JP2004346228A - Active energy ray-curable composition and hard coat film - Google Patents

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JP2004346228A
JP2004346228A JP2003146150A JP2003146150A JP2004346228A JP 2004346228 A JP2004346228 A JP 2004346228A JP 2003146150 A JP2003146150 A JP 2003146150A JP 2003146150 A JP2003146150 A JP 2003146150A JP 2004346228 A JP2004346228 A JP 2004346228A
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Hiroshi Kusaka
央 草香
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an active energy ray-curable composition forming a coating layer excellent in appearance, abrasion resistance, scratch resistance, adhesiveness to substrates and weather resistance and to provide a molded product having a coating layer by curing the composition. <P>SOLUTION: The active energy ray-curable composition comprises (A) a resin having an alkoxysilyl group and a (meth)acryloyl group, (B) a colloidal silica having 1-200 nm primary particle diameter, (C) an ultraviolet light absorbent and/or (D) a light stabilizer and optionally further (E) a (meth)acrylate having two or more (meth)acryloyl groups in the molecule. <P>COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI

Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、外観、耐摩耗性、耐擦傷性、基材密着性及び耐候性に優れた被覆層を形成する活性エネルギー線硬化性組成物、及び該組成物を硬化させてなる膜を有する成形品に関する。
【0002】
【従来の技術】
一般に、各種合成樹脂、例えば、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート、ポリエチレンテレフタレート、塩化ビニル樹脂、ABS樹脂、酢酸セルロース、ポリプロピレン等は、軽量性、易加工性、耐衝撃性などに優れているので種々の用途に使用されている。しかしながら、これらの合成樹脂から得られる製品は、表面硬度が低いため、傷がつき易く、ポリカーボネートのような透明な樹脂においては、その樹脂が持つ本来の透明性あるいは外観を著しく損なわれやすいいう欠点があり、耐摩耗性を必要とする分野での合成樹脂類の使用を困難なものとしている。このため、これら合成樹脂からなる製品に耐摩耗性を付与し、表面硬度を高める活性エネルギー線硬化性ハードコート材料が求められている。
【0003】
これらの問題点を改良する方法として、分子内に複数個の(メタ)メタクリロイル基を有する化合物からなる活性エネルギー線硬化性樹脂が開示されている。この方法は生産性に優れるという利点を有するが硬化被膜が有機物であることからその成形品の耐摩耗性には限界がある。
より高い耐摩耗性を付与する方法として分子中に2個以上の(メタ)アクリロイル基を有するモノマーとコロイダルシリカからなる活性エネルギー線硬化性樹脂が開示されている。しかしこの硬化膜は耐候性に問題があった。
【0004】
また耐摩耗性と耐候性を改良する方法として分子中に2個以上の(メタ)アクリロイル基を有するモノマーとコロイダルシリカ又はシリケートとの加水分解縮合物と紫外線吸収剤、光安定剤からなる活性エネルギー線硬化性組成物が開示されている(例えば、特許文献1、2、3参照。)。しかしこの硬化膜においても硬度と耐候性の両方を満足する物は得られていない。
【0005】
【特許文献1】
特開平5−98189号公報
【特許文献2】
特開平8−209028号公報
【特許文献3】
特開平9−157315号公報
【0006】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は上記諸問題に鑑みなされたものであって、外観、耐摩耗性、耐擦傷性、基材密着性及び耐候性に優れた被膜を形成する活性エネルギー線硬化性組成物、及び該組成物を硬化させてなる膜を有する成形品を提供することを課題とする。
【0007】
【課題を解決するための手段】
これらの課題を解決するために鋭意検討を進めた結果、本発明者は、特定の構造を有する樹脂を使用することにより非常に優れた効果が得られることを見出し、本発明を完成するに至った。
すなわち本発明は(A)アルコキシシリル基及び(メタ)アクリロイル基を有する樹脂、(B)一次粒子径が1〜200nmのコロイダルシリカ、(C)紫外線吸収剤及び/又は(D)光安定剤を含有することを特徴とする活性エネルギー線硬化性組成物を要旨とするものである。
【0008】
また、本発明は上記(A)、(B)、(C)及び/又は(D)の他に更に、(E)分子中に2個の(メタ)アクリロイル基を有する(メタ)アクリレート(以下、多官能(メタ)アクリレートと記すことがある)を含有することを特徴とする活性エネルギー線硬化性組成物を要旨とするものである。
更に、本発明はプラスチックフィルムの少なくとも一方の表面に、上記活性エネルギー線硬化性組成物を硬化させてなる膜を有するハードコートフィルムも、その要旨とするものである。
【0009】
【発明の実施の形態】
以下において、本発明の実施の形態について詳細に説明する。なお、本明細書において、「(メタ)アクリロイル基」とは、アクリロイル基及びメタクリロイル基の双方を含む意味で用いる。
(A)アルコキシシリル基及び(メタ)アクリロイル基を有する樹脂としては、以下の化合物(I)〜(V)を重合又は共重合させる際に化合物(VI)を共重合させることによりアルコキシシリル基を導入し、続いて(i)〜(iii)の方法により(メタ)アクリロイル基を導入するか又は、以下の化合物(I)〜(V)を重合又は共重合して得た重合体に(iv)〜(vi)の方法によりアルコキシシリル基を導入し、続いて(i)〜(iii)の方法により(メタ)アクリロイル基を導入したものを用いることができる。
【0010】
(I)エポキシ基を有する単量体
グリシジル(メタ)アクリレート、3,4−エポキシシクロヘキシルメチル(メタ)アクリレート、4−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレートグリシジルエーテル等
(II)水酸基を有する単量体
2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、4−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシ−3−フェノキシプロピル(メタ)アクリレート、2−アクリロイルオキシエチル−2−ヒドロキシエチルフタレート、N−メチロールアクリルアミド等
(III)カルボキシル基を有する単量体
(メタ)アクリル酸、モノ(2−アクリロイルオキシエチル)フタレート、モノ(2−(メタ)アクリロイルオキシエチル)ヘキサヒドロフタレート、モノ(2−(メタ)アクリロイルプロピル)フタレート、モノ((メタ)アクリロイルオキシエチル)サクシネート等
(IV)イソシアネート基を有する単量体
2−イソシアナトエチル(メタ)アクリレート、上記水酸基含有(メタ)アクリレートと2,4−トルイレンジイソシアネート、1,6−ヘヘサメチレンジイソシアネート等のジイソシアネート化合物との付加体等
(V)上記化合物と共重合可能な単量体
メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、n−ブチル(メタ)アクリレート、イソブチル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、イソデシル(メタ)アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレート、トリデシル(メタ)アクリレート、ステアリル(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレート、テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル(メタ)アクリレート、エトキシエチル(メタ)アクリレート、エチルカルビトール(メタ)アクリレート、ブトキシエチル(メタ)アクリレート、、ジメチルアミノエチル(メタ)アクリレート、ジエチルアミノエチル(メタ)アクリレート、シアノエチル(メタ)アクリレート、スチレン等
【0011】
(VI)アルコキシシリル基を有する単量体
p−スチリルトリメトキシシラン、3−(メタ)アクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシラン、3−(メタ)アクリロイルオキシプロピルメチルトリメトキシシラン、3−(メタ)アクリロイルオキシプロピルメチルトリエトキシシラン、3−メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン、3−メルカプトプロピルトリメトキシシラン等
上述のアルコキシシリル基を導入した、化合物(I)〜(V)を重合又は共重合させて得た重合体又は共重合体に(メタ)アクリロイル基を導入する方法としては以下の(i)〜(iii)の方法が使用できる。
【0012】
(i)上記エポキシ基を有する単量体の重合体又は共重合体に上記カルボキシル基及び/又は水酸基を有する単量体を付加反応させる。
(ii)上記水酸基を有する単量体の重合体又は共重合体に上記カルボキシル基を有する単量体を縮合反応させる。
(iii)上記カルボキシル基を有する単量体の重合体又は共重合体に上記水酸基を有する単量体を縮合反応させる、又は上記エポキシ基を有する単量体を付加反応させる。
【0013】
上述の化合物(I)〜(V)を重合又は共重合させて得た重合体又は共重合体にアルコキシシリル基を導入する方法としては以下の(iv)〜(vi)の方法が使用できる。
(iv)上記エポキシ基を有する単量体の重合体又は共重合体にアミノ基を有するアルコキシシラン(3−アミノプロピルトリメトキシシラン、3−アミノプロピルトリエトキシシラン等)を付加反応させる。
【0014】
(v)上記水酸基を有する単量体の重合体又は共重合体にイソシアナト基を有するアルコキシシラン(3−イソシアナトプロピルトリエトキシシラン等)を付加反応させる。
(vi)上記カルボキシル基を有する単量体の重合体又は共重合体にエポキシ基を有するアルコキシシラン(3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、3−グリシドキシトリエトキシシラン、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン等)を付加反応させる。
(B)一次粒子径が1〜200nmのコロイダルシリカとしては無機ケイ酸の微粒子をコロイド溶液としたものである。また分散媒を含有しない粉末状の微粒子シリカも本発明に使用できる。コロイダルシリカの分散媒としては、例えば、水、メタノール、エタノール、イソプロパノール、n−ブタノール、n−プロパノール等のアルコール類、エチレングリコール、プロピレングリコール等の多価アルコ−ル類、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等の多価アルコールの誘導体、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジアセトンアルコール等のケトン類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、ジメチルアセトアミド等のアミド類が好ましい。
【0015】
これらのコロイダルシリカは周知の方法で製造され市販されているものから上記粒径のものを選んで用いることができる。例えば、日産化学株式会社から市販されている商品名スノーテックスO、AK、メタノールシリカゾル、IPA−ST、MEK−ST、MIBK−ST、PMA−ST、触媒化成(株)から市販されている商品名Cataloid−SN、OSCAL1432等である。粉末状の微粒子シリカとしては触媒化成(株)から市販されている商品名OSCAP、シーアイ化成から市販されている商品名ナノテック等を挙げることができる。本発明のコロイダルシリカは酸性又は塩基性形態で入手可能であるが、本発明の活性エネルギー線硬化性組成物を製造する方法においては酸性の形態を使用するのが好ましい。
【0016】
粒子径は1〜200nmのものを使用するが、特に10〜50nmのものが好ましい。粒子径が1nm未満の場合は分散状態での安定性が悪く、また200nmを超えると透明性が悪化する。
(C)紫外線吸収剤としては、例えば、ベンゾトリアゾール系、ベンゾフェノン系、ベンゾエート系、シアノアクリレート系の紫外線吸収剤が挙げられる。これらの具体例としては、2−(2−ヒドロキシ−5−メチル)ベンゾトリアゾール、2−[2−ヒドロキシ−3,5−ビス(α,α−ジメチルベンジル)フェニル]−2H−ベンゾトリアゾール、2−(2′−ヒドロキシ−5′−t−ブチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2′−ヒドロキシ−3′−t−ブチル−5′−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2′−ヒドロキシ−3′,5′−t−ブチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2′−ヒドロキシ−3′,5′−t−ブチルフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール、2−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−4,6−ビス(1−メチル−1−フェニルエチル)フェノール、2−(2′−ヒドロキシ−3′,5′−t−ペンチル)ベンゾトリアゾール、2−[2′−ヒドロキシ−5′−(1,1,3,3,−テトラメチルブチル)]ベンゾトリアゾール、2−(2′−ヒドロキシ−3′−s−ブチル−5′−t−ブチル)ベンゾトリアゾール、2−(2′−ヒドロキシ−3−ドデシル−5′−メチル)ベンゾトリアゾール、2−(2′−ヒドロキシ−3′−tert−ブチル−5′−メチルフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール、2−(2′−ヒドロキシ−5′−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2,2−メチレンビス[4−1,1,3,3−テトラメチルブチル]−6−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)フェノール、3−[3−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−5−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル]プロピオネートとポリエチレングリコールの反応物、2−ヒドロキシベンゾフェノン、5−クロロ−2−ヒドロキシベンゾフェノン、2,4−ジヒドロキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−n−オクトキシベンゾフェノン、4−ドデシロキシ−2−ヒドロキシベンゾフェノン、2,2′−ジヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン、2,2′−ジヒドロキシ−4,4′−ジメトキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−ドデシルオキシベンゾフェノン、フェニルサリシレート、p−tert−ブチルフェニルサリシレート、3−ヒドロキシフェニルベンゾエート、フェニレン−1,3−ベンゾエート、2−エチルヘキシル−2−シアノ−3,3′−ジフェニルアクリレート、エチル−2−シアノ−3,3′−ジフェニルアクリレート、2−(4,6−ジフェニル−1,3,5−トリアジン−2―イル)−5−ヘキシルオキシフェノール等が挙げられる。これらの紫外線吸収剤は単独又は二種以上を組み合わせて用いることができる。
【0017】
(D)光安定剤としては、例えば、4−ベンゾイルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン、4−ヘキサノイルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン、4−オクタノイルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン、4−ステアロイルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン、コハク酸−ビス(2,2,6,6−テトラメチルピペリジン)、セバシン酸−ビス(2,2,6,6−テトラメチルピペリジン)、セバシン酸−ビス(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジン)、8−アセチル−3−ドデシル−7,7,9,9−テトラメチル−1,3,8−トリアザスピロ[4,5]デカン−2,4−ジオン、N−メチル−3−ドデシル−1−(−2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジニル)ピロリジン−2,5−ジオン、N−アセチル−3−ドデシル−1−(2,2,6,6−テトラメチル)ピペリジン、トリメシン酸−トリス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)等が挙げられる。これらの光安定剤は単独又は二種以上を組み合わせて用いることができる。
【0018】
(E)分子中に2個以上の(メタ)アクリロイル基を有するアクリレート
本発明の活性エネルギー線硬化性組成物に使用できる分子内に2個以上の(メタ)アクリロイル基を有するアクリレートとしては、例えば、1,4−ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールアジペートジ(メタ)アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、ジシクロペンタニルジ(メタ)アクリレート、カプロラクトン変性ジシクロペンテニルジ(メタ)アクリレート、EO(エチレンオキシド)変性ビスフェノールAジ(メタ)アクリレート、EO(エチレンオキシド)変性リン酸ジ(メタ)アクリレート、アリル化シクロヘキシルジ(メタ)アクリレート、イソシアヌレートジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパンジ(メタ)アクリレート等のジ(メタ)アクリレートと、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、プロピオン酸変性ジペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、PO(プロピレンオキシド)変性トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、トリス(アクリロキシエチル)イソシアヌレート、プロピオン酸変性ジペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、プロピオン酸変性ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート等の3官能以上の(メタ)アクリレート、上記3官能以上の(メタ)アクリレートとγ−メルカプトプロピルトリメトキシシランの反応物とコロイダルシリカ及び/又はシリケートの加水分解縮合物、グリセリンジアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート等の水酸基含有アクリレートとイソシアネートプロピルトリエトキシシランの反応物とコロイダルシリカ及び/又はシリケートの加水分解縮合物等が挙げられる。これら分子中に2個以上の(メタ)アクリロイル基を有するアクリレートは単独又は2種以上を組み合わせて用いることができる。
【0019】
(F)溶剤
本発明の活性エネルギー線硬化性組成物には、組成物の取り扱い上の点から溶剤を含有させることができる。例えば、メタノール、エタノール、n−プロパノール、イソプロパノール、n−ブタノール等のアルコール類;アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類;2−メトキシエタノール、2−エトキシエタノール、2−ブトキシエタノール、1−メトキシ−2−プロパノール、1−エトキシ−2−プロパノール、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル等のエーテル類;2−メトキシエチルアセタート、2−エトキシエチルアセタート、2−ブトキシエチルアセタート、3−メトキシプロピルアセタート等のエーテルエステル類;トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類;酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル等のエステル類;等が挙げられる。これら溶剤は単独又は2種以上を組み合わせて用いることができる。溶剤の配合量は組成物100重量部に対して500重量部以下が好ましく、更に好ましくは200重量部以下である。
【0020】
(G)光重合開始剤
本発明の活性エネルギー線硬化性組成物には、活性エネルギー線を照射させることによってラジカル等を発生する光重合開始剤を含有させることができる。活性エネルギー線として紫外線を用いる場合、光重合開始剤を含有させるのが好ましい。光重合開始剤としては、例えば、具体的には、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、などのベンゾインとそのアルキルエーテル類;アセトフェノン、2,2−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノン、2,2−ジエトキシ−2−フェニルアセトフェノン、1,1−ジクロロアセトフェノン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、1−[4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニル]−2−ヒドロキシ−2−メチル−1−プロパン−1−オン、 2−メチル−1−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルフォリノプロパン−1−オン、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)−1−ブタノンなどのアセトフェノン類;2−メチルアントラキノン、2−エチルアントラキノン、2−t−ブチルアントラキノン、1−クロロアントラキノン、2−アミルアントラキノンなどのアントラキノン類が挙げられる。
【0021】
更に2,4−ジメチルチオキサントン、2,4−ジエチルチオキサントン、2−クロロチオキサントン、2,4−ジイソプロピルチオキサントンなどのチオキサントン類;アセトフェノンジメチルケタール、ベンジルジメチルケタールなどのケタール類、ベンゾフェノンなどのベンゾフェノン類又はキサントン類、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)−ブタノン−1等のα−アミノケトン類、ビス(2,6−ジメトキシベンゾイル)−2,4,4−トリメチルペンチルフォスフィンオキサイド、ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−フェニルフォスフィンオキサイド、ビス(η5−2,4−シクロペンタジエン−1−イル)−ビス(2,6−ジフルオロ−3−1H−ピロール−1−イル)フェニルチタニウム、η5−シクロペンタジエニル−η6−クメニルアイアン(1+)−ヘキサフルオロフォスフェイト(1−)等を挙げることができる。これらの光重合開始剤は単独又は2種以上を組み合わせて用いることができる。光重合開始剤の添加量は被覆物の硬度の点から組成物100重量部に対して0.1〜20重量部が好ましい。更に好ましくは1〜10重量部である。
【0022】
このラジカル重合反応は、溶剤中で通常のラジカル重合開始剤を用いて行われる。溶剤としては、例えば、メタノール、エタノール、n−プロパノール、イソプロパノール、n−ブタノール等のアルコール類;アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類;2−メトキシエタノール、2−エトキシエタノール、2−ブトキシエタノール、1−メトキシ−2−プロパノール、1−エトキシ−2−プロパノール、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル等のエーテル類;2−メトキシエチルアセタート、2−エトキシエチルアセタート、2−ブトキシエチルアセタート、3−メトキシプロピルアセタート等のエーテルエステル類;トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類;酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル等のエステル類;等が挙げられ、また、これらを混合使用することもできる。
重合反応に使用するラジカル重合開始剤としては、ベンゾイルパーオキサイド、ジ−t−ブチルパーオキサイド、クメンハイドロパーオキサイド等の過酸化物、2,2′−アゾビスイソブチロニトリル、2,2′−アゾビス−(2,4−ジメチルバレロニトリル)、2,2′−アゾビス(4−メトキシ−2,4−ジメチルバレロニトリル)等のアゾ化合物が好適に用いられる。
反応系における単量体の濃度は、通常10〜60重量%であり、重合開始剤は、通常単量体の総重量に対して0.1〜10重量%である。
【0023】
加水分解縮合反応は、これらの混合物に水を添加することにより行われる。水の添加量はアルコキシシリル基が理論量として100%加水分解し得る量以上の量であればよく、100〜300%相当量、好ましくは100〜200%相当量を添加する。この加水分解反応を促進するため、加水分解触媒を反応系に添加することができる。加水分解触媒としては、例えば、アセチルアセトンアルミニウム、アルミニウム−2,2,6,6−テトラメチル−3,5−ヘプテタンジオネート、アルミニウムジイソプロポキシドエチルアセトアセテート、アルミニウムジブトキシドエチルアセトアセテート、ホウ酸ブトキシド、酢酸、塩酸、マレイン酸、シュウ酸、フマル酸、ジブチルスズジラウレート、ジブチルスズジオクテート、ジオクチルスズジラウレート、p−トルエンスルホン酸及びこれらの混合物を使用することができる。その使用量はアルコキシシリル基含有化合物100重量部に対して、0.1〜5重量部、好ましくは0.5〜5重量部である。
反応は室温〜100℃、1時間〜100時間、好ましくは室温で4時間以上反応の後、40〜70℃で1〜10時間加熱し、反応を進行させる。また、副反応を抑えるため、溶媒で反応系を希釈してもよい。用いられる溶媒としては加水分解に用いる水、触媒との相溶性があるものが好ましく、例えば、メタノール、エタノール、イソプロパノール、イソブタノール等のアルコール類;アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類;テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類;プロピレングリコールモノメチルエーテル等の水酸基含有エーテル類;2−メトキシエチルアセタート、2−エトキシエチルアセタート、2−ブトキシエチルアセタート、3−メトキシプロピルアセタート等のエーテルエステル類;等を挙げることができる。
【0024】
本発明の活性エネルギー線硬化性組成物は(A)アルコキシシリル基及び(メタ)アクリロイル基を有する樹脂、(B)一次粒子径が1〜200nmのコロイダルシリカ、(C)紫外線吸収剤及び/又は(D)光安定剤を混合して調製することができる。
配合割合は(A)成分10〜95重量%、(B)成分5〜90重量%(但し、(A)+(B)を100重量%とする)、(C)+(D)成分を(A)+(B)成分100重量部あたり、0.2〜20部の範囲が好ましい。更に好ましくは、(A)成分20〜90重量%、(B)成分10〜80重量%、(C)+(D)成分2〜18重量部であり、特に好ましくは、(A)成分30〜85重量%、(B)成分15〜70重量%、(C)+(D)成分4〜15重量部である。(A)成分が上記範囲未満であると被膜の造膜性が劣る場合があり、上記範囲超過であると被膜の硬度が低くなる場合がある。(B)成分が上記範囲未満であると被膜の硬度が低くなる場合があり、上記範囲超過であると造膜性が劣る場合がある。(C)+(D)成分が上記範囲未満であると被膜の耐候性が劣る場合があり、上記範囲超過であると被膜の硬度が低くなる場合がある。
また、(C)+(D)成分の配合量は、上記の範囲が好ましいが、(C)成分、及び(D)成分は各々、0.2〜10重量部、及び0〜10重量部が好ましく、更に好ましくは2〜10重量部、及び2〜10重量部、特に好ましくは2.5〜8重量部及び2.5〜8重量である。
【0025】
これら(A)、(B)、(C)及び/又は(D)成分に(E)分子中に2個以上のアクリロイル基を有するアクリレートを含有させることは、被膜の硬度を上げることができ好ましい。配合割合は(A)成分10〜90重量%、(B)成分5〜90重量%、(E)成分5〜85重量%(但し、(A)+(B)+(E)を100重量%とする)、(C)+(D)成分を(A)+(B)+(E)成分100重量部あたり、1〜20部の範囲が好ましい。更に好ましくは、(A)成分20〜85重量%、(B)成分10〜75重量%、(E)成分7〜70重量%、(C)+(D)成分2〜18重量部であり、特に好ましくは、(A)成分30〜75重量%、(B)成分15〜70重量%、(E)成分10〜50重量%、(C)+(D)成分4〜15重量部である。
(E)成分が上記範囲未満であると被膜の硬度が劣る場合があり、上記範囲超過であると被膜がカールする場合がある。
次に、本発明の活性エネルギー線硬化性組成物を利用した硬化被膜の形成方法について説明する。
【0026】
まず、本発明の硬化性組成物を適用する基材の材質には特に制限はなく、例えば、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート、ポリエチレンテレフタレート、塩化ビニル樹脂、ABS樹脂、酢酸セルロース、ポリプロピレン、合成紙、紙等からなる基材のいずれにも適用することができる。また、前記基材の形態についても制限はなく、シート状、フィルム状、成形体等いずれの形態であってもよい。
【0027】
前記硬化性組成物の基材への供給は、通常、塗布により行う。塗布方法についても特に制限されず、ディッピング法、フローコート法、スプレー法、スピンコート法、バーコート法等のいずれの方法によって塗布することもできる。また、グラビアコート、ロールコート、ブレードコート及びエアーナイフコート等のいずれの塗工器具によって塗布することもできる。また、印刷等により画像様に供給することもできる。
【0028】
なお、塗布量については特に制限されないが、活性エネルギー線の照射によって硬化した被膜の膜厚が、0.1〜50μm、好ましくは1〜20μmとなるように塗工するのが好ましい。
本発明の硬化性組成物に、所望により溶剤を用いた場合、硬化性組成物を基材に供給した後、乾燥して溶剤を除去する。乾燥条件は溶剤の沸点、基材の材質、塗布量等によって、好ましい範囲が異なるが、一般的には、30〜120℃で1〜30分間行い、好ましくは50〜100℃で1〜5分間行う。
【0029】
次に、活性エネルギー線を照射して硬化させる。活性エネルギー線としては、キセノンランプ、低圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、メタルハライドランプ、カーボンアーク灯、タングステンランプ等の光源から発せられる紫外線、通常20〜2000kVの粒子加速器から取り出される電子線、α線、β線、γ線等を用いることができる。
【0030】
本発明のハードコートフィルムは、上記基材としてプラスチックフィルム(好ましくは膜厚が200μm以下、より好ましくは5〜150μmのプラスチックフィルム)を用い、上記方法に従って、該フィルムの表面に本発明の活性エネルギー線硬化性組成物からなる被膜を形成することによって作製することができる。
【0031】
【実施例】
以下に合成例及び実施例を記載して、本発明をさらに具体的に説明する。以下の合成例及び実施例に記載される成分、割合、手順等は、本発明の趣旨から逸脱しない限り適宜変更することができる。したがって、本発明の範囲は以下に記載される具体例によって限定されるものではない。
【0032】
(合成例1)
温度計、攪拌機及び還流冷却管を備えたフラスコにプロピレングリコールモノメチルエーテル139.5gにグリシジルメタクリレート90g、メルカプトプロピルトリメトキシシラン3.0g、2,2′−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)0.93gを加え65℃にて3時間反応させ、さらに2,2′−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)0.47gを加え3時間反応させた。次にアクリル酸51.7g、トリフェニルホスフィン1.45g、p−メトキシフェノール0.36g、プロピレングリコールモノメチルエーテル77.6gを添加し110℃にて10時間反応させ、(メタ)アクリロイル基とアルコキシシリル基を有する共重合体(a)を得た。
【0033】
(合成例2)
温度計、攪拌機及び還流冷却管を備えたフラスコにジペンタエリスリトールペンタアクリレート360gとイソシアネートプロピルトリエトキシシラン(信越化学社製 商品名:KBE9007)18.0g、p−メトキシフェノール0.38g、ジブチルスズジラウレート0.2gを加え70℃にて2時間反応させた。この反応物を赤外線吸収スペクトルにより分析したところ、イソシアネート基の2250cm−1の吸収は認められず、反応が終了したことを確認した。次にメチルエチルケトンを分散媒とするシリカゾル(日産化学社製 商品名:MEK−ST)420.0g、水3.8g、アセチルアセトンアルミニウム1.9gを加え70℃で4時間反応させ多官能アクリレート(e)を得た。
【0034】
実施例1及び2並びに比較例1及び2(活性エネルギー線硬化性組成物の製造例)
下記表−1に示す組成の活性エネルギー線硬化性組成物をアクリルフィルム(厚さ125μm、ヘイズ0.4%)にバーコーターを用いて、乾燥後の塗膜厚が6μmとなるように塗布し、80℃で2分間加熱乾燥した。次いで、この塗布フィルムに、出力120w/cmの高圧水銀灯を光源として紫外線を500mJ/cm照射して塗膜を硬化させた。
【0035】
評価方法
ヘイズ:JIS K−7105に従って、ヘイズ値(H%)で評価した。
耐摩耗性:摩耗輪(Calibrase社製:CS−10F)を用いて、荷重500g、回転数100サイクルの条件にて、テーパー摩耗試験を行い試験前後のヘイズ値の差ΔH%を測定した。
耐擦傷性:学振型摩耗試験器にてスチールウール#0000の上に500gの荷重をかけて1000往復させ、傷の状況を肉眼にて判断した。
【0036】
◎:全く傷が付かない
○:1〜5本の傷が付く
△:5〜10本の傷が付く
×:10本以上の傷が付く
密着性:試験片に2mm間隔にて100個のます目をつくりセロハンテープ(ニチバン製24mm)を圧着させて上方に剥がし、被覆膜が剥がれずに残っている数で評価した。表−2中、90/100の記載は、100個のます目のうち、90個が残っていることを表している。
【0037】
耐候性:QUV(デューパネル紫外蛍光ランプウェザーメーター)を用いて紫外線照射時間8時間(雰囲気温度60℃)湿潤4時間を1サイクルとして300時間促進暴露試験を行った。得られた試験片について上述の密着性及び耐擦傷性、並びに外観を測定、観察した。
外観:耐候性試験後のクラックの発生を目視にて観察した
○ :クラック無し
× :クラック発生
結果を表−2に記載する。
【0038】
【表1】

Figure 2004346228
表中の各記号は以下の意味で用いた。
Figure 2004346228
【0039】
【表2】
Figure 2004346228
【0040】
【発明の効果】
本発明の活性エネルギー線硬化性組成物は、外観、耐摩耗性、耐擦傷性、基材密着性及び耐候性に優れた被膜を形成することができ、耐熱性の低いプラスチック基材に対しても適用できるコーティング剤として有用である。また、該組成物を硬化させてなる膜を有する成形品は外観、耐摩耗性、耐擦傷性、耐候性が優れておりヘッドランプカバー、風防ガラス、車両用窓ガラス、車両用屋根材、建築物用窓ガラス、建築物用外壁材、道路用防音壁、ディスプレイ用面板及び携帯電話用部材等に有用である。[0001]
TECHNICAL FIELD OF THE INVENTION
The present invention provides an active energy ray-curable composition for forming a coating layer having excellent appearance, abrasion resistance, scratch resistance, substrate adhesion and weather resistance, and molding comprising a film obtained by curing the composition. About goods.
[0002]
[Prior art]
In general, various synthetic resins, for example, polycarbonate, polymethyl methacrylate, polyethylene terephthalate, vinyl chloride resin, ABS resin, cellulose acetate, polypropylene, etc. are excellent in light weight, easy processability, impact resistance, etc., and thus are used in various applications. Used in However, products obtained from these synthetic resins have low surface hardness and are easily damaged, and transparent resins such as polycarbonate are liable to significantly impair the original transparency or appearance of the resins. This makes it difficult to use synthetic resins in fields requiring abrasion resistance. Therefore, there is a need for an active energy ray-curable hard coat material that imparts abrasion resistance to products made of these synthetic resins and increases the surface hardness.
[0003]
As a method for solving these problems, an active energy ray-curable resin comprising a compound having a plurality of (meth) methacryloyl groups in a molecule is disclosed. Although this method has the advantage of being excellent in productivity, the wear resistance of the molded article is limited because the cured film is an organic substance.
As a method for imparting higher wear resistance, an active energy ray-curable resin comprising a monomer having two or more (meth) acryloyl groups in a molecule and colloidal silica is disclosed. However, this cured film had a problem in weather resistance.
[0004]
As a method for improving abrasion resistance and weather resistance, an active energy comprising a hydrolysis condensate of a monomer having two or more (meth) acryloyl groups in a molecule and colloidal silica or silicate, an ultraviolet absorber, and a light stabilizer. A line-curable composition is disclosed (for example, refer to Patent Documents 1, 2, and 3). However, no cured film that satisfies both hardness and weather resistance has been obtained.
[0005]
[Patent Document 1]
JP-A-5-98189
[Patent Document 2]
JP-A-8-209028
[Patent Document 3]
JP-A-9-157315
[0006]
[Problems to be solved by the invention]
The present invention has been made in view of the above problems, and has an active energy ray-curable composition that forms a coating having excellent appearance, abrasion resistance, scratch resistance, substrate adhesion, and weather resistance, and the composition. It is an object to provide a molded article having a film obtained by curing an object.
[0007]
[Means for Solving the Problems]
As a result of intensive studies to solve these problems, the present inventor has found that a very excellent effect can be obtained by using a resin having a specific structure, and has completed the present invention. Was.
That is, the present invention comprises (A) a resin having an alkoxysilyl group and a (meth) acryloyl group, (B) colloidal silica having a primary particle diameter of 1 to 200 nm, (C) an ultraviolet absorber and / or (D) a light stabilizer. The gist is an active energy ray-curable composition characterized by containing.
[0008]
In addition, the present invention provides (E) a (meth) acrylate having two (meth) acryloyl groups in a molecule (hereinafter, referred to as (meth) acrylate) in addition to the above (A), (B), (C) and / or (D). , A polyfunctional (meth) acrylate) is contained in the active energy ray-curable composition.
Further, the present invention provides a hard coat film having a film obtained by curing the active energy ray-curable composition on at least one surface of a plastic film.
[0009]
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail. In addition, in this specification, "(meth) acryloyl group" is used in the meaning including both an acryloyl group and a methacryloyl group.
(A) As a resin having an alkoxysilyl group and a (meth) acryloyl group, an alkoxysilyl group is obtained by copolymerizing the compound (VI) when polymerizing or copolymerizing the following compounds (I) to (V). And then introducing a (meth) acryloyl group by the methods (i) to (iii), or adding (iv) to a polymer obtained by polymerizing or copolymerizing the following compounds (I) to (V). ) To (vi), an alkoxysilyl group is introduced, and then a (meth) acryloyl group is introduced by the methods (i) to (iii).
[0010]
(I) Monomer having epoxy group
Glycidyl (meth) acrylate, 3,4-epoxycyclohexylmethyl (meth) acrylate, 4-hydroxybutyl (meth) acrylate glycidyl ether, etc.
(II) Monomer having hydroxyl group
2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 2-hydroxybutyl (meth) acrylate, 4-hydroxybutyl (meth) acrylate, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl (meth) acrylate, 2 -Acryloyloxyethyl-2-hydroxyethyl phthalate, N-methylolacrylamide, etc.
(III) a monomer having a carboxyl group
(Meth) acrylic acid, mono (2-acryloyloxyethyl) phthalate, mono (2- (meth) acryloyloxyethyl) hexahydrophthalate, mono (2- (meth) acryloylpropyl) phthalate, mono ((meth) acryloyloxy) Ethyl) succinate
(IV) Monomer having isocyanate group
2-isocyanatoethyl (meth) acrylate, adducts of the above-mentioned hydroxyl group-containing (meth) acrylate with diisocyanate compounds such as 2,4-toluylene diisocyanate and 1,6-hesamethylene diisocyanate, etc.
(V) Monomer copolymerizable with the above compound
Methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate, isobutyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, isodecyl (meth) acrylate, lauryl (meth) acrylate, tridecyl (meth) Acrylate, stearyl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, isobornyl (meth) acrylate, tetrahydrofurfuryl (meth) acrylate, dicyclopentenyl (meth) acrylate, dicyclopentenyloxyethyl (meth) Acrylate, ethoxyethyl (meth) acrylate, ethyl carbitol (meth) acrylate, butoxyethyl (meth) acrylate, dimethylaminoethyl (meth) acrylate Relate, diethylaminoethyl (meth) acrylate, cyanoethyl (meth) acrylate, styrene and the like
[0011]
(VI) Monomer having alkoxysilyl group
p-styryltrimethoxysilane, 3- (meth) acryloyloxypropylmethyldimethoxysilane, 3- (meth) acryloyloxypropylmethyltrimethoxysilane, 3- (meth) acryloyloxypropylmethyltriethoxysilane, 3-mercaptopropylmethyl Dimethoxysilane, 3-mercaptopropyltrimethoxysilane, etc.
As a method for introducing a (meth) acryloyl group into a polymer or copolymer obtained by polymerizing or copolymerizing the compounds (I) to (V) into which the above-mentioned alkoxysilyl group is introduced, the following (i) to (i) The method (iii) can be used.
[0012]
(I) The polymer or copolymer of the monomer having an epoxy group is subjected to an addition reaction with the monomer having a carboxyl group and / or a hydroxyl group.
(Ii) Condensation reaction of the monomer having a carboxyl group with the polymer or copolymer of the monomer having a hydroxyl group.
(Iii) Condensation reaction of the above-mentioned monomer having a hydroxyl group with the polymer or copolymer of the above-mentioned monomer having a carboxyl group or addition reaction of the above-mentioned monomer having an epoxy group.
[0013]
As a method for introducing an alkoxysilyl group into a polymer or a copolymer obtained by polymerizing or copolymerizing the above compounds (I) to (V), the following methods (iv) to (vi) can be used.
(Iv) An alkoxysilane having an amino group (e.g., 3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane) is added to the polymer or copolymer of the monomer having an epoxy group.
[0014]
(V) An isocyanato group-containing alkoxysilane (such as 3-isocyanatopropyltriethoxysilane) is added to the polymer or copolymer of the hydroxyl group-containing monomer.
(Vi) An alkoxysilane (3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane, 3-glycidylsilane) having an epoxy group in the polymer or copolymer of the monomer having a carboxyl group. (Doxytriethoxysilane, 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, etc.).
(B) As the colloidal silica having a primary particle diameter of 1 to 200 nm, fine particles of inorganic silicic acid are used as a colloid solution. Further, powdery fine particle silica containing no dispersion medium can also be used in the present invention. Examples of the colloidal silica dispersion medium include water, alcohols such as methanol, ethanol, isopropanol, n-butanol and n-propanol, polyhydric alcohols such as ethylene glycol and propylene glycol, ethylene glycol monomethyl ether, and ethylene glycol. Derivatives of polyhydric alcohols such as glycol monoethyl ether, ethylene glycol monopropyl ether, ethylene glycol monobutyl ether, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monomethyl ether acetate, ketones such as methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, diacetone alcohol, toluene, Aromatic hydrocarbons such as xylene and amides such as dimethylacetamide are preferred.
[0015]
These colloidal silicas can be used by selecting those having the above-mentioned particle size from those manufactured and marketed by a known method. For example, trade names such as Snowtex O, AK, methanol silica sol, IPA-ST, MEK-ST, MIBK-ST, PMA-ST, and trade names commercially available from Nissan Chemical Co., Ltd. Cataloid-SN, OSCAL1432, and the like. Examples of the powdered fine particle silica include OSCAP (trade name) commercially available from Catalyst Kasei Co., Ltd., and Nanotech (trade name) commercially available from C-I Kasei. Although the colloidal silica of the present invention is available in an acidic or basic form, it is preferable to use an acidic form in the method for producing the active energy ray-curable composition of the present invention.
[0016]
A particle size of 1 to 200 nm is used, and a particle size of 10 to 50 nm is particularly preferable. If the particle size is less than 1 nm, the stability in a dispersed state is poor, and if it exceeds 200 nm, the transparency is poor.
(C) Examples of the ultraviolet absorber include benzotriazole-based, benzophenone-based, benzoate-based, and cyanoacrylate-based ultraviolet absorbers. Specific examples of these include 2- (2-hydroxy-5-methyl) benzotriazole, 2- [2-hydroxy-3,5-bis (α, α-dimethylbenzyl) phenyl] -2H-benzotriazole, -(2'-hydroxy-5'-t-butylphenyl) benzotriazole, 2- (2'-hydroxy-3'-t-butyl-5'-methylphenyl) benzotriazole, 2- (2'-hydroxy- 3 ', 5'-t-butylphenyl) benzotriazole, 2- (2'-hydroxy-3', 5'-t-butylphenyl) -5-chlorobenzotriazole, 2- (2H-benzotriazole-2- Yl) -4,6-bis (1-methyl-1-phenylethyl) phenol, 2- (2′-hydroxy-3 ′, 5′-t-pentyl) benzotriazole, 2- [2'-hydroxy-5 '-(1,1,3,3-tetramethylbutyl)] benzotriazole, 2- (2'-hydroxy-3'-s-butyl-5'-t-butyl ) Benzotriazole, 2- (2'-hydroxy-3-dodecyl-5'-methyl) benzotriazole, 2- (2'-hydroxy-3'-tert-butyl-5'-methylphenyl) -5-chlorobenzo Triazole, 2- (2'-hydroxy-5'-methylphenyl) benzotriazole, 2,2-methylenebis [4-1,1,3,3-tetramethylbutyl] -6- (2H-benzotriazole-2- Yl) phenol, reaction product of 3- [3- (2H-benzotriazol-2-yl) -5-t-butyl-4-hydroxyphenyl] propionate and polyethylene glycol 2-hydroxybenzophenone, 5-chloro-2-hydroxybenzophenone, 2,4-dihydroxybenzophenone, 2-hydroxy-4-methoxybenzophenone, 2-hydroxy-4-n-octoxybenzophenone, 4-dodecyloxy-2-hydroxybenzophenone 2,2'-dihydroxy-4-methoxybenzophenone, 2,2'-dihydroxy-4,4'-dimethoxybenzophenone, 2-hydroxy-4-dodecyloxybenzophenone, phenyl salicylate, p-tert-butylphenyl salicylate, 3 -Hydroxyphenylbenzoate, phenylene-1,3-benzoate, 2-ethylhexyl-2-cyano-3,3'-diphenylacrylate, ethyl-2-cyano-3,3'-diphenylacrylate 2- (4,6-diphenyl-1,3,5-triazin-2-yl) -5-hexyloxy phenol, and the like. These ultraviolet absorbers can be used alone or in combination of two or more.
[0017]
(D) As the light stabilizer, for example, 4-benzoyloxy-2,2,6,6-tetramethylpiperidine, 4-hexanoyloxy-2,2,6,6-tetramethylpiperidine, 4-octanoyl Oxy-2,2,6,6-tetramethylpiperidine, 4-stearoyloxy-2,2,6,6-tetramethylpiperidine, bis-succinate (2,2,6,6-tetramethylpiperidine), sebacine Acid-bis (2,2,6,6-tetramethylpiperidine), sebacic acid-bis (1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidine), 8-acetyl-3-dodecyl-7,7 , 9,9-Tetramethyl-1,3,8-triazaspiro [4,5] decane-2,4-dione, N-methyl-3-dodecyl-1-(-2,2,6,6-tetramethyl -4-piperi Nyl) pyrrolidine-2,5-dione, N-acetyl-3-dodecyl-1- (2,2,6,6-tetramethyl) piperidine, trimesic acid-tris (2,2,6,6-tetramethyl- 4-piperidyl) and the like. These light stabilizers can be used alone or in combination of two or more.
[0018]
(E) Acrylate having two or more (meth) acryloyl groups in the molecule
Examples of the acrylate having two or more (meth) acryloyl groups in the molecule that can be used in the active energy ray-curable composition of the present invention include, for example, 1,4-butanediol di (meth) acrylate and 1,6-hexane. Diol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, polyethylene glycol di (meth) acrylate, polypropylene glycol di (meth) acrylate, neopentyl glycol adipate di (meth) acrylate, neopentyl glycol dihydroxypivalate ( (Meth) acrylate, dicyclopentanyl di (meth) acrylate, caprolactone-modified dicyclopentenyl di (meth) acrylate, EO (ethylene oxide) -modified bisphenol A di (meth) acrylate, EO (ethylene Di (meth) acrylates such as (oxide) -modified phosphoric acid di (meth) acrylate, allylated cyclohexyldi (meth) acrylate, isocyanurate di (meth) acrylate, trimethylolpropanedi (meth) acrylate, and trimethylolpropane tri ( (Meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol tri (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, propionic acid-modified dipentaerythritol tri (meth) acrylate, PO (propylene oxide) -modified trimethylolpropane tri (meth) acrylate, tris (acryloxyethyl) isocyanurate, propionic acid-modified dipentaerythritol Trifunctional or higher (meth) acrylates such as rutetra (meth) acrylate, propionic acid-modified dipentaerythritol penta (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, and caprolactone-modified dipentaerythritol hexa (meth) acrylate; Hydroxyl-containing acrylates such as a reaction product of a functional or higher functional (meth) acrylate and γ-mercaptopropyltrimethoxysilane and a hydrolyzed condensate of colloidal silica and / or silicate, glycerin diacrylate, pentaerythritol triacrylate, and dipentaerythritol pentaacrylate And a reaction product of isocyanatopropyltriethoxysilane and a hydrolyzed condensate of colloidal silica and / or silicate. These acrylates having two or more (meth) acryloyl groups in the molecule can be used alone or in combination of two or more.
[0019]
(F) Solvent
The active energy ray-curable composition of the present invention can contain a solvent from the viewpoint of handling of the composition. For example, alcohols such as methanol, ethanol, n-propanol, isopropanol and n-butanol; ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone and cyclohexanone; 2-methoxyethanol, 2-ethoxyethanol, 2-butoxyethanol, Ethers such as -methoxy-2-propanol, 1-ethoxy-2-propanol, ethylene glycol dimethyl ether, ethylene glycol diethyl ether and diethylene glycol dimethyl ether; 2-methoxyethyl acetate, 2-ethoxyethyl acetate, 2-butoxyethyl acetate Ether esters such as tartrate and 3-methoxypropyl acetate; aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene; ethyl acetate, propyl acetate, butyl acetate and the like Esters; and the like. These solvents can be used alone or in combination of two or more. The amount of the solvent is preferably 500 parts by weight or less, more preferably 200 parts by weight or less, based on 100 parts by weight of the composition.
[0020]
(G) Photopolymerization initiator
The active energy ray-curable composition of the present invention can contain a photopolymerization initiator that generates radicals and the like when irradiated with an active energy ray. When an ultraviolet ray is used as the active energy ray, it is preferable to include a photopolymerization initiator. Examples of the photopolymerization initiator include, specifically, benzoin such as benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, and benzoin isopropyl ether, and alkyl ethers thereof; acetophenone, 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone, 2,2-diethoxy-2-phenylacetophenone, 1,1-dichloroacetophenone, 1-hydroxycyclohexylphenyl ketone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, 1- [4- (2- (Hydroxyethoxy) phenyl] -2-hydroxy-2-methyl-1-propan-1-one, 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholinopropan-1-one, 2-benzyl -2-dimethylamino-1- (4-morpholy Acetophenones such as nophenyl) -1-butanone; and anthraquinones such as 2-methylanthraquinone, 2-ethylanthraquinone, 2-t-butylanthraquinone, 1-chloroanthraquinone, and 2-amylanthraquinone.
[0021]
Thioxanthones such as 2,4-dimethylthioxanthone, 2,4-diethylthioxanthone, 2-chlorothioxanthone and 2,4-diisopropylthioxanthone; ketals such as acetophenone dimethyl ketal and benzyl dimethyl ketal; benzophenones such as benzophenone or xanthone -Aminoketones, such as 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butanone-1, bis (2,6-dimethoxybenzoyl) -2,4,4-trimethylpentylphospho Fin oxide, bis (2,4,6-trimethylbenzoyl) -phenylphosphine oxide, bis (η5-2,4-cyclopentadien-1-yl) -bis (2,6-difluoro-3-1H-pyrrole- 1-yl) phenyl Titanium, η5-cyclopentadienyl-η6-cumenyliron (1 +)-hexafluorophosphate (1-) and the like can be mentioned. These photopolymerization initiators can be used alone or in combination of two or more. The addition amount of the photopolymerization initiator is preferably from 0.1 to 20 parts by weight based on 100 parts by weight of the composition from the viewpoint of the hardness of the coating. More preferably, it is 1 to 10 parts by weight.
[0022]
This radical polymerization reaction is carried out in a solvent using a usual radical polymerization initiator. Examples of the solvent include alcohols such as methanol, ethanol, n-propanol, isopropanol and n-butanol; ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone and cyclohexanone; 2-methoxyethanol, 2-ethoxyethanol and 2-ethoxyethanol Ethers such as butoxyethanol, 1-methoxy-2-propanol, 1-ethoxy-2-propanol, ethylene glycol dimethyl ether, ethylene glycol diethyl ether, and diethylene glycol dimethyl ether; 2-methoxyethyl acetate, 2-ethoxyethyl acetate, Ether ethers such as butoxyethyl acetate and 3-methoxypropyl acetate; aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene; ethyl acetate and propyl acetate Esters such as ethyl acetate and butyl acetate; and the like, can also be used as a mixture thereof.
Examples of the radical polymerization initiator used in the polymerization reaction include peroxides such as benzoyl peroxide, di-t-butyl peroxide, cumene hydroperoxide, 2,2′-azobisisobutyronitrile, and 2,2 ′. Azo compounds such as -azobis- (2,4-dimethylvaleronitrile) and 2,2'-azobis (4-methoxy-2,4-dimethylvaleronitrile) are preferably used.
The concentration of the monomer in the reaction system is usually from 10 to 60% by weight, and the polymerization initiator is usually from 0.1 to 10% by weight based on the total weight of the monomer.
[0023]
The hydrolysis condensation reaction is performed by adding water to these mixtures. The amount of water to be added may be an amount which is at least an amount capable of hydrolyzing the alkoxysilyl group by 100% as a theoretical amount, and an amount equivalent to 100 to 300%, preferably 100 to 200% is added. In order to accelerate this hydrolysis reaction, a hydrolysis catalyst can be added to the reaction system. Examples of the hydrolysis catalyst include aluminum acetylacetone, aluminum-2,2,6,6-tetramethyl-3,5-heptetandionate, aluminum diisopropoxide ethyl acetoacetate, aluminum dibutoxide ethyl acetoacetate, and boron. Acid butoxide, acetic acid, hydrochloric acid, maleic acid, oxalic acid, fumaric acid, dibutyltin dilaurate, dibutyltin dioctate, dioctyltin dilaurate, p-toluenesulfonic acid and mixtures thereof can be used. The amount used is 0.1 to 5 parts by weight, preferably 0.5 to 5 parts by weight, based on 100 parts by weight of the alkoxysilyl group-containing compound.
The reaction is carried out at room temperature to 100 ° C for 1 hour to 100 hours, preferably at room temperature for 4 hours or more, and then heated at 40 to 70 ° C for 1 to 10 hours to progress the reaction. Further, the reaction system may be diluted with a solvent in order to suppress a side reaction. As the solvent to be used, those which are compatible with water used in the hydrolysis and the catalyst are preferable. For example, alcohols such as methanol, ethanol, isopropanol and isobutanol; ketones such as acetone, methyl ethyl ketone and methyl isobutyl ketone; tetrahydrofuran And dioxane; ethers such as propylene glycol monomethyl ether; hydroxyl-containing ethers; ether esters such as 2-methoxyethyl acetate, 2-ethoxyethyl acetate, 2-butoxyethyl acetate and 3-methoxypropyl acetate. And the like.
[0024]
The active energy ray-curable composition of the present invention comprises (A) a resin having an alkoxysilyl group and a (meth) acryloyl group, (B) colloidal silica having a primary particle diameter of 1 to 200 nm, (C) an ultraviolet absorber and / or (D) It can be prepared by mixing a light stabilizer.
The mixing ratio of component (A) is 10 to 95% by weight, component (B) is 5 to 90% by weight (provided that (A) + (B) is 100% by weight), and component (C) + (D) is The range is preferably 0.2 to 20 parts per 100 parts by weight of the components (A) and (B). More preferably, 20 to 90% by weight of the component (A), 10 to 80% by weight of the component (B), and 2 to 18 parts by weight of the component (C) + (D). 85% by weight, 15 to 70% by weight of component (B), and 4 to 15 parts by weight of component (C) + (D). If the component (A) is less than the above range, the film-forming properties of the coating may be poor, and if it is more than the above range, the hardness of the coating may be low. If the component (B) is less than the above range, the hardness of the coating may be low, and if it is more than the above range, the film forming property may be poor. If the component (C) + (D) is less than the above range, the weather resistance of the coating may be poor, and if it exceeds the above range, the hardness of the coating may be low.
Further, the compounding amount of the component (C) + (D) is preferably in the above range, but the component (C) and the component (D) are preferably 0.2 to 10 parts by weight and 0 to 10 parts by weight, respectively. It is preferably 2-10 parts by weight, more preferably 2-10 parts by weight, particularly preferably 2.5-8 parts by weight and 2.5-8 parts by weight.
[0025]
It is preferable that the component (A), (B), (C) and / or (D) contain an acrylate having two or more acryloyl groups in the molecule (E) because the hardness of the coating can be increased. . The mixing ratio is 10 to 90% by weight of the component (A), 5 to 90% by weight of the component (B), and 5 to 85% by weight of the component (E) (however, 100% by weight of (A) + (B) + (E)). ), (C) + (D) component is preferably in the range of 1 to 20 parts per 100 parts by weight of (A) + (B) + (E) component. More preferably, 20 to 85% by weight of the component (A), 10 to 75% by weight of the component (B), 7 to 70% by weight of the component (E), and 2 to 18 parts by weight of the component (C) + (D). Particularly preferred are 30 to 75% by weight of component (A), 15 to 70% by weight of component (B), 10 to 50% by weight of component (E), and 4 to 15 parts by weight of component (C) + (D).
If the component (E) is less than the above range, the hardness of the coating may be poor, and if it is more than the above range, the coating may be curled.
Next, a method for forming a cured film using the active energy ray-curable composition of the present invention will be described.
[0026]
First, the material of the substrate to which the curable composition of the present invention is applied is not particularly limited. For example, polycarbonate, polymethyl methacrylate, polyethylene terephthalate, vinyl chloride resin, ABS resin, cellulose acetate, polypropylene, synthetic paper, paper The present invention can be applied to any of the substrates composed of The form of the substrate is not limited, and may be any form such as a sheet, a film, and a molded body.
[0027]
The supply of the curable composition to the substrate is usually performed by coating. The coating method is not particularly limited, and the coating can be performed by any method such as a dipping method, a flow coating method, a spray method, a spin coating method, and a bar coating method. Further, it can be applied by any coating equipment such as gravure coat, roll coat, blade coat and air knife coat. Further, it can be supplied imagewise by printing or the like.
[0028]
The amount of the coating is not particularly limited, but it is preferable to apply the coating so that the thickness of the coating cured by irradiation with the active energy beam is 0.1 to 50 μm, preferably 1 to 20 μm.
When a solvent is used as desired in the curable composition of the present invention, the curable composition is supplied to a substrate and then dried to remove the solvent. Drying conditions vary depending on the boiling point of the solvent, the material of the base material, the amount of application, etc., but are generally from 30 to 120 ° C. for 1 to 30 minutes, preferably from 50 to 100 ° C. for 1 to 5 minutes. Do.
[0029]
Next, it is cured by irradiation with an active energy ray. Examples of the active energy ray include an ultraviolet ray emitted from a light source such as a xenon lamp, a low-pressure mercury lamp, a high-pressure mercury lamp, an ultra-high-pressure mercury lamp, a metal halide lamp, a carbon arc lamp, and a tungsten lamp. Rays, β rays, γ rays and the like can be used.
[0030]
The hard coat film of the present invention uses a plastic film (preferably a plastic film having a thickness of 200 μm or less, more preferably 5 to 150 μm) as the base material, and applies the active energy of the present invention to the surface of the film according to the above method. It can be produced by forming a film made of the line-curable composition.
[0031]
【Example】
Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to Synthesis Examples and Examples. Components, ratios, procedures, and the like described in the following Synthesis Examples and Examples can be appropriately changed without departing from the spirit of the present invention. Therefore, the scope of the present invention is not limited by the specific examples described below.
[0032]
(Synthesis example 1)
In a flask equipped with a thermometer, a stirrer and a reflux condenser, 139.5 g of propylene glycol monomethyl ether, 90 g of glycidyl methacrylate, 3.0 g of mercaptopropyltrimethoxysilane, 2,2'-azobis (2,4-dimethylvaleronitrile) 0 0.93 g was added and reacted at 65 ° C. for 3 hours. Further, 0.47 g of 2,2′-azobis (2,4-dimethylvaleronitrile) was added and reacted for 3 hours. Next, 51.7 g of acrylic acid, 1.45 g of triphenylphosphine, 0.36 g of p-methoxyphenol, and 77.6 g of propylene glycol monomethyl ether were added, and reacted at 110 ° C. for 10 hours to obtain a (meth) acryloyl group and an alkoxysilyl. A copolymer (a) having a group was obtained.
[0033]
(Synthesis example 2)
In a flask equipped with a thermometer, a stirrer and a reflux condenser, 360 g of dipentaerythritol pentaacrylate and 18.0 g of isocyanatopropyltriethoxysilane (trade name: KBE9007, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), 0.38 g of p-methoxyphenol, and 0 g of dibutyltin dilaurate Was added and reacted at 70 ° C. for 2 hours. When this reaction product was analyzed by an infrared absorption spectrum, 2250 cm -1 Was not observed, and it was confirmed that the reaction was completed. Next, 420.0 g of silica sol (trade name: MEK-ST, manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.) using methyl ethyl ketone as a dispersion medium, 3.8 g of water, and 1.9 g of aluminum acetylacetone were added, and reacted at 70 ° C. for 4 hours to obtain a polyfunctional acrylate (e). Got.
[0034]
Examples 1 and 2 and Comparative Examples 1 and 2 (Examples of producing active energy ray-curable compositions)
An active energy ray-curable composition having the composition shown in Table 1 below was applied to an acrylic film (125 μm thick, 0.4% haze) using a bar coater so that the coating thickness after drying was 6 μm. And dried at 80 ° C. for 2 minutes. Next, an output of 120 w / cm was applied to the coated film. 2 UV light at 500 mJ / cm using a high pressure mercury lamp as a light source 2 Irradiation cured the coating.
[0035]
Evaluation method
Haze: Haze value (H%) was evaluated according to JIS K-7105.
Abrasion resistance: Using a wear wheel (manufactured by Caliberase: CS-10F), a taper abrasion test was performed under the conditions of a load of 500 g and a number of rotations of 100 cycles, and the difference ΔH% between the haze values before and after the test was measured.
Scratch resistance: A 500-g load was reciprocated 1000 times on steel wool # 0000 using a Gakushin-type abrasion tester, and the state of the scratch was visually judged.
[0036]
◎: no scratch
:: 1 to 5 scratches
Δ: 5 to 10 scratches
×: 10 or more scratches
Adhesion: 100 squares were formed on the test piece at an interval of 2 mm, cellophane tape (24 mm made by Nichiban) was pressed and peeled upward, and the number of coating films remaining without peeling was evaluated. In Table 2, the description of 90/100 indicates that 90 out of 100 squares remain.
[0037]
Weather resistance: An accelerated exposure test was conducted using QUV (Due Panel Ultraviolet Fluorescent Lamp Weather Meter) for 300 hours with ultraviolet light irradiation time of 8 hours (atmospheric temperature of 60 ° C.) and wet of 4 hours as one cycle. With respect to the obtained test piece, the above-mentioned adhesion, scratch resistance, and appearance were measured and observed.
Appearance: Crack occurrence after weather resistance test was visually observed
○: No crack
×: cracks occurred
The results are shown in Table-2.
[0038]
[Table 1]
Figure 2004346228
Each symbol in the table has the following meaning.
Figure 2004346228
[0039]
[Table 2]
Figure 2004346228
[0040]
【The invention's effect】
The active energy ray-curable composition of the present invention can form a coating having excellent appearance, abrasion resistance, abrasion resistance, substrate adhesion and weather resistance, and can be applied to a plastic substrate having low heat resistance. It is also useful as a coating agent that can be applied. Molded articles having a film obtained by curing the composition are excellent in appearance, abrasion resistance, abrasion resistance, and weather resistance, and are suitable for headlamp covers, windshields, vehicle window glasses, vehicle roof materials, and building materials. It is useful for window glass for buildings, exterior wall materials for buildings, soundproof walls for roads, face plates for displays, members for mobile phones, and the like.

Claims (9)

(A)アルコキシシリル基及び(メタ)アクリロイル基を有する樹脂、(B)一次粒子径が1〜200nmのコロイダルシリカ、(C)紫外線吸収剤及び/又は(D)光安定剤を含有することを特徴とする活性エネルギー線硬化性組成物。(A) a resin having an alkoxysilyl group and a (meth) acryloyl group, (B) colloidal silica having a primary particle diameter of 1 to 200 nm, (C) an ultraviolet absorber and / or (D) a light stabilizer. A characteristic active energy ray-curable composition. (A)アルコキシシリル基及び(メタ)アクリロイル基を有する樹脂、(B)一次粒子径が1〜200nmのコロイダルシリカ、(C)紫外線吸収剤及び/又は(D)光安定剤、(E)分子中に2個以上の(メタ)アクリロイル基を有する(メタ)アクリレートを含有することを特徴とする活性エネルギー線硬化性組成物。(A) a resin having an alkoxysilyl group and a (meth) acryloyl group, (B) colloidal silica having a primary particle diameter of 1 to 200 nm, (C) an ultraviolet absorber and / or (D) a light stabilizer, and (E) a molecule. An active energy ray-curable composition comprising a (meth) acrylate having two or more (meth) acryloyl groups therein. (A)、(B)、(C)及び(D)それぞれの割合が、
Figure 2004346228
である請求項1に記載の活性エネルギー線硬化性組成物。
(A), (B), (C) and (D) each proportion,
Figure 2004346228
The active energy ray-curable composition according to claim 1, which is:
(A)、(B)、(C)、(D)及び(E)それぞれの割合が、
Figure 2004346228
である請求項2に記載の活性エネルギー線硬化性組成物。
(A), (B), (C), (D) and (E) each proportion
Figure 2004346228
The active energy ray-curable composition according to claim 2, which is:
(A)の樹脂の数平均分子量が1000以上である請求項1〜4のいずれか1項に記載の活性エネルギー線硬化性組成物。The active energy ray-curable composition according to any one of claims 1 to 4, wherein the number average molecular weight of the resin (A) is 1,000 or more. (E)分子中に2個以上の(メタ)アクリロイル基を有する(メタ)アクリレートが、分子内に2個以上の(メタ)アクリロイル基を有する多官能(メタ)アクリレートとシリカゾル及び/又はシリケートとの有機無機複合体である請求項2、4及び5のいずれか1項に記載の活性エネルギー線硬化性組成物。(E) a (meth) acrylate having two or more (meth) acryloyl groups in the molecule is a polyfunctional (meth) acrylate having two or more (meth) acryloyl groups in the molecule, a silica sol and / or a silicate; The active energy ray-curable composition according to any one of claims 2, 4 and 5, which is an organic-inorganic composite of the above. (E)分子中に2個以上の(メタ)アクリロイル基を有する(メタ)アクリレートが、分子内に2個以上の(メタ)アクリロイル基と1個以上の水酸基を有する化合物とイソシアネート基とアルコキシシリル基を有する化合物とを反応させて得られる多官能(メタ)アクリレートとシリカゾル及び/又はシリケートとを加水分解縮合させてなる有機無機複合体である請求項2、4及び5のいずれか1項に記載の活性エネルギー線硬化性組成物。(E) A (meth) acrylate having two or more (meth) acryloyl groups in a molecule is a compound having two or more (meth) acryloyl groups and one or more hydroxyl groups in a molecule, an isocyanate group, and an alkoxysilyl. The organic-inorganic composite obtained by hydrolytic condensation of a polyfunctional (meth) acrylate obtained by reacting a compound having a group with a silica sol and / or a silicate, according to any one of claims 2, 4 and 5, The active energy ray-curable composition according to the above. さらに(F)溶剤、及び/又は(G)光重合開始剤を含有する請求項1から7のいずれか1項に記載の活性エネルギー線硬化性組成物。The active energy ray-curable composition according to any one of claims 1 to 7, further comprising (F) a solvent and / or (G) a photopolymerization initiator. プラスチックフィルムの少なくとも一方の表面に、請求項1〜8のいずれか1項に記載の活性エネルギー線硬化性組成物を硬化させてなる膜を有するハードコートフィルム。A hard coat film having a film obtained by curing the active energy ray-curable composition according to claim 1 on at least one surface of a plastic film.
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Cited By (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005171216A (en) * 2003-05-23 2005-06-30 Mitsubishi Chemicals Corp Active energy ray-curing composition and hard coating film
JP2005179387A (en) * 2003-12-16 2005-07-07 Auto Kagaku Kogyo Kk Curable composition and sealing material composition
JP2008231220A (en) * 2007-03-20 2008-10-02 Aica Kogyo Co Ltd Hard coating agent and hard coat film
JP2009292899A (en) * 2008-06-03 2009-12-17 Jsr Corp Coating composition for spray coating
JP2010030275A (en) * 2008-07-01 2010-02-12 Mitsubishi Chemicals Corp Laminate
JP2010077292A (en) * 2008-09-26 2010-04-08 Dic Corp Active energy ray-curable resin composition for coating and film base
WO2010067876A1 (en) 2008-12-12 2010-06-17 東亞合成株式会社 Curable composition comprising inorganic oxide microparticles that are surface-modified with maleimide groups
JP2011201930A (en) * 2010-03-24 2011-10-13 Toyo Ink Sc Holdings Co Ltd Composition for hardcoat and base material coated therewith
JP2012030533A (en) * 2010-07-30 2012-02-16 Dainippon Printing Co Ltd Double-sided coating film
CN102558970A (en) * 2011-12-16 2012-07-11 江南大学 Method for preparing low-viscosity ultraviolet (UV) coating color paste by sol dilution
JP2012140643A (en) * 2006-12-20 2012-07-26 Nippon Sheet Glass Co Ltd Article provided with organic-inorganic composite film
JP2013204026A (en) * 2012-03-29 2013-10-07 Nippon Synthetic Chem Ind Co Ltd:The Active energy ray-curable resin composition, method for producing the same and molded article with cured film thereof
CN104629500A (en) * 2015-01-28 2015-05-20 江苏可奥熙光学材料科技有限公司 Method for preparing hardening liquid for lens
JP2016074878A (en) * 2014-10-02 2016-05-12 リケンテクノス株式会社 Self-adhesive film
JP2016117258A (en) * 2014-12-23 2016-06-30 リケンテクノス株式会社 Gas barrier film
JPWO2015093508A1 (en) * 2013-12-17 2017-03-23 日産化学工業株式会社 Film forming composition
US10407590B2 (en) 2014-05-30 2019-09-10 Riken Technos Corporation Actinic-ray-curable resin composition, layered film including hardcoat formed therefrom, and layered transparent resin product

Citations (33)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62256874A (en) * 1986-05-01 1987-11-09 Toshiba Silicone Co Ltd Production of ultraviolet curable composition
JPH0431423A (en) * 1990-05-25 1992-02-03 Sunstar Eng Inc Photopolymerizable and moisture-crosslinkable urethane compound
JPH0598189A (en) * 1991-03-27 1993-04-20 General Electric Co <Ge> Ultraviolet-curable abrasion-resistant coating composition
JPH05287215A (en) * 1992-04-06 1993-11-02 Mitsubishi Petrochem Co Ltd Abrasion-resistant ultraviolet-curable coating composition
JPH0790224A (en) * 1990-01-24 1995-04-04 Dow Corning Corp Coating composition containing alkoxy-functional silane, requiring no primer, and used for polycarbonate
JPH08209028A (en) * 1995-04-27 1996-08-13 Mitsubishi Rayon Co Ltd Composition for covering and surface-coated molded material using the same
JPH09157315A (en) * 1995-12-06 1997-06-17 Daicel U C B Kk Ultraviolet-curable resin raw material composition, resin molding surface-modified therewith, and production of the molding
JPH09227793A (en) * 1996-02-21 1997-09-02 Konica Corp Photosensitive composition
JPH10273595A (en) * 1997-03-28 1998-10-13 Jsr Corp Liquid curable resin composition
JPH11171937A (en) * 1997-12-12 1999-06-29 Jsr Corp Liquid curable resin composition
JP2000178535A (en) * 1998-12-14 2000-06-27 Three Bond Co Ltd Sealing agent composition
JP2000230107A (en) * 1999-02-15 2000-08-22 Jsr Corp Resin composition and its cured product
JP2000248198A (en) * 1999-03-03 2000-09-12 Jsr Corp Crosslinking particle, composition containing it and its cured material
JP2000256535A (en) * 1999-03-08 2000-09-19 Jsr Corp Resin composition and cured product thereof
JP2000273272A (en) * 1999-03-25 2000-10-03 Jsr Corp Resin composition, its cured product and conjugated product
JP2000281863A (en) * 1999-03-30 2000-10-10 Jsr Corp Resin composition and its cured material
JP2000290535A (en) * 1999-04-05 2000-10-17 Mitsubishi Chemicals Corp Active energy radiation-curing coating composition
JP2001002884A (en) * 1999-06-16 2001-01-09 Chisso Corp Resin composition and manufacture of coated film
JP2001049077A (en) * 1999-08-12 2001-02-20 Jsr Corp Resin composition and its cured product
JP2001089535A (en) * 1999-09-24 2001-04-03 Jsr Corp Resin composition and its cured product
JP2001187812A (en) * 1999-12-28 2001-07-10 Jsr Corp Reactive particle, and curable composition and cured matter containing the same
JP2001302943A (en) * 2000-04-20 2001-10-31 Jsr Corp Reactive particle, curable composition containing the same, and cured item obtained therefrom
JP2001348513A (en) * 2000-06-08 2001-12-18 Jsr Corp Curable resin composition, cured film and composite material
JP2002120311A (en) * 2000-10-13 2002-04-23 Jsr Corp Structure
JP2002120346A (en) * 2000-10-13 2002-04-23 Jsr Corp Method for manufacturing structure
JP2002154183A (en) * 2000-11-21 2002-05-28 Jsr Corp Structure
JP2002160330A (en) * 2000-11-21 2002-06-04 Jsr Corp Cured product and structure containing the same
JP2002187921A (en) * 2000-10-11 2002-07-05 Jsr Corp Curable composition and its cured product
JP2002338626A (en) * 2001-05-14 2002-11-27 Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd Polymer and negative-type photosensitive resin composition
JP2002355936A (en) * 2001-03-30 2002-12-10 Jsr Corp Laminate
JP2003062921A (en) * 2001-06-11 2003-03-05 Bridgestone Corp Transparent composite film
JP2003105034A (en) * 2001-09-27 2003-04-09 Jsr Corp Liquid curable resin composition
JP2004091765A (en) * 2002-07-12 2004-03-25 Mitsubishi Chemicals Corp Active energy ray-curable composition and hard coat film

Patent Citations (33)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62256874A (en) * 1986-05-01 1987-11-09 Toshiba Silicone Co Ltd Production of ultraviolet curable composition
JPH0790224A (en) * 1990-01-24 1995-04-04 Dow Corning Corp Coating composition containing alkoxy-functional silane, requiring no primer, and used for polycarbonate
JPH0431423A (en) * 1990-05-25 1992-02-03 Sunstar Eng Inc Photopolymerizable and moisture-crosslinkable urethane compound
JPH0598189A (en) * 1991-03-27 1993-04-20 General Electric Co <Ge> Ultraviolet-curable abrasion-resistant coating composition
JPH05287215A (en) * 1992-04-06 1993-11-02 Mitsubishi Petrochem Co Ltd Abrasion-resistant ultraviolet-curable coating composition
JPH08209028A (en) * 1995-04-27 1996-08-13 Mitsubishi Rayon Co Ltd Composition for covering and surface-coated molded material using the same
JPH09157315A (en) * 1995-12-06 1997-06-17 Daicel U C B Kk Ultraviolet-curable resin raw material composition, resin molding surface-modified therewith, and production of the molding
JPH09227793A (en) * 1996-02-21 1997-09-02 Konica Corp Photosensitive composition
JPH10273595A (en) * 1997-03-28 1998-10-13 Jsr Corp Liquid curable resin composition
JPH11171937A (en) * 1997-12-12 1999-06-29 Jsr Corp Liquid curable resin composition
JP2000178535A (en) * 1998-12-14 2000-06-27 Three Bond Co Ltd Sealing agent composition
JP2000230107A (en) * 1999-02-15 2000-08-22 Jsr Corp Resin composition and its cured product
JP2000248198A (en) * 1999-03-03 2000-09-12 Jsr Corp Crosslinking particle, composition containing it and its cured material
JP2000256535A (en) * 1999-03-08 2000-09-19 Jsr Corp Resin composition and cured product thereof
JP2000273272A (en) * 1999-03-25 2000-10-03 Jsr Corp Resin composition, its cured product and conjugated product
JP2000281863A (en) * 1999-03-30 2000-10-10 Jsr Corp Resin composition and its cured material
JP2000290535A (en) * 1999-04-05 2000-10-17 Mitsubishi Chemicals Corp Active energy radiation-curing coating composition
JP2001002884A (en) * 1999-06-16 2001-01-09 Chisso Corp Resin composition and manufacture of coated film
JP2001049077A (en) * 1999-08-12 2001-02-20 Jsr Corp Resin composition and its cured product
JP2001089535A (en) * 1999-09-24 2001-04-03 Jsr Corp Resin composition and its cured product
JP2001187812A (en) * 1999-12-28 2001-07-10 Jsr Corp Reactive particle, and curable composition and cured matter containing the same
JP2001302943A (en) * 2000-04-20 2001-10-31 Jsr Corp Reactive particle, curable composition containing the same, and cured item obtained therefrom
JP2001348513A (en) * 2000-06-08 2001-12-18 Jsr Corp Curable resin composition, cured film and composite material
JP2002187921A (en) * 2000-10-11 2002-07-05 Jsr Corp Curable composition and its cured product
JP2002120311A (en) * 2000-10-13 2002-04-23 Jsr Corp Structure
JP2002120346A (en) * 2000-10-13 2002-04-23 Jsr Corp Method for manufacturing structure
JP2002154183A (en) * 2000-11-21 2002-05-28 Jsr Corp Structure
JP2002160330A (en) * 2000-11-21 2002-06-04 Jsr Corp Cured product and structure containing the same
JP2002355936A (en) * 2001-03-30 2002-12-10 Jsr Corp Laminate
JP2002338626A (en) * 2001-05-14 2002-11-27 Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd Polymer and negative-type photosensitive resin composition
JP2003062921A (en) * 2001-06-11 2003-03-05 Bridgestone Corp Transparent composite film
JP2003105034A (en) * 2001-09-27 2003-04-09 Jsr Corp Liquid curable resin composition
JP2004091765A (en) * 2002-07-12 2004-03-25 Mitsubishi Chemicals Corp Active energy ray-curable composition and hard coat film

Cited By (21)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005171216A (en) * 2003-05-23 2005-06-30 Mitsubishi Chemicals Corp Active energy ray-curing composition and hard coating film
JP2005179387A (en) * 2003-12-16 2005-07-07 Auto Kagaku Kogyo Kk Curable composition and sealing material composition
JP4532102B2 (en) * 2003-12-16 2010-08-25 オート化学工業株式会社 One-part moisture curable sealant composition
JP2012140643A (en) * 2006-12-20 2012-07-26 Nippon Sheet Glass Co Ltd Article provided with organic-inorganic composite film
JP2008231220A (en) * 2007-03-20 2008-10-02 Aica Kogyo Co Ltd Hard coating agent and hard coat film
JP2009292899A (en) * 2008-06-03 2009-12-17 Jsr Corp Coating composition for spray coating
JP2010030275A (en) * 2008-07-01 2010-02-12 Mitsubishi Chemicals Corp Laminate
JP2010077292A (en) * 2008-09-26 2010-04-08 Dic Corp Active energy ray-curable resin composition for coating and film base
US8530546B2 (en) 2008-12-12 2013-09-10 Toagosei Co., Ltd. Curable composition comprising inorganic oxide microparticles that are surface-modified with maleimide groups
WO2010067876A1 (en) 2008-12-12 2010-06-17 東亞合成株式会社 Curable composition comprising inorganic oxide microparticles that are surface-modified with maleimide groups
JP2011201930A (en) * 2010-03-24 2011-10-13 Toyo Ink Sc Holdings Co Ltd Composition for hardcoat and base material coated therewith
JP2012030533A (en) * 2010-07-30 2012-02-16 Dainippon Printing Co Ltd Double-sided coating film
CN102558970A (en) * 2011-12-16 2012-07-11 江南大学 Method for preparing low-viscosity ultraviolet (UV) coating color paste by sol dilution
JP2013204026A (en) * 2012-03-29 2013-10-07 Nippon Synthetic Chem Ind Co Ltd:The Active energy ray-curable resin composition, method for producing the same and molded article with cured film thereof
JPWO2015093508A1 (en) * 2013-12-17 2017-03-23 日産化学工業株式会社 Film forming composition
US10407590B2 (en) 2014-05-30 2019-09-10 Riken Technos Corporation Actinic-ray-curable resin composition, layered film including hardcoat formed therefrom, and layered transparent resin product
US10696861B2 (en) 2014-05-30 2020-06-30 Riken Technos Corporation Actinic-ray-curable resin composition, layered film including hardcoat formed therefrom, and layered transparent resin product
JP2016074878A (en) * 2014-10-02 2016-05-12 リケンテクノス株式会社 Self-adhesive film
US10689530B2 (en) 2014-10-02 2020-06-23 Riken Technos Corporation Pressure-sensitive adhesive film
JP2016117258A (en) * 2014-12-23 2016-06-30 リケンテクノス株式会社 Gas barrier film
CN104629500A (en) * 2015-01-28 2015-05-20 江苏可奥熙光学材料科技有限公司 Method for preparing hardening liquid for lens

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