JP2003020303A - Active energy ray curing composition and method of manufacturing laminate therewith - Google Patents

Active energy ray curing composition and method of manufacturing laminate therewith

Info

Publication number
JP2003020303A
JP2003020303A JP2001209285A JP2001209285A JP2003020303A JP 2003020303 A JP2003020303 A JP 2003020303A JP 2001209285 A JP2001209285 A JP 2001209285A JP 2001209285 A JP2001209285 A JP 2001209285A JP 2003020303 A JP2003020303 A JP 2003020303A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
meth
acrylate
active energy
energy ray
curable composition
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2001209285A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Takahiro Kitano
高広 北野
Koichi Suzuki
弘一 鈴木
Keiji Kubo
敬次 久保
Masayasu Ogushi
眞康 大串
Kazutoshi Terada
和俊 寺田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Kuraray Co Ltd
Original Assignee
Kuraray Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Kuraray Co Ltd filed Critical Kuraray Co Ltd
Priority to JP2001209285A priority Critical patent/JP2003020303A/en
Publication of JP2003020303A publication Critical patent/JP2003020303A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Polymerisation Methods In General (AREA)
  • Paints Or Removers (AREA)
  • Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a composition having a long pot life, capable of curing in a short time, and capable of giving a film of low refractive index having scratch resisting property, and especially suitable for forming a film for reflection prevention. SOLUTION: This active energy ray curing composition contains a compound (A) containing at least a -CF2 - unit and a (meth)acryloyl group in a molecule, a silica sol (B) having a particle diameter of not larger than 60 nm, and a polymerization initiator (C).

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、活性エネルギー線
硬化性組成物及びそれを用いた積層体の製造方法に関す
る。より詳しくは、低屈折率と耐擦傷性とを示し、しか
もポットライフが長く、硬化時間の短い活性エネルギー
線硬化性組成物及びそれを用いた積層体の製造方法に関
する。
TECHNICAL FIELD The present invention relates to an active energy ray-curable composition and a method for producing a laminate using the same. More specifically, it relates to an active energy ray-curable composition having a low refractive index and scratch resistance, a long pot life, and a short curing time, and a method for producing a laminate using the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、画像表示板における要求性能の1
つとして反射防止機能が挙げられている。一般的な反射
防止機能の原理は、高屈折率層の表面に低屈折率層を設
け、高屈折率層で反射する光と低屈折率層で反射する光
とをそれらの光路差を利用して互いに干渉させることに
より反射光を低減させるものである。
2. Description of the Related Art In recent years, one of the performance requirements for image display boards
One of them is the antireflection function. The general principle of the antireflection function is to provide a low refractive index layer on the surface of the high refractive index layer and use the optical path difference between the light reflected by the high refractive index layer and the light reflected by the low refractive index layer. The reflected light is reduced by causing them to interfere with each other.

【0003】このような反射防止膜は、従来、蒸着法に
より作製されていたが、製造コストが高いために、最近
では比較的低コストの薄膜が得られる湿式コーティング
技術を利用して形成されるようになっている。ここで、
湿式コーティング技術により低屈折率層を形成する場
合、そのためのコーティング組成物としては一般にシリ
カゾルとアルコキシシランの混合物が用いられている。
Although such an antireflection film has hitherto been produced by a vapor deposition method, it is formed by using a wet coating technique which can obtain a relatively low cost thin film because of its high production cost. It is like this. here,
When the low refractive index layer is formed by the wet coating technique, a mixture of silica sol and alkoxysilane is generally used as a coating composition for that.

【0004】しかし、その混合物から形成された低屈折
率層は、耐擦傷性は十分である反面、蒸着法で作製した
反射防止膜並みの反射率が得られないという欠点があ
る。
However, although the low refractive index layer formed from the mixture has sufficient scratch resistance, it has a drawback that it cannot obtain a reflectance comparable to that of an antireflection film produced by a vapor deposition method.

【0005】そこで、低反射率層形成用コーティング組
成物として、フッ素原子含有オルガノシランとフッ素含
有シリル基含有ビニルポリマーの混合物を用いることに
より、広範囲な波長領域で一様に低い反射率を示し、同
時に膜強度、耐久性、耐汚れ付着性、耐熱性に優れた反
射防止膜を得ることが提案されている(特開平11−1
06704号公報)。
Therefore, by using a mixture of a fluorine atom-containing organosilane and a fluorine-containing silyl group-containing vinyl polymer as a coating composition for forming a low reflectance layer, a uniform low reflectance is exhibited in a wide wavelength range, At the same time, it has been proposed to obtain an antireflection film having excellent film strength, durability, stain resistance, and heat resistance (Japanese Patent Laid-Open No. 11-1).
06704).

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、一般に
オルガノシランを主成分とする熱硬化性組成物は、その
保存中にも徐々に反応が進むためポットライフが短いと
いう問題があり、しかも硬化するまで数時間要し、生産
性が低いという問題もある。
However, a thermosetting composition containing an organosilane as a main component generally has a problem that the pot life is short because the reaction proceeds gradually even during storage, and until the composition is cured. It takes several hours and there is a problem that productivity is low.

【0007】本発明の目的は、ポットライフが長く、短
時間硬化が可能で、且つ耐擦傷性を有する低屈折率膜を
与えることのできる、特に反射防止膜の形成に適した組
成物を提供することである。
The object of the present invention is to provide a composition which has a long pot life, can be cured for a short time, and can give a low refractive index film having scratch resistance, and is particularly suitable for forming an antireflection film. It is to be.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】本発明者らは、一般に、
紫外線等の活性エネルギー線により硬化する(メタ)ア
クリレートを主成分として含有する活性エネルギー線硬
化性組成物が、活性エネルギー線を照射しない限りその
重合硬化反応が進行しないので、シリコーン系熱硬化樹
脂に比べ非常に長いポットライフを示し、しかもいった
ん活性エネルギー線を照射すると短時間(例えば、数秒
内外)で硬化するため、高い生産性を示す点に鑑み、主
成分である(メタ)アクリレートに−CF2−ユニット
を少なくとも一つ以上導入した化合物を用いることによ
って、ポットライフが長く硬化時間の短い活性エネルギ
ー線硬化性組成物が得られ、しかもその組成物から、低
い屈折率と良好な耐擦傷性を示す硬化樹脂膜を得ること
ができることを見出し、本発明を完成した。
The present inventors generally
Since an active energy ray-curable composition containing (meth) acrylate as a main component which is cured by an active energy ray such as ultraviolet rays does not undergo a polymerization / curing reaction unless it is irradiated with an active energy ray, a silicone-based thermosetting resin is used. Compared with the (meth) acrylate which is the main component, it has a very long pot life, and once it is irradiated with an active energy ray, it cures in a short time (for example, within a few seconds). By using a compound in which at least one 2 -unit is introduced, an active energy ray-curable composition having a long pot life and a short curing time can be obtained, and the composition has a low refractive index and good scratch resistance. The present invention was completed by finding that a cured resin film exhibiting the above can be obtained.

【0009】即ち、本発明は、以下の成分(A)〜
(C): (A)1分子中に1つ以上の−CF2−ユニット及び
(メタ)アクリロイル基を有するフッ素含有化合物; (B)粒径60nm以下のシリカゾル; 及び (C)重合開始剤を含むことを特徴とする活性エネルギ
ー線硬化性組成物を提供する。
That is, the present invention comprises the following components (A) to
(C): (A) a fluorine-containing compound having one or more —CF 2 — units and a (meth) acryloyl group in one molecule; (B) a silica sol having a particle size of 60 nm or less; and (C) a polymerization initiator. There is provided an active energy ray-curable composition comprising:

【0010】また、本発明は、硬化樹脂層が基材上に設
けられた積層体の製造方法において、以下の工程(a)
及び(b): (a)上述の活性エネルギー線硬化性組成物からなる活
性エネルギー線硬化性層を基材上に形成する工程; 及
び (b)工程(a)で形成された活性エネルギー線硬化性
層に活性エネルギー線を照射することにより、フッ素含
有(メタ)アクリレート重合体にシリカゲルが分散した
硬化樹脂層を形成する工程を含むことを特徴とする製造
方法、及びこの製造方法によって得られた積層体を提供
する。
The present invention also provides the following step (a) in the method for producing a laminate in which a cured resin layer is provided on a substrate.
And (b): (a) a step of forming an active energy ray-curable layer comprising the above-mentioned active energy ray-curable composition on a substrate; and (b) the active energy ray-curable layer formed in step (a). The method for producing a cured resin layer in which silica gel is dispersed in a fluorine-containing (meth) acrylate polymer by irradiating the functional layer with an active energy ray, and a method for producing the same, and obtained by the method. A laminate is provided.

【0011】なお、本明細書において、アクリロイル基
又はメタクリロイル基を(メタ)アクリロイル基と、ア
クリレート基又はメタクリレート基を(メタ)アクリレ
ート基、アクリル酸又はメタクリル酸を(メタ)アクリ
ル酸という。
In the present specification, an acryloyl group or a methacryloyl group is called a (meth) acryloyl group, an acrylate group or a methacrylate group is called a (meth) acrylate group, and acrylic acid or methacrylic acid is called a (meth) acrylic acid.

【0012】[0012]

【発明の実施の形態】本発明の活性エネルギー線硬化性
組成物は、成分(A)フッ素含有化合物、成分(B)シ
リカゾル及び成分(C)重合開始剤を含む。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The active energy ray-curable composition of the present invention contains component (A) a fluorine-containing compound, component (B) silica sol and component (C) polymerization initiator.

【0013】本発明で使用する成分(A)のフッ素含有
化合物は、1分子中に1つ以上の−CF2−ユニット
(即ち、ジフロロメチレンユニット)と(メタ)アクリ
ロイル基とを有し、好ましくは(メタ)アクリレートの
アルコール残基側に−CF2−ユニットを有する化合物
である。
The fluorine-containing compound as the component (A) used in the present invention has at least one --CF 2 -unit (ie, difluoromethylene unit) and (meth) acryloyl group in one molecule, Preferred is a compound having a —CF 2 — unit on the alcohol residue side of (meth) acrylate.

【0014】このようなフッ素含有化合物の具体的とし
ては、2,2,2−トリフルオロエチル(メタ)アクリ
レート、2,2,3,3−テトラフルオロプロピル(メ
タ)アクリレート、1H,1H,5H−オクタフルオロ
ペンチル(メタ)アクリレート、2,2,3,4,4,
4−ヘキサフルオロブチル(メタ)アクリレート、パー
フルオロエチル(メタ)アクリレート、2,2,3,
3,4,4,5,5−オクタフルオロヘキサン−1,6
−ジ(メタ)アクリレート、1H,1H,8H,8H−
トリデカフルオロオクタン(メタ)アクリレート等が挙
げられる。これらの中でも、重合後の硬化樹脂層の膜強
度を大きくする場合は、多官能(メタ)アクリレートを
使用することが好ましく、特に架橋点間分子量(質量平
均)が耐擦傷性の点で適当な2,2,3,3,4,4,
5,5−オクタフルオロヘキサン−1,6−ジ(メタ)
アクリレートを好ましく使用できる。
Specific examples of such a fluorine-containing compound include 2,2,2-trifluoroethyl (meth) acrylate, 2,2,3,3-tetrafluoropropyl (meth) acrylate, 1H, 1H, 5H. -Octafluoropentyl (meth) acrylate, 2,2,3,4,4
4-hexafluorobutyl (meth) acrylate, perfluoroethyl (meth) acrylate, 2,2,3
3,4,4,5,5-octafluorohexane-1,6
-Di (meth) acrylate, 1H, 1H, 8H, 8H-
Examples thereof include tridecafluorooctane (meth) acrylate. Among these, in the case of increasing the film strength of the cured resin layer after polymerization, it is preferable to use a polyfunctional (meth) acrylate, and a molecular weight between crosslink points (mass average) is particularly suitable in terms of scratch resistance. 2, 2, 3, 3, 4, 4,
5,5-octafluorohexane-1,6-di (meth)
Acrylate can be preferably used.

【0015】フッ素含有化合物の活性エネルギー線硬化
性組成物の固形分(希釈剤を用いた場合は希釈剤を除い
た全成分)中の含有量は、少なすぎると高屈折率とな
り、多すぎると耐擦傷性が低下するので、好ましくは2
0質量%以上80質量%以下、より好ましくは40質量
%以上70質量%以下である。
If the content of the fluorine-containing compound in the solid content (all components excluding the diluent when a diluent is used) of the active energy ray-curable composition is too small, the refractive index will be high, and if it is too large. Since the scratch resistance is reduced, it is preferably 2
It is 0 mass% or more and 80 mass% or less, more preferably 40 mass% or more and 70 mass% or less.

【0016】本発明においては、硬化樹脂層の耐擦傷性
を向上させるために成分(B)としてシリカゾルを使用
する。シリカゾルとしては、粒径が60nm以下、好ま
しくは1〜50nm、より好ましくは20〜40nmの
ものを使用する。これは、粒径が60nmを超えると、
活性エネルギー線硬化性組成物のヘイズ値が高くなり透
明性が失われ、しかも成膜後に表面から脱落し易くなる
からである。
In the present invention, silica sol is used as the component (B) in order to improve the scratch resistance of the cured resin layer. As the silica sol, those having a particle size of 60 nm or less, preferably 1 to 50 nm, more preferably 20 to 40 nm are used. This is because when the particle size exceeds 60 nm,
This is because the haze value of the active energy ray-curable composition becomes high, the transparency is lost, and the active energy ray-curable composition easily falls off from the surface after film formation.

【0017】なお、シリカゾルは、活性エネルギー線硬
化性層を基板上に形成する工程においてゲルに転移し、
シリカゲルとして硬化樹脂層中に存在することになる。
Silica sol is transformed into gel in the step of forming an active energy ray-curable layer on a substrate,
It will be present in the cured resin layer as silica gel.

【0018】シリカゾルの活性エネルギー線硬化性組成
物の固形分(希釈剤を用いた場合は希釈剤を除いた全成
分)中の含有量は、少なすぎると耐擦傷性が低下し、多
すぎると脆い膜となるので、好ましくは20質量%以上
80質量%以下、より好ましくは30質量%以上60質
量%以下である。
If the content of the silica sol in the solid content (all components excluding the diluent when a diluent is used) of the active energy ray-curable composition is too low, the scratch resistance is lowered, and if it is too high. Since it is a brittle film, it is preferably 20% by mass or more and 80% by mass or less, more preferably 30% by mass or more and 60% by mass or less.

【0019】本発明において成分(C)の重合開始剤と
しては、硬化手段である活性エネルギー線の種類(紫外
線、可視光、電子線等)に応じて適宜選択することがで
きる。例えば、光重合を行う場合には、光重合開始剤を
使用し、その他に光増感剤、光促進剤などから選ばれる
1種類以上の公知の光触媒化合物を含有させることが好
ましい。
In the present invention, the polymerization initiator of the component (C) can be appropriately selected depending on the type of active energy ray (ultraviolet ray, visible light, electron beam, etc.) which is a curing means. For example, in the case of performing photopolymerization, it is preferable to use a photopolymerization initiator and additionally contain one or more known photocatalyst compounds selected from photosensitizers, photoaccelerators and the like.

【0020】光重合開始剤の具体例としては、2,2−
ジメトキシ−2−フェニルアセトン、アセトフェノン、
ベンゾフェノン、キサントフルオレノン、ベンズアルデ
ヒド、アントラキノン、3−メチルアセトフェノン、4
−クロロベンゾフェノン、4,4−ジアミノベンゾフェ
ノン、ベンゾインプロピルエーテル、ベンゾインエチル
エーテル、ベンジルジメチルケタール、1−(4−イソ
プロピルフェニル)−2−ヒドロキシ−2−メチルプロ
パン−1−オン、4−チオキサントン、カンファーキノ
ン、2−メチル−1−[4−(メチルチオ)フェニル]
−2−モルホリノプロパン−1−オン等が挙げられる。
また、N−アクリロイルオキシエチルマレイミドのよう
に分子内に少なくとも1個の(メタ)アクリロイル基を
有する光重合開始剤も用いることができる。
Specific examples of the photopolymerization initiator include 2,2-
Dimethoxy-2-phenylacetone, acetophenone,
Benzophenone, xanthfluorenone, benzaldehyde, anthraquinone, 3-methylacetophenone, 4
-Chlorobenzophenone, 4,4-diaminobenzophenone, benzoinpropyl ether, benzoin ethyl ether, benzyl dimethyl ketal, 1- (4-isopropylphenyl) -2-hydroxy-2-methylpropan-1-one, 4-thioxanthone, camphor Quinone, 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl]
2-morpholinopropan-1-one and the like.
Further, a photopolymerization initiator having at least one (meth) acryloyl group in the molecule such as N-acryloyloxyethylmaleimide can also be used.

【0021】光重合開始剤の活性エネルギー線硬化性組
成物の固形分(希釈剤を用いた場合は希釈剤を除いた全
成分)中の含有量は、好ましくは0.1質量%以上10
質量%以下、より好ましくは3質量%以上5質量%以下
である。
The content of the photopolymerization initiator in the active energy ray-curable composition in the solid content (all components excluding the diluent when a diluent is used) is preferably 0.1% by mass or more and 10% or more.
It is not more than 3% by mass, more preferably not less than 3% by mass and not more than 5% by mass.

【0022】本発明において、光重合を促進させるため
に光重合開始剤と共に光増感剤を使用してもよい。光増
感剤の具体例としては、2−クロロチオキサントン、
2,4−ジエチルチオキサントン、2,4−ジイソプロ
ピルチオキサントン等を挙げることができる。
In the present invention, a photosensitizer may be used together with a photopolymerization initiator to accelerate photopolymerization. Specific examples of the photosensitizer include 2-chlorothioxanthone,
2,4-diethylthioxanthone, 2,4-diisopropylthioxanthone and the like can be mentioned.

【0023】また、本発明においては、光重合を促進さ
せるために光重合開始剤と共に光促進剤を使用してもよ
い。光促進剤の具体例としては、p−ジメチルアミノ安
息香酸エチル、p−ジメチルアミノ安息香酸イソアミ
ル、p−ジメチルアミノ安息香酸2−n−ブトキシエチ
ル、安息香酸2−ジメチルアミノエチルなどを挙げるこ
とができる。
Further, in the present invention, a photoaccelerator may be used together with the photopolymerization initiator in order to accelerate the photopolymerization. Specific examples of the photo accelerator include ethyl p-dimethylaminobenzoate, isoamyl p-dimethylaminobenzoate, 2-n-butoxyethyl p-dimethylaminobenzoate, 2-dimethylaminoethyl benzoate and the like. it can.

【0024】本発明の活性エネルギー線硬化性組成物に
は、必要に応じて活性エネルギー線で重合可能なエチレ
ン性不飽和化合物、ビニルエーテル化合物、エポキシ化
合物、オキセタン化合物を併用することができる。
In the active energy ray-curable composition of the present invention, an ethylenically unsaturated compound, a vinyl ether compound, an epoxy compound or an oxetane compound, which can be polymerized by active energy rays, can be used in combination, if necessary.

【0025】エチレン性不飽和化合物の具体例としては
(メタ)アクリル酸;メチル(メタ)アクリレート、エ
チル(メタ)アクリレート、プロピル(メタ)アクリレ
ート、n−ブチル(メタ)アクリレート、t−ブチル
(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)ア
クリレート、n−ノニル(メタ)アクリレート、シクロ
ヘキシル(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アク
リレート、ジシクロペンテニル(メタ)アクリレート、
2−ジシクロペンテノキシエチル(メタ)アクリレー
ト、グリシジル(メタ)アクリレート、メトキシエチル
(メタ)アクリレート、エトキシエチル(メタ)アクリ
レート、ブトキシエチル(メタ)アクリレート、メトキ
シエトキシエチル(メタ)アクリレート、エトキシエト
キシエチル(メタ)アクリレート、テトラヒドロフルフ
リル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシエチル(メ
タ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)ア
クリレート、4−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレー
ト、フェノキシエチル(メタ)アクリレート、フェノキ
シエトキシエチル(メタ)アクリレート、ビフェノキシ
エチル(メタ)アクリレート、ビフェノキシエトキシエ
チル(メタ)アクリレート、ノルボルニル(メタ)アク
リレート、フェニルエポキシ(メタ)アクリレート、
(メタ)アクリロイルモルホリン、N−[2−(メタ)
アクリロイルエチル]−1,2−シクロヘキサンジカル
ボイミド、N−[2−(メタ)アクリロイルエチル]−
1,2−シクロヘキサンジカルボイミド−1−エン、N
−[2−(メタ)アクリロイルエチル]−1,2−シク
ロヘキサンジカルボイミド−4−エン等の単官能性(メ
タ)アクリレート系モノマー;N−ビニルピロリドン、
N−ビニルイミダゾール、N−ビニルカプロラクタム、
スチレン、α−メチルスチレン、ビニルトルエン、酢酸
アリル、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、安息香酸ビ
ニルなどのビニル系モノマー;1,4−ブタンジオール
ジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ
(メタ)アクリレート、1,9−ノナンジオールジ(メ
タ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)
アクリレート、ネオペンチルグリコールピバリン酸エス
テルジ(メタ)アクリレート、エチレングリコールジ
(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールジ(メ
タ)アクリレート、トリエチレングリコールジ(メタ)
アクリレート、ポリプロピレングリコールジ(メタ)ア
クリレート、ビスフェノール−A−ジグリシジルエーテ
ルジ(メタ)アクリレート、ビスフェノール−A−ジエ
ポキシジ(メタ)アクリレート、エチレンオキサイド変
性ビスフェノール−A−ジ(メタ)アクリレート、1,
4−シクロヘキサンジメタノールのエチレンオキサイド
変性ジアクリレート、エチレンオキサイド変性テトラブ
ロモビスフェノール−A−ジ(メタ)アクリレート、ジ
ンクジアクリレートなどの2官能性(メタ)アクリレー
ト;トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレー
ト、ジトリメチロールプロパンテトラ(メタ)アクリレ
ート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレー
ト、ペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレー
ト、ペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレー
ト、エチレンオキサイド付加トリメチロールプロパンの
トリ(メタ)アクリレート、エチレンオキサイド付加ジ
トリメチロールプロパンのテトラ(メタ)アクリレー
ト、プロピレンオキサイド付加トリメチロールプロパン
のトリ(メタ)アクリレート、エチレンオキサイド変性
イソシアヌール酸トリ(メタ)アクリレート、プロピレ
ンオキサイド付加ジトリメチロールプロパンのテトラ
(メタ)アクリレート、エチレンオキサイド付加ペンタ
エリスリトールのテトラ(メタ)アクリレート、プロピ
レンオキサイド付加ペンタエリスリトールのテトラ(メ
タ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メ
タ)アクリレート、エチレンオキサイド付加ジペンタエ
リスリトールのペンタ(メタ)アクリレート、プロピレ
ンオキサイド付加ジペンタエリスリトールのペンタ(メ
タ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メ
タ)アクリレート、エチレンオキサイド付加ジペンタエ
リスリトールのヘキサ(メタ)アクリレート、プロピレ
ンオキサイド付加ジペンタエリスリトールのヘキサ(メ
タ)アクリレート、トリアリルシアヌレート、トリアリ
ルイソシアヌレート、トリアリルホルマール、1,3,
5−トリアクリロイルヘキサヒドロ−s−ヒドラジンな
どの3官能以上の多官能性モノマー;ウレタンアクリレ
ート、エステルアクリレートなどのオリゴマーアクリレ
ート等が挙げられる。これらのうち2官能以上の多官能
性モノマーが好ましく用いられる。また、これらの化合
物は単独で又は2種以上で用いられる。
Specific examples of the ethylenically unsaturated compound include (meth) acrylic acid; methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate, t-butyl (meth). ) Acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, n-nonyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, dicyclopentenyl (meth) acrylate,
2-dicyclopentenoxyethyl (meth) acrylate, glycidyl (meth) acrylate, methoxyethyl (meth) acrylate, ethoxyethyl (meth) acrylate, butoxyethyl (meth) acrylate, methoxyethoxyethyl (meth) acrylate, ethoxyethoxy Ethyl (meth) acrylate, tetrahydrofurfuryl (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 4-hydroxybutyl (meth) acrylate, phenoxyethyl (meth) acrylate, phenoxyethoxy Ethyl (meth) acrylate, biphenoxyethyl (meth) acrylate, biphenoxyethoxyethyl (meth) acrylate, norbornyl (meth) acrylate, phenyl Epoxy (meth) acrylate,
(Meth) acryloylmorpholine, N- [2- (meth)]
Acryloylethyl] -1,2-cyclohexanedicarbimide, N- [2- (meth) acryloylethyl]-
1,2-cyclohexanedicarbimide-1-ene, N
-[2- (meth) acryloylethyl] -1,2-cyclohexanedicarbimide-4-ene and other monofunctional (meth) acrylate monomers; N-vinylpyrrolidone,
N-vinyl imidazole, N-vinyl caprolactam,
Vinyl-based monomers such as styrene, α-methylstyrene, vinyltoluene, allyl acetate, vinyl acetate, vinyl propionate, and vinyl benzoate; 1,4-butanediol di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth ) Acrylate, 1,9-nonanediol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth)
Acrylate, neopentyl glycol pivalate di (meth) acrylate, ethylene glycol di (meth) acrylate, polyethylene glycol di (meth) acrylate, triethylene glycol di (meth)
Acrylate, polypropylene glycol di (meth) acrylate, bisphenol-A-diglycidyl ether di (meth) acrylate, bisphenol-A-diepoxy di (meth) acrylate, ethylene oxide modified bisphenol-A-di (meth) acrylate, 1,
Bifunctional (meth) acrylates such as ethylene oxide-modified diacrylate of 4-cyclohexanedimethanol, ethylene oxide-modified tetrabromobisphenol-A-di (meth) acrylate, zinc diacrylate; trimethylolpropane tri (meth) acrylate, ditri Methylolpropane tetra (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, pentaerythritol penta (meth) acrylate, pentaerythritol hexa (meth) acrylate, ethylene oxide-added trimethylolpropane tri (meth) acrylate, ethylene oxide-added ditrimethylol Propane tetra (meth) acrylate, propylene oxide addition trimethylol propane tri (meth) acrylate Ethylene oxide-modified isocyanuric acid tri (meth) acrylate, propylene oxide-added ditrimethylolpropane tetra (meth) acrylate, ethylene oxide-added pentaerythritol tetra (meth) acrylate, propylene oxide-added pentaerythritol tetra (meth) acrylate, Dipentaerythritol penta (meth) acrylate, ethylene oxide added dipentaerythritol penta (meth) acrylate, propylene oxide added dipentaerythritol penta (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, ethylene oxide added dipentaerythritol Hexa (meth) acrylate, propylene oxide-added dipentaerythritol Sa (meth) acrylate, triallyl cyanurate, triallyl isocyanurate, triallyl formal, 1,3,
Examples include trifunctional or higher polyfunctional monomers such as 5-triacryloylhexahydro-s-hydrazine; oligomer acrylates such as urethane acrylate and ester acrylate. Of these, bifunctional or higher polyfunctional monomers are preferably used. Moreover, these compounds are used individually or in 2 or more types.

【0026】ビニルエーテル系化合物の具体例として
は、エチレンオキサイド変性ビスフェノール−A−ジビ
ニルエーテル、エチレンオキサイド変性ビスフェノール
−F−ジビニルエーテル、エチレンオキサイド変性カテ
コールジビニルエーテル、エチレンオキサイド変性レゾ
ルシノールジビニルエーテル、エチレンオキサイド変性
ハイドロキノンジビニルエーテル、エチレンオキサイド
変性−1,3,5,ベンゼントリオールトリビニルエー
テルが挙げられる。
Specific examples of vinyl ether compounds include ethylene oxide-modified bisphenol-A-divinyl ether, ethylene oxide-modified bisphenol-F-divinyl ether, ethylene oxide-modified catechol divinyl ether, ethylene oxide-modified resorcinol divinyl ether, ethylene oxide-modified hydroquinone. Examples include divinyl ether and ethylene oxide-modified 1,3,5, benzenetriol trivinyl ether.

【0027】エポキシ系化合物の具体例としては、1,
2−エポキシシクロヘキサン、1,4−ブタンジオール
ジグリシジルエーテル、3,4−エポキシシクロヘキシ
ルメチル−3′,4′−エポキシシクロヘキサンカルボ
キシレート、トリメチロールプロパンジグリシジルエー
テル、ビス(3,4−エポキシ−6−メチルシクロヘキ
シルメチル)アジペート、フェノールノボラックのグリ
シジルエーテル、ビスフェノールAジグリシジルエーテ
ルが挙げられる。
Specific examples of epoxy compounds include 1,
2-epoxycyclohexane, 1,4-butanediol diglycidyl ether, 3,4-epoxycyclohexylmethyl-3 ', 4'-epoxycyclohexanecarboxylate, trimethylolpropane diglycidyl ether, bis (3,4-epoxy-6) -Methylcyclohexylmethyl) adipate, glycidyl ether of phenol novolac, and bisphenol A diglycidyl ether.

【0028】また、オキセタン化合物の具体例として
は、3−エチル−3−ヒドロキシメチルオキセタン、3
−エチル−3−(フェノキシメチル)オキセタン、ジ
[1−エチル(3−オキセタニル)]メチルエーテル、
3−エチル−3−(2−エチルヘキシロキシメチル)オ
キセタンなどが挙げられる。
Further, specific examples of the oxetane compound include 3-ethyl-3-hydroxymethyloxetane and 3
-Ethyl-3- (phenoxymethyl) oxetane, di [1-ethyl (3-oxetanyl)] methyl ether,
3-ethyl-3- (2-ethylhexyloxymethyl) oxetane and the like can be mentioned.

【0029】本発明の活性エネルギー線硬化性組成物に
は、その活性エネルギー線硬化性組成物を薄く(好まし
くは0.01μm以上10μm以下の膜厚)塗工可能と
なるような希釈剤を使用する。希釈剤の使用量は、目的
とする硬化樹脂層の膜厚に合わせて適宜決定することが
できる。
For the active energy ray-curable composition of the present invention, a diluent is used so that the active energy ray-curable composition can be applied thinly (preferably a film thickness of 0.01 μm or more and 10 μm or less). To do. The amount of the diluent used can be appropriately determined according to the target film thickness of the cured resin layer.

【0030】このような希釈剤としては、一般の樹脂塗
料に用いられている希釈剤であれば特に制限はないが、
例えば、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサ
ノン等のケトン系化合物;酢酸メチル、酢酸エチル、酢
酸ブチル、乳酸エチル、酢酸メトキシエチルなどのエス
テル系化合物;ジエチルエーテル、エチレングリコール
ジメチルエーテル、エチルセロソルブ、ブチルセロソル
ブ、フェニルセロソルブ、ジオキサン等のエーテル系化
合物;トルエン、キシレンなどの芳香族化合物;ペンタ
ン、ヘキサンなどの脂肪族化合物;塩化メチレン、クロ
ロベンゼン、クロロホルムなどのハロゲン系炭化水素;
メタノール、エタノール、ノルマルプロパノール、イソ
プロパノールなどのアルコール化合物、水などを挙げる
ことができる。
The diluent is not particularly limited as long as it is a diluent used in general resin paints.
For example, ketone compounds such as acetone, methyl ethyl ketone, and cyclohexanone; ester compounds such as methyl acetate, ethyl acetate, butyl acetate, ethyl lactate, and methoxyethyl acetate; diethyl ether, ethylene glycol dimethyl ether, ethyl cellosolve, butyl cellosolve, phenyl cellosolve, dioxane. Ether compounds such as; aromatic compounds such as toluene and xylene; aliphatic compounds such as pentane and hexane; halogenated hydrocarbons such as methylene chloride, chlorobenzene and chloroform;
Examples thereof include alcohol compounds such as methanol, ethanol, normal propanol and isopropanol, and water.

【0031】本発明の活性エネルギー線硬化性組成物に
は、必要に応じて、更に、重合禁止剤、消泡剤、レベリ
ング剤、分散剤、可塑剤、帯電防止剤、界面活性剤、非
反応性ポリマー等を、本発明の効果を損なわない範囲で
添加することができる。
The active energy ray-curable composition of the present invention may further contain, if necessary, a polymerization inhibitor, a defoaming agent, a leveling agent, a dispersant, a plasticizer, an antistatic agent, a surfactant and a non-reactive agent. A polymer or the like can be added within a range that does not impair the effects of the present invention.

【0032】本発明の樹脂組成物は、以上説明した成分
(A)〜(C)と、必要に応じて配合される他の成分と
を、常法に従って均一に混合することにより製造するこ
とができる。
The resin composition of the present invention can be produced by uniformly mixing the above-described components (A) to (C) and other components, which are blended as necessary, according to a conventional method. it can.

【0033】本発明の活性エネルギー線硬化性組成物
は、基材上に少なくとも硬化樹脂層が積層された積層体
を製造する際の硬化樹脂層の原料として好ましく使用す
ることができる。このような積層体は、以下の工程
(a)及び(b)を含む製造方法に従って製造すること
ができる。
The active energy ray-curable composition of the present invention can be preferably used as a raw material for a cured resin layer when producing a laminate having at least a cured resin layer laminated on a substrate. Such a laminated body can be manufactured according to a manufacturing method including the following steps (a) and (b).

【0034】工程(a) まず、本発明の活性エネルギー線硬化性組成物からなる
活性エネルギー線硬化性層を基材上に形成する。具体的
には、基材上に、本発明の活性エネルギー性硬化性組成
物を、含浸法、凸版印刷、平板印刷、凹版印刷等で用い
られるロールを用いた塗工法、基材に噴霧するようなス
プレー法、カーテンフローコート法等により塗工し、必
要に応じて希釈剤等の低沸点物質を加熱炉、遠赤外炉又
は超遠赤外炉等を用いて加熱蒸発除去することにより活
性エネルギー線硬化性層を形成する。
Step (a) First, an active energy ray-curable layer comprising the active energy ray-curable composition of the present invention is formed on a substrate. Specifically, the active energy curable composition of the present invention is applied onto a substrate, a coating method using a roll used in an impregnation method, letterpress printing, lithographic printing, intaglio printing, etc. Active by applying a simple spray method, curtain flow coating method, etc., and if necessary, evaporating and removing low boiling point substances such as diluent using a heating furnace, far-infrared furnace, or ultra-far-infrared furnace. An energy ray curable layer is formed.

【0035】基材としては、板状またはフィルム状の、
金属(鉄、アルミニウム等)基板、ガラス基板を含むセ
ラミック基板、アクリル樹脂、PET、ポリカーボネー
ト等のプラスチック基板、硬化樹脂基板等を使用するこ
とができる。
The substrate may be plate-shaped or film-shaped,
A metal (iron, aluminum, etc.) substrate, a ceramic substrate including a glass substrate, a plastic substrate such as acrylic resin, PET, polycarbonate, or a cured resin substrate can be used.

【0036】工程(b) 次に、工程(a)で形成された活性エネルギー線硬化性
層に活性エネルギー線を照射することにより、シリカゾ
ルがゲル化したシリカゲルがフッ素含有化合物の重合体
に分散した硬化樹脂層を形成する。これにより、低屈折
率で耐擦傷性に優れた硬化樹脂層を有する積層体を低コ
ストで得ることができる。
Step (b) Next, by irradiating the active energy ray-curable layer formed in the step (a) with an active energy ray, the silica sol gelated silica gel is dispersed in the polymer of the fluorine-containing compound. A cured resin layer is formed. Thereby, a laminate having a cured resin layer having a low refractive index and excellent scratch resistance can be obtained at low cost.

【0037】なお、このようにして得られる積層体は2
層構造に限られず、熱可塑性、熱硬化性及び光硬化性の
材料の層を予め設けていてもよく、あるいは硬化樹脂層
形成後に改めて設けてもよい。例えば、この積層体の硬
化樹脂層上に高屈折率層を設ければ、反射防止膜として
利用可能となる。
The laminate obtained in this way has 2
The layer structure is not limited, and a layer of a thermoplastic, thermosetting, or photocurable material may be provided in advance, or may be provided again after the cured resin layer is formed. For example, if a high refractive index layer is provided on the cured resin layer of this laminate, it can be used as an antireflection film.

【0038】活性エネルギー線としては、紫外線、可視
光線、レーザー、電子線、エックス線などの広範囲の活
性エネルギー線を使用することができるが、これらの中
でも、紫外線を用いることが実用面からは好ましい。具
体的な紫外線発生源としては、低圧水銀ランプ、高圧水
銀ランプ、キセノンランプ、メタルハライドランプなど
が挙げられる。
As the active energy ray, a wide range of active energy rays such as ultraviolet rays, visible rays, lasers, electron beams, and X-rays can be used. Among them, it is preferable to use ultraviolet rays from the practical viewpoint. Specific examples of the ultraviolet light source include a low pressure mercury lamp, a high pressure mercury lamp, a xenon lamp, and a metal halide lamp.

【0039】[0039]

【実施例】以下、本発明を実施例に基づいて具体的に説
明するが、本発明はこれに限定されるものではない。
EXAMPLES The present invention will be specifically described below based on examples, but the present invention is not limited thereto.

【0040】実施例1 粒径10〜20nmのコロイダルシリカ(商品名 ME
K−ST、日産化学工業(株)製)3質量部(固形分換
算)、2,2,3,3,4,4,5,5−オクタフルオ
ロヘキサン−1,6−ジアクリレート(セントラル薬品
(株)製)7質量部、光重合開始剤(イルガキュア18
4、チバガイギー(株)製)0.5質量部、及びメチル
エチルケトン90質量部を混合し、活性エネルギー線硬
化性組成物を得た。この組成物を室温下で密閉容器で保
管したところ、30日経過した後も変質は認められなか
った。
Example 1 Colloidal silica having a particle size of 10 to 20 nm (trade name: ME
K-ST, manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd. 3 parts by mass (solid content conversion), 2,2,3,3,4,4,5,5-octafluorohexane-1,6-diacrylate (Central Chemical) 7 parts by mass, photopolymerization initiator (Irgacure 18)
0.5 parts by mass of Ciba Geigy Co., Ltd. and 90 parts by mass of methyl ethyl ketone were mixed to obtain an active energy ray-curable composition. When this composition was stored in a closed container at room temperature, no alteration was observed even after 30 days had passed.

【0041】得られた活性エネルギー線硬化性組成物
を、乾燥膜厚で0.1μm又は3μmになるようにアク
リル板上に塗布し、乾燥して活性エネルギー線硬化層を
形成した。その後、活性エネルギー線硬化層に対し、高
圧水銀ランプから紫外線を30秒間照射して硬化樹脂層
を形成することにより積層板を作製した。
The active energy ray-curable composition thus obtained was coated on an acrylic plate so that the dry film thickness was 0.1 μm or 3 μm, and dried to form an active energy ray-cured layer. Then, the active energy ray-cured layer was irradiated with ultraviolet rays from a high-pressure mercury lamp for 30 seconds to form a cured resin layer, thereby producing a laminated plate.

【0042】実施例2 2,2,3,3,4,4,5,5−オクタフルオロヘキ
サン−1,6−ジアクリレート7質量部に代えて、1
H,1H,5H−オクタフルオロペンチルアクリレート
(大阪有機化学工業(株)製)6質量部を使用する以外
は、実施例1と同様に活性エネルギー線硬化性組成物を
調製し、膜厚がそれぞれ0.1μm及び3μmの硬化樹
脂層がアクリル板上に設けられた積層板を作製した。
Example 2 In place of 7 parts by mass of 2,2,3,3,4,4,5,5-octafluorohexane-1,6-diacrylate, 1
An active energy ray-curable composition was prepared in the same manner as in Example 1 except that 6 parts by mass of H, 1H, 5H-octafluoropentyl acrylate (manufactured by Osaka Organic Chemical Industry Co., Ltd.) was used, and the respective film thicknesses were set. A laminate having a 0.1 μm and 3 μm cured resin layer provided on an acrylic plate was produced.

【0043】なお、得られた活性エネルギー線硬化性組
成物を室温下で密閉容器で保管したところ、30日経過
した後も変質は認められなかった。
When the active energy ray-curable composition thus obtained was stored in a closed container at room temperature, no alteration was observed even after 30 days had passed.

【0044】比較例1 粒径10〜20nmのコロイダルシリカ(商品名IPA
−ST、日産化学工業(株)製)4質量部(固形分換
算)、メチルトリメトキシシラン(商品名KBM13、
信越化学工業(株)製)6質量部、酢酸0.1質量部と
を混合し、4日間熟成することにより、熱硬化性組成物
を得た。
Comparative Example 1 Colloidal silica having a particle size of 10 to 20 nm (trade name IPA
-ST, manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.) 4 parts by mass (solid content conversion), methyltrimethoxysilane (trade name KBM13,
6 parts by mass of Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. and 0.1 part by mass of acetic acid were mixed and aged for 4 days to obtain a thermosetting composition.

【0045】得られた熱硬化性組成物を、乾燥膜厚で
0.1μm又は3μmになるようにアクリル板上に塗布
し、60℃で4時間加熱することにより厚さ0.1μm
及び3μmの硬化樹脂層がアクリル板上に設けられた積
層板を作製した。
The obtained thermosetting composition was applied onto an acrylic plate so that the dry film thickness was 0.1 μm or 3 μm, and the composition was heated at 60 ° C. for 4 hours to give a thickness of 0.1 μm.
And a 3 μm cured resin layer were provided on an acrylic plate to prepare a laminated plate.

【0046】なお、得られた熱硬化性組成物を室温下で
密閉容器で保管したところ、30日経過後には沈殿物が
認められた。
When the obtained thermosetting composition was stored in a closed container at room temperature, a precipitate was observed after 30 days.

【0047】比較例2 2,2,3,3,4,4,5,5−オクタフルオロヘキ
サン−1,6−ジアクリレート(セントラル薬品(株)
製)10質量部、光重合開始剤(イルガキュア184
チバガイギー(株)製)0.5質量部、及びメチルエチ
ルケトン90質量部を混合し、活性エネルギー線硬化性
組成物を得た。得られた活性エネルギー線硬化性組成物
を使用し、実施例1と同様に膜厚がそれぞれ0.1μm
及び3μmの硬化樹脂層がアクリル板上に設けられた積
層板を作製した。
Comparative Example 2 2,2,3,3,4,4,5,5-octafluorohexane-1,6-diacrylate (Central Chemical Co., Ltd.)
10 parts by mass, photopolymerization initiator (Irgacure 184)
0.5 part by mass of Ciba-Geigy Co., Ltd. and 90 parts by mass of methyl ethyl ketone were mixed to obtain an active energy ray-curable composition. Using the obtained active energy ray-curable composition, the film thickness was 0.1 μm in the same manner as in Example 1.
And a 3 μm cured resin layer were provided on an acrylic plate to prepare a laminated plate.

【0048】なお、得られた活性エネルギー線硬化性組
成物を室温下で密閉容器で保管したところ、30日経過
した後も変質は認められなかった。
When the obtained active energy ray-curable composition was stored in a closed container at room temperature, no alteration was observed even after 30 days had passed.

【0049】比較例3 粒径20〜40nmのコロイダルシリカに代えて、粒径
70〜100nm(商品名ST−ZL、日産化学工業
(株)製)3質量部(固形分換算)を使用すること以外
は、実施例1と同様に活性エネルギー線硬化性組成物を
調製し、膜厚がそれぞれ0.1μm及び3μmの硬化樹
脂層がアクリル板上に設けられた積層板を作製した。
Comparative Example 3 In place of colloidal silica having a particle size of 20 to 40 nm, use 3 parts by mass (solid content) of 70 to 100 nm (trade name ST-ZL, manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.). Except for the above, an active energy ray-curable composition was prepared in the same manner as in Example 1 to prepare a laminated plate in which cured resin layers having film thicknesses of 0.1 μm and 3 μm were provided on an acrylic plate.

【0050】なお、得られた活性エネルギー線硬化性組
成物を室温下で密閉容器で保管したところ、30日経過
した後も変質は認められなかった。
When the resulting active energy ray-curable composition was stored in a closed container at room temperature, no alteration was observed even after 30 days.

【0051】(評価)各実施例及び比較例で作製した、
膜厚0.1μmの硬化樹脂層が形成された積層板の当該
硬化樹脂層の5°正反射率を測定し、屈折率を計算し
た。また、膜厚3μmの硬化樹脂層が形成された積層板
の当該硬化樹脂層の鉛筆硬度を測定した。得られた結果
を表1に示す。
(Evaluation) Produced in each Example and Comparative Example,
The 5 ° regular reflectance of the cured resin layer of the laminated plate on which the cured resin layer having a film thickness of 0.1 μm was formed was measured, and the refractive index was calculated. Further, the pencil hardness of the cured resin layer of the laminated plate on which the cured resin layer having a film thickness of 3 μm was formed was measured. The results obtained are shown in Table 1.

【0052】[0052]

【表1】 実施例 比較例 1 2 1 2 3 鉛筆硬度 4H 4H 2H B B硬化膜の屈折率 1.372 1.389 1.410 1.362 1.375 [Table 1] Examples Comparative Example 1 2 1 2 3 Pencil hardness 4H 4H 2H B B Refractive index of cured film 1.372 1.389 1.410 1.362 1.375

【0053】以上の結果から、実施例1及び2の活性エ
ネルギー線硬化性組成物は、ポットライフが長く短時間
硬化が可能であり、しかも硬化後の硬化樹脂層は、低い
屈折率と良好な耐擦傷性を示すことがわかる。
From the above results, the active energy ray-curable compositions of Examples 1 and 2 have a long pot life and can be cured for a short time, and the cured resin layer after curing has a low refractive index and a good refractive index. It can be seen that it shows scratch resistance.

【0054】一方、比較例1のオルガノシラン系の硬化
性組成物は、ポットライフが短く、保存安定に欠け、長
時間の硬化時間が必要であり、また、硬化後の硬化樹脂
層の屈折率は、実施例1及び2より高く、しかも耐擦傷
性は劣っていることがわかる。シリカゾルを使用してい
ない比較例2の活性エネルギー線硬化性組成物は、ポッ
トライフが長く短時間硬化が可能であるが、硬化後の硬
化樹脂層の耐擦傷性は非常に悪いものであった。また、
シリカゾルとして60nmを大きく超える粒径のものを
使用した比較例3の活性エネルギー線硬化性組成物は、
ポットライフが長く短時間硬化が可能であるが、硬化後
の硬化樹脂層の耐擦傷性は非常に悪いものであった。
On the other hand, the organosilane-based curable composition of Comparative Example 1 had a short pot life, lacked storage stability, required a long curing time, and had a refractive index of the cured resin layer after curing. Is higher than those of Examples 1 and 2, and the scratch resistance is inferior. The active energy ray-curable composition of Comparative Example 2 which does not use silica sol has a long pot life and can be cured for a short time, but the cured resin layer after curing has very poor scratch resistance. . Also,
The active energy ray-curable composition of Comparative Example 3, which uses a silica sol having a particle size significantly exceeding 60 nm,
It has a long pot life and can be cured in a short time, but the cured resin layer after curing had very poor scratch resistance.

【0055】[0055]

【発明の効果】本発明の活性エネルギー線硬化性組成物
は、ポットライフが長く、短時間硬化が可能であり、し
かも低屈折率で耐擦傷性を有する硬化樹脂膜を与えるこ
とができる。従って、表示画面保護板等に用いられる反
射防止膜に有利に利用することができる。
The active energy ray-curable composition of the present invention has a long pot life, can be cured for a short time, and can give a cured resin film having a low refractive index and scratch resistance. Therefore, it can be advantageously used for an antireflection film used for a display screen protection plate or the like.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) C09D 5/00 C09D 5/00 Z (72)発明者 久保 敬次 茨城県つくば市御幸が丘41番地 株式会社 クラレ内 (72)発明者 大串 眞康 茨城県つくば市御幸が丘41番地 株式会社 クラレ内 (72)発明者 寺田 和俊 茨城県つくば市御幸が丘41番地 株式会社 クラレ内 Fターム(参考) 4F100 AA20B AK17B AK25A AK25B AT00A BA02 BA16 DE01B EJ52 EJ54 GB41 JB14 JK14 JN06 JN18 4J011 PA13 PB01 PB08 PB22 PC02 PC08 4J038 FA121 GA12 HA446 KA03 KA08 KA20 NA11 NA18 PA17 PB08 4J100 AL08 AL66 BB12 BB17 BB18 CA01 CA03 FA03 JA01 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of front page (51) Int.Cl. 7 Identification code FI theme code (reference) C09D 5/00 C09D 5/00 Z (72) Inventor Keiji Kubo 41 Miyukigaoka, Tsukuba, Ibaraki Stock Company Kuraray (72) Inventor Masayasu Ogushi 41 Miyukigaoka, Tsukuba, Ibaraki Prefecture Kuraray Co., Ltd. (72) Inventor Kazutoshi Terada 41 Miyukigaoka, Tsukuba, Ibaraki F Term (reference) 4F100 AA20B AK17B AK25A AK25B AT00A BA02 BA16 DE01B EJ52 EJ54 GB41 JB14 JK14 JN06 JN18 4J011 PA13 PB01 PB08 PB22 PC02 PC08 4J038 FA121 GA12 HA446 KA03 KA08 KA20 BB20 FA11 BB18 FA01 BB16 FA01 BB17 FA01 BB20 4J12 AL01 AL08 AL11 AL18

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 以下の成分(A)〜(C): (A)1分子中に1つ以上の−CF2−ユニット及び
(メタ)アクリロイル基を有するフッ素含有化合物; (B)粒径60nm以下のシリカゾル; 及び (C)重合開始剤を含むことを特徴とする活性エネルギ
ー線硬化性組成物。
1. The following components (A) to (C): (A) a fluorine-containing compound having at least one —CF 2 — unit and a (meth) acryloyl group in one molecule; (B) a particle size of 60 nm. An active energy ray-curable composition comprising the following silica sol; and (C) a polymerization initiator.
【請求項2】 硬化樹脂層が基材上に設けられた積層体
の製造方法において、以下の工程(a)及び(b): (a)請求項1記載の活性エネルギー線硬化性組成物か
らなる活性エネルギー線硬化性層を基材上に形成する工
程; 及び (b)工程(a)で形成された活性エネルギー線硬化性
層に活性エネルギー線を照射することにより、フッ素含
有(メタ)アクリレート重合体にシリカゲルが分散した
硬化樹脂層を形成する工程を含むことを特徴とする製造
方法。
2. In the method for producing a laminate in which a cured resin layer is provided on a substrate, the following steps (a) and (b): (a) From the active energy ray-curable composition according to claim 1. And a fluorine-containing (meth) acrylate by irradiating the active energy ray-curable layer formed in step (a) with an active energy ray. A production method comprising a step of forming a cured resin layer in which silica gel is dispersed in a polymer.
【請求項3】 請求項2記載の製造方法によって得られ
た積層体。
3. A laminated body obtained by the manufacturing method according to claim 2.
JP2001209285A 2001-07-10 2001-07-10 Active energy ray curing composition and method of manufacturing laminate therewith Pending JP2003020303A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001209285A JP2003020303A (en) 2001-07-10 2001-07-10 Active energy ray curing composition and method of manufacturing laminate therewith

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001209285A JP2003020303A (en) 2001-07-10 2001-07-10 Active energy ray curing composition and method of manufacturing laminate therewith

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2003020303A true JP2003020303A (en) 2003-01-24

Family

ID=19044959

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2001209285A Pending JP2003020303A (en) 2001-07-10 2001-07-10 Active energy ray curing composition and method of manufacturing laminate therewith

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2003020303A (en)

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005316415A (en) * 2004-03-31 2005-11-10 Dainippon Printing Co Ltd Antireflective laminate
JP2007229999A (en) * 2006-02-28 2007-09-13 Jsr Corp Antireflection laminate
WO2007108217A1 (en) * 2006-03-20 2007-09-27 Kotobuki Industries Co., Ltd. Process for producing nanoparticle dispersion, nanoparticle dispersion, and apparatus for producing nanoparticle dispersion
US8885079B2 (en) 2011-03-25 2014-11-11 Fujifilm Corporation Back-illuminated solid-state image sensing element, method of manufacturing the same, and imaging device
US8999436B2 (en) * 2003-09-16 2015-04-07 Fujifilm Corporation Optical functional film, antireflection film, polarizing plate and image display device

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0848935A (en) * 1994-08-09 1996-02-20 Nippon Oil & Fats Co Ltd Reflection-reducing material provided with antireflection film and its production
JPH1110767A (en) * 1997-06-25 1999-01-19 Asahi Glass Co Ltd Transparently coated molding and its manufacture
JPH11295506A (en) * 1998-04-06 1999-10-29 Nof Corp Near infrared ray shielding and reflection reducing material, its production and use
JPH11352306A (en) * 1998-03-05 1999-12-24 Nof Corp Reflection reducing material and its production
JP2000329905A (en) * 1998-09-22 2000-11-30 Fuji Photo Film Co Ltd Antireflection film and its production
JP2001262011A (en) * 2000-03-16 2001-09-26 Nof Corp Fluorine-containing curable coating liquid and its use and production method
JP2002006102A (en) * 2000-06-19 2002-01-09 Nof Corp Near-infrared ray shielding and reflection reducing material and its use

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0848935A (en) * 1994-08-09 1996-02-20 Nippon Oil & Fats Co Ltd Reflection-reducing material provided with antireflection film and its production
JPH1110767A (en) * 1997-06-25 1999-01-19 Asahi Glass Co Ltd Transparently coated molding and its manufacture
JPH11352306A (en) * 1998-03-05 1999-12-24 Nof Corp Reflection reducing material and its production
JPH11295506A (en) * 1998-04-06 1999-10-29 Nof Corp Near infrared ray shielding and reflection reducing material, its production and use
JP2000329905A (en) * 1998-09-22 2000-11-30 Fuji Photo Film Co Ltd Antireflection film and its production
JP2001262011A (en) * 2000-03-16 2001-09-26 Nof Corp Fluorine-containing curable coating liquid and its use and production method
JP2002006102A (en) * 2000-06-19 2002-01-09 Nof Corp Near-infrared ray shielding and reflection reducing material and its use

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8999436B2 (en) * 2003-09-16 2015-04-07 Fujifilm Corporation Optical functional film, antireflection film, polarizing plate and image display device
JP2005316415A (en) * 2004-03-31 2005-11-10 Dainippon Printing Co Ltd Antireflective laminate
JP2007229999A (en) * 2006-02-28 2007-09-13 Jsr Corp Antireflection laminate
WO2007108217A1 (en) * 2006-03-20 2007-09-27 Kotobuki Industries Co., Ltd. Process for producing nanoparticle dispersion, nanoparticle dispersion, and apparatus for producing nanoparticle dispersion
US8885079B2 (en) 2011-03-25 2014-11-11 Fujifilm Corporation Back-illuminated solid-state image sensing element, method of manufacturing the same, and imaging device

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4885332A (en) Photocurable abrasion resistant coatings comprising silicon dioxide dispersions
EP2599799B1 (en) Single-layer film and hydrophilic material comprising same
JPH0211665A (en) Coating composition
WO2005075193A1 (en) Laminate and process for producing the same
WO2012086552A1 (en) Water-absorbable resin composition and laminate produced using same
WO2018235816A1 (en) Photocurable resin composition, cured coating film, substrate with cured coating film, method for producing same, and virus inactivation method
JP2004346228A (en) Active energy ray-curable composition and hard coat film
JP2006212987A (en) Transfer material
JP2018184583A (en) Coating composition, and decorative sheet prepared therewith
KR101015081B1 (en) Curable resin composition, method for manufacture of laminate using the composition, transfer material, method for manufacture thereof and transferred product
JP2011248036A (en) Antireflection film
JP2003020303A (en) Active energy ray curing composition and method of manufacturing laminate therewith
JP4561977B2 (en) Photocurable resin composition and method for producing laminate using the same
JP4808575B2 (en) Photo-curable adhesive film
JP4348992B2 (en) Transfer material, method for producing the same, and transfer product
JP4577485B2 (en) Photocurable resin composition and polymer thereof
JP2019131664A (en) Active energy ray curable resin composition and application thereof
JP4600631B2 (en) Method for producing laminate including active energy ray-curable resin layer
JP2008120011A (en) Hard coat film
JPH09302144A (en) Resin composition cured by energy radiation and triacetylcellulose film having
JP6697771B1 (en) Painted building material manufacturing method and resulting painted building material
JP4395742B2 (en) Transfer material, method for producing the same, and transfer product
JP2008248098A (en) Liquid curable composition, cured film and antistatic laminate
JP2001253019A (en) High-molecular resin laminate excellent in scratch resistance and molded article thereof
JP4079027B2 (en) Curable resin composition and method for producing laminate using the same

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20080206

RD02 Notification of acceptance of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422

Effective date: 20080206

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20091029

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20100922

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20110202