JP4704273B2 - Photoconductor, image forming apparatus, process cartridge, and image forming method - Google Patents

Photoconductor, image forming apparatus, process cartridge, and image forming method Download PDF

Info

Publication number
JP4704273B2
JP4704273B2 JP2006139274A JP2006139274A JP4704273B2 JP 4704273 B2 JP4704273 B2 JP 4704273B2 JP 2006139274 A JP2006139274 A JP 2006139274A JP 2006139274 A JP2006139274 A JP 2006139274A JP 4704273 B2 JP4704273 B2 JP 4704273B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
acrylic
filler
layer
photoreceptor
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2006139274A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2007310154A (en
Inventor
洪国 李
弘 生野
裕二 田中
正文 太田
知幸 島田
一清 永井
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Ricoh Co Ltd
Original Assignee
Ricoh Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Ricoh Co Ltd filed Critical Ricoh Co Ltd
Priority to JP2006139274A priority Critical patent/JP4704273B2/en
Publication of JP2007310154A publication Critical patent/JP2007310154A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP4704273B2 publication Critical patent/JP4704273B2/en
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Description

本発明は、感光体、画像形成装置、プロセスカートリッジ及び画像形成方法に関する。   The present invention relates to a photoreceptor, an image forming apparatus, a process cartridge, and an image forming method.

一般に、電子写真方法とは、光導電性の感光体をまず暗所で、例えば、コロナ放電によって帯電させ、次に像露光し、露光部のみの電荷を選択的に散逸させて静電潜像を得、この潜像部を染料、顔料等の着色剤と高分子物質等の結合剤から構成される検電微粒子(トナー)で現像し、可視化して画像を形成するようにした画像形成法の一つである。このような電子写真方法において、感光体に要求される基本的な特性としては、暗所で適当な電位に帯電できること、暗所において、電荷の散逸が少ないこと、光照射によって速やかに電荷を散逸できること等が挙げられる。   In general, an electrophotographic method is a method in which a photoconductive photosensitive member is first charged in a dark place, for example, by corona discharge, and then exposed to an image to selectively dissipate only the exposed portion of the electrostatic latent image. Image forming method in which the latent image portion is developed with electrophotographic fine particles (toner) composed of a colorant such as a dye or pigment and a binder such as a polymer substance, and visualized to form an image. one of. In such an electrophotographic method, the basic characteristics required of the photoconductor are that it can be charged to an appropriate potential in the dark, has little charge dissipation in the dark, and quickly dissipates the charge by light irradiation. What can be done.

従来、電子写真方法で使用される感光体としては、導電性支持体上に、セレン又はセレン合金を主体とする感光層を設けたもの、酸化亜鉛、硫化カドミウム等の無機系光導電材料をバインダー中に分散させたもの、ポリ(N−ビニルカルバゾール)と、トリニトロフルオレノン、アゾ顔料等の有機光導電材料を用いたもの、非晶質シリコン系材料を用いたもの等が一般に知られているが、近年では、コストの低さ、感光体の設計の自由度の高さ、低公害性等から有機系電子写真感光体が広く利用されるようになってきている。   Conventionally, as a photoconductor used in an electrophotographic method, a conductive support provided with a photosensitive layer mainly composed of selenium or a selenium alloy, an inorganic photoconductive material such as zinc oxide or cadmium sulfide as a binder. Dispersed in water, poly (N-vinylcarbazole) and organic photoconductive materials such as trinitrofluorenone and azo pigments, and those using amorphous silicon materials are generally known. However, in recent years, organic electrophotographic photoreceptors have been widely used because of low cost, high degree of freedom in designing photoreceptors, low pollution, and the like.

有機系電子写真感光体には、ポリビニルカルバゾール(PVK)に代表される光導電性樹脂型、PVK−TNF(2,4,7−トリニトロフルオレノン)に代表される電荷移動錯体型、フタロシアニン−バインダーに代表される顔料分散型、電荷発生物質と電荷輸送物質を組み合わせて用いる機能分離型の感光体等が知られており、特に、機能分離型の感光体が注目されている。   Organic electrophotographic photoreceptors include a photoconductive resin type represented by polyvinylcarbazole (PVK), a charge transfer complex type represented by PVK-TNF (2,4,7-trinitrofluorenone), and a phthalocyanine-binder. Are known, such as a pigment dispersion type, a function separation type photoreceptor using a combination of a charge generation material and a charge transport material, and the function separation type photoreceptor is attracting attention.

機能分離型の感光体における静電潜像形成のメカニズムについて、以下に説明する。感光体を帯電した後に光照射すると、光は、電荷輸送層を通過して、電荷発生層中の電荷発生物質により吸収され、光を吸収した電荷発生物質は、電荷担体を発生する。この電荷担体は、電荷輸送層に注入され、帯電によって生じている電界にしたがって電荷輸送層中を移動し、感光体の表面の電荷を中和することにより静電潜像を形成する。機能分離型の感光体においては、主に紫外部に吸収を持つ電荷輸送物質と、主に可視部に吸収を持つ電荷発生物質を組み合わせて用いることが知られており、上記の基本特性を満たすものが得られている。   The mechanism of electrostatic latent image formation in the function-separated type photoreceptor is described below. When the photoconductor is charged and then irradiated with light, the light passes through the charge transport layer and is absorbed by the charge generation material in the charge generation layer, and the charge generation material that has absorbed the light generates charge carriers. The charge carriers are injected into the charge transport layer, move in the charge transport layer according to the electric field generated by charging, and form an electrostatic latent image by neutralizing the charge on the surface of the photoreceptor. In the functionally separated type photoreceptor, it is known to use a combination of a charge transport material having absorption mainly in the ultraviolet region and a charge generating material having absorption mainly in the visible region, and satisfy the above basic characteristics. Things have been obtained.

近年、電子写真プロセスの高速化、小型化が進む中、感光体に対して、上記の基本特性以外に、長期間の繰り返しの使用に際しても高画質を保つことのできる信頼性及び高耐久性が強く要求されるようになっている。   In recent years, as the speed and size of the electrophotographic process has been increased, in addition to the basic characteristics described above, the photoconductor has reliability and durability that can maintain high image quality even when used for a long period of time. It is strongly demanded.

感光体は、電子写真プロセスにおいて、様々な機械的、化学的負荷を受けている。このような負荷により、感光体は、摩耗し、膜厚の減少による異常画像が発生する。感光体の耐久性を向上させる手段として、感光体にフィラーを添加する技術、感光層の表面にフィラーを分散させた表面保護層を設ける技術が、特許文献1〜5に開示されている。   The photoreceptor is subjected to various mechanical and chemical loads in the electrophotographic process. Due to such a load, the photoreceptor is worn and an abnormal image is generated due to a decrease in film thickness. As means for improving the durability of the photoconductor, Patent Documents 1 to 5 disclose a technique for adding a filler to the photoconductor and a technique for providing a surface protective layer in which a filler is dispersed on the surface of the photosensitive layer.

フィラーを含有する感光体において、高耐久化、高画質化、高安定化のためには、フィラーの分散状態が非常に重要である。   In a photoreceptor containing a filler, the dispersion state of the filler is very important for high durability, high image quality, and high stability.

膜中にフィラーが不均一な状態又はフィラー凝集体が存在した場合、膜の透明性が低下し、フィラーによって書き込み光が散乱され、電荷発生が不均一になり、画像特性が低下する。さらに、このような状態では、感光層中で発生した電荷が感光体の表面に輸送される際にも、フィラーにより電荷輸送が妨げられ、感光体の表面で電位ムラが発生し、画像特性が低下する。また、感光体の表面にフィラー凝集体が存在する場合、クリーニング不良、クリーニングブレードの欠損等の問題も発生する。   When the filler is in a non-uniform state or filler aggregate is present in the film, the transparency of the film is lowered, writing light is scattered by the filler, charge generation is non-uniform, and image characteristics are deteriorated. Further, in such a state, even when the charges generated in the photosensitive layer are transported to the surface of the photoreceptor, the charge transport is hindered by the filler, potential unevenness occurs on the surface of the photoreceptor, and image characteristics are deteriorated. descend. Further, when filler aggregates are present on the surface of the photoreceptor, problems such as poor cleaning and missing cleaning blades also occur.

これらの問題は、フィラーの凝集を低減した分散性の高い塗工液を調製することにより解消される。さらに、塗工液は、フィラーの分散安定性を高くすることが重要である。フィラーの分散安定性が低い塗工液は、長期間の保存に問題があるだけではなく、製膜途中においても、フィラーが沈降し、安定した感光体の作製が不可能となる。   These problems can be solved by preparing a highly dispersible coating liquid with reduced filler aggregation. Furthermore, it is important for the coating liquid to increase the dispersion stability of the filler. A coating solution having a low dispersion stability of the filler not only has a problem in storage for a long period of time, but also during the film formation, the filler settles out, making it impossible to produce a stable photoreceptor.

膜中のフィラーの分散及び凝集状態、塗工液の分散安定性を改善する手法として、塗工液中に分散剤を添加する技術が、特許文献6、7に開示されている。   Patent Documents 6 and 7 disclose techniques for adding a dispersant to the coating liquid as a technique for improving the dispersion and aggregation state of the filler in the film and the dispersion stability of the coating liquid.

これらの分散剤は、極性を有するフィラーの表面を修飾し、塗工液中における溶媒や樹脂に対する分散性が向上し、分散性及び分散安定性が向上する。そして、これらの分散剤を含有する塗工液を用いて作製された感光体は、膜中でフィラーが均一に分散され、耐摩耗性及び画像特性が向上する。   These dispersants modify the surface of the polar filler, improve dispersibility of the coating liquid in a solvent or resin, and improve dispersibility and dispersion stability. And the photoreceptor produced using the coating liquid containing these dispersing agents disperse | distributes a filler uniformly in a film | membrane, and abrasion resistance and an image characteristic improve.

また、特許文献8には、フィラーの表面に電荷輸送部分が連結基でグラフト結合され、優れた耐摩耗性を有する画像形成部材が得られることが開示されている。しかしながら、電荷輸送部分及びフィラー部分に連結基又は固着基を導入し反応させるため、材料の多様性への対応に難点がある。   Patent Document 8 discloses that an image forming member having excellent wear resistance can be obtained by graft-bonding a charge transporting portion with a linking group on the surface of a filler. However, since a linking group or a fixing group is introduced and reacted in the charge transport portion and the filler portion, there is a difficulty in dealing with the diversity of materials.

さらに、感光体の表面自由エネルギーを下げるため、フィラーを含有する膜中にアクリル変性ポリオルガノシロキサンを加える技術が特許文献9〜12に開示されている。アクリル変性ポリオルガノシロキサンを添加することにより、感光体の表面の自由エネルギーが下がり、クリーニング性が改善される。しかしながら、フィラーとアクリル変性ポリオルガノシロキサンの極性差が大きいので、フィラーの分散安定性に課題が残っている。   Further, Patent Documents 9 to 12 disclose techniques for adding an acrylic-modified polyorganosiloxane to a film containing a filler in order to reduce the surface free energy of the photoreceptor. By adding the acryl-modified polyorganosiloxane, the free energy on the surface of the photoreceptor is lowered and the cleaning property is improved. However, since the polarity difference between the filler and the acrylic-modified polyorganosiloxane is large, a problem remains in the dispersion stability of the filler.

このように、感光体の表面にアクリル変性ポリオルガノシロキサンとフィラーを含有させることにより、感光体の高耐久化が図られているが、アモルファスシリコン感光体に比べて、機械的耐久性と画質安定性が低い。今後更なるカラー化、高速化、小型化が進むことから、有機系電子写真感光体の高耐久化が望まれている。
特開平1−205171号公報 特開平7−333881号公報 特開平8−15887号公報 特開平8−123053号公報 特開平8−146641号公報 特開2003−149849号公報 特開2002−268257号公報 特開2006−63341号公報 特開2005−08445号公報 特開2004−184906号公報 特開2003−98714号公報 特開2003−202686号公報
As described above, by including acrylic modified polyorganosiloxane and filler on the surface of the photoreceptor, the durability of the photoreceptor is improved. However, mechanical durability and image quality stability are improved compared to the amorphous silicon photoreceptor. The nature is low. Since further colorization, high speed, and miniaturization will progress in the future, it is desired that the organic electrophotographic photoreceptor be highly durable.
JP-A-1-205171 Japanese Patent Laid-Open No. 7-333881 Japanese Patent Laid-Open No. 8-15887 JP-A-8-123053 Japanese Patent Laid-Open No. 8-146664 JP 2003-149849 A JP 2002-268257 A JP 2006-63341 A Japanese Patent Laid-Open No. 2005-08445 JP 2004-184906 A JP 2003-98714 A JP 2003-202686 A

本発明は、上記の従来技術が有する問題に鑑み、機械的耐久性、電気安定性及び画像安定性に優れる感光体、該感光体を有する画像形成装置及びプロセスカートリッジ並びに該感光体を用いる画像形成方法を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of the above-described problems of the prior art, and provides a photoconductor excellent in mechanical durability, electrical stability and image stability, an image forming apparatus and a process cartridge having the photoconductor, and image formation using the photoconductor. It aims to provide a method.

請求項1に記載の発明は、導電性支持体上に少なくとも感光層を有する感光体において、該感光層は、アクリル変性ポリオルガノシロキサンと、ポリカーボネート樹脂又はポリアリレート樹脂に極性基を有するモノマーをグラフト重合することにより得られるグラフト共重合体と、フィラーを含有することを特徴とする。   According to the first aspect of the present invention, there is provided a photosensitive member having at least a photosensitive layer on a conductive support, wherein the photosensitive layer is grafted with an acrylic-modified polyorganosiloxane and a monomer having a polar group on a polycarbonate resin or a polyarylate resin. It contains a graft copolymer obtained by polymerization and a filler.

請求項2に記載の発明は、請求項1に記載の感光体において、前記感光層は、電荷発生層及び電荷輸送層が積層されており、該電荷輸送層は、前記アクリル変性ポリオルガノシロキサンと、グラフト共重合体と、フィラーを含有することを特徴とする。   According to a second aspect of the present invention, there is provided the photosensitive member according to the first aspect, wherein the photosensitive layer includes a charge generation layer and a charge transport layer, and the charge transport layer includes the acrylic-modified polyorganosiloxane. And a graft copolymer and a filler.

請求項3に記載の発明は、感光体において、導電性支持体上に少なくとも感光層及び保護層が積層されている感光体において、該保護層は、アクリル変性ポリオルガノシロキサンと、ポリカーボネート樹脂又はポリアリレート樹脂に極性基を有するモノマーをグラフト重合することにより得られるグラフト共重合体と、フィラーを含有することを特徴とする。   According to a third aspect of the present invention, in the photoconductor in which at least a photoconductive layer and a protective layer are laminated on a conductive support, the protective layer comprises an acrylic-modified polyorganosiloxane and a polycarbonate resin or poly It contains a graft copolymer obtained by graft polymerization of a monomer having a polar group to an arylate resin and a filler.

請求項4に記載の発明は、請求項3に記載の感光体において、前記感光層は、電荷発生層及び電荷輸送層が積層されていることを特徴とする。   According to a fourth aspect of the present invention, there is provided the photosensitive member according to the third aspect, wherein the photosensitive layer is formed by laminating a charge generation layer and a charge transport layer.

請求項5に記載の発明は、請求項3又は4に記載の感光体において、前記保護層は、電荷輸送物質をさらに含有することを特徴とする。   According to a fifth aspect of the present invention, in the photoreceptor according to the third or fourth aspect, the protective layer further contains a charge transport material.

請求項6に記載の発明は、請求項1乃至5のいずれか一項に記載の感光体において、前記アクリル変性ポリオルガノシロキサンは、ポリオルガノシロキサンにアクリル重合体がグラフトされていることを特徴とする。   The invention according to claim 6 is the photoreceptor according to any one of claims 1 to 5, wherein the acrylic modified polyorganosiloxane is obtained by grafting an acrylic polymer to the polyorganosiloxane. To do.

請求項7に記載の発明は、請求項6に記載の感光体において、前記アクリル変性ポリオルガノシロキサンは、一般式   According to a seventh aspect of the present invention, in the photoreceptor according to the sixth aspect, the acrylic-modified polyorganosiloxane has a general formula.

Figure 0004704273
[式中、R、R及びRは、それぞれ独立に、炭素数が1以上20以下の炭化水素基又はハロゲン化炭化水素基であり、Yは、ラジカル重合性官能基又はメルカプト基若しくはラジカル重合性官能基及びメルカプト基を有する有機基であり、Z及びZは、それぞれ独立に、水素原子、低級アルキル基又は一般式
Figure 0004704273
[Wherein R 1 , R 2 and R 3 are each independently a hydrocarbon group or halogenated hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, and Y is a radical polymerizable functional group or a mercapto group or It is an organic group having a radical polymerizable functional group and a mercapto group, and Z 1 and Z 2 are each independently a hydrogen atom, a lower alkyl group or a general formula

Figure 0004704273
(式中、R及びRは、それぞれ独立に、炭素数が1以上20以下の炭化水素基又はハロゲン化炭化水素基であり、Rは、炭素数が1以上20以下の炭化水素基若しくはハロゲン化炭化水素基、ラジカル重合性官能基又はメルカプト基若しくはラジカル重合性官能基及びメルカプト基を有する有機基である。)
で表される官能基であり、mは、1以上10000以下の整数であり、nは、1以上の整数である。]
で表されるポリオルガノシロキサンに、一般式
Figure 0004704273
(In the formula, R 4 and R 5 are each independently a hydrocarbon group or halogenated hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, and R 6 is a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms. Or a halogenated hydrocarbon group, a radical polymerizable functional group, or a mercapto group or an organic group having a radical polymerizable functional group and a mercapto group.)
M is an integer of 1 or more and 10,000 or less, and n is an integer of 1 or more. ]
The polyorganosiloxane represented by the general formula

Figure 0004704273
(式中、Rは、水素原子又はメチル基であり、Rは、アルキル基、アルコキシ基で置換されたアルキル基、シクロアルキル基又はアリール基である。)
で表わされるアクリルモノマー70重量%以上100重量%以下と、該アクリルモノマーと共重合することが可能なモノマー0重量%以上30重量%以下の混合物を乳化グラフト重合することにより得られ、該混合物に対する該ポリオルガノシロキサンの重量比は、5/95以上95/5以下であることを特徴とする。
Figure 0004704273
(In the formula, R 7 is a hydrogen atom or a methyl group, and R 8 is an alkyl group, an alkyl group substituted with an alkoxy group, a cycloalkyl group, or an aryl group.)
Obtained by emulsion graft polymerization of a mixture of 70% by weight to 100% by weight of an acrylic monomer represented by the formula (1) and 0% by weight to 30% by weight of a monomer copolymerizable with the acrylic monomer. The weight ratio of the polyorganosiloxane is 5/95 or more and 95/5 or less.

請求項8に記載の発明は、請求項1乃至7のいずれか一項に記載の感光体において、前記フィラーは、無機フィラーであることを特徴とする。   According to an eighth aspect of the present invention, in the photoreceptor according to any one of the first to seventh aspects, the filler is an inorganic filler.

請求項9に記載の発明は、請求項8に記載の感光体において、前記無機フィラーは、金属酸化物であることを特徴とする。   The invention according to claim 9 is the photoreceptor according to claim 8, wherein the inorganic filler is a metal oxide.

請求項10に記載の発明は、請求項9に記載の感光体において、前記金属酸化物は、酸化ケイ素、酸化チタン及び酸化アルミニウムの少なくとも一つを含有することを特徴とする。   According to a tenth aspect of the present invention, in the photoreceptor according to the ninth aspect, the metal oxide contains at least one of silicon oxide, titanium oxide, and aluminum oxide.

請求項11に記載の発明は、画像形成装置において、請求項1乃至10のいずれか一項に記載の感光体を少なくとも有することを特徴とする。   According to an eleventh aspect of the present invention, an image forming apparatus includes at least the photoconductor according to any one of the first to tenth aspects.

請求項12に記載の発明は、プロセスカートリッジにおいて、請求項1乃至10のいずれか一項に記載の感光体を少なくとも有することを特徴とする。   According to a twelfth aspect of the present invention, a process cartridge includes at least the photosensitive member according to any one of the first to tenth aspects.

請求項13に記載の発明は、画像形成方法において、請求項1乃至10のいずれか一項に記載の感光体を用いて画像を形成することを特徴とする。   According to a thirteenth aspect of the present invention, in the image forming method, an image is formed using the photoconductor according to any one of the first to tenth aspects.

本発明によれば、機械的耐久性、電気安定性及び画像安定性に優れる感光体、該感光体を有する画像形成装置及びプロセスカートリッジ並びに該感光体を用いる画像形成方法を提供することができる。   According to the present invention, it is possible to provide a photoconductor excellent in mechanical durability, electrical stability and image stability, an image forming apparatus and a process cartridge having the photoconductor, and an image forming method using the photoconductor.

次に、本発明を実施するための最良の形態を説明する。   Next, the best mode for carrying out the present invention will be described.

本発明の感光体の第一の実施形態は、導電性支持体上に少なくとも感光層を有し、感光層は、アクリル変性ポリオルガノシロキサンと、ポリカーボネート樹脂又はポリアリレート樹脂に極性基を有するモノマーをグラフト重合することにより得られるグラフト共重合体と、フィラーを含有する。また、本発明の感光体の第二の実施形態は、導電性支持体上に少なくとも感光層と保護層が積層されており、保護層は、アクリル変性ポリオルガノシロキサンと、ポリカーボネート樹脂又はポリアリレート樹脂に極性基を有するモノマーをグラフト重合することにより得られるグラフト共重合体と、フィラーを含有する。本発明において、ポリカーボネート樹脂及びポリアリレート樹脂とは、それぞれポリカーボネート骨格及びポリアリレート骨格を有する樹脂を意味し、これらの構造を有する共重合体も含まれる。   The first embodiment of the photoreceptor of the present invention has at least a photosensitive layer on a conductive support, and the photosensitive layer includes an acrylic-modified polyorganosiloxane and a monomer having a polar group in a polycarbonate resin or a polyarylate resin. It contains a graft copolymer obtained by graft polymerization and a filler. In the second embodiment of the photoreceptor of the present invention, at least a photosensitive layer and a protective layer are laminated on a conductive support, and the protective layer comprises an acrylic-modified polyorganosiloxane and a polycarbonate resin or a polyarylate resin. Contains a graft copolymer obtained by graft polymerization of a monomer having a polar group, and a filler. In the present invention, the polycarbonate resin and the polyarylate resin mean a resin having a polycarbonate skeleton and a polyarylate skeleton, respectively, and copolymers having these structures are also included.

このような感光体を用いることにより、機械的耐久性、電気安定性及び画像安定性の全てが良好な画像形成装置を提供することができる。   By using such a photoconductor, it is possible to provide an image forming apparatus having excellent mechanical durability, electrical stability, and image stability.

本発明においては、感光層又は保護層は、機械的強度が高いフィラーと、表面自由エネルギーが低いアクリル変性ポリオルガノシロキサンを含有するが、一般に、アクリル変性ポリオルガノシロキサンは、非極性であり、フィラーは、極性を有するため、感光層又は保護層において、結着樹脂(ポリカーボネート、ポリアリレート等)と混合すると、フィラーの激しい凝集が発生し、平滑な膜が得られない。そこで、結着樹脂に、フィラーに対する親和性が高い極性基を有するモノマーをグラフト重合することにより、フィラーと結着樹脂の親和性を向上させることができる。   In the present invention, the photosensitive layer or the protective layer contains a filler having a high mechanical strength and an acrylic-modified polyorganosiloxane having a low surface free energy. Generally, an acrylic-modified polyorganosiloxane is non-polar and has a filler. Has a polarity, and when it is mixed with a binder resin (polycarbonate, polyarylate, etc.) in the photosensitive layer or protective layer, severe aggregation of the filler occurs and a smooth film cannot be obtained. Therefore, the affinity between the filler and the binder resin can be improved by graft-polymerizing the binder resin with a monomer having a polar group having a high affinity for the filler.

本発明において、結着樹脂(ポリカーボネート樹脂又はポリアリレート樹脂)に極性基を有するモノマーをグラフト重合することにより得られるグラフト共重合体は、極性部位及び非極性部位を有するので、図1に示すように、感光層(又は保護層)10に、フィラー11、グラフト共重合体12、アクリル変性ポリオルガノシロキサン13及び結着樹脂14を添加すると、フィラー11の表面がグラフト共重合体12に緊密に包まれることにより、アクリル変性ポリオルガノシロキサン13との接触を避けることができる。これにより、フィラー11の凝集を抑制し、結着樹脂14中に均一に分散させることができる。その結果、フィラーを感光層(又は保護層)に添加する場合に発生する感光体のクリーニング不良と異常画像、アクリル変性ポリオルガノシロキサンを感光層(又は保護層)に添加する場合に発生する感光体の機械的強度の不足を解決し、機械的耐久性に優れると共に、電気安定性と画像安定性に優れる感光体が得られる。   In the present invention, the graft copolymer obtained by graft polymerization of a monomer having a polar group to a binder resin (polycarbonate resin or polyarylate resin) has a polar site and a nonpolar site, and therefore, as shown in FIG. In addition, when the filler 11, the graft copolymer 12, the acrylic modified polyorganosiloxane 13 and the binder resin 14 are added to the photosensitive layer (or protective layer) 10, the surface of the filler 11 is tightly wrapped in the graft copolymer 12. As a result, contact with the acrylic-modified polyorganosiloxane 13 can be avoided. Thereby, aggregation of the filler 11 can be suppressed and dispersed uniformly in the binder resin 14. As a result, photoconductor cleaning defects and abnormal images that occur when filler is added to the photosensitive layer (or protective layer), and photoconductor that occurs when acrylic modified polyorganosiloxane is added to the photosensitive layer (or protective layer). Thus, it is possible to obtain a photoconductor that solves the shortage of mechanical strength and is excellent in mechanical durability and electrical stability and image stability.

本発明において、アクリル変性ポリオルガノシロキサンは、特に制限はないが、ポリカーボネート、ポリアリレート等の結着樹脂に対する相溶性の観点から、ポリオルガノシロキサンにアクリル重合体がグラフトされていることが好ましい。   In the present invention, the acrylic-modified polyorganosiloxane is not particularly limited, but it is preferable that an acrylic polymer is grafted to the polyorganosiloxane from the viewpoint of compatibility with a binder resin such as polycarbonate and polyarylate.

また、フィラーは、特に制限はなく、有機フィラー及び無機フィラーのいずれであってもよいが、機械的強度の観点から、無機フィラーが好ましい。   Moreover, there is no restriction | limiting in particular in a filler, Although any of an organic filler and an inorganic filler may be sufficient, an inorganic filler is preferable from a viewpoint of mechanical strength.

次に、フィラーを含有する感光層又は保護層の摩耗メカニズムを説明する(図2参照)。電子写真プロセスにおいて、感光層(又は保護層)10は、クリーニング部で機械的負荷を受ける。クリーニング部では、トナー15やクリーニングブレード、クリーニングブラシが感光層(又は保護層)10に接触し、機械的強度が低い部分から徐々に摩耗する。感光層(又は保護層)10がフィラー11とアクリル変性ポリオルガノシロキサン13を含有する場合は、選択的にアクリル変性ポリオルガノシロキサン13と結着樹脂14から摩耗する。図2のAでは、感光層(又は保護層)10の表面にフィラー11が存在せず、アクリル変性ポリオルガノシロキサン13と結着樹脂14が摩耗すると同時に、粒子状の柔らかいアクリル変性ポリオルガノシロキサン13が感光層(又は保護層)10の表面で展ばされ、感光層(又は保護層)10の表面自由エネルギーが低下する。図2のBでは、アクリル変性ポリオルガノシロキサン13と結着樹脂14に比べて高硬度のフィラー11は、摩耗せず、フィラー11の周辺のアクリル変性ポリオルガノシロキサン13と結着樹脂14が摩耗する。しかし、フィラー11が立体障害となり、アクリル変性ポリオルガノシロキサン13と結着樹脂14の摩耗速度は、減少する。図2のCでは、フィラー11が突出し、フィラー11の周辺の結着樹脂14が徐々に摩耗され、フィラー11と結着樹脂14の接触面積が減少して、フィラー11と結着樹脂14の付着力が低下し、フィラー11が離脱する。このようなA、B及びCの過程を繰り返すことにより、感光層(又は保護層)10は、表面自由エネルギーを低く保ちながら膜厚が減少する。   Next, the wear mechanism of the photosensitive layer or protective layer containing the filler will be described (see FIG. 2). In the electrophotographic process, the photosensitive layer (or protective layer) 10 is subjected to a mechanical load at the cleaning unit. In the cleaning unit, the toner 15, the cleaning blade, and the cleaning brush come into contact with the photosensitive layer (or protective layer) 10 and gradually wear away from a portion having low mechanical strength. When the photosensitive layer (or protective layer) 10 contains the filler 11 and the acryl-modified polyorganosiloxane 13, it selectively wears from the acryl-modified polyorganosiloxane 13 and the binder resin 14. In FIG. 2A, the filler 11 does not exist on the surface of the photosensitive layer (or protective layer) 10, the acrylic modified polyorganosiloxane 13 and the binder resin 14 are worn, and at the same time, the soft acrylic modified polyorganosiloxane 13 in the form of particles. Is spread on the surface of the photosensitive layer (or protective layer) 10, and the surface free energy of the photosensitive layer (or protective layer) 10 decreases. In FIG. 2B, the filler 11 having a higher hardness than the acrylic modified polyorganosiloxane 13 and the binder resin 14 does not wear, and the acrylic modified polyorganosiloxane 13 and the binder resin 14 around the filler 11 wear. . However, the filler 11 becomes a steric hindrance, and the wear rate of the acrylic modified polyorganosiloxane 13 and the binder resin 14 decreases. In FIG. 2C, the filler 11 protrudes, the binder resin 14 around the filler 11 is gradually worn, the contact area between the filler 11 and the binder resin 14 decreases, and the filler 11 and the binder resin 14 are attached. Adhesive force decreases and the filler 11 is detached. By repeating the processes of A, B and C, the photosensitive layer (or protective layer) 10 is reduced in film thickness while keeping the surface free energy low.

ここで、感光層又は保護層の表面自由エネルギーは、アクリル変性ポリオルガノシロキサンの組成及び添加量により変化する。アクリル変性ポリオルガノシロキサンは、ポリオルガノシロキサン部で滑り性や低表面エネルギー化による異物除去性を発現するが、アクリル変性ポリオルガノシロキサンは、長いポリジメチルシロキサン鎖を有することが好ましい。このとき、通常のシリコーンオイルやシリコーン樹脂を用いると、膜中に均一に分散されなかったり、表面に偏析して、プロセス運転時に離脱し、膜中からの供給が行われなかったりして、滑り性や異物除去性の持続ができない。また、アクリル変性ポリオルガノシロキサンは、アクリル重合体部を有するが、結着樹脂との相溶性を向上させるためには、アクリル重合体部がある程度均一に分布することから、ポリオルガノシロキサンにアクリル重合体がグラフトされていることが好ましい。本発明において、アクリル変性ポリオルガノシロキサンは、結着樹脂との相溶性が良好であるため、結着樹脂との接着性が増加し、容易に離脱せず、長期間に亘って効果を発現することができる。また、アクリル変性ポリオルガノシロキサンは、粒子状に分布すると、結着樹脂中に均一に分布する場合と比較して、自由エネルギーが低い特性をより発揮しやすいので、感光層又は保護層の表面は、持続的に自由エネルギーが低い状態を保持することができると考えられる。   Here, the surface free energy of the photosensitive layer or the protective layer varies depending on the composition and the addition amount of the acrylic-modified polyorganosiloxane. The acrylic-modified polyorganosiloxane exhibits slipperiness and removal of foreign matters by reducing the surface energy at the polyorganosiloxane portion, but the acrylic-modified polyorganosiloxane preferably has a long polydimethylsiloxane chain. At this time, if normal silicone oil or silicone resin is used, it will not be uniformly dispersed in the film, or it will segregate on the surface and will be detached during the process operation, and supply from the film will not be performed, causing slippage. And the ability to remove foreign substances cannot be maintained. In addition, the acrylic-modified polyorganosiloxane has an acrylic polymer part, but in order to improve the compatibility with the binder resin, the acrylic polymer part is distributed to some extent uniformly. The coalescence is preferably grafted. In the present invention, the acrylic-modified polyorganosiloxane has good compatibility with the binder resin, so that the adhesiveness with the binder resin increases, does not easily disengage, and exhibits an effect over a long period of time. be able to. In addition, when the acrylic-modified polyorganosiloxane is distributed in the form of particles, the surface of the photosensitive layer or the protective layer is more easily exhibited than the case where it is uniformly distributed in the binder resin, since it has a lower free energy characteristic. It is considered that the free energy can be kept low continuously.

ここで、感光層又は保護層の摩耗量は、結着樹脂の機械的強度、フィラーの機械的強度、フィラー量、フィラー径等により、変化する。また、図2のCにおいて、フィラーと結着樹脂の付着力が感光層又は保護層の摩耗に大きく寄与し、フィラーと結着樹脂の親和性を向上させることにより、耐摩耗性が向上する。また、フィラーと結着樹脂の親和性が高くなれば、塗工液中でのフィラーの分散性も向上し、塗工液のフィラー分散安定性や実際にその塗工液を用いて作製した感光層又は保護層中のフィラーの分散性が向上する。   Here, the wear amount of the photosensitive layer or the protective layer varies depending on the mechanical strength of the binder resin, the mechanical strength of the filler, the filler amount, the filler diameter, and the like. In FIG. 2C, the adhesive force between the filler and the binder resin greatly contributes to the abrasion of the photosensitive layer or the protective layer, and the wear resistance is improved by improving the affinity between the filler and the binder resin. In addition, if the affinity between the filler and the binder resin is increased, the dispersibility of the filler in the coating solution is also improved, and the filler dispersion stability of the coating solution and the photosensitive material actually produced using the coating solution are also improved. Dispersibility of the filler in the layer or protective layer is improved.

従来、感光層又は保護層には、ポリメタクリル酸メチル、ポリスチレン、ポリオレフィン等のビニル重合体又はその共重合体、ポリカーボネート樹脂、ポリアリレート(ポリエステル)樹脂、フェノキシ樹脂、エポキシ樹脂、シリコーン樹脂等の熱可塑性樹脂又は熱硬化性樹脂等が用いられている。中でも、感光体としての製造上の特性、機械的強度、特に耐摩耗性が優れていることから、ポリカーボネート樹脂又はポリアリレート樹脂が好ましいが、本発明においては、ポリカーボネート樹脂又はポリアリレート樹脂に極性基を有するモノマーをグラフト重合することにより、フィラーと樹脂の親和性を高くして、フィラーの分散性を向上させることができる。その結果、感光層又は保護層の機械的強度を向上させることができる。   Conventionally, the photosensitive layer or the protective layer is made of a heat-sensitive material such as polymethyl methacrylate, polystyrene, or a vinyl polymer such as polyolefin, or a copolymer thereof, polycarbonate resin, polyarylate (polyester) resin, phenoxy resin, epoxy resin, or silicone resin. A plastic resin or a thermosetting resin is used. Among them, a polycarbonate resin or a polyarylate resin is preferable because of excellent manufacturing characteristics, mechanical strength, and particularly abrasion resistance as a photoreceptor. In the present invention, a polar group is added to the polycarbonate resin or the polyarylate resin. By graft polymerization of a monomer having, the affinity between the filler and the resin can be increased and the dispersibility of the filler can be improved. As a result, the mechanical strength of the photosensitive layer or the protective layer can be improved.

次に、本発明で用いられるポリカーボネート樹脂又はポリアリレート樹脂に極性基を有するモノマーをグラフト重合することにより得られるグラフト共重合体について説明する。   Next, a graft copolymer obtained by graft polymerization of a monomer having a polar group to the polycarbonate resin or polyarylate resin used in the present invention will be described.

本発明において、グラフト重合は、ポリカーボネート樹脂又はポリアリレート樹脂からの水素引き抜き反応を伴うものであり、通常、酸素ラジカル、電子線照射、芳香族ケトンへの光照射等を用いることができる。これらの中で、簡便であり、感光体に用いるのに適しているのは、酸素ラジカルを用いる方法である。酸素ラジカルは、過酸化物の分解により発生し、過酸化物としては、ジアシルパーオキサイド、パーオキシエステル、ハイドロパーオキサイド類を用いることができる。   In the present invention, the graft polymerization is accompanied by a hydrogen abstraction reaction from a polycarbonate resin or a polyarylate resin, and usually oxygen radicals, electron beam irradiation, light irradiation to an aromatic ketone, or the like can be used. Among these, the method using oxygen radicals is convenient and suitable for use in the photoreceptor. Oxygen radicals are generated by the decomposition of peroxides, and as the peroxides, diacyl peroxides, peroxyesters, and hydroperoxides can be used.

また、グラフト重合に用いられる極性基を有するモノマーとしては、極性基を有するビニルモノマーが好ましい。具体的には、アクリル酸及びそのエステル類、メタクリル酸及びそのエステル類、イタコン酸及びそのエステル類、無水イタコン酸、アクリロニトリル、アクリルアミド、ビニルピリジン、ビニルピロリドン、ビニルピラジン、ビニルイミダゾール、ビニル安息香酸及びそのエステル類、ビニルベンジルクロライド等が挙げられる。これらのモノマーは、単独で重合させてもよいし、二種以上混合して用いて共重合させてもよい。さらに、共重合させる場合には、スチレン、ビニルトルエン等の極性基を有さないモノマーを用いてもよい。   Moreover, as a monomer which has a polar group used for graft polymerization, the vinyl monomer which has a polar group is preferable. Specifically, acrylic acid and its esters, methacrylic acid and its esters, itaconic acid and its esters, itaconic anhydride, acrylonitrile, acrylamide, vinyl pyridine, vinyl pyrrolidone, vinyl pyrazine, vinyl imidazole, vinyl benzoic acid and Examples thereof include vinyl esters and vinyl benzyl chloride. These monomers may be polymerized alone or in combination of two or more. Further, in the case of copolymerization, a monomer having no polar group such as styrene or vinyl toluene may be used.

極性基を有するビニルモノマーのグラフト量については、ポリカーボネート構造又はポリアリレート構造100〜2000ユニット当たり、1ユニットがグラフトされていることが好ましい。グラフト量が上記範囲より大きいと、感光体の静電特性に影響を与え、酸性モノマーの場合、帯電性低下、また、塩基性モノマーの場合、残留電位上昇が問題となることがある。また、グラフト量が上記範囲より小さいと、フィラーの分散性に対する効果が小さくなることがある。   About the graft amount of the vinyl monomer which has a polar group, it is preferable that 1 unit is grafted per 100-2000 units of a polycarbonate structure or a polyarylate structure. If the amount of grafting is larger than the above range, the electrostatic characteristics of the photoreceptor are affected, and in the case of an acidic monomer, the chargeability may be lowered, and in the case of a basic monomer, the residual potential may be increased. When the graft amount is smaller than the above range, the effect on the dispersibility of the filler may be reduced.

水素引き抜き反応としては、フェニル核上、フェニル核の置換基、アルキル基等の水素を引き抜く反応が挙げられる。中でも、反応のしやすさから、アルキル基の水素を引き抜く反応が好ましい。   Examples of the hydrogen abstraction reaction include a reaction of abstracting hydrogen such as a substituent of the phenyl nucleus and an alkyl group on the phenyl nucleus. Among these, a reaction in which hydrogen of the alkyl group is withdrawn is preferable because of easy reaction.

以上のことから、ポリカーボネート樹脂又はポリアリレート樹脂は、一般式(1)
HO−X−OH
[式中、Xは、一般式
From the above, the polycarbonate resin or polyarylate resin has the general formula (1)
HO-X-OH
[Wherein X is a general formula

Figure 0004704273
{式中、R101、R102、R103及びR104は、それぞれ独立に、ハロゲン基、炭素数1〜6の無置換若しくは置換のアルキル基又は無置換若しくは置換のアリール基であり、R101、R102、R103及びR104がそれぞれ複数個存在するときは、同一であっても異なっていてもよく、o及びpは、それぞれ独立に、0〜4の整数であり、q及びrは、それぞれ独立に、0〜3の整数であり、Yは、単結合、炭素数2〜4の直鎖状のアルキレン基、オキシ基、チオ基、一般式
Figure 0004704273
{Wherein, R 101, R 102, R 103 and R 104 each independently a halogen group, an unsubstituted or substituted alkyl group or an unsubstituted or substituted aryl group having 1 to 6 carbon atoms, R 101 , R 102 , R 103 and R 104 may be the same or different, and o and p are each independently an integer of 0 to 4, q and r are Each independently represents an integer of 0 to 3, and Y represents a single bond, a linear alkylene group having 2 to 4 carbon atoms, an oxy group, a thio group, or a general formula.

Figure 0004704273
(式中、R105は、ハロゲン基、炭素数1〜6の無置換若しくは置換のアルキル基、炭素数1〜6の無置換若しくは置換のアルコキシ基又は無置換若しくは置換のアリール基であり、sは、0〜4の整数であり、tは、1〜3の整数である。)
で表される2価基、一般式
Figure 0004704273
(Wherein R 105 represents a halogen group, an unsubstituted or substituted alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an unsubstituted or substituted alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, or an unsubstituted or substituted aryl group; Is an integer from 0 to 4, and t is an integer from 1 to 3.)
A divalent group represented by the general formula

Figure 0004704273
(式中、R106及びR107は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン基、炭素数1〜6の無置換若しくは置換のアルキル基、炭素数1〜6の無置換若しくは置換のアルコキシ基又は無置換若しくは置換のアリール基であり、R106及びR107が結合して炭素数5〜12の炭素環を形成していてもよい。)
で表される2価基、一般式
Figure 0004704273
(Wherein R 106 and R 107 are each independently a hydrogen atom, a halogen group, an unsubstituted or substituted alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an unsubstituted or substituted alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, or (It is a substituted or substituted aryl group, and R 106 and R 107 may combine to form a carbocyclic ring having 5 to 12 carbon atoms.)
A divalent group represented by the general formula

Figure 0004704273
(式中、R108、R109、R110及びR111は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン基、炭素数1〜6の無置換若しくは置換のアルキル基、炭素数1〜6の無置換若しくは置換のアルコキシ基又は無置換若しくは置換のアリール基である。)
で表される2価基又は構造式
Figure 0004704273
Wherein R 108 , R 109 , R 110 and R 111 are each independently a hydrogen atom, a halogen group, an unsubstituted or substituted alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an unsubstituted or substituted group having 1 to 6 carbon atoms, A substituted alkoxy group or an unsubstituted or substituted aryl group.)
A divalent group or a structural formula

Figure 0004704273
で表される2価基である。}
で表される2価基である。]
で表されるアルキル基を有するビフェノール化合物又はビスフェノール化合物を用いて合成されていることが好ましい。
Figure 0004704273
It is a bivalent group represented by these. }
It is a bivalent group represented by these. ]
It is preferable to synthesize | combine using the biphenol compound or bisphenol compound which has the alkyl group represented by these.

101、R102、R103及びR104において、ハロゲン基としては、フルオロ基、クロロ基、ブロモ基、ヨード基が挙げられる。 In R 101 , R 102 , R 103 and R 104 , examples of the halogen group include a fluoro group, a chloro group, a bromo group, and an iodo group.

炭素数1〜6のアルキル基としては、直鎖、分岐鎖又は環状のアルキル基が挙げられ、炭素数1〜6のアルキル基の置換基としては、フルオロ基、シアノ基、フェニル基又はハロゲン基若しくは炭素数1〜6の直鎖、分岐鎖、環状のアルキル基で置換されたフェニル基が挙げられる。炭素数1〜6の無置換若しくは置換のアルキル基の具体例としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、t−ブチル基、s−ブチル基、n−ブチル基、イソブチル基、トリフルオロメチル基、2−シアノエチル基、ベンジル基、4−クロロベンジル基、4−メチルベンジル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等が挙げられる。   Examples of the alkyl group having 1 to 6 carbon atoms include linear, branched or cyclic alkyl groups, and examples of the substituent for the alkyl group having 1 to 6 carbon atoms include a fluoro group, a cyano group, a phenyl group, and a halogen group. Or the phenyl group substituted by the C1-C6 linear, branched, and cyclic alkyl group is mentioned. Specific examples of the unsubstituted or substituted alkyl group having 1 to 6 carbon atoms include methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, t-butyl group, s-butyl group, n-butyl group, and isobutyl group. Trifluoromethyl group, 2-cyanoethyl group, benzyl group, 4-chlorobenzyl group, 4-methylbenzyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group and the like.

アリール基としては、フェニル基、ナフチル基等が挙げられ、アリール基の置換基としては、上記と同様のハロゲン基、炭素数1〜6の無置換若しくは置換のアルキル基が挙げられる。   Examples of the aryl group include a phenyl group and a naphthyl group, and examples of the substituent of the aryl group include the same halogen groups as those described above and unsubstituted or substituted alkyl groups having 1 to 6 carbon atoms.

Yにおいて、炭素数2〜4の直鎖状のアルキレン基としては、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基が挙げられる。   In Y, examples of the linear alkylene group having 2 to 4 carbon atoms include an ethylene group, a propylene group, and a butylene group.

105〜R111において、ハロゲン基、炭素数1〜6の無置換若しくは置換のアルキル基、無置換若しくは置換のアリール基は、R101、R102、R103及びR104と同様である。 In R 105 to R 111 , the halogen group, the unsubstituted or substituted alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and the unsubstituted or substituted aryl group are the same as R 101 , R 102 , R 103, and R 104 .

炭素数1〜6の無置換若しくは置換のアルコキシ基としては、上記の炭素数1〜6の無置換若しくは置換のアルキル基を有するアルコキシ基が挙げられる。具体的には、メトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、イソプロポキシ基、n−ブトキシ基、イソブトキシ基、s−ブトキシ基、t−ブトキシ基、2−ヒドロキシエトキシ基、2−シアノエトキシ基、ベンジルオキシ基、4−メチルベンジルオキシ基、トリフルオロメトキシ基等が挙げられる。   Examples of the unsubstituted or substituted alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms include alkoxy groups having the above-described unsubstituted or substituted alkyl group having 1 to 6 carbon atoms. Specifically, methoxy group, ethoxy group, n-propoxy group, isopropoxy group, n-butoxy group, isobutoxy group, s-butoxy group, t-butoxy group, 2-hydroxyethoxy group, 2-cyanoethoxy group, Examples include benzyloxy group, 4-methylbenzyloxy group, trifluoromethoxy group and the like.

また、R106及びR107が結合して形成される炭素数5〜12の炭素環としては、シクロペンタン、シクロヘキサン、シクロヘプタン、シクロオクタン、シクロデカン、シクロオクタデカン等が挙げられる。 Examples of the carbocyclic ring having 5 to 12 carbon atoms formed by combining R 106 and R 107 include cyclopentane, cyclohexane, cycloheptane, cyclooctane, cyclodecane, and cyclooctadecane.

一般式(1)で表されるアルキル基を有するビフェノール化合物又はビスフェノール化合物の具体例としては、ビス(4−ヒドロキシフェニル)メタン、ビス(2−メチル−4−ヒドロキシフェニル)メタン、ビス(3−メチル−4−ヒドロキシフェニル)メタン、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)エタン、1,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)エタン、ビス(4−ヒドロキシフェニル)フェニルメタン、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−1−フェニルエタン、1,3−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−1,1−ジメチルプロパン、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパン、2−(4−ヒドロキシフェニル)−2−(3−ヒドロキシフェニル)プロパン、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−2−メチルプロパン、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)ブタン、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−3−メチルブタン、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)ぺンタン、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−4−メチルペンタン、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)へキサン、4,4−ビス(4−ヒドロキシフェニル)へプタン、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)ノナン、ビス(3,5−ジメチル−4−ヒドロキシフェニル)メタン、2,2−ビス(3−メチル−4−ヒドロキシフェニル)プロパン、2,2−ビス(3−イソプロピル−4−ヒドロキシフェニル)プロパン、2,2−ビス(3−s−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロパン、2,2−ビス(3−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロパン、2,2−ビス(3−シクロヘキシル−4−ヒドロキシフェニル)プロパン、2,2−ビス(3−アリル−4−ヒドロキシフェニル)プロパン、2,2−ビス(3−フェニル−4−ヒドロキシフェニル)プロパン、2,2−ビス(3,5−ジメチル−4−ヒドロキシフェニル)プロパン、2,2−ビス(3−クロロ−4−ヒドロキシフェニル)プロパン、2,2−ビス(3,5−ジクロロ−4−ヒドロキシフェニル)プロパン、2,2−ビス(3−ブロモ−4−ヒドロキシフェニル)プロパン、2,2−ビス(3,5−ジブロモ−4−ヒドロキシフェニル)プロパン、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)シクロペンタン、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサン、1,1−ビス(3−メチル−4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサン、1,1−ビス(3,5−ジメチル−4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサン、1,1−ビス(3,5−ジクロロ−4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサン、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−3,3,5−トリメチルシクロヘキサン、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)シクロヘプタン、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)ノルボルナン、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)アダマンタン、3,3’−ジメチル−4,4’−ジヒドロキシジフェニルスルフィド、3,3’,5,5’−テトラメチル−4,4’−ジヒドロキシジフェニルスルフィド、3,3,3’,3’−テトラメチル−6,6’−ジヒドロキシスピロ(ビス)インダン、3,3’,4,4’−テトラヒドロ−4,4,4’,4’−テトラメチル−2,2’−スピロビ(2H−1−ベンゾピラン)−7,7’−ジオール等が挙げられる。   Specific examples of the biphenol compound or bisphenol compound having an alkyl group represented by the general formula (1) include bis (4-hydroxyphenyl) methane, bis (2-methyl-4-hydroxyphenyl) methane, and bis (3- Methyl-4-hydroxyphenyl) methane, 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) ethane, 1,2-bis (4-hydroxyphenyl) ethane, bis (4-hydroxyphenyl) phenylmethane, 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) -1-phenylethane, 1,3-bis (4-hydroxyphenyl) -1,1-dimethylpropane, 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) propane, 2- (4-hydroxy Phenyl) -2- (3-hydroxyphenyl) propane, 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) -2- Tylpropane, 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) butane, 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) -3-methylbutane, 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) pentane, 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) -4-methylpentane, 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) hexane, 4,4-bis (4-hydroxyphenyl) heptane, 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) ) Nonane, bis (3,5-dimethyl-4-hydroxyphenyl) methane, 2,2-bis (3-methyl-4-hydroxyphenyl) propane, 2,2-bis (3-isopropyl-4-hydroxyphenyl) Propane, 2,2-bis (3-s-butyl-4-hydroxyphenyl) propane, 2,2-bis (3-tert-butyl-4-hydroxypheny) ) Propane, 2,2-bis (3-cyclohexyl-4-hydroxyphenyl) propane, 2,2-bis (3-allyl-4-hydroxyphenyl) propane, 2,2-bis (3-phenyl-4-hydroxy) Phenyl) propane, 2,2-bis (3,5-dimethyl-4-hydroxyphenyl) propane, 2,2-bis (3-chloro-4-hydroxyphenyl) propane, 2,2-bis (3,5- Dichloro-4-hydroxyphenyl) propane, 2,2-bis (3-bromo-4-hydroxyphenyl) propane, 2,2-bis (3,5-dibromo-4-hydroxyphenyl) propane, 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) cyclopentane, 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) cyclohexane, 1,1-bis (3-methyl-4-hydroxy) Cyphenyl) cyclohexane, 1,1-bis (3,5-dimethyl-4-hydroxyphenyl) cyclohexane, 1,1-bis (3,5-dichloro-4-hydroxyphenyl) cyclohexane, 1,1-bis (4- Hydroxyphenyl) -3,3,5-trimethylcyclohexane, 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) cycloheptane, 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) norbornane, 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) Adamantane, 3,3′-dimethyl-4,4′-dihydroxydiphenyl sulfide, 3,3 ′, 5,5′-tetramethyl-4,4′-dihydroxydiphenyl sulfide, 3,3,3 ′, 3 ′ -Tetramethyl-6,6'-dihydroxyspiro (bis) indane, 3,3 ', 4,4'-tetrahydro-4 4,4 ', 4'-tetramethyl-2,2'-spirobi- (2H-1-benzopyran) 7,7'-diol, and the like.

次に、本発明で用いられるアクリル変性ポリオルガノシロキサンについて説明する。   Next, the acrylic-modified polyorganosiloxane used in the present invention will be described.

アクリル変性ポリオルガノシロキサンは、ポリオルガノシロキサン(主鎖)にアクリル重合体がグラフトされていることが好ましいが、一般式(2)   The acrylic-modified polyorganosiloxane preferably has an acrylic polymer grafted on the polyorganosiloxane (main chain).

Figure 0004704273
[式中、R、R及びRは、それぞれ独立に、炭素数1〜20の炭化水素基又はハロゲン化炭化水素基であり、Yは、ラジカル重合性官能基又はメルカプト基若しくはラジカル重合性官能基及びメルカプト基を有する有機基であり、Z及びZは、それぞれ独立に、水素原子、低級アルキル基又は一般式
Figure 0004704273
[Wherein R 1 , R 2 and R 3 are each independently a hydrocarbon group or halogenated hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, and Y is a radical polymerizable functional group, a mercapto group or radical polymerization. An organic group having a functional functional group and a mercapto group, and Z 1 and Z 2 are each independently a hydrogen atom, a lower alkyl group or a general formula

Figure 0004704273
(式中、R及びRは、それぞれ独立に、炭素数1〜20の炭化水素基又はハロゲン化炭化水素基であり、Rは、炭素数が1〜20の炭化水素基若しくはハロゲン化炭化水素基、ラジカル重合性官能基又はメルカプト基若しくはラジカル重合性官能基及びメルカプト基を有する有機基である。)
で表される官能基であり、mは、1〜10000の整数であり、nは、1以上の整数である。]
で表されるポリオルガノシロキサンに、一般式(3)
Figure 0004704273
(In the formula, R 4 and R 5 are each independently a hydrocarbon group or halogenated hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, and R 6 is a hydrocarbon group or halogenated group having 1 to 20 carbon atoms. It is a hydrocarbon group, a radical polymerizable functional group or a mercapto group or an organic group having a radical polymerizable functional group and a mercapto group.)
M is an integer of 1 to 10000, and n is an integer of 1 or more. ]
In the polyorganosiloxane represented by general formula (3)

Figure 0004704273
(式中、Rは、水素原子又はメチル基であり、Rは、アルキル基、アルコキシ基で置換されたアルキル基、シクロアルキル基又はアリール基である。)
で表わされるアクリルモノマー及び必要に応じて用いられるアクリルモノマーと共重合することが可能なモノマーを、乳化重合法でグラフト重合(以下、乳化グラフト重合という)することにより製造されていることが特に好ましい。
Figure 0004704273
(In the formula, R 7 is a hydrogen atom or a methyl group, and R 8 is an alkyl group, an alkyl group substituted with an alkoxy group, a cycloalkyl group, or an aryl group.)
It is particularly preferred to be produced by graft polymerization (hereinafter referred to as emulsion graft polymerization) of an acrylic monomer represented by the formula (1) and a monomer that can be copolymerized with an acrylic monomer used as necessary. .

、R及びRにおいて、炭素数1〜20の炭化水素基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等のアルキル基;フェニル基、トリル基、キシリル基、ナフチル基等のアリール基等が挙げられ、炭素数1〜20のハロゲン化炭化水素基としては、上記の炭化水素基の炭素原子に結合した水素原子の少なくとも1つをハロゲン原子で置換した官能基が挙げられる。 In R 1 , R 2 and R 3 , examples of the hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms include alkyl groups such as methyl group, ethyl group, propyl group and butyl group; phenyl group, tolyl group, xylyl group, naphthyl group and the like Examples of the halogenated hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms include functional groups in which at least one hydrogen atom bonded to the carbon atom of the above hydrocarbon group is substituted with a halogen atom. .

Yにおいて、ラジカル重合性官能基としては、ビニル基、アリル基、γ−アクリロイルオキシプロピル基、γ−メタクリロイルオキシプロピル基等が挙げられ、メルカプト基を有する有機基としては、γ−メルカプトプロピル基等が挙げられる。   In Y, examples of the radical polymerizable functional group include a vinyl group, an allyl group, a γ-acryloyloxypropyl group, a γ-methacryloyloxypropyl group, and the organic group having a mercapto group includes a γ-mercaptopropyl group and the like. Is mentioned.

及びZにおいて、低級アルキル基としては、水素原子、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等が挙げられる。 In Z 1 and Z 2 , examples of the lower alkyl group include a hydrogen atom, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, and a butyl group.

、R及びRにおいて、炭素数1〜20の炭化水素基、ハロゲン化炭化水素基、ラジカル重合性官能基又はメルカプト基若しくはラジカル重合性官能基及びメルカプト基を有する有機基は、上記と同様である。 In R 4 , R 5 and R 6 , the organic group having a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, a halogenated hydrocarbon group, a radical polymerizable functional group, a mercapto group or a radical polymerizable functional group and a mercapto group is It is the same.

さらに、mは、500〜8000の整数であることが好ましく、nは、1〜500の整数であることが好ましい。   Furthermore, m is preferably an integer of 500 to 8000, and n is preferably an integer of 1 to 500.

一般式(2)で表されるポリオルガノシロキサンは、環状ポリオルガノシロキサン、両末端が水酸基で封鎖された液状ポリジメチルシロキサン、両末端がアルコキシ基で封鎖された液状ポリジメチルシロキサン、両末端がトリメチルシリル基で封鎖されたポリジメチルシロキサン等と、ラジカル重合性官能基及びメルカプト基の少なくとも一方を導入するためのシラン類及びその加水分解物等、さらに、必要に応じて、本発明の目的を損なわない程度の量のトリアルコキシシラン及びその加水分解物等を用いて、反応させることにより製造することができる。   The polyorganosiloxane represented by the general formula (2) is a cyclic polyorganosiloxane, a liquid polydimethylsiloxane having both ends blocked with hydroxyl groups, a liquid polydimethylsiloxane having both ends blocked with alkoxy groups, and both ends having trimethylsilyl. A polydimethylsiloxane blocked with a group, a silane for introducing at least one of a radical polymerizable functional group and a mercapto group, and a hydrolyzate thereof, and the purpose of the present invention is not impaired, if necessary. It can be produced by reacting using an amount of trialkoxysilane and its hydrolyzate.

次に、一般式(2)で表されるポリオルガノシロキサンの製造方法の他の例について説明する。   Next, another example of the method for producing the polyorganosiloxane represented by the general formula (2) will be described.

まず、第1の製造方法としては、原料として、例えば、オクタメチルシクロテトラシロキサン等の低分子量の環状シロキサンと、ラジカル重合性官能基及びメルカプト基の少なくとも一方を有するジアルコキシシラン化合物及びその加水分解物を用いて、強アルカリ性又は強酸性触媒の存在下で重合することによりポリオルガノシロキサンを製造する方法が挙げられる。このようにして得られたポリオルガノシロキサンは、乳化グラフト重合するために、乳化剤の存在下で、水性媒体中に乳化分散させる処理が施される。   First, as a first production method, as a raw material, for example, a low molecular weight cyclic siloxane such as octamethylcyclotetrasiloxane, a dialkoxysilane compound having at least one of a radical polymerizable functional group and a mercapto group, and hydrolysis thereof The method of manufacturing polyorganosiloxane by polymerizing in the presence of a strongly alkaline or strongly acidic catalyst is used. The polyorganosiloxane thus obtained is subjected to a process of emulsifying and dispersing in an aqueous medium in the presence of an emulsifier in order to carry out emulsion graft polymerization.

次に、第2の製造方法としては、原料として、例えば、低分子量のポリオルガノシロキサンと、ラジカル重合性官能基及びメルカプト基の少なくとも一方を有するジアルコキシシラン及びその加水分解物を用いて、スルホン酸系界面活性剤、硫酸エステル系界面活性剤等のアニオン性界面活性剤の存在下で、水性媒体中において乳化重合する方法が挙げられる。このような乳化重合の場合、同様な原料を用いて、アルキルトリメチルアンモニウムクロリド、アルキルベンジルアンモニウムクロリド等のカチオン性界面活性剤により、水性媒体中に乳化分散させた後、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム等の強アルカリ性化合物を添加して重合することもできる。   Next, as a second production method, for example, a low molecular weight polyorganosiloxane, a dialkoxysilane having at least one of a radical polymerizable functional group and a mercapto group, and a hydrolyzate thereof are used as raw materials. Examples include a method of emulsion polymerization in an aqueous medium in the presence of an anionic surfactant such as an acid surfactant or a sulfate ester surfactant. In the case of such emulsion polymerization, the same raw materials are used, and after emulsifying and dispersing in an aqueous medium with a cationic surfactant such as alkyltrimethylammonium chloride or alkylbenzylammonium chloride, potassium hydroxide, sodium hydroxide It can also superpose | polymerize by adding strong alkaline compounds, such as.

このようにして得られた一般式(2)で表されるポリオルガノシロキサンは、分子量が小さいと、感光層又は保護層に持続性のある摺動性、耐摩耗性等を付与する効果が低下することがあるので、分子量が大きい方が好ましい。このため、第1の製造方法においては、乳化グラフト重合において、ポリオルガノシロキサンを高分子量にすることが好ましい。また、第2の製造方法においては、乳化重合後に施される熟成処理の際に、熟成温度を30℃以下、好ましくは、15℃以下とすることにより、ポリオルガノシロキサンを高分子量にすることができる。   When the polyorganosiloxane represented by the general formula (2) thus obtained has a low molecular weight, the effect of imparting continuous slidability, abrasion resistance, etc. to the photosensitive layer or protective layer is reduced. Therefore, a higher molecular weight is preferable. For this reason, in the first production method, it is preferable that the polyorganosiloxane has a high molecular weight in the emulsion graft polymerization. In the second production method, the polyorganosiloxane can be made to have a high molecular weight by setting the aging temperature to 30 ° C. or lower, preferably 15 ° C. or lower in the aging treatment performed after emulsion polymerization. it can.

本発明において、一般式(3)で表されるアクリルモノマーとしては、例えば、(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸エチル、(メタ)アクリル酸プロピル、(メタ)アクリル酸ブチル、(メタ)アクリル酸イソブチル、(メタ)アクリル酸ペンチル、(メタ)アクリル酸ヘキシル、(メタ)アクリル酸オクチル、(メタ)アクリル酸2−エチルヘキシル、(メタ)アクリル酸ラウリル、(メタ)アクリル酸ステアリル等の(メタ)アクリル酸アルキル;(メタ)アクリル酸メトキシエチル、(メタ)アクリル酸ブトキシエチル等の(メタ)アクリル酸アルコキシアルキル;(メタ)アクリル酸シクロヘキシル、(メタ)アクリル酸フェニル、(メタ)アクリル酸ベンジル等が挙げられる。これらのアクリルモノマーは、単独で用いてもよいし、2種以上を組み合わせて用いてもよい。   In the present invention, examples of the acrylic monomer represented by the general formula (3) include methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, (meth ) Isobutyl acrylate, pentyl (meth) acrylate, hexyl (meth) acrylate, octyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, lauryl (meth) acrylate, stearyl (meth) acrylate, etc. Alkyl (meth) acrylate; Alkoxyalkyl (meth) acrylates such as methoxyethyl (meth) acrylate and butoxyethyl (meth) acrylate; cyclohexyl (meth) acrylate, phenyl (meth) acrylate, (meth) acrylic Examples include benzyl acid. These acrylic monomers may be used independently and may be used in combination of 2 or more type.

また、一般式(3)で表されるアクリルモノマーと共重合することが可能なモノマーとしては、多官能性モノマー、エチレン性モノマー等が挙げられる。   Moreover, a polyfunctional monomer, an ethylenic monomer, etc. are mentioned as a monomer which can be copolymerized with the acrylic monomer represented by General formula (3).

多官能性モノマーとしては、例えば、(メタ)アクリルアミド、ジアセトン(メタ)アクリルアミド、N−メチロール(メタ)アクリルアミド、N−ブトキシメチル(メタ)アクリルアミド、N−メトキシメチル(メタ)アクリルアミド等のアミドモノマー及びそのアルキロール又はアルコキシアルキル化物;(メタ)アクリル酸グリシジル、アリルグリシジルエーテル等のオキシラン基含有モノマー;(メタ)アクリル酸2−ヒドロキシエチル、(メタ)アクリル酸2−ヒドロキシプロピル等のヒドロキシル基含有モノマー;(メタ)アクリル酸、無水マレイン酸、クロトン酸、イタコン酸等のカルボキシル基含有モノマー;(メタ)アクリル酸2−ジメチルアミノエチル、(メタ)アクリル酸2−ジエチルアミノエチル等のアミノ基含有モノマー;(メタ)アクリル酸のエチレンオキシド付加物、プロピレンオキシド付加物等のポリオキシアルキレン基含有モノマー;エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート等の多価アルコールと(メタ)アクリル酸の完全エステル;(メタ)アクリル酸アリル、ジビニルベンゼン等が挙げられる。これらの多官能性モノマーは、アクリル変性ポリオルガノシロキサンにおけるポリマー間の架橋に関与することによって、成形体に弾性、耐久性、耐熱性等を付与する効果を有する。   Examples of the polyfunctional monomer include amide monomers such as (meth) acrylamide, diacetone (meth) acrylamide, N-methylol (meth) acrylamide, N-butoxymethyl (meth) acrylamide, N-methoxymethyl (meth) acrylamide, and the like. The alkylol or alkoxyalkylated product thereof; oxirane group-containing monomer such as glycidyl (meth) acrylate and allyl glycidyl ether; hydroxyl group-containing monomer such as 2-hydroxyethyl (meth) acrylate and 2-hydroxypropyl (meth) acrylate Carboxyl group-containing monomers such as (meth) acrylic acid, maleic anhydride, crotonic acid and itaconic acid; amino groups such as 2-dimethylaminoethyl (meth) acrylate and 2-diethylaminoethyl (meth) acrylate Nomer; Polyoxyalkylene group-containing monomers such as ethylene oxide adduct and propylene oxide adduct of (meth) acrylic acid; ethylene glycol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, etc. Examples include complete esters of polyhydric alcohol and (meth) acrylic acid; allyl (meth) acrylate and divinylbenzene. These polyfunctional monomers have an effect of imparting elasticity, durability, heat resistance and the like to the molded body by participating in crosslinking between polymers in the acrylic-modified polyorganosiloxane.

一方、エチレン性モノマーとしては、例えば、スチレン、α−メチルスチレン、ビニルトルエン、アクリロニトリル、塩化ビニル、塩化ビニリデン、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、バーサチック酸ビニル等が挙げられる。   On the other hand, examples of the ethylenic monomer include styrene, α-methylstyrene, vinyl toluene, acrylonitrile, vinyl chloride, vinylidene chloride, vinyl acetate, vinyl propionate, and vinyl versatate.

これらのモノマーは、単独で用いてもよいし、2種以上を組み合わせて用いてもよい。また、エチレン性モノマーと多官能性モノマーを組み合わせて用いてもよい。   These monomers may be used independently and may be used in combination of 2 or more type. Moreover, you may use combining an ethylenic monomer and a polyfunctional monomer.

一般式(3)で表されるアクリルモノマーと共重合することが可能なモノマーの使用量は、一般式(3)で表されるアクリルモノマーとの合計重量に対して、通常、90重量%以下であり、好ましくは、30重量%以下である。この量が90重量%を超えると、得られるアクリル変性ポリオルガノシロキサンと結着樹脂との混和性が低下することがある。   The amount of the monomer that can be copolymerized with the acrylic monomer represented by the general formula (3) is usually 90% by weight or less based on the total weight of the acrylic monomer represented by the general formula (3). Preferably, it is 30 wt% or less. When this amount exceeds 90% by weight, the miscibility between the resulting acrylic-modified polyorganosiloxane and the binder resin may be lowered.

また、感光層又は保護層により優れた摺動性、耐摩耗性を付与するためには、グラフトされるアクリル重合体のガラス転移温度は、通常、20℃以上であり、30℃以上が好ましい。   Further, in order to impart excellent slidability and abrasion resistance to the photosensitive layer or protective layer, the glass transition temperature of the acrylic polymer to be grafted is usually 20 ° C. or higher, and preferably 30 ° C. or higher.

本発明において、乳化グラフト重合する際に、一般式(3)で表されるアクリルモノマー及びこれと共重合することが可能なモノマーの混合物に対する一般式(2)で表されるポリオルガノシロキサンの重量比は、5/95〜95/5以下であることが好ましく、51/49〜95/5がさらに好ましい。この重量比が5/95より小さいと、アクリル変性ポリオルガノシロキサンは、ポリオルガノシロキサン自体がもつ効果を十分に発揮することができず、アクリル重合体の粘着感が生じるようになることがある。また、95/5より大きいと、アクリル変性ポリオルガノシロキサンは、結着樹脂との混和性が低下し、感光層又は保護層の表面にブリードしやすくなり、摺動性、耐摩耗性等が経時により低下しやすくなることがある。   In the present invention, when emulsion graft polymerization is performed, the weight of the polyorganosiloxane represented by the general formula (2) with respect to the mixture of the acrylic monomer represented by the general formula (3) and a monomer copolymerizable therewith. The ratio is preferably 5/95 to 95/5 or less, and more preferably 51/49 to 95/5. When this weight ratio is less than 5/95, the acrylic-modified polyorganosiloxane cannot sufficiently exhibit the effect of the polyorganosiloxane itself, and the acrylic polymer may have a sticky feeling. On the other hand, if the ratio is greater than 95/5, the acrylic modified polyorganosiloxane is less miscible with the binder resin and tends to bleed on the surface of the photosensitive layer or protective layer. May be easily reduced.

本発明において、乳化グラフト重合は、ポリオルガノシロキサンの水性エマルジョン及び通常のラジカル重合開始剤を用いて、公知の乳化重合法により行うことができる。なお、アクリル変性ポリオルガノシロキサンの製造方法は、特公平7−5808号公報の第4〜8頁及び第9〜10頁に記載されている。   In the present invention, the emulsion graft polymerization can be carried out by a known emulsion polymerization method using an aqueous emulsion of polyorganosiloxane and a normal radical polymerization initiator. In addition, the manufacturing method of acrylic modified polyorganosiloxane is described in the 4th-8th pages and the 9th-10th pages of Japanese Patent Publication No. 7-5808.

また、本発明において、乳化グラフト重合に用いられる乳化剤、凝集剤等の不純物が残留すると、感光体の電気特性を損なうことがあるため、アクリル変性ポリオルガノシロキサンは、必要に応じて、精製して用いることが好ましい。精製法としては、酸、アルカリ水溶液、水、アルコール等で攪拌洗浄処理する方法、ソックスレー抽出等による固液抽出法が挙げられる。   In the present invention, if impurities such as an emulsifier and an aggregating agent used in emulsion graft polymerization remain, the electrical properties of the photoreceptor may be impaired. Therefore, the acrylic-modified polyorganosiloxane may be purified as necessary. It is preferable to use it. Examples of the purification method include a method of stirring and washing with an acid, an aqueous alkali solution, water, alcohol and the like, and a solid-liquid extraction method such as Soxhlet extraction.

感光層中のアクリル変性ポリオルガノシロキサンの含有量は、20重量%以下であることが好ましく、10重量%以下がさらに好ましい。含有量が20重量%を超えると、感光体の機械強度の低下、残留電位の上昇等が発生することがある。   The content of the acrylic-modified polyorganosiloxane in the photosensitive layer is preferably 20% by weight or less, and more preferably 10% by weight or less. If the content exceeds 20% by weight, the mechanical strength of the photoreceptor may be lowered, the residual potential may be raised, and the like.

また、アクリル変性ポリオルガノシロキサンを結着樹脂中に分散する方法としては、汎用の溶媒中で攪拌する方法、ボールミリング法、振動ミリング法、高圧液体衝突法、超音波法等が挙げられる。また、バンバリーミキサー、ロールミル、2軸押出し機等の装置を用いて、アクリル変性ポリオルガノシロキサンと結着樹脂を機械的に混合し、ペレット状に賦形する方法を用いることができる。押し出し賦形されたペレットは、幅広い温度範囲で成型することが可能であり、成型には、通常の射出成型機が用いられる。ペレット状に賦形されたアクリル変性ポリオルガノシロキサンと結着樹脂は、さらに、上記の溶液分散法に適用できる。   Examples of the method for dispersing the acrylic-modified polyorganosiloxane in the binder resin include a method of stirring in a general-purpose solvent, a ball milling method, a vibration milling method, a high-pressure liquid collision method, and an ultrasonic method. In addition, a method of mechanically mixing the acryl-modified polyorganosiloxane and the binder resin using a device such as a Banbury mixer, a roll mill, or a twin screw extruder, and shaping the pellets can be used. Extruded pellets can be molded over a wide temperature range, and a normal injection molding machine is used for molding. The acrylic-modified polyorganosiloxane and binder resin shaped into pellets can be further applied to the above solution dispersion method.

アクリル変性ポリオルガノシロキサンの市販品としては、例えば、シャリーヌR−170S、R−170、NR−150、NR−130、R−210(以上、日信化学工業社製)、X−22−8084、X−22−8171(信越化学工業社製)等が挙げられる。   As a commercial item of acrylic modified polyorganosiloxane, for example, Charine R-170S, R-170, NR-150, NR-130, R-210 (above, manufactured by Nissin Chemical Industry Co., Ltd.), X-22-8084, X-22-8171 (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) and the like.

次に、本発明で用いられるフィラーについて説明する。   Next, the filler used in the present invention will be described.

フィラーは、耐摩耗性を向上する目的で感光層又は保護層に添加されるが、有機フィラー及び無機フィラーのいずれであってもよい。有機フィラーとしては、ポリテトラフルオロエチレン等のフッ素樹脂粉末、シリコーン樹脂粉末、カーボン粉末等が挙げられ、無機フィラーとしては、銅、スズ、アルミニウム、インジウム等の金属、酸化ケイ素、酸化スズ、酸化亜鉛、酸化チタン、酸化インジウム、酸化アンチモン、酸化ビスマス、アンチモンをドープした酸化スズ、スズをドープした酸化インジウム等の金属酸化物、チタン酸カリウム等の無機材料が挙げられる。中でも、フィラーの硬度の点から、無機フィラーが好ましく、金属酸化物がさらに好ましく、酸化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化チタンが特に好ましい。これらフィラーは、単独又は2種類以上混合して用いられる。   The filler is added to the photosensitive layer or the protective layer for the purpose of improving the wear resistance, and may be either an organic filler or an inorganic filler. Examples of organic fillers include fluororesin powders such as polytetrafluoroethylene, silicone resin powders, and carbon powders. Inorganic fillers include metals such as copper, tin, aluminum, and indium, silicon oxide, tin oxide, and zinc oxide. , Titanium oxide, indium oxide, antimony oxide, bismuth oxide, tin oxide doped with antimony, metal oxides such as tin-doped indium oxide, and inorganic materials such as potassium titanate. Among these, from the viewpoint of the hardness of the filler, inorganic fillers are preferable, metal oxides are more preferable, and silicon oxide, aluminum oxide, and titanium oxide are particularly preferable. These fillers may be used alone or in combination of two or more.

フィラーの平均一次粒径は、感光層又は保護層の光透過率や耐摩耗性の点から、0.01〜0.5μmであることが好ましい。フィラーの平均一次粒径が0.01μm未満の場合は、耐摩耗性の低下、分散性の低下等を引き起こすことがあり、0.5μmを超える場合は、分散液中においてフィラーの沈降が促進されたり、トナーのフィルミングが発生したりすることがある。   The average primary particle size of the filler is preferably 0.01 to 0.5 μm from the viewpoint of light transmittance and wear resistance of the photosensitive layer or protective layer. When the average primary particle size of the filler is less than 0.01 μm, it may cause a decrease in abrasion resistance, a decrease in dispersibility, etc., and when it exceeds 0.5 μm, sedimentation of the filler is promoted in the dispersion. Or toner filming may occur.

感光層又は保護層中のフィラー濃度が高い程、耐摩耗性が高くなるが、80重量%を超える場合には、残留電位の上昇、感光層又は保護層の書き込み光透過率の低下等の副作用を生じることがある。従って、フィラー濃度は、全固形分に対して、通常、80重量%以下であり、50重量%以下が好ましい。なお、フィラー濃度の下限値は、通常、5重量%である。   The higher the filler concentration in the photosensitive layer or protective layer, the higher the wear resistance. However, if it exceeds 80% by weight, side effects such as an increase in residual potential and a decrease in the writing light transmittance of the photosensitive layer or protective layer. May occur. Therefore, the filler concentration is usually 80% by weight or less, preferably 50% by weight or less, based on the total solid content. The lower limit of the filler concentration is usually 5% by weight.

また、フィラーの分散性の面から、フィラーは、少なくとも一種の表面処理剤で表面処理されていることが好ましい。フィラーの分散性が低下すると、残留電位の上昇だけでなく、塗膜の透明性の低下や塗膜欠陥の発生、さらには、耐摩耗性の低下をも引き起こすため、高耐久化又は高画質化を妨げる大きな問題に発展する可能性がある。表面処理剤としては、従来用いられている表面処理剤を使用することができるが、フィラーの絶縁性を維持できる表面処理剤が好ましい。例えば、チタネート系カップリング剤、アルミニウム系カップリング剤、ジルコアルミネート系カップリング剤、高級脂肪酸等、これらとシランカップリング剤の混合処理;Al、TiO、ZrO、シリコーン、ステアリン酸アルミニウム等、これらの混合処理がフィラーの分散性及び画像ボケの点から好ましい。シランカップリング剤による表面処理は、画像ボケの影響が強くなることがあるが、上記の表面処理剤とシランカップリング剤の混合処理を施すことにより、その影響を抑制することができる。表面処理量は、フィラーの平均一次粒径によって異なるが、3〜30重量%が好ましく、5〜20重量%がさらに好ましい。表面処理量が3重量%よりも少ないと、フィラーの分散性を向上させる効果が得られないことがあり、30重量%よりも多いと、残留電位が上昇することがある。 From the viewpoint of filler dispersibility, the filler is preferably surface-treated with at least one surface treatment agent. Decreasing the dispersibility of the filler not only increases the residual potential, but also decreases the transparency of the coating film, causes defects in the coating film, and decreases the wear resistance. There is a possibility that it will develop into a big problem. As the surface treatment agent, a conventionally used surface treatment agent can be used, but a surface treatment agent capable of maintaining the insulating properties of the filler is preferable. For example, titanate coupling agents, aluminum coupling agents, zircoaluminate coupling agents, higher fatty acids, etc., and these silane coupling agents are mixed; Al 2 O 3 , TiO 2 , ZrO 2 , silicone, stearin These mixing treatments such as aluminum acid are preferable from the viewpoint of filler dispersibility and image blur. The surface treatment with the silane coupling agent may have a strong influence on image blur, but the influence can be suppressed by performing a mixing treatment of the surface treatment agent and the silane coupling agent. The surface treatment amount varies depending on the average primary particle size of the filler, but is preferably 3 to 30% by weight, more preferably 5 to 20% by weight. If the surface treatment amount is less than 3% by weight, the effect of improving the dispersibility of the filler may not be obtained. If the surface treatment amount is more than 30% by weight, the residual potential may increase.

次に、本発明の感光体の層構成について説明する。   Next, the layer structure of the photoreceptor of the present invention will be described.

図3は、導電性支持体21上に、アクリル変性ポリオルガノシロキサンと、ポリカーボネート樹脂又はポリアリレート樹脂に極性基を有するモノマーをグラフト重合することにより得られるグラフト共重合体と、フィラーを含有する感光層22を設けた構成例である。   FIG. 3 shows a photosensitive copolymer containing an acrylic modified polyorganosiloxane, a graft copolymer obtained by graft polymerization of a monomer having a polar group on a polycarbonate resin or polyarylate resin, and a filler on a conductive support 21. This is a configuration example in which a layer 22 is provided.

図4は、導電性支持体21上に、電荷発生層22a並びにアクリル変性ポリオルガノシロキサンと、ポリカーボネート樹脂又はポリアリレート樹脂に極性基を有するモノマーをグラフト重合することにより得られるグラフト共重合体と、フィラーを含有する電荷輸送層22bを設けた構成例である。   FIG. 4 shows a graft copolymer obtained by graft-polymerizing a charge generation layer 22a and an acrylic-modified polyorganosiloxane on a conductive support 21 and a monomer having a polar group in a polycarbonate resin or polyarylate resin. This is a configuration example in which a charge transport layer 22b containing a filler is provided.

図5は、導電性支持体21上に、感光層22並びにアクリル変性ポリオルガノシロキサンと、ポリカーボネート樹脂又はポリアリレート樹脂に極性基を有するモノマーをグラフト重合することにより得られるグラフト共重合体と、フィラーを含有する保護層23を設けた構成例である。   FIG. 5 shows a graft copolymer obtained by graft polymerization of a photosensitive layer 22 and an acrylic-modified polyorganosiloxane on a conductive support 21 and a monomer having a polar group on a polycarbonate resin or polyarylate resin, and a filler. It is the structural example which provided the protective layer 23 containing this.

図6は、導電性支持体21上に、電荷発生層22a、電荷輸送層22b並びにアクリル変性ポリオルガノシロキサンと、ポリカーボネート樹脂又はポリアリレート樹脂に極性基を有するモノマーをグラフト重合することにより得られるグラフト共重合体と、フィラーを含有する保護層23を設けた構成例である。   FIG. 6 shows a graft obtained by graft polymerization of a charge generation layer 22a, a charge transport layer 22b and an acrylic-modified polyorganosiloxane on a conductive support 21 and a monomer having a polar group in a polycarbonate resin or polyarylate resin. This is a configuration example in which a protective layer 23 containing a copolymer and a filler is provided.

なお、上記の感光体は、導電性支持体上に、モアレ防止、導電性支持体から感光層への電荷注入の阻止を目的として、下引き層が形成されていてもよい。   In the above photoreceptor, an undercoat layer may be formed on the conductive support for the purpose of preventing moire and preventing charge injection from the conductive support to the photosensitive layer.

本発明の感光体は、アクリル変性ポリオルガノシロキサンと、ポリカーボネート樹脂又はポリアリレート樹脂に極性基を有するモノマーをグラフト重合することにより得られるグラフト共重合体と、フィラーを含有する感光層又は保護層を少なくとも有していればよく、その他の層等が任意に組み合わされていても構わない。   The photoreceptor of the present invention comprises an acrylic-modified polyorganosiloxane, a graft copolymer obtained by graft polymerization of a monomer having a polar group on a polycarbonate resin or polyarylate resin, and a photosensitive layer or protective layer containing a filler. As long as it has at least, other layers etc. may be combined arbitrarily.

導電性支持体としては、体積抵抗率が1010Ω・cm以下の導電性を示すもの、例えば、アルミニウム、ニッケル、クロム、ニクロム、銅、金、銀、白金等の金属、酸化スズ、酸化インジウム等の金属酸化物を、蒸着又はスパッタリングにより、フィルム状又は円筒状のプラスチック、紙に被覆したもの;アルミニウム、アルミニウム合金、ニッケル、ステンレス等の板及びそれらを、押し出し、引き抜き等の工法で素管化後、切削、超仕上げ、研摩等の表面処理した管等が挙げられる。また、特開昭52−36016号公報に開示されたエンドレスニッケルベルト、エンドレスステンレスベルトも導電性支持体として用いることができる。 Examples of the conductive support include those having a volume resistivity of 10 10 Ω · cm or less, for example, metals such as aluminum, nickel, chromium, nichrome, copper, gold, silver, platinum, tin oxide, indium oxide Metal oxides such as film or cylindrical plastic or paper coated by vapor deposition or sputtering; aluminum, aluminum alloy, nickel, stainless steel plates, etc., and extruding, drawing, etc. After the conversion, surface-treated pipes such as cutting, superfinishing, and polishing are exemplified. Further, endless nickel belts and endless stainless steel belts disclosed in JP-A-52-36016 can also be used as the conductive support.

この他に、上記の支持体上に、導電性粉体を結着樹脂に分散させた導電性層を塗工したものも、導電性支持体として用いることができる。導電性粉体としては、カーボンブラック、アセチレンブラック;アルミニウム、ニッケル、鉄、ニクロム、銅、亜鉛、銀等の金属粉体;導電性酸化スズ、ITO等の金属酸化物粉体等が挙げられる。また、結着樹脂としては、ポリスチレン、スチレン−アクリロニトリル共重合体、スチレン−ブタジエン共重合体、スチレン−無水マレイン酸共重合体、ポリエステル、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリ酢酸ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリアリレート樹脂、フェノキシ樹脂、ポリカーボネート、酢酸セルロース樹脂、エチルセルロース樹脂、ポリビニルブチラール、ポリビニルホルマール、ポリビニルトルエン、ポリ(N−ビニルカルバゾール)、アクリル樹脂、シリコーン樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、フェノール樹脂、アルキッド樹脂等の熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂又は光硬化性樹脂が挙げられる。導電性層は、導電性粉体と結着樹脂を、テトラヒドロフラン、ジクロロメタン、メチルエチルケトン、トルエン等の溶剤に分散して塗布することにより設けることができる。   In addition, a material obtained by coating a conductive layer in which conductive powder is dispersed in a binder resin on the above support can also be used as the conductive support. Examples of the conductive powder include carbon black and acetylene black; metal powder such as aluminum, nickel, iron, nichrome, copper, zinc, and silver; metal oxide powder such as conductive tin oxide and ITO. Examples of the binder resin include polystyrene, styrene-acrylonitrile copolymer, styrene-butadiene copolymer, styrene-maleic anhydride copolymer, polyester, polyvinyl chloride, vinyl chloride-vinyl acetate copolymer, polyacetic acid. Vinyl, polyvinylidene chloride, polyarylate resin, phenoxy resin, polycarbonate, cellulose acetate resin, ethyl cellulose resin, polyvinyl butyral, polyvinyl formal, polyvinyl toluene, poly (N-vinylcarbazole), acrylic resin, silicone resin, epoxy resin, melamine resin , Urethane resins, phenol resins, alkyd resins, and other thermoplastic resins, thermosetting resins, and photocurable resins. The conductive layer can be provided by dispersing and applying conductive powder and a binder resin in a solvent such as tetrahydrofuran, dichloromethane, methyl ethyl ketone, and toluene.

さらに、円筒基体上に、ポリ塩化ビニル、ポリプロピレン、ポリエステル、ポリスチレン、ポリ塩化ビニリデン、ポリエチレン、塩化ゴム、テフロン(登録商標)等の素材に導電性粉体を含有させた熱収縮チューブを用いて導電性層を設けたものも、導電性支持体として用いることができる。   Furthermore, it is conductive using a heat shrinkable tube containing conductive powder in a material such as polyvinyl chloride, polypropylene, polyester, polystyrene, polyvinylidene chloride, polyethylene, chlorinated rubber, Teflon (registered trademark) on a cylindrical substrate. Those provided with a conductive layer can also be used as a conductive support.

次に、感光層について説明する。感光層は、単層構造であってもよいし、積層構造であってもよい。まず、感光層が電荷発生層及び電荷輸送層から構成される積層構造である場合について説明する。   Next, the photosensitive layer will be described. The photosensitive layer may have a single layer structure or a laminated structure. First, the case where the photosensitive layer has a laminated structure composed of a charge generation layer and a charge transport layer will be described.

電荷発生層は、電荷発生物質を含有し、必要に応じて、結着樹脂をさらに含有してもよい。電荷発生層には、公知の電荷発生物質を用いることが可能であり、電荷発生物質としては、モノアゾ顔料、ジスアゾ顔料、トリスアゾ顔料、ペリレン系顔料、ペリノン系顔料、キナクリドン系顔料、キノン系縮合多環化合物、スクアリック酸系染料、他のフタロシアニン系顔料、ナフタロシアニン系顔料、アズレニウム塩系染料等が挙げられ、単独又は2種以上混合して用いられる。中でも、アゾ顔料及び/又はフタロシアニン顔料が好ましく、一般式   The charge generation layer contains a charge generation material, and may further contain a binder resin, if necessary. A known charge generation material can be used for the charge generation layer. Examples of the charge generation material include monoazo pigments, disazo pigments, trisazo pigments, perylene pigments, perinone pigments, quinacridone pigments, and quinone condensation polymers. Examples thereof include ring compounds, squalic acid dyes, other phthalocyanine pigments, naphthalocyanine pigments, azulenium salt dyes, and the like. These may be used alone or in combination. Of these, azo pigments and / or phthalocyanine pigments are preferred, and have the general formula

Figure 0004704273
[式中、R201及びR202は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン基、アルキル基、アルコキシ基又はシアノ基である。Cp及びCpは、それぞれ独立に、一般式
Figure 0004704273
[Wherein, R 201 and R 202 each independently represent a hydrogen atom, a halogen group, an alkyl group, an alkoxy group, or a cyano group. Cp 1 and Cp 2 are each independently a general formula

Figure 0004704273
(式中、R203は、水素原子、メチル基、エチル基等のアルキル基又はフェニル基等のアリール基である。R204、R205、R206、R207及びR208は、それぞれ独立に、水素原子、ニトロ基、シアノ基、フルオロ基、クロロ基、ブロモ基、ヨード基等のハロゲン基、トリフルオロメチル基、メチル基、エチル基等のアルキル基、メトキシ基、エトキシ基等のアルコキシ基、ジアルキルアミノ基又は水酸基であり、Zは、置換若しくは無置換の芳香族炭化水素環又は置換若しくは無置換の芳香族複素環を構成するのに必要な原子群である。)
で表されるカップラー残基である。]
で表されるアゾ顔料及びチタニルフタロシアニン(特に、CuKαの特性X線(波長1.514Å)に対するブラッグ角2θの回折ピーク(±0.2゜)として、少なくとも27.2゜に最大回折ピークを有するチタニルフタロシアニン)が特に好ましい。
Figure 0004704273
(Wherein R 203 is a hydrogen atom, an alkyl group such as a methyl group or an ethyl group, or an aryl group such as a phenyl group. R 204 , R 205 , R 206 , R 207 and R 208 are each independently Hydrogen atom, nitro group, cyano group, fluoro group, chloro group, bromo group, iodo group and other halogen groups, trifluoromethyl group, methyl group, ethyl group and other alkyl groups, methoxy group, ethoxy group and other alkoxy groups, (It is a dialkylamino group or a hydroxyl group, and Z is an atomic group necessary for constituting a substituted or unsubstituted aromatic hydrocarbon ring or a substituted or unsubstituted aromatic heterocyclic ring.)
It is a coupler residue represented by these. ]
As a diffraction peak (± 0.2 °) with a Bragg angle 2θ with respect to the characteristic X-ray of CuKα (wavelength 1.514Å), the maximum diffraction peak is at least 27.2 °. Titanyl phthalocyanine) is particularly preferred.

結着樹脂としては、ポリアミド、ポリウレタン、エポキシ樹脂、ポリケトン、ポリカーボネート、シリコーン樹脂、アクリル樹脂、ポリビニルブチラール、ポリビニルホルマール、ポリビニルケトン、ポリスチレン、ポリスルホン、ポリ(N−ビニルカルバゾール)、ポリアクリルアミド、ポリビニルベンザール、ポリエステル、フェノキシ樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリ酢酸ビニル、ポリフェニレンオキシド、ポリアミド、ポリビニルピリジン、セルロース系樹脂、カゼイン、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン等が挙げられる。結着樹脂の添加量は、電荷発生物質100重量部に対して、通常、0〜500重量部であり、10〜300重量部が好ましい。   Binder resins include polyamide, polyurethane, epoxy resin, polyketone, polycarbonate, silicone resin, acrylic resin, polyvinyl butyral, polyvinyl formal, polyvinyl ketone, polystyrene, polysulfone, poly (N-vinylcarbazole), polyacrylamide, and polyvinyl benzal. , Polyester, phenoxy resin, vinyl chloride-vinyl acetate copolymer, polyvinyl acetate, polyphenylene oxide, polyamide, polyvinyl pyridine, cellulose resin, casein, polyvinyl alcohol, polyvinyl pyrrolidone and the like. The amount of the binder resin added is usually 0 to 500 parts by weight, preferably 10 to 300 parts by weight, based on 100 parts by weight of the charge generation material.

電荷発生層の膜厚は、通常、0.01〜5μmであり、0.1〜2μmが好ましい。   The thickness of the charge generation layer is usually from 0.01 to 5 μm, preferably from 0.1 to 2 μm.

電荷発生層は、電荷発生物質を、必要に応じて、結着樹脂と共に溶剤中にボールミル、アトライター、サンドミル、超音波等を用いて分散した塗布液を、導電性支持体上に塗布し、乾燥することにより形成することができる。   For the charge generation layer, a coating solution in which a charge generation material is dispersed in a solvent together with a binder resin, if necessary, using a ball mill, an attritor, a sand mill, an ultrasonic wave, or the like is applied onto a conductive support. It can be formed by drying.

溶剤としては、イソプロパノール、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、テトラヒドロフラン、ジオキサン、エチルセルソルブ、酢酸エチル、酢酸メチル、ジクロロメタン、ジクロロエタン、モノクロロベンゼン、シクロヘキサン、トルエン、キシレン、リグロイン等が挙げられるが、中でも、ケトン系溶媒、エステル系溶媒、エーテル系溶媒が好ましい。塗布液の塗工法としては、浸漬塗工法、スプレー塗工法、ビードコート法、ノズルコート法、スピナーコート法、リングコート法等を用いることができる。   Examples of the solvent include isopropanol, acetone, methyl ethyl ketone, cyclohexanone, tetrahydrofuran, dioxane, ethyl cellosolve, ethyl acetate, methyl acetate, dichloromethane, dichloroethane, monochlorobenzene, cyclohexane, toluene, xylene, ligroin, etc. Solvents, ester solvents, and ether solvents are preferred. As a coating method of the coating solution, a dip coating method, a spray coating method, a bead coating method, a nozzle coating method, a spinner coating method, a ring coating method, or the like can be used.

電荷輸送層は、電荷輸送物質及び結着樹脂を含有する。電荷輸送物質としては、正孔輸送物質及び電子輸送物質を用いることができる。   The charge transport layer contains a charge transport material and a binder resin. As the charge transport material, a hole transport material and an electron transport material can be used.

電子輸送物質としては、クロルアニル、ブロムアニル、テトラシアノエチレン、テトラシアノキノジメタン、2,4,7−トリニトロ−9−フルオレノン、2,4,5,7−テトラニトロ−9−フルオレノン、2,4,5,7−テトラニトロキサントン、2,4,8−トリニトロチオキサントン、2,6,8−トリニトロ−4H−インデノ〔1,2−b〕チオフェン−4−オン、1,3,7−トリニトロジベンゾチオフェン−5,5−ジオキサイド、ベンゾキノン誘導体等が挙げられる。   Electron transport materials include chloroanil, bromoanil, tetracyanoethylene, tetracyanoquinodimethane, 2,4,7-trinitro-9-fluorenone, 2,4,5,7-tetranitro-9-fluorenone, 2,4, 5,7-tetranitroxanthone, 2,4,8-trinitrothioxanthone, 2,6,8-trinitro-4H-indeno [1,2-b] thiophen-4-one, 1,3,7-trinitro Examples include dibenzothiophene-5,5-dioxide, benzoquinone derivatives, and the like.

正孔輸送物質としては、ポリ(N−ビニルカルバゾール)及びその誘導体、ポリグルタミン酸γ−カルバゾリルエチル及びその誘導体、ピレン−ホルムアルデヒド縮合物及びその誘導体、ポリビニルピレン、ポリビニルフェナントレン、ポリシラン、オキサゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、モノアリールアミン誘導体、ジアリールアミン誘導体、トリアリールアミン誘導体、スチルベン誘導体、α−フェニルスチルベン誘導体、ベンジジン誘導体、ジアリールメタン誘導体、トリアリールメタン誘導体、9−スチリルアントラセン誘導体、ピラゾリン誘導体、ジビニルベンゼン誘導体、ヒドラゾン誘導体、インデン誘導体、ブタジエン誘導体、ピレン誘導体等、ビススチルベン誘導体、エナミン誘導体等が挙げられる。   Examples of the hole transport material include poly (N-vinylcarbazole) and derivatives thereof, γ-carbazolyl ethyl polyglutamate and derivatives thereof, pyrene-formaldehyde condensates and derivatives thereof, polyvinylpyrene, polyvinylphenanthrene, polysilane, oxazole derivatives, Oxadiazole derivatives, imidazole derivatives, monoarylamine derivatives, diarylamine derivatives, triarylamine derivatives, stilbene derivatives, α-phenylstilbene derivatives, benzidine derivatives, diarylmethane derivatives, triarylmethane derivatives, 9-styrylanthracene derivatives, pyrazolines Derivatives, divinylbenzene derivatives, hydrazone derivatives, indene derivatives, butadiene derivatives, pyrene derivatives, bisstilbene derivatives, enamine derivatives, etc. It is.

これらの電荷輸送物質は、単独又は2種以上混合して用いることができる。また、電荷輸送機能とバインダー機能を併せ持つ高分子電荷輸送物質も使用することができる。   These charge transport materials can be used alone or in combination of two or more. Also, a polymer charge transport material having both a charge transport function and a binder function can be used.

電荷輸送層が最表層となる場合、電荷輸送層は、アクリル変性ポリオルガノシロキサンと、ポリカーボネート樹脂又はポリアリレート樹脂に極性基を有するモノマーをグラフト重合することにより得られるグラフト共重合体と、フィラーと、電荷輸送物質を含有する。これらのグラフト共重合体は、単独で用いてもよいし、二種以上混合して用いてもよい。このとき、ポリカーボネート樹脂由来のグラフト共重合体及びポリアリレート樹脂由来のグラフト共重合体を混合して用いてもよい。さらに、他のポリカーボネート樹脂及び/又はポリアリレート樹脂と混合して用いてもよい。   When the charge transport layer is the outermost layer, the charge transport layer is composed of an acrylic-modified polyorganosiloxane, a graft copolymer obtained by graft polymerization of a monomer having a polar group on a polycarbonate resin or polyarylate resin, and a filler. Contains a charge transport material. These graft copolymers may be used alone or in combination of two or more. At this time, a graft copolymer derived from a polycarbonate resin and a graft copolymer derived from a polyarylate resin may be mixed and used. Furthermore, you may mix and use with another polycarbonate resin and / or polyarylate resin.

電荷輸送層が最表層とならない場合、結着樹脂としては、ポリスチレン、スチレン−アクリロニトリル共重合体、スチレン−ブタジエン共重合体、スチレン−無水マレイン酸共重合体、ポリエステル、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリ酢酸ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリアリレート樹脂、フェノキシ樹脂、ポリカーボネート樹脂、酢酸セルロース樹脂、エチルセルロース樹脂、ポリビニルブチラール、ポリビニルホルマール、ポリビニルトルエン、ポリ(N−ビニルカルバゾール)、アクリル樹脂、シリコーン樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、フェノール樹脂、アルキッド樹脂等の熱可塑性又は熱硬化性樹脂を用いることができる。   When the charge transport layer is not the outermost layer, the binder resin is polystyrene, styrene-acrylonitrile copolymer, styrene-butadiene copolymer, styrene-maleic anhydride copolymer, polyester, polyvinyl chloride, vinyl chloride- Vinyl acetate copolymer, polyvinyl acetate, polyvinylidene chloride, polyarylate resin, phenoxy resin, polycarbonate resin, cellulose acetate resin, ethyl cellulose resin, polyvinyl butyral, polyvinyl formal, polyvinyl toluene, poly (N-vinylcarbazole), acrylic resin Further, thermoplastic or thermosetting resins such as silicone resin, epoxy resin, melamine resin, urethane resin, phenol resin, alkyd resin can be used.

電荷輸送物質の添加量は、結着樹脂100重量部に対して、通常、20〜300重量部であり、40〜150重量部が好ましい。   The amount of the charge transport material added is usually 20 to 300 parts by weight, preferably 40 to 150 parts by weight, based on 100 parts by weight of the binder resin.

また、電荷輸送層には、必要に応じて、可塑剤、レベリング剤等を添加してもよい。可塑剤としては、フタル酸ジブチル、フタル酸ジオクチル等の一般の樹脂の可塑剤として使用されているものが挙げられ、その使用量は、結着樹脂に対して、通常、0〜30重量%である。レベリング剤としては、ジメチルシリコーンオイル、メチルフェニルシリコーンオイル等のシリコーンオイル類、側鎖にパーフルオロアルキル基を有するポリマー又はオリゴマーが挙げられ、その使用量は、結着樹脂に対して、通常、0〜1重量%である。   Moreover, you may add a plasticizer, a leveling agent, etc. to a charge transport layer as needed. Examples of the plasticizer include those used as plasticizers for general resins such as dibutyl phthalate and dioctyl phthalate. The amount used is usually 0 to 30% by weight based on the binder resin. is there. Examples of the leveling agent include silicone oils such as dimethyl silicone oil and methylphenyl silicone oil, and polymers or oligomers having a perfluoroalkyl group in the side chain. The amount used is usually 0 with respect to the binder resin. ˜1% by weight.

なお、電荷輸送層の膜厚は、解像度・応答性の点から、25μm以下であることが好ましい。下限値に関しては、使用するシステム(特に、帯電電位等)により異なるが、5μm以上であることが好ましい。   The film thickness of the charge transport layer is preferably 25 μm or less from the viewpoint of resolution and responsiveness. The lower limit value varies depending on the system to be used (particularly, charging potential), but is preferably 5 μm or more.

電荷輸送層は、電荷輸送物質及び結着樹脂を、テトラヒドロフラン、ジオキサン、トルエン、ジクロロメタン、モノクロロベンゼン、ジクロロエタン、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、アセトン等の溶剤に溶解又は分散した塗布液を電荷発生層上に塗布、乾燥することにより形成することができる。   The charge transport layer is formed by coating a charge transport layer and a binder resin on a charge generation layer by applying or dissolving a coating liquid in a solvent such as tetrahydrofuran, dioxane, toluene, dichloromethane, monochlorobenzene, dichloroethane, cyclohexanone, methyl ethyl ketone, acetone, It can be formed by drying.

次に、感光層が単層構造である場合について説明する。   Next, the case where the photosensitive layer has a single layer structure will be described.

感光層は、結着樹脂及び前述した電荷発生物質を含有し、前述した電荷輸送物質をさらに含有して機能分離タイプとしてもよい。   The photosensitive layer may include a binder resin and the above-described charge generation material, and may further include the above-described charge transport material to be a function separation type.

感光層が最表層になる場合、感光層は、アクリル変性ポリオルガノシロキサンと、ポリカーボネート樹脂又はポリアリレート樹脂に極性基を有するモノマーをグラフト重合することにより得られるグラフト共重合体と、フィラーと、電荷発生物質を含有し、電荷輸送物質をさらに含有してもよい。これらのグラフト共重合体は、単独で用いてもよいし、二種以上混合して用いてもよい。このとき、ポリカーボネート樹脂由来のグラフト共重合体及びポリアリレート樹脂由来のグラフト共重合体を混合して用いてもよい。さらに、他のポリカーボネート樹脂及び/又はポリアリレート樹脂と混合して用いてもよい。   When the photosensitive layer is the outermost layer, the photosensitive layer is composed of an acrylic modified polyorganosiloxane, a graft copolymer obtained by graft polymerization of a monomer having a polar group on a polycarbonate resin or polyarylate resin, a filler, a charge, It contains a generating material and may further contain a charge transport material. These graft copolymers may be used alone or in combination of two or more. At this time, a graft copolymer derived from a polycarbonate resin and a graft copolymer derived from a polyarylate resin may be mixed and used. Furthermore, you may mix and use with another polycarbonate resin and / or polyarylate resin.

感光層が最表層とならない場合、結着樹脂としては、前述の電荷輸送層で用いられる結着樹脂を単独で用いてもよいし、前述の電荷発生層で用いられる結着樹脂と混合して用いてもよい。   When the photosensitive layer is not the outermost layer, as the binder resin, the binder resin used in the aforementioned charge transport layer may be used alone, or mixed with the binder resin used in the aforementioned charge generation layer. It may be used.

電荷発生物質の添加量は、結着樹脂100重量部に対して、5〜40重量部であることが好ましい。また、電荷輸送物質の添加量は、結着樹脂100重量部に対して、0〜190重量部であることが好ましく、50〜150重量部がさらに好ましい。   The amount of the charge generation material added is preferably 5 to 40 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the binder resin. The amount of the charge transport material added is preferably 0 to 190 parts by weight and more preferably 50 to 150 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the binder resin.

また、感光層には、必要に応じて、可塑剤やレベリング剤、酸化防止剤等を添加することもできる。   Moreover, a plasticizer, a leveling agent, antioxidant, etc. can also be added to a photosensitive layer as needed.

なお、感光層の膜厚は、通常、5〜25μmである。   The film thickness of the photosensitive layer is usually 5 to 25 μm.

感光層は、電荷発生物質及び結着樹脂を、必要に応じて、電荷輸送物質と共に、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジクロロエタン、シクロヘキサン等の溶剤に溶解又は分散した塗布液を、浸漬塗工法、スプレーコート法、ビードコート法等で塗布、乾燥することによって形成することができる。   The photosensitive layer is formed by a dip coating method, a spray coating method, or a coating solution in which a charge generating material and a binder resin are dissolved or dispersed in a solvent such as tetrahydrofuran, dioxane, dichloroethane, cyclohexane, or the like, if necessary. It can be formed by applying and drying by a bead coating method or the like.

本発明の感光体は、導電性支持体と感光層の間に、下引き層をさらに有することができる。   The photoreceptor of the present invention can further have an undercoat layer between the conductive support and the photosensitive layer.

下引き層は、一般に、樹脂を主成分とするが、下引き層上に、溶剤を含有する塗布液を塗布することを考えると、樹脂は、一般の有機溶剤に対する耐溶剤性が高いことが好ましい。このような樹脂としては、ポリビニルアルコール、カゼイン、ポリアクリル酸ナトリウム等の水溶性樹脂、共重合ナイロン、メトキシメチル化ナイロン等のアルコール可溶性樹脂、ポリウレタン、メラミン樹脂、フェノール樹脂、アルキッド−メラミン樹脂、エポキシ樹脂等の三次元網目構造を形成する硬化型樹脂等が挙げられる。また、下引き層には、モアレ防止、残留電位の低減等のために、酸化チタン、シリカ、アルミナ、酸化ジルコニウム、酸化スズ、酸化インジウム等の金属酸化物の微粉末顔料を添加してもよい。   In general, the undercoat layer is mainly composed of a resin. However, considering that a coating solution containing a solvent is applied on the undercoat layer, the resin may have high solvent resistance to general organic solvents. preferable. Examples of such resins include water-soluble resins such as polyvinyl alcohol, casein, and sodium polyacrylate, alcohol-soluble resins such as copolymer nylon and methoxymethylated nylon, polyurethane, melamine resin, phenol resin, alkyd-melamine resin, and epoxy. Examples thereof include a curable resin that forms a three-dimensional network structure such as a resin. Further, a fine powder pigment of a metal oxide such as titanium oxide, silica, alumina, zirconium oxide, tin oxide, or indium oxide may be added to the undercoat layer in order to prevent moire and reduce residual potential. .

さらに、下引き層としては、シランカップリング剤、チタンカップリング剤、クロムカップリング剤等を用いることもできる。   Furthermore, as the undercoat layer, a silane coupling agent, a titanium coupling agent, a chromium coupling agent, or the like can be used.

これらの他の下引き層としては、Alを陽極酸化で設けたもの、ポリパラキシリレン(パリレン)等の有機物、SiO、SnO、TiO、ITO、CeO等の無機物を真空薄膜作成法で設けたもの等も用いることができる。 As these other undercoat layers, Al 2 O 3 provided by anodic oxidation, organic substances such as polyparaxylylene (parylene), inorganic substances such as SiO 2 , SnO 2 , TiO 2 , ITO, CeO 2 are used. What was provided by the vacuum thin film preparation method etc. can also be used.

下引き層の膜厚は、通常、0〜5μmである。   The thickness of the undercoat layer is usually 0 to 5 μm.

下引き層は、前述した感光層と同様の溶剤、塗工法を用いて形成することができる。   The undercoat layer can be formed using the same solvent and coating method as those for the photosensitive layer described above.

本発明の感光体は、機械的耐久性を向上させることを目的として、感光層上に保護層を有することができる。   The photoreceptor of the present invention can have a protective layer on the photosensitive layer for the purpose of improving mechanical durability.

保護層は、アクリル変性ポリオルガノシロキサンと、ポリカーボネート樹脂又はポリアリレート樹脂に極性基を有するモノマーをグラフト重合することにより得られるグラフト共重合体と、フィラーを含有する。これらのグラフト共重合体は、単独で用いてもよいし、二種以上混合して用いてもよい。このとき、ポリカーボネート樹脂由来のグラフト共重合体及びポリアリレート樹脂由来のグラフト共重合体を混合して用いてもよい。さらに、他のポリカーボネート樹脂及び/又はポリアリレート樹脂と混合して用いてもよい。   The protective layer contains an acrylic-modified polyorganosiloxane, a graft copolymer obtained by graft polymerization of a monomer having a polar group on a polycarbonate resin or polyarylate resin, and a filler. These graft copolymers may be used alone or in combination of two or more. At this time, a graft copolymer derived from a polycarbonate resin and a graft copolymer derived from a polyarylate resin may be mixed and used. Furthermore, you may mix and use with another polycarbonate resin and / or polyarylate resin.

保護層は、残留電位の低減、応答性の改良のため、電荷輸送物質を含有することが好ましい。電荷輸送物質は、前述の電荷輸送層で用いられる電荷輸送物質を用いることができる。なお、電荷輸送物質として、低分子の電荷輸送物質を用いる場合には、保護層中に濃度勾配を有しても構わない。このとき、耐摩耗性を向上させるためには、電荷輸送物質の表面側の濃度を低くすることが好ましい。また、保護層には、電荷輸送物質としての機能とバインダーの機能を持った高分子電荷輸送物質も用いることができる。   The protective layer preferably contains a charge transport material in order to reduce residual potential and improve responsiveness. As the charge transport material, the charge transport material used in the above-described charge transport layer can be used. Note that when a low-molecular charge transport material is used as the charge transport material, the protective layer may have a concentration gradient. At this time, in order to improve the wear resistance, it is preferable to reduce the concentration on the surface side of the charge transport material. In addition, a polymer charge transport material having a function as a charge transport material and a function of a binder can also be used for the protective layer.

保護層の膜厚は、1.0〜8.0μmであることが好ましい。   The thickness of the protective layer is preferably 1.0 to 8.0 μm.

一般に、長期的に繰り返し使用される感光体は、機械的に耐久性が高く、摩耗しにくいものとするが、実機内では、帯電部材等から、オゾン、NOxガス等が発生し、感光体の表面に付着し、画像流れが発生する。画像流れを抑制するためには、感光層をある一定速度以上で摩耗する必要がある。このため、長期的な繰り返し使用を考慮した場合、保護層の膜厚は、1.0μm以上であることが好ましい。また、保護層の膜厚が8.0μmより大きい場合は、残留電位の上昇や微細ドット再現性の低下が発生することがある。   In general, a photoconductor that is used repeatedly over a long period of time is mechanically durable and difficult to wear. However, in an actual machine, ozone, NOx gas, and the like are generated from a charging member and the like. It adheres to the surface and causes image flow. In order to suppress image flow, it is necessary to wear the photosensitive layer at a certain speed or higher. For this reason, when considering long-term repeated use, the thickness of the protective layer is preferably 1.0 μm or more. On the other hand, when the thickness of the protective layer is greater than 8.0 μm, the residual potential may increase or the fine dot reproducibility may decrease.

保護層の塗工法としては、浸漬塗工法、スプレー塗工法、ビードコート法、ノズルコート法、スピナーコート法、リングコート法等を用いることができるが、一般に、微小開口部を有するノズルより塗布液を吐出し、霧化することにより生成した微小液滴を感光層上に付着させて塗膜を形成するスプレー塗工法が用いられる。   As the coating method of the protective layer, a dip coating method, a spray coating method, a bead coating method, a nozzle coating method, a spinner coating method, a ring coating method and the like can be used, but in general, a coating solution from a nozzle having a minute opening. A spray coating method is used in which fine droplets generated by spraying and atomizing are deposited on the photosensitive layer to form a coating film.

本発明においては、耐環境性の改善のため、とりわけ、感度の低下、残留電位の上昇を抑制する目的で、酸化防止剤、可塑剤、滑剤、紫外線吸収剤、低分子の電荷輸送物質、レベリング剤等の添加剤を各層に添加することができる。また、塗布液中のフィラーの分散性を向上させるために、分散安定剤を添加することができる。これらの添加剤の具体例を以下に示す。   In the present invention, for the purpose of improving the environmental resistance, in particular, for the purpose of suppressing a decrease in sensitivity and an increase in residual potential, an antioxidant, a plasticizer, a lubricant, an ultraviolet absorber, a low molecular charge transport material, a leveling Additives such as agents can be added to each layer. Further, a dispersion stabilizer can be added in order to improve the dispersibility of the filler in the coating solution. Specific examples of these additives are shown below.

各層に添加できる酸化防止剤としては、例えば、以下のものが挙げられるが、これらに限定されるものではない。
(a)フェノール系化合物
2,6−ジ−t−ブチル−p−クレゾール、ブチル化ヒドロキシアニソール、2,6−ジ−t−ブチル−4−エチルフェノール、n−オクタデシル−3−(4’−ヒドロキシ−3’,5’−ジ−t−ブチルフェノール)、2,2’−メチレンビス(4−メチル−6−t−ブチルフェノール)、2,2’−メチレンビス(4−エチル−6−t−ブチルフェノール)、4,4’−チオビス(3−メチル−6−t−ブチルフェノール)、4,4’−ブチリデンビス(3−メチル−6−t−ブチルフェノール)、1,1,3−トリス(2−メチル−4−ヒドロキシ−5−t−ブチルフェニル)ブタン、1,3,5−トリメチル−2,4,6−トリス(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)ベンゼン、テトラキス[メチレン−3−(3’,5’−ジ−t−ブチル−4’−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]メタン、ビス[3,3’−ビス(4’−ヒドロキシ−3’−t−ブチルフェニル)ブチリックアシッド]グリコールエステル、トコフェロール類等。
(b)p−フェニレンジアミン類
N−フェニル−N’−イソプロピル−p−フェニレンジアミン、N,N’−ジ−s−ブチル−p−フェニレンジアミン、N−フェニル−N−s−ブチル−p−フェニレンジアミン、N,N’−ジイソプロピル−p−フェニレンジアミン、N,N’−ジメチル−N,N’−ジ−t−ブチル−p−フェニレンジアミン等。
(c)ハイドロキノン類
2,5−ジ−t−オクチルハイドロキノン、2,6−ジドデシルハイドロキノン、2−ドデシルハイドロキノン、2−ドデシル−5−クロロハイドロキノン、2−t−オクチル−5−メチルハイドロキノン、2−(2−オクタデセニル)−5−メチルハイドロキノン等。
(d)有機硫黄化合物類
3,3’−チオジプロピオン酸ジラウリル、3,3’−チオジプロピオン酸ジステアリル、3,3’−チオジプロピオン酸ジテトラデシル等。
(e)有機リン化合物類
トリフェニルホスフィン、トリス(ノニルフェニル)ホスフィン、トリス(ジノニルフェニル)ホスフィン、トリクレジルホスフィン、トリス(2,4−ジブチルフェノキシ)ホスフィン等。
Examples of the antioxidant that can be added to each layer include, but are not limited to, the following.
(A) Phenol compound 2,6-di-t-butyl-p-cresol, butylated hydroxyanisole, 2,6-di-t-butyl-4-ethylphenol, n-octadecyl-3- (4′- Hydroxy-3 ', 5'-di-t-butylphenol), 2,2'-methylenebis (4-methyl-6-t-butylphenol), 2,2'-methylenebis (4-ethyl-6-t-butylphenol) 4,4′-thiobis (3-methyl-6-tert-butylphenol), 4,4′-butylidenebis (3-methyl-6-tert-butylphenol), 1,1,3-tris (2-methyl-4 -Hydroxy-5-t-butylphenyl) butane, 1,3,5-trimethyl-2,4,6-tris (3,5-di-t-butyl-4-hydroxybenzyl) benzene, tetrakis [meth] -3- (3 ′, 5′-di-t-butyl-4′-hydroxyphenyl) propionate] methane, bis [3,3′-bis (4′-hydroxy-3′-t-butylphenyl) buty Rick acid] glycol ester, tocopherols and the like.
(B) p-phenylenediamines N-phenyl-N′-isopropyl-p-phenylenediamine, N, N′-di-s-butyl-p-phenylenediamine, N-phenyl-Ns-butyl-p- Phenylenediamine, N, N′-diisopropyl-p-phenylenediamine, N, N′-dimethyl-N, N′-di-t-butyl-p-phenylenediamine and the like.
(C) Hydroquinones 2,5-di-t-octylhydroquinone, 2,6-didodecylhydroquinone, 2-dodecylhydroquinone, 2-dodecyl-5-chlorohydroquinone, 2-t-octyl-5-methylhydroquinone, 2 -(2-octadecenyl) -5-methylhydroquinone and the like.
(D) Organic sulfur compounds Dilauryl 3,3′-thiodipropionate, distearyl 3,3′-thiodipropionate, ditetradecyl 3,3′-thiodipropionate, and the like.
(E) Organophosphorus compounds Triphenylphosphine, tris (nonylphenyl) phosphine, tris (dinonylphenyl) phosphine, tricresylphosphine, tris (2,4-dibutylphenoxy) phosphine and the like.

各層に添加できる可塑剤としては、例えば、以下のものが挙げられるが、これらに限定されるものではない。
(a)リン酸エステル系可塑剤
リン酸トリフェニル、リン酸トリクレジル、リン酸トリオクチル、リン酸オクチルジフェニル、リン酸トリクロロエチル、リン酸クレジルジフェニル、リン酸トリブチル、リン酸トリス(2−エチルヘキシル)、リン酸トリフェニル等。
(b)フタル酸エステル系可塑剤
フタル酸ジメチル、フタル酸ジエチル、フタル酸ジイソブチル、フタル酸ジブチル、フタル酸ジヘプチル、フタル酸ビス(2−エチルヘキシル)、フタル酸ジイソオクチル、フタル酸ジ−n−オクチル、フタル酸ジノニル、フタル酸ジイソノニル、フタル酸ジイソデシル、フタル酸ジウンデシル、フタル酸ジトリデシル、フタル酸ジシクロヘキシル、フタル酸ブチルベンジル、フタル酸ブチルラウリル、フタル酸メチルオレイル、フタル酸オクチルデシル、フマル酸ジブチル、フマル酸ジオクチル等。
(c)芳香族カルボン酸エステル系可塑剤
トリメリット酸トリオクチル、トリメリット酸トリ−n−オクチル、オキシ安息香酸オクチル等。
(d)脂肪族二塩基酸エステル系可塑剤
アジピン酸ジブチル、アジピン酸ジ−n−ヘキシル、アジピン酸ビス(2−エチルヘキシル)、アジピン酸ジ−n−オクチル、アジピン酸n−オクチル−n−デシル、アジピン酸ジイソデシル、アジピン酸ジカプリル、アゼライン酸ビス(2−エチルヘキシル)、セバシン酸ジメチル、セバシン酸ジエチル、セバシン酸ジブチル、セバシン酸ジ−n−オクチル、セバシン酸ビス(2−エチルヘキシル)、セバシン酸ビス(2−エトキシエチル)、コハク酸ジオクチル、コハク酸ジイソデシル、テトラヒドロフタル酸ジオクチル、テトラヒドロフタル酸ジ−n−オクチル等。
(e)脂肪酸エステル誘導体
オレイン酸ブチル、グリセリンモノオレエート、アセチルリシノール酸メチル、ペンタエリスリトールエステル、ジペンタエリスリトールヘキサエステル、トリアセチン、トリブチリン等。
(f)オキシ酸エステル系可塑剤
アセチルリシノール酸メチル、アセチルリシノール酸ブチル、ブチルフタリルブチルグリコレート、アセチルクエン酸トリブチル等。
(g)エポキシ可塑剤
エポキシ化大豆油、エポキシ化アマニ油、エポキシステアリン酸ブチル、エポキシステアリン酸デシル、エポキシステアリン酸オクチル、エポキシステアリン酸ベンジル、エポキシヘキサヒドロフタル酸ジオクチル、エポキシヘキサヒドロフタル酸ジデシル等。
(h)二価アルコールエステル系可塑剤
ジエチレングリコールジベンゾエート、トリエチレングリコールビス(2−エチルブチラート)等。
(i)含塩素可塑剤
塩素化パラフィン、塩素化ジフェニル、塩素化脂肪酸メチル、メトキシ塩素化脂肪酸メチル等。
(j)ポリエステル系可塑剤
ポリプロピレンアジペート、ポリプロピレンセバケート、ポリエステル、アセチル化ポリエステル等。
(k)スルホン酸誘導体
p−トルエンスルホンアミド、o−トルエンスルホンアミド、N−エチル−p−トルエンスルホンアミド、N−エチル−o−トルエンスルホンアミド、N−シクロヘキシル−p−トルエンスルホンアミド等。
(l)クエン酸誘導体
クエン酸トリエチル、アセチルクエン酸トリエチル、クエン酸トリブチル、アセチルクエン酸トリブチル、アセチルクエン酸トリス(2−エチルヘキシル)、アセチルクエン酸n−オクチルデシル等。
(m)その他
ターフェニル、部分水添ターフェニル、ショウノウ、2−ニトロジフェニル、ジノニルナフタリン、アビエチン酸メチル等。
Examples of the plasticizer that can be added to each layer include the following, but are not limited thereto.
(A) Phosphate ester plasticizer Triphenyl phosphate, tricresyl phosphate, trioctyl phosphate, octyl diphenyl phosphate, trichloroethyl phosphate, cresyl diphenyl phosphate, tributyl phosphate, tris phosphate (2-ethylhexyl) , Triphenyl phosphate and the like.
(B) Phthalate ester plasticizers Dimethyl phthalate, diethyl phthalate, diisobutyl phthalate, dibutyl phthalate, diheptyl phthalate, bis (2-ethylhexyl) phthalate, diisooctyl phthalate, di-n-octyl phthalate, Dinonyl phthalate, diisononyl phthalate, diisodecyl phthalate, diundecyl phthalate, ditridecyl phthalate, dicyclohexyl phthalate, butyl benzyl phthalate, butyl lauryl phthalate, methyl oleyl phthalate, octyl decyl phthalate, dibutyl fumarate, fumaric acid Dioctyl etc.
(C) Aromatic carboxylic acid ester plasticizers Trioctyl trimellitic acid, tri-n-octyl trimellitic acid, octyl oxybenzoate and the like.
(D) Aliphatic dibasic ester plasticizer dibutyl adipate, di-n-hexyl adipate, bis (2-ethylhexyl) adipate, di-n-octyl adipate, n-octyl-n-decyl adipate , Diisodecyl adipate, dicapryl adipate, bis (2-ethylhexyl) azelate, dimethyl sebacate, diethyl sebacate, dibutyl sebacate, di-n-octyl sebacate, bis (2-ethylhexyl) sebacate, bis sebacate (2-ethoxyethyl), dioctyl succinate, diisodecyl succinate, dioctyl tetrahydrophthalate, di-n-octyl tetrahydrophthalate and the like.
(E) Fatty acid ester derivatives butyl oleate, glycerin monooleate, methyl acetylricinoleate, pentaerythritol ester, dipentaerythritol hexaester, triacetin, tributyrin and the like.
(F) Oxyacid ester plasticizers Methyl acetyl ricinoleate, butyl acetyl ricinoleate, butyl phthalyl butyl glycolate, tributyl acetyl citrate and the like.
(G) Epoxy plasticizer Epoxidized soybean oil, epoxidized linseed oil, epoxy butyl stearate, decyl epoxy stearate, octyl epoxy stearate, benzyl epoxy stearate, dioctyl epoxy hexahydrophthalate, didecyl epoxy hexahydrophthalate, etc. .
(H) Dihydric alcohol ester plasticizers Diethylene glycol dibenzoate, triethylene glycol bis (2-ethylbutyrate) and the like.
(I) Chlorinated plasticizer Chlorinated paraffin, chlorinated diphenyl, chlorinated fatty acid methyl, methoxychlorinated fatty acid methyl, and the like.
(J) Polyester plasticizer Polypropylene adipate, polypropylene sebacate, polyester, acetylated polyester and the like.
(K) Sulfonic acid derivatives p-toluenesulfonamide, o-toluenesulfonamide, N-ethyl-p-toluenesulfonamide, N-ethyl-o-toluenesulfonamide, N-cyclohexyl-p-toluenesulfonamide and the like.
(L) Citric acid derivatives Triethyl citrate, triethyl acetyl citrate, tributyl citrate, tributyl acetyl citrate, tris (2-ethylhexyl) citrate, n-octyldecyl acetyl citrate and the like.
(M) Others Terphenyl, partially hydrogenated terphenyl, camphor, 2-nitrodiphenyl, dinonylnaphthalene, methyl abietate and the like.

各層に添加できる滑剤としては、例えば、以下のものが挙げられるが、これらに限定されるものではない。
(a)炭化水素系化合物
流動パラフィン、パラフィンワックス、マイクロワックス、低重合ポリエチレン等。
(b)脂肪酸系化合物
ラウリン酸、ミリスチン酸、パルチミン酸、ステアリン酸、アラキジン酸、ベヘン酸等。
(c)脂肪酸アミド系化合物
ステアリルアミド、パルミチルアミド、オレイルアミド、メチレンビス(ステアリルアミド)、エチレンビス(ステアリルアミド)等。
(d)エステル系化合物
脂肪酸の低級アルコールエステル、脂肪酸の多価アルコールエステル、脂肪酸のポリグリコールエステル等。
(e)アルコール系化合物
セチルアルコール、ステアリルアルコール、エチレングリコール、ポリエチレングリコール、ポリグリセロール等。
(f)金属石けん
ステアリン酸鉛、ステアリン酸カドミウム、ステアリン酸バリウム、ステアリン酸カルシウム、ステアリン酸亜鉛、ステアリン酸マグネシウム等。
(g)天然ワックス
カルナバロウ、カンデリラロウ、蜜ロウ、鯨ロウ、イボタロウ、モンタンロウ等。
(h)その他
シリコーン化合物、フッ素化合物等。
Examples of the lubricant that can be added to each layer include, but are not limited to, the following.
(A) Hydrocarbon compound Liquid paraffin, paraffin wax, microwax, low-polymerized polyethylene and the like.
(B) Fatty acid compounds Lauric acid, myristic acid, palmitic acid, stearic acid, arachidic acid, behenic acid and the like.
(C) Fatty acid amide compounds Stearylamide, palmitylamide, oleylamide, methylenebis (stearylamide), ethylenebis (stearylamide) and the like.
(D) Ester compounds Lower alcohol esters of fatty acids, polyhydric alcohol esters of fatty acids, polyglycol esters of fatty acids, and the like.
(E) Alcohol compounds Cetyl alcohol, stearyl alcohol, ethylene glycol, polyethylene glycol, polyglycerol and the like.
(F) Metal soap Lead stearate, cadmium stearate, barium stearate, calcium stearate, zinc stearate, magnesium stearate and the like.
(G) Natural wax Carnauba wax, candelilla wax, beeswax, whale wax, ibotarou, montan wax and the like.
(H) Others Silicone compounds, fluorine compounds, etc.

各層に添加できる紫外線吸収剤としては、例えば、以下のものが挙げられるが、これらに限定されるものではない。
(a)ベンゾフェノン系
2−ヒドロキシベンゾフェノン、2,4−ジヒドロキシベンゾフェノン、2,2’,4−トリヒドロキシベンゾフェノン、2,2’,4,4’−テトラヒドロキシベンゾフェノン、2,2’−ジヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン等。
(b)サルシレート系
サリチル酸フェニル、3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシ安息香酸2,4−ジ−t−ブチルフェニル等。
(c)ベンゾトリアゾール系
(2’−ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾール、(2’−ヒドロキシ−5’−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール、(2’−ヒドロキシ−5’−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール、(2’−ヒドロキシ−3’−t−ブチル−5’−メチルフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール等。
(d)シアノアクリレート系
2−シアノ−3,3−ジフェニルアクリル酸エチル等。
(e)クエンチャー(金属錯塩系)
ニッケル(2,2’−チオビス(4−t−オクチルフェノレート)n−ブチルアミン、ニッケルジブチルジチオカルバメート、コバルトジシクロヘキシルジチオホスフェート等。
(f)HALS(ヒンダードアミン)
セバシン酸ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)、セバシン酸ビス(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジル)、1−[2−〔3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオニルオキシ〕エチル]−4−〔3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオニルオキシ〕−2,2,6,6−テトラメチルピリジン、8−ベンジル−7,7,9,9−テトラメチル−3−オクチル−1,3,8−トリアザスピロ〔4,5〕ウンデカン−2,4−ジオン、4−ベンゾイルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン等。
Examples of the ultraviolet absorber that can be added to each layer include the following, but are not limited thereto.
(A) Benzophenone series 2-hydroxybenzophenone, 2,4-dihydroxybenzophenone, 2,2 ', 4-trihydroxybenzophenone, 2,2', 4,4'-tetrahydroxybenzophenone, 2,2'-dihydroxy-4 -Methoxybenzophenone and the like.
(B) salicylate-based phenyl salicylate, 3,5-di-t-butyl-4-hydroxybenzoate 2,4-di-t-butylphenyl, and the like.
(C) Benzotriazole series (2′-hydroxyphenyl) benzotriazole, (2′-hydroxy-5′-methylphenyl) benzotriazole, (2′-hydroxy-5′-methylphenyl) benzotriazole, (2′- Hydroxy-3'-t-butyl-5'-methylphenyl) -5-chlorobenzotriazole and the like.
(D) Cyanoacrylate-based ethyl 2-cyano-3,3-diphenylacrylate.
(E) Quencher (metal complex)
Nickel (2,2′-thiobis (4-t-octylphenolate) n-butylamine, nickel dibutyldithiocarbamate, cobalt dicyclohexyldithiophosphate and the like.
(F) HALS (hindered amine)
Bis (2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) sebacate, bis (1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidyl) sebacate, 1- [2- [3- ( 3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propionyloxy] ethyl] -4- [3- (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propionyloxy] -2,2, 6,6-tetramethylpyridine, 8-benzyl-7,7,9,9-tetramethyl-3-octyl-1,3,8-triazaspiro [4,5] undecane-2,4-dione, 4-benzoyl Oxy-2,2,6,6-tetramethylpiperidine and the like.

次に、図面を用いて、本発明の画像形成方法及び画像形成装置を詳しく説明する。   Next, the image forming method and the image forming apparatus of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

図7は、本発明の画像形成装置の一例を示す図であり、後述するような変形例も本発明の範疇に属するものである。   FIG. 7 is a diagram showing an example of the image forming apparatus of the present invention, and modifications as will be described later also belong to the category of the present invention.

図7において、感光体31は、本発明の感光体である。感光体31は、ドラム状の形状を示しているが、シート状又はエンドレスベルト状であってもよい。帯電部材(ローラ)32、転写前チャージャ33、クリーニング前チャージャ34には、コロトロン、スコロトロン、固体帯電器(ソリッド・ステート・チャージャ)、帯電ローラ等の公知の手段が用いられる。帯電部材32は、感光体31に対して、接触又は近接配置したものが良好に用いられる。また、帯電部材32により感光体31を帯電する際に、帯電部材32の直流成分に対して交流成分を重畳した電界により感光体31に帯電を与えることにより、帯電ムラを低減することが可能で効果的である。このとき、不要な電荷は、イレーサ35により、消去される。   In FIG. 7, a photoconductor 31 is the photoconductor of the present invention. The photoconductor 31 has a drum shape, but may have a sheet shape or an endless belt shape. As the charging member (roller) 32, the pre-transfer charger 33, and the pre-cleaning charger 34, known means such as a corotron, a scorotron, a solid state charger (solid state charger), and a charging roller are used. As the charging member 32, a member that is in contact with or close to the photosensitive member 31 is preferably used. Further, when charging the photosensitive member 31 by the charging member 32, charging unevenness can be reduced by charging the photosensitive member 31 with an electric field in which an alternating current component is superimposed on a direct current component of the charging member 32. It is effective. At this time, unnecessary charges are erased by the eraser 35.

転写手段としては、転写ベルト36の他に、上記の帯電器が使用できるが、転写チャージャと分離チャージャを併用したものが効果的である。   As the transfer means, in addition to the transfer belt 36, the above charger can be used, but a combination of a transfer charger and a separation charger is effective.

また、画像露光部37、除電ランプ38等の光源としては、蛍光灯、タングステンランプ、ハロゲンランプ、水銀灯、ナトリウム灯、発光ダイオード(LED)、半導体レーザー(LD)、エレクトロルミネッセンス(EL)等の発光物全般を用いることができるが、中でも、発光ダイオード、半導体レーザーが好ましい。そして、所望の波長域の光のみを照射するために、シャープカットフィルター、バンドパスフィルター、近赤外カットフィルター、ダイクロイックフィルター干渉フィルター、色温度変換フィルター等の各種フィルターを用いることもできる。   Light sources such as the image exposure unit 37 and the charge removal lamp 38 are fluorescent lamps, tungsten lamps, halogen lamps, mercury lamps, sodium lamps, light emitting diodes (LED), semiconductor lasers (LD), electroluminescence (EL), and the like. In general, light emitting diodes and semiconductor lasers are preferable. Various types of filters such as a sharp cut filter, a band pass filter, a near infrared cut filter, a dichroic filter interference filter, and a color temperature conversion filter can be used to irradiate only light in a desired wavelength range.

このような光源は、図7に示される工程の他に、光照射を併用した転写工程、除電工程、クリーニング工程、前露光等の工程を設けて、感光体31に光を照射してもよい。   In addition to the steps shown in FIG. 7, such a light source may be provided with a transfer step using light irradiation, a static elimination step, a cleaning step, a pre-exposure step, etc. to irradiate the photoreceptor 31 with light. .

現像ユニット39により、感光体31上に現像されたトナーは、レジストローラ40により、感光体31上への画像形成とタイミングを合わせて送られた転写紙41に転写され、分離爪42により、転写紙40が分離される。このとき、感光体31上のトナーは、全部が転写されるわけではなく、感光体31上に残存するトナーも生じる。このようなトナーは、クリーニングブラシ43及びクリーニングブレード44により、感光体31から除去される。クリーニングは、クリーニングブラシ43だけで行われることもあり、クリーニングブラシ43としては、ファーブラシ、マグファーブラシ等の公知のものが用いられる。   The toner developed on the photosensitive member 31 by the developing unit 39 is transferred by the registration roller 40 to the transfer paper 41 sent in time with the image formation on the photosensitive member 31, and transferred by the separation claw 42. The paper 40 is separated. At this time, not all of the toner on the photoconductor 31 is transferred, and some toner remains on the photoconductor 31. Such toner is removed from the photoreceptor 31 by the cleaning brush 43 and the cleaning blade 44. The cleaning may be performed only by the cleaning brush 43, and a known brush such as a fur brush or a mag fur brush is used as the cleaning brush 43.

感光体に正(又は負)帯電を施し、画像露光を行うと、感光体の表面上には正(負)の静電潜像が形成される。これを負(又は正)極性のトナー(検電微粒子)で現像すれば、ポジ画像が得られ、また、正(又は負)極性のトナーで現像すれば、ネガ画像が得られる。   When the photosensitive member is positively (or negatively) charged and image exposure is performed, a positive (negative) electrostatic latent image is formed on the surface of the photosensitive member. If this is developed with a negative (or positive) toner (electric detection fine particles), a positive image is obtained, and if developed with a positive (or negative) toner, a negative image is obtained.

このような現像手段には、公知の方法が適用され、また、除電手段にも公知の方法が適用される。   A known method is applied to such a developing unit, and a known method is also applied to the charge eliminating unit.

図8に、本発明の画像形成装置の他の例を示す。感光体51は、本発明の感光体である。感光体51は、駆動ローラ52a、52bにより駆動され、帯電器(ローラ)53による帯電、光源54による画像露光、現像(図示せず)、帯電器54を用いる転写、光源55によるクリーニング前露光、クリーニングブラシ56によるクリーニング、光源57による除電が繰り返し行われる。図8においては、感光体51に、導電性支持体側からクリーニング前露光の光照射が行われるが、この場合、導電性支持体は、透光性である。   FIG. 8 shows another example of the image forming apparatus of the present invention. The photoconductor 51 is the photoconductor of the present invention. The photoconductor 51 is driven by driving rollers 52a and 52b, and is charged by a charger 53, image exposure by a light source 54, development (not shown), transfer using the charger 54, pre-cleaning exposure by a light source 55, Cleaning with the cleaning brush 56 and static elimination with the light source 57 are repeated. In FIG. 8, the photoreceptor 51 is irradiated with light for exposure before cleaning from the side of the conductive support. In this case, the conductive support is translucent.

図8に示す画像形成方法は、本発明の実施形態を例示するものであり、他の実施形態も可能である。例えば、図8において、導電性支持体側からクリーニング前露光を行っているが、感光層側から行ってもよいし、また、像露光及び除電光の照射を導電性支持体側から行ってもよい。   The image forming method shown in FIG. 8 exemplifies an embodiment of the present invention, and other embodiments are possible. For example, in FIG. 8, the pre-cleaning exposure is performed from the conductive support side, but it may be performed from the photosensitive layer side, or image exposure and neutralizing light irradiation may be performed from the conductive support side.

一方、光照射工程としては、像露光、クリーニング前露光、除電露光が図示されているが、これらの他に、転写前の露光や、画像露光のプレ露光を行ってもよいし、公知の光照射工程を設けて、感光体に光照射を行うこともできる。   On the other hand, as the light irradiation process, image exposure, pre-cleaning exposure, and static elimination exposure are illustrated, but in addition to these, exposure before transfer and pre-exposure of image exposure may be performed, An irradiation step may be provided to irradiate the photoconductor with light.

以上に示すような画像形成手段は、複写装置、ファクシミリ、プリンター等の画像形成装置内に固定して組み込まれていてもよいが、プロセスカートリッジの形で画像形成装置内に組み込まれてもよい。プロセスカートリッジとは、感光体を内蔵し、他に、帯電手段、露光手段、現像手段、転写手段、クリーニング手段、除電手段等を含んだ1つの装置(部品)である。プロセスカートリッジの形状等は多く挙げられるが、一般的な例として、図9に示すものが挙げられる。図9のプロセスカートリッジは、感光体61、帯電部材62画像露光部63、現像ローラ64、転写ローラ65及びクリーニングブラシ66を有する。なお、感光体61は、本発明の感光体である。   The image forming means as described above may be fixedly incorporated in an image forming apparatus such as a copying apparatus, a facsimile machine, or a printer, but may be incorporated in the image forming apparatus in the form of a process cartridge. A process cartridge is a single device (part) that contains a photoreceptor and includes a charging unit, an exposure unit, a developing unit, a transfer unit, a cleaning unit, a charge eliminating unit, and the like. There are many shapes and the like of the process cartridge, but a general example is shown in FIG. The process cartridge shown in FIG. 9 includes a photoreceptor 61, a charging member 62, an image exposure unit 63, a developing roller 64, a transfer roller 65, and a cleaning brush 66. The photoreceptor 61 is the photoreceptor of the present invention.

以下、本発明を実施例及び比較例により説明するが、これにより本発明の態様が限定されるものではない。なお、部は、重量部を意味する。
(合成例1)ビニルピリジングラフトビスフェノールZ型ポリカーボネートの合成
ビスフェノールZ型ポリカーボネートTS2050(帝人社製)3.0g、4−ビニルピリジン0.3g、乾燥BPO(ベンゾイルパーオキサイド)0.1gを脱水トルエン40mlに溶解させ、アルゴンガス雰囲気下、100℃で5時間加熱撹拌を行った。室温で放置した後、ジクロロメタンで希釈し、メタノールにより再沈殿させた。次に、ジクロロメタンに溶解させ、水を加え、有機層を水洗した後、再度メタノールにより再沈殿させて単離乾燥し、極薄黄白色のビニルピリジングラフトビスフェノールZ型ポリカーボネート2.97gを得た。
EXAMPLES Hereinafter, although an Example and a comparative example demonstrate this invention, this does not limit the aspect of this invention. In addition, a part means a weight part.
(Synthesis Example 1) Synthesis of vinylpyridine-grafted bisphenol Z-type polycarbonate 3.0 g of bisphenol Z-type polycarbonate TS2050 (manufactured by Teijin Ltd.), 0.3 g of 4-vinylpyridine, 0.1 g of dry BPO (benzoyl peroxide) and 40 ml of dehydrated toluene Then, the mixture was heated and stirred at 100 ° C. for 5 hours under an argon gas atmosphere. After standing at room temperature, it was diluted with dichloromethane and reprecipitated with methanol. Next, it was dissolved in dichloromethane, water was added, the organic layer was washed with water, reprecipitated again with methanol, and isolated and dried to obtain 2.97 g of an ultrathin yellowish white vinylpyridine grafted bisphenol Z-type polycarbonate.

GPCによる重量平均分子量は、146300であった。また、H−NMR分析によりグラフト量を測定したところ、688ユニットのビスフェノールZカーボネートに対して、1ユニットのビニルピリジンがグラフトしていた。グラフト量は、ビニルピリジン環のプロトン4個分の積分値とベンゼン環のプロトン8個分の積分値から計算した。なお、原料のビスフェノールZ型ポリカーボネートのGPCによる重量平均分子量は、147000であった。
(合成例2)アクリル酸グラフトビスフェノールZ型ポリカーボネートの合成
ビスフェノールZ型ポリカーボネートTS2050(帝人社製)3.0g、アクリル酸0.3g、乾燥BPO(ベンゾイルパーオキサイド)0.1gを脱水トルエン40mlに溶解させ、アルゴンガス雰囲気下、100℃で5時間加熱撹拌を行った。室温で放置した後、ジクロロメタンで希釈し、メタノールにより再沈殿させた。次に、ジクロロメタンに溶解させ、水を加え、有機層を水洗した後、再度メタノールにより再沈殿させて単離乾燥し、白色のアクリル酸グラフトビスフェノールZ型ポリカーボネート2.95gを得た。GPCによる重量平均分子量は、146700であった。
(合成例3)ビニルピリジングラフトビスフェノールZ型ポリアリレートの合成
1,1’−ビス(4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサン2.68g(10mmol)を反応容器に入れ、4−t−ブチルフェノール15.0mg(0.1mmol)と水酸化ナトリウム1.52g(38mmol)を水50mlに溶解させた後、相間移動触媒であるBTEAC(ベンジルトリエチルアンモニウムクロライド)13.6mg(0.06mmol)を添加し、溶解させた(水相)。別に、テラフタル酸クロライドとイソフタル酸クロライドの1:1の混合物2.03g(10.02mmol)をジクロロメタン40mlに溶解させた(有機相)。反応容器を20℃に保ち、水相を650rpmで撹拌させながら有機相を添加した。この状態で5時間反応を行った後、撹拌を停止し、水相と有機相を分離させた。有機相を酢酸水溶液にて中和し、さらに有機相を3回水洗した。次に、メタノールにより再沈殿させて単離乾燥し、白色のビスフェノールZ型ポリアリレート3.81gを得た。重合収率は、95.4%であった。また、GPCによる重量平均分子量は、153500であった。
The weight average molecular weight by GPC was 146300. Further, when the graft amount was measured by 1 H-NMR analysis, 1 unit of vinylpyridine was grafted to 688 units of bisphenol Z carbonate. The graft amount was calculated from the integral value of 4 protons of the vinylpyridine ring and the integral value of 8 protons of the benzene ring. In addition, the weight average molecular weight by GPC of the raw material bisphenol Z-type polycarbonate was 147000.
(Synthesis Example 2) Synthesis of acrylic acid grafted bisphenol Z type polycarbonate 3.0 g of bisphenol Z type polycarbonate TS2050 (manufactured by Teijin Ltd.), 0.3 g of acrylic acid and 0.1 g of dry BPO (benzoyl peroxide) were dissolved in 40 ml of dehydrated toluene. The mixture was heated and stirred at 100 ° C. for 5 hours under an argon gas atmosphere. After standing at room temperature, it was diluted with dichloromethane and reprecipitated with methanol. Next, it was dissolved in dichloromethane, water was added, the organic layer was washed with water, reprecipitated again with methanol, isolated and dried to obtain 2.95 g of white acrylic acid grafted bisphenol Z type polycarbonate. The weight average molecular weight by GPC was 146700.
Synthesis Example 3 Synthesis of Vinylpyridine Grafted Bisphenol Z-Type Polyarylate 2.68 g (10 mmol) of 1,1′-bis (4-hydroxyphenyl) cyclohexane was placed in a reaction vessel, and 15.0 mg of 4-t-butylphenol (0 .1 mmol) and 1.52 g (38 mmol) of sodium hydroxide were dissolved in 50 ml of water, and then 13.6 mg (0.06 mmol) of BTEAC (benzyltriethylammonium chloride) as a phase transfer catalyst was added and dissolved ( Water phase). Separately, 2.03 g (10.02 mmol) of a 1: 1 mixture of teraphthalic acid chloride and isophthalic acid chloride was dissolved in 40 ml of dichloromethane (organic phase). The organic phase was added while keeping the reaction vessel at 20 ° C. and stirring the aqueous phase at 650 rpm. After performing the reaction in this state for 5 hours, stirring was stopped and the aqueous phase and the organic phase were separated. The organic phase was neutralized with an acetic acid aqueous solution, and the organic phase was washed with water three times. Next, it was reprecipitated with methanol and isolated and dried to obtain 3.81 g of white bisphenol Z-type polyarylate. The polymerization yield was 95.4%. Moreover, the weight average molecular weight by GPC was 153500.

ビスフェノールZ型ポリアリレート3.0g、4−ビニルピリジン0.3g、乾燥BPO(ベンゾイルパーオキサイド)0.1gを脱水トルエン40mlに溶解させ、アルゴンガス雰囲気下、100℃で5時間加熱撹拌を行った。室温で放置した後、ジクロロメタンで希釈し、メタノールにより再沈殿させた。次に、ジクロロメタンに溶解させ、水を加えて、有機層を水洗した後、再度メタノールにより再沈殿させて単離乾燥し、極薄黄白色のビニルピリジングラフトビスフェノールZ型ポリアリレート2.96gを得た。   Bisphenol Z-type polyarylate (3.0 g), 4-vinylpyridine (0.3 g) and dry BPO (benzoyl peroxide) (0.1 g) were dissolved in dehydrated toluene (40 ml), and the mixture was heated and stirred at 100 ° C. for 5 hours in an argon gas atmosphere. . After standing at room temperature, it was diluted with dichloromethane and reprecipitated with methanol. Next, after dissolving in dichloromethane, adding water, washing the organic layer with water, reprecipitating with methanol again and drying it to obtain 2.96 g of ultra-light yellowish white vinylpyridine grafted bisphenol Z polyarylate. It was.

GPCによる重量平均分子量は、153200であった。また、H−NMR分析によりグラフト量を測定したところ、635ユニットのビスフェノールZアリレートに対して、1ユニットのビニルピリジンがグラフトしていた。グラフト量は、ビニルピリジン環のプロトン4個分の積分値とベンゼン環のプロトン12個分の積分値から計算した。
(合成例4)アクリル酸グラフトビスフェノールZ型ポリアリレートの合成
ビスフェノールZ型ポリアリレート3.0g、アクリル酸0.3g、乾燥BPO(ベンゾイルパーオキサイド)0.1gを脱水トルエン40mlに溶解させ、アルゴンガス雰囲気下、100℃で5時間加熱撹拌を行った。室温で放置した後、ジクロロメタンで希釈し、メタノールにより再沈殿させた。次に、ジクロロメタンに溶解させ、水を加え、有機層を水洗した後、再度メタノールにより再沈殿させて単離乾燥し、白色のアクリル酸グラフトビスフェノールZ型ポリアリレート2.93gを得た。GPCによる重量平均分子量は、153100であった。
(合成例5)ビニルピリジングラフトビスフェノールE型ポリカーボネートの合成
4,4’−エチリジンビスフェノール4.28g(20mmol)を反応容器に入れ、4−t−ブチルフェノール30.0mg(0.2mmol)と水酸化ナトリウム6.00g(150mmol)とハイドロサルファイト9.0mg(0.5mmol)を水120mlに室温で溶解させた。次に、トリホスゲン3.56g(12mmol)をジクロロメタン10mlに溶解させたトリホスゲン溶液を15℃で添加し、そのまま15分間撹拌した。さらに、触媒として、トリエチルアミン20.2mg(0.2mmol)を添加し、室温で90分間反応させた後、ジクロロメタンで希釈し、有機相を分離した。この有機相を一度水洗した後、2重量%塩酸水溶液で洗浄し、3回水洗し、メタノールにより再沈殿させてビスフェノールE型ポリカーボネート4.16gを得た。重合収率は、97.5%であった。また、GPCによる重量平均分子量は、151500であった。
The weight average molecular weight by GPC was 153200. Further, when the graft amount was measured by 1 H-NMR analysis, 1 unit of vinylpyridine was grafted to 635 units of bisphenol Z arylate. The graft amount was calculated from the integral value of 4 protons of the vinylpyridine ring and the integral value of 12 protons of the benzene ring.
(Synthesis Example 4) Synthesis of acrylic acid grafted bisphenol Z type polyarylate 3.0 g of bisphenol Z type polyarylate, 0.3 g of acrylic acid and 0.1 g of dry BPO (benzoyl peroxide) were dissolved in 40 ml of dehydrated toluene, and argon gas was added. Under an atmosphere, the mixture was heated and stirred at 100 ° C. for 5 hours. After standing at room temperature, it was diluted with dichloromethane and reprecipitated with methanol. Next, it was dissolved in dichloromethane, water was added, the organic layer was washed with water, then reprecipitated again with methanol and isolated and dried to obtain 2.93 g of white acrylic acid grafted bisphenol Z polyarylate. The weight average molecular weight by GPC was 153100.
(Synthesis Example 5) Synthesis of Vinylpyridine Grafted Bisphenol E Type Polycarbonate 4.28 g (20 mmol) of 4,4′-ethylidine bisphenol was placed in a reaction vessel, and 30.0 mg (0.2 mmol) of 4-t-butylphenol and hydroxylated. Sodium 6.00 g (150 mmol) and hydrosulfite 9.0 mg (0.5 mmol) were dissolved in 120 ml of water at room temperature. Next, a triphosgene solution in which 3.56 g (12 mmol) of triphosgene was dissolved in 10 ml of dichloromethane was added at 15 ° C., and the mixture was stirred as it was for 15 minutes. Further, 20.2 mg (0.2 mmol) of triethylamine was added as a catalyst, reacted at room temperature for 90 minutes, diluted with dichloromethane, and the organic phase was separated. This organic phase was washed once with water, then washed with a 2% by weight aqueous hydrochloric acid solution, washed three times with water, and reprecipitated with methanol to obtain 4.16 g of a bisphenol E type polycarbonate. The polymerization yield was 97.5%. Moreover, the weight average molecular weight by GPC was 151500.

ビスフェノールE型ポリカーボネート3.0g、4−ビニルピリジン0.3g、乾燥BPO(ベンゾイルパーオキサイド)0.1gを脱水トルエン40mlに溶解させ、アルゴンガス雰囲気下、100℃で5時間加熱撹拌を行った。室温で放置した後、ジクロロメタンで希釈し、メタノールにより再沈殿させた。次に、ジクロロメタンに溶解させ、水を加え、有機層を水洗した後、再度メタノールにより再沈殿させて単離乾燥し、極薄黄白色のビニルピリジングラフトビスフェノールE型ポリカーボネート2.95gを得た。   Bisphenol E-type polycarbonate (3.0 g), 4-vinylpyridine (0.3 g), and dry BPO (benzoyl peroxide) (0.1 g) were dissolved in dehydrated toluene (40 ml), and the mixture was heated and stirred at 100 ° C. for 5 hours in an argon gas atmosphere. After standing at room temperature, it was diluted with dichloromethane and reprecipitated with methanol. Next, it was dissolved in dichloromethane, water was added, the organic layer was washed with water, reprecipitated again with methanol, and isolated and dried to obtain 2.95 g of an ultrathin yellowish white vinylpyridine grafted bisphenol E type polycarbonate.

GPCによる重量平均分子量は、150500であった。また、H−NMR分析によりグラフト量を測定したところ、630ユニットのビスフェノールE型カーボネートに対して、1ユニットのビニルピリジンがグラフトしていた。グラフト量は、ビニルピリジン環のプロトン4個分の積分値とベンゼン環のプロトン8個分の積分値から計算した。
(合成例6)アクリル酸グラフトテトラブロモビスフェノールA型/ビスフェノールZ型共重合ポリカーボネートの合成
5.43g(10mmol)のテトラブロモビスフェノールAと1,1’−ビス(4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサン2.68g(10mmol)を反応容器に入れ、4−t−ブチルフェノール30.0mg(0.2mmol)と水酸化ナトリウム6.00g(150mmol)とハイドロサルファイト9.0mg(0.5mmol)を水120mlに室温で溶解させた。次に、トリホスゲン3.56g(12mmol)をジクロロメタン10mlに溶解させたトリホスゲン溶液を15℃で添加し、そのまま15分間撹拌した。さらに、触媒として、トリエチルアミン20.2mg(0.2mmol)を添加し、室温で90分間反応させた後、ジクロロメタンで希釈し、有機相を分離した。この有機相を一度水洗した後、2重量%塩酸水溶液で洗浄し、3回水洗し、メタノールにより再沈殿させてテトラブロモビスフェノールA型/ビスフェノールZ型共重合ポリカーボネート7.86gを得た。重合収率は、97.0%であった。また、GPCによる重量平均分子量は、161000であった。
The weight average molecular weight by GPC was 150500. Further, when the graft amount was measured by 1 H-NMR analysis, 1 unit of vinylpyridine was grafted to 630 units of bisphenol E-type carbonate. The graft amount was calculated from the integral value of 4 protons of the vinylpyridine ring and the integral value of 8 protons of the benzene ring.
(Synthesis Example 6) Synthesis of acrylic acid grafted tetrabromobisphenol A / bisphenol Z copolymer polycarbonate 5.43 g (10 mmol) of tetrabromobisphenol A and 1.68 g of 1,1′-bis (4-hydroxyphenyl) cyclohexane (10 mmol) was placed in a reaction vessel, and 30.0 mg (0.2 mmol) of 4-t-butylphenol, 6.00 g (150 mmol) of sodium hydroxide and 9.0 mg (0.5 mmol) of hydrosulfite were added to 120 ml of water at room temperature. Dissolved. Next, a triphosgene solution in which 3.56 g (12 mmol) of triphosgene was dissolved in 10 ml of dichloromethane was added at 15 ° C., and the mixture was stirred as it was for 15 minutes. Further, 20.2 mg (0.2 mmol) of triethylamine was added as a catalyst, reacted at room temperature for 90 minutes, diluted with dichloromethane, and the organic phase was separated. The organic phase was washed once with water, washed with a 2% by weight aqueous hydrochloric acid solution, washed with water three times, and reprecipitated with methanol to obtain 7.86 g of a tetrabromobisphenol A / bisphenol Z copolymer polycarbonate. The polymerization yield was 97.0%. Moreover, the weight average molecular weight by GPC was 161000.

テトラブロモビスフェノールA型/ビスフェノールZ型共重合ポリカーボネート3.0g、アクリル酸0.3g、乾燥BPO(ベンゾイルパーオキサイド)0.1gを脱水トルエン40mlに溶解させ、アルゴンガス雰囲気下、100℃で5時間加熱撹拌を行った。室温で放置した後、ジクロロメタンで希釈し、メタノールにより再沈殿させた。次に、ジクロロメタンに溶解させ、水を加え、有機層を水洗した後、再度メタノールにより再沈殿させて単離乾燥し、白色のアクリル酸グラフトテトラブロモビスフェノールA型/ビスフェノールZ型共重合ポリカーボネート2.94gを得た。GPCによる重量平均分子量は、159500であった。
(GPCの測定方法)
GPCは、HLC−8120型(東ソー社製)、プレカラムは、TSKgrandcolumSuperH−H(東ソー社製)、カラムは、TSKgelSuperH5000、同H4000、同H3000、同H1000(以上、東ソー社製)を連結したものを用いることができる。測定温度は、40℃、キャリアは、テトラヒドロフラン、流速は、0.6ml/分とし、平均分子量は、ポリスチレンの標準試料を用いて算出することができる。
(実施例1)
外径30mmアルミニウム製の導電性支持体に、下引き層用塗工液Aを浸漬塗工し、加熱乾燥させ、膜厚が3.5μmの下引き層を形成した。
(下引き層用塗工液A)
アルキッド樹脂ベッコゾール1307−60−EL(大日本インキ化学工業社製)3部
メラミン樹脂スーパーベッカミンG−821−60(大日本インキ化学工業社製)2部
酸化チタンCR−EL(石原産業社製)20部
メチルエチルケトン100部
下引き層上に、電荷発生層用塗工液Aを浸漬塗工し、加熱乾燥させ、膜厚が0.2μmの電荷発生層を形成した。
(電荷発生層用塗工液A)
構造式
Tetrabromobisphenol A / bisphenol Z copolymer polycarbonate (3.0 g), acrylic acid (0.3 g), and dry BPO (benzoyl peroxide) (0.1 g) are dissolved in dehydrated toluene (40 ml), and argon gas atmosphere is at 100 ° C. for 5 hours. Heating and stirring were performed. After standing at room temperature, it was diluted with dichloromethane and reprecipitated with methanol. Next, after dissolving in dichloromethane, adding water, washing the organic layer with water, reprecipitating again with methanol, isolating and drying, white acrylic acid grafted tetrabromobisphenol A type / bisphenol Z type copolycarbonate2. 94 g was obtained. The weight average molecular weight by GPC was 159500.
(GPC measurement method)
GPC is HLC-8120 type (manufactured by Tosoh Corporation), pre-column is TSK grandcolumn SuperH-H (manufactured by Tosoh Corporation), column is TSKgelSuperH5000, H4000, H3000, H3000 (above, manufactured by Tosoh Corporation) Can be used. The measurement temperature is 40 ° C., the carrier is tetrahydrofuran, the flow rate is 0.6 ml / min, and the average molecular weight can be calculated using a polystyrene standard sample.
Example 1
An undercoat layer coating liquid A was dip-coated on a conductive support made of aluminum having an outer diameter of 30 mm and dried by heating to form an undercoat layer having a thickness of 3.5 μm.
(Coating liquid A for undercoat layer)
Alkyd resin Beccosol 1307-60-EL (manufactured by Dainippon Ink and Chemicals) 3 parts Melamine resin Super Becamine G-821-60 (manufactured by Dainippon Ink and Chemicals) 2 parts Titanium oxide CR-EL (made by Ishihara Sangyo) ) 20 parts methyl ethyl ketone 100 parts On the undercoat layer, the charge generation layer coating liquid A was dip-coated and dried by heating to form a charge generation layer having a thickness of 0.2 μm.
(Coating liquid A for charge generation layer)
Structural formula

Figure 0004704273
で表されるアゾ顔料5部
ポリビニルブチラールXYHL(UCC社製)1部
2−ブタノン100部
シクロヘキサノン200部
電荷発生層上に、電荷輸送層用塗工液Aを浸漬塗工し、加熱乾燥させ、膜厚が27μmの電荷輸送層を形成し、感光体を作製した。
(電荷輸送層用塗工液A)
ビスフェノールZ型ポリカーボネートTS2050(帝人社製)(以下、Z−Pcという)1部
1部の構造式
Figure 0004704273
5 parts of an azo pigment represented by the following formula: 1 part of polyvinyl butyral XYHL (UCC) 1 part 2-butanone 100 parts cyclohexanone 200 parts On the charge generation layer, the charge transport layer coating liquid A is dip coated, dried by heating, A charge transport layer having a thickness of 27 μm was formed to produce a photoreceptor.
(Coating liquid A for charge transport layer)
Bisphenol Z-type polycarbonate TS2050 (manufactured by Teijin Limited) (hereinafter referred to as Z-Pc) 1 part 1 part structural formula

Figure 0004704273
で表される正孔輸送物質A
テトラヒドロフラン10部
電荷輸送層上に、保護層用塗工液Aをスプレー塗工し、150℃で20分間加熱乾燥させ、膜厚が5μmの保護層を形成し、感光体を作製した。
(保護層用塗工液A)
合成例1で合成したビニルピリジングラフトビスフェノールZ型ポリカーボネート(以下、VP−Pcという)4部
3部の正孔輸送物質A
シリカ粒子KMPX100(信越化学工業社製)3部
平均一次粒径が0.2μm、平均粒径が30μm、オルガノポリシロキサン成分が70重量%、アクリル成分が30重量%の請求項7で定められたアクリル変性ポリオルガノシロキサンのシャリーヌR−170S(日信化学工業社製)0.7部
テトラヒドロフラン170部
シクロヘキサノン50部
(実施例2)
保護層用塗工液Aの代わりに、保護層用塗工液Bを用いたこと以外は、実施例1と同様にして、感光体を作製した。
(保護層用塗工液B)
合成例2で合成したアクリル酸グラフトビスフェノールZ型ポリカーボネート(以下、AC−Pcという)4部
3部の正孔輸送物質A
シリカ粒子KMPX100(信越化学工業社製)3部
アクリル変性ポリオルガノシロキサンのシャリーヌR−170S(日信化学工業社製)0.7部
テトラヒドロフラン170部
シクロヘキサノン50部
(実施例3)
保護層用塗工液Aの代わりに、保護層用塗工液Cを用いたこと以外は、実施例1と同様にして、感光体を作製した。
(保護層用塗工液C)
合成例3で合成したビニルピリジングラフトビスフェノールZ型ポリアリレート(以下、VP−Paという)4部
3部の正孔輸送物質A
シリカ粒子KMPX100(信越化学工業社製)3部
アクリル変性ポリオルガノシロキサンのシャリーヌR−170S(日信化学工業社製)0.7部
テトラヒドロフラン170部
シクロヘキサノン50部
(実施例4)
保護層用塗工液Aの代わりに、保護層用塗工液Dを用いたこと以外は、実施例1と同様にして、感光体を作製した。
(保護層用塗工液D)
合成例4で合成したアクリル酸グラフトビスフェノールZ型ポリアリレート(以下、AC−Paという)4部
3部の正孔輸送物質A
シリカ粒子KMPX100(信越化学工業社製)3部
アクリル変性ポリオルガノシロキサンのシャリーヌR−170S(日信化学工業社製)0.7部
テトラヒドロフラン170部
シクロヘキサノン50部
(実施例5)
シリカ粒子KMPX100の代わりに、アルミナ粒子AA03(住友化学社製)を用いたこと以外は、実施例1と同様にして、感光体を作製した。
(実施例6)
シリカ粒子KMPX100の代わりに、アルミナ粒子AA03(住友化学社製)を用いたこと以外は、実施例2と同様にして、感光体を作製した。
(実施例7)
シリカ粒子KMPX100の代わりに、アルミナ粒子AA03(住友化学社製)を用いたこと以外は、実施例3と同様にして、感光体を作製した。
(実施例8)
シリカ粒子KMPX100の代わりに、アルミナ粒子AA03(住友化学社製)を用いたこと以外は、実施例4と同様にして、感光体を作製した。
(実施例9)
保護層用塗工液Aの代わりに、保護層用塗工液Eを用いたこと以外は、実施例1と同様にして、感光体を作製した。
(保護層用塗工液E)
0.5部のVP−Pc
3.5部のZ−Pc
3部の正孔輸送物質A
アルミナ粒子AA03(住友化学社製)3部
アクリル変性ポリオルガノシロキサンのシャリーヌR−170S(日信化学工業社製)0.7部
テトラヒドロフラン170部
シクロヘキサノン50部
(実施例10)
保護層用塗工液Aの代わりに、保護層用塗工液Fを用いたこと以外は、実施例1と同様にして、感光体を作製した。
(保護層用塗工液F)
0.5部のAC−Pc
3.5部のZ−Pc
3部の正孔輸送物質A
アルミナ粒子AA03(住友化学社製)3部
アクリル変性ポリオルガノシロキサンのシャリーヌR−170S(日信化学工業社製)0.7部
テトラヒドロフラン170部
シクロヘキサノン50部
(実施例11)
保護層用塗工液Aの代わりに、保護層用塗工液Gを用いたこと以外は、実施例1と同様にして、感光体を作製した。
(保護層用塗工液G)
0.5部のVP−Pa
3.5部のZ−Pc
3部の正孔輸送物質A
アルミナ粒子AA03(住友化学社製)3部
アクリル変性ポリオルガノシロキサンのシャリーヌR−170S(日信化学工業社製)0.7部
テトラヒドロフラン170部
シクロヘキサノン50部
(実施例12)
保護層用塗工液Aの代わりに、保護層用塗工液Hを用いたこと以外は、実施例1と同様にして、感光体を作製した。
(保護層用塗工液H)
0.5部のAC−Pa
3.5部のZ−Pc
3部の正孔輸送物質A
アルミナ粒子AA03(住友化学社製)3部
アクリル変性ポリオルガノシロキサンのシャリーヌR−170S(日信化学工業社製)0.7部
テトラヒドロフラン170部
シクロヘキサノン50部
(実施例13)
外径30mmアルミニウム製の導電性支持体に、下引き層用塗工液Aを浸漬塗工し、加熱乾燥させ、膜厚が3.5μmの下引き層を形成した。
Figure 0004704273
Hole transport material A represented by
Tetrahydrofuran 10 parts On the charge transport layer, the coating liquid A for protective layer was spray-coated and dried by heating at 150 ° C. for 20 minutes to form a protective layer having a film thickness of 5 μm to prepare a photoreceptor.
(Coating liquid A for protective layer)
4 parts of vinylpyridine grafted bisphenol Z-type polycarbonate (hereinafter referred to as VP-Pc) synthesized in Synthesis Example 1 3 parts of hole transport material A
Silica particles KMPX100 (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) 3 parts The average primary particle size is 0.2 μm, the average particle size is 30 μm, the organopolysiloxane component is 70% by weight, and the acrylic component is 30% by weight. Acrylic-modified polyorganosiloxane Charine R-170S (manufactured by Nissin Chemical Industry Co., Ltd.) 0.7 part Tetrahydrofuran 170 parts Cyclohexanone 50 parts (Example 2)
A photoconductor was prepared in the same manner as in Example 1 except that the protective layer coating solution B was used instead of the protective layer coating solution A.
(Coating liquid B for protective layer)
4 parts of acrylic acid grafted bisphenol Z-type polycarbonate (hereinafter referred to as AC-Pc) synthesized in Synthesis Example 2 3 parts of hole transport material A
Silica particles KMPX100 (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) 3 parts Acrylic-modified polyorganosiloxane Charine R-170S (manufactured by Nissin Chemical Industry Co., Ltd.) 0.7 parts Tetrahydrofuran 170 parts Cyclohexanone 50 parts (Example 3)
A photoconductor was prepared in the same manner as in Example 1 except that the protective layer coating solution C was used instead of the protective layer coating solution A.
(Coating liquid C for protective layer)
4 parts of vinylpyridine grafted bisphenol Z-type polyarylate (hereinafter referred to as VP-Pa) synthesized in Synthesis Example 3 3 parts of hole transport material A
Silica particles KMPX100 (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) 3 parts Acrylic-modified polyorganosiloxane Charine R-170S (manufactured by Nissin Chemical Industry Co., Ltd.) 0.7 parts Tetrahydrofuran 170 parts Cyclohexanone 50 parts (Example 4)
A photoconductor was prepared in the same manner as in Example 1 except that the protective layer coating solution D was used instead of the protective layer coating solution A.
(Coating liquid D for protective layer)
Acrylic acid grafted bisphenol Z type polyarylate synthesized in Synthesis Example 4 (hereinafter referred to as AC-Pa) 4 parts 3 parts of hole transport material A
Silica particles KMPX100 (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) 3 parts Acrylic-modified polyorganosiloxane Charine R-170S (manufactured by Nissin Chemical Industry Co., Ltd.) 0.7 parts Tetrahydrofuran 170 parts Cyclohexanone 50 parts (Example 5)
A photoconductor was prepared in the same manner as in Example 1 except that alumina particles AA03 (manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.) were used instead of silica particles KMPX100.
(Example 6)
A photoconductor was prepared in the same manner as in Example 2 except that alumina particles AA03 (manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.) were used instead of silica particles KMPX100.
(Example 7)
A photoconductor was prepared in the same manner as in Example 3 except that alumina particles AA03 (manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.) were used instead of silica particles KMPX100.
(Example 8)
A photoconductor was prepared in the same manner as in Example 4 except that alumina particles AA03 (manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.) were used instead of silica particles KMPX100.
Example 9
A photoconductor was prepared in the same manner as in Example 1 except that the protective layer coating solution E was used instead of the protective layer coating solution A.
(Coating fluid E for protective layer)
0.5 part VP-Pc
3.5 parts of Z-Pc
3 parts of hole transport material A
Alumina particles AA03 (manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.) 3 parts Acrylic modified polyorganosiloxane Sharine R-170S (manufactured by Nissin Chemical Industry Co., Ltd.) 0.7 part Tetrahydrofuran 170 parts Cyclohexanone 50 parts (Example 10)
A photoconductor was prepared in the same manner as in Example 1 except that the protective layer coating solution F was used instead of the protective layer coating solution A.
(Coating fluid F for protective layer)
0.5 part of AC-Pc
3.5 parts of Z-Pc
3 parts of hole transport material A
Alumina particles AA03 (manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.) 3 parts Acrylic-modified polyorganosiloxane Sharine R-170S (manufactured by Nissin Chemical Industry Co., Ltd.) 0.7 part Tetrahydrofuran 170 parts Cyclohexanone 50 parts (Example 11)
A photoconductor was prepared in the same manner as in Example 1 except that the protective layer coating solution G was used instead of the protective layer coating solution A.
(Coating liquid G for protective layer)
0.5 part VP-Pa
3.5 parts of Z-Pc
3 parts of hole transport material A
Alumina particles AA03 (manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.) 3 parts Acrylic modified polyorganosiloxane Sharine R-170S (manufactured by Nissin Chemical Industry Co., Ltd.) 0.7 part Tetrahydrofuran 170 parts Cyclohexanone 50 parts (Example 12)
A photoconductor was prepared in the same manner as in Example 1 except that the protective layer coating solution H was used instead of the protective layer coating solution A.
(Coating liquid H for protective layer)
0.5 part AC-Pa
3.5 parts of Z-Pc
3 parts of hole transport material A
Alumina particles AA03 (manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.) 3 parts Acrylic-modified polyorganosiloxane Sharine R-170S (manufactured by Nissin Chemical Industry Co., Ltd.) 0.7 parts Tetrahydrofuran 170 parts Cyclohexanone 50 parts (Example 13)
An undercoat layer coating liquid A was dip-coated on a conductive support made of aluminum having an outer diameter of 30 mm and dried by heating to form an undercoat layer having a thickness of 3.5 μm.

下引き層上に、感光層用塗工液Aを浸漬塗工し、加熱乾燥させ、膜厚が25μmの感光層を形成し、感光体を作製した。
(感光層用塗工液A)
10部のVP−Pc
6部の正孔輸送物質A
4部の構造式
On the undercoat layer, the photosensitive layer coating solution A was dip-coated and dried by heating to form a photosensitive layer having a film thickness of 25 μm to produce a photoreceptor.
(Coating solution A for photosensitive layer)
10 parts VP-Pc
6 parts of hole transport material A
4 parts structural formula

Figure 0004704273
で表される電子輸送物質A
0.4部のオキソチタニウムフタロシアニンA(CuKαの特性X線(波長1.514Å)に対するブラッグ角2θの回折ピーク(±0.2゜)として、少なくとも27.2゜に最大回折ピークを有するオキソチタニウムフタロシアニン)
シリカ粒子KMPX100(信越化学工業社製)5部
アクリル変性ポリオルガノシロキサンのシャリーヌR−170S(日信化学工業社製)1.1部
テトラヒドロフラン100部
(実施例14)
外径30mmのアルミニウム製の導電性支持体に、下引き層用塗工液Aを浸漬塗工し、加熱乾燥させ、膜厚が3.5μmの下引き層を形成した。
Figure 0004704273
Electron transport material A
0.4 part of oxotitanium phthalocyanine A (an oxotitanium having a maximum diffraction peak at 27.2 ° as a diffraction peak (± 0.2 °) with a Bragg angle 2θ with respect to the characteristic X-ray (wavelength 1.5141.5) of CuKα) Phthalocyanine)
Silica particles KMPX100 (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) 5 parts Acrylic-modified polyorganosiloxane Charine R-170S (manufactured by Nissin Chemical Industry Co., Ltd.) 1.1 parts Tetrahydrofuran 100 parts (Example 14)
An undercoat layer coating solution A was dip-coated on an aluminum conductive support with an outer diameter of 30 mm and dried by heating to form an undercoat layer having a thickness of 3.5 μm.

下引き層上に、電荷発生層塗工液Aを浸漬塗工し、加熱乾燥させ、膜厚が0.2μmの電荷発生層を形成した。   On the undercoat layer, the charge generation layer coating solution A was dip coated and dried by heating to form a charge generation layer having a thickness of 0.2 μm.

電荷発生層上に、電荷輸送層用塗工液Bを浸漬塗工し、加熱乾燥させ、膜厚が27μmの電荷輸送層を形成し、感光体を作製した。
(電荷輸送層用塗工液B)
10部のVP−Pc
10部の正孔輸送物質A
シリカ粒子KMPX100(信越化学工業社製)4部
アクリル変性ポリオルガノシロキサンのシャリーヌR−170S(日信化学工業社製)0.9部
テトラヒドロフラン110部
(比較例1)
保護層用塗工液Aの代わりに、保護層用塗工液Iを用いたこと以外は、実施例1と同様にして、感光体を作製した。
(保護層用塗工液I)
4部のZ−Pc
3部の正孔輸送物質A
シリカ粒子KMPX100(信越化学工業社製)3部
アクリル変性ポリオルガノシロキサンのシャリーヌR−170S(日信化学工業社製)0.7部
テトラヒドロフラン170部
シクロヘキサノン50部
(比較例2)
シリカ粒子KMPX100の代わりに、アルミナ粒子AA03(住友化学社製)を用いたこと以外は、比較例1と同様にして、感光体を作製した。
(比較例3)
保護層用塗工液Aの代わりに、保護層用塗工液Jを用いたこと以外は、実施例1と同様にして、感光体を作製した。
(保護層用塗工液J)
4部のZ−Pc
3部の正孔輸送物質A
シリカ粒子KMPX100(信越化学工業社製)3部
分散剤BYK−P104(ビックケミー社製)0.06部
アクリル変性ポリオルガノシロキサンのシャリーヌR−170S(日信化学工業社製)0.7部
テトラヒドロフラン170部
シクロヘキサノン50部
(比較例4)
シリカ粒子KMPX100の代わりに、アルミナ粒子AA03(住友化学社製)を用いたこと以外は、比較例3と同様にして、感光体を作製した。
(比較例5)
保護層用塗工液Aの代わりに、保護層用塗工液Kを用いたこと以外は、実施例1と同様にして、感光体を作製した。
(保護層用塗工液K)
4部のZ−Pc
3部の正孔輸送物質A
アルミナ粒子AA03(住友化学社製)3部
テトラヒドロフラン170部
シクロヘキサノン50部
(比較例6)
保護層用塗工液Aの代わりに、保護層用塗工液Lを用いたこと以外は、実施例1と同様にして、感光体を作製した。
(保護層用塗工液L)
4部のZ−Pc
3部の正孔輸送物質A
アクリル変性ポリオルガノシロキサンのシャリーヌR−170S(日信化学工業社製)0.7部
テトラヒドロフラン170部
シクロヘキサノン50部
(比較例7)
保護層を設けず、電荷輸送層の膜厚を27μmとしたこと以外は、実施例1と同様にして、感光体を作製した。
(評価方法及び評価結果)
保護層用塗工液A〜L(実施例1〜12、比較例1〜6)の粒子の分散安定性の評価を行うために、沈降試験を行った。沈降管(10ml)に10mlの保護層塗工液を入れ、1時間静置した。1時間後の沈降管中の液の懸濁状態を観察することにより評価した。なお、液面上部が懸濁しており、分散安定性が良好であるものを○、液面上部が透明であり、やや分散安定性が悪いものを△、液全体が透明であり、分散安定性が悪いものを×として、判定した。結果を表1に示す。
On the charge generation layer, the charge transport layer coating solution B was dip coated and dried by heating to form a charge transport layer having a thickness of 27 μm, thereby preparing a photoreceptor.
(Coating liquid B for charge transport layer)
10 parts VP-Pc
10 parts of hole transport material A
Silica particles KMPX100 (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) 4 parts Acrylic-modified polyorganosiloxane Sharine R-170S (manufactured by Nissin Chemical Industry Co., Ltd.) 0.9 parts Tetrahydrofuran 110 parts (Comparative Example 1)
A photoconductor was prepared in the same manner as in Example 1 except that the protective layer coating solution I was used instead of the protective layer coating solution A.
(Coating liquid I for protective layer)
4 parts of Z-Pc
3 parts of hole transport material A
Silica particles KMPX100 (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) 3 parts Acrylic-modified polyorganosiloxane Charine R-170S (manufactured by Nissin Chemical Industry Co., Ltd.) 0.7 parts Tetrahydrofuran 170 parts Cyclohexanone 50 parts (Comparative Example 2)
A photoconductor was prepared in the same manner as in Comparative Example 1 except that alumina particles AA03 (manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.) were used instead of silica particles KMPX100.
(Comparative Example 3)
A photoconductor was prepared in the same manner as in Example 1 except that the protective layer coating solution J was used instead of the protective layer coating solution A.
(Coating liquid J for protective layer)
4 parts of Z-Pc
3 parts of hole transport material A
Silica particles KMPX100 (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) 3 parts Dispersant BYK-P104 (manufactured by Big Chemie) 0.06 parts Sharine R-170S of acrylic-modified polyorganosiloxane (manufactured by Nissin Chemical Industry Co., Ltd.) 0.7 parts Tetrahydrofuran 170 Part 50 parts cyclohexanone (Comparative Example 4)
A photoconductor was prepared in the same manner as in Comparative Example 3 except that alumina particles AA03 (manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.) were used instead of silica particles KMPX100.
(Comparative Example 5)
A photoconductor was prepared in the same manner as in Example 1 except that the protective layer coating solution K was used instead of the protective layer coating solution A.
(Coating liquid K for protective layer)
4 parts of Z-Pc
3 parts of hole transport material A
Alumina particles AA03 (Sumitomo Chemical Co., Ltd.) 3 parts Tetrahydrofuran 170 parts Cyclohexanone 50 parts (Comparative Example 6)
A photoconductor was prepared in the same manner as in Example 1 except that the protective layer coating solution L was used instead of the protective layer coating solution A.
(Coating liquid L for protective layer)
4 parts of Z-Pc
3 parts of hole transport material A
Acrylic modified polyorganosiloxane Charine R-170S (manufactured by Nissin Chemical Industry) 0.7 part Tetrahydrofuran 170 parts Cyclohexanone 50 parts (Comparative Example 7)
A photoconductor was prepared in the same manner as in Example 1 except that the protective layer was not provided and the thickness of the charge transport layer was 27 μm.
(Evaluation method and evaluation results)
In order to evaluate the dispersion stability of the particles of the protective layer coating liquids A to L (Examples 1 to 12, Comparative Examples 1 to 6), a sedimentation test was performed. 10 ml of the protective layer coating solution was placed in a settling tube (10 ml) and allowed to stand for 1 hour. Evaluation was made by observing the suspension state of the liquid in the settling tube after 1 hour. The upper part of the liquid surface is suspended and the dispersion stability is good. The upper part of the liquid surface is transparent and the dispersion liquid is slightly bad. The whole liquid is transparent. The dispersion stability. Was judged as x. The results are shown in Table 1.

Figure 0004704273
表1より、実施例の保護層塗工液は、何れも優れる分散安定性を示した。ポリカーボネート又はポリアリレートにグラフト重合を行ったグラフト重合体を使用することによって、極性のフィラーと非極性のアクリル変性ポリオルガノシロキサンが同時に安定に存在する分散液が得られた。
Figure 0004704273
From Table 1, all of the protective layer coating solutions of Examples showed excellent dispersion stability. By using a graft polymer obtained by graft polymerization on polycarbonate or polyarylate, a dispersion in which a polar filler and a nonpolar acrylic-modified polyorganosiloxane are present stably at the same time was obtained.

次に、画像露光光源を655nmの半導体レーザー(ポリゴン・ミラーによる書き込み)に改造したイマジオNEO271に感光体を搭載して、10万枚通紙試験(A4)を行った。そして、初期及びラン後のハーフトーン画像特性及び摩耗量を評価した。   Next, a 100,000 sheet passing test (A4) was conducted by mounting a photoconductor on an Imagio NEO271 whose image exposure light source was modified to a 655 nm semiconductor laser (writing by a polygon mirror). Then, the halftone image characteristics and the wear amount after the initial and post-run were evaluated.

画像特性は、良好であるものを○、局所的に画像ムラが発生するものを△、全体に画像ムラが発生するものを×として、判定した。結果を表2に示す。   The image characteristics were judged as ◯ when the image was good, Δ when the image unevenness occurred locally, and x when the image unevenness occurred overall. The results are shown in Table 2.

Figure 0004704273
摩耗量は、渦電流式膜厚計FisherscopeMMSを用いて、感光体上の20点の膜厚を測定し、初期からの膜厚減少量を求めることにより、評価した。結果を表3に示す。
Figure 0004704273
The amount of wear was evaluated by measuring the film thickness at 20 points on the photoconductor using an eddy current film thickness meter Fisherscope MMS and determining the film thickness reduction from the initial stage. The results are shown in Table 3.

Figure 0004704273
上記の評価結果より、保護層が無い場合は膜削れ量が大きく、寿命が短かった。また、フィラーのみを保護層に添加した場合は、耐摩耗性が向上するものの、クリーニング性が悪くなり、感光体上にトナー及び現像剤成分と思われる物質のフィルミングが起こり、画像ムラが発生した。また、アクリル変性ポリオルガノシロキサンのみを保護層に添加した場合は、保護層の無い場合と同様に、摩耗による画像ムラが発生し、寿命が短かった。また、グラフト共重合体を含有せず、フィラーとアクリル変性ポリオルガノシロキサンを含有する保護層塗工液は、分散安定性が悪く、得られた感光体は、画像特性と耐久性は共に劣っている。さらに、グラフト共重合体を含有せず、フィラーとアクリル変性ポリオルガノシロキサンと分散剤を含有する保護層用塗工液も分散安定性が依然十分ではないので、得られた感光体は、画像安定性と耐久性の両立ができない。これらに対し、実施例の保護層用塗工液は、分散安定性に優れ、得られた感光体は、高い摩耗性と持続的な画像安定性を両立することができる。
Figure 0004704273
From the above evaluation results, when there was no protective layer, the amount of film scraping was large and the life was short. In addition, when only the filler is added to the protective layer, the wear resistance is improved, but the cleaning property is deteriorated, and the filming of a substance that seems to be a toner and a developer component occurs on the photosensitive member, resulting in image unevenness. did. Further, when only the acrylic-modified polyorganosiloxane was added to the protective layer, image unevenness due to abrasion occurred and the life was short, as in the case without the protective layer. Further, the protective layer coating liquid containing no graft copolymer and containing a filler and an acrylic-modified polyorganosiloxane has poor dispersion stability, and the obtained photoreceptor is inferior in both image characteristics and durability. Yes. Furthermore, since the dispersion stability of the coating solution for the protective layer, which does not contain a graft copolymer and contains a filler, an acrylic-modified polyorganosiloxane, and a dispersant, is still insufficient, the obtained photoreceptor has image stability. Compatibility and durability cannot be achieved. On the other hand, the protective layer coating liquids of the examples are excellent in dispersion stability, and the obtained photoreceptor can achieve both high wear resistance and continuous image stability.

本発明で用いられる感光層又は保護層を説明する図である。It is a figure explaining the photosensitive layer or protective layer used by this invention. フィラーを含有する感光層又は保護層の摩耗メカニズムを説明する図である。It is a figure explaining the abrasion mechanism of the photosensitive layer or protective layer containing a filler. 本発明の感光体の層構成の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the laminated constitution of the photoreceptor of this invention. 本発明の感光体の層構成の他の例を示す図である。It is a figure which shows the other example of the laminated constitution of the photoreceptor of this invention. 本発明の感光体の層構成の他の例を示す図である。It is a figure which shows the other example of the laminated constitution of the photoreceptor of this invention. 本発明の感光体の層構成の他の例を示す図である。It is a figure which shows the other example of the laminated constitution of the photoreceptor of this invention. 本発明の画像形成装置の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the image forming apparatus of this invention. 本発明の画像形成装置の他の例を示す図である。It is a figure which shows the other example of the image forming apparatus of this invention. 本発明のプロセスカートリッジの一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the process cartridge of this invention.

符号の説明Explanation of symbols

10 感光層(又は保護層)
11 フィラー
12 グラフト共重合体
13 アクリル変性ポリオルガノシロキサン
14 結着樹脂
15 トナー
16 感光体の移動方向
21 導電性支持体
22 感光層
22a 電荷発生層
22b 電荷輸送層
23 保護層
10 Photosensitive layer (or protective layer)
DESCRIPTION OF SYMBOLS 11 Filler 12 Graft copolymer 13 Acrylic modified polyorganosiloxane 14 Binder resin 15 Toner 16 Photoconductor moving direction 21 Conductive support 22 Photosensitive layer 22a Charge generation layer 22b Charge transport layer 23 Protective layer

Claims (13)

導電性支持体上に少なくとも感光層を有する感光体において、
該感光層は、アクリル変性ポリオルガノシロキサンと、ポリカーボネート樹脂又はポリアリレート樹脂に極性基を有するモノマーをグラフト重合することにより得られるグラフト共重合体と、フィラーを含有することを特徴とする感光体。
In a photoreceptor having at least a photosensitive layer on a conductive support,
The photosensitive layer contains an acrylic modified polyorganosiloxane, a graft copolymer obtained by graft polymerization of a monomer having a polar group on a polycarbonate resin or polyarylate resin, and a filler.
前記感光層は、電荷発生層及び電荷輸送層が積層されており、
該電荷輸送層は、前記アクリル変性ポリオルガノシロキサンと、グラフト共重合体と、フィラーを含有することを特徴とする請求項1に記載の感光体。
The photosensitive layer has a charge generation layer and a charge transport layer laminated,
The photoconductor according to claim 1, wherein the charge transport layer contains the acrylic-modified polyorganosiloxane, a graft copolymer, and a filler.
導電性支持体上に少なくとも感光層及び保護層が積層されている感光体において、
該保護層は、アクリル変性ポリオルガノシロキサンと、ポリカーボネート樹脂又はポリアリレート樹脂に極性基を有するモノマーをグラフト重合することにより得られるグラフト共重合体と、フィラーを含有することを特徴とする感光体。
In a photoreceptor in which at least a photosensitive layer and a protective layer are laminated on a conductive support,
The photoreceptor comprises an acrylic-modified polyorganosiloxane, a graft copolymer obtained by graft polymerization of a monomer having a polar group on a polycarbonate resin or polyarylate resin, and a filler.
前記感光層は、電荷発生層及び電荷輸送層が積層されていることを特徴とする請求項3に記載の感光体。   The photoreceptor according to claim 3, wherein the photosensitive layer is formed by laminating a charge generation layer and a charge transport layer. 前記保護層は、電荷輸送物質をさらに含有することを特徴とする請求項3又は4に記載の感光体。   The photoconductor according to claim 3, wherein the protective layer further contains a charge transport material. 前記アクリル変性ポリオルガノシロキサンは、ポリオルガノシロキサンにアクリル重合体がグラフトされていることを特徴とする請求項1乃至5のいずれか一項に記載の感光体。   6. The photoreceptor according to claim 1, wherein the acrylic modified polyorganosiloxane is obtained by grafting an acrylic polymer to the polyorganosiloxane. 前記アクリル変性ポリオルガノシロキサンは、一般式
Figure 0004704273
[式中、R、R及びRは、それぞれ独立に、炭素数が1以上20以下の炭化水素基又はハロゲン化炭化水素基であり、Yは、ラジカル重合性官能基又はメルカプト基若しくはラジカル重合性官能基及びメルカプト基を有する有機基であり、Z及びZは、それぞれ独立に、水素原子、低級アルキル基又は一般式
Figure 0004704273
(式中、R及びRは、それぞれ独立に、炭素数が1以上20以下の炭化水素基又はハロゲン化炭化水素基であり、Rは、炭素数が1以上20以下の炭化水素基若しくはハロゲン化炭化水素基、ラジカル重合性官能基又はメルカプト基若しくはラジカル重合性官能基及びメルカプト基を有する有機基である。)
で表される官能基であり、mは、1以上10000以下の整数であり、nは、1以上の整数である。]
で表されるポリオルガノシロキサンに、一般式
Figure 0004704273
(式中、Rは、水素原子又はメチル基であり、Rは、アルキル基、アルコキシ基で置換されたアルキル基、シクロアルキル基又はアリール基である。)
で表わされるアクリルモノマー70重量%以上100重量%以下と、該アクリルモノマーと共重合することが可能なモノマー0重量%以上30重量%以下の混合物を乳化グラフト重合することにより得られ、
該混合物に対する該ポリオルガノシロキサンの重量比は、5/95以上95/5以下であることを特徴とする請求項6に記載の感光体。
The acrylic-modified polyorganosiloxane has a general formula
Figure 0004704273
[Wherein R 1 , R 2 and R 3 are each independently a hydrocarbon group or halogenated hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, and Y is a radical polymerizable functional group or a mercapto group or It is an organic group having a radical polymerizable functional group and a mercapto group, and Z 1 and Z 2 are each independently a hydrogen atom, a lower alkyl group or a general formula
Figure 0004704273
(In the formula, R 4 and R 5 are each independently a hydrocarbon group or halogenated hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, and R 6 is a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms. Or a halogenated hydrocarbon group, a radical polymerizable functional group, or a mercapto group or an organic group having a radical polymerizable functional group and a mercapto group.)
M is an integer of 1 or more and 10,000 or less, and n is an integer of 1 or more. ]
The polyorganosiloxane represented by the general formula
Figure 0004704273
(In the formula, R 7 is a hydrogen atom or a methyl group, and R 8 is an alkyl group, an alkyl group substituted with an alkoxy group, a cycloalkyl group, or an aryl group.)
Is obtained by emulsion graft polymerization of a mixture of 70% by weight or more and 100% by weight or less of an acrylic monomer and 0% by weight or more and 30% by weight or less of a monomer copolymerizable with the acrylic monomer,
7. The photoreceptor according to claim 6, wherein a weight ratio of the polyorganosiloxane to the mixture is 5/95 or more and 95/5 or less.
前記フィラーは、無機フィラーであることを特徴とする請求項1乃至7のいずれか一項に記載の感光体。   The photoconductor according to claim 1, wherein the filler is an inorganic filler. 前記無機フィラーは、金属酸化物であることを特徴とする請求項8に記載の感光体。   The photoconductor according to claim 8, wherein the inorganic filler is a metal oxide. 前記金属酸化物は、酸化ケイ素、酸化チタン及びアルミナの少なくとも一つを含有することを特徴とする請求項9に記載の感光体。   The photoreceptor according to claim 9, wherein the metal oxide contains at least one of silicon oxide, titanium oxide, and alumina. 請求項1乃至10のいずれか一項に記載の感光体を少なくとも有することを特徴とする画像形成装置。   An image forming apparatus comprising at least the photosensitive member according to claim 1. 請求項1乃至10のいずれか一項に記載の感光体を少なくとも有することを特徴とするプロセスカートリッジ。   A process cartridge comprising at least the photosensitive member according to claim 1. 請求項1乃至10のいずれか一項に記載の感光体を用いて画像を形成することを特徴とする画像形成方法。   An image forming method, wherein an image is formed using the photosensitive member according to claim 1.
JP2006139274A 2006-05-18 2006-05-18 Photoconductor, image forming apparatus, process cartridge, and image forming method Expired - Fee Related JP4704273B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2006139274A JP4704273B2 (en) 2006-05-18 2006-05-18 Photoconductor, image forming apparatus, process cartridge, and image forming method

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2006139274A JP4704273B2 (en) 2006-05-18 2006-05-18 Photoconductor, image forming apparatus, process cartridge, and image forming method

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2007310154A JP2007310154A (en) 2007-11-29
JP4704273B2 true JP4704273B2 (en) 2011-06-15

Family

ID=38843066

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2006139274A Expired - Fee Related JP4704273B2 (en) 2006-05-18 2006-05-18 Photoconductor, image forming apparatus, process cartridge, and image forming method

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4704273B2 (en)

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000181096A (en) * 1998-12-18 2000-06-30 Nippon Steel Chem Co Ltd Binder for electrophotographic photoreceptor and electrophotographic photoreceptor
JP2003098714A (en) * 2001-09-21 2003-04-04 Ricoh Co Ltd Electrophotographic photoreceptor, electrophotographic method, electrophotographic device and process cartridge for electrophotographic device
JP2003186213A (en) * 2001-12-14 2003-07-03 Ricoh Co Ltd Electrophotographic device
JP2004037766A (en) * 2002-07-02 2004-02-05 Ricoh Co Ltd Monolayer electrophotographic photoreceptor, process cartridge, and electrophotographic device mounting it

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3445854B2 (en) * 1994-12-20 2003-09-08 出光興産株式会社 Electrophotographic photoreceptor
JPH09278839A (en) * 1996-04-17 1997-10-28 Canon Inc Electrophotographic photoreceptor, process cartridge and electrophotographic device comprising said electrophotographic photoreceptor

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000181096A (en) * 1998-12-18 2000-06-30 Nippon Steel Chem Co Ltd Binder for electrophotographic photoreceptor and electrophotographic photoreceptor
JP2003098714A (en) * 2001-09-21 2003-04-04 Ricoh Co Ltd Electrophotographic photoreceptor, electrophotographic method, electrophotographic device and process cartridge for electrophotographic device
JP2003186213A (en) * 2001-12-14 2003-07-03 Ricoh Co Ltd Electrophotographic device
JP2004037766A (en) * 2002-07-02 2004-02-05 Ricoh Co Ltd Monolayer electrophotographic photoreceptor, process cartridge, and electrophotographic device mounting it

Also Published As

Publication number Publication date
JP2007310154A (en) 2007-11-29

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3637030B2 (en) Electrophotographic photosensitive member, electrophotographic apparatus, and electrophotographic cartridge
JP3734735B2 (en) Electrophotographic photoreceptor
US7858278B2 (en) Electrophotographic photoreceptor, and image forming apparatus and process cartridge using the electrophotographic photoreceptor
WO2006098351A1 (en) Electrophotographic photosensitive body
JP4925420B2 (en) Electrophotographic photoreceptor and image forming method using the same
JP4152612B2 (en) Electrophotographic photosensitive member, electrophotographic method, electrophotographic apparatus, and process cartridge for electrophotographic apparatus
JP2007310155A (en) Photoreceptor, image forming apparatus, process cartridge and image forming method
JP2003255581A (en) Electrophotographic apparatus
JP4676935B2 (en) Electrophotographic photoreceptor, method for manufacturing the same, image forming apparatus using the same, process cartridge, and image forming method
JP4704273B2 (en) Photoconductor, image forming apparatus, process cartridge, and image forming method
JP2007310153A (en) Photoreceptor, image forming apparatus, process cartridge and image forming method
JP4141670B2 (en) Electrophotographic photosensitive member, electrophotographic method, electrophotographic apparatus, and process cartridge for electrophotographic apparatus
JP3998517B2 (en) Electrophotographic photoreceptor, process cartridge using the same, and electrophotographic apparatus
JP4447388B2 (en) Aromatic polycarbonate resin, method for producing the same, electrophotographic photosensitive member, image forming method and apparatus, and process cartridge for image forming apparatus
JP4187637B2 (en) Electrophotographic photosensitive member, electrophotographic method using the same, electrophotographic apparatus, and electrophotographic process cartridge
JP3919154B2 (en) Image forming member and electrophotographic apparatus having the same
JP4079350B2 (en) Electrophotographic photosensitive member, image forming apparatus equipped with the same, and process cartridge for image forming apparatus
JP2004286887A (en) Electrophotographic photoreceptor, image forming apparatus using the same, process cartridge, and image forming method
JP2006010816A (en) Electrophotographic photoreceptor, electrophotographic apparatus, and method for manufacturing electrophotographic photoreceptor
JP3883431B2 (en) Electrophotographic equipment
JP2003149848A (en) Electrophotographic apparatus
JP3853687B2 (en) Electrophotographic equipment
JP4084610B2 (en) Single layer type electrophotographic photosensitive member, process cartridge and electrophotographic apparatus equipped with the same
JP4204451B2 (en) Image forming apparatus and process cartridge for image forming apparatus
JP3841281B2 (en) Electrophotographic equipment

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20090310

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20101214

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20110222

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20110309

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees