JP4561977B2 - Photocurable resin composition and method for producing laminate using the same - Google Patents

Photocurable resin composition and method for producing laminate using the same Download PDF

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Description

本発明は、光硬化性樹脂組成物及びそれを用いた積層体に関するものであり、より詳しくは温和な条件でかつ短時間で硬化可能な光硬化性樹脂組成物であって、それから得られる硬化膜上に、比較的低い表面張力の高屈折率膜を、はじきやピンホールなく形成可能な光硬化性樹脂組成物、及びそれを用いた積層体並びにその製造方法に関する。   The present invention relates to a photocurable resin composition and a laminate using the same, and more specifically, a photocurable resin composition that can be cured in a short time under mild conditions, and obtained from the composition. The present invention relates to a photocurable resin composition capable of forming a high refractive index film having a relatively low surface tension on a film without repelling or pinholes, a laminate using the same, and a method for producing the same.

画像表示板における要求性能の1つとして反射防止機能が挙げられている。一般的な反射防止機能の原理は、高屈折率層の表面に低屈折率層を設け、高屈折率層で反射する光と低屈折率層で反射する光とをそれらの光路差を利用して互いに干渉させることにより反射光を低減させるものである。   An antireflection function is cited as one of the required performances of the image display board. The general principle of the antireflection function is to provide a low refractive index layer on the surface of the high refractive index layer and use the difference in optical path between the light reflected by the high refractive index layer and the light reflected by the low refractive index layer. Thus, the reflected light is reduced by causing interference with each other.

従来、このような反射防止膜は、蒸着法やスパッタリング法等の乾式コート法を用いて作製している。乾式コート法によれば、均一な膜を作製可能であるが、生産速度が遅いため製造コストが高くなるという問題があった。このため、近年、反射防止膜をより低コストで作製する方法として、剥離基材上に、乾式コート法に比べて温和で短時間で成膜が可能な湿式コート法で積層した機能層(転写層)を被転写体表面に熱転写あるいは感圧転写する方法(即ち、転写法)に注目し、その転写層を反射防止膜とすることが試みられている。   Conventionally, such an antireflection film is produced by using a dry coating method such as a vapor deposition method or a sputtering method. According to the dry coating method, it is possible to produce a uniform film, but there is a problem that the production cost is high because the production speed is low. For this reason, in recent years, as a method for producing an antireflection film at a lower cost, a functional layer (transfer) can be formed on a release substrate by a wet coating method that can be formed in a milder and shorter time than a dry coating method. Attention has been focused on a method of transferring a layer) onto the surface of a transfer material or a pressure-sensitive transfer (that is, a transfer method), and attempts have been made to use the transfer layer as an antireflection film.

ところで、反射防止膜に利用する低屈折率材料としては、屈折率を低くするためにフッ素系化合物を配合した樹脂組成物が一般に用いられている。そのような樹脂組成物としては、反応基を有する低分子のフッ素系化合物を含むもの(特許文献1、特許文献2)や、不活性なフッ素含有重合体と反応基を有する化合物とを含有するものが提案されている(特許文献3)。なお、低屈折率材料として意図されたものではないが、一般的な低屈折率材料と同じレベルの表面張力を有するアクリルエラストマーとして、フルオロアルキル基と反応性基とを有する(メタ)アクリル共重合体も提案されている(特許文献4)。   By the way, as a low refractive index material used for an antireflection film, a resin composition containing a fluorine compound is generally used in order to lower the refractive index. Such a resin composition contains a low molecular fluorine-containing compound having a reactive group (Patent Documents 1 and 2), an inert fluorine-containing polymer and a compound having a reactive group. The thing is proposed (patent document 3). Although not intended as a low-refractive index material, an acrylic elastomer having the same level of surface tension as a general low-refractive index material is a (meth) acrylic copolymer having a fluoroalkyl group and a reactive group. Coalescence has also been proposed (Patent Document 4).

特開平4−272988号公報Japanese Patent Laid-Open No. 4-272788 特開2000−17099号公報JP 2000-17099 A 特開平6−136062号公報JP-A-6-136062 特開平2−182712号公報Japanese Patent Laid-Open No. 2-182712

しかしながら、特許文献1や特許文献2の樹脂組成物の場合、含有されているフッ素化合物の分子間力が弱いため、樹脂組成物の塗工時に有毒なフッ素化合物が揮発する可能性があり、また、特許文献3の樹脂組成物の場合には、その塗工後に不活性なフッ素含有重合体が揮発する可能性が少なくなっているものの、より低屈折率の膜を得ようとすると、反応基を有する化合物の添加量が相対的に少なくなり、膜自体の強度が弱くなるという問題がある。また、特許文献4のアクリルエラストマーを低屈折率膜として用いた場合には、塗工時に加熱しなければならないため、基材がプラスチックの場合熱変形する危険性がある。また温和な条件で成膜すると、時間がかかるため、生産性が低下する可能性がある。   However, in the case of the resin compositions of Patent Document 1 and Patent Document 2, since the intermolecular force of the contained fluorine compound is weak, a toxic fluorine compound may volatilize when the resin composition is applied, In the case of the resin composition of Patent Document 3, although the possibility of volatilization of the inert fluorine-containing polymer after coating is reduced, a reactive group is obtained when attempting to obtain a film having a lower refractive index. There is a problem in that the amount of the compound having a relatively small amount is relatively reduced and the strength of the film itself is weakened. Moreover, when the acrylic elastomer of patent document 4 is used as a low refractive index film, it must be heated at the time of coating. Therefore, there is a risk of thermal deformation when the base material is plastic. Further, when a film is formed under mild conditions, it takes time, and thus productivity may be reduced.

また、転写法では機能層(転写層)を被転写体表面に一括して転写するため、転写層を反射防止膜とする場合には、転写材基材上に低屈折率層を設け、更に低屈折率層上に高屈折率層を設ける必要があるが、特許文献1等のフッ素原子を含む化合物を含有する樹脂組成物は一般に撥水、溌油性を示すため、そのような樹脂組成物を硬化膜上に積層することは困難を伴うことが多い。   In addition, in the transfer method, the functional layer (transfer layer) is transferred collectively to the surface of the transfer target. Therefore, when the transfer layer is used as an antireflection film, a low refractive index layer is provided on the transfer material substrate. Although it is necessary to provide a high refractive index layer on a low refractive index layer, since a resin composition containing a compound containing a fluorine atom, such as Patent Document 1, generally exhibits water repellency and oil repellency, such a resin composition In many cases, it is difficult to laminate the film on the cured film.

このように、温和な条件でかつ短時間で硬化可能であり、基材上に塗工可能な低屈折率膜を得ることのできる樹脂組成物が広く求められているのが現状である。   Thus, the present condition is that the resin composition which can be hardened | cured on mild conditions and for a short time, and can obtain the low refractive index film | membrane which can be coated on a base material is calculated | required widely.

本発明の目的は、温和な条件でかつ短時間で硬化可能であり、基材上に積層可能な低屈折率膜を得ることのできる樹脂組成物及びそれを用いた積層体とその製造方法を提供することである。   An object of the present invention is to provide a resin composition capable of obtaining a low refractive index film that can be cured under mild conditions and in a short time and can be laminated on a substrate, a laminate using the same, and a method for producing the same. Is to provide.

本発明者らは、明確な理由は不明であるが、−CFHユニットを有する含フッ素(メタ)アクリル系共重合体と有しない含フッ素(メタ)アクリル系共重合体と、分子内に少なくとも1個のエチレン系二重結合を有する光重合可能なエチレン系不飽和化合物とを、特定の配合割合で含有する光硬化性樹脂組成物を使用することにより、上述の目的を達成できることを見出し、本発明を完成させるに至った。 The present inventors have found that although clear reason is unknown, a fluorine-containing (meth) acrylic copolymer having no fluorine-containing (meth) acrylic copolymer having -CF 2 H unit, in the molecule It has been found that the above object can be achieved by using a photocurable resin composition containing a photopolymerizable ethylenically unsaturated compound having at least one ethylenic double bond in a specific blending ratio. The present invention has been completed.

即ち、本発明は、以下の成分(A)および(B):
(A)下記化学式(I)及び(II)で示される構造単位からなる(メタ)アクリル系共重合体
That is, the present invention includes the following components (A) and (B):
(A) A (meth) acrylic copolymer comprising structural units represented by the following chemical formulas (I) and (II)

Figure 0004561977
Figure 0004561977

(式(I)中、Xは水素原子またはメチル基を表す。Rは炭素数1〜15のフルオロアルキル基を表す。但し、Rの一部は−CFHユニットを有する炭素数1〜15のフルオロアルキル基を表す。) (In the formula (I), X is .R 1 represents a hydrogen atom or a methyl group represents a fluoroalkyl group having 1 to 15 carbon atoms. However, carbon atoms part of R 1 has the -CF 2 H unit 1 Represents -15 fluoroalkyl groups.)

Figure 0004561977
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(式(II)中、Xは水素原子またはメチル基を表す。Rは炭素数1〜20であって、少なくとも1つの(メタ)アクリロイル基を有するアルキル基またはフルオロアルキル基を表す。nは1〜5の整数を表す。); および (In the formula (II), X represents a hydrogen atom or a methyl group. R 2 represents an alkyl group or a fluoroalkyl group having 1 to 20 carbon atoms and having at least one (meth) acryloyl group. Represents an integer of 1 to 5); and

(B)分子内に少なくとも1個のエチレン系二重結合を有する光重合可能なエチレン系不飽和化合物
を含み、成分(A)の固形分(硬化後に固体となる成分を含む)中の配合量(質量部)を(Awt)とし、成分(B)の配合量(質量部)を(Bwt)としたときに下記式(1)及び(2)の関係を満足する光硬化性樹脂組成物を提供する。光硬化性樹脂組成物は、更に、成分(C)として光重合開始剤を含有することが好ましい。
(B) The compounding quantity in the solid content (including the component which becomes solid after hardening) of the component (A) including the photopolymerizable ethylenically unsaturated compound having at least one ethylene double bond in the molecule A photocurable resin composition that satisfies the relationship of the following formulas (1) and (2) when (part by mass) is (Awt) and the blending amount (part by mass) of component (B) is (Bwt): provide. It is preferable that the photocurable resin composition further contains a photopolymerization initiator as the component (C).

Figure 0004561977
Figure 0004561977

また、本発明は、基材上に硬化樹脂層が積層された積層体の製造方法であって、以下の工程(a)および(b):
(a)基材上に上述の光硬化性樹脂組成物の膜を形成する工程; および
(b)得られた光硬化性樹脂組成物の膜に活性エネルギー線を照射することにより硬化させ、硬化樹脂層を形成する工程
を含む製造方法、並びにその具体的態様として、離型ベースフィルムと、その上に設けられた硬化樹脂層を含む転写層とを有する転写材の製造方法において、以下の工程(a′)および(b′):
(a′)離型ベースフィルム面上に前述の光硬化性樹脂組成物の膜を形成する工程; および
(b′)得られた光硬化性樹脂組成物の膜に活性エネルギー線を照射することにより硬化させ、硬化樹脂層を形成する工程
を含む転写材の製造方法を提供する。
Moreover, this invention is a manufacturing method of the laminated body by which the cured resin layer was laminated | stacked on the base material, Comprising: The following processes (a) and (b):
(A) a step of forming a film of the above-mentioned photocurable resin composition on a substrate; and (b) curing and curing the resulting photocurable resin composition film by irradiation with active energy rays. In a manufacturing method including a step of forming a resin layer, and as a specific embodiment thereof, in a manufacturing method of a transfer material having a release base film and a transfer layer including a cured resin layer provided thereon, the following steps (A ′) and (b ′):
(A ′) forming a film of the aforementioned photocurable resin composition on the surface of the release base film; and (b ′) irradiating the obtained photocurable resin composition film with active energy rays. To provide a method for producing a transfer material including a step of forming a cured resin layer.

また、本発明は、基材上に硬化樹脂層が積層された積層体であって、そのうちの少なくとも1層が前述の光硬化性樹脂組成物から形成されてなる積層体、およびその具体的態様として、離型ベースフィルムと、その上に設けられた転写層とを有する転写材において、転写層が前述の光硬化性樹脂組成物からなる硬化樹脂層を含むことを特徴とする転写材を提供する。   Further, the present invention is a laminate in which a cured resin layer is laminated on a substrate, and at least one of them is formed from the above-mentioned photocurable resin composition, and a specific embodiment thereof A transfer material having a release base film and a transfer layer provided thereon, wherein the transfer layer includes a cured resin layer made of the above-described photocurable resin composition. To do.

本発明は、また、被転写体の表面に、前述の転写材の転写層が転写されてなることを特徴とする転写物を提供する。   The present invention also provides a transfer product characterized in that the transfer layer of the transfer material described above is transferred onto the surface of a transfer object.

本発明の光硬化性樹脂組成物は、−CFHユニットを有する含フッ素(メタ)アクリル系共重合体と有しない含フッ素(メタ)アクリル系共重合体と、分子内に少なくとも1個のエチレン系二重結合を有する光重合可能なエチレン系不飽和化合物とを、特定の配合割合で含有しているので、温和な条件でかつ短時間に硬化可能であり、基材上に積層可能な硬化樹脂膜、例えば低屈折率薄膜(例えば、約0.01〜10μm厚の皮膜)を得ることができる。 The photocurable resin composition of the present invention comprises a fluorine-containing (meth) acrylic copolymer having a —CF 2 H unit, a fluorine-containing (meth) acrylic copolymer not having, and at least one in the molecule. It contains a photopolymerizable ethylenically unsaturated compound having an ethylene double bond in a specific blending ratio, so it can be cured under mild conditions and in a short time, and can be laminated on a substrate. A cured resin film, for example, a low refractive index thin film (for example, a film having a thickness of about 0.01 to 10 μm) can be obtained.

以下、本発明を詳細に説明する。なお、本明細書においてアクリロイル基またはメタクリロイル基を(メタ)アクリレート基と、アクリル酸またはメタクリル酸を(メタ)アクリル酸と略記することがある。   Hereinafter, the present invention will be described in detail. In this specification, the acryloyl group or methacryloyl group may be abbreviated as (meth) acrylate group, and acrylic acid or methacrylic acid may be abbreviated as (meth) acrylic acid.

本発明の光硬化性樹脂組成物は、以下の成分(A)および(B):
(A)下記化学式(I)及び(II)で示される構造単位からなる(メタ)アクリル系共重合体
The photocurable resin composition of the present invention includes the following components (A) and (B):
(A) A (meth) acrylic copolymer comprising structural units represented by the following chemical formulas (I) and (II)

Figure 0004561977
Figure 0004561977

(式(I)中、Xは水素原子またはメチル基を表す。Rは炭素数1〜15のフルオロアルキル基を表す。但し、Rの一部は−CFHユニットを有する炭素数1〜15のフルオロアルキル基を表す。) (In the formula (I), X is .R 1 represents a hydrogen atom or a methyl group represents a fluoroalkyl group having 1 to 15 carbon atoms. However, carbon atoms part of R 1 has the -CF 2 H unit 1 Represents -15 fluoroalkyl groups.)

Figure 0004561977
Figure 0004561977

(式(II)中、Xは水素原子またはメチル基を表す。Rは炭素数1〜20であって、少なくとも1つの(メタ)アクリロイル基を有するアルキル基またはフルオロアルキル基を表す。nは1〜5の整数を表す。); および (In the formula (II), X represents a hydrogen atom or a methyl group. R 2 represents an alkyl group or a fluoroalkyl group having 1 to 20 carbon atoms and having at least one (meth) acryloyl group. Represents an integer of 1 to 5); and

(B)分子内に少なくとも1個のエチレン系二重結合を有する光重合可能なエチレン系不飽和化合物
を含み、成分(A)の固形分(硬化後に固体となる成分を含む)中の配合量(質量部)を(Awt)とし、成分(B)の配合量(質量部)を(Bwt)としたときに下記式(1)及び(2)の関係を満足するものである。
(B) The compounding quantity in the solid content (including the component which becomes solid after hardening) of the component (A) including the photopolymerizable ethylenically unsaturated compound having at least one ethylene double bond in the molecule The relationship of the following formulas (1) and (2) is satisfied when the (part by mass) is (Awt) and the blending amount (part by mass) of the component (B) is (Bwt).

Figure 0004561977
Figure 0004561977

上述の式において、「(Awt)/{(Awt)+(Bwt)}」の数値が0.5未満であると、光硬化性樹脂組成物から得られる硬化樹脂膜の屈折率が上昇して良好な反射防止機能が得られず、0.9を超えると相対的に成分(B)の含有量が低下するため膜強度が低下する。また、「(Bwt)/{(Awt)+(Bwt)}」の数値が0.50を超えると、相対的に成分(A)の含有量が低下し硬化樹脂膜の屈折率が上昇し良好な反射防止機能が得られず、0.1未満であると膜強度が低下する。   In the above formula, when the value of “(Awt) / {(Awt) + (Bwt)}” is less than 0.5, the refractive index of the cured resin film obtained from the photocurable resin composition increases. A good antireflection function cannot be obtained, and if it exceeds 0.9, the content of the component (B) is relatively lowered, so that the film strength is lowered. In addition, when the value of “(Bwt) / {(Awt) + (Bwt)}” exceeds 0.50, the content of the component (A) is relatively lowered and the refractive index of the cured resin film is increased, which is favorable. Thus, the antireflection function cannot be obtained, and if it is less than 0.1, the film strength decreases.

また、硬化樹脂層の屈折率及び表面硬度の観点から、光硬化性樹脂組成物は、更に以下の式(1a)および(2a)の関係を満足することが好ましい。   Moreover, from the viewpoint of the refractive index and the surface hardness of the cured resin layer, the photocurable resin composition preferably further satisfies the following expressions (1a) and (2a).

Figure 0004561977
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本発明の光硬化性樹脂組成物を構成する成分(A)の化学式(I)及び(II)で示される構造単位からなる(メタ)アクリル系共重合体は、積層可能な低屈折率の硬化樹脂膜を得、且つ膜強度を上げるための成分であり、しかも、一般的な塗料で用いられる非ハロゲン系溶媒に溶解性を示す。   The (meth) acrylic copolymer comprising the structural units represented by the chemical formulas (I) and (II) of the component (A) constituting the photocurable resin composition of the present invention is a low refractive index curing that can be laminated. It is a component for obtaining a resin film and increasing the film strength, and it is soluble in non-halogen solvents used in general paints.

成分(A)の(メタ)アクリル系共重合体を構成する化学式(I)の構造単位は、特に硬化樹脂膜の屈折率を下げることに寄与している。ここで、化学式(I)におけるXは水素原子またはメチル基であるが、膜強度を高く保つためにはメチル基であることが好ましい。また、Rは炭素数1〜15、好ましくは2〜10、より好ましくは3〜6のフルオロアルキル基である。但し、硬化樹脂膜の表面の濡れ性を向上させ、積層可能な硬化膜を得るために、そのフルオロアルキル基の一部は、−CFHユニットを有する炭素数1〜15のフルオロアルキル基とする必要がある。この場合、Rの全「炭素数1〜15のフルオロアルキル基」中の「−CFHユニットを有する炭素数1〜15のフルオロアルキル基」の割合は、低すぎると濡れ性向上効果が十分でなく、高すぎると屈折率が下がりにくくなるので、好ましくは30〜100モル%、より好ましくは50〜100モル%である。 The structural unit of the chemical formula (I) constituting the (meth) acrylic copolymer of the component (A) contributes particularly to lowering the refractive index of the cured resin film. Here, X in the chemical formula (I) is a hydrogen atom or a methyl group, but is preferably a methyl group in order to keep the film strength high. R 1 is a fluoroalkyl group having 1 to 15 carbon atoms, preferably 2 to 10 carbon atoms, more preferably 3 to 6 carbon atoms. However, in order to improve the wettability of the surface of the cured resin film and obtain a cured film that can be laminated, a part of the fluoroalkyl group is a fluoroalkyl group having 1 to 15 carbon atoms having a —CF 2 H unit. There is a need to. In this case, if the ratio of the “fluoroalkyl group having 1 to 15 carbon atoms having a —CF 2 H unit” in the entire “fluoroalkyl group having 1 to 15 carbon atoms” of R 1 is too low, the effect of improving wettability is obtained. If it is not sufficient and is too high, the refractive index is difficult to decrease, so it is preferably 30 to 100 mol%, more preferably 50 to 100 mol%.

化学式(I)で示される構造単位を構成するために必要な−CFHユニットを含む単量体の好ましい具体例としては、1H,1H,3H‐テトラフルオロプロピル(メタ)アクリレート、1H,1H,5H‐オクタフルオロペンチル(メタ)アクリレート、1H,1H,7H‐ドデカフルオロヘプチル(メタ)アクリレート、1H,1H,9H‐ヘキサデカフルオロノニル(メタ)アクリレート等が挙げられる。中でも、得られる硬化樹脂膜の膜強度の点から1H,1H,5H‐オクタフルオロペンチル(メタ)アクリレート、2,2,3,3,4,4,5,5−オクタフルオロペンチル(メタ)アクリレートが特に好ましい。 Preferable specific examples of the monomer containing a —CF 2 H unit necessary for constituting the structural unit represented by the chemical formula (I) include 1H, 1H, 3H-tetrafluoropropyl (meth) acrylate, 1H, 1H. , 5H-octafluoropentyl (meth) acrylate, 1H, 1H, 7H-dodecafluoroheptyl (meth) acrylate, 1H, 1H, 9H-hexadecafluorononyl (meth) acrylate, and the like. Among them, 1H, 1H, 5H-octafluoropentyl (meth) acrylate, 2,2,3,3,4,4,5,5-octafluoropentyl (meth) acrylate is particularly preferred from the viewpoint of the strength of the resulting cured resin film. Is particularly preferred.

化学式(I)で示される構造単位を構成するために、必要に応じて用いることのできる−CFHユニットを含まない単量体の具体例としては、2,2,2−トリフルオロエチル(メタ)アクリレート、2,2,3,3,3−ペンタフルオロプロピル(メタ)アクリレート、2−トリフルオロメチル−3,3,3−トリフルオロプロピル(メタ)アクリレート、1−メチル−2,2,3,3,3−ペンタフルオロプロピル(メタ)アクリレート、2,2,3,3,4,4,4−ヘプタフルオロブチル(メタ)アクリレート、1−メチル−2,2,3,3,4,4,4−ヘプタフルオロブチル(メタ)アクリレート、3−トリフルオロメチル−4,4,4−トリフルオロブチル(メタ)アクリレート、2,2,3,3,4,4,5,5,5−ノナフルオロペンチル(メタ)アクリレート、2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,6−ウンデカフルオロヘキシル(メタ)アクリレート、3,3,4,4,5,5,6,6,6−ノナフルオロヘキシル(メタ)アクリレート、2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,7−トリデカフルオロヘプチル(メタ)アクリレート、5−トリフルオロメチル−3,3,4,4,5,6,6,6−オクタフルオロへキシル(メタ)アクリレート、2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,8−ペンタデカフルオロオクチル(メタ)アクリレート、3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,8−トリデカフルオロオクチル(メタ)アクリレート、7−トリフルオロメチル−3,3,4,4,5,6,6,7,8,8,8−ウンデカフルオロオクチル(メタ)アクリレート、2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,9,9,10,10,10−ノナデカフルオロデシル(メタ)アクリレート、3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,9,9,10,10,10−ヘプタデカフルオロデシル(メタ)アクリレート、9−トリフルオロメチル−3,3,4,4,5,6,6,7,8,8,9,10,10,10−テトラデカフルオロウンデシル(メタ)アクリレート、3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,9,9,10,10,11,11,11−ノナデカフルオロデシル(メタ)アクリレートなどのアルキル基の末端にトリフルオロメチル基を有するフルオロアルキル(メタ)アクリレート; 2,2,3,3,4,4−ヘキサフルオロシクロブチル(メタ)アクリレート、2,2,3,3,4,4,5,5−オクタフルオロシクロペンチル(メタ)アクリレート、2,2,3,3,4,4,5,5,6,6−デカフルオロシクロヘキシル(メタ)アクリレート、2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,7,7−ドデカフルオロシクロヘプチル(メタ)アクリレート、2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8−テトラデカフルオロシクロオクチル(メタ)アクリレートなどのフルオロシクロアルキル(メタ)アクリレート; 2−トリフルオロメチルシクロブチル(メタ)アクリレート、3−トリフルオロメチルシクロブチル(メタ)アクリレート、2−トリフルオロメチルシクロペンチル(メタ)アクリレート、3−トリフルオロメチルシクロペンチル(メタ)アクリレート、2−トリフルオロメチルシクロヘキシル(メタ)アクリレート、3−トリフルオロメチルシクロヘキシル(メタ)アクリレート、4−トリフルオロメチルシクロヘキシル(メタ)アクリレート、2−トリフルオロメチルシクロヘプチル(メタ)アクリレート、3−トリフルオロメチルシクロヘプチル(メタ)アクリレートなどのトリフルオロメチルシクロアルキル(メタ)アクリレート等が挙げられる。 Specific examples of monomers that do not contain a —CF 2 H unit that can be used as necessary to constitute the structural unit represented by the chemical formula (I) include 2,2,2-trifluoroethyl ( (Meth) acrylate, 2,2,3,3,3-pentafluoropropyl (meth) acrylate, 2-trifluoromethyl-3,3,3-trifluoropropyl (meth) acrylate, 1-methyl-2,2, 3,3,3-pentafluoropropyl (meth) acrylate, 2,2,3,3,4,4,4-heptafluorobutyl (meth) acrylate, 1-methyl-2,2,3,3,4, 4,4-heptafluorobutyl (meth) acrylate, 3-trifluoromethyl-4,4,4-trifluorobutyl (meth) acrylate, 2,2,3,3,4,4,5,5,5- Nonafluoropentyl ( ) Acrylate, 2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,6-undecafluorohexyl (meth) acrylate, 3,3,4,4,5,5,6,6 , 6-Nonafluorohexyl (meth) acrylate, 2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,7-tridecafluoroheptyl (meth) acrylate, 5-trifluoro Methyl-3,3,4,4,5,6,6,6-octafluorohexyl (meth) acrylate, 2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,7,7 , 8,8,8-pentadecafluorooctyl (meth) acrylate, 3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,8-tridecafluorooctyl (meth) acrylate 7-trifluoromethyl-3,3,4,4,5,6,6,7,8,8,8-undecafluorooctyl ( (Meth) acrylate, 2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,9,9,10,10,10-nonadecafluorodecyl (meth) acrylate 3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,9,9,10,10,10-heptadecafluorodecyl (meth) acrylate, 9-trifluoromethyl- 3,3,4,4,5,6,6,7,8,8,9,10,10,10-tetradecafluoroundecyl (meth) acrylate, 3,3,4,4,5,5 6,6,7,7,8,8,9,9,10,10,11,11,11-nonadecafluorodecyl (meth) acrylate and other fluoroalkyl groups having a trifluoromethyl group at the terminal thereof ( (Meth) acrylate; 2,2,3,3,4,4-hexafluorocyclobutyl (meth) a Relate, 2,2,3,3,4,4,5,5-octafluorocyclopentyl (meth) acrylate, 2,2,3,3,4,4,5,5,6,6-decafluorocyclohexyl ( (Meth) acrylate, 2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,7,7-dodecafluorocycloheptyl (meth) acrylate, 2,2,3,3,4,4,5 , 5,6,6,7,7,8,8-tetradecafluorocyclooctyl (meth) acrylate and the like; 2-trifluoromethylcyclobutyl (meth) acrylate, 3-trifluoro Methylcyclobutyl (meth) acrylate, 2-trifluoromethylcyclopentyl (meth) acrylate, 3-trifluoromethylcyclopentyl (meth) acrylate, 2-trifluoromethyl Cyclohexyl (meth) acrylate, 3-trifluoromethylcyclohexyl (meth) acrylate, 4-trifluoromethylcyclohexyl (meth) acrylate, 2-trifluoromethylcycloheptyl (meth) acrylate, 3-trifluoromethylcycloheptyl (meth) Examples thereof include trifluoromethylcycloalkyl (meth) acrylate such as acrylate.

一方、化学式(II)の構造単位は、硬化樹脂膜の架橋密度を向上させ膜強度を向上させることに寄与している。ここで、化学式(II)におけるXは水素原子またはメチル基であるが、膜強度を高く保つためにはメチル基であることが好ましい。また、Rは炭素数1〜20、好ましくは5〜20、より好ましくは5〜15であって、少なくとも1つ、好ましくは1〜3個の(メタ)アクリロイル基を有するアルキル基またはフルオロアルキル基を表す。nは1〜5の整数であるが、好ましくは1〜3の整数である。 On the other hand, the structural unit of the chemical formula (II) contributes to improving the cross-linking density of the cured resin film and improving the film strength. Here, X in the chemical formula (II) is a hydrogen atom or a methyl group, but is preferably a methyl group in order to keep the film strength high. R 2 is an alkyl group or fluoroalkyl having 1 to 20 carbon atoms, preferably 5 to 20, more preferably 5 to 15 and having at least one, preferably 1 to 3 (meth) acryloyl groups. Represents a group. Although n is an integer of 1-5, Preferably it is an integer of 1-3.

化学式(II)で示される構造単位は、例えば、(メタ)アクリロイル基及びイソシアネート基を有する単量体と上述の化学式(I)で示される構造単位を構成するための単量体との共重合体と、(メタ)アクリロイル基及び水酸基を有する化合物とをウレタン化反応させることによって容易に得ることができる。   The structural unit represented by the chemical formula (II) is, for example, a copolymer of a monomer having a (meth) acryloyl group and an isocyanate group and a monomer for constituting the structural unit represented by the above chemical formula (I). It can be easily obtained by urethanizing the compound with a compound having a (meth) acryloyl group and a hydroxyl group.

(メタ)アクリロイル基及びイソシアネート基を有する単量体の具体例としては(メタ)アクリロイルイソシアネート、2−(メタ)アクリロイルオキシエチルイソシアネートなどが挙げられる。取り扱い性、毒性、膜強度の観点から2−メタクリロイルオキシエチルイソシアネートが好ましい。   Specific examples of the monomer having a (meth) acryloyl group and an isocyanate group include (meth) acryloyl isocyanate and 2- (meth) acryloyloxyethyl isocyanate. 2-Methacryloyloxyethyl isocyanate is preferred from the viewpoints of handleability, toxicity, and film strength.

(メタ)アクリロイル基及び水酸基を有する化合物は、上述の(メタ)アクリロイル基及びイソシアネート基を有する単量体とウレタン化反応可能な化合物で、且つ分子内に(メタ)アクリロイル基及び1つの水酸基を含むアルキル基またはフルオロアルキル基を有する化合物であれば特に制限はない。具体例としては2‐ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2‐ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2‐ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、2‐ヒドロキシ−3‐フェノキシ(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシ−3−(メタ)アクリロイルオキシプロピル(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシ−4,4,5,5,6,6,7,7,7,−ノナフルオロヘプチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシ−4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,9,9,9−トリデカフルオロノニル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシ−4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,9,9,10,10,11,11,11−ヘプタデカフルオロウンデニル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシ−6−トリフルオロメチル−4,4,5,5,6,7,7,7−ドデカフルオロヘプチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシ−8−トリフルオロメチル−4,4,5,5,6,6,7,7,8,9,9,9−ドデカフルオロノニル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシ−10−トリフルオロメチル−4,4,5,5,6,6,7,7,8,9,9,10,11,11,11−ペンタデカフルオロウンデニル(メタ)アクリレート、3−パーフルオロヘキシル−2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレートが挙げられ、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレートや、3−パーフルオロヘキシル−2−ヒドロキシプロピルアクリレートが硬化時の反応性が高いため好ましい。また、硬化膜の屈折率をより下げたい場合は2−ヒドロキシ−4,4,5,5,6,6,7,7,7−ノナフルオロヘプチル(メタ)アクリレート等フルオロアルキル基を有する化合物が好ましい。   The compound having a (meth) acryloyl group and a hydroxyl group is a compound capable of urethanation reaction with the monomer having the (meth) acryloyl group and isocyanate group described above, and has a (meth) acryloyl group and one hydroxyl group in the molecule. If it is a compound which has the alkyl group or fluoroalkyl group to contain, there will be no restriction | limiting in particular. Specific examples include 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 2-hydroxybutyl (meth) acrylate, 2-hydroxy-3-phenoxy (meth) acrylate, 2-hydroxy-3- ( (Meth) acryloyloxypropyl (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, 2-hydroxy-4,4,5,5,6,6,7,7,7, -nonafluoroheptyl (meth) acrylate, 2 -Hydroxy-4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,9,9,9-tridecafluorononyl (meth) acrylate, 2-hydroxy-4,4,5,5, 6,6,7,7,8,8,9,9,10,10,11,11,11-heptadecafluorounenyl (meth) acrylate, 2-hydroxy-6-to Fluoromethyl-4,4,5,5,6,7,7,7-dodecafluoroheptyl (meth) acrylate, 2-hydroxy-8-trifluoromethyl-4,4,5,5,6,6,7 , 7,8,9,9,9-dodecafluorononyl (meth) acrylate, 2-hydroxy-10-trifluoromethyl-4,4,5,5,6,6,7,7,8,9,9 , 10, 11, 11, 11-pentadecafluorounenyl (meth) acrylate, 3-perfluorohexyl-2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 3-par Fluorohexyl-2-hydroxypropyl acrylate is preferred because of its high reactivity during curing. When it is desired to lower the refractive index of the cured film, a compound having a fluoroalkyl group such as 2-hydroxy-4,4,5,5,6,6,7,7,7-nonafluoroheptyl (meth) acrylate is used. preferable.

化学式(II)の好ましい構造単位としては、硬化樹脂膜の生産性の点から下記化学式(III)または硬化樹脂膜の反射防止機能の点から(IV)が挙げられる。但し、(IV)中、Xは水素原子またはメチル基を表す。Rは炭素数1〜14のフルオロアルキル基、好ましくは炭素数3〜10のパーフルオロアルキル基を表す。 Preferred structural units of the chemical formula (II) include the following chemical formula (III) from the viewpoint of productivity of the cured resin film or (IV) from the viewpoint of the antireflection function of the cured resin film. However, in (IV), X represents a hydrogen atom or a methyl group. R 3 represents a fluoroalkyl group having 1 to 14 carbon atoms, preferably a perfluoroalkyl group having 3 to 10 carbon atoms.

Figure 0004561977
Figure 0004561977

成分(A)の(メタ)アクリル系共重合体中における化学式(I)及び(II)で示される構造単位の存在割合は、化学式(I)で表される構造単位を(a mol)、化学式(II)で表される構造単位を(b mol)としたときに、下記式(3)及び(4)の関係を満足することが好ましい。


The proportion of the structural units represented by the chemical formulas (I) and (II) in the (meth) acrylic copolymer of the component (A) is the structural unit represented by the chemical formula (I) (a mol). When the structural unit represented by (II) is (b mol), it is preferable to satisfy the relationship of the following formulas (3) and (4).


Figure 0004561977
Figure 0004561977

上述の式において、「(a mol)/{(a mol)+(b mol)}」の数値が0.40未満であると、光硬化性樹脂組成物の硬化樹脂膜の屈折率が下げられない可能性があり、また、0.99より大きい場合は硬化樹脂膜の硬度が下がる可能性がある。「(b mol)/{(b mol)+(b mol)}」の値が0.01より小さい場合は硬化樹脂膜の硬度が下がる可能性があり、0.60より大きい場合は、硬化樹脂膜の屈折率が下げられない可能性がある。   In the above formula, when the value of “(a mol) / {(a mol) + (b mol)}” is less than 0.40, the refractive index of the cured resin film of the photocurable resin composition is lowered. There is a possibility that the hardness of the cured resin film is lowered. If the value of “(b mol) / {(b mol) + (b mol)}” is smaller than 0.01, the hardness of the cured resin film may be lowered. There is a possibility that the refractive index of the film cannot be lowered.

また、硬化樹脂層の屈折率及び表面硬度の観点から、成分(A)の(メタ)アクリル系共重合体中における化学式(I)及び(II)で示される構造単位の存在割合は、更に以下の式(3a)および(4a)の関係を満足することが好ましい。   Further, from the viewpoint of the refractive index and surface hardness of the cured resin layer, the abundance of the structural units represented by the chemical formulas (I) and (II) in the (meth) acrylic copolymer of the component (A) is It is preferable to satisfy the relationship of the formulas (3a) and (4a).

Figure 0004561977
Figure 0004561977

化学式(I)及び(II)で示される構造単位を含む成分(A)の(メタ)アクリル系共重合体は、それぞれの構造単位に対応する上述の単量体を共重合させることによって得ることができる。   The (meth) acrylic copolymer of component (A) containing the structural units represented by chemical formulas (I) and (II) is obtained by copolymerizing the above monomers corresponding to the respective structural units. Can do.

本発明の光硬化性樹脂組成物は、成分(B)として分子内に少なくとも1個、好ましくは2個のエチレン系二重結合を有する光重合可能なエチレン系不飽和化合物を含有する。ここで、「光重合可能」とは、活性エネルギー線(例えば紫外線、可視光、電子線、エックス線など)の照射により重合可能であることを意味する。また、成分(B)は、成分(A)を構成する化学式(II)の構造単位の形成に用いる(メタ)アクリロイル基及び水酸基を有する化合物と同じであってもよい。このような光重合可能なエチレン系不飽和化合物の具体例としては、(メタ)アクリル酸、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、プロピル(メタ)アクリレート、n−ブチル(メタ)アクリレート、t−ブチル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、n−ノニル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニル(メタ)アクリレート、2−ジシクロペンテノキシエチル(メタ)アクリレート、グリシジル(メタ)アクリレート、メトキシエチル(メタ)アクリレート、エトキシエチル(メタ)アクリレート、ブトキシエチル(メタ)アクリレート、メトキシエトキシエチル(メタ)アクリレート、エトキシエトキシエチル(メタ)アクリレート、テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、4−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、フェノキシエチル(メタ)アクリレート、フェノキシエトキシエチル(メタ)アクリレート、ビフェノキシエチル(メタ)アクリレート、ビフェノキシエトキシエチル(メタ)アクリレート、ノルボルニル(メタ)アクリレート、フェニルエポキシ(メタ)アクリレート、(メタ)アクリロイルモルホリン、ダイアセトンアクリルアミド、N−[2−(メタ)アクリロイルエチル]−1,2−シクロヘキサンジカルボイミド、N−[2−(メタ)アクリロイルエチル]−1,2−シクロヘキサンジカルボイミド−1−エン、N−[2−(メタ)アクリロイルエチル]−1,2−シクロヘキサンジカルボイミド−4−エン等の単官能性(メタ)アクリレート系モノマー;N−ビニルピロリドン、N−ビニルイミダゾール、N−ビニルカプロラクタム、スチレン、α−メチルスチレン、ビニルトルエン、酢酸アリル、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、安息香酸ビニルなどのビニル系モノマー;1,4−ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、1,9−ノナンジオールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールピバリン酸エステルジ(メタ)アクリレート、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ビスフェノール−A−ジグリシジルエーテルジ(メタ)アクリレート、1,4−シクロヘキサンジメタノールのエチレンオキサイド変性ジアクリレート、エチレンオキサイド変性テトラブロモビスフェノール−A−ジ(メタ)アクリレートなどの2官能性(メタ)アクリレート;トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、エチレンオキサイド付加トリメチロールプロパンのトリ(メタ)アクリレート、エチレンオキサイド付加ジトリメチロールプロパンのテトラ(メタ)アクリレート、プロピレンオキサイド付加トリメチロールプロパンのトリ(メタ)アクリレート、エチレンオキサイド変性イソシアヌール酸トリ(メタ)アクリレート、プロピレンオキサイド付加ジトリメチロールプロパンのテトラ(メタ)アクリレート、エチレンオキサイド付加ペンタエリスリトールのテトラ(メタ)アクリレート、プロピレンオキサイド付加ペンタエリスリトールのテトラ(メタ)アクリレート、エチレンオキサイド付加ジペンタエリスリトールのペンタ(メタ)アクリレート、プロピレンオキサイド付加ジペンタエリスリトールのペンタ(メタ)アクリレート、エチレンオキサイド付加ジペンタエリスリトールのヘキサ(メタ)アクリレート、プロピレンオキサイド付加ジペンタエリスリトールのヘキサ(メタ)アクリレート、トリアリルシアヌレート、トリアリルイソシアヌレート、トリアリルホルマール、1,3,5−トリアクリロイルヘキサヒドロ−s−ヒドラジンなどの多官能性モノマー;エチレンオキサイド変性ビスフェノール−A−ジビニルエーテル、エチレンオキサイド変性ビスフェノール−F−ジビニルエーテル、エチレンオキサイド変性カテコールジビニルエーテル、エチレンオキサイド変性レゾルシノールジビニルエーテル、エチレンオキサイド変性ハイドロキノンジビニルエーテル、エチレンオキサイド変性−1,3,5,ベンゼントリオールトリビニルエーテル等のビニルエーテル系モノマー;ウレタンアクリレート、エステルアクリレートなどのオリゴマーアクリレートが挙げられる。これらは単一種でも複数種併用してもよい。これらのうち2官能以上の多官能性モノマーが好ましく使用される。   The photocurable resin composition of the present invention contains a photopolymerizable ethylenically unsaturated compound having at least one, preferably two ethylene double bonds in the molecule as component (B). Here, “photopolymerizable” means that polymerization is possible by irradiation with active energy rays (for example, ultraviolet rays, visible light, electron beams, X-rays, etc.). In addition, the component (B) may be the same as the compound having a (meth) acryloyl group and a hydroxyl group used for forming the structural unit of the chemical formula (II) constituting the component (A). Specific examples of such photopolymerizable ethylenically unsaturated compounds include (meth) acrylic acid, methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate, t-butyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, n-nonyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, dicyclopentenyl (meth) acrylate, 2-dicyclopenteno Xylethyl (meth) acrylate, glycidyl (meth) acrylate, methoxyethyl (meth) acrylate, ethoxyethyl (meth) acrylate, butoxyethyl (meth) acrylate, methoxyethoxyethyl (meth) acrylate, ethoxyethoxyethyl (Meth) acrylate, tetrahydrofurfuryl (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 4-hydroxybutyl (meth) acrylate, phenoxyethyl (meth) acrylate, phenoxyethoxyethyl (Meth) acrylate, biphenoxyethyl (meth) acrylate, biphenoxyethoxyethyl (meth) acrylate, norbornyl (meth) acrylate, phenylepoxy (meth) acrylate, (meth) acryloylmorpholine, diacetone acrylamide, N- [2- (Meth) acryloylethyl] -1,2-cyclohexanedicarboximide, N- [2- (meth) acryloylethyl] -1,2-cyclohexanedicarbomido-1-ene, -Monofunctional (meth) acrylate monomers such as [2- (meth) acryloylethyl] -1,2-cyclohexanedicarbomido-4-ene; N-vinylpyrrolidone, N-vinylimidazole, N-vinylcaprolactam, Vinyl monomers such as styrene, α-methylstyrene, vinyl toluene, allyl acetate, vinyl acetate, vinyl propionate, vinyl benzoate; 1,4-butanediol di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meta ) Acrylate, 1,9-nonanediol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, neopentyl glycol pivalic acid ester di (meth) acrylate, ethylene glycol di (meth) acrylate, polyethylene glycol di (meth) acrylate , Reethylene glycol di (meth) acrylate, polypropylene glycol di (meth) acrylate, bisphenol-A-diglycidyl ether di (meth) acrylate, ethylene oxide modified diacrylate of 1,4-cyclohexanedimethanol, ethylene oxide modified tetrabromobisphenol- A bifunctional (meth) acrylate such as A-di (meth) acrylate; trimethylolpropane tri (meth) acrylate, ditrimethylolpropane tetra (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, pentaerythritol penta (meth) acrylate , Pentaerythritol hexa (meth) acrylate, tri (meth) acrylate of ethylene oxide-added trimethylolpropane, ethyl Tetra (meth) acrylate of oxide-added ditrimethylolpropane, tri (meth) acrylate of propylene oxide-added trimethylolpropane, ethylene oxide-modified isocyanuric acid tri (meth) acrylate, tetra (meth) acrylate of propylene oxide-added ditrimethylolpropane, Tetra (meth) acrylate of ethylene oxide-added pentaerythritol, tetra (meth) acrylate of propylene oxide-added pentaerythritol, penta (meth) acrylate of ethylene oxide-added dipentaerythritol, penta (meth) acrylate of propylene oxide-added dipentaerythritol, Hexa (meth) acrylate of ethylene oxide-added dipentaerythritol, propylene Polyfunctional monomer such as hexa (meth) acrylate, triallyl cyanurate, triallyl isocyanurate, triallyl formal, 1,3,5-triacryloylhexahydro-s-hydrazine of xide-added dipentaerythritol; ethylene oxide modified Bisphenol-A-divinyl ether, ethylene oxide-modified bisphenol-F-divinyl ether, ethylene oxide-modified catechol divinyl ether, ethylene oxide-modified resorcinol divinyl ether, ethylene oxide-modified hydroquinone divinyl ether, ethylene oxide-modified 1,3,5, benzenetriol Vinyl ether monomers such as trivinyl ether; oligomer acrylates such as urethane acrylate and ester acrylate And the like. These may be used alone or in combination. Of these, polyfunctional monomers having two or more functions are preferably used.

また、光硬化性樹脂組成物は、光重合可能なエチレン系不飽和化合物の他に、必要に応じて光重合可能なエポキシ系化合物またはオキセタン系化合物を含有することができる。   In addition to the photopolymerizable ethylenically unsaturated compound, the photocurable resin composition can contain a photopolymerizable epoxy compound or oxetane compound, if necessary.

エポキシ系化合物としては、1,2−エポキシシクロヘキサン、1,4−ブタンジオールジグリシジルエーテル、3,4−エポキシシクロヘキシルメチル−3′,4′−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、トリメチロールプロパンジグリシジルエーテル、ビス(3,4−エポキシ−6−メチルシクロヘキシルメチル)アジペート、フェノールノボラックのグリシジルエーテル、ビスフェノールAジグリシジルエーテル、オキセタン化合物としては3−エチル−3−ヒドロキシメチルオキセタン、3−エチル−3−(フェノキシメチル)オキセタン、ジ[1−エチル(3−オキセタニル)]メチルエーテル、3−エチル−3−(2−エチルヘキシロキシメチル)オキセタンなどが挙げられる。   Epoxy compounds include 1,2-epoxycyclohexane, 1,4-butanediol diglycidyl ether, 3,4-epoxycyclohexylmethyl-3 ', 4'-epoxycyclohexanecarboxylate, trimethylolpropane diglycidyl ether, bis (3,4-epoxy-6-methylcyclohexylmethyl) adipate, glycidyl ether of phenol novolac, bisphenol A diglycidyl ether, oxetane compounds include 3-ethyl-3-hydroxymethyloxetane, 3-ethyl-3- (phenoxymethyl) ) Oxetane, di [1-ethyl (3-oxetanyl)] methyl ether, 3-ethyl-3- (2-ethylhexyloxymethyl) oxetane, and the like.

また、光硬化性樹脂組成物は、活性エネルギー線の照射により重合をするために、成分(C)として光重合開始剤を含有することが好ましい。その他に光増感剤や光促進剤等の光触媒化合物を一種以上含有することが好ましい。光触媒化合物としては公知の光触媒化合物から適宜選択して使用することができる。
In addition, the photocurable resin composition preferably contains a photopolymerization initiator as the component (C) in order to polymerize by irradiation with active energy rays. In addition, it is preferable to contain one or more photocatalytic compounds such as a photosensitizer and a photo accelerator. As a photocatalyst compound, it can select from a well-known photocatalyst compound suitably, and can be used.

成分(C)の光重合開始剤としては、硬化手段である活性エネルギー線の種類(紫外線、可視光、電子線など)に応じて適宜選択することができる。   As a photoinitiator of a component (C), it can select suitably according to the kind (ultraviolet ray, visible light, an electron beam, etc.) of the active energy ray which is a hardening means.

光重合開始剤の具体例としては、2,2−ジメトキシ−2−フェニルアセトン、アセトフェノン、ベンゾフェノン、キサントフルオレノン、ベンズアルデヒド、アントラキノン、3−メチルアセトフェノン、4−クロロベンゾフェノン、4,4−ジアミノベンゾフェノン、ベンゾインプロピルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンジルジメチルケタール、1−(4−イソプロピルフェニル)−2−ヒドロキシ−2−メチルプロパン−1−オン、4−チオキサントン、カンファーキノン、2−メチル−1−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルホリノプロパン−1−オン等が挙げられる。また、N−アクリロイルオキシエチルマレイミドのように分子内に少なくとも1個の(メタ)アクリロイル基を有する光重合開始剤も用いることができる。   Specific examples of the photopolymerization initiator include 2,2-dimethoxy-2-phenylacetone, acetophenone, benzophenone, xanthofluorenone, benzaldehyde, anthraquinone, 3-methylacetophenone, 4-chlorobenzophenone, 4,4-diaminobenzophenone, Benzoin propyl ether, benzoin ethyl ether, benzyl dimethyl ketal, 1- (4-isopropylphenyl) -2-hydroxy-2-methylpropan-1-one, 4-thioxanthone, camphorquinone, 2-methyl-1- [4- (Methylthio) phenyl] -2-morpholinopropan-1-one and the like. Further, a photopolymerization initiator having at least one (meth) acryloyl group in the molecule such as N-acryloyloxyethylmaleimide can also be used.

光重合開始剤の配合量は、後述する希釈剤を除いた光硬化性樹脂組成物の固形分(硬化前に既に固形の成分および硬化後に固形となる成分のトータル)100質量部に対し、好ましくは0.1〜10質量部、より好ましくは3〜5質量部である。   The blending amount of the photopolymerization initiator is preferably based on 100 parts by mass of the solid content of the photocurable resin composition excluding the diluent described later (the total of components already solid before curing and solid components after curing). Is 0.1 to 10 parts by mass, more preferably 3 to 5 parts by mass.

光重合を促進させるために光重合開始剤と共に使用できる光増感剤の具体例としては、2−クロロチオキサントン、2,4−ジエチルチオキサントン、2,4−ジイソプロピルチオキサントン等を挙げることができる。また、光重合を促進させるために光重合開始剤と共に使用できる光促進剤の具体例としては、p−ジメチルアミノ安息香酸エチル、p−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、p−ジメチルアミノ安息香酸2−n−ブトキシエチル、安息香酸2−ジメチルアミノエチルなどを挙げることができる。   Specific examples of photosensitizers that can be used together with a photopolymerization initiator to promote photopolymerization include 2-chlorothioxanthone, 2,4-diethylthioxanthone, 2,4-diisopropylthioxanthone, and the like. Specific examples of the photo-accelerating agent that can be used together with the photo-polymerization initiator for promoting photo-polymerization include ethyl p-dimethylaminobenzoate, isoamyl p-dimethylaminobenzoate, p-dimethylaminobenzoic acid 2-n. -Butoxyethyl, 2-dimethylaminoethyl benzoate and the like can be mentioned.

また、光硬化性樹脂組成物には、その塗工性を改善するために、希釈剤を添加することができる。希釈剤の添加量は、形成すべき硬化層の膜厚等に応じて、適宜決定することができる。例えば、硬化層の厚みを0.1μm程度とする場合には、固形分5.25質量%に対し希釈剤94.75質量%とし、ウェット膜厚で1.9μmで塗工することが好ましい。   Moreover, in order to improve the coating property, a diluent can be added to the photocurable resin composition. The addition amount of the diluent can be appropriately determined according to the thickness of the cured layer to be formed. For example, when the thickness of the hardened layer is about 0.1 μm, it is preferable that the coating is applied at a wet film thickness of 1.9 μm with a diluent of 94.75% by mass with respect to a solid content of 5.25% by mass.

希釈剤としては、一般の樹脂塗工液に用いられている希釈剤を使用することができ、具体的には、例えば、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン系化合物;酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸エチル、酢酸メトキシエチルなどのエステル系化合物;ジエチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、フェニルセロソルブ、ジオキサン等のエーテル系化合物;トルエン、キシレンなどの芳香族化合物;ペンタン、ヘキサンなどの脂肪族化合物;塩化メチレン、クロロベンゼン、クロロホルムなどのハロゲン系炭化水素;メタノール、エタノール、ノルマルプロパノール、イソプロパノールなどのアルコール化合物などを挙げることができる。また、稀釈剤としては、固体状光重合性物質との間に高い親和性を示す水、低級アルコール類(例えば、メタノール、エタノール、プロパノール等)を好ましく使用できる。   As the diluent, a diluent used in a general resin coating solution can be used. Specifically, for example, ketone compounds such as acetone, methyl ethyl ketone, cyclohexanone; methyl acetate, ethyl acetate, acetic acid Ester compounds such as butyl, ethyl lactate and methoxyethyl acetate; ether compounds such as diethyl ether, ethylene glycol dimethyl ether, ethyl cellosolve, butyl cellosolve, phenyl cellosolve and dioxane; aromatic compounds such as toluene and xylene; pentane and hexane Aliphatic compounds; halogen-based hydrocarbons such as methylene chloride, chlorobenzene and chloroform; alcohol compounds such as methanol, ethanol, normal propanol and isopropanol. As the diluent, water and lower alcohols (for example, methanol, ethanol, propanol, etc.) having high affinity with the solid photopolymerizable substance can be preferably used.

本発明の光硬化性樹脂組成物には、必要に応じて、更に、無機フィラー、重合禁止剤、着色顔料、染料、消泡剤、レベリング剤、分散剤、光拡散剤、可塑剤、帯電防止剤、界面活性剤、非反応性ポリマー、近赤外線吸収剤などを本発明の効果を損なわない範囲で添加することができる。   If necessary, the photocurable resin composition of the present invention may further include an inorganic filler, a polymerization inhibitor, a color pigment, a dye, an antifoaming agent, a leveling agent, a dispersing agent, a light diffusing agent, a plasticizer, and an antistatic agent. An agent, a surfactant, a non-reactive polymer, a near-infrared absorber, and the like can be added as long as the effects of the present invention are not impaired.

また、本発明の光硬化性樹脂組成物は、以上説明した成分(A)および(B)と、必要に応じて配合される成分(C)をはじめとする他の成分とを、常法に従って均一に混合することにより調製することができる。   In addition, the photocurable resin composition of the present invention comprises components (A) and (B) described above and other components including component (C) blended as necessary according to a conventional method. It can be prepared by mixing uniformly.

本発明の光硬化樹脂組成物は、基材上に塗布し、光硬化させることにより基材と硬化樹脂層とからなる積層体とすることができる。このような積層体は、使用する基材の種類、厚み、物性、また、光硬化性樹脂組成物からなる硬化樹脂層の物性や厚み、必要に応じて積層される付加的な熱可塑性層、熱硬化性層あるいは光硬化性層の種類や性質(例えば接着層)等に応じて、広範囲な利用が可能である。例えば、転写材、反射防止材等として使用可能である。   The photocurable resin composition of the present invention can be formed on a substrate and photocured to form a laminate comprising a substrate and a cured resin layer. Such a laminate includes the type, thickness, and physical properties of the substrate used, and the physical properties and thickness of a cured resin layer made of a photocurable resin composition, and an additional thermoplastic layer that is laminated as necessary. It can be used in a wide range according to the kind and properties (for example, adhesive layer) of the thermosetting layer or the photocurable layer. For example, it can be used as a transfer material, an antireflection material, or the like.

このような積層体の基材としては、板状またはフィルム状であれば特に制限はなく、鉄、アルミニウムなどの金属基材、ガラス基材、セラミックス基材、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂、ポリカーボネート等の樹脂基材などを挙げることができる。   The substrate of such a laminate is not particularly limited as long as it is plate-like or film-like, such as a metal substrate such as iron or aluminum, a glass substrate, a ceramic substrate, an acrylic resin, a polyester resin, or a polycarbonate. A resin base material etc. can be mentioned.

このような積層体は、以下の工程(a)および(b)を含む製造方法により製造することができる。以下、工程毎に説明する。   Such a laminate can be manufactured by a manufacturing method including the following steps (a) and (b). Hereinafter, it demonstrates for every process.

工程(a)
まず、基材上に本発明の光硬化性樹脂組成物の膜を形成する。膜の形成手法としては、含浸法、凸版印刷法、平板印刷法、凹版印刷などで用いられるロールを用いた塗工法、基材に噴霧するようなスプレー法、カーテンフローコートなどの公知の手法を利用することができる。光硬化性樹脂組成物に希釈剤が含有されている場合には、その塗工膜を加熱炉や遠赤外炉、超遠赤外炉中で加熱し乾燥することが好ましい。
Step (a)
First, a film of the photocurable resin composition of the present invention is formed on a substrate. As a film forming method, a known method such as an impregnation method, a relief printing method, a flat printing method, a coating method using a roll used in intaglio printing, a spray method of spraying on a substrate, a curtain flow coat, or the like is used. Can be used. When a diluent is contained in the photocurable resin composition, the coating film is preferably heated and dried in a heating furnace, a far infrared furnace, or a super far infrared furnace.

基材としては、板状またはフィルム状の、金属(鉄、アルミニウムなど)基板、ガラス基板を含むセラミック基板、アクリル樹脂、PET、ポリカーボネートなどのプラスチック基板、熱硬化性樹脂基板等を使用することができる。   As the base material, a plate-like or film-like metal (iron, aluminum, etc.) substrate, a ceramic substrate including a glass substrate, a plastic substrate such as acrylic resin, PET, polycarbonate, a thermosetting resin substrate, etc. may be used. it can.

工程(b)
工程(a)で得られた光硬化性膜に、紫外線、可視光、レーザー、電子線、エックス線等の活性エネルギー線を照射して硬化させ、硬化樹脂層を形成する。これにより、基材上に本発明の光硬化性樹脂組成物からなる硬化樹脂層が積層された積層体が得られる。なお、紫外線を使用する場合の光源としては、低圧水銀ランプ、高圧水銀ランプ、キセノンランプ、メタルハライドランプなどが挙げられる。
Step (b)
The photocurable film obtained in the step (a) is cured by irradiating with active energy rays such as ultraviolet rays, visible light, laser, electron beam, X-rays, etc. to form a cured resin layer. Thereby, the laminated body by which the cured resin layer which consists of a photocurable resin composition of this invention on the base material was laminated | stacked is obtained. In addition, as a light source when using an ultraviolet-ray, a low pressure mercury lamp, a high pressure mercury lamp, a xenon lamp, a metal halide lamp etc. are mentioned.

このようにして得られる積層体は、基材と硬化樹脂層との2層構造に限られず、熱可塑性、熱硬化性、光硬化性の材料の層を予め設けていてもよく、あるいは硬化層形成後に改めて設けてもよい。   The laminate obtained in this way is not limited to a two-layer structure of a base material and a cured resin layer, and a layer of a thermoplastic, thermosetting, or photocurable material may be provided in advance, or a cured layer You may provide again after formation.

以上、本発明の光硬化性樹脂組成物、それからなる硬化樹脂層を有する積層体およびその製造方法について説明したが、これらの積層体および製造方法の好ましい具体的な態様の一例として転写材およびその製造方法を以下に示す。なお、それらの中の用語の意味は既に説明した通りである。   As described above, the photocurable resin composition of the present invention, the laminate having a cured resin layer comprising the photocurable resin composition, and the production method thereof have been described. However, as an example of preferred specific embodiments of these laminates and production methods, a transfer material and its The manufacturing method is shown below. In addition, the meaning of the term in them is as having already demonstrated.

本発明の転写材の転写層は、上述した光硬化性樹脂組成物からなる硬化樹脂層を少なくとも一層有するものであり、従って、硬化樹脂層単独であってもよいが、他の低屈折率層、高屈折率層、ポリマー層などを含む2層以上の多層構造でもよい。   The transfer layer of the transfer material of the present invention has at least one cured resin layer composed of the above-described photocurable resin composition, and therefore may be a cured resin layer alone, but other low refractive index layers. Further, it may be a multilayer structure of two or more layers including a high refractive index layer, a polymer layer and the like.

例えば、転写層は、転写材の使用目的に応じて、他の低屈折率層や高屈折率層等と組み合わせて反射防止層として使用できる。また、アクリル系またはシリコン系などのハードコート層、抗菌層等の機能層、印刷層、着色層等の装飾層、金属または金属化合物からなる蒸着層(導電層)、プライマー層なども含むことができる。   For example, the transfer layer can be used as an antireflection layer in combination with other low refractive index layers, high refractive index layers, or the like, depending on the intended use of the transfer material. It may also include a hard coat layer such as an acrylic or silicon type, a functional layer such as an antibacterial layer, a decorative layer such as a printing layer or a colored layer, a vapor deposition layer (conductive layer) made of a metal or a metal compound, a primer layer, or the like. it can.

かかる転写層の層構成の具体例としては、硬化樹脂層、低屈折率層/硬化樹脂層、低屈折率層/高屈折率層/硬化樹脂層、低屈折率層/高屈折率層/蒸着層/プライマー層/硬化樹脂層、低屈折率層/高屈折率層/プライマー層/蒸着層/プライマー層/硬化樹脂層、低屈折率層/高屈折率層/プライマー層/硬化樹脂層、ハードコート層/硬化樹脂層、印刷層/硬化樹脂層、装飾層/硬化樹脂層等が挙げられる。   Specific examples of the layer structure of the transfer layer include a cured resin layer, a low refractive index layer / cured resin layer, a low refractive index layer / high refractive index layer / cured resin layer, a low refractive index layer / a high refractive index layer / vapor deposition. Layer / primer layer / cured resin layer, low refractive index layer / high refractive index layer / primer layer / evaporation layer / primer layer / cured resin layer, low refractive index layer / high refractive index layer / primer layer / cured resin layer, hard Examples thereof include a coat layer / cured resin layer, a printed layer / cured resin layer, and a decorative layer / cured resin layer.

上記硬化樹脂層の膜厚は、特に制限はないが、通常0.5〜20μm程度の範囲から適宜選択される。また、他の層の膜厚においても、特に制限はないが、通常0.1〜10μm程度の範囲から適宜選択される。   Although there is no restriction | limiting in particular in the film thickness of the said cured resin layer, Usually, it selects suitably from the range of about 0.5-20 micrometers. Further, the film thicknesses of the other layers are not particularly limited, but are usually appropriately selected from the range of about 0.1 to 10 μm.

光硬化性樹脂組成物から硬化樹脂層を形成するためには、成膜した光硬化性樹脂組成物の膜に、公知の光重合性樹脂の光硬化技術に準じて、紫外線、可視光線、α線、β線、γ線、電子線、レーザーなどの広範囲の活性エネルギー線を使用することができる。これらの中でも、紫外線を用いることが好ましい。光源は点光源、線光源、面光源等の任意のものを使用することができるが、実用性の点からは線光源が一般的である。たとえば、紫外線発生源としては実用的、経済性の面から紫外線ランプが一般に用いられ、具体的には、低圧水銀ランプ、高圧水銀ランプ、キセノンランプ、メタルハライドランプなどが挙げられる。なお、点光源または線光源を使用する場合には、光硬化性樹脂組成物からなる層に所定の光を照射できるように適宜走査すればよい。   In order to form a cured resin layer from the photocurable resin composition, the film of the formed photocurable resin composition is subjected to ultraviolet light, visible light, α according to a known photocuring technique of a photopolymerizable resin. A wide range of active energy rays such as rays, β rays, γ rays, electron rays, and lasers can be used. Among these, it is preferable to use ultraviolet rays. Any light source such as a point light source, a line light source, and a surface light source can be used, but a line light source is generally used from the viewpoint of practicality. For example, an ultraviolet lamp is generally used as an ultraviolet ray generation source in terms of practicality and economy, and specific examples include a low pressure mercury lamp, a high pressure mercury lamp, a xenon lamp, and a metal halide lamp. In addition, what is necessary is just to scan suitably so that predetermined | prescribed light can be irradiated to the layer which consists of a photocurable resin composition, when using a point light source or a line light source.

転写材は、離型ベースフィルムとその上に上述の転写層とを有するものであるから、かかる転写材の層構成の具体例としては、離型ベースフィルム/硬化樹脂層、離型ベースフィルム/低屈折率層/硬化樹脂層、離型ベースフィルム/低屈折率層/高屈折率層/硬化樹脂層、離型ベースフィルム/低屈折率層/高屈折率層/蒸着層/プライマー層/硬化樹脂層、離型ベースフィルム/低屈折率層/高屈折率層/プライマー層/蒸着層/プライマー層/硬化樹脂層、離型ベースフィルム/低屈折率層/高屈折率層/プライマー層/硬化樹脂層、離型ベースフィルム/ハードコート層/硬化樹脂層、離型ベースフィルム/印刷層/硬化樹脂層、離型ベースフィルム/装飾層/硬化樹脂層等が挙げられる。   Since the transfer material has a release base film and the above-described transfer layer thereon, specific examples of the layer structure of the transfer material include a release base film / cured resin layer, a release base film / Low refractive index layer / cured resin layer, release base film / low refractive index layer / high refractive index layer / cured resin layer, release base film / low refractive index layer / high refractive index layer / vapor deposition layer / primer layer / curing Resin layer, release base film / low refractive index layer / high refractive index layer / primer layer / evaporation layer / primer layer / cured resin layer, release base film / low refractive index layer / high refractive index layer / primer layer / curing Examples thereof include a resin layer, a release base film / hard coat layer / cured resin layer, a release base film / printing layer / cured resin layer, and a release base film / decoration layer / cured resin layer.

本発明の転写材に用いる離型性ベースフィルムとしては、特に制限はなく、例えば、20℃での40dyn/cm以下の表面張力を示すような離型性を有し、充分な自己保持性を有する通常の転写材に用いられるフィルムであれば用いることができる。本発明かかる離型ベースフィルムの具体例としては、ポリエチレンテレフタレートフィルム等のポリエステルフィルム、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルムなどのポリオレフィンフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリフッ化ビニリデンフィルム、ポリフッ化ビニルフィルム、ポリヘキサフルオロプロピレンフィルム、ポリ(ヘプタフルオロイソプロピル(メタ)アクリレートフィルム等のフッ素系樹脂フィルム、ポリオキシジメチルシリレン、ポリオキシメチルシリレン、ポリオキシジメチルシリレン−α、ω−ジブタン酸、ポリオキシビニルシリレン等のケイ素含有重合体フィルム、ポリスチレンフィルム、ポリアミドフィルム、ポリアミドイミドフィルム、ポリ塩化ビニルフィルム、セルロースアセテートフィルムなどの樹脂フィルム、セロハン紙、グラシン紙などの洋紙、和紙、これらの複合フィルム状物、それらに離型処理を施したもの等が挙げられる。   The releasable base film used for the transfer material of the present invention is not particularly limited. For example, the releasable base film has a releasability that exhibits a surface tension of 40 dyn / cm or less at 20 ° C., and has a sufficient self-holding property. Any film can be used as long as it is a film used for an ordinary transfer material. Specific examples of the release base film according to the present invention include polyester films such as polyethylene terephthalate films, polyolefin films such as polyethylene films and polypropylene films, polycarbonate films, polyvinylidene fluoride films, polyvinyl fluoride films, polyhexafluoropropylene films, Fluorine-based resin films such as poly (heptafluoroisopropyl (meth) acrylate film), silicon-containing polymer films such as polyoxydimethylsilylene, polyoxymethylsilylene, polyoxydimethylsilylene-α, ω-dibutanoic acid, and polyoxyvinylsilylene , Polystyrene film, polyamide film, polyamideimide film, polyvinyl chloride film, cellulose acetate film, etc. Resin films, paper such as cellophane paper, glassine paper, Japanese paper, composite films of these, and those subjected to release treatment.

離型性ベースフィルムの厚さは、特に限定されないが、しわや亀裂の発生を抑制するために、通常4〜150μmの範囲であることが好ましく、12〜100μmの範囲であることがより好ましく、30〜100μmの範囲であることがさらに好ましい。   The thickness of the releasable base film is not particularly limited, but is usually preferably in the range of 4 to 150 μm, more preferably in the range of 12 to 100 μm, in order to suppress the occurrence of wrinkles and cracks, More preferably, it is in the range of 30-100 μm.

上記離型性ベースフィルムの離型性が不十分な場合は、離型性ベースフィルムの少なくとも片面にさらに離型処理を行うことができる。かかる離型処理は、離型性ポリマーやワックスなどを適宜選択して公知の方法で行うことができる。かかる離型処理に用いる処理剤としては、例えば、パラフィンワックス等の離型性ワックス;シリコン系樹脂、メラミン系樹脂、尿素系樹脂、尿素−メラミン系樹脂、セルロース系樹脂、ベンゾグアナミン系樹脂などの離型性樹脂;各種界面活性剤などを、単独で又は溶剤などと混合して、グラビア印刷法、スクリーン印刷法、オフセット印刷法などの通常の印刷法に従って離型性ベースフィルム上に塗布し、乾燥し、更に必要に応じて硬化(加熱、紫外線照射、電子線照射、放射線照射)させて形成することができる。   When the mold release property of the mold release base film is insufficient, a mold release treatment can be further performed on at least one surface of the mold release base film. Such a release treatment can be performed by a known method by appropriately selecting a release polymer or wax. Examples of the treatment agent used for the release treatment include release waxes such as paraffin wax; release resins such as silicone resins, melamine resins, urea resins, urea-melamine resins, cellulose resins, and benzoguanamine resins. Molding resin; various surfactants, etc., alone or mixed with a solvent, etc., applied onto a releasable base film according to a normal printing method such as gravure printing, screen printing, or offset printing, and dried Furthermore, it can be formed by curing (heating, ultraviolet irradiation, electron beam irradiation, radiation irradiation) as necessary.

本発明の転写材には、前述のように、多層構造の転写層中の層間にプライマー層を設けることができる。かかるプライマー層は、本発明の転写材における層と層の両者に接着性のよいポリマー成分を主とする組成物の塗布層であり、厚さは0.5〜5μm程度の範囲が好ましい。プライマー層の具体例としては、アクリル系樹脂、酢酸ビニル系樹脂、メラミン系樹脂、ポリエステル系樹脂、ウレタン系樹脂等の層が挙げられる。これらの層は、例えば上記樹脂を溶剤に溶解後、上記印刷法などにより塗布し、乾燥して形成することができる。   As described above, the transfer material of the present invention can be provided with a primer layer between layers in a transfer layer having a multilayer structure. Such a primer layer is a coating layer of a composition mainly composed of a polymer component having good adhesion to both the layers in the transfer material of the present invention, and the thickness is preferably in the range of about 0.5 to 5 μm. Specific examples of the primer layer include layers of acrylic resin, vinyl acetate resin, melamine resin, polyester resin, urethane resin, and the like. These layers can be formed by, for example, dissolving the resin in a solvent, applying the resin by the printing method, and drying.

本発明の転写材は、以下に説明するように工程(a′)と工程(b′)とを含む製造方法に従って製造することができる。   The transfer material of the present invention can be produced according to a production method including steps (a ′) and (b ′) as described below.

工程(a′)
離型べースフィルム上に、前述の本発明の光硬化性樹脂組成物を塗布して光硬化性樹脂組成物の膜を形成する。離型べースフィルム、光硬化性樹脂組成物については、既に説明したとおりである。
Step (a ′)
On the release base film, the above-mentioned photocurable resin composition of the present invention is applied to form a film of the photocurable resin composition. The release base film and the photocurable resin composition are as described above.

工程(b′)
工程(a′)で得られた光硬化性樹脂組成物の膜に、既に説明したような活性エネルギー線を照射する。これにより、光硬化性樹脂組成物の膜は硬化して硬化樹脂層となる。これにより、本発明の光硬化性樹脂組成物からなる硬化樹脂層を有する転写材が得られる。
Step (b ′)
The film of the photocurable resin composition obtained in the step (a ′) is irradiated with active energy rays as described above. Thereby, the film | membrane of a photocurable resin composition hardens | cures and becomes a cured resin layer. Thereby, the transfer material which has the cured resin layer which consists of a photocurable resin composition of this invention is obtained.

このようにして得られる転写材は、離型ベースフィルムと硬化樹脂層との2層構造に限られず、熱可塑性、熱硬化性、光硬化性の材料の層を予め設けていてもよく、あるいは硬化層形成後に改めて設けてもよい。   The transfer material thus obtained is not limited to the two-layer structure of the release base film and the cured resin layer, and may be provided with a layer of thermoplastic, thermosetting, or photocurable material in advance, or You may provide again after hardened layer formation.

本発明による転写材は、最表面層を被転写材に密着させつつ加熱することによって被転写材に転写層を熱転写することが可能である。被転写材としては、形状等は特に限定されないが、好ましい例として、例えば、市販樹脂シート、フィルム、ガラス板などを挙げることができる。また、表示画面保護板などに使用する場合には、被転写材として樹脂シートであることが好ましい。かかる樹脂の具体例としては、可視光波長において透明であれば特に制限されないが、ポリメチルメタクリレート(PMMA)などのメタクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、メタクリル酸メチル-スチレン共重合体(MS樹脂)等が好ましく用いられる。   The transfer material according to the present invention is capable of thermally transferring the transfer layer to the transfer material by heating the outermost surface layer in close contact with the transfer material. The shape and the like of the material to be transferred are not particularly limited, but preferred examples include commercially available resin sheets, films, glass plates, and the like. Moreover, when using for a display screen protection board etc., it is preferable that it is a resin sheet as a to-be-transferred material. Specific examples of such resins are not particularly limited as long as they are transparent at visible light wavelengths, but methacrylic resins such as polymethyl methacrylate (PMMA), polycarbonate resins, methyl methacrylate-styrene copolymers (MS resins) and the like are preferable. Used.

本発明の転写材は、画像表示装置、ヘルメットシールド等の被転写体の表面に、転写層を手軽に低コストで良好な転写効率で転写させることができる。従って、得られる転写物は、良好な外観の転写物となる。   The transfer material of the present invention can easily transfer a transfer layer to a surface of a transfer target such as an image display device or a helmet shield with good transfer efficiency at low cost. Accordingly, the obtained transfer product is a transfer product having a good appearance.

以下、本発明を実施例に基づいて具体的に説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。   EXAMPLES Hereinafter, although this invention is demonstrated concretely based on an Example, this invention is not limited to this.

参考例1(低屈折率樹脂用ポリマーの製法)
内部の空気が窒素置換された100mLの3口フラスコに、トルエン50mL、表1に示す8FM、17FMおよび/またはMOI、および1,1,3,3−テトラメチルブチルパーオキシ2−エチルヘキサノエート(商品名:パーオクタO、日本油脂株式会社製)30mgを加えた後、混合物を80℃で6時間攪拌した。更に、N,N−ジメチル−p−トルイジン(和光純薬株式会社製)10mgを投入し、30分攪拌した後、表1に示すHEAまたはR1633およびN−ニトロソフェニルヒドロキシルアミンアルミニウム(和光純薬株式会社製)5mgを加え、更に3時間攪拌した。その後、重合液を冷却した後、ヘキサンに投入し、生じた沈殿物を濾取し、10時間真空乾燥することにより低屈折率樹脂用ポリマーを得た。
Reference Example 1 (Production of polymer for low refractive index resin)
Into a 100 mL three-necked flask in which the internal air was replaced with nitrogen, 50 mL of toluene, 8FM, 17FM and / or MOI shown in Table 1, and 1,1,3,3-tetramethylbutylperoxy 2-ethylhexanoate (Product name: Perocta O, manufactured by NOF Corporation) 30 mg was added, and the mixture was stirred at 80 ° C. for 6 hours. Furthermore, 10 mg of N, N-dimethyl-p-toluidine (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) was added and stirred for 30 minutes, and then HEA or R1633 and N-nitrosophenylhydroxylamine aluminum (Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) shown in Table 1 were used. (Company) 5 mg was added, and the mixture was further stirred for 3 hours. Thereafter, the polymerization solution was cooled and then poured into hexane, and the resulting precipitate was collected by filtration and vacuum dried for 10 hours to obtain a polymer for low refractive index resin.

Figure 0004561977
Figure 0004561977

(表1注)
*1: 1H,1H,5H−オクタフルオロペンチルメタクリレート(商品名:ビスコート8FM 大阪有機化学工業株式会社製)
*2: 1H,1H,2H,2H−ヘプタデカフルオロデシルアクリレート(商品名:ビスコート17FM 大阪有機化学工業株式会社製)
*3: 2−メタクリロイルオキシエチルイソシアネート(商品名:カレンズMOI 昭和電工株式会社製)
*4: 2−ヒドロキシエチルアクリレート(和光純薬株式会社製)
*5: 3−パーフルオロヘキシル−2−ヒドロキシプロピルアクリレート、(3−(1,1,2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,6−トリデカフルオロヘキシル)−2−ヒドロキシプロピルアクリレート(商品名:R1633 ダイキンファインケミカル株式会社製)
6: 単離収量を表す
7: NMRでの値を表す
*8: GPCによるポリスチレン換算分子量
(Table 1 note)
* 1: 1H, 1H, 5H-octafluoropentyl methacrylate (trade name: Biscoat 8FM, manufactured by Osaka Organic Chemical Industry Co., Ltd.)
* 2: 1H, 1H, 2H, 2H-heptadecafluorodecyl acrylate (trade name: Biscoat 17FM, manufactured by Osaka Organic Chemical Industry Co., Ltd.)
* 3: 2-Methacryloyloxyethyl isocyanate (trade name: Karenz MOI Showa Denko KK)
* 4: 2-hydroxyethyl acrylate (Wako Pure Chemical Industries, Ltd.)
* 5: 3-perfluorohexyl-2-hydroxypropyl acrylate, (3- (1,1,2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,6-tridecafluorohexyl) -2-Hydroxypropyl acrylate (trade name: R1633, manufactured by Daikin Fine Chemical Co., Ltd.)
6: Represents isolated yield 7: Represents NMR value * 8: Polystyrene equivalent molecular weight by GPC

参考例2(高屈折率樹脂組成物の製法)
チタン微粒子(商品名 HIT、日産化学社製)1.8質量%、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(商品名:DPCA−60 日本化薬株式会社製)1.2質量%、光重合開始剤(商品名:イルガキュア184 チバスペシャリティーケミカルズ株式会社)0.15質量%、およびイソプロパノール96.85質量%を混合して高屈折率樹脂組成物を得た。
Reference Example 2 (Production Method of High Refractive Index Resin Composition)
Titanium fine particles (trade name HIT, manufactured by Nissan Chemical Co., Ltd.) 1.8% by mass, dipentaerythritol hexaacrylate (trade name: DPCA-60 manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) 1.2% by mass, photopolymerization initiator (trade name) : Irgacure 184 Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.) 0.15% by mass and 96.85% by mass of isopropanol were mixed to obtain a high refractive index resin composition.

参考例3(ハードコート樹脂組成物の製法)
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(商品名:DPCA−60 日本化薬株式会社製)10質量%、エチレンオキシド変性ビスフェノールAジアクリレート(商品名ビスコート#540、大阪有機化学工業(株)製)14質量%、ポリメチルメタクリレート(商品名:パラペットHR−L 株式会社クラレ製)6質量%、光重合開始剤(商品名:イルガキュア184 チバスペシャリティーケミカルズ株式会社)1.5質量%、メチルイソブチルケトン68.5質量%を混合し、転写フィルム用ハードコート樹脂組成物を得た。
Reference Example 3 (Method for producing hard coat resin composition)
Dipentaerythritol hexaacrylate (trade name: DPCA-60 manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) 10% by mass, ethylene oxide modified bisphenol A diacrylate (trade name biscoat # 540, manufactured by Osaka Organic Chemical Industry Co., Ltd.) 14% by mass, poly Methyl methacrylate (trade name: Parapet HR-L, manufactured by Kuraray Co., Ltd.) 6 mass%, photopolymerization initiator (trade name: Irgacure 184 Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.) 1.5 mass%, methyl isobutyl ketone 68.5 mass% Were mixed to obtain a hard coat resin composition for transfer film.

実施例1〜5、比較例1〜3
表2に示す光硬化性樹脂組成物3質量%、光重合開始剤(商品名:イルガキュア184 チバスペシャリティーケミカルズ株式会社製)0.15質量%、およびメチルイソブチルケトン96.85質量%の割合で混合し、低屈折率樹脂組成物を得た。50μm厚のポリエステルフィルム上に、得られた低屈折率樹脂組成物を乾燥厚で膜厚1μmとなるように塗工し、130℃で30秒乾燥し、更に紫外線照射(80w高圧水銀灯、速度1m/分、1パス)を行った。これにより低屈折率層を形成した。
Examples 1-5, Comparative Examples 1-3
In a ratio of 3% by mass of the photocurable resin composition shown in Table 2, 0.15% by mass of a photopolymerization initiator (trade name: Irgacure 184 manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.), and 96.85% by mass of methyl isobutyl ketone. A low refractive index resin composition was obtained by mixing. The obtained low refractive index resin composition was applied on a 50 μm thick polyester film so as to have a dry thickness of 1 μm, dried at 130 ° C. for 30 seconds, and further irradiated with ultraviolet rays (80 w high pressure mercury lamp, speed 1 m). / Min, 1 pass). Thereby, a low refractive index layer was formed.

続いて、この低屈折率層上に、参考例2に示す高屈折率樹脂組成物を乾燥厚で膜厚1μmとなるように塗工し、130℃で30秒乾燥して紫外線照射(80w高圧水銀灯、速度1m/分、1パス)を行った。これにより高屈折率層を形成した。   Subsequently, on this low refractive index layer, the high refractive index resin composition shown in Reference Example 2 was applied so as to have a dry thickness of 1 μm, dried at 130 ° C. for 30 seconds and irradiated with ultraviolet rays (80 w high pressure). Mercury lamp, speed 1 m / min, 1 pass). Thereby, a high refractive index layer was formed.

この高屈折率層上に、参考例3に示すハードコート樹脂組成物を膜厚10μmで塗工後、130℃で30秒乾燥して紫外線照射(80w高圧水銀灯、速度1m/分、1パス)を行った。これによりハードコートを形成し、転写フィルムを得た。   On this high refractive index layer, the hard coat resin composition shown in Reference Example 3 was applied at a film thickness of 10 μm, dried at 130 ° C. for 30 seconds and irradiated with ultraviolet rays (80 w high pressure mercury lamp, speed 1 m / min, 1 pass). Went. Thereby, a hard coat was formed, and a transfer film was obtained.

得られた転写フィルムを、2mm厚のポリメチルメタクリレート板に熱転写(ロール速度1m/分、ロール温度160℃)し、ポリエステルフィルムを剥離して積層板を得た。得られた積層板について、以下に説明するように、転写層の耐擦傷性、反射率の評価を行った。結果を表2に示す。   The obtained transfer film was thermally transferred to a 2 mm thick polymethyl methacrylate plate (roll speed 1 m / min, roll temperature 160 ° C.), and the polyester film was peeled off to obtain a laminate. The obtained laminate was evaluated for scratch resistance and reflectance of the transfer layer as described below. The results are shown in Table 2.

耐擦過性
チーズクロス12枚を重ねたものを直径0.6mmの金属棒の先端に取り付け、それを積層板の転写層に1.6Kg重の加重をかけて接触させ、その状態で転写層の表面を150回往復させたときに、積層体から転写層の剥離が生じているか否かを目視で確認した。
Scratch resistance A stack of 12 cheesecloths is attached to the tip of a metal rod with a diameter of 0.6 mm, and it is brought into contact with the transfer layer of the laminated plate under a load of 1.6 kg. When the surface was reciprocated 150 times, it was visually confirmed whether or not the transfer layer was peeled off from the laminate.

反射率(最小値)
積層板の転写層の5°正反射率を測定し、400nm〜700nmにおける最小反射率を測定した。









Reflectance (minimum value)
The 5 ° regular reflectance of the transfer layer of the laminate was measured, and the minimum reflectance at 400 nm to 700 nm was measured.









Figure 0004561977
Figure 0004561977

(表2注)
*9: 参考例1参照
*10: 1H、1H、5H−オクタフルオロぺンチルメタクリレート(商品名:ビスコート8FM、大阪有機化学工業株式会社製)
*11: ビスフェノール−A−ジグリシジルエーテルジ(メタ)アクリレート (商品名 ビスコート#540、大阪有機化学工業(株)製)
*12: エチレンオキサイド変性イソシアヌール酸トリ(メタ)アクリレート(商品名M315、東亜合成(株)製)
13: ペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート(商品名DCPA60、日本化薬(株)製)
14: 商品名 MEK−ST、日産化学工業(株)製
(Table 2 Note)
* 9: See Reference Example 1 * 10: 1H, 1H, 5H-octafluoropentyl methacrylate (trade name: Biscoat 8FM, manufactured by Osaka Organic Chemical Industry Co., Ltd.)
* 11: Bisphenol-A-diglycidyl ether di (meth) acrylate (trade name: Biscote # 540, manufactured by Osaka Organic Chemical Industry Co., Ltd.)
* 12: Ethylene oxide modified isocyanuric acid tri (meth) acrylate (trade name M315, manufactured by Toagosei Co., Ltd.)
13: Pentaerythritol hexa (meth) acrylate (trade name DCPA60, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.)
14: Product name MEK-ST, manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.

表2から、実施例1〜5の転写フィルムから作製した転写物の転写層の耐擦傷性および反射率は、いずれも満足する結果が得られていることがわかる。一方、比較例1〜2の場合には転写層の耐擦傷性に問題があり、比較例3の場合には転写層の反射率に問題があることがわかる。   From Table 2, it can be seen that satisfactory results were obtained for both the scratch resistance and the reflectance of the transfer layer of the transfer products prepared from the transfer films of Examples 1 to 5. On the other hand, it can be seen that Comparative Examples 1 and 2 have a problem with the scratch resistance of the transfer layer, and Comparative Example 3 has a problem with the reflectance of the transfer layer.

本発明の光硬化性樹脂組成物は、−CFHユニットを有する含フッ素(メタ)アクリル系共重合体と有しない含フッ素(メタ)アクリル系共重合体と、分子内に少なくとも1個のエチレン系二重結合を有する光重合可能なエチレン系不飽和化合物とを、特定の配合割合で含有しているので、温和な条件でかつ短時間に硬化可能であり、基材上に積層可能な硬化樹脂膜、例えば低屈折率薄膜(例えば、約0.01〜10μm厚の皮膜)を得ることができる。従って、本発明の光硬化性樹脂組成物から作製された硬化樹脂膜は、反射防止膜として応用可能であり、ラミネート箔や画像表示画面保護板、ヘルメットシールド等の物品に有利に利用することができる。

The photocurable resin composition of the present invention comprises a fluorine-containing (meth) acrylic copolymer having a —CF 2 H unit, a fluorine-containing (meth) acrylic copolymer not having, and at least one in the molecule. It contains a photopolymerizable ethylenically unsaturated compound having an ethylene double bond in a specific blending ratio, so it can be cured under mild conditions and in a short time, and can be laminated on a substrate. A cured resin film, for example, a low refractive index thin film (for example, a film having a thickness of about 0.01 to 10 μm) can be obtained. Therefore, the cured resin film produced from the photocurable resin composition of the present invention can be applied as an antireflection film, and can be advantageously used for articles such as a laminate foil, an image display screen protection plate, and a helmet shield. it can.

Claims (7)

離型ベースフィルムと、その上に設けられた転写層とを有する転写材において、転写層が光硬化性樹脂組成物からなる硬化樹脂層を含み、該光硬化性樹脂組成物が以下の成分(A)および(B):
(A)下記化学式(I)及び(II)で示される構造単位からなる(メタ)アクリル系共重合体
Figure 0004561977
(式(I)中、Xは水素原子またはメチル基を表す。R は炭素数1〜15のフルオロアルキル基を表す。但し、R の一部は−CF Hユニットを有する炭素数1〜15のフルオロアルキル基を表す。)
Figure 0004561977
(式(II)中、Xは水素原子またはメチル基を表す。R は炭素数1〜20であって、少なとも1つの(メタ)アクリロイル基を有するアルキル基またはフルオロアルキル基を表す。nは1〜5の整数を表す。); および
(B)分子内に少なくとも1個のエチレン系二重結合を有する光重合可能なエチレン系不飽和化合物
を含み、成分(A)の固形分(硬化後に固体となる成分を含む)中の配合量(質量部)を(Awt)とし、成分(B)の配合量(質量部)を(Bwt)としたときに下記式(1)及び(2)
Figure 0004561977

の関係を満足する光硬化性樹脂組成物であることを特徴とする転写材。
And the release base film, the transfer material and a transfer layer provided thereon, viewed including the cured resin layer transfer layer is made of a photocurable resin composition, the components of the photocurable resin composition is less (A) and (B):
(A) A (meth) acrylic copolymer comprising structural units represented by the following chemical formulas (I) and (II)
Figure 0004561977
(In the formula (I), X is .R 1 represents a hydrogen atom or a methyl group represents a fluoroalkyl group having 1 to 15 carbon atoms. However, carbon atoms part of R 1 has the -CF 2 H unit 1 Represents -15 fluoroalkyl groups.)
Figure 0004561977
(In the formula (II), X represents a hydrogen atom or a methyl group. R 2 represents an alkyl group or a fluoroalkyl group having 1 to 20 carbon atoms and having at least one (meth) acryloyl group). Represents an integer of 1 to 5);
(B) A photopolymerizable ethylenically unsaturated compound having at least one ethylenic double bond in the molecule
The blending amount (parts by mass) in the solid content of the component (A) (including the component that becomes solid after curing) is (Awt), and the blending amount (parts by mass) of the component (B) is (Bwt) When the following formulas (1) and (2)
Figure 0004561977

A transfer material , which is a photocurable resin composition that satisfies the above relationship .
化学式(I)の構造単位が、1H,1H,5H−オクタフルオロペンチルメタクリレート由来の構造単位である請求項1記載の転写材The transfer material according to claim 1, wherein the structural unit of the chemical formula (I) is a structural unit derived from 1H, 1H, 5H-octafluoropentyl methacrylate. 化学式(II)の構造単位が、下記化学式(III)
Figure 0004561977
で表される構造単位である請求項1または2記載の転写材
The structural unit of the chemical formula (II) is represented by the following chemical formula (III)
Figure 0004561977
The transfer material according to claim 1, wherein the transfer material is a structural unit represented by:
化学式(II)の構造単位が、下記化学式(IV)
Figure 0004561977
(式(IV)中、Xは水素原子またはメチル基を表す。Rは炭素数1〜14のフルオロアルキル基を表す。)
で表される構造単位である請求項1または2記載の転写材
The structural unit of chemical formula (II) is represented by the following chemical formula (IV)
Figure 0004561977
(In the formula (IV), X represents a hydrogen atom or a methyl group. R 3 represents a C 1-14 fluoroalkyl group.)
The transfer material according to claim 1, wherein the transfer material is a structural unit represented by:
該光硬化性樹脂組成物が、更に、成分(C)として光重合開始剤を含有する請求項1〜4のいずれかに記載の転写材The transfer material according to claim 1, wherein the photocurable resin composition further contains a photopolymerization initiator as the component (C). 離型ベースフィルムと、その上に設けられた硬化樹脂層を含む転写層とを有する転写材の製造方法において、以下の工程(a′)および(b′):
(a′)離型ベースフィルム面上に光硬化性樹脂組成物の膜を形成する工程; および
(b′)得られた光硬化性樹脂組成物の膜に活性エネルギー線を照射することにより硬化させ、硬化樹脂層を形成する工程
を含み、工程(a′)で使用する該光硬化性樹脂組成物が以下の成分(A)および(B):
(A)下記化学式(I)及び(II)で示される構造単位からなる(メタ)アクリル系共重合体




Figure 0004561977
(式(I)中、Xは水素原子またはメチル基を表す。R は炭素数1〜15のフルオロアルキル基を表す。但し、R の一部は−CF Hユニットを有する炭素数1〜15のフルオロアルキル基を表す。)
Figure 0004561977
(式(II)中、Xは水素原子またはメチル基を表す。R は炭素数1〜20であって、少なとも1つの(メタ)アクリロイル基を有するアルキル基またはフルオロアルキル基を表す。nは1〜5の整数を表す。); および
(B)分子内に少なくとも1個のエチレン系二重結合を有する光重合可能なエチレン系不飽和化合物
を含み、成分(A)の固形分(硬化後に固体となる成分を含む)中の配合量(質量部)を(Awt)とし、成分(B)の配合量(質量部)を(Bwt)としたときに下記式(1)及び(2)
Figure 0004561977

の関係を満足する光硬化性樹脂組成物であることを特徴とする製造方法。
In a method for producing a transfer material having a release base film and a transfer layer including a cured resin layer provided thereon, the following steps (a ′) and (b ′):
Curing by irradiation with an active energy ray film; 'and (b step of forming a film of the photocurable resin composition to a release base film plane) obtained photocurable resin composition (a)' are allowed, it sees contains a step of forming a cured resin layer, step photocurable resin composition of the following components used in (a ') (a) and (B):
(A) A (meth) acrylic copolymer comprising structural units represented by the following chemical formulas (I) and (II)




Figure 0004561977
(In the formula (I), X is .R 1 represents a hydrogen atom or a methyl group represents a fluoroalkyl group having 1 to 15 carbon atoms. However, carbon atoms part of R 1 has the -CF 2 H unit 1 Represents -15 fluoroalkyl groups.)
Figure 0004561977
(In the formula (II), X represents a hydrogen atom or a methyl group. R 2 represents an alkyl group or a fluoroalkyl group having 1 to 20 carbon atoms and having at least one (meth) acryloyl group). Represents an integer of 1 to 5);
(B) A photopolymerizable ethylenically unsaturated compound having at least one ethylenic double bond in the molecule
The blending amount (parts by mass) in the solid content of the component (A) (including the component that becomes solid after curing) is (Awt), and the blending amount (parts by mass) of the component (B) is (Bwt) When the following formulas (1) and (2)
Figure 0004561977

A photocurable resin composition that satisfies the above relationship .
被転写体の表面に、請求項記載の転写材の転写層が転写されてなることを特徴とする転写物。 A transfer product, wherein a transfer layer of the transfer material according to claim 1 is transferred onto the surface of a transfer object.
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