, fluorene, benzaldehyde, benzoin ethyl ether, benzoisopropyl ether, benzophenone, , 3-methylaceto Phenanone, 3,3 ', 4,4'-tetra-tert-butylperoxycarbonylbenzophenone (BTTB), 2- (dimethylamino) -1- [4- (morpholinyl) Phenylmethyl) -1-butanone, 4-benzoyl-4'-methyldiphenylsulfide, benzyl and the like.
광중합 개시제의 함유량은, 2관능 이상의 다관능 (메타)아크릴레이트와 폴리로탁산과 실리카 입자의 합계 100질량부에 대하여, 바람직하게는 1∼15질량부, 보다 바람직하게는 2∼10질량부이다. 광중합 개시제의 함유량이 상기의 범위보다 많은 경우, 광중합 개시에 사용되지 않은 광중합 개시제가 잔존하여, 가시광선 투과율이 저하하는 등의 폐해가 생길 우려가 있다. 한편, 상기의 범위보다 적은 경우, 광중합 개시능이 충분하게 발현되지 않아, 자외선 경화형 수지의 경화가 불충분해질 우려가 있다.The content of the photopolymerization initiator is preferably 1 to 15 parts by mass, more preferably 2 to 10 parts by mass, based on 100 parts by mass of the sum of the bifunctional or higher functional polyfunctional (meth) acrylate and the polyrotaxane and the silica particles . If the content of the photopolymerization initiator is larger than the above range, a photopolymerization initiator which is not used for photopolymerization initiation may remain, which may cause harmful effects such as lowering of the visible light transmittance. On the other hand, when the amount is smaller than the above range, the ability to initiate photopolymerization is not sufficiently exhibited, which may result in insufficient curing of the ultraviolet curable resin.
<기타 성분><Other ingredients>
본 실시형태의 광경화성 수지 조성물은 추가로 대전방지제를 함유하고 있어도 된다. 이러한 대전방지제로서는 금속 산화물 및 금속염이 바람직하다. 당해 금속 산화물로서는, 예를 들면 ITO(인듐-주석 복합 산화물), ATO(안티몬-주석 복합 산화물), 산화주석, 5산화안티몬, 산화아연, 산화지르코늄, 산화티탄, 산화알루미늄 등을 들 수 있다. 금속염으로서는 안티몬산 아연 등을 들 수 있다. 이 대전방지제의 함유량은 요구하는 대전방지 성능에도 따르나, 2관능 이상의 다관능 (메타)아크릴레이트, 폴리로탁산, 실리카 입자 및 광중합 개시제의 합계 100질량부에 대하여, 바람직하게는 1∼100질량부이다. 대전방지제의 함유량이 상기의 범위보다 많을 때에는, 광경화성 수지 조성물의 자외선 경화성에 지장을 초래하거나, 얻어지는 경화막의 가시광선 투과율이 저하하는 경향이 있다. 또한, 대전방지제의 입자경은 0.001∼0.1㎛인 것이 바람직하다. 입자경이 너무 작은 것은 공업적인 생산이 어렵고, 입자경이 너무 큰 것을 이용하면, 얻어지는 경화막의 투명성이 저하하는 경향이 있다.The photo-curing resin composition of the present embodiment may further contain an antistatic agent. As such an antistatic agent, metal oxides and metal salts are preferable. Examples of the metal oxide include ITO (indium-tin composite oxide), ATO (antimony-tin composite oxide), tin oxide, antimony pentoxide, zinc oxide, zirconium oxide, titanium oxide and aluminum oxide. Examples of the metal salt include zinc antimonate and the like. The content of the antistatic agent is preferably 1 to 100 parts by mass per 100 parts by mass of the total amount of the bifunctional or higher functional (meth) acrylate, polyrotaxane, silica particles and photopolymerization initiator, to be. When the content of the antistatic agent is larger than the above range, the ultraviolet curing property of the photocurable resin composition is impaired or the visible light transmittance of the resulting cured film tends to be lowered. The antistatic agent preferably has a particle diameter of 0.001 to 0.1 mu m. If the particle diameter is too small, industrial production is difficult, and if the particle diameter is too large, the transparency of the resulting cured film tends to decrease.
또한, 본 실시형태의 광경화성 수지 조성물에는, 필요에 따라 자외선 흡수제, 산화방지제, 착색제, 발수발유 성능을 부여하는 불소 첨가제, 레벨링제 등의 첨가제가 포함되어 있어도 된다. 레벨링제가 포함됨으로써, 경화 피막의 평활성이나 내찰상성을 높일 수 있다.The photo-curing resin composition of the present embodiment may contain an additive such as an ultraviolet absorber, an antioxidant, a colorant, a fluorine additive for imparting water-repellent or oil-repellent performance, and a leveling agent, if necessary. By including the leveling agent, the smoothness and scratch resistance of the cured coating can be increased.
본 실시형태의 광경화성 수지 조성물은, 후술하는 도포하는 공정에 제공하는 점에 있어서, 추가로 용제를 함유하는 것이 바람직하다. 이러한 용제로서는, 예를 들면 메탄올, 에탄올, 1-프로판올, 2-프로판올(이소프로필알코올), 1-부탄올, 2-부탄올(sec-부틸알코올), 2-메틸-1-프로판올(이소부틸알코올), 2-메틸-2-프로판올(tert-부틸알코올) 등의 알코올 용제; 2-에톡시에탄올, 2-부톡시에탄올, 3-메톡시-1-프로판올, 1-메톡시-2-프로판올, 1-에톡시-2-프로판올 등의 알콕시알코올 용제; 디아세톤알코올 등의 케톨 용제; 아세톤, 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤 등의 케톤 용제; 톨루엔, 크실렌 등의 방향족 탄화수소 용제; 아세트산 에틸, 아세트산 부틸 등의 에스테르 용제;를 들 수 있다.The photo-curing resin composition of the present embodiment preferably further contains a solvent in that it is provided in a coating step to be described later. Examples of such a solvent include alcohols such as methanol, ethanol, 1-propanol, 2-propanol (isopropyl alcohol), 1-butanol, 2-butanol (sec-butyl alcohol) , 2-methyl-2-propanol (tert-butyl alcohol); Alkoxy alcohol solvents such as 2-ethoxyethanol, 2-butoxyethanol, 3-methoxy-1-propanol, 1-methoxy-2-propanol and 1-ethoxy-2-propanol; Ketol solvents such as diacetone alcohol; Ketone solvents such as acetone, methyl ethyl ketone and methyl isobutyl ketone; Aromatic hydrocarbon solvents such as toluene and xylene; And ester solvents such as ethyl acetate and butyl acetate.
용제의 함유량은, 2관능 이상의 다관능 (메타)아크릴레이트, 폴리로탁산, 실리카 입자 및 광중합 개시제의 합계 100질량부에 대하여, 바람직하게는 20∼10000질량부이다.The content of the solvent is preferably 20 to 10000 parts by mass based on 100 parts by mass of the total amount of the bifunctional or higher functional (meth) acrylate, polyrotaxane, silica particles and photopolymerization initiator.
<광경화성 수지 조성물의 제조>≪ Preparation of photocurable resin composition >
본 실시형태의 광경화성 수지 조성물은, 2관능 이상의 다관능 (메타)아크릴레이트와, 폴리로탁산과, 실리카 입자와, 광중합 개시제와, 필요에 따라 용제나 대전방지제, 기타 첨가제를 혼합하여 얻어지고, 그들의 혼합 순서 등은 특별히 한정되지 않는다.The photo-curing resin composition of the present embodiment is obtained by mixing a polyfunctional (meth) acrylate having two or more functional groups, a polyrotaxane, silica particles, a photopolymerization initiator and, if necessary, a solvent, an antistatic agent and other additives , The order of mixing thereof, and the like are not particularly limited.
[경화막의 제조 방법][Process for producing a cured film]
다음에, 본 실시형태의 광경화성 수지 조성물을 이용하는 경화막의 제조 방법에 대하여 설명한다. 당해 경화막의 제조 방법은, 다음의 공정(1) 및 (2)를 포함한다.Next, a method for producing a cured film using the photo-curable resin composition of the present embodiment will be described. The production method of the cured film includes the following steps (1) and (2).
(1) 상기의 광경화성 수지 조성물을 기재 상에 도포하여 조성물층을 얻는 공정(1) a step of applying the above-mentioned photo-curing resin composition onto a substrate to obtain a composition layer
(2) 조성물층에 노광하여 당해 조성물층을 경화시키는 공정(2) a step of curing the composition layer by exposure to the composition layer
<공정(1)>≪ Process (1) >
상기 기재를 구성하는 수지로서는, (메타)아크릴 수지, 폴리에스테르 수지, 폴리카보네이트 수지, 폴리 환상 올레핀 수지, 폴리스티렌 수지, 메타크릴-스티렌 공중합체(MS 수지), 아크릴로니트릴-스티렌 공중합체(AS 수지), 폴리불화비닐리덴 수지(PVDF 수지) 등을 들 수 있다. 그 중에서도 (메타)아크릴 수지는, 투명성이 높고, 표면 경도가 높고, 높은 내찰상성을 갖는 경화 피막을 설치하기 쉬우므로 바람직하다. 메타크릴 수지가 보다 바람직하다.Examples of the resin constituting the base material include (meth) acrylic resins, polyester resins, polycarbonate resins, polycyclic olefin resins, polystyrene resins, methacryl-styrene copolymers (MS resins), acrylonitrile- Resin), polyvinylidene fluoride resin (PVDF resin), and the like. Among them, the (meth) acrylic resin is preferable because it is easy to provide a cured film having high transparency, high surface hardness and high scratch resistance. Methacrylic resin is more preferable.
기재의 두께는 바람직하게는 30∼300㎛, 더 바람직하게는 50∼200㎛이다. 이 두께가 상기의 범위보다 얇은 경우에는, 얻어지는 경화막과 기재의 적층체의 강도를 유지할 수 없게 될 우려가 있다. 그 반면, 상기의 범위보다 두꺼운 경우에는, 기재의 투명성이 저하하거나, 굴곡성이 저하하여 바람직하지 않다. 기재에는 각종 첨가제가 함유되어 있어도 된다. 그와 같은 첨가제로서 예를 들면, 안정제, 가소제, 윤활제, 난연제 등을 들 수 있다.The thickness of the substrate is preferably 30 to 300 mu m, more preferably 50 to 200 mu m. When the thickness is thinner than the above range, there is a possibility that the strength of the obtained laminated product of the cured film and the substrate can not be maintained. On the other hand, if it is thicker than the above-mentioned range, the transparency of the base material is lowered and the bending property is lowered. The base material may contain various additives. Such additives include, for example, stabilizers, plasticizers, lubricants, and flame retardants.
기재는, 통상의 판(시트)이나 필름과 같이 표면이 평면인 것이어도 되고, 볼록 렌즈나 오목 렌즈 등과 같이 표면이 곡면으로 되어 있는 것이어도 된다. 또한, 표면에 작은 요철 등의 미세한 구조가 설치되어 있어도 된다.The base material may have a flat surface such as a normal sheet or film, or may have a curved surface such as a convex lens or a concave lens. Further, a fine structure such as a small unevenness may be provided on the surface.
기재는 필요에 따라 염료나 안료 등에 의해 착색되어 있어도 되고, 산화방지제나 자외선 흡수제, 고무 입자 등을 함유하고 있어도 된다. 수지 기재의 두께는 바람직하게는 0.1㎜ 이상이고, 또한 바람직하게는 3.0㎜ 이하이다.The base material may be colored with a dye or a pigment as necessary, or may contain an antioxidant, an ultraviolet absorber, rubber particles, or the like. The thickness of the resin base material is preferably 0.1 mm or more, and more preferably 3.0 mm or less.
기재는 단층의 것이어도 되고, 다층 구조의 것이어도 된다. 다층 구조의 수지 기재로서는, 주층 수지층의 적어도 일방의 면에 (메타)아크릴 수지층이 적층되어 이루어지는 것이 바람직하다. 또한, 다층 구조의 기재로서는, 편광판, 위상차판 등을 포함하는 광학 적층체도 바람직하다.The base material may be a single layer or a multilayer structure. As the resin substrate having a multilayer structure, it is preferable that a (meth) acrylic resin layer is laminated on at least one surface of the main resin layer. As the base material of the multilayer structure, an optical laminate including a polarizing plate, a retarder, and the like is also preferable.
기재는 판(시트) 형상, 필름 형상, 다층 구조체 등이어도 되고, 기재 표면은 평면 형상이어도 되고 곡면 형상이어도 된다.The substrate may be in the form of a sheet, a film, a multilayer structure, or the like, and the surface of the substrate may be planar or curved.
기재는 그 표면에 접착층을 갖고 있어도 된다. 접착층은, 경화막을 기재에 밀착시키는 위한 것이고, 통상의 방법에 따라 형성된다. 접착층을 형성하는 접착제로서는, 기재나 경화막의 재질에 따라 적절히 선택되나, 예를 들면 아크릴계 접착제(점착제), 실리콘계 접착제(점착제), 폴리에스테르계 접착제 등이 이용된다. 접착층의 두께는, 얇으면 충분한 접착력이 얻어지지 않고, 너무 두꺼워지면 얻어지는 경화막과 기재의 적층체가 너무 단단해져버려 필름으로서의 유연성이 부족하기 때문에, 0.1∼1㎛의 범위가 바람직하다.The substrate may have an adhesive layer on its surface. The adhesive layer is for adhering the cured film to the substrate and is formed according to a conventional method. The adhesive for forming the adhesive layer is appropriately selected depending on the material of the substrate and the cured film, and for example, an acrylic adhesive (pressure sensitive adhesive), a silicone adhesive (pressure sensitive adhesive), a polyester adhesive and the like are used. If the thickness of the adhesive layer is too thin, a sufficient adhesive force can not be obtained. If the thickness of the adhesive layer is too thick, the resulting laminated product of the cured film and the substrate becomes too hard and the flexibility of the film becomes insufficient.
상기의 광경화성 수지 조성물을 기재 상에 도포하는 방법으로서는, 예를 들면, 롤코팅법, 스핀코팅법, 코일바법, 딥코팅법, 다이코팅법 등을 들 수 있다. 롤코팅법 등, 연속적으로 도포할 수 있는 방법이 생산성 및 생산 비용의 점으로부터 바람직하다.Examples of the method of applying the photocurable resin composition on a substrate include a roll coating method, a spin coating method, a coil bar method, a dip coating method, and a die coating method. A roll coating method or the like, which can be continuously applied, is preferable in terms of productivity and production cost.
얻어진 조성물층이 용제를 포함하는 경우는, 추가로 용제를 제거하는 공정(1')를 포함하는 것이 바람직하다. 이와 같은 용제 제거는, 예를 들면, 핫플레이트 등의 가열 장치를 이용한 가열 수단 또는 감압 장치를 이용한 감압 수단에 의해, 또는 이러한 수단을 조합하여, 당해 조성물층으로부터 용제를 증발시킴으로써 행해진다. 가열 수단이나 감압 수단의 조건은, 조성물층에 포함되는 용제의 종류 등에 따라 선택할 수 있고, 예를 들면 핫플레이트의 경우, 당해 핫플레이트의 표면 온도를 50∼200℃ 정도의 범위로 하는 것이 바람직하다. 또한, 감압 수단에서는, 적당한 감압기의 안에, 조성물층을 갖는 기재를 봉입한 후, 당해 감압기의 내부 압력을 1∼1.0×105Pa 정도로 하면 된다. 이와 같이 하여 조성물층으로부터 용제를 제거함으로써, 당해 기재 상에는 용매를 포함하지 않는 조성물층이 형성된다.When the obtained composition layer contains a solvent, it is preferable to further include a step (1 ') of removing the solvent. Such solvent removal is carried out by evaporating the solvent from the composition layer by, for example, a heating means using a heating device such as a hot plate or a decompression means using a decompression device, or a combination of these means. The conditions of the heating means and the decompression means can be selected depending on the type of the solvent contained in the composition layer and, for example, in the case of a hot plate, the surface temperature of the hot plate is preferably set in a range of about 50 to 200 캜 . Further, in the decompression means, after the substrate having the composition layer is sealed in a suitable decompressor, the internal pressure of the decompressor may be set to about 1 to 1.0 x 10 5 Pa. By removing the solvent from the composition layer in this way, a composition layer containing no solvent is formed on the substrate.
<공정(2)>≪ Process (2) >
노광은, 통상 자외선의 조사에 의해 행해진다. 이 때, 자외선은 가시광선 영역의 광선을 포함하고, 광중합 개시제는 광조사에 의해 광중합 개시능을 발현하여 공정(1)에서 얻어진 조성물층을 경화시킨다. 자외선은 200∼450㎚의 파장을 갖는 것이 바람직하고, 광중합 개시제는 광의 파장 220∼450㎚에 흡수 영역을 갖는 것이 바람직하다. 일반적으로 자외선의 파장은 380㎚보다 짧고, 가시광선의 파장은 380∼780㎚이다.The exposure is usually performed by irradiation with ultraviolet light. At this time, the ultraviolet rays include light rays in the visible light region, and the photopolymerization initiator develops a photopolymerization initiating ability by light irradiation to cure the composition layer obtained in the step (1). The ultraviolet ray preferably has a wavelength of 200 to 450 nm, and the photopolymerization initiator preferably has an absorption region at a wavelength of 220 to 450 nm. Generally, the wavelength of the ultraviolet ray is shorter than 380 nm, and the wavelength of the visible ray is 380 to 780 nm.
자외선의 파장이 200㎚ 미만인 경우에는 자외선이 자외선 흡수제에 흡수되기 쉬워지고, 광중합 개시제의 광중합 개시능이 충분히 발현되지 않게 되어 조성물층의 경화성이 저하하는 경향을 나타내고, 450㎚를 초과하는 경우에는 자외선으로서의 기능이 저하한다. 광중합 개시제의 흡수 영역으로서 광의 파장이 220㎚ 미만인 경우에는 자외선 흡수제에 자외선이 흡수되기 쉬워져 그 광중합 개시능이 저하하고, 450㎚를 초과하는 경우에는 해당하는 광중합 개시제가 적고, 또한 자외선에 의한 광중합 개시능의 발현이 부족할 우려가 있다.When the wavelength of the ultraviolet ray is less than 200 nm, the ultraviolet ray is likely to be absorbed by the ultraviolet absorbent, the photopolymerization initiating ability of the photopolymerization initiator is not sufficiently manifested and the curability of the composition layer tends to be lowered. The function is degraded. When the wavelength of light is less than 220 nm as the absorption region of the photopolymerization initiator, ultraviolet light is easily absorbed in the ultraviolet absorber and its photopolymerization initiating ability is lowered. When the wavelength exceeds 450 nm, the corresponding photopolymerization initiator is less, There is a possibility that the expression of the function may be insufficient.
이와 같이 하여 형성되는 경화막의 두께는 2∼30㎛가 바람직하고, 5∼25㎛가 보다 바람직하다. 이 두께가 2㎛ 이상이면 표면 경도가 보다 향상하는 경향이 있고, 이 두께가 너무 크면, 경화 직후 또는 고온 고습하에 노출되었을 때에, 크랙이 발생하기 쉬워진다. 경화막의 두께는, 기재의 표면에 도포하는 광경화성 수지 조성물의 면적당의 양이나 고형분 농도를 조정함으로써 조절할 수 있다The thickness of the cured film thus formed is preferably 2 to 30 占 퐉, more preferably 5 to 25 占 퐉. When the thickness is 2 m or more, the surface hardness tends to be further improved. When the thickness is too large, cracks tend to occur immediately after curing or when exposed under high temperature and high humidity. The thickness of the cured film can be controlled by adjusting the amount per unit area or solid content of the photocurable resin composition applied to the surface of the substrate
[적층체][Laminate]
다음에, 본 실시형태의 적층체에 대하여 설명한다. 당해 적층체는, 상기 기재의 적어도 일방의 면에 상기 제조 방법으로 얻어지는 경화막이 적층되어 있다. 본 실시형태의 적층체는, 기재와, 기재의 적어도 일방의 면에 적층된 광경화성 수지 조성물의 경화물을 포함하는 경화막을 구비하는 적층체라고도 할 수도 있다.Next, the laminate of this embodiment will be described. In the laminate, a cured film obtained by the above-described method is laminated on at least one surface of the substrate. The laminate of the present embodiment may be also referred to as a laminate comprising a substrate and a cured film containing a cured product of the photo-curing resin composition laminated on at least one surface of the substrate.
이러한 적층체는, 상기 제조 방법의 공정(1) 및 (2)를 거쳐 얻어지는 기재의 표면에 경화막이 형성된 상태의 적층체인 것이 바람직하나, 그 밖에 상기 제조 방법의 공정(1) 및 (2)를 거쳐 얻어지는 경화막을 기재로부터 떼어내고, 다른 기재에 필요에 따라 상기 접착층을 개재하여 첩부하여 얻어지는 적층체여도 되며, 상기 제조 방법의 공정(1)에서 얻어지는 조성물층을 기재로부터 떼어내고, 다른 기재에 필요에 따라 상기 접착층을 개재하여 첩부하고, 계속하여 상기 제조 방법의 공정(2)에 의해 당해 조성물층을 경화시켜 얻어지는 적층체여도 된다.It is preferable that such a laminate is a laminate in which a cured film is formed on the surface of a substrate obtained through the steps (1) and (2) of the above-mentioned production method. In addition, the steps (1) and (2) The cured film thus obtained may be peeled off from the substrate, and the other substrate may be pasted with the adhesive layer if necessary. Alternatively, the composition layer obtained in the step (1) of the above production method may be peeled off from the substrate, , And then curing the composition layer by the step (2) of the production method.
이와 같이 하여 얻어지는 본 실시형태의 적층체는, 기재의 적어도 일방의 면에, 표면 경도가 우수한 경화막이 형성되어 있고, 휴대전화 등으로 대표되는 휴대형 정보 단말의 표시창 보호판으로서 적합하게 이용할 수 있다. 또한, 디지털 카메라나 핸디형 비디오 카메라 등의 파인더부, 휴대형 게임기의 표시창 보호판 등, 표면 경도가 요구되는 분야에서의 각종 부재로서도 사용할 수 있다.The thus obtained laminate according to the present embodiment has a cured film having excellent surface hardness on at least one side of the base material and can be suitably used as a display screen protection plate of a portable information terminal represented by a cellular phone or the like. It can also be used as various members in fields requiring surface hardness, such as a finder part such as a digital camera or a handy video camera, or a display screen protective plate of a portable game machine.
본 실시형태에 있어서, 고경도 수지판으로 휴대형 정보 단말의 표시창 보호판을 제작하기 위해서는, 먼저 필요에 따라 인쇄, 구멍내기 등의 가공을 행하고, 필요한 크기로 절단 처리하면 된다. 그리고 나서, 휴대형 정보 단말의 표시창에 세팅하면, 표면 경도가 우수한 표시창으로 할 수 있다.In the present embodiment, in order to manufacture the shielding plate of the display terminal of the portable information terminal with the hardened resin plate, it is necessary to perform processing such as printing and punching, if necessary, and cut to a necessary size. Then, setting it on the display window of the portable information terminal makes it possible to provide a display window with excellent surface hardness.
도 1은, 본 실시형태의 적층체의 층 구성을 모식적으로 나타내는 단면도이다. 도 1에 나타내는 적층체(5)는, 기재(1)와, 기재(1)의 일방면 상에 형성된 경화막(3)을 갖는다. 기재(1)는 수지 시트, 수지 필름 또는 다층 구조체여도 된다. 적층체(5)는 하드 코팅 필름으로서 이용할 수 있고, 예를 들면, 편광판 등과 함께 표시 장치를 구성하는 부재로서 적합하게 이용할 수 있다.BRIEF DESCRIPTION OF DRAWINGS FIG. 1 is a cross-sectional view schematically showing the layer structure of a laminate of the present embodiment. FIG. The
본 실시형태의 적층체는, 기재 및 경화막 이외의 다른 층을 추가로 갖고 있어도 된다. 예를 들면, 적층체는 경화막 상에 기능층이 설치되어 있어도 된다. 기능층으로서는 하드 코팅층, 반사 방지층, 방현층(防眩層), 내지문층(耐指紋層) 등을 들 수 있다. 기능층은 접착제 또는 점착제를 개재하여 적층되어 있어도 된다. 접착제 및 점착제로서는 공지의 것을 적절히 선택하면 된다.The laminate of the present embodiment may further have another layer other than the substrate and the cured film. For example, the layered product may be provided with a functional layer on a cured film. Examples of the functional layer include a hard coating layer, an antireflection layer, an antiglare layer (antiglare layer), and an inner fingerprint layer (fingerprint resistant layer). The functional layer may be laminated via an adhesive or a pressure-sensitive adhesive. As the adhesive and the pressure-sensitive adhesive, well-known ones may be appropriately selected.
본 실시형태의 적층체는, 경화막이 경도 및 굴곡성이 우수하기 때문에, 기능층을 추가로 설치하더라도 충분한 굴곡성과 높은 경도를 양립할 수 있다.Since the cured film of the laminated body of the present embodiment is excellent in hardness and bendability, sufficient flexibility and high hardness can be achieved even if a functional layer is additionally provided.
<표시 장치><Display device>
도 2는, 본 실시형태의 표시 장치의 제 1의 층 구성례를 모식적으로 나타내는 단면도이다. 액정 표시 장치(30)는, 액정 패널(25)과, 액정 패널(25)의 일방의 면에 적층된 경화막(3)을 구비하고 있다. 액정 패널(25)은, 액정 셀(20)의 양면 상에 편광판(10)이 점착제층(15)을 개재하여 적층된 것이다. 또한, 도 2에서는, 액정 셀(20)의 양면에 배치되는 편광판(10)을 동일한 것으로서 기재하였으나, 이들은 상이한 것이어도 된다.2 is a cross-sectional view schematically showing a first layer constitution example of the display device of the present embodiment. The liquid
편광판(10)은, 편광 필름(13)과, 그 양면에 적층된 보호 필름(11)을 구비하고 있다. 또한, 편광판(10)은, 편광 필름(13)을 구비하고 있으면 되고, 반드시 그 양면에 보호 필름(11)이 적층되어 있을 필요는 없다.The
경화막(3)은, 액정 패널(25)의 시인측(視認側)에 배치되고, 액정 패널(25)을 보호하는 역할을 담당하고 있다. 이 양태에 있어서는, 액정 패널(25)을 다층 구조의 기재로 간주할 수 있다. 또한, 액정 패널(25)의 일부(예를 들면, 편광판(10))를 기재로 간주할 수도 있다.The cured
도 3은, 본 실시형태의 표시 장치의 제 2의 층 구성례를 모식적으로 나타내는 단면도이다. 도 3에 나타내는 액정 표시 장치(31)는, 액정 패널(25)과, 액정 패널(25)의 일방의 면에 적층된 적층체(5)를 구비한다. 액정 패널(25)과 적층체(5)는, 접착제 또는 점착제를 포함하는 접착층(7)을 개재하여 적층될 수 있다.3 is a cross-sectional view schematically showing a second layer configuration example of the display device of the present embodiment. The liquid
적층체(5)는, 액정 패널(25)의 시인측에 배치되고, 액정 패널(25)을 보호하는 역할을 담당하고 있다.The
도 2 및 도 3에서는 액정 표시 장치의 예를 나타내었으나, 본 실시형태에 있어서 표시 장치는 이에 한정되지 않는다. 예를 들면, 표시 장치는 액정 디스플레이(LCD), 유기 EL 디스플레이 등이어도 되고, 본 실시형태의 적층체는 이러한 표시 장치에도 적합하게 이용할 수 있다.2 and 3 show an example of the liquid crystal display device, the display device in the present embodiment is not limited to this. For example, the display device may be a liquid crystal display (LCD), an organic EL display, or the like, and the laminate of this embodiment can be suitably used for such a display device.
(실시예)(Example)
이하, 실시예 및 비교예를 들어 상기 실시형태를 더 구체적으로 설명하나, 본 발명은 그러한 실시예의 범위에 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, the embodiments will be described in more detail with reference to examples and comparative examples, but the present invention is not limited to such examples.
이하의 각 실시예 및 비교예에 있어서, 각 물성은 다음과 같이 측정하였다.In the following Examples and Comparative Examples, the physical properties were measured as follows.
<연필 경도><Pencil hardness>
JIS K 5600-5-4에 준거하여 측정하였다. 단, 하중은 1kg으로 하였다.And measured according to JIS K 5600-5-4. However, the load was 1 kg.
<외관><Appearance>
얻어진 경화막과 기재의 적층체의 외관을 눈으로 보아, 다음의 기준으로 평가하였다.The appearance of the laminated product of the obtained cured film and substrate was visually evaluated by the following criteria.
금 균열이 들어 있지 않은 것을 외관 양호 : ○Appearance good that does not contain gold crack: ○
금 균열이 1∼4개 생긴 것 : ×1 to 4 cracks are observed: ×
실시예 1Example 1
4관능 아크릴레이트(신나카무라화학(주) 제품, A-TMMT) 55.2질량부, 3관능 아크릴레이트(신나카무라화학(주) 제품, A-TMPT) 13.8질량부, 반응성 폴리로탁산(어드밴스트·소프트 머티리얼즈(주) 제품, SA-3400C) 3.4질량부, 실리카 입자(닛산화학(주) 제품, PGM-AC-2140Y : 입자경 10∼15㎚) 27.6질량부, 상기 4관능 아크릴레이트 및 3관능 아크릴레이트의 합계에 대하여 7질량%의 광중합 개시제(치바 스페셜리티 케미컬즈(주) 제품, IRGACURE(등록상표) 184), 상기 4관능 아크릴레이트 및 3관능 아크릴레이트의 합계에 대하여 0.1질량%의 레벨링제(빅케미재팬(주) 제품, BYK-307), 및, 이상의 각 성분의 합계량과 동량의 프로필렌글리콜모노메틸에테르를 교반 혼합하여, 광경화성 수지 조성물을 얻었다.55.2 parts by mass of tetrafunctional acrylate (A-TMMT, manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.), 13.8 parts by mass of trifunctional acrylate (A-TMPT manufactured by Shin Nakamura Chemical Co., Ltd.) , 3.4 parts by mass of a silica fine particle (trade name: SA-3400C, manufactured by Soft Materials Co., Ltd.), 27.6 parts by mass of silica particles (PGM-AC-2140Y manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd., particle diameter: 10 to 15 nm) (Trade name: IRGACURE (registered trademark) 184, manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.) in an amount of 7% by mass based on the total of the tetrafunctional acrylate and the trifunctional acrylate, 0.1% by mass of a leveling agent (BYK-307, a product of Big Chemical Japan Co., Ltd.), and propylene glycol monomethyl ether in an amount equal to the total amount of each component described above were mixed with stirring to obtain a photocurable resin composition.
투명 기재로서 PMMA판(스미토모화학(주) 제품, 두께 1㎜)을 이용하고, 당해 기재 상에, 상기의 광경화성 수지 조성물을 건조막 두께 20㎛가 되도록 바 코터로 도공하여, 조성물층을 얻었다. 그 후, 80℃의 오븐에서 3분간 건조를 행하고, 건조 후의 조성물층에 500mJ/㎠의 에너지로 자외선을 조사하여 경화시킴으로써, 경화막과 기재의 적층체를 얻었다. 얻어진 적층체의 연필 경도와 외관을 상기와 같이 측정하였다. 결과를 표 1에 나타낸다.A PMMA plate (Sumitomo Chemical Co., Ltd., thickness: 1 mm) was used as a transparent substrate, and the above photo-curable resin composition was coated on the base material with a bar coater so as to have a dry film thickness of 20 占 퐉 to obtain a composition layer . Thereafter, drying was carried out in an oven at 80 DEG C for 3 minutes, and the layer of the composition after drying was irradiated with ultraviolet rays at an energy of 500 mJ / cm < 2 > to be cured to obtain a layered product of the cured film and the substrate. The pencil hardness and appearance of the resulting laminate were measured as described above. The results are shown in Table 1.
실시예 2∼13 및 비교예 1∼5Examples 2 to 13 and Comparative Examples 1 to 5
실시예 1에 있어서, 4관능 아크릴레이트(신나카무라화학(주) 제품, A-TMMT), 3관능 아크릴레이트(신나카무라화학(주) 제품, A-TMPT), 폴리로탁산(어드밴스트·소프트 머티리얼즈(주) 제품, SA-3400C) 및 실리카 입자(닛산화학(주) 제품, PGM-AC-2140Y : 입자경 10∼15㎚)를, 각각 표 1∼4에 각각 기재한 양으로 하는 것 이외는, 실시예 1과 동일하게 하여 경화막과 기재의 적층체를 얻었다. 얻어진 적층체의 연필 경도와 외관(육안)을 평가한 결과를 표 1∼4에 나타낸다.(A-TMPT manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.), trifunctional acrylate (A-TMPT manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.), polyrotaxane (Manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd., PGM-AC-2140Y: particle size of 10 to 15 nm) were respectively used in amounts shown in Tables 1 to 4 , A layered product of a cured film and a substrate was obtained in the same manner as in Example 1. [ The evaluation results of the pencil hardness and appearance (visual appearance) of the obtained laminate are shown in Tables 1 to 4.
(산업상의 이용 가능성)(Industrial availability)
본 발명의 광경화성 수지 조성물, 이것을 이용하는 경화막의 제조 방법 및 적층체는, 예를 들면 플라즈마 디스플레이(PD), 액정 디스플레이(LCD) 등의 전자 화상 표시 장치의 표시 화면 상에 설치되는 자외선 흡수성을 갖는 하드 코팅 필름의 제조에 이용할 수 있다.The photo-curable resin composition of the present invention, the method of producing a cured film using the same, and the laminate are used for a display device having an ultraviolet ray absorbing property, for example, provided on a display screen of an electronic image display device such as a plasma display (PD) Can be used for the production of hard coating films.
1 : 기재
3 : 경화막
5 : 적층체
7 : 접착층
10 : 편광판
11 : 보호 필름
13 : 편광 필름
15 : 점착제층
20 : 액정 셀
25 : 액정 패널
30, 31 : 액정 표시 장치1: substrate
3:
5:
7: Adhesive layer
10: polarizer
11: Protective film
13: polarizing film
15: Pressure-sensitive adhesive layer
20: liquid crystal cell
25: liquid crystal panel
30, 31: liquid crystal display
Claims (7)
상기 다관능 (메타)아크릴레이트의 함유량을 X질량부, 상기 폴리로탁산의 함유량을 Y질량부, 상기 실리카 입자의 함유량을 Z질량부로 했을 때에 하기 식(1)∼(4)의 관계를 모두 충족시키는, 광경화성 수지 조성물.
식(1) : X+Y+Z=100
식(2) : X≥50
식(3) : 3≤Y≤20
식(4) : 25≤Z≤40(Meth) acrylate having two or more functional groups, a polyrotaxane, silica particles, and a photopolymerization initiator,
(1) to (4), when the content of the polyfunctional (meth) acrylate is X parts by mass, the content of the polyrotaxane is Y parts by mass and the content of the silica particles is Z parts by mass Wherein the photo-curable resin composition satisfies the following conditions.
(1): X + Y + Z = 100
Equation (2): X? 50
(3): 3? Y? 20
Equation (4): 25? Z? 40
상기 폴리로탁산이 (메타)아크릴로일기를 갖는, 광경화성 수지 조성물.The method according to claim 1,
Wherein the polyrotaxane has a (meth) acryloyl group.
상기 조성물층에 노광하여 상기 조성물층을 경화시키는 공정을 포함하는 경화막의 제조 방법.A process for producing a photocurable resin composition, comprising the steps of: applying the photocurable resin composition according to any one of claims 1 to 3 on a substrate to obtain a composition layer;
And exposing the composition layer to cure the composition layer.
상기 기재의 적어도 일방의 면에 적층된 경화막을 구비하고,
상기 경화막이, 제 1 항 또는 제 2 항에 기재된 광경화성 수지 조성물의 경화물을 포함하는, 적층체.A substrate,
And a cured film laminated on at least one surface of the substrate,
Wherein the cured film comprises a cured product of the photo-curing resin composition according to any one of claims 1 to 3.
상기 기재가 다층 구조인 적층체.5. The method of claim 4,
Wherein the substrate has a multilayer structure.
상기 기재가 (메타)아크릴 수지를 포함하는 적층체.The method according to claim 4 or 5,
Wherein the substrate comprises a (meth) acrylic resin.
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2015086506 | 2015-04-21 | ||
JPJP-P-2015-086506 | 2015-04-21 | ||
PCT/JP2016/062552 WO2016171187A1 (en) | 2015-04-21 | 2016-04-20 | Photocurable resin composition, method for manufacturing cured film using same, and laminate containing said cured film |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20170139600A true KR20170139600A (en) | 2017-12-19 |
Family
ID=57144025
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020177033427A KR20170139600A (en) | 2015-04-21 | 2016-04-20 | A photocurable resin composition, a process for producing a cured film using the same, and a laminate including the cured film |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPWO2016171187A1 (en) |
KR (1) | KR20170139600A (en) |
TW (1) | TW201704370A (en) |
WO (1) | WO2016171187A1 (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20210106459A (en) * | 2018-12-21 | 2021-08-30 | 닛산 가가쿠 가부시키가이샤 | Photocurable composition for imprint |
Families Citing this family (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2018038124A1 (en) * | 2016-08-23 | 2018-03-01 | 国立大学法人大阪大学 | Polymerizable functional group-modified polyrotaxane and method for producing same, and polymeric material and method for producing same |
WO2018135523A1 (en) * | 2017-01-18 | 2018-07-26 | 住友化学株式会社 | Molded article and method for producing same |
JP6913592B2 (en) * | 2017-09-28 | 2021-08-04 | 株式会社ネオス | Manufacturing method of curable composition and cured film, and resin molded article |
JP7039984B2 (en) * | 2017-12-14 | 2022-03-23 | 昭和電工マテリアルズ株式会社 | Adhesive composition for circuit connection and circuit connection structure |
JP7179503B2 (en) * | 2018-06-08 | 2022-11-29 | 東洋スチレン株式会社 | Styrene-based copolymers and molded articles thereof, sheets |
JP7060849B2 (en) * | 2018-06-27 | 2022-04-27 | 日産化学株式会社 | Photocurable composition for imprint |
JP7383448B2 (en) * | 2019-10-18 | 2023-11-20 | リンテック株式会社 | Adhesives, adhesive sheets, backlight units and display devices |
WO2022123969A1 (en) * | 2020-12-07 | 2022-06-16 | 住友電気工業株式会社 | Resin composition, optical fiber, and method for producing optical fiber |
TW202307036A (en) * | 2021-03-26 | 2023-02-16 | 日商日產化學股份有限公司 | Photocurable composition for film formation |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4911474B2 (en) * | 2008-02-26 | 2012-04-04 | 富士フイルム株式会社 | Hard coat film, polarizing plate, and image display device |
JP4961369B2 (en) * | 2008-02-27 | 2012-06-27 | 富士フイルム株式会社 | Optical film, polarizing plate, image display device, and method of manufacturing optical film |
KR101451848B1 (en) * | 2012-05-31 | 2014-10-16 | 주식회사 엘지화학 | Method of preparing of hard coating film |
KR101415839B1 (en) * | 2012-08-23 | 2014-07-09 | 주식회사 엘지화학 | Hard coating film |
KR101443845B1 (en) * | 2012-09-03 | 2014-09-23 | 주식회사 엘지화학 | Polarizing plate comprising hard coating film |
KR101578914B1 (en) * | 2013-03-15 | 2015-12-18 | 주식회사 엘지화학 | Plastic film |
-
2016
- 2016-04-20 WO PCT/JP2016/062552 patent/WO2016171187A1/en active Application Filing
- 2016-04-20 KR KR1020177033427A patent/KR20170139600A/en unknown
- 2016-04-20 JP JP2017514171A patent/JPWO2016171187A1/en active Pending
- 2016-04-21 TW TW105112407A patent/TW201704370A/en unknown
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20210106459A (en) * | 2018-12-21 | 2021-08-30 | 닛산 가가쿠 가부시키가이샤 | Photocurable composition for imprint |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TW201704370A (en) | 2017-02-01 |
WO2016171187A1 (en) | 2016-10-27 |
JPWO2016171187A1 (en) | 2018-02-15 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR20170139600A (en) | A photocurable resin composition, a process for producing a cured film using the same, and a laminate including the cured film | |
KR101415841B1 (en) | Hard coating film | |
KR101415838B1 (en) | Composition for hard coating | |
KR101451848B1 (en) | Method of preparing of hard coating film | |
KR101470463B1 (en) | Hard coating film | |
KR101470464B1 (en) | Hard coating film | |
KR101443845B1 (en) | Polarizing plate comprising hard coating film | |
KR101686644B1 (en) | Plastic film laminate | |
TWI537617B (en) | Polarizer, optical component and liquid crystal display device | |
EP3144327A1 (en) | Resin composition for polarizer protective film, polarizer protective film, and polarizing plate comprising same | |
KR20100138811A (en) | Polarizing plate, composite polarizing plate and liquid crystal display device | |
KR20140130040A (en) | Resin laminate | |
KR101586843B1 (en) | Polarizer protecting film, polarizer plate comprising the same, and method for preparing the polarizer plate | |
WO2014125976A1 (en) | Resin laminate | |
KR101656454B1 (en) | Polarizer protecting film and polarizer plate comprising the same | |
KR101791232B1 (en) | Plastic film laminate | |
KR101886589B1 (en) | Protective film, film layered body, and polarizing plate | |
KR101735690B1 (en) | Polarizer protecting film and method for preparing the same | |
JP2014205345A (en) | Resin laminate and molding method using the same | |
KR101697404B1 (en) | Polarizing plate and image display apparatus comprising the same | |
WO2014133087A1 (en) | Plastic lens and production method therefor | |
JP2013142793A (en) | Hard coat film and production method of the same, and antireflection film | |
JP4808575B2 (en) | Photo-curable adhesive film | |
WO2014204273A1 (en) | Polarizer protection film, method for manufacturing same, and polarizing plate comprising polarizer protection film | |
JP7327078B2 (en) | Design material and manufacturing method of design material |