JP4539840B2 - Photocurable resin composition and method for producing laminate using the same - Google Patents

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本発明は、光硬化性樹脂組成物及びそれを用いた積層体に関するものであり、より詳しくはポットライフが長く、温和な条件でかつ短時間で硬化可能な低屈折率膜を得ることのできる光硬化性樹脂組成物、それを用いた積層体およびその製造方法に関する。   The present invention relates to a photocurable resin composition and a laminate using the same, and more specifically, a pot life is long, and a low refractive index film that can be cured in a short time under mild conditions can be obtained. The present invention relates to a photocurable resin composition, a laminate using the same, and a method for producing the same.

画像表示板における要求性能の1つとして反射防止機能が挙げられている。一般的な反射防止機能の原理は、高屈折率層の表面に低屈折率層を設け、高屈折率層で反射する光と低屈折率層で反射する光とをそれらの光路差を利用して互いに干渉させることにより反射光を低減させるものである。   An antireflection function is cited as one of the required performances of the image display board. The general principle of the antireflection function is to provide a low refractive index layer on the surface of the high refractive index layer and use the difference in optical path between the light reflected by the high refractive index layer and the light reflected by the low refractive index layer. Thus, the reflected light is reduced by causing interference with each other.

画像表示板における要求性能の1つとして反射防止機能が挙げられている。一般的な反射防止機能の原理は、高屈折率層の表面に低屈折率層を設け、高屈折率層で反射する光と低屈折率層で反射する光とをそれらの光路差を利用して互いに干渉させることにより反射光を低減させるものである。   An antireflection function is cited as one of the required performances of the image display board. The general principle of the antireflection function is to provide a low refractive index layer on the surface of the high refractive index layer and use the difference in optical path between the light reflected by the high refractive index layer and the light reflected by the low refractive index layer. Thus, the reflected light is reduced by causing interference with each other.

従来、このような反射防止膜は、蒸着法やスパッタリング法等の乾式コート法を用いて作製している。乾式コート法によれば、均一な膜を作製可能であるが、生産速度が遅いため製造コストが高くなるという問題があった。このため、近年、反射防止膜をより低コストで作製する方法として、剥離基材上に、乾式コート法に比べて温和な条件でかつ短時間で成膜が可能な湿式コート法で積層した機能層(転写層)を被転写体表面に熱転写あるいは感圧転写する方法(即ち、転写法)に注目し、その転写層を反射防止膜とすることが試みられている。   Conventionally, such an antireflection film is produced by using a dry coating method such as a vapor deposition method or a sputtering method. According to the dry coating method, it is possible to produce a uniform film, but there is a problem that the production cost is high because the production speed is low. Therefore, in recent years, as a method for producing an antireflection film at a lower cost, a function in which a wet coating method capable of forming a film in a short time on a release substrate under a milder condition than a dry coating method is used. Attention has been focused on a method of transferring a layer (transfer layer) to the surface of a transfer medium or pressure-sensitive transfer (that is, transfer method), and attempts have been made to use the transfer layer as an antireflection film.

ところで、反射防止膜に利用する低屈折率材料としては、屈折率を低くするためにフッ素系化合物やシラン系化合物を配合した組成物が一般に用いられている。   By the way, as a low refractive index material used for an antireflection film, a composition containing a fluorine-based compound or a silane-based compound is generally used in order to lower the refractive index.

フッ素系化合物を配合した組成物としては、反応基を有する低分子のフッ素系化合物を含むもの(特許文献1、特許文献2)や、不活性なフッ素含有重合体と反応基を有する化合物とを含有するものが提案されている(特許文献3)。なお、低屈折率材料として意図されたものではないが、一般的な低屈折率材料と同じレベルの表面張力を有するアクリルエラストマーとして、フルオロアルキル基と反応性基とを有する(メタ)アクリル共重合体も提案されている(特許文献4)。また、低屈折率材料でありながら、保存安定性を向上させるために、主鎖にフッ素原子を有する反応性含フッ素ポリマーを用いたものが提案されている(特許文献10)   As a composition containing a fluorine compound, a composition containing a low molecular fluorine compound having a reactive group (Patent Document 1, Patent Document 2), an inert fluorine-containing polymer and a compound having a reactive group are included. What is contained has been proposed (Patent Document 3). Although not intended as a low-refractive index material, an acrylic elastomer having the same level of surface tension as a general low-refractive index material is a (meth) acrylic copolymer having a fluoroalkyl group and a reactive group. Coalescence has also been proposed (Patent Document 4). Further, in order to improve storage stability while being a low refractive index material, a material using a reactive fluorine-containing polymer having a fluorine atom in the main chain has been proposed (Patent Document 10).

しかし、特許文献1や特許文献2の樹脂組成物の場合、含有されているフッ素化合物の分子間力が弱いため、樹脂組成物の塗工時に有毒なフッ素化合物が揮発する可能性があり、また、特許文献3の樹脂組成物の場合には、その塗工後に不活性なフッ素含有重合体が揮発する可能性が少なくなっているものの、より低屈折率の膜を得ようとすると、反応基を有する化合物の添加量が相対的に少なくなり、膜自体の強度が弱くなるという問題がある。また、特許文献4のアクリルエラストマーを低屈折率膜として用いた場合には、塗工時に加熱しなければならないため、基材がプラスチックの場合熱変形する危険性がある。また温和な条件で成膜すると時間がかかるため、生産性が低下する可能性がある。   However, in the case of the resin composition of Patent Document 1 or Patent Document 2, since the intermolecular force of the contained fluorine compound is weak, a toxic fluorine compound may be volatilized when the resin composition is applied. In the case of the resin composition of Patent Document 3, although the possibility of volatilization of the inert fluorine-containing polymer after coating is reduced, a reactive group is obtained when attempting to obtain a film having a lower refractive index. There is a problem in that the amount of the compound having a relatively small amount is relatively reduced and the strength of the film itself is weakened. Moreover, when the acrylic elastomer of patent document 4 is used as a low refractive index film, it must be heated at the time of coating. Therefore, there is a risk of thermal deformation when the base material is plastic. Moreover, since it takes time to form a film under mild conditions, productivity may be reduced.

一方、シラン系化合物を配合した樹脂組成物としては、シリル基を有する低分子シラン化合物に光酸発生剤を加えたもの(特許文献5)、フッ素含有シリケート化合物とアクリル酸エステルとを組み合わせたもの(特許文献6)、オルガノシランの加水分解物と含フッ素重合体を組み合わせたもの(特許文献7〜9)が提案されている。   On the other hand, as a resin composition containing a silane compound, a low molecular silane compound having a silyl group added with a photoacid generator (Patent Document 5), a combination of a fluorine-containing silicate compound and an acrylate ester (Patent Document 6) and a combination of hydrolyzate of organosilane and fluoropolymer (Patent Documents 7 to 9) have been proposed.

しかし、特許文献5の組成物の場合、アルコキシシラン濃度が高く、硬化に時間がかかり生産性が低下するという問題があった。また、低屈折率薄膜を形成するために特許文献5の組成物にフッ素含有シラン化合物を添加した場合には、フッ素化合物の分子間相互作用が低いため、組成物を薄膜塗工した場合には揮発する危険性が増大するという問題があった。特許文献6〜9の組成物の場合、シラン化合物の加水分解時の水や酸などの触媒が組成物中に残存するため、保存時に沈殿物が発生する危険性がある。更に、特許文献7〜9の組成物では、その保存安定性を向上させるために添加したオルトギ酸エチルなどの脱水剤を蒸発除去させる必要があるため、高温での処理が必要となり、また、含フッ素重合体を作製する工程とその後のオルガノシランの加水分解物を作製する工程とが必須であり、製造コストが増大するという問題があった。加えて、シラン化合物あるいはその加水分解物は、含フッ素共重合体に比べ屈折率が高いため、それらを含有する組成物の低屈折率化は困難であった。   However, the composition of Patent Document 5 has a problem that the alkoxysilane concentration is high, and it takes time to cure and the productivity is lowered. In addition, when a fluorine-containing silane compound is added to the composition of Patent Document 5 to form a low refractive index thin film, the intermolecular interaction of the fluorine compound is low. There was a problem that the risk of volatilization increased. In the case of the compositions of Patent Documents 6 to 9, since a catalyst such as water or acid during hydrolysis of the silane compound remains in the composition, there is a risk that precipitates are generated during storage. Furthermore, in the compositions of Patent Documents 7 to 9, since it is necessary to evaporate and remove a dehydrating agent such as ethyl orthoformate added in order to improve the storage stability, a treatment at a high temperature is required. The process for producing the fluoropolymer and the subsequent process for producing the hydrolyzate of organosilane are essential, and there is a problem that the production cost increases. In addition, since the silane compound or its hydrolyzate has a higher refractive index than that of the fluorinated copolymer, it has been difficult to lower the refractive index of the composition containing them.

また、転写法では転写層を被転写材上に一括して転写するために、以上説明した特許文献1〜10の組成物から転写材の転写性反射防止層を作製する場合には、転写材基材上に低屈折率層を設け、その低屈折率層上に更に高屈折率層を設ける必要がある。しかし、特許文献1〜10にあるようなフッ素原子を含む化合物を含有する組成物は、一般に強い撥水と溌油性とを示し(特許文献8)、従って、このような組成物からなる硬化膜上に更にに別の層(例えば、高屈折率層)を積層することが困難な場合が多い。   In addition, in the transfer method, in order to transfer the transfer layer onto the transfer material all at once, when the transferable antireflection layer of the transfer material is produced from the composition of Patent Documents 1 to 10 described above, the transfer material It is necessary to provide a low refractive index layer on the substrate and further provide a high refractive index layer on the low refractive index layer. However, a composition containing a compound containing a fluorine atom as described in Patent Documents 1 to 10 generally exhibits strong water repellency and oil repellency (Patent Document 8), and accordingly, a cured film comprising such a composition. In many cases, it is difficult to further stack another layer (for example, a high refractive index layer) thereon.

このように、簡便な手法で調製可能でありポットライフが長く、温和な条件でかつ短時間で硬化可能であり、更に低屈折率層上に積層可能な低屈折率膜を得ることのできる樹脂組成物が望まれていた。   Thus, a resin that can be prepared by a simple method, has a long pot life, can be cured in a short time under mild conditions, and can obtain a low refractive index film that can be laminated on a low refractive index layer. A composition was desired.

特開平4−272988号公報Japanese Patent Laid-Open No. 4-272788 特開2000−17099号公報JP 2000-17099 A 特開平6−136062号公報JP-A-6-136062 特開平2−182712号公報Japanese Patent Laid-Open No. 2-182712 特開平8−302284号公報JP-A-8-302284 特開2001−207120号公報JP 2001-207120 A 特開2000−109694号公報JP 2000-109694 A 特開2000−167993号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2000-167993 特開2002−22905号公報JP 2002-22905 A 特開2003−26732号公報JP 2003-26732 A

本発明の課題は、簡便な手法で調製可能でありポットライフが長く、温和な条件でかつ短時間で硬化可能であり、更に低屈折率層上に積層可能な低屈折率膜を得ることのできる樹脂組成物を提供することである。   An object of the present invention is to obtain a low refractive index film that can be prepared by a simple method, has a long pot life, can be cured in a short time under mild conditions, and can be laminated on a low refractive index layer. It is providing the resin composition which can be performed.

本発明者らは、加水分解性シリル基を有する含フッ素アクリル系重合体と光酸発生剤とからなる光硬化性樹脂組成物が、簡便な手法で調製可能でありポットライフが長く、温和な条件でかつ短時間で硬化可能であり、更にそれから形成された低屈折率層上に他の高屈折率層が積層可能であることを見出し、本発明を完成するに至った。   The inventors of the present invention can prepare a photocurable resin composition comprising a fluorine-containing acrylic polymer having a hydrolyzable silyl group and a photoacid generator by a simple method, has a long pot life, and is mild. The present invention was completed by finding that it can be cured under conditions and in a short time and that another high refractive index layer can be laminated on the low refractive index layer formed therefrom.

即ち、本発明は、以下の成分(A)および(B):
(A)下記化学式(I)及び(II)で示される構造単位を含む(メタ)アクリル系共重合体;
That is, the present invention includes the following components (A) and (B):
(A) a (meth) acrylic copolymer containing structural units represented by the following chemical formulas (I) and (II);

Figure 0004539840
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(式(I)中、Xは水素原子またはメチル基を表す。Rは炭素数1〜15のフルオロアルキル基を表す。但し、Rの一部は−CFHユニットを有する炭素数1〜15のフルオロアルキル基を表す。) (In the formula (I), X is .R 1 represents a hydrogen atom or a methyl group represents a fluoroalkyl group having 1 to 15 carbon atoms. However, carbon atoms part of R 1 has the -CF 2 H unit 1 Represents -15 fluoroalkyl groups.)

Figure 0004539840
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(式(II)中、Xは水素原子またはメチル基を表す。Rは炭素数1〜20であって、少なくとも1つの加水分解可能なアルコキシシリル基を有する置換基を表す。); および
(B)光酸発生剤
を含み、成分(A)における化学式(I)で示される構造単位の割合を(X mol%)とし、化学式(II)で示される構造単位の割合を(Y mol%)としたときに下記式(1)および(2)の関係を満足する光硬化性樹脂組成物を提供する。
(In Formula (II), X represents a hydrogen atom or a methyl group. R 2 represents a substituent having 1 to 20 carbon atoms and having at least one hydrolyzable alkoxysilyl group); B) A photoacid generator is included, the proportion of the structural unit represented by the chemical formula (I) in the component (A) is (X mol%), and the proportion of the structural unit represented by the chemical formula (II) is (Y mol%). A photocurable resin composition satisfying the relationship of the following formulas (1) and (2) is provided.

Figure 0004539840
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また、本発明は、基材上に硬化樹脂層が積層された積層体の製造方法であって、以下の工程(a)および(b):
(a)基材上に上述の光硬化性樹脂組成物の膜を形成する工程; および
(b)得られた光硬化性樹脂組成物の膜に活性エネルギー線を照射することにより硬化させ、硬化樹脂層を形成する工程
を含む製造方法、並びにその具体的態様として、離型ベースフィルムと、その上に設けられた硬化樹脂層を含む転写層とを有する転写材の製造方法において、以下の工程(a′)および(b′):
(a′)離型ベースフィルム面上に前述の光硬化性樹脂組成物の膜を形成する工程; および
(b′)得られた光硬化性樹脂組成物の膜に活性エネルギー線を照射することにより硬化させ、硬化樹脂層を形成する工程
を含む転写材の製造方法を提供する。
Moreover, this invention is a manufacturing method of the laminated body by which the cured resin layer was laminated | stacked on the base material, Comprising: The following processes (a) and (b):
(A) a step of forming a film of the above-mentioned photocurable resin composition on a substrate; and (b) curing and curing the resulting photocurable resin composition film by irradiating active energy rays. In a manufacturing method including a step of forming a resin layer, and as a specific embodiment thereof, in a manufacturing method of a transfer material having a release base film and a transfer layer including a cured resin layer provided thereon, the following steps (A ′) and (b ′):
(A ′) forming a film of the aforementioned photocurable resin composition on the surface of the release base film; and (b ′) irradiating the obtained photocurable resin composition film with active energy rays. To provide a method for producing a transfer material including a step of forming a cured resin layer.

また、本発明は、基材上に硬化樹脂層が積層された積層体であって、そのうちの少なくとも1層が前述の光硬化性樹脂組成物から形成されてなる積層体、およびその具体的態様として、離型ベースフィルムと、その上に設けられた転写層とを有する転写材において、転写層が前述の光硬化性樹脂組成物からなる硬化樹脂層を含むことを特徴とする転写材を提供する。   Further, the present invention is a laminate in which a cured resin layer is laminated on a substrate, and at least one of them is formed from the above-mentioned photocurable resin composition, and a specific embodiment thereof A transfer material having a release base film and a transfer layer provided thereon, wherein the transfer layer includes a cured resin layer made of the above-described photocurable resin composition. To do.

また、本発明は、被転写体の表面に、前述の転写材の転写層が転写されてなることを特徴とする転写物を提供する。   The present invention also provides a transfer product, wherein the transfer layer of the transfer material described above is transferred onto the surface of the transfer object.

本発明の光硬化性樹脂組成物は、−CFHユニットを有する含フッ素(メタ)アクリル系単量体単位と、加水分解性シリル基を有する(メタ)アクリル系単量体単位とを含む(メタ)アクリル系共重合体および光酸発生剤を含有しているので、簡便な手法で調製可能でありポットライフが長く、温和な条件でかつ短時間で硬化可能であり、更にそれから形成された低屈折率層上に他の高屈折率層が積層可能である。 The photocurable resin composition of the present invention includes a fluorine-containing (meth) acrylic monomer unit having a —CF 2 H unit and a (meth) acrylic monomer unit having a hydrolyzable silyl group. Since it contains a (meth) acrylic copolymer and a photoacid generator, it can be prepared by a simple method, has a long pot life, can be cured under mild conditions and in a short time, and is formed therefrom. Another high refractive index layer can be laminated on the low refractive index layer.

以下、本発明を詳細に説明する。なお、本明細書においてアクリロイル基またはメタクリロイル基を(メタ)アクリレート基、アクリル酸またはメタクリル酸を(メタ)アクリル酸と略記することがある。   Hereinafter, the present invention will be described in detail. In this specification, an acryloyl group or a methacryloyl group may be abbreviated as (meth) acrylate group, and acrylic acid or methacrylic acid may be abbreviated as (meth) acrylic acid.

本発明の光硬化性樹脂組成物は、以下の成分(A)および(B):
(A)下記化学式(I)及び(II)で示される構造単位を含む(メタ)アクリル系共重合体;
The photocurable resin composition of the present invention includes the following components (A) and (B):
(A) a (meth) acrylic copolymer containing structural units represented by the following chemical formulas (I) and (II);

Figure 0004539840
Figure 0004539840

(式(I)中、Xは水素原子またはメチル基を表す。Rは炭素数1〜15のフルオロアルキル基を表す。但し、Rの一部は−CFHユニットを有する炭素数1〜15のフルオロアルキル基を表す。)










(In the formula (I), X is .R 1 represents a hydrogen atom or a methyl group represents a fluoroalkyl group having 1 to 15 carbon atoms. However, carbon atoms part of R 1 has the -CF 2 H unit 1 Represents -15 fluoroalkyl groups.)










Figure 0004539840
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(式(II)中、Xは水素原子またはメチル基を表す。Rは炭素数1〜20であって、少なくとも1つの加水分解可能なアルコキシシリル基を有する置換基を表す。); および
(B)光酸発生剤
を含み、成分(A)における化学式(I)で示される構造単位の割合を(X mol%)とし、化学式(II)で示される構造単位の割合を(Y mol%)としたときに下記式(1)および(2)の関係を満足する光硬化性樹脂組成物を提供する。
(In Formula (II), X represents a hydrogen atom or a methyl group. R 2 represents a substituent having 1 to 20 carbon atoms and having at least one hydrolyzable alkoxysilyl group); B) A photoacid generator is included, the proportion of the structural unit represented by the chemical formula (I) in the component (A) is (X mol%), and the proportion of the structural unit represented by the chemical formula (II) is (Y mol%). A photocurable resin composition satisfying the relationship of the following formulas (1) and (2) is provided.

Figure 0004539840
Figure 0004539840

上述の式において、「(X mol%) / {(X mol%) + (Y mol%)}」の数値が0.5未満であると、光硬化性樹脂組成物から得られる硬化樹脂膜の屈折率が上昇して良好な反射防止機能が得られず、0.9を超えると相対的に成分(B)の含有量が低下するため膜強度が低下する。また、「(Y mol%) / {(X mol%) + (Y mol%)}」の数値が0.5を超えると、相対的に成分(A)の含有量が低下し硬化樹脂膜の屈折率が上昇し良好な反射防止機能が得られず、0.1未満であると膜強度が低下する。   In the above formula, when the value of “(X mol%) / {(X mol%) + (Y mol%)}” is less than 0.5, the cured resin film obtained from the photocurable resin composition The refractive index increases and a good antireflection function cannot be obtained, and when it exceeds 0.9, the content of the component (B) is relatively decreased, so that the film strength is decreased. In addition, when the value of “(Y mol%) / {(X mol%) + (Y mol%)}” exceeds 0.5, the content of the component (A) is relatively lowered, and the cured resin film The refractive index increases and a good antireflection function cannot be obtained, and if it is less than 0.1, the film strength decreases.

また、硬化樹脂層の屈折率及び表面硬度の観点から、光硬化性樹脂組成物は、更に以下の式(1a)および(2a)の関係を満足することが好ましい。   Moreover, from the viewpoint of the refractive index and the surface hardness of the cured resin layer, the photocurable resin composition preferably further satisfies the following expressions (1a) and (2a).

Figure 0004539840
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本発明の光硬化性樹脂組成物を構成する成分(A)の化学式(I)及び(II)で示される構造単位からなる(メタ)アクリル系共重合体は、積層可能な低屈折率の硬化樹脂膜を得、且つ膜強度を上げるための成分であり、しかも、一般的な塗料で用いられる非ハロゲン系溶媒に溶解性を示す。   The (meth) acrylic copolymer comprising the structural units represented by the chemical formulas (I) and (II) of the component (A) constituting the photocurable resin composition of the present invention is a low refractive index curing that can be laminated. It is a component for obtaining a resin film and increasing the film strength, and it is soluble in non-halogen solvents used in general paints.

成分(A)の(メタ)アクリル系共重合体を構成する化学式(I)の構造単位は、特に硬化樹脂膜の屈折率を下げることに寄与している。ここで、化学式(I)におけるXは水素原子またはメチル基であるが、膜強度を高く保つためにはメチル基であることが好ましい。また、Rは炭素数1〜15、好ましくは2〜10、より好ましくは3〜6のフルオロアルキル基である。但し、硬化樹脂膜の表面の濡れ性を向上させ、積層可能な硬化膜を得るために、そのフルオロアルキル基の一部は、−CFHユニットを有する炭素数1〜15のフルオロアルキル基とする必要がある。この場合、Rの全「炭素数1〜15のフルオロアルキル基」中の「−CFHユニットを有する炭素数1〜15のフルオロアルキル基」の割合は、低すぎると濡れ性向上効果が十分でなく、高すぎると屈折率が下がりにくくなるので、好ましくは30〜100モル%、より好ましくは50〜100モル%である。 The structural unit of the chemical formula (I) constituting the (meth) acrylic copolymer of the component (A) contributes particularly to lowering the refractive index of the cured resin film. Here, X in the chemical formula (I) is a hydrogen atom or a methyl group, but is preferably a methyl group in order to keep the film strength high. R 1 is a fluoroalkyl group having 1 to 15 carbon atoms, preferably 2 to 10 carbon atoms, more preferably 3 to 6 carbon atoms. However, in order to improve the wettability of the surface of the cured resin film and obtain a cured film that can be laminated, a part of the fluoroalkyl group is a fluoroalkyl group having 1 to 15 carbon atoms having a —CF 2 H unit. There is a need to. In this case, if the ratio of the “fluoroalkyl group having 1 to 15 carbon atoms having a —CF 2 H unit” in the entire “fluoroalkyl group having 1 to 15 carbon atoms” of R 1 is too low, the effect of improving wettability is obtained. If it is not sufficient and is too high, the refractive index is difficult to decrease, so it is preferably 30 to 100 mol%, more preferably 50 to 100 mol%.

化学式(I)で示される構造単位を構成するために必要な−CFHユニットを含む単量体の好ましい具体例としては、2,2,2−トリフルオロエチル(メタ)アクリレート、1H,1H,3H−テトラフルオロプロピル(メタ)アクリレート、1H,1H,5H−オクタフルオロペンチル(メタ)アクリレート、1H,1H,7H−ドデカフルオロヘプチル(メタ)アクリレート、1H,1H,9H−ヘキサデカフルオロノニル(メタ)アクリレート等が挙げられる。中でも、得られる硬化樹脂膜の膜強度の点から1H,1H,5H−オクタフルオロペンチル(メタ)アクリレート(2,2,3,3,4,4,5,5,−オクタフルオロペンチル(メタ)アクリレート)が特に好ましい。 Preferable specific examples of the monomer containing a —CF 2 H unit necessary for constituting the structural unit represented by the chemical formula (I) include 2,2,2-trifluoroethyl (meth) acrylate, 1H, 1H. , 3H-tetrafluoropropyl (meth) acrylate, 1H, 1H, 5H-octafluoropentyl (meth) acrylate, 1H, 1H, 7H-dodecafluoroheptyl (meth) acrylate, 1H, 1H, 9H-hexadecafluorononyl ( And (meth) acrylate. Among them, 1H, 1H, 5H-octafluoropentyl (meth) acrylate (2,2,3,3,4,4,5,5,5-octafluoropentyl (meth) from the viewpoint of the film strength of the resulting cured resin film Acrylate) is particularly preferred.

化学式(I)で示される構造単位を構成するために必要に応じて用いることのできる、−CFHユニットを含まない単量体の具体例としては、2,2,2−トリフルオロエチル(メタ)アクリレート、1H,1H,5H−オクタフルオロペンチル(メタ)アクリレートなどのアルキル基の末端にトリフルオロメチル基を有するフルオロアルキル(メタ)アクリレート;フルオロシクロアルキル(メタ)アクリレート;トリフルオロメチルシクロアルキル(メタ)アクリレート等が挙げられる。 Specific examples of the monomer that does not contain a —CF 2 H unit that can be used as needed to constitute the structural unit represented by the chemical formula (I) include 2,2,2-trifluoroethyl ( Fluoroalkyl (meth) acrylate having a trifluoromethyl group at the terminal of an alkyl group such as (meth) acrylate, 1H, 1H, 5H-octafluoropentyl (meth) acrylate; fluorocycloalkyl (meth) acrylate; trifluoromethylcycloalkyl (Meth) acrylate etc. are mentioned.

一方、化学式(II)の構造単位は、硬化樹脂膜の架橋密度を向上させ膜強度を向上させることに寄与している。ここで、化学式(II)におけるXは水素原子またはメチル基であるが、膜強度を高く保つためにはメチル基であることが好ましい。また、Rは炭素数1〜20、好ましくは3〜15、より好ましくは3〜10であって、少なくとも1つ、好ましくは1〜2個の加水分解可能なアルコキシシリル基を有する置換基を表す。加水分解可能なアルコキシシリル基は、加水分解によってシラノール結合を生成することが可能な公知の置換基であれば特に制限はない。 On the other hand, the structural unit of the chemical formula (II) contributes to improving the cross-linking density of the cured resin film and improving the film strength. Here, X in the chemical formula (II) is a hydrogen atom or a methyl group, but is preferably a methyl group in order to keep the film strength high. R 2 represents a substituent having 1 to 20 carbon atoms, preferably 3 to 15 carbon atoms, more preferably 3 to 10 carbon atoms, and at least one, preferably 1 to 2 hydrolyzable alkoxysilyl groups. To express. The hydrolyzable alkoxysilyl group is not particularly limited as long as it is a known substituent capable of generating a silanol bond by hydrolysis.

化学式(II)で示される構造単位を構成するための単量体の具体例としては、γ−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、(メタ)アクリロキシプロピルトリエトキシシラン、(メタ)アクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン等の(メタ)アクリルシラン類が挙げられる。   Specific examples of the monomer for constituting the structural unit represented by the chemical formula (II) include γ-methacryloyloxypropyltrimethoxysilane, (meth) acryloxypropyltriethoxysilane, (meth) acryloxypropylmethyldimethoxy. Examples include (meth) acryl silanes such as silane.

化学式(I)及び(II)で示される構造単位を含む(メタ)アクリル系共重合体は、上記単量体を重合させることによって得ることができる。また、化学式(II)で示される構造単位は公知の方法を用いて重合体側鎖に加水分解性シリル基を導入することによって得ることもできる。例えば、1)重合体側鎖の不飽和二重結合に対し遷移金属触媒の存在下、トリアルコキシシランを付加させるヒドロシリル化反応、2)重合体側鎖のエポキシ基に対し、メルカプト基もしくはアミノ基を有するアルコキシシラン類を付加反応させる方法、3)重合体側鎖のヒドロキシ基に対しイソシアネート基を有するアルコキシシランを反応させウレタン結合によりシリル化する方法などを用いることができる。   The (meth) acrylic copolymer containing the structural units represented by the chemical formulas (I) and (II) can be obtained by polymerizing the above monomers. The structural unit represented by the chemical formula (II) can also be obtained by introducing a hydrolyzable silyl group into the polymer side chain using a known method. For example, 1) hydrosilylation reaction in which trialkoxysilane is added to an unsaturated double bond of a polymer side chain in the presence of a transition metal catalyst, and 2) a mercapto group or an amino group to the epoxy group of the polymer side chain. A method of addition reaction of alkoxysilanes, 3) a method of reacting an alkoxysilane having an isocyanate group with a hydroxy group of a polymer side chain, and silylating with a urethane bond can be used.

本発明の光重合性樹脂組成物は、成分(B)として光酸発生剤を含有する。光酸発生剤は、活性エネルギー線の照射を受けて分解し、成分(A)の(メタ)アクリル系共重合体中の加水分解性シリル基に作用して硬化反応を生じさせることが可能な酸性活性物質を放出することができる化合物である。ここで、活性エネルギー線としては、紫外線、可視光線、レーザー、電子線、エックス線などの広範囲のものを使用することができるが、これらの中でも紫外線を用いることが実用面から好ましい。具体的な紫外線発生源としては、低圧水銀ランプ、高圧水銀ランプ、キセノンランプ、メタルハライドランプ等が挙げられる。   The photopolymerizable resin composition of the present invention contains a photoacid generator as component (B). The photoacid generator decomposes upon irradiation with active energy rays and can act on the hydrolyzable silyl group in the (meth) acrylic copolymer of component (A) to cause a curing reaction. A compound capable of releasing an acidic active substance. Here, a wide range of active energy rays such as ultraviolet rays, visible rays, lasers, electron beams, and X-rays can be used, and among these, the use of ultraviolet rays is preferable from the practical aspect. Specific examples of the ultraviolet ray generation source include a low-pressure mercury lamp, a high-pressure mercury lamp, a xenon lamp, and a metal halide lamp.

成分(B)の光酸発生剤の例としては、オニウム塩やスルホン酸誘導体を挙げることができる。ここで、オニウム塩のカチオンはオニウムイオンであり、具体例としてはS、Se、Te、P、As、Sb、Bi、O,I、Br、Clまたは−N≡Nからなるオニウムイオンが挙げられる。アニオンの具体例としては、テトラフルオロボレート(BF4 -)、ヘキサフルオロホスフェート(PF6 -)、ヘキサフルオロアンチモネート(SbF6 -)、ヘキサフルオロアルセネート(AsF6 -)、ヘキサクロルアンチモネート(SbCl6 -)、テトラフェニルボレート、テトラキス(トリフルオロメチルフェニル)ボレート、テトラキス(ペンタフルオロメチルフェニル)ボレート、過塩素酸イオン(ClO4 -)、トリフルオロメタンスルホン酸イオン(CF3SO3 -)、フルオロスルホン酸イオン(FSO3 -)、トルエンスルホン酸イオン、トリニトロベンゼンスルホン酸アニオン、トリニトロトルエンスルホン酸アニオン等が挙げられる。オニウム塩としては上記カチオン、アニオンの各種組み合わせを利用することができるが、より毒性が少なく且つ硬化速度の速いスルホニウムカチオンとホスホニウムアニオンの組み合わせが好ましい。 Examples of the photoacid generator of component (B) include onium salts and sulfonic acid derivatives. Here, the cation of the onium salt is an onium ion, and specific examples thereof include an onium ion composed of S, Se, Te, P, As, Sb, Bi, O, I, Br, Cl, or -N≡N. . Specific examples of anions include tetrafluoroborate (BF 4 ), hexafluorophosphate (PF 6 ), hexafluoroantimonate (SbF 6 ), hexafluoroarsenate (AsF 6 ), hexachloroantimonate ( SbCl 6 ), tetraphenylborate, tetrakis (trifluoromethylphenyl) borate, tetrakis (pentafluoromethylphenyl) borate, perchlorate ion (ClO 4 ), trifluoromethanesulfonate ion (CF 3 SO 3 ), Examples thereof include fluorosulfonate ion (FSO 3 ), toluenesulfonate ion, trinitrobenzenesulfonate anion, and trinitrotoluenesulfonate anion. As the onium salt, various combinations of the above cation and anion can be used, but a combination of a sulfonium cation and a phosphonium anion having less toxicity and a high curing rate is preferable.

スルホン酸誘導体の例としては、ジスルホン類、ジスルホニルジアゾメタン類、ジスルホニルメタン類、スルホニルベンゾイルメタン類、イミドスルホネート類、ベンゾインスルホネート類、1−オキシ−2−ヒドロキシ−3−プロピルアルコールのスルホネート類、ピロガロールトリスルホネート類、ベンジルスルホネート類を挙げることができる。具体例としては、ジフェニルジスルホン、ジトシルジスルホン、ビス(フェニルスルホニル)ジアゾメタン、ビス(クロルフェニルスルホニル)ジアゾメタン、ビス(キシリルスルホニル)ジアゾメタン、フェニルスルホニルベンゾイルジアゾメタン、ビス(シクロヘキシルスルホニル)ジアゾメタン、ビス(t−ブチルスルホニル)ジアゾメタン、1,8−ナフタレンジカルボン酸イミド メチルスルホネート、1,8−ナフタレンジカルボン酸イミド トシルスルホネート、1,8−ナフタレンジカルボン酸イミド トリフルオロメチルスルホネート、1,8−ナフタレンジカルボン酸イミド カンファースルホネート、コハク酸イミド フェニルスルホネート、コハク酸イミド トシルスルホネート、コハク酸イミド トリフルオロメチルスルホネート、コハク酸イミド カンファースルフォネート、フタル酸イミド トリフルオロスルホネート、シス−5−ノルボルネン−エンド−2,3−ジカルボン酸イミド トリフルオロメチルスルホネート、ベンゾイントシラート、1,2−ジフェニル−2−ヒドロキシプロピル トシラート、1,2−ジ(4−メチルメルカプトフェニル)−2−ヒドロキシプロピル トシラート、ピロガロール メチルスルホネート、ピロガロール エチルスルホネート、2,6−ジニトロフェニルメチル トシラート、オルト−ニトロフェニルメチル トシラート、パラ−ニトロフェニル トシラート等を挙げることができる。   Examples of sulfonic acid derivatives include disulfones, disulfonyldiazomethanes, disulfonylmethanes, sulfonylbenzoylmethanes, imide sulfonates, benzoin sulfonates, sulfonates of 1-oxy-2-hydroxy-3-propyl alcohol, Examples include pyrogallol trisulfonates and benzyl sulfonates. Specific examples include diphenyldisulfone, ditosyldisulfone, bis (phenylsulfonyl) diazomethane, bis (chlorophenylsulfonyl) diazomethane, bis (xylylsulfonyl) diazomethane, phenylsulfonylbenzoyldiazomethane, bis (cyclohexylsulfonyl) diazomethane, bis (t -Butylsulfonyl) diazomethane, 1,8-naphthalenedicarboxylic acid imide methyl sulfonate, 1,8-naphthalenedicarboxylic acid imide Tosyl sulfonate, 1,8-naphthalenedicarboxylic acid imide trifluoromethyl sulfonate, 1,8-naphthalenedicarboxylic acid imide Camphor Sulfonate, Succinimide Phenyl sulfonate, Succinimide Tosyl sulfonate, Succinimide Trifluoromethyl sulfone Nate, succinimide camphorsulfonate, phthalimide trifluorosulfonate, cis-5-norbornene-endo-2,3-dicarboxylic acid trifluoromethylsulfonate, benzoin tosylate, 1,2-diphenyl-2-hydroxy Propyl tosylate, 1,2-di (4-methylmercaptophenyl) -2-hydroxypropyl tosylate, pyrogallol methylsulfonate, pyrogallol ethylsulfonate, 2,6-dinitrophenylmethyl tosylate, ortho-nitrophenylmethyl tosylate, para-nitrophenyl Tosylate and the like can be mentioned.

成分(B)の光酸発生剤の光硬化合性樹脂組成物中の配合量は、後述する希釈剤を除いた光硬化性樹脂組成物の固形分(硬化前に既に固形の成分および硬化後に固形となる成分のトータル)100質量部に対し、好ましくは0.1〜15質量部、より好ましくは1〜10質量部である。   The blending amount of the photoacid generator of the component (B) in the photocurable resin composition is determined based on the solid content of the photocurable resin composition excluding the diluent described later (solid components already before curing and after curing). The total of the components to be solid) is preferably 0.1 to 15 parts by mass, more preferably 1 to 10 parts by mass with respect to 100 parts by mass.

また、光硬化性樹脂組成物には、その塗工性を改善するために、希釈剤を添加することができる。希釈剤の添加量は、形成すべき硬化層の膜厚等に応じて、適宜決定することができる。例えば、硬化層の厚みを0.1μm程度とする場合には、固形分5.25質量%に対し希釈剤94.75質量%とし、ウェット膜厚で1.9μmで塗工することが好ましい。   Moreover, in order to improve the coating property, a diluent can be added to the photocurable resin composition. The addition amount of the diluent can be appropriately determined according to the thickness of the cured layer to be formed. For example, when the thickness of the hardened layer is about 0.1 μm, it is preferable that the coating is applied at a wet film thickness of 1.9 μm with a diluent of 94.75% by mass with respect to a solid content of 5.25% by mass.

希釈剤としては、一般の樹脂塗工液に用いられている希釈剤を使用することができ、具体的には、例えば、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン系化合物;酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸エチル、酢酸メトキシエチルなどのエステル系化合物;ジエチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、フェニルセロソルブ、ジオキサン等のエーテル系化合物;トルエン、キシレンなどの芳香族化合物;ペンタン、ヘキサンなどの脂肪族化合物;塩化メチレン、クロロベンゼン、クロロホルムなどのハロゲン系炭化水素;メタノール、エタノール、ノルマルプロパノール、イソプロパノールなどのアルコール化合物などを挙げることができる。   As the diluent, a diluent used in a general resin coating solution can be used. Specifically, for example, ketone compounds such as acetone, methyl ethyl ketone, cyclohexanone; methyl acetate, ethyl acetate, acetic acid Ester compounds such as butyl, ethyl lactate and methoxyethyl acetate; ether compounds such as diethyl ether, ethylene glycol dimethyl ether, ethyl cellosolve, butyl cellosolve, phenyl cellosolve and dioxane; aromatic compounds such as toluene and xylene; pentane and hexane Aliphatic compounds; halogen-based hydrocarbons such as methylene chloride, chlorobenzene and chloroform; alcohol compounds such as methanol, ethanol, normal propanol and isopropanol.

本発明の光硬化性樹脂組成物には、必要に応じて、更に、無機フィラー、重合禁止剤、着色顔料、染料、消泡剤、レベリング剤、分散剤、光拡散剤、可塑剤、帯電防止剤、界面活性剤、非反応性ポリマー、近赤外線吸収剤などを本発明の効果を損なわない範囲で添加することができる。   If necessary, the photocurable resin composition of the present invention may further include an inorganic filler, a polymerization inhibitor, a color pigment, a dye, an antifoaming agent, a leveling agent, a dispersing agent, a light diffusing agent, a plasticizer, and an antistatic agent. An agent, a surfactant, a non-reactive polymer, a near-infrared absorber, and the like can be added as long as the effects of the present invention are not impaired.

また、本発明の光硬化性樹脂組成物は、以上説明した成分(A)および(B)と、必要に応じて配合される他の添加成分とを、常法に従って均一に混合することにより調製することができる。   The photocurable resin composition of the present invention is prepared by uniformly mixing the components (A) and (B) described above and other additive components blended as necessary according to a conventional method. can do.

本発明の光硬化性樹脂組成物は、基材上に塗布し、光硬化させることにより基材層と本発明の光硬化性樹脂組成物を硬化させてなる硬化樹脂からなる層(以下、硬化樹脂層ということがある。)とからなる積層体とすることができる。このような積層体は、使用する基材の種類、厚み、物性、また、光硬化性樹脂組成物からなる硬化樹脂層の物性や厚み、必要に応じて積層される接着層などの付加的な熱可塑性層、熱硬化性層あるいは光硬化性層の種類や性質等に応じて、広範囲な利用が可能であり、例えば、転写材、反射防止材等の低屈折率層として使用可能である。   The photocurable resin composition of the present invention is a layer comprising a base material layer and a cured resin obtained by curing the photocurable resin composition of the present invention by coating on a substrate and photocuring (hereinafter, cured). It may be referred to as a resin layer). Such a laminate includes additional types such as the type, thickness, and physical properties of the substrate used, and the physical properties and thickness of the cured resin layer made of the photocurable resin composition, and an adhesive layer that is laminated as necessary. It can be used in a wide range depending on the type and properties of the thermoplastic layer, thermosetting layer, or photocurable layer. For example, it can be used as a low refractive index layer such as a transfer material or an antireflection material.

このような積層体の基材としては、板状またはフィルム状であれば特に制限はなく、鉄、アルミニウムなどの金属基材、ガラス基材、セラミックス基材、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂、ポリカーボネート等の樹脂基材などを挙げることができる。   The substrate of such a laminate is not particularly limited as long as it is plate-like or film-like, such as a metal substrate such as iron or aluminum, a glass substrate, a ceramic substrate, an acrylic resin, a polyester resin, or a polycarbonate. A resin base material etc. can be mentioned.

このような積層体は、以下の工程(a)および(b)を含む製造方法により製造することができる。以下、工程毎に説明する。   Such a laminate can be manufactured by a manufacturing method including the following steps (a) and (b). Hereinafter, it demonstrates for every process.

工程(a)
まず、基材上に本発明の光硬化性樹脂組成物の膜を形成する。膜の形成手法としては、含浸法、凸版印刷法、平板印刷法、凹版印刷などで用いられるロールを用いた塗工法、基材に噴霧するようなスプレー法、カーテンフローコートなどの公知の手法を利用することができる。光硬化性樹脂組成物に希釈剤が含有されている場合には、その塗工膜を加熱炉や遠赤外炉、超遠赤外炉などの中で加熱し乾燥することが好ましい。
Step (a)
First, a film of the photocurable resin composition of the present invention is formed on a substrate. As a film forming method, a known method such as an impregnation method, a relief printing method, a flat printing method, a coating method using a roll used in intaglio printing, a spray method of spraying on a substrate, a curtain flow coat, or the like is used. Can be used. When a diluent is contained in the photocurable resin composition, the coating film is preferably heated and dried in a heating furnace, a far infrared furnace, a super far infrared furnace, or the like.

基材としては、板状またはフィルム状の、金属(鉄、アルミニウムなど)基板、ガラス基板を含むセラミック基板、アクリル樹脂、PET、ポリカーボネートなどのプラスチック基板、熱硬化性樹脂基板等を使用することができる。   As the base material, a plate-like or film-like metal (iron, aluminum, etc.) substrate, a ceramic substrate including a glass substrate, a plastic substrate such as acrylic resin, PET, polycarbonate, a thermosetting resin substrate, etc. may be used. it can.

工程(b)
工程(a)で得られた光硬化性膜に、紫外線、可視光、レーザー、電子線、エックス線等の活性エネルギー線を照射して硬化させ、硬化樹脂層を形成する。これにより、基材上に本発明の光硬化性樹脂組成物からなる硬化樹脂層が積層された積層体が得られる。なお、紫外線を使用する場合の光源としては、低圧水銀ランプ、高圧水銀ランプ、キセノンランプ、メタルハライドランプなどが挙げられる。
Step (b)
The photocurable film obtained in the step (a) is cured by irradiating with active energy rays such as ultraviolet rays, visible light, laser, electron beam, X-rays, etc. to form a cured resin layer. Thereby, the laminated body by which the cured resin layer which consists of a photocurable resin composition of this invention on the base material was laminated | stacked is obtained. In addition, as a light source when using an ultraviolet-ray, a low pressure mercury lamp, a high pressure mercury lamp, a xenon lamp, a metal halide lamp etc. are mentioned.

このようにして得られる積層体は、基材と硬化樹脂層との2層構造に限られず、熱可塑性、熱硬化性、光硬化性の材料の層を予め設けていてもよく、あるいは硬化層形成後に改めて設けてもよい。   The laminate obtained in this way is not limited to a two-layer structure of a base material and a cured resin layer, and a layer of a thermoplastic, thermosetting, or photocurable material may be provided in advance, or a cured layer You may provide again after formation.

以上、本発明の光硬化性樹脂組成物、それからなる硬化樹脂層を有する積層体およびその製造方法について説明したが、これらの積層体および製造方法の好ましい具体的な態様の一例として転写材およびその製造方法を以下に示す。なお、それらの中の用語の意味は既に説明した通りである。   As described above, the photocurable resin composition of the present invention, the laminate having a cured resin layer comprising the photocurable resin composition, and the production method thereof have been described. However, as an example of preferred specific embodiments of these laminates and production methods, a transfer material and its The manufacturing method is shown below. In addition, the meaning of the term in them is as having already demonstrated.

本発明の転写材の転写層は、上述した光硬化性樹脂組成物からなる硬化樹脂層を少なくとも一層有するものであり、従って、硬化樹脂層単独であってもよいが、他の低屈折率層、高屈折率層、ポリマー層などを含む2層以上の多層構造でもよい。   The transfer layer of the transfer material of the present invention has at least one cured resin layer composed of the above-described photocurable resin composition, and therefore may be a cured resin layer alone, but other low refractive index layers. Further, it may be a multilayer structure of two or more layers including a high refractive index layer, a polymer layer and the like.

例えば、転写層は、転写材の使用目的に応じて、高屈折率層や他の低屈折率層等と組み合わせて反射防止層として使用できる。また、アクリル系またはシリコン系などのハードコート層、抗菌層等の機能層、印刷層、着色層等の装飾層、金属または金属化合物からなる蒸着層(導電層)、プライマー層なども含むことができる。   For example, the transfer layer can be used as an antireflection layer in combination with a high refractive index layer, another low refractive index layer, or the like depending on the purpose of use of the transfer material. It may also include a hard coat layer such as an acrylic or silicon type, a functional layer such as an antibacterial layer, a decorative layer such as a printing layer or a colored layer, a vapor deposition layer (conductive layer) made of a metal or a metal compound, a primer layer, or the like. it can.

かかる転写層の層構成の具体例としては、硬化樹脂層/ハードコート層、硬化樹脂層/高屈折率層/ハードコート層、硬化樹脂層/高屈折率層/蒸着層/プライマー層/ハードコート層、硬化樹脂層/高屈折率層/プライマー層/蒸着層/プライマー層/ハードコート層、硬化樹脂層/高屈折率層/プライマー層/ハードコート層、印刷層/硬化樹脂層/高屈折率層、装飾層/硬化樹脂層/高屈折率層等が挙げられる。   Specific examples of the layer structure of the transfer layer include a cured resin layer / hard coat layer, a cured resin layer / high refractive index layer / hard coat layer, and a cured resin layer / high refractive index layer / deposition layer / primer layer / hard coat. Layer, cured resin layer / high refractive index layer / primer layer / evaporation layer / primer layer / hard coat layer, cured resin layer / high refractive index layer / primer layer / hard coat layer, printing layer / cured resin layer / high refractive index Layer, decorative layer / cured resin layer / high refractive index layer, and the like.

上記硬化樹脂層の膜厚は、特に制限はないが、通常0.5〜20μm程度の範囲から適宜選択される。また、他の層の膜厚においても、特に制限はないが、通常0.1〜10μm程度の範囲から適宜選択される。   Although there is no restriction | limiting in particular in the film thickness of the said cured resin layer, Usually, it selects suitably from the range of about 0.5-20 micrometers. Further, the film thicknesses of the other layers are not particularly limited, but are usually appropriately selected from the range of about 0.1 to 10 μm.

光硬化性樹脂組成物から硬化樹脂層を形成するためには、成膜した光硬化性樹脂組成物の膜に、公知の光重合性樹脂の光硬化技術に準じて、紫外線、可視光線、α線、β線、γ線、電子線、レーザーなどの広範囲の活性エネルギー線を使用することができる。これらの中でも、紫外線を用いることが好ましい。光源は点光源、線光源、面光源等の任意のものを使用することができるが、実用性の点からは線光源が一般的である。たとえば、紫外線発生源としては実用性、経済性の面から紫外線ランプが一般に用いられ、具体的には、低圧水銀ランプ、高圧水銀ランプ、キセノンランプ、メタルハライドランプなどが挙げられる。なお、点光源または線光源を使用する場合には、光硬化性樹脂組成物からなる層に所定量の光を照射できるように適宜走査すればよい。   In order to form a cured resin layer from the photocurable resin composition, the film of the formed photocurable resin composition is subjected to ultraviolet light, visible light, α according to a known photocuring technique of a photopolymerizable resin. A wide range of active energy rays such as rays, β rays, γ rays, electron rays, and lasers can be used. Among these, it is preferable to use ultraviolet rays. Any light source such as a point light source, a line light source, and a surface light source can be used, but a line light source is generally used from the viewpoint of practicality. For example, an ultraviolet lamp is generally used as an ultraviolet ray generation source in terms of practicality and economy, and specific examples include a low pressure mercury lamp, a high pressure mercury lamp, a xenon lamp, and a metal halide lamp. In addition, when using a point light source or a line light source, it may scan suitably so that a predetermined amount of light can be irradiated to the layer which consists of a photocurable resin composition.

転写材は、離型ベースフィルムとその上に上述の転写層とを有するものであるから、かかる転写材の層構成の具体例としては、離型ベースフィルム/硬化樹脂層/ハードコート層、離型ベースフィルム/硬化樹脂層/高屈折率層/ハードコート層、離型ベースフィルム/硬化樹脂層/高屈折率層/蒸着層/プライマー層/ハードコート層、離型ベースフィルム/硬化樹脂層/高屈折率層/プライマー層/蒸着層/プライマー層/ハードコート層、離型ベースフィルム/硬化樹脂層/高屈折率層/プライマー層/ハードコート層、離型ベースフィルム/印刷層/硬化樹脂層/高屈折率層、離型ベースフィルム/装着層/硬化樹脂層/高屈折率層等が挙げられる。   Since the transfer material has a release base film and the above-described transfer layer thereon, specific examples of the layer structure of the transfer material include a release base film / cured resin layer / hard coat layer, a release layer. Type base film / cured resin layer / high refractive index layer / hard coat layer, release base film / cured resin layer / high refractive index layer / deposition layer / primer layer / hard coat layer, release base film / cured resin layer / High refractive index layer / primer layer / evaporation layer / primer layer / hard coat layer, release base film / cured resin layer / high refractive index layer / primer layer / hard coat layer, release base film / print layer / cured resin layer / High refractive index layer, release base film / mounting layer / cured resin layer / high refractive index layer, and the like.

本発明の転写材に用いる離型性ベースフィルムとしては、特に制限はなく、例えば、20℃での40dyn/cm以下の表面張力を示すような離型性を有し、充分な自己保持性を有する通常の転写材に用いられるフィルムであれば用いることができる。本発明かかる離型ベースフィルムの具体例としては、ポリエチレンテレフタレートフィルム等のポリエステルフィルム、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルムなどのポリオレフィンフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリフッ化ビニリデンフィルム、ポリフッ化ビニルフィルム、ポリヘキサフルオロプロピレンフィルム、ポリ(ヘプタフルオロイソプロピル(メタ)アクリレートフィルム等のフッ素系樹脂フィルム、ポリオキシジメチルシリレン、ポリオキシメチルシリレン、ポリオキシジメチルシリレン−α,ω−ジブタン酸、ポリオキシビニルシリレン等のケイ素含有重合体フィルム、ポリスチレンフィルム、ポリアミドフィルム、ポリアミドイミドフィルム、ポリ塩化ビニルフィルム、セルロースアセテートフィルムなどの樹脂フィルム、セロハン紙、グラシン紙などの洋紙、和紙、これらの複合フィルム状物、それらに離型処理を施したもの等が挙げられる。   The releasable base film used for the transfer material of the present invention is not particularly limited. For example, the releasable base film has a releasability that exhibits a surface tension of 40 dyn / cm or less at 20 ° C., and has a sufficient self-holding property. Any film can be used as long as it is a film used for an ordinary transfer material. Specific examples of the release base film according to the present invention include polyester films such as polyethylene terephthalate films, polyolefin films such as polyethylene films and polypropylene films, polycarbonate films, polyvinylidene fluoride films, polyvinyl fluoride films, polyhexafluoropropylene films, Fluorine-based resin films such as poly (heptafluoroisopropyl (meth) acrylate film), silicon-containing polymer films such as polyoxydimethylsilylene, polyoxymethylsilylene, polyoxydimethylsilylene-α, ω-dibutanoic acid, polyoxyvinylsilylene , Polystyrene film, polyamide film, polyamideimide film, polyvinyl chloride film, cellulose acetate film, etc. Resin films, paper such as cellophane paper, glassine paper, Japanese paper, composite films of these, and those subjected to release treatment.

離型性ベースフィルムの厚さは、特に限定されないが、しわや亀裂の発生を抑制するために、通常4〜150μmの範囲であることが好ましく、12〜100μmの範囲であることがより好ましく、30〜100μmの範囲であることがさらに好ましい。   The thickness of the releasable base film is not particularly limited, but is usually preferably in the range of 4 to 150 μm, more preferably in the range of 12 to 100 μm, in order to suppress the occurrence of wrinkles and cracks, More preferably, it is in the range of 30-100 μm.

上記離型性ベースフィルムの離型性が不十分な場合は、離型性ベースフィルムの少なくとも片面にさらに離型処理を行うことができる。かかる離型処理は、離型性ポリマーやワックスなどを適宜選択して公知の方法で行うことができる。かかる離型処理に用いる処理剤としては、例えば、パラフィンワックス等の離型性ワックス;シリコン系樹脂、メラミン系樹脂、尿素系樹脂、尿素−メラミン系樹脂、セルロース系樹脂、ベンゾグアナミン系樹脂などの離型性樹脂;各種界面活性剤などを、単独で又は溶剤などと混合して、グラビア印刷法、スクリーン印刷法、オフセット印刷法などの通常の印刷法に従って離型性ベースフィルム上に塗布し、乾燥し、更に必要に応じて硬化(加熱、紫外線照射、電子線照射、放射線照射)させて形成することができる。   When the mold release property of the mold release base film is insufficient, a mold release treatment can be further performed on at least one surface of the mold release base film. Such a release treatment can be performed by a known method by appropriately selecting a release polymer or wax. Examples of the treatment agent used for the release treatment include release waxes such as paraffin wax; release resins such as silicone resins, melamine resins, urea resins, urea-melamine resins, cellulose resins, and benzoguanamine resins. Molding resin; various surfactants, etc., alone or mixed with a solvent, etc., applied onto a releasable base film according to a normal printing method such as gravure printing, screen printing, or offset printing, and dried Furthermore, it can be formed by curing (heating, ultraviolet irradiation, electron beam irradiation, radiation irradiation) as necessary.

本発明の転写材には、前述のように、多層構造の転写層中の層間にプライマー層を設けることができる。かかるプライマー層は、本発明の転写材における層と層の両者に接着性のよいポリマー成分を主とする組成物の塗布層であり、厚さは0.5〜5μm程度の範囲が好ましい。プライマー層の具体例としては、アクリル系樹脂、酢酸ビニル系樹脂、メラミン系樹脂、ポリエステル系樹脂、ウレタン系樹脂等の層が挙げられる。これらの層は、例えば上記樹脂を溶剤に溶解後、上記印刷法などにより塗布し、乾燥して形成することができる。   As described above, the transfer material of the present invention can be provided with a primer layer between layers in a transfer layer having a multilayer structure. Such a primer layer is a coating layer of a composition mainly composed of a polymer component having good adhesion to both the layers in the transfer material of the present invention, and the thickness is preferably in the range of about 0.5 to 5 μm. Specific examples of the primer layer include layers of acrylic resin, vinyl acetate resin, melamine resin, polyester resin, urethane resin, and the like. These layers can be formed by, for example, dissolving the resin in a solvent, applying the resin by the printing method, and drying.

本発明の転写材は、以下に説明するように工程(a′)と工程(b′)とを含む製造方法に従って製造することができる。   The transfer material of the present invention can be produced according to a production method including steps (a ′) and (b ′) as described below.

工程(a′)
離型べースフィルム上に、前述の本発明の光硬化性樹脂組成物を塗布して光硬化性樹脂組成物の膜を形成する。離型べースフィルム、光硬化性樹脂組成物については、既に説明したとおりである。
Step (a ′)
On the release base film, the above-mentioned photocurable resin composition of the present invention is applied to form a film of the photocurable resin composition. The release base film and the photocurable resin composition are as described above.

工程(b′)
工程(a′)で得られた光硬化性樹脂組成物の膜に、既に説明したような活性エネルギー線を照射する。これにより、光硬化性樹脂組成物の膜は硬化して硬化樹脂層となる。これにより、本発明の光硬化性樹脂組成物を硬化させてなる硬化樹脂層を有する転写材が得られる。
Step (b ′)
The film of the photocurable resin composition obtained in the step (a ′) is irradiated with active energy rays as described above. Thereby, the film | membrane of a photocurable resin composition hardens | cures and becomes a cured resin layer. Thereby, the transfer material which has the cured resin layer formed by hardening the photocurable resin composition of this invention is obtained.

このようにして得られる転写材は、離型ベースフィルムと硬化樹脂層との2層構造に限られず、熱可塑性、熱硬化性、光硬化性の材料の層を予め設けていてもよく、あるいは硬化層形成後に改めて設けてもよい。   The transfer material thus obtained is not limited to the two-layer structure of the release base film and the cured resin layer, and may be provided with a layer of thermoplastic, thermosetting, or photocurable material in advance, or You may provide again after hardened layer formation.

本発明による転写材は、最表面層を被転写材に密着させつつ加熱することによって被転写材に転写層を熱転写することが可能である。被転写材としては、形状等は特に限定されないが、好ましい例として、例えば、市販樹脂シート、フィルム、ガラス板などを挙げることができる。また、表示画面保護板などに使用する場合には、被転写材として樹脂シートであることが好ましい。かかる樹脂の具体例としては、可視光波長において透明であれば特に制限されないが、ポリメチルメタクリレート(PMMA)などのメタクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、メタクリル酸メチル-スチレン共重合体(MS樹脂)等が好ましく用いられる。   The transfer material according to the present invention is capable of thermally transferring the transfer layer to the transfer material by heating the outermost surface layer in close contact with the transfer material. The shape and the like of the material to be transferred are not particularly limited, but preferred examples include commercially available resin sheets, films, glass plates, and the like. Moreover, when using for a display screen protection board etc., it is preferable that it is a resin sheet as a to-be-transferred material. Specific examples of such resins are not particularly limited as long as they are transparent at visible light wavelengths, but methacrylic resins such as polymethyl methacrylate (PMMA), polycarbonate resins, methyl methacrylate-styrene copolymers (MS resins) and the like are preferable. Used.

本発明の転写材は、画像表示装置、ヘルメットシールド等の被転写体の表面に、転写層を手軽に低コストで良好な転写効率で転写させることができる。従って、得られる転写物は、良好な外観の転写物となる。   The transfer material of the present invention can easily transfer a transfer layer to a surface of a transfer target such as an image display device or a helmet shield with good transfer efficiency at low cost. Accordingly, the obtained transfer product is a transfer product having a good appearance.

以下、本発明を実施例に基づいて具体的に説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。   EXAMPLES Hereinafter, although this invention is demonstrated concretely based on an Example, this invention is not limited to this.

参考例1(含フッ素アクリル系重合体の製造)
100mLの3ッ口フラスコに、メチルイソブチルケトン(40g)、表1に示す重合単量体(20g)を加えた後、フラスコ内を窒素置換し、アゾビスイソブチロニトリル(40mg)を加え80℃で6時間攪拌して重合させた。反応終了後、反応液をヘキサン中に滴下してポリマーを析出させ、析出したポリマーを濾取し、真空乾燥機にて室温で12時間乾燥させることにより含フッ素アクリル系重合体を得た。
Reference Example 1 (Production of fluorinated acrylic polymer)
After adding methyl isobutyl ketone (40 g) and the polymerization monomer shown in Table 1 (20 g) to a 100 mL three-necked flask, the inside of the flask was purged with nitrogen, and azobisisobutyronitrile (40 mg) was added. The polymerization was carried out by stirring at 0 ° C. for 6 hours. After completion of the reaction, the reaction solution was dropped into hexane to precipitate a polymer, and the precipitated polymer was collected by filtration and dried in a vacuum dryer at room temperature for 12 hours to obtain a fluorine-containing acrylic polymer.

Figure 0004539840
Figure 0004539840

(表1注)
*1: 2,2,2−トリフルオロエチルメタクリレート(商品名ビスコート3FM 大阪有機化学(株)製)
*2: 1H,1H,5H−オクタフルオロペンチルメタクリレート(商品名ビスコート8FM 大阪有機化学(株)製)
*3: 1H,1H,2H,2H−ヘプタデカフルオロデシルメタクリレート(商品名ビスコート17FM 大阪有機化学(株)製)
*4: γ−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン(商品名KBM−503 信越化学工業(株)製)
*5: [化学式(I)で表される構造単位]/([化学式(I)で表される構造単位]+[化学式(II)で表される構造単位])×100(mol%)を表す

(Table 1 note)
* 1: 2,2,2-trifluoroethyl methacrylate (trade name Biscoat 3FM, manufactured by Osaka Organic Chemical Co., Ltd.)
* 2: 1H, 1H, 5H-octafluoropentyl methacrylate (trade name Biscote 8FM, manufactured by Osaka Organic Chemical Co., Ltd.)
* 3: 1H, 1H, 2H, 2H-heptadecafluorodecyl methacrylate (Brand name Biscote 17FM, manufactured by Osaka Organic Chemical Co., Ltd.)
* 4: γ-Methacryloyloxypropyltrimethoxysilane (trade name KBM-503, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.)
* 5: [Structural unit represented by chemical formula (I)] / ([Structural unit represented by chemical formula (I)] + [Structural unit represented by chemical formula (II)]) × 100 (mol%) To express

参考例2(高屈折率樹脂組成物の製造)
チタン微粒子(商品名 HIT、日産化学社製)1.8質量%、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(商品名:DPCA−60 日本化薬株式会社製)1.2質量%、光重合開始剤(商品名:イルガキュア184 チバスペシャリティーケミカルズ株式会社)0.15質量%、およびイソプロパノール96.85質量%を混合して高屈折率樹脂組成物を得た。
Reference Example 2 (Production of high refractive index resin composition)
Titanium fine particles (trade name HIT, manufactured by Nissan Chemical Co., Ltd.) 1.8% by mass, dipentaerythritol hexaacrylate (trade name: DPCA-60 manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) 1.2% by mass, photopolymerization initiator (trade name) : Irgacure 184 Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.) 0.15% by mass and 96.85% by mass of isopropanol were mixed to obtain a high refractive index resin composition.

参考例3(積層板用ハードコート樹脂組成物の製造)
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(商品名:DPCA−60 日本化薬株式会社製)12質量%、エチレンオキシド変性ビスフェノールAジアクリレート(商品名ビスコート#540、大阪有機化学工業(株)製)18質量%、光重合開始剤(商品名:イルガキュア184 チバスペシャリティーケミカルズ株式会社)1.5質量%およびメチルイソブチルケトン68.5質量%を混合し、積層板用のハードコート樹脂組成物を得た。
Reference Example 3 (Production of hard coat resin composition for laminate)
12% by mass of dipentaerythritol hexaacrylate (trade name: DPCA-60 manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), 18% by mass of ethylene oxide-modified bisphenol A diacrylate (trade name: Biscote # 540, manufactured by Osaka Organic Chemical Industry Co., Ltd.), light A polymerization initiator (trade name: Irgacure 184 Ciba Specialty Chemicals) 1.5 mass% and methyl isobutyl ketone 68.5 mass% were mixed to obtain a hard coat resin composition for a laminate.

参考例4(転写箔用ハードコート樹脂組成物の製造)
エチレンオキシド変性ビスフェノールAジアクリレート5質量%(商品名ビスコート#540 大阪有機化学工業(株)製)、トリアジントリアクリレート2質量%(商品名M315、東亜合成(株)製)、エポキシ変性フェノキシアクリレート4質量%(商品名M600A、共栄社化学(株)製)、γアクリロイルキシプロピルトリメトキシシラン4質量%(商品名KBM5103 信越化学工業(株)製)、ポリメチルメタアクリレート5質量%(商品名 パラペット 株クラレ社製)、光重合開始剤1質量%(商品名 イルガキュア184 日本チバガイギー(株)製)、およびメチルエチルケトン79質量%を混合し、転写箔用のハードコート樹脂組成物を得た。
Reference Example 4 (Production of hard coat resin composition for transfer foil)
Ethylene oxide-modified bisphenol A diacrylate 5% by mass (trade name Biscote # 540, manufactured by Osaka Organic Chemical Industry Co., Ltd.), triazine triacrylate 2% by mass (trade name M315, manufactured by Toagosei Co., Ltd.), epoxy-modified phenoxy acrylate 4% by mass % (Trade name M600A, manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.), γ-acryloyloxypropyltrimethoxysilane 4% by mass (trade name KBM5103, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), polymethyl methacrylate 5% by mass (trade name Parapet Kuraray Co., Ltd.) Co., Ltd.), 1% by mass of a photopolymerization initiator (trade name: Irgacure 184, manufactured by Nippon Ciba Geigy Co., Ltd.) and 79% by mass of methyl ethyl ketone were mixed to obtain a hard coat resin composition for transfer foil.

実施例1〜6、比較例1〜2
板厚2mmのアクリル樹脂板上に、乾燥膜厚で10μmになるように参考例3に示すハードコート樹脂組成物を塗布し、130℃で30秒乾燥した後、80W高圧水銀灯(ウシオ電機(株)製)を備えたベルトコンベア(コンベア速度1m/min、光源と被照射物の距離10cm)を用いて紫外線を1回照射し、ハードコート樹脂組成物を硬化させてハードコート層を形成した。更に、このハードコート層上に参考例2に示す高屈折率樹脂組成物を乾燥膜厚で0.1μmとなるよう塗布し、ハードコート層作成条件と同様の方法で高屈折率層を形成した。更に、この高屈折率層上に、表2に示す低屈折率樹脂組成物を、乾燥膜厚で0.1μmとなるよう塗布し、ハードコート層作成条件と同様の方法で低屈折率層を形成し、アクリル樹脂板/ハードコート層/高屈折率層/低屈折率層からなる積層体を得た。
Examples 1-6, Comparative Examples 1-2
The hard coat resin composition shown in Reference Example 3 was applied on an acrylic resin plate having a thickness of 2 mm so that the dry film thickness was 10 μm, dried at 130 ° C. for 30 seconds, and then 80 W high-pressure mercury lamp (USHIO INC.) )) Was used to irradiate ultraviolet rays once by using a belt conveyor (conveyor speed 1 m / min, distance between light source and irradiated object), and the hard coat resin composition was cured to form a hard coat layer. Further, on this hard coat layer, the high refractive index resin composition shown in Reference Example 2 was applied to a dry film thickness of 0.1 μm, and a high refractive index layer was formed by the same method as the hard coat layer preparation conditions. . Further, on this high refractive index layer, the low refractive index resin composition shown in Table 2 was applied so that the dry film thickness was 0.1 μm, and the low refractive index layer was formed by the same method as the hard coat layer preparation conditions. Thus, a laminate composed of an acrylic resin plate / hard coat layer / high refractive index layer / low refractive index layer was obtained.

(評価)
各実施例および比較例で使用した低屈折率樹脂組成物の「保存安定性」、各実施例および比較例の積層体の低屈折率面の「反射率」および「耐擦過性」について、以下に説明するように試験、評価し、得られた結果を表2に示す。
(Evaluation)
About the "storage stability" of the low refractive index resin composition used in each example and comparative example, the "reflectance" and "scratch resistance" of the low refractive index surface of the laminate of each example and comparative example, Table 2 shows the results obtained by testing and evaluating as described in the above.

保存安定性
低屈折率樹脂組成物を、湿度50%、温度25℃の環境下に6ヶ月間保管した後、外観変化や硬化性変化を、以下の基準にて評価した。
◎: 6ヶ月間保管後でも外観、硬化性に変化が見られない場合
○: 3ヶ月保管時点では外観、硬化性に変化が見られなかったが、3ヶ月〜6ヶ月保管中に外観、硬化性に変化が見られた場合
×:1ヶ月保管時点で既に外観、硬化性に変化が見られた場合
The storage stability low refractive index resin composition was stored for 6 months in an environment of 50% humidity and 25 ° C., and then the appearance change and the curable change were evaluated according to the following criteria.
◎: No change in appearance and curability after storage for 6 months ○: No change in appearance and curability when stored for 3 months, but appearance and cure during storage for 3-6 months When there is a change in properties ×: When changes in appearance and curability have already been observed at the time of storage for 1 month

反射率
積層板の転写層の5°正反射率を測定し、400nm〜700nmにおける最小反射率を測定し、以下の基準で評価した。
◎: 最小反射率が0.5%未満である
○: 最小反射率が0.5%以上1.0%未満である
×: 最小反射率が1.0%以上である
The 5 ° regular reflectance of the transfer layer of the reflectance laminate was measured, the minimum reflectance at 400 nm to 700 nm was measured, and evaluated according to the following criteria.
A: Minimum reflectance is less than 0.5%. O: Minimum reflectance is 0.5% or more and less than 1.0%. X: Minimum reflectance is 1.0% or more.

耐擦過性
チーズクロス12枚を重ねたものを直径0.6mmの金属棒の先端に取り付け、それを積層板の転写層に1.6Kg重の加重をかけて接触させ、その状態で転写層の表面を150回往復させたときに、積層体から転写層の剥離が生じているか否かを目視で確認し、以下の基準で評価した。
○: 表層が剥離していない場合
×: 表層が剥離している場合
A stack of 12 scratch-resistant cheesecloths is attached to the tip of a metal rod having a diameter of 0.6 mm and brought into contact with the transfer layer of the laminate under a load of 1.6 kg. When the surface was reciprocated 150 times, whether or not the transfer layer was peeled off from the laminate was visually confirmed and evaluated according to the following criteria.
○: When the surface layer is not peeled ×: When the surface layer is peeled

Figure 0004539840
Figure 0004539840

(表2注)
*6: 参考例1参照
*7: 商品名UN−3320HC、根上工業(株)社製
*8: 2,2,2−トリフルオロエチルメタクリレート(商品名ビスコート3FM 大阪有機化学(株)製)
*9: 1,2−ジフェニル−2−ヒドロキシプロピルトシレート(商品名 CD−1012 サートマー(株)社製)
*10: 商品名 イルガキュア184 チバ・スペシャリティーケミカルズ(株)社製
(Table 2 Note)
* 6: See Reference Example 1 * 7: Trade name UN-3320HC, manufactured by Negami Kogyo Co., Ltd. * 8: 2,2,2-trifluoroethyl methacrylate (trade name Viscoat 3FM, manufactured by Osaka Organic Chemical Co., Ltd.)
* 9: 1,2-diphenyl-2-hydroxypropyl tosylate (trade name: CD-1012 manufactured by Sartomer Co., Ltd.)
* 10: Product name Irgacure 184 Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.

表2の結果から、実施例1〜6で調製した低屈折率樹脂組成物は、良好な保存安定性を示し、しかもその硬化膜を利用した反射防止膜は、低い反射率と良好な耐擦過性を示したことがわかる。一方、比較例1および2で調製した低屈折率樹脂組成物は、保存安定性は良好であったが、反射率と耐擦過性のいずれかに問題があった。   From the results of Table 2, the low refractive index resin compositions prepared in Examples 1 to 6 show good storage stability, and the antireflection film using the cured film has low reflectance and good scratch resistance. It turns out that it showed sex. On the other hand, the low refractive index resin compositions prepared in Comparative Examples 1 and 2 had good storage stability, but had a problem in either reflectance or scratch resistance.

実施例7〜12、比較例3〜4(転写板の製造)
50μm厚のポリエステルフィルム上に、実施例1〜6並びに比較例1〜2で得られた低屈折率樹脂組成物をそれぞれ乾燥膜厚で1μmとなるように塗工後、130℃で30秒乾燥し、更に紫外線照射(80W高圧水銀灯、速度1m/分、1パス)を行い、低屈折率層を形成した。低屈折率層上に参考例2に示す高屈折率樹脂組成物を、乾燥膜厚1μmとなるように塗工後、130℃で30秒乾燥し、更に紫外線照射(80W高圧水銀灯、速度1m/分、1パス)を行い、高屈折率層を形成した。更に、高屈折率層上に、参考例4に示す転写箔用ハードコート樹脂組成物を、乾燥膜厚10μmとなるように塗工後、130℃で30秒乾燥し、更に紫外線照射(80W高圧水銀灯、速度1m/分、1パス)を行うことにより、ポリエステルフィルム/硬化樹脂層(低屈折率層)/高屈折率層/ハードコート層からなる転写材を得た。
Examples 7 to 12, Comparative Examples 3 to 4 (production of transfer plate)
After coating the low refractive index resin compositions obtained in Examples 1 to 6 and Comparative Examples 1 and 2 to a thickness of 1 μm on a 50 μm thick polyester film, each was dried at 130 ° C. for 30 seconds. Further, ultraviolet irradiation (80 W high pressure mercury lamp, speed 1 m / min, 1 pass) was performed to form a low refractive index layer. After coating the high refractive index resin composition shown in Reference Example 2 on the low refractive index layer so as to have a dry film thickness of 1 μm, it is dried at 130 ° C. for 30 seconds, and further irradiated with ultraviolet rays (80 W high pressure mercury lamp, speed 1 m / second). 1 pass), and a high refractive index layer was formed. Furthermore, on the high refractive index layer, the hard coat resin composition for transfer foil shown in Reference Example 4 was applied to a dry film thickness of 10 μm, dried at 130 ° C. for 30 seconds, and further irradiated with ultraviolet light (80 W high pressure) A transfer material composed of polyester film / cured resin layer (low refractive index layer) / high refractive index layer / hard coat layer was obtained by performing a mercury lamp, speed 1 m / min, 1 pass).

得られた転写フィルムを、2mm厚のポリメチルメタクリレート板に熱転写(ロール速度1m/分、ロール温度160℃)し、ポリエステルフィルムを剥離して積層板を得た。得られた積層板について、実施例1と同様に、転写層の耐擦傷性、反射率の評価を行った。結果を表3に示す。   The obtained transfer film was thermally transferred to a 2 mm thick polymethyl methacrylate plate (roll speed 1 m / min, roll temperature 160 ° C.), and the polyester film was peeled off to obtain a laminate. The obtained laminate was evaluated for scratch resistance and reflectance of the transfer layer in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table 3.

Figure 0004539840
Figure 0004539840

(表3注)
*11:熱転写後ポリエステルフィルムが剥離できなかったため評価せず
*12:低屈折率層上に高屈折率層が積層できなかったため評価せず
(Table 3 note)
* 11: Not evaluated because the polyester film could not be peeled after thermal transfer * 12: Not evaluated because the high refractive index layer could not be laminated on the low refractive index layer

表3の結果から、被転写体に転写された、実施例7〜12の反射防止膜は、低い反射率と良好な耐擦過性を示したことがわかる。一方、比較例3および4の場合には、そもそも転写ができず、評価不能であった。   From the results in Table 3, it can be seen that the antireflection films of Examples 7 to 12 transferred to the transfer target body exhibited low reflectance and good scratch resistance. On the other hand, in Comparative Examples 3 and 4, transfer was not possible in the first place, and evaluation was impossible.

本発明の光硬化性樹脂組成物は、簡便な手法で調製可能であり、ポットライフが長く、温和な条件でかつ短時間で硬化可能な低屈折率膜を得ることができるので、反射防止膜としてラミネート箔や転写箔、画像表示画面保護板、ヘルメットシールド等の物品に有利に利用することができる。
The photocurable resin composition of the present invention can be prepared by a simple method, has a long pot life, and can obtain a low refractive index film that can be cured in a short time under mild conditions. Can be advantageously used for articles such as laminate foil, transfer foil, image display screen protection plate, helmet shield and the like.

Claims (8)

反射防止膜形成用光硬化性樹脂組成物であって、以下の成分(A)および(B):
(A)下記化学式(I)及び(II)で示される構造単位を含むメタクリル系共重合体;
Figure 0004539840
(式(I)中、Xはメチル基を表す。Rは炭素数2〜10のフルオロアルキル基を表す。但し、Rの30〜100モル%が−CFHユニットを有する炭素数2〜10のフルオロアルキル基を表す。)
Figure 0004539840
(式(II)中、Xはメチル基を表す。Rは炭素数3〜10であって、一つまたは二つの加水分解可能なアルコキシシリル基を有する置換基を表す。); および
(B)光酸発生剤
を含み、
成分(A)における化学式(I)で示される構造単位の割合を(Xmol%)とし、化学式(II)で示される構造単位の割合を(Ymol%)としたときに下記式(1a)および(2a)
Figure 0004539840
の関係を満足し、成分(B)の光酸発生剤の反射防止膜形成用光硬化性樹脂組成物中の配合量が、反射防止膜形成用光硬化性樹脂組成物の固形分100質量部に対し0.1〜15質量部である、反射防止膜形成用光硬化性樹脂組成物。




A photocurable resin composition for forming an antireflection film, comprising the following components (A) and (B):
(A) a methacrylic copolymer containing structural units represented by the following chemical formulas (I) and (II);
Figure 0004539840
(In the formula (I), X is .R 1 represents methyl group represents a fluoroalkyl group having 2 to 10 carbon atoms. However, the number of carbon 30 to 100 mol% of R 1 has the -CF 2 H unit 2 Represents 10 to 10 fluoroalkyl groups.)
Figure 0004539840
(In Formula (II), X represents a methyl group. R 2 represents a substituent having 3 to 10 carbon atoms and having one or two hydrolyzable alkoxysilyl groups); and (B ) Containing a photoacid generator,
When the proportion of the structural unit represented by the chemical formula (I) in the component (A) is (X mol%) and the proportion of the structural unit represented by the chemical formula (II) is (Y mol%), the following formulas (1a) and ( 2a)
Figure 0004539840
The blending amount of the photoacid generator of component (B) in the photocurable resin composition for forming an antireflective film is 100 parts by mass of the solid content of the photocurable resin composition for forming an antireflective film The photocurable resin composition for anti-reflective film formation which is 0.1-15 mass parts with respect to this.




化学式(I)で表される構造単位が、1H,1H,5H−オクタフルオロペンチルメタクリレート由来の構造単位である請求項1記載の反射防止膜形成用光硬化性樹脂組成物。 The photocurable resin composition for forming an antireflection film according to claim 1, wherein the structural unit represented by the chemical formula (I) is a structural unit derived from 1H, 1H, 5H-octafluoropentyl methacrylate. 成分(A)において化学式(II)で表される構造単位が、γ−メタクリロイルオキシプロピルトリアルコキシシラン由来の構造単位である請求項1または2記載の反射防止膜形成用光硬化型樹脂組成物。 Component structural units in (A) represented by the chemical formula (II) is, .gamma.-methacryloyloxy propyl trialkoxysilane is a structural unit derived from claim 1 or 2 anti-reflection film forming photocurable resin composition according object. 基材上に硬化樹脂層が積層された積層体であって、該硬化樹脂層が請求項1〜3のいずれかに記載の反射防止膜形成用光硬化性樹脂組成物から形成された層を含む積層体。 A laminate in which a cured resin layer is laminated on a substrate, wherein the cured resin layer is a layer formed from the photocurable resin composition for forming an antireflection film according to any one of claims 1 to 3. Laminate containing. 基材上に硬化樹脂層が積層された積層体の製造方法であって、以下の工程(a)および(b):
(a)基材上に請求項1〜3のいずれかに記載の反射防止膜形成用光硬化性樹脂組成物の膜を形成する工程;および
(b)得られた光硬化性樹脂組成物の膜に活性エネルギー線を照射することにより硬化させ、硬化樹脂層を形成する工程
を含む製造方法。
A method for producing a laminate in which a cured resin layer is laminated on a substrate, the following steps (a) and (b):
(A) a step of forming a film of the photocurable resin composition for forming an antireflection film according to any one of claims 1 to 3 on a substrate; and (b) of the obtained photocurable resin composition. A manufacturing method comprising a step of curing a film by irradiating an active energy ray to form a cured resin layer.
離型ベースフィルムと、その上に設けられた転写層とを有する転写材において、転写層が請求項1〜3のいずれかに記載の反射防止膜形成用光硬化性樹脂組成物からなる硬化樹脂層を含むことを特徴とする転写材。 A transfer material comprising a release base film and a transfer layer provided thereon, a transfer resin comprising a photocurable resin composition for forming an antireflection film according to any one of claims 1 to 3, wherein the transfer layer is a cured resin. A transfer material comprising a layer. 離型ベースフィルムと、その上に設けられた硬化樹脂層を含む転写層とを有する転写材の製造方法において、以下の工程(a′)および(b′):
(a′)離型ベースフィルム面上に請求項1〜3のいずれかに記載の反射防止膜形成用光硬化性樹脂組成物の膜を形成する工程; および
(b′)得られた光硬化性樹脂組成物の膜に活性エネルギー線を照射することにより硬化させ、硬化樹脂層を形成する工程
を含む転写材の製造方法。
In a method for producing a transfer material having a release base film and a transfer layer including a cured resin layer provided thereon, the following steps (a ′) and (b ′):
(A ′) a step of forming a film of the photocurable resin composition for forming an antireflection film according to claim 1 on the surface of the release base film; and (b ′) the photocuring obtained. The manufacturing method of the transfer material including the process of making it harden | cure by irradiating an active energy ray to the film | membrane of a photosensitive resin composition, and forming a cured resin layer.
被転写体の表面に、請求項6記載の転写材の転写層が転写されてなることを特徴とする転写物。   A transfer product, wherein a transfer layer of the transfer material according to claim 6 is transferred onto the surface of a transfer object.
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