JP4690728B2 - Moisture-proof coverlay film and flexible printed wiring board using the same - Google Patents

Moisture-proof coverlay film and flexible printed wiring board using the same Download PDF

Info

Publication number
JP4690728B2
JP4690728B2 JP2005006994A JP2005006994A JP4690728B2 JP 4690728 B2 JP4690728 B2 JP 4690728B2 JP 2005006994 A JP2005006994 A JP 2005006994A JP 2005006994 A JP2005006994 A JP 2005006994A JP 4690728 B2 JP4690728 B2 JP 4690728B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
film
moisture
proof
organic
peak
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2005006994A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2006196718A (en
Inventor
知之 日高
啓一郎 鈴木
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Kureha Corp
Original Assignee
Kureha Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Kureha Corp filed Critical Kureha Corp
Priority to JP2005006994A priority Critical patent/JP4690728B2/en
Publication of JP2006196718A publication Critical patent/JP2006196718A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP4690728B2 publication Critical patent/JP4690728B2/en
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Description

本発明は、フレキシブルプリント配線基板を被覆するために用いられる防湿性カバーレイフィルム、及びそれを用いたフレキシブルプリント配線基板に関する。   The present invention relates to a moisture-proof coverlay film used for covering a flexible printed wiring board, and a flexible printed wiring board using the same.

エレクトロニクス製品の軽量化、小型化、薄肉化、高機能化に伴い、プリント基板の需要が高まっている。このようなプリント基板の中でも、フレキシブルプリント配線基板は繰り返し屈曲に耐えるという特性を有しており、狭い空間に立体的に高密度の実装が可能であることから、電子機器への配線、ケーブル、コネクター機能を付与した複合部品等としてその用途が拡大しつつある。特に近年では、ICチップをフレキシブルプリント配線基板に直接搭載したCOF(Chip on Flex)が実用化され、CSP(Chip Scale Packaging)、MCM(Multi Chip Module)のインターポーザとしてフレキシブルプリント配線基板が採用される等、フレキシブルプリント配線基板が半導体パッケージ構成材料として用いられている。そして、このようなフレキシブルプリント配線基板の回路保護、屈曲性及び防湿性の向上等のためにカバーレイフィルムが被覆されている。   As electronics products become lighter, smaller, thinner, and more functional, demand for printed circuit boards is increasing. Among such printed boards, flexible printed wiring boards have the property of withstanding repeated bending, and can be mounted three-dimensionally in a narrow space, so wiring to electronic devices, cables, Its application is expanding as a composite part with a connector function. Particularly in recent years, COF (Chip on Flex) in which an IC chip is directly mounted on a flexible printed wiring board has been put into practical use, and a flexible printed wiring board has been adopted as an interposer for CSP (Chip Scale Packaging) and MCM (Multi Chip Module). For example, a flexible printed circuit board is used as a semiconductor package constituent material. And a coverlay film is coat | covered for the circuit protection of such a flexible printed wiring board, improvement of a flexibility, moisture resistance, etc.

このようなカバーレイフィルムとしては、例えば、特開平10−235784号公報(特許文献1)においては、ポリイミドフィルムをライン中で赤外線または遠赤外線ヒータにより連続的に加熱して乾燥し、該フィルムの含水率を0.1重量%以下とし、その片面または両面に熱硬化性接着剤を塗布し、その上に離型材を積層し、該フィルム−離型材積層板の寸法変化率を、150度かける30分間熱処理後の測定値で、長手方向及び幅方向共に±0.05%以内にするカバーレイフィルムが開示されており、特開平2003−149804号公報(特許文献2)においては、20℃65%RHにて24時間調湿後の線間絶縁抵抗が、1×10の13乗Ω以上である感光性ドライフィルムレジストを用いてなるフレキシブルプリント配線板用感光性カバーレイフィルムが開示されている。また、特開2003−330005号公報(特許文献3)においては、予め定める第1の透湿度および予め定める第1の体積収縮率を有する合成樹脂から成り、基板に設けられる配線を覆い、かつ基板に接触して設けられる第1保護層と、予め定める第1の透湿度よりも小さな予め定める第2の透湿度、および予め定める第1の体積収縮率よりも大きな予め定める第2の体積収縮率を有する合成樹脂から成り、第1保護層が外部に露出しないように第1保護層を覆い、かつ基板に接触して設けられる第2保護層とを含むことを特徴とする配線基板の保護構造が開示されている。更に、特開2001−15876号公報(特許文献4)においては、フレキシブル基板用フィルム上に第一部材を介して回路が設けられ、この回路上に第二部材を介してカバーレイフィルムが設けられているフレキシブルプリント配線板が記載されており、このようなフレキシブル基板用フィルム及びカバーレイフィルムとしては、ポリイミドフィルムが記載されている。   As such a coverlay film, for example, in JP-A-10-235784 (Patent Document 1), a polyimide film is continuously heated by an infrared or far-infrared heater in a line and dried. The moisture content is set to 0.1% by weight or less, a thermosetting adhesive is applied to one or both sides thereof, a release material is laminated thereon, and a dimensional change rate of the film-release material laminate is applied by 150 degrees. A coverlay film is disclosed in which the measured value after heat treatment for 30 minutes is within ± 0.05% in both the longitudinal direction and the width direction. JP-A No. 2003-149804 (Patent Document 2) discloses a coverlay film of 20 ° C. For flexible printed wiring boards using a photosensitive dry film resist having a line insulation resistance of 1 × 10 13 Ω or more after humidity conditioning at% RH for 24 hours Light coverlay film is disclosed. Further, in Japanese Patent Laid-Open No. 2003-330005 (Patent Document 3), it is made of a synthetic resin having a predetermined first moisture permeability and a predetermined first volume shrinkage rate, covers wiring provided on the substrate, and A first protective layer provided in contact with the first protective layer, a predetermined second moisture permeability smaller than the predetermined first moisture permeability, and a predetermined second volume shrinkage greater than the predetermined first volume shrinkage. And a second protective layer provided so as to be in contact with the substrate and covering the first protective layer so that the first protective layer is not exposed to the outside. Is disclosed. Further, in Japanese Patent Laid-Open No. 2001-15876 (Patent Document 4), a circuit is provided on a flexible substrate film via a first member, and a coverlay film is provided on the circuit via a second member. A flexible printed wiring board is described, and a polyimide film is described as such a flexible substrate film and coverlay film.

しかしながら、特許文献1〜4に記載のカバーレイフィルムにおいては、防湿性の点では未だ十分なものではなかった。そのため、このような従来のカバーレイフィルムで覆われたフレキシブルプリント配線基板においては、長期間の使用によりフレキシブルプリント配線基板が水に曝されてしまうという問題が生じていた。そして、このように水に曝されたフレキシブルプリント配線基板においては、通電した場合に負極端子側で水の電気分解により水酸基が生じて塩基性となり、配線基板を損傷させるという問題があった。電気分解により生じる水酸基によりカバーレイフィルムの基材が溶けて穴が開いたり、カバーレイフィルムの基材にパイ生地状の凹凸を生じたりすることによって、カバーレイフィルムで覆われたフレキシブルプリント配線基板を用いた電化製品の故障の原因となる可能性が生じていた。また、水の比誘電率が約80と大きいことから、フレキシブルプリント配線基板が水に曝されることによって、回路インダクタンスが変わり高周波特性を求める通信機器、測定機器、電子計算機の電気的な回路特性に大きな影響を与えていた。更に、フレキシブルプリント配線基板が水に曝されることによって、フレキシブルプリント配線基板から配線が剥離してしまい、配線が切断するという問題もあった。また、水に曝されたフレキシブルプリント配線基板の配線ピッチが狭い場合においては、配線端子との接触抵抗が増すときに接触不良を生じ易いという問題もあった。更に、水に曝されたフレキシブルプリント配線基板の配線ピッチが狭い場合においては、配線表面の無電解メッキ被膜に存する配線母体金属よりも高純度の金属からウィスカ又はホイスカと称せられる微小な針状金属結晶が成長して、配線間を短絡させるという問題もあった。
特開平10−235784号公報 特開2003−149804号公報 特開2003−330005号公報 特開2001−15876号公報
However, the coverlay films described in Patent Documents 1 to 4 have not been sufficient in terms of moisture resistance. Therefore, in the flexible printed wiring board covered with such a conventional cover lay film, the problem that the flexible printed wiring board was exposed to water by long-term use had arisen. And in the flexible printed wiring board exposed to water in this way, when energized, there was a problem that a hydroxyl group was generated by electrolysis of water on the negative terminal side and became basic, thereby damaging the wiring board. A flexible printed wiring board covered with a coverlay film by melting the base material of the coverlay film by the hydroxyl group generated by electrolysis and opening a hole, or creating puff-like irregularities on the base material of the coverlay film There was a possibility of causing failure of electrical appliances using the In addition, since the relative dielectric constant of water is as high as about 80, the circuit inductance changes when the flexible printed circuit board is exposed to water, and the electrical circuit characteristics of communication equipment, measuring equipment, and electronic computers that require high frequency characteristics. Had a great influence on Furthermore, when the flexible printed wiring board is exposed to water, the wiring is peeled off from the flexible printed wiring board, and the wiring is cut. Further, when the wiring pitch of the flexible printed wiring board exposed to water is narrow, there is a problem that contact failure is likely to occur when the contact resistance with the wiring terminal increases. Furthermore, in the case where the wiring pitch of the flexible printed circuit board exposed to water is narrow, a fine acicular metal called whisker or whisker from a metal having a higher purity than the wiring base metal present in the electroless plating film on the wiring surface There was also a problem that crystals grew and the wiring was short-circuited.
JP-A-10-235784 JP 2003-149804 A JP 2003-330005 A JP 2001-15876 A

本発明は、上記従来技術の有する課題に鑑みてなされたものであり、水蒸気透過度が小さく高水準の防湿性を長期に亘り安定して発揮することが可能なカバーレイフィルムであって、フレキシブルプリント配線基板を被覆した場合に水蒸気によって配線基板上の負端子側が塩基性となること及び配線の剥離や短絡が生じることを十分に防止することが可能な防湿性カバーレイフィルム、並びに、それを用いたフレキシブルプリント配線基板を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of the above-described problems of the prior art, and is a coverlay film that has a low water vapor permeability and can stably exhibit a high level of moisture resistance over a long period of time. Moisture-proof coverlay film that can sufficiently prevent the negative terminal side on the wiring board from becoming basic and causing peeling or short-circuiting of the wiring board by water vapor when the printed wiring board is coated, and It aims at providing the used flexible printed wiring board.

本発明者らは、上記目的を達成すべく鋭意研究を重ねた結果、ポリカルボン酸系重合体(A)の多価金属塩を少なくとも含む有機薄膜のポリカルボン酸系重合体(A)の親水性基や多価金属との塩形成等に起因して重合体分子構造の密度を大きくしてなる有機防湿膜をポリイミドフィルムに積層させることにより、水蒸気透過度が小さく高水準の防湿性を長期に亘り安定して発揮することが可能なカバーレイフィルムであって、フレキシブルプリント配線基板を覆った場合に水蒸気によって配線基板上の負端子側が塩基性となること及び配線の剥離が生じることを防止することを可能とするカバーレイフィルムが得られることを見出し、本発明を完成するに至った。   As a result of intensive studies to achieve the above object, the present inventors have found that the hydrophilicity of the polycarboxylic acid polymer (A) of the organic thin film containing at least the polyvalent metal salt of the polycarboxylic acid polymer (A). By stacking an organic moisture-proof film, which has a higher molecular molecular structure density due to salt formation with functional groups and polyvalent metals, on the polyimide film, it has a low water vapor permeability and a high level of moisture resistance. It is a coverlay film that can be stably demonstrated over a wide area, and prevents the negative terminal side on the wiring board from becoming basic and peeling of the wiring due to water vapor when the flexible printed wiring board is covered The present inventors have found that a coverlay film that can be obtained is obtained, and have completed the present invention.

すなわち、本発明の防湿性カバーレイフィルムは、ポリイミドフィルムからなる基材フィルムと、該基材フィルムの一方の面に積層されている有機防湿膜を備える防湿性カバーレイフィルムであって、前記有機防湿膜が、
ポリカルボン酸系重合体(A)の多価金属塩を少なくとも含み、赤外線吸収スペクトルの面積比α[ピーク面積S1(3700〜2500cm −1 )/ピーク面積S2(1800〜1500cm −1 )]が2.5以下であり、且つ赤外線吸収スペクトルのピーク比β[ピークA1(1560cm −1 )/ピークA2(1700cm −1 )]が1.2以上としてなる、
ことを特徴とするものである。ここで、波長の単位にはカイザー(波数と云うこともある)を用い、カイザー=1/cm単位での波長で求められ、単位記号「cm −1 」を用いる。
That is, the moisture-proof coverlay film of the present invention is a moisture-proof coverlay film comprising a base film made of a polyimide film and an organic moisture-proof film laminated on one surface of the base film, Moisture proof membrane
It contains at least a polyvalent metal salt of the polycarboxylic acid polymer (A) and has an infrared absorption spectrum area ratio α [peak area S1 (3700 to 2500 cm −1 ) / peak area S2 (1800 to 1500 cm −1 )]. Is 2.5 or less, and the peak ratio β [peak A1 (1560 cm −1 ) / peak A2 (1700 cm −1 )] of the infrared absorption spectrum is 1.2 or more.
It is characterized by this. Here, a Kaiser (sometimes referred to as a wave number) is used as the unit of wavelength, and the unit symbol “ cm −1 ” is used, which is determined by the Kaiser = 1 / cm wavelength.

上記本発明の防湿性カバーレイフィルムとしては、前記基材フィルムの一方の面に前記有機防湿膜が積層されていることが好ましい。   As the moisture-proof coverlay film of the present invention, it is preferable that the organic moisture-proof film is laminated on one surface of the base film.

また、上記本発明の防湿性カバーレイフィルムとしては、前記基材フィルムの一方の面に更にもう1枚の前記有機防湿膜が積層されており、2枚の前記有機防湿膜同士が直接的に対向して密着されていることが好ましい。
In addition, as the moisture-proof coverlay film of the present invention, another organic moisture-proof film is further laminated on one surface of the base film, and the two organic moisture-proof films are directly connected to each other. It is preferable that they are in close contact with each other.

さらに、上記本発明の防湿性カバーレイフィルムとしては、前記基材フィルムの一方の面に更にもう1枚の前記有機防湿膜が積層されており、2枚の前記有機防湿膜同士が接着層を介して積層されていることが好ましい。
Further, as the moisture-proof coverlay film of the present invention, another organic moisture-proof film is further laminated on one surface of the base film, and the two organic moisture-proof films are bonded to each other. it is preferably laminated through.

上記本発明の防湿性カバーレイフィルムとしては、前記有機防湿膜中の前記ポリカルボン酸系重合体(A)の多価金属塩に構成成分として含有される多価金属が、亜鉛、ジルコニウム、銅及びニッケルからなる群から選択される少なくとも一種の金属であることが好ましい。
As the moisture-proof coverlay film of the present invention, the polyvalent metal contained as a constituent component in the polyvalent metal salt of the polycarboxylic acid polymer (A) in the organic moisture-proof film is zinc, zirconium, copper And at least one metal selected from the group consisting of nickel.

上記本発明の防湿性カバーレイフィルムとしては、前記有機防湿膜中の前記ポリカルボン酸系重合体(A)の多価金属塩に構成成分として含有される多価金属が亜鉛であり、且つ亜鉛のオージェ電子スペクトル分析による結合エネルギーが496〜498eVの間に少なくとも一つのピークを有することが好ましい。
In the moisture-proof coverlay film of the present invention, the polyvalent metal contained in the polyvalent metal salt of the polycarboxylic acid polymer (A) in the organic moisture-proof film is zinc, and zinc It is preferable that the binding energy according to Auger electron spectrum analysis has at least one peak between 496 and 498 eV.

上記本発明の防湿性カバーレイフィルムとしては、前記基材フィルムの他方の面に積層されている接着剤層を更に備えることが好ましい。   The moisture-proof coverlay film of the present invention preferably further includes an adhesive layer laminated on the other surface of the base film.

また、本発明のフレキシブルプリント配線基板は、前記本発明の防湿性カバーレイフィルムで被覆されていることを特徴とするものである。   The flexible printed wiring board of the present invention is covered with the moisture-proof coverlay film of the present invention.

本発明によれば、水蒸気透過度が小さく高水準の防湿性を長期に亘り安定して発揮することが可能なカバーレイフィルムであって、フレキシブルプリント配線基板を被覆した場合に水蒸気によって配線基板上の負端子側が塩基性となること及び配線の剥離が生じることを抑えることが可能な防湿性カバーレイフィルム、並びに、それを用いたフレキシブルプリント配線基板を提供することが可能となる。   According to the present invention, a coverlay film having a low water vapor transmission rate and capable of stably exhibiting a high level of moisture resistance over a long period of time is provided on a wiring board when covered with a flexible printed wiring board. It becomes possible to provide a moisture-proof cover lay film that can suppress the negative terminal side of the substrate from becoming basic and causing peeling of the wiring, and a flexible printed wiring board using the moisture-proof cover lay film.

以下、本発明をその好適な実施形態に即して詳細に説明する。   Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to preferred embodiments thereof.

先ず、本発明の防湿性カバーレイフィルムについて説明する。すなわち、本発明の防湿性カバーレイフィルムは、ポリイミドフィルムからなる基材フィルムと、該基材フィルムの一方の面に積層されている有機防湿膜とを備える防湿性カバーレイフィルムであって、前記有機防湿膜が、
ポリカルボン酸系重合体(A)の多価金属塩を少なくとも含み、赤外線吸収スペクトルの面積比α[ピーク面積S1(3700〜2500cm −1 )/ピーク面積S2(1800〜1500cm −1 )]が2.5以下であり、且つ赤外線吸収スペクトルのピーク比β[ピークA1(1560cm −1 )/ピークA2(1700cm −1 )]が1.2以上としてなる、ことを特徴とするものである。
First, the moisture-proof coverlay film of the present invention will be described. That is, the moisture-proof coverlay film of the present invention is a moisture-proof coverlay film comprising a base film made of a polyimide film and an organic moisture-proof film laminated on one surface of the base film, Organic moisture barrier
It contains at least a polyvalent metal salt of the polycarboxylic acid polymer (A) and has an infrared absorption spectrum area ratio α [peak area S1 (3700 to 2500 cm −1 ) / peak area S2 (1800 to 1500 cm −1 )]. Is 2.5 or less, and the peak ratio β [peak A1 (1560 cm −1 ) / peak A2 (1700 cm −1 )] of the infrared absorption spectrum is 1.2 or more. is there.

(有機防湿膜)
本発明にかかる有機防湿膜は、ポリカルボン酸系重合体(A)の多価金属塩を少なくとも含み、赤外線吸収スペクトルの面積比α[ピーク面積S1(3700〜2500cm −1 )/ピーク面積S2(1800〜1500cm −1 )]が2.5以下であり、且つ赤外線吸収スペクトルのピーク比β[ピークA1(1560cm −1 )/ピークA2(1700cm −1 )]が1.2以上であり、ガスバリア性及び防湿性を有する有機防湿膜である。尚、本発明においては、上記の面積比を簡略化して、赤外線吸収スペクトルの面積比α、或いは単に面積比αと表現したり、また、前記ピーク比を簡略化して赤外線吸収スペクトルのピーク比β、或いは単にピーク比βと表現する場合もある。さらに、本発明で云うガスバリア性とは、高湿度条件下において低酸素透過度を有することを意味している。特に断りのない限り、温度30℃、相対湿度(RH)80%における酸素透過度を云う。
(Organic moisture barrier)
The organic moisture-proof film according to the present invention includes at least a polyvalent metal salt of the polycarboxylic acid-based polymer (A), and has an infrared absorption spectrum area ratio α [peak area S1 (3700 to 2500 cm −1 ) / peak area S2. (1800-1500 cm −1 )] is 2.5 or less, and the peak ratio β [peak A1 (1560 cm −1 ) / peak A2 (1700 cm −1 )] of the infrared absorption spectrum is 1.2 or more. It is an organic moisture-proof film having gas barrier properties and moisture-proof properties. In the present invention, the above-described area ratio is simplified and expressed as the infrared absorption spectrum area ratio α, or simply as the area ratio α, or the peak ratio is simplified to reduce the infrared absorption spectrum peak ratio β. Alternatively, it may be simply expressed as a peak ratio β. Furthermore, the gas barrier property referred to in the present invention means having a low oxygen permeability under high humidity conditions. Unless otherwise specified, it refers to the oxygen permeability at a temperature of 30 ° C. and a relative humidity (RH) of 80%.

本発明にかかる有機防湿膜に含有されるポリカルボン酸系重合体(A)が以下の特定の要件を満たしている場合には、前記有機防湿膜は高湿度下でも酸素等のガスバリア性に優れ、多湿である熱帯地方という自然環境の下でも長期間の耐水性を有するため有機防湿膜の原料として好適に用いることができる。   When the polycarboxylic acid polymer (A) contained in the organic moisture-proof film according to the present invention satisfies the following specific requirements, the organic moisture-proof film is excellent in gas barrier properties such as oxygen even under high humidity. In addition, since it has long-term water resistance even in a natural environment such as a humid tropical region, it can be suitably used as a raw material for organic moisture-proof films.

ここで、前記特定の要件とは、本発明にかかる有機防湿膜の原料であるポリカルボン酸系重合体(A)単独から形成される有機防湿膜の乾燥条件(温度30℃、相対湿度0%)における酸素透過係数が特定値以下であることをいう。また、ガスの種類、測定雰囲気、及びポリカルボン酸系重合体フィルムの調製法を限定することにより、ガス透過係数を、重合体の構造を反映する変数として採用することが可能となる。なお、重合体の分子構造とガス透過係数の関係については、Jhon Wiley & Sons,Inc.,ENCYCLOPEDIA OF POLYMER SCIENCE AND ENGINEERING,VOL.2,p.177(1985)を参照することができる。   Here, the above-mentioned specific requirements are the drying conditions (temperature 30 ° C., relative humidity 0%) of the organic moisture-proof film formed solely from the polycarboxylic acid polymer (A) that is the raw material of the organic moisture-proof film according to the present invention. ) Means that the oxygen transmission coefficient is not more than a specific value. Further, by limiting the kind of gas, the measurement atmosphere, and the preparation method of the polycarboxylic acid polymer film, the gas permeability coefficient can be adopted as a variable reflecting the structure of the polymer. The relationship between the molecular structure of the polymer and the gas permeability coefficient is described in Jon Wiley & Sons, Inc. , ENCYCLOPEDIA OF POLYMER SCIENCE AND ENGINEERING, VOL. 2, p. 177 (1985).

本発明にかかる有機防湿膜の原料として用いるポリカルボン酸系重合体(A)としては、既存のポリカルボン酸系重合体であれば特に制限はないが、本発明にかかる有機防湿膜のガスバリア性及び防湿性の向上という観点から、原料としてのポリカルボン酸系重合体(A)の乾燥条件下(30℃、相対湿度0%)で測定した前記酸素透過係数が、100cm (STP)・μm/( ・day・MPa)以下であることが好ましい。ここで、立方cmを単位記号「cm 」、平方mを単位記号「 」で表記する。また温度と圧力の標準状態を記号「STP」と表記し、23℃で1気圧の条件下での測定値であることを示す。尚、このような酸素透過係数は、例えば以下の方法で求めることができる。すなわち、ポリカルボン酸系重合体(A)の10重量%水溶液を調製して、プラスチック基材上に厚さ1μmのポリカルボン酸系重合体層が形成されたコーティングフィルムを製造し、得られたコーティングフィルムを乾燥したときの30℃、相対湿度0%における酸素透過度を測定する。前記プラスチック基材としては、その酸素透過度が既知である任意のプラスチックフィルムを用いる。そして、得られたポリカルボン酸系重合体(A)のコーティングフィルムの酸素透過度が基材として用いたプラスチックフィルム単独の酸素透過度に対して、10分の1以下であれば、前記のようにして測定された酸素透過度の測定値が、ほぼポリカルボン酸系重合体(A)の層単独の酸素透過度と見なすことができる。そして、このようにして得られた酸素透過度の測定値に1μmを乗じることにより、酸素透過係数に変換することができる。 The polycarboxylic acid polymer (A) used as a raw material for the organic moisture-proof film according to the present invention is not particularly limited as long as it is an existing polycarboxylic acid-based polymer, but the gas barrier property of the organic moisture-proof film according to the present invention. From the viewpoint of improving moisture resistance, the oxygen permeability coefficient measured under dry conditions (30 ° C., relative humidity 0%) of the polycarboxylic acid polymer (A) as a raw material is 100 cm 3 (STP) · It is preferable that it is below μm / ( m 2 · day · MPa). Here, cubic cm is represented by a unit symbol “ cm 3 ”, and square m is represented by a unit symbol “ m 2 ”. In addition, the standard state of temperature and pressure is represented by the symbol “STP”, which indicates a measured value at 23 ° C. and 1 atm. Such an oxygen transmission coefficient can be obtained by the following method, for example. That is, a 10% by weight aqueous solution of the polycarboxylic acid polymer (A) was prepared, and a coating film in which a polycarboxylic acid polymer layer having a thickness of 1 μm was formed on a plastic substrate was obtained. The oxygen permeability at 30 ° C. and 0% relative humidity when the coating film is dried is measured. As the plastic substrate, any plastic film whose oxygen permeability is known is used. And if the oxygen permeability of the coating film of the obtained polycarboxylic acid polymer (A) is 1/10 or less with respect to the oxygen permeability of the plastic film used alone as the base material, as described above The measured value of the oxygen permeability measured in this manner can be regarded as the oxygen permeability of the layer of the polycarboxylic acid polymer (A). The oxygen permeability coefficient can be converted to an oxygen permeability coefficient by multiplying the measured value of the oxygen permeability thus obtained by 1 μm.

本発明にかかる有機防湿膜の原料として用いるポリカルボン酸系重合体(A)としては、既存のポリカルボン酸系重合体を用いることができるが、既存のポリカルボン酸系重合体とは、分子内に2個以上のカルボキシ基を有する重合体の総称である。具体的には、重合性単量体として、α,β−モノエチレン性不飽和カルボン酸を用いた単独重合体、単量体成分として、α,β−モノエチレン性不飽和カルボン酸のみからなり、それらの少なくとも2種の共重合体、またα,β−モノエチレン性不飽和カルボン酸と他のエチレン性不飽和単量体との共重合体、更にアルギン酸、カルボキシメチルセルロース、ペクチン等の分子内にカルボキシ基を有する酸性多糖類を例示することができる。これらのポリカルボン酸系重合体(A)は、それぞれ単独で、又は少なくとも2種のポリカルボン酸系重合体(A)を混合して用いることができる。   As the polycarboxylic acid polymer (A) used as a raw material for the organic moisture-proof film according to the present invention, an existing polycarboxylic acid polymer can be used, but an existing polycarboxylic acid polymer is a molecule. A generic term for polymers having two or more carboxy groups. Specifically, a homopolymer using α, β-monoethylenically unsaturated carboxylic acid as the polymerizable monomer, and only α, β-monoethylenically unsaturated carboxylic acid as the monomer component. , At least two types of copolymers thereof, copolymers of α, β-monoethylenically unsaturated carboxylic acid and other ethylenically unsaturated monomers, and intramolecular such as alginic acid, carboxymethylcellulose, pectin, etc. Examples thereof include acidic polysaccharides having a carboxy group. These polycarboxylic acid polymers (A) can be used alone or in admixture of at least two polycarboxylic acid polymers (A).

ここで、前記α,β−モノエチレン性不飽和カルボン酸としては、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、マレイン酸、フマル酸、クロトン酸等が代表的なものである。またそれらと共重合可能なエチレン性不飽和単量体としては、エチレン、プロピレン、酢酸ビニル等の飽和カルボン酸ビニルエステル類、アルキルアクリレート類、アルキルメタクリレート類、アルキルイタコネート類、アクリロニトリル、塩化ビニル、塩化ビニリデン、フッ化ビニル、フッ化ビニリデン、スチレン等が代表的なものである。また、ポリカルボン酸系重合体(A)が、α,β−モノエチレン性不飽和カルボン酸と酢酸ビニル等の飽和カルボン酸ビニルエステル類との共重合体の場合には、更にケン化することにより、飽和カルボン酸ビニルエステル部分をビニルアルコールに変換して使用することができる。   Here, as the α, β-monoethylenically unsaturated carboxylic acid, acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, maleic acid, fumaric acid, crotonic acid and the like are representative. Examples of the ethylenically unsaturated monomers copolymerizable therewith include saturated carboxylic acid vinyl esters such as ethylene, propylene and vinyl acetate, alkyl acrylates, alkyl methacrylates, alkyl itaconates, acrylonitrile, vinyl chloride, Representative examples include vinylidene chloride, vinyl fluoride, vinylidene fluoride, and styrene. Further, when the polycarboxylic acid polymer (A) is a copolymer of an α, β-monoethylenically unsaturated carboxylic acid and a saturated carboxylic acid vinyl ester such as vinyl acetate, saponification is further performed. Thus, the saturated carboxylic acid vinyl ester moiety can be converted into vinyl alcohol for use.

また、本発明にかかる有機防湿膜の原料として用いるポリカルボン酸系重合体(A)が、α,β−モノエチレン性不飽和カルボン酸とその他のエチレン性不飽和単量体との共重合体である場合には、得られる有機防湿膜のガスバリア性及び高温水蒸気や熱水に対する耐性の向上という観点から、その共重合組成はα,β−モノエチレン性不飽和カルボン酸単量体組成が、好ましくは60モル%以上であり、より好ましくは80モル%以上であり、更に好ましくは90モル%以上であり、最も好ましくは100モル%である。このように、本発明にかかる有機防湿膜の原料として用いるポリカルボン酸系重合体(A)としては、α,β−モノエチレン性不飽和カルボン酸のみからなる重合体を用いることが好ましい。更にポリカルボン酸系重合体(A)がα,β−モノエチレン性不飽和カルボン酸のみからなる重合体の場合には、その好適な具体例は、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、マレイン酸、フマル酸、クロトン酸からなる群から選ばれる少なくとも1種の重合性単量体の重合によって得られる重合体、及びそれらの混合物が挙げられる。そして、このようなα,β−モノエチレン性不飽和カルボン酸のみからなる重合体の中でも、アクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸から選ばれる少なくとも1種の重合性単量体の重合によって得られる重合体、及び/又はそれらの混合物が用いることがより好ましく、ポリアクリル酸、ポリメタクリル酸、ポリマレイン酸、及びそれらの混合物を用いることが最も好ましくい。また、ポリカルボン酸系重合体(A)がα,β−モノエチレン性不飽和カルボン酸単量体の重合体以外の例えば、酸性多糖類の場合には、アルギン酸を好ましく用いることができる。
The polycarboxylic acid polymer (A) used as a raw material for the organic moisture-proof film according to the present invention is a copolymer of an α, β-monoethylenically unsaturated carboxylic acid and another ethylenically unsaturated monomer. From the viewpoint of improving the gas barrier property of the obtained organic moisture barrier film and the resistance to high-temperature steam and hot water, the copolymer composition is an α, β-monoethylenically unsaturated carboxylic acid monomer composition, Preferably it is 60 mol% or more, More preferably, it is 80 mol% or more, More preferably, it is 90 mol% or more, Most preferably, it is 100 mol%. Thus, as the polycarboxylic acid polymer (A) used as a raw material for the organic moisture-proof film according to the present invention, it is preferable to use a polymer composed only of α, β-monoethylenically unsaturated carboxylic acid. Furthermore, when the polycarboxylic acid polymer (A) is a polymer composed only of α, β-monoethylenically unsaturated carboxylic acid, preferred specific examples thereof are acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, maleic acid. , A polymer obtained by polymerization of at least one polymerizable monomer selected from the group consisting of fumaric acid and crotonic acid, and a mixture thereof. Among the polymers composed only of such α, β-monoethylenically unsaturated carboxylic acids, heavy polymers obtained by polymerization of at least one polymerizable monomer selected from acrylic acid, methacrylic acid, and maleic acid. It is more preferred to use coalescence and / or mixtures thereof, and most preferred to use polyacrylic acid, polymethacrylic acid, polymaleic acid, and mixtures thereof. Also, when the polycarboxylic acid polymer (A) is an acidic polysaccharide other than the polymer of the α, β-monoethylenically unsaturated carboxylic acid monomer, for example, alginic acid can be preferably used.

ポリカルボン酸系重合体(A)の数平均分子量については特に限定されないが、有機防湿膜の形成性の観点から、2,000〜10,000,000の範囲であることが好ましく、更に5,000〜1,000,000であることが好ましい。   The number average molecular weight of the polycarboxylic acid polymer (A) is not particularly limited, but is preferably in the range of 2,000 to 10,000,000 from the viewpoint of the formation of the organic moisture-proof film, It is preferable that it is 000-1,000,000.

なお、本発明にかかる有機防湿膜には、ポリカルボン酸系重合体(A)以外にも有機防湿膜のガスバリア性及び防湿性を損なわない範囲で他の重合体を混合して用いることが可能であるが、ポリカルボン酸系重合体(A)のみを単独で用いることが好ましい。   In addition to the polycarboxylic acid polymer (A), other polymers can be used in the organic moisture-proof film according to the present invention as long as the gas barrier property and moisture-proof property of the organic moisture-proof film are not impaired. However, it is preferable to use only the polycarboxylic acid polymer (A) alone.

また、本発明にかかる有機防湿膜に含有されるポリカルボン酸系重合体(A)の多価金属塩に構成成分として含有される多価金属は、金属イオンの価数が2以上の多価金属原子単体である。このような多価金属の具体例としては、ベリリウム、マグネシウム、カルシウム等のアルカリ土類金属、チタン、ジルコニウム、クロム、マンガン、鉄、コバルト、ニッケル、銅、亜鉛等の遷移金属、アルミニウム等を挙げることができる。このような多価金属の中でも、亜鉛、ジルコニウム、銅又はニッケルを用いることが好ましい。また、表示装置を備える電子部品に防湿性カバーレイフィルムを用いる場合には、有機防湿膜は透明であることが好ましく、このような有機防湿膜に含有させる多価金属としては、例えば亜鉛又はジルコニウムが挙げられる。更に、有機防湿膜は着色していてもよく、このような有機薄膜に含有させる多価金属としては、例えば淡い緑色に着色する銅が挙げられる。   Moreover, the polyvalent metal contained as a constituent in the polyvalent metal salt of the polycarboxylic acid polymer (A) contained in the organic moisture-proof film according to the present invention is a polyvalent metal having a metal ion valence of 2 or more. It is a single metal atom. Specific examples of such polyvalent metals include alkaline earth metals such as beryllium, magnesium and calcium, transition metals such as titanium, zirconium, chromium, manganese, iron, cobalt, nickel, copper and zinc, and aluminum. be able to. Among such polyvalent metals, it is preferable to use zinc, zirconium, copper or nickel. Further, when a moisture-proof coverlay film is used for an electronic component equipped with a display device, the organic moisture-proof film is preferably transparent. Examples of the polyvalent metal contained in such an organic moisture-proof film include zinc or zirconium. Is mentioned. Furthermore, the organic moisture-proof film may be colored, and examples of the polyvalent metal contained in such an organic thin film include copper that is colored light green.

また、本発明にかかる有機防湿膜に含有される多価金属塩の原料としては、多価金属化合物(B)が用いられる。このような多価金属化合物(B)の具体例としては、前記多価金属の酸化物、水酸化物、炭酸塩、有機酸塩、無機酸塩、その他、多価金属のアンモニウム錯体や多価金属の2〜4級アミン錯体とそれら錯体の炭酸塩や有機酸塩等が挙げられる。前記有機酸塩としては、酢酸塩、シュウ酸塩、クエン酸塩、乳酸塩、リン酸塩、亜リン酸塩、次亜リン酸塩、ステアリン酸塩、モノエチレン性不飽和カルボン酸塩等が挙げられる。前記無機酸塩としては、塩化物、硫酸塩、硝酸塩等を挙げることができる。それ以外には多価金属のアルキルアルコキシド等を挙げることができる。   Moreover, a polyvalent metal compound (B) is used as a raw material of the polyvalent metal salt contained in the organic moisture-proof film according to the present invention. Specific examples of such a polyvalent metal compound (B) include oxides, hydroxides, carbonates, organic acid salts, inorganic acid salts of polyvalent metals, ammonium complexes of polyvalent metals, and polyvalent metals. Examples thereof include metal secondary to quaternary amine complexes and carbonates and organic acid salts of these complexes. Examples of the organic acid salt include acetate, oxalate, citrate, lactate, phosphate, phosphite, hypophosphite, stearate, monoethylenically unsaturated carboxylate, etc. Can be mentioned. Examples of the inorganic acid salt include chloride, sulfate, nitrate and the like. Other than that, an alkyl alkoxide of a polyvalent metal can be used.

このような多価金属化合物(B)はそれぞれ単独で、また少なくとも2種の多価金属化合物を混合して用いることができる。このような多価金属化合物(B)の中でも、有機防湿膜のガスバリア性、防湿性及び製造性の向上という観点から、2価の金属化合物が好ましく用いられる。更に、このような多価金属化合物(B)の中でも、アルカリ土類金属、ジルコニウム、コバルト、ニッケル、銅及び亜鉛の酸化物、水酸化物、炭酸塩又はアルカリ土類金属、ジルコニウム、コバルト、ニッケル、銅及び亜鉛のアンモニウム錯体或いは前記錯体の炭酸塩を用いることが好ましく、マグネシウム、カルシウム、ジルコニウム、銅、亜鉛の各酸化物、水酸化物、炭酸塩、及びジルコニウム、銅、ニッケルもしくは亜鉛のアンモニウム錯体とその錯体の炭酸塩を用いることがより好ましい。   Such polyvalent metal compounds (B) can be used alone or in admixture of at least two polyvalent metal compounds. Among such polyvalent metal compounds (B), divalent metal compounds are preferably used from the viewpoint of improving the gas barrier properties, moisture resistance and manufacturability of the organic moisture barrier film. Furthermore, among such polyvalent metal compounds (B), alkaline earth metals, zirconium, cobalt, nickel, copper and zinc oxides, hydroxides, carbonates or alkaline earth metals, zirconium, cobalt, nickel It is preferable to use an ammonium complex of copper and zinc or a carbonate of the complex, magnesium, calcium, zirconium, copper, zinc oxides, hydroxide, carbonate, and zirconium, copper, nickel or zinc ammonium. More preferably, a complex and a carbonate of the complex are used.

また、本発明にかかる有機防湿膜のガスバリア性及び防湿性を損なわない範囲で、1価の金属からなる金属化合物、例えばポリカルボン酸系重合体(A)の1価金属塩を混合又は含まれたまま用いることができる。このような1価の金属化合物の好ましい添加量は、前記有機防湿膜のガスバリア性及び防湿性の観点で、ポリカルボン酸系重合体(A)のカルボキシ基に対して、0.2化学当量以下である。なお、前記1価の金属化合物は、部分的にポリカルボン酸系重合体の多価金属塩の分子中に含まれていてもよい。   In addition, a metal compound composed of a monovalent metal, for example, a monovalent metal salt of a polycarboxylic acid polymer (A) is mixed or contained within a range that does not impair the gas barrier property and moisture proof property of the organic moisture-proof film according to the present invention. Can be used as is. The preferable addition amount of such a monovalent metal compound is 0.2 chemical equivalent or less with respect to the carboxy group of the polycarboxylic acid polymer (A) from the viewpoint of gas barrier property and moisture resistance of the organic moisture-proof film. It is. The monovalent metal compound may be partially contained in the molecule of the polyvalent metal salt of the polycarboxylic acid polymer.

本発明にかかる有機防湿膜の原料として用いられる多価金属化合物(B)の形態は、特別限定されない。しかし、後述するように、本発明にかかる有機防湿膜中では、多価金属化合物(B)の一部又は全部がポリカルボン酸系重合体(A)のカルボキシ基とイオン結合により塩を形成している。   The form of the polyvalent metal compound (B) used as a raw material for the organic moisture-proof film according to the present invention is not particularly limited. However, as described later, in the organic moisture-proof film according to the present invention, a part or all of the polyvalent metal compound (B) forms a salt by ionic bond with the carboxy group of the polycarboxylic acid polymer (A). ing.

従って、本発明にかかる有機防湿膜にカルボン酸塩形成に関与しない多価金属化合物(B)が存在する場合には、有機防湿膜の透明性の観点で多価金属化合物(B)は、粒状で、その粒径が小さい方が好ましい。また、後述する本発明にかかる有機薄膜を製造するための溶液又は分散液を調製する上でも、調製時の効率化及びより均一な溶液又は分散液を得る観点で多価金属化合物は粒状で、その粒径は小さい方が好ましい。多価金属化合物の平均粒径としては、好ましくは5μm以下、更に好ましくは1μm以下、最も好ましくは0.1μm以下である。   Therefore, when the polyvalent metal compound (B) that does not participate in carboxylate formation is present in the organic moisture-proof film according to the present invention, the polyvalent metal compound (B) is granular from the viewpoint of the transparency of the organic moisture-proof film. Thus, it is preferable that the particle size is smaller. Also, in preparing a solution or dispersion for producing an organic thin film according to the present invention described later, the polyvalent metal compound is granular in terms of efficiency during preparation and obtaining a more uniform solution or dispersion, The smaller the particle size, the better. The average particle diameter of the polyvalent metal compound is preferably 5 μm or less, more preferably 1 μm or less, and most preferably 0.1 μm or less.

本発明にかかる有機防湿膜は、前記のようにポリカルボン酸系重合体(A)の多価金属塩を少なくとも含み、赤外線吸収スペクトルの特定領域を測定し、これから求められる面積比αが2.5以下であり、且つピーク比βが1.2以上であることを特徴としている。このような特徴を有する本発明にかかる有機防湿膜は、酸素等のガスバリア性と防湿性とが満足なものとなる。   The organic moisture-proof film according to the present invention contains at least the polyvalent metal salt of the polycarboxylic acid polymer (A) as described above, measures a specific region of the infrared absorption spectrum, and has an area ratio α of 2. 5 or less, and the peak ratio β is 1.2 or more. The organic moisture-proof film according to the present invention having such characteristics is satisfactory in gas barrier properties such as oxygen and moisture-proof properties.

次に、有機防湿膜の赤外線吸収スペクトルの面積比α[ピーク面積S1(3700〜2500cm −1 )/ピーク面積S2(1800〜1500cm −1 )]について説明する。 Next, the area ratio α [peak area S1 (3700 to 2500 cm −1 ) / peak area S2 (1800 to 1500 cm −1 )] of the infrared absorption spectrum of the organic moisture-proof film will be described.

本発明において、赤外線吸収スペクトルの面積比αは、有機防湿膜中の水分量を表す指標として代用する。有機防湿膜中の水分の状態は明確ではないが、本発明にかかる有機防湿膜中の水分は、全て有機防湿膜中に吸着された状態のものを指し、吸着水とする。水分に起因するO−H伸縮振動は、3700〜2500cm −1 の赤外光波数領域に幅広い吸収を与える。そこで本発明においては、3700〜2500cm −1 の赤外線吸収スペクトルのピーク面積をピーク面積S1(3700〜2500cm −1 )と規定した。ピーク面積S1(3700〜2500cm −1 )は、3700cm −1 の吸光度と2500cm −1 の吸光度の2点を結ぶ直線を基線として、3700〜2500cm −1 の範囲の面積積分により求めることができる。 In the present invention, the area ratio α of the infrared absorption spectrum is substituted as an index representing the amount of water in the organic moisture-proof film. Although the state of moisture in the organic moisture-proof film is not clear, the moisture in the organic moisture-proof film according to the present invention refers to the state of being adsorbed in the organic moisture-proof film, and is referred to as adsorbed water. The O—H stretching vibration caused by moisture gives a wide absorption in the infrared light wave number region of 3700 to 2500 cm −1 . Therefore, in the present invention, it was defined peak area of the infrared absorption spectrum of 3,700 to 2500 cm -1 peak area S1 and (3700~2500 cm -1). Peak area S1 (3700~2500 cm -1) is a straight line connecting two points of the absorbance and the absorbance of 2500 cm -1 in 3700 cm -1 as the baseline, be determined by area integration of a range of 3,700 to 2,500 cm -1 Can do.

また、ポリカルボン酸系重合体(A)中のカルボキシ基(−COOH)に帰属されるC=O伸縮振動は、1800〜1600cm −1 の赤外光波数領域に、1700cm −1 付近に吸収極大を有するピークを与える。また、カルボキシ基の塩(−COO )に帰属されるC=O伸縮振動は、1600〜1500cm −1 の赤外光波数領域に1560cm −1 付近に吸収極大を有するピークを与える。 Furthermore, C = O stretching vibration attributable to the polycarboxylic acid polymer (A) carboxyl groups in (-COOH) is an infrared wave number range of from 1800 to 1,600 cm -1, around 1700 cm -1 Gives a peak with an absorption maximum. Further, C═O stretching vibration attributed to a salt of a carboxy group ( —COO ) gives a peak having an absorption maximum in the vicinity of 1560 cm −1 in the infrared light wave number region of 1600 to 1500 cm −1 .

このようなカルボキシ基(−COOH)及びカルボキシ基の塩(−COO )に帰属されるピークは、本発明にかかる有機防湿膜の特徴的なピークである。ここで、カルボキシ基の塩の負イオンの価数=−1であり、記号「COO 」で表記する。従って、このピークを含む1800〜1500cm −1 の赤外線吸収スペクトルの面積は、本発明にかかる有機防湿膜の特徴的なピーク面積となる。本発明においては、この面積を、ピーク面積S2(1800〜1500cm −1 )と規定した。ピーク面積S2(1800〜1500cm −1 )は、1800cm −1 の吸光度と1500cm −1 の吸光度の2点を結んだ直線を基線として、1800〜1500cm −1 の範囲の面積積分により求めることができる。 Such a peak attributed to a carboxyl group (—COOH) and a salt of a carboxyl group ( —COO ) is a characteristic peak of the organic moisture-proof film according to the present invention. Here, the valence of the negative ion of the salt of the carboxy group = −1, which is represented by the symbol “ COO ”. Therefore, the area of the infrared absorption spectrum of 1800 to 1500 cm −1 including this peak is a characteristic peak area of the organic moisture-proof film according to the present invention. In this invention, this area was prescribed | regulated as peak area S2 (1800-1500 cm < -1 >). Peak area S2 (1800~1500 cm -1) is a straight line connecting two points of the absorbance at 1800 cm -1 absorbance and 1500 cm -1 as the baseline is determined by the area integral of the range of 1800 to 1500 cm -1 be able to.

以上から、赤外線吸収スペクトルのピーク面積S1(3700〜2500cm −1 )と赤外線吸収スペクトルのピーク面積S2(1800〜1500cm −1 )との比、即ち、ピーク面積S1(3700〜2500cm −1 )/ピーク面積S2(1800〜1500cm −1 )を、赤外線吸収スペクトルの面積比αと規定し、有機防湿膜中の水分量を表す指標として用いることとした。本発明において、この赤外線吸収スペクトルの面積比αは、2.5以下、好ましくは0.01以上、2.3以下、更に好ましくは、0.01以上、2.0以下である。面積比αが2.5を超えるものは、防湿性が不十分となる。 From the above, the ratio of the peak area S1 of the infrared absorption spectrum (3,700 to 2,500 cm -1) and infrared absorption spectrum of the peak area S2 (1800~1500 cm -1), i.e., the peak area S1 (3,700 to 2,500 cm -1 ) / Peak area S2 (1800-1500 cm −1 ) is defined as the area ratio α of the infrared absorption spectrum, and is used as an index representing the amount of water in the organic moisture-proof film. In the present invention, the area ratio α of the infrared absorption spectrum is 2.5 or less, preferably 0.01 or more and 2.3 or less, and more preferably 0.01 or more and 2.0 or less. When the area ratio α exceeds 2.5, the moisture resistance is insufficient.

具体的には、本発明において、赤外線吸収スペクトルは、透過法、ATR法(全反射減衰法)、KBrペレット法、拡散反射法、光音響法(PAS法)等で測定し、前記赤外線吸収スペクトルのピーク面積S1及びピーク面積S2を計算し、両者の比を求める。代表的な測定条件例としては、本発明にかかる有機防湿膜が基材上に形成された積層体を試料として、ATR法で、ATRプリズムとしては、KRS−5(Thallium Bromide−Iodide)を用い、入射角45度、分解能4cm −1 、積算回数30回での測定を挙げることができる。 Specifically, in the present invention, the infrared absorption spectrum is measured by transmission method, ATR method (total reflection attenuation method), KBr pellet method, diffuse reflection method, photoacoustic method (PAS method), etc. The peak area S1 and the peak area S2 are calculated, and the ratio between the two is obtained. As a typical measurement condition example, a laminate in which the organic moisture-proof film according to the present invention is formed on a base material is used as a sample, by the ATR method, and as the ATR prism, KRS-5 (Thallium Bromide-Ioide) is used. , Measurement at an incident angle of 45 degrees, a resolution of 4 cm −1 , and an integration count of 30 times.

本発明において、有機防湿膜の赤外線吸収スペクトルのピーク比β[ピークA1(1560cm −1 )/ピークA2(1700cm −1 )]は、有機防湿膜中のポリカルボン酸系重合体(A)と多価金属化合物(B)との金属塩形成の度合いを表す指標として用いる。赤外線吸収スペクトルのピーク比βを構成するピークA1(1560cm −1 )は、カルボキシ基の塩(−COO )に帰属される1560cm −1 付近のC=O伸縮振動の赤外線吸収スペクトルの吸収ピーク面積又はピーク高さである。即ち、通常カルボン酸塩(−COO )に帰属されるC=O伸縮振動は、1600〜1500cm −1 の赤外光波数領域に1560cm −1 付近に吸収極大を有する吸収ピークを与える。ピークA1(1560cm −1 )は、1600cm −1 の吸光度と1500cm −1 の吸光度の2点を結んだ直線を基線として、1600〜1500cm −1 の範囲の面積積分からピーク面積、1600〜1500cm −1 の範囲の吸収極大の高さからピーク高さを求めることができる。 In the present invention, the peak ratio β [peak A1 (1560 cm −1 ) / peak A2 (1700 cm −1 )] of the infrared absorption spectrum of the organic moisture barrier film is the polycarboxylic acid polymer (A) in the organic moisture barrier film. And an index representing the degree of metal salt formation between the polyvalent metal compound (B). The peak A1 (1560 cm −1 ) constituting the peak ratio β of the infrared absorption spectrum is the absorption of the infrared absorption spectrum of C═O stretching vibration around 1560 cm −1 attributed to the carboxyl group salt ( —COO ). Peak area or peak height. That is, the C═O stretching vibration usually attributed to a carboxylate ( —COO ) gives an absorption peak having an absorption maximum in the vicinity of 1560 cm −1 in the infrared light wave number region of 1600 to 1500 cm −1 . Peak A1 (1560 cm -1) is a straight line connecting two points of the absorbance at 1600 cm -1 absorbance and 1500 cm -1 as the baseline, the peak area from the area integration in the range of 1600 to 1500 cm -1, 1600 The peak height can be determined from the height of the absorption maximum in the range of ˜1500 cm −1 .

また、ピーク比βを構成するピークA2(1700cm −1 )は、前記ピークA1(1560cm −1 )とは分離独立した赤外線吸収ピークであり、カルボキシ基(−COOH)に帰属される1700cm −1 付近のC=O伸縮振動の赤外線吸収スペクトルのピーク面積又はピーク高さである。即ち、通常、カルボキシ基(−COOH)に帰属されるC=O伸縮振動は、1800〜1600cm −1 の赤外光波数領域に1700cm −1 付近に吸収極大を有する吸収ピークを与える。ピークA2(1700cm −1 )は、1800cm −1 の吸光度と1600cm −1 の吸光度の2点を結んだ直線を基線として1800〜1600cm −1 の範囲の面積積分からピーク面積、1800〜1600cm −1 の範囲の吸収極大の高さからピーク高さを求めることができる。有機防湿膜の吸光度は、有機防湿膜中に存在する赤外活性を持つ化学種の量と比例関係にある。従って、前記赤外線吸収スペクトルのピークの比、即ち、ピークA1(1560cm −1 )/ピークA2(1700cm −1 )を赤外線吸収スペクトルのピーク比βと規定し、有機防湿膜中で多価金属と塩を形成したカルボキシ基の塩(−COO )と遊離カルボキシ基(−COOH)の量比を表す尺度として代用することができる。 The peak A2 (1700 cm −1 ) constituting the peak ratio β is an infrared absorption peak that is separated and independent from the peak A1 (1560 cm −1 ), and is 1700 cm attributed to a carboxy group (—COOH). It is the peak area or peak height of the infrared absorption spectrum of C = O stretching vibration near -1 . That is, normally, C═O stretching vibration attributed to a carboxy group (—COOH) gives an absorption peak having an absorption maximum in the vicinity of 1700 cm −1 in the infrared light wave number region of 1800 to 1600 cm −1 . Peak A2 (1700 cm -1) is, 1800 cm absorbance and 1600 cm peak area a straight line connecting two points from the area integral of the range as a base line 1 800 to 1600 cm -1 absorbance -1 -1, The peak height can be determined from the height of the absorption maximum in the range of 1800 to 1600 cm −1 . The absorbance of the organic moisture barrier film is proportional to the amount of chemical species having infrared activity present in the organic moisture barrier film. Therefore, the ratio of the peak of the infrared absorption spectrum, that is, the peak A1 (1560 cm −1 ) / peak A2 (1700 cm −1 ) is defined as the peak ratio β of the infrared absorption spectrum, and the polyvalent metal in the organic moisture-proof film And a carboxy group salt forming a salt ( —COO ) and a free carboxy group (—COOH) can be used as a scale for expressing the ratio.

本発明にかかる有機防湿膜の赤外線吸収スペクトルのピーク比βは、1.2以上10000以下であるが、有機防湿膜の防湿性の観点から、ピーク比βは2.0以上10000以下であることが好ましく、4.0以上10000以下であることが更に好ましい。赤外線吸収スペクトルの吸光度のベースラインは、測定限界に係わる僅かな揺らぎを有する。カルボキシ基の塩(−COO )に帰属される1560cm −1 付近のC=O伸縮振動の赤外線吸収を用いる吸光度ピークA1(1560cm −1 )のベースラインに係わる測定限界から、ピーク比βの上限値は10000である。ピーク比β(イオン化度)が大きいとは、遊離カルボキシ基の塩(−COO )が錯体形成により拘束されている状態であり、吸光度ピークA1(1560cm −1 )が小さいことである。 The peak ratio β of the infrared absorption spectrum of the organic moisture-proof film according to the present invention is 1.2 or more and 10,000 or less. From the viewpoint of the moisture-proof property of the organic moisture-proof film, the peak ratio β is 2.0 or more and 10,000 or less. Is preferably 4.0 or more and 10,000 or less. The absorbance baseline of the infrared absorption spectrum has a slight fluctuation related to the measurement limit. From the measurement limit related to the baseline of the absorbance peak A1 (1560 cm −1 ) using the infrared absorption of C═O stretching vibration around 1560 cm −1 attributed to the salt of the carboxy group ( —COO ), the peak ratio β Is an upper limit of 10,000. A large peak ratio β (degree of ionization) means that a salt of a free carboxy group ( —COO ) is constrained by complex formation, and an absorbance peak A1 (1560 cm −1 ) is small.

更に、本発明にかかる有機防湿膜に酸素ガスバリア性及び防湿性を損なわない範囲で、1価の金属からなる金属化合物を混合して用いた場合には、カルボン酸の1価金属塩(−COO )に帰属されるC=O伸縮振動は、1600〜1500cm −1 の赤外光波数領域に1560cm −1 付近に吸収極大を有する吸収ピークを与える。従って、この場合には、赤外線吸収ピーク中のカルボン酸の1価金属塩とカルボン酸多価金属塩に由来する二つのC=O伸縮振動が含まれる。このような場合にも、前記同様、ピーク比β[ピークA1(1560cm −1 )/ピークA2(1700cm −1 )]は、カルボキシ基の多価金属塩(−COO )と遊離カルボキシ基(−COOH)の量比を表す尺度としてそのまま用いる。 Furthermore, when the organic moisture-proof film according to the present invention is mixed with a metal compound composed of a monovalent metal within a range not impairing the oxygen gas barrier property and moisture-proof property, a monovalent metal salt of carboxylic acid ( —COO The C = O stretching vibration attributed to- ) gives an absorption peak having an absorption maximum in the vicinity of 1560 cm -1 in the infrared light wave number region of 1600 to 1500 cm -1 . Therefore, in this case, two C═O stretching vibrations derived from the carboxylic acid monovalent metal salt and carboxylic acid polyvalent metal salt in the infrared absorption peak are included. Even in such a case, as described above, the peak ratio β [peak A1 (1560 cm −1 ) / peak A2 (1700 cm −1 )] is a carboxy group polyvalent metal salt ( —COO ) and a free carboxy group. It is used as it is as a scale representing the amount ratio of (—COOH).

ピーク比βを求めるための赤外線吸収スペクトルの測定は、例えばPERKIN−ELMER社製FT−IR2000を用いて行うことができる。   The infrared absorption spectrum for obtaining the peak ratio β can be measured using, for example, FT-IR2000 manufactured by PERKIN-ELMER.

具体的には、本発明にかかる有機防湿膜の赤外線吸収スペクトルを透過法、ATR法(全反射減衰法)、KBrペレット法、拡散反射法、光音響法(PAS法)等で測定し、前記両吸収スペクトルのピーク高さ(極大吸収波数における)又はピーク面積を計測し、両者の比を求める。   Specifically, the infrared absorption spectrum of the organic moisture-proof film according to the present invention is measured by transmission method, ATR method (total reflection attenuation method), KBr pellet method, diffuse reflection method, photoacoustic method (PAS method), etc. The peak height (at the maximum absorption wave number) or peak area of both absorption spectra is measured, and the ratio between the two is obtained.

代表的な測定条件例としては、本発明の有機防湿膜を露出する検体を用い、全反射赤外分析法(ATR法とも云う)で、ATRプリズムとしてはKRS−5(Thallium Bromide−Iodide)を用い、入射角45度、分解能4cm −1 、積算回数30回での測定を挙げることができる。FT−IRを用いた赤外線吸収スペクトル測定法については、例えば田隅三生 編者、「FT−IRの基礎と実際」を参照することができる。 As a typical measurement condition example, a sample exposing the organic moisture-proof film of the present invention is used, and the total reflection infrared analysis method (also referred to as ATR method) is used. As the ATR prism, KRS-5 (Thallium Bromide-Ioide) is used. Use, measurement at an incident angle of 45 degrees, a resolution of 4 cm −1 , and an integration count of 30 times can be mentioned. For the infrared absorption spectrum measurement method using FT-IR, refer to, for example, Ms. Tasumi Ms. Editor, “Basics and Practice of FT-IR”.

また、本発明にかかる有機防湿膜としては、前記多価金属が亜鉛であり、且つ亜鉛のオージェ電子スペクトル分析による結合エネルギーが496〜498eVの間に少なくとも一つのピークを有することが好ましい。   Moreover, as an organic moisture-proof film | membrane concerning this invention, it is preferable that the said polyvalent metal is zinc and it has at least one peak between 496-498eV in the binding energy by the Auger electron spectrum analysis of zinc.

このようにオージェ電子スペクトル分析を用いて、本発明にかかる有機防湿膜のより好適な条件を導き出すことができる。ここで、このようなオージェ電子スペクトル分析は、原子の励起エネルギー源をX線とするときはX線光電子分析法(XPS)ともいう。このようなオージェ電子スペクトル分析において、例えば、亜鉛に注目した場合には、亜鉛の化学量論的又は非化学量論的結合状態を、結合エネルギーの値で知ることができ、更には、亜鉛の錯体形成の結合状態をも知ることができる。このような亜鉛に注目したオージェ電子スペクトル分析において励起エネルギー源としてX線を用いた場合には、X線照射で亜鉛の内殻電子が電離されて空孔を生じ、上の準位にある電子が落ち込んで亜鉛は安定した状態に変わる。このとき、このような準位間のエネルギー差が別の電子に受け渡されて放出される。この放出された電子をオージェ電子と呼ぶ。また、エネルギー差がX線として放出されれば、かかるX線は特性X線である。本発明にかかる有機防湿膜に含有される多価金属として亜鉛を用いた場合において、オージェ電子スペクトル分析を行うと、亜鉛のL内殻電子が照射X線で電離されてL殻に空孔を生じてその一つ上位軌道のM殻の電子がL殻に遷移し、これに誘起されて更に一つ上位軌道のN殻の電子がM殻に遷移する。そして、このような電子が遷移していく過程に相当するZn−LMN遷移過程のオージェ電子の放出量の大きさと、有機防湿膜が防湿性を有することとが正相関することを本発明者は見出した。すなわち、Zn−LMN遷移過程のオージェ電子エネルギーは496〜498eVであり、このエネルギー間に少なくとも一つのピークを有することが、有機防湿膜が防湿性を有することと正相関する。なお、このような分析に用いる測定装置としては特に制限されず、適宜公知の測定装置を用いることができ、具体的には、PHI社製の商品名称Quantera SXM等を用いることが挙げられる。   Thus, more suitable conditions for the organic moisture-proof film according to the present invention can be derived using Auger electron spectrum analysis. Here, such Auger electron spectrum analysis is also referred to as X-ray photoelectron analysis (XPS) when the excitation energy source of atoms is X-rays. In such Auger electron spectrum analysis, for example, when attention is paid to zinc, the stoichiometric or non-stoichiometric binding state of zinc can be known from the value of the binding energy. The binding state of complex formation can also be known. When X-rays are used as an excitation energy source in such Auger electron spectrum analysis focusing on zinc, the inner electrons of zinc are ionized by X-ray irradiation to generate vacancies, and electrons at the upper level. Falls and the zinc turns into a stable state. At this time, such an energy difference between levels is transferred to another electron and emitted. The emitted electrons are called Auger electrons. If the energy difference is emitted as X-rays, the X-rays are characteristic X-rays. In the case where zinc is used as the polyvalent metal contained in the organic moisture-proof film according to the present invention, when Auger electron spectrum analysis is performed, the L inner-shell electrons of zinc are ionized by irradiated X-rays, and vacancies are formed in the L-shell. As a result, the M shell electron in the upper orbital transitions to the L shell, and when induced, the N shell electron in the upper orbital further transitions to the M shell. The inventor of the present invention has a positive correlation between the magnitude of Auger electron emission in the Zn-LMN transition process corresponding to the process of such electron transition and the moisture-proof property of the organic moisture-proof film. I found it. That is, the Auger electron energy of the Zn-LMN transition process is 496 to 498 eV, and having at least one peak between these energies has a positive correlation with the moisture-proof property of the organic moisture-proof film. In addition, it does not restrict | limit especially as a measuring apparatus used for such an analysis, A well-known measuring apparatus can be used suitably, Specifically, using product name Quantera SXM by PHI, etc. is mentioned.

本発明にかかる有機防湿膜は、高湿度下においても水蒸気、酸素等のガスバリア性に優れる。   The organic moisture-proof film according to the present invention is excellent in gas barrier properties such as water vapor and oxygen even under high humidity.

また、本発明にかかる有機防湿膜は、酸素等のガスバリア性と共に防湿性にも優れる点で特徴がある。即ち、本発明で云う有機防湿膜の防湿性とは、温度40℃、相対湿度90%の雰囲気下で、水蒸気透過度が100g/( ・day)以下、好ましくは60g/( ・day)以下(水蒸気供給側の相対湿度を90%)であることを云う。ここで、平方mを単位記号「 」で表記する。 Further, the organic moisture-proof film according to the present invention is characterized in that it is excellent in moisture resistance as well as gas barrier properties such as oxygen. That is, moisture resistance and the organic moisture-proof film referred to in the present invention, the temperature 40 ° C., in an atmosphere of 90% RH, a water vapor permeability of 100g / (m 2 · day) or less, 2-preferably 60 g / (m day) or less (90% relative humidity on the water vapor supply side). Here, the square m is represented by the unit symbol “ m 2 ”.

また、本発明にかかる有機防湿膜の密度は、1.80g/cm 以上であることが好ましく、1.80〜2.89g/cm であることがより好ましく、1.85〜2.89g/cm であることが更に好ましい。ここで、立方cmを単位記号「cm 」で表記する。密度が1.80g/cm 未満の有機防湿膜を用いると、防湿性が不十分で目標とする防湿性能を有する防湿膜用積層フィルムが得られない傾向にある。一方、密度が2.89g/cm を超える有機防湿膜は、使用する多価金属化合物の添加量が増え、塗工後の有機防湿膜の製膜が困難になる。このような有機防湿膜の密度は、JIS K7112(プラスチックの密度と比重の測定方法)に従って、測定することができる。 The density of the organic moisture-proof film in the present invention, is preferably 1.80 g / cm 3 or more, more preferably 1.80~2.89g / cm 3, 1.85~2.89g More preferably, it is / cm 3 . Here, cubic cm is represented by a unit symbol “ cm 3 ”. When an organic moisture-proof film having a density of less than 1.80 g / cm 3 is used, a moisture-proof laminated film having a target moisture-proof performance due to insufficient moisture resistance tends to be not obtained. On the other hand, an organic moisture-proof film having a density exceeding 2.89 g / cm 3 increases the amount of polyvalent metal compound used, and makes it difficult to form an organic moisture-proof film after coating. The density of such an organic moisture-proof film can be measured according to JIS K7112 (method for measuring the density and specific gravity of plastic).

本発明にかかる有機防湿膜において、1枚の有機防湿膜の厚さは特に限定されないが、防湿性カバーレイフィルムのハンドリング性の観点から、1枚の有機防湿膜の厚さが0.001μm〜200μmであることが好ましく、0.01μm〜100μmであることがより好ましく、0.1μm〜10μmであることが特に好ましい。このような有機防湿膜において、1枚の有機防湿膜の厚さが、0.001μm未満になると、有機防湿膜の製膜が困難になり、安定的な製造ができなくなる傾向にある。一方、有機防湿膜の厚さが200μmを超えるものは、塗工が難しく、製造する上で問題が生ずる傾向にある。   In the organic moisture-proof film according to the present invention, the thickness of one organic moisture-proof film is not particularly limited, but from the viewpoint of handling properties of the moisture-proof cover lay film, the thickness of one organic moisture-proof film is 0.001 μm to It is preferably 200 μm, more preferably 0.01 μm to 100 μm, and particularly preferably 0.1 μm to 10 μm. In such an organic moisture-proof film, when the thickness of one organic moisture-proof film is less than 0.001 μm, it becomes difficult to form the organic moisture-proof film, and stable production tends to be impossible. On the other hand, when the thickness of the organic moisture-proof film exceeds 200 μm, coating is difficult, and there is a tendency to cause a problem in manufacturing.

本発明にかかる有機防湿膜としては、60℃、相対湿度90%の予備加湿条件下で250時間静置後に、40℃、相対湿度90%における水蒸気透過度が0.02g/( ・day)以下に維持されるものであることが好ましい。 The organic moisture barrier film according to the present invention has a water vapor permeability of 0.02 g / ( m 2 · day) at 40 ° C. and 90% relative humidity after standing for 250 hours under pre-humidification conditions at 60 ° C. and 90% relative humidity. It is preferable that the following is maintained.

また、本発明にかかる有機防湿膜としては、2枚の前記有機防湿膜を直接的に対向させ且つ密着せしめて形成されている有機層と、該有機層の両面に積層されてなる、又は2枚の前記有機薄膜を接着層を介して積層せしめて形成されてなることを好適に用いることができる。   Further, the organic moisture-proof film according to the present invention is formed by laminating two organic moisture-proof films directly facing each other and adhering to each other, and laminated on both sides of the organic layer, or 2 It can be suitably used that the organic thin film is formed by laminating the organic thin films through an adhesive layer.

このような防湿性カバーレイフィルムにおいては、2枚の前記有機防湿膜を直接的に又は接着層を介して積層せしめて形成されている。従って、1枚の有機防湿膜の膜厚方向にミクロピンホールができたときでも、更にもう1枚の有機防湿膜が積層されているのでミクロピンホールが連結することを防ぎ、このため高いガスバリア性と防湿性とを維持させることが可能となる。   Such a moisture-proof coverlay film is formed by laminating two organic moisture-proof films directly or via an adhesive layer. Therefore, even when a micro pinhole is formed in the film thickness direction of one organic moisture barrier film, another organic moisture barrier film is further laminated to prevent the micro pin hole from being connected. Property and moisture resistance can be maintained.

また、前記接着層の厚さは特に制限されないが、得られるガスバリヤ性及び防湿性の低下を防止するという観点から、0.1〜100μmであることが好ましく、0.5〜10μmであることがより好ましい。接着層の厚さが0.1μm未満では有機防湿膜の接着が困難となる傾向にあり、一方100μmを超えると塗工が難しく製造上で問題を生じる傾向にある。   The thickness of the adhesive layer is not particularly limited, but is preferably 0.1 to 100 μm, and preferably 0.5 to 10 μm, from the viewpoint of preventing deterioration of gas barrier properties and moisture resistance obtained. More preferred. If the thickness of the adhesive layer is less than 0.1 μm, the adhesion of the organic moisture-proof film tends to be difficult. On the other hand, if it exceeds 100 μm, the coating tends to be difficult and causes problems in production.

(ポリイミドフィルム(基材フィルム))
本発明において、基材フィルムとして用いられるポリイミドフィルムは特に制限されず、適宜公知のポリイミドフィルムを用いることができる。このようなポリイミドフィルムとしては、厚さが10〜200μmであることが好ましく、30〜100μmであることがより好ましい。ポリイミドフィルムの厚さが前記下限未満では、ハンダ付け作業時の耐熱性が不足する傾向にあり、他方、前記上限を超えると組み付け作業時に扱い難い傾向にある。
(Polyimide film (base film))
In the present invention, the polyimide film used as the substrate film is not particularly limited, and a known polyimide film can be appropriately used. As such a polyimide film, it is preferable that thickness is 10-200 micrometers, and it is more preferable that it is 30-100 micrometers. If the thickness of the polyimide film is less than the above lower limit, the heat resistance during soldering tends to be insufficient, while if it exceeds the upper limit, it tends to be difficult to handle during the assembling work.

(防湿性カバーレイフィルム)
本発明の防湿性カバーレイフィルムは、前記ポリイミドフィルムからなる基材フィルムの一方の面に積層されている前記有機防湿膜を備えるものである。
(Dampproof coverlay film)
The moisture-proof coverlay film of the present invention includes the organic moisture-proof film laminated on one surface of the base film made of the polyimide film.

さらに、このような防湿性カバーレイフィルムとしては、60℃、相対湿度90%の予備加湿条件下で250時間静置後に、40℃、相対湿度90%における水蒸気透過度が0.02g/( ・day)以下に維持されるものであることが好ましい。 Furthermore, such a moisture-proof coverlay film has a water vapor transmission rate of 0.02 g / ( m at 40 ° C. and 90% relative humidity after standing for 250 hours under pre-humidification conditions at 60 ° C. and 90% relative humidity. 2 · day) or less is preferable.

このような本発明の防湿性カバーレイフィルムとしては、前記基材フィルムの一方の面に前記有機防湿膜が積層されている防湿性カバーレイフィルム(イ)、前記基材フィルムの一方の面に、2枚の前記有機防湿膜を接着層を介して積層せしめて形成されてなる防湿性カバーレイフィルム(ロ)、及び前記基材フィルムの一方の面に、2枚の前記有機防湿膜を直接的に対向させ且つ密着せしめて形成されてなる防湿性カバーレイフィルム(ハ)、が好ましい。   As such a moisture-proof cover lay film of the present invention, the moisture-proof cover lay film (A) in which the organic moisture-proof film is laminated on one surface of the base film, and the one surface of the base film. Moisture-proof coverlay film (b) formed by laminating two organic moisture-proof films through an adhesive layer, and two organic moisture-proof films directly on one surface of the base film A moisture-proof coverlay film (c) formed by opposing and closely contacting each other is preferable.

また、このような防湿性カバーレイフィルムは、更に他の層を積層した積層体であってもよい。例えば、防湿性カバーレイフィルムへの耐磨耗性付与、光沢性付与、ヒートシール性付与、強度付与または更なる防湿性付与等の目的に併せて、1種以上の層を積層させることが挙げられる。   Such a moisture-proof coverlay film may be a laminate in which other layers are further laminated. For example, it is possible to laminate one or more layers for the purpose of imparting abrasion resistance, glossiness, heat sealability, strength or further moisture resistance to a moistureproof coverlay film. It is done.

また、このような防湿性カバーレイフィルムとしては、前記基材フィルムの他方の面に積層されている接着剤層を更に備えることが好ましい。   Moreover, as such a moisture-proof cover-lay film, it is preferable to further include an adhesive layer laminated on the other surface of the base film.

このような接着剤層を形成する接着剤の材質は特に制限されず、ドライラミネーション等で通常用いられている樹脂を用いることができる。また、このような接着剤としては特に制限されないが、ウレタン系接着剤、ポリエステル系接着剤、アクリル系接着剤又はエポキシ系接着剤を用いることが好ましい。更に、このようなウレタン系接着剤、ポリエステル系接着剤、アクリル系接着剤及びエポキシ系接着剤としては、本発明の防湿性カバーレイフィルムの防湿性の向上という観点からは、ビカット軟化点が50℃〜140℃である接着剤が好ましく、50℃〜98℃である接着剤がより好ましい。ここで、接着剤のビカット軟化点は接着剤を硬化させた状態での軟化温度である。なお、ビカット軟化点はJIS K−7206に準拠して測定することができる。このような接着剤は、それぞれ単独で、あるいは2種以上を組み合わせて使用することができる。   The material of the adhesive that forms such an adhesive layer is not particularly limited, and a resin that is usually used for dry lamination or the like can be used. Moreover, although it does not restrict | limit especially as such an adhesive agent, It is preferable to use a urethane type adhesive agent, a polyester-type adhesive agent, an acrylic adhesive agent, or an epoxy-type adhesive agent. Furthermore, such a urethane adhesive, polyester adhesive, acrylic adhesive and epoxy adhesive have a Vicat softening point of 50 from the viewpoint of improving the moisture resistance of the moisture-proof coverlay film of the present invention. Adhesives having a temperature of from ° C to 140 ° C are preferred, and adhesives having a temperature of from 50 ° C to 98 ° C are more preferred. Here, the Vicat softening point of the adhesive is a softening temperature in a state where the adhesive is cured. The Vicat softening point can be measured according to JIS K-7206. Such adhesives can be used alone or in combination of two or more.

(防湿性カバーレイフィルムの製造方法)
以下、本発明の防湿性カバーレイフィルムを製造するための好適な実施形態を説明する。
(Method for manufacturing moisture-proof coverlay film)
Hereinafter, preferred embodiments for producing the moisture-proof coverlay film of the present invention will be described.

先ず、前記有機防湿膜を製膜する際に用いる溶液又は分散液(塗工液)について説明する。このような溶液又は分散液(塗工液)としては、ポリカルボン酸系重合体(A)と、多価金属化合物(B)と、揮発性塩基(C)又は酸(D)のいずれか一方と、溶媒とを含む混合物の溶液又は分散液(塗工液)を用いることができる。   First, the solution or dispersion liquid (coating liquid) used when forming the organic moisture barrier film will be described. As such a solution or dispersion (coating solution), either a polycarboxylic acid polymer (A), a polyvalent metal compound (B), a volatile base (C) or an acid (D). And a solution or dispersion liquid (coating liquid) containing a solvent.

ここで原料として用いられるポリカルボン酸系重合体(A)、多価金属化合物(B)については、前記説明した通りである。ポリカルボン酸系重合体(A)と多価金属化合物(B)は水溶液中では、容易に反応し、不均一な沈殿を形成することがあるため、ポリカルボン酸系重合体(A)と多価金属化合物(B)と溶媒として水からなる均一な塗工液を得るために、揮発性塩基(C)又は酸(D)のいずれか一方を溶媒としての水と混合する。   The polycarboxylic acid polymer (A) and the polyvalent metal compound (B) used as raw materials here are as described above. Since the polycarboxylic acid polymer (A) and the polyvalent metal compound (B) easily react in an aqueous solution and form a non-uniform precipitate, the polycarboxylic acid polymer (A) and the polycarboxylic acid polymer (A) In order to obtain a uniform coating solution composed of water as a valent metal compound (B) and a solvent, either volatile base (C) or acid (D) is mixed with water as a solvent.

このような揮発性塩基(C)としては、アンモニア、メチルアミン、エチルアミン、ジメチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、モルフォリン、エタノールアミンが用いられる。このような揮発性塩基(C)の中でも、形成される有機防湿膜の防湿性の向上という観点から、アンモニアが好ましく用いられる。また、酸(D)としては、塩酸、酢酸、硫酸、シュウ酸、クエン酸、リンゴ酸、酒石酸等の無機酸、有機酸が用いられる。   As such a volatile base (C), ammonia, methylamine, ethylamine, dimethylamine, diethylamine, triethylamine, morpholine, and ethanolamine are used. Among such volatile bases (C), ammonia is preferably used from the viewpoint of improving the moisture resistance of the formed organic moisture barrier film. As the acid (D), hydrochloric acid, acetic acid, sulfuric acid, oxalic acid, citric acid, malic acid, tartaric acid and other inorganic acids and organic acids are used.

前記溶液又は分散液(塗工液)の調製に際して、ポリカルボン酸系重合体(A)の量に対する多価金属化合物(B)の配合量は、有機防湿膜のガスバリア性、防湿性の観点で、ポリカルボン酸系重合体(A)中の全てのカルボキシ基に対して、0.5化学当量以上であることが好ましく、0.8化学当量以上であることがより好ましい。更に、上記観点に加え、有機防湿膜の成形性や透明性の観点から10化学当量以下であることが好ましく、1化学当量以上5化学当量以下の範囲であることが特に好ましい。また、得られる有機防湿膜の赤外線吸収スペクトルのピーク比βを、1.2以上(好ましくは2.0以上、更に好ましくは4.0以上)とするという観点からは、ポリカルボン酸系重合体(A)の量に対する多価金属化合物(B)の配合量は、ポリカルボン酸系重合体(A)中の全てのカルボキシ基に対して0.5〜10化学当量であることが好ましい。なお、ここで化学当量とは、化学反応性に基づいて定められた元素(単体)又は化合物の一定量である。本発明における化学当量は、ポリカルボン酸系重合体(A)中の、カルボキシ基に対する化学当量であるため、1化学当量とは酸として作用する1当量のカルボキシ基の量を中和する塩基の量を云う。ここで塩基とは多価金属化合物(B)を構成する多価金属である。   In preparing the solution or dispersion (coating solution), the blending amount of the polyvalent metal compound (B) relative to the amount of the polycarboxylic acid polymer (A) is from the viewpoint of gas barrier properties and moisture resistance of the organic moisture-proof film. It is preferably 0.5 chemical equivalent or more, and more preferably 0.8 chemical equivalent or more with respect to all the carboxy groups in the polycarboxylic acid polymer (A). Furthermore, in addition to the above viewpoint, it is preferably 10 chemical equivalents or less, particularly preferably in the range of 1 chemical equivalent or more and 5 chemical equivalents or less, from the viewpoint of moldability and transparency of the organic moisture-proof film. In addition, from the viewpoint of setting the peak ratio β of the infrared absorption spectrum of the obtained organic moisture-proof film to 1.2 or more (preferably 2.0 or more, more preferably 4.0 or more), a polycarboxylic acid polymer is used. It is preferable that the compounding quantity of the polyvalent metal compound (B) with respect to the quantity of (A) is 0.5 to 10 chemical equivalents with respect to all the carboxy groups in the polycarboxylic acid polymer (A). Here, the chemical equivalent is a certain amount of an element (a simple substance) or a compound determined based on chemical reactivity. Since the chemical equivalent in the present invention is a chemical equivalent to the carboxy group in the polycarboxylic acid polymer (A), one chemical equivalent is a base that neutralizes the amount of one equivalent carboxy group acting as an acid. Say quantity. Here, the base is a polyvalent metal constituting the polyvalent metal compound (B).

また、均一な混合物の溶液又は分散液(塗工液)を得るために必要な揮発性塩基(C)の量は、ポリカルボン酸系重合体(A)中のカルボキシ基に対して1化学当量である。しかし多価金属化合物がコバルト、ニッケル、銅、亜鉛の酸化物、水酸化物、炭酸塩であるような場合には、1化学当量以上の揮発性塩基(C)を加えることにより、それら金属が揮発性塩基(C)と錯体を形成し、ポリカルボン酸系重合体(A)と多価金属化合物(B)と揮発性塩基(C)、及び溶媒としての水からなる透明、均一な溶液が得られる。揮発性塩基(C)の好適な添加量は、ポリカルボン酸系重合体(A)中の全てのカルボキシ基に対して、1化学当量以上60化学当量以下、更には2化学当量以上30化学当量以下であることが好ましい。1化学当量未満の添加量では、均一な溶液(塗工液)が得難く、一方、60化学当量を超えるとフィルムの製造(製膜)に問題が生じる。また、多価金属化合物として亜鉛化合物を用いる場合には、亜鉛のオージェ電子スペクトル分析の結合エネルギーが496〜498eVの間に少なくとも一つのピークを有するような有機防湿膜を製造するという観点からは、亜鉛化合物1モルに対して、揮発性塩基(C)を2〜120モル配合することが好ましく、特に揮発性塩基(C)がアンモニアである場合には、亜鉛化合物1モルに対して4〜60モル配合することが好ましい。   The amount of the volatile base (C) necessary for obtaining a uniform mixture solution or dispersion (coating solution) is 1 chemical equivalent to the carboxy group in the polycarboxylic acid polymer (A). It is. However, when the polyvalent metal compound is cobalt, nickel, copper, zinc oxide, hydroxide, carbonate, the volatile base (C) of 1 chemical equivalent or more is added, so that the metal A transparent and uniform solution which forms a complex with the volatile base (C), and which comprises the polycarboxylic acid polymer (A), the polyvalent metal compound (B), the volatile base (C), and water as a solvent. can get. A suitable addition amount of the volatile base (C) is 1 chemical equivalent to 60 chemical equivalents, and further 2 chemical equivalents to 30 chemical equivalents with respect to all carboxy groups in the polycarboxylic acid polymer (A). The following is preferable. When the addition amount is less than 1 chemical equivalent, it is difficult to obtain a uniform solution (coating solution). On the other hand, when the addition amount exceeds 60 chemical equivalents, there is a problem in film production (film formation). In the case of using a zinc compound as the polyvalent metal compound, from the viewpoint of producing an organic moisture-proof film in which the binding energy of the Auger electron spectrum analysis of zinc has at least one peak between 496 and 498 eV. It is preferable to mix 2 to 120 mol of the volatile base (C) with respect to 1 mol of the zinc compound, and particularly when the volatile base (C) is ammonia, 4 to 60 mol with respect to 1 mol of the zinc compound. It is preferable to mix them in moles.

一方、酸(D)を用いる場合に、均一な混合物の溶液又は分散液(塗工液)を得るために必要な酸(D)の量は、ポリカルボン酸系重合体(A)中のカルボキシ基に対して1化学当量以上、60化学当量以下であり、2化学当量以上、30化学当量以下であることが好ましい。この量が1化学当量未満では、均一な溶液(塗工液)が得難く、一方、60化学当量を超えるとフィルムの製造(製膜)に問題が生じる。酸(D)としては、塩酸が好ましく用いられる。また、多価金属化合物として亜鉛化合物を用いる場合には、亜鉛のオージェ電子スペクトル分析の結合エネルギーが496〜498eVの間に少なくとも一つのピークを有するような防湿膜用積層フィルムを製造するという観点からは、亜鉛化合物1モルに対して、酸(D)を2〜120モル配合することが好ましい。   On the other hand, when the acid (D) is used, the amount of the acid (D) necessary for obtaining a uniform mixture solution or dispersion (coating solution) is the amount of carboxy in the polycarboxylic acid polymer (A). It is preferably 1 chemical equivalent or more and 60 chemical equivalents or less and 2 chemical equivalents or more and 30 chemical equivalents or less with respect to the group. If this amount is less than 1 chemical equivalent, it is difficult to obtain a uniform solution (coating solution). On the other hand, if it exceeds 60 chemical equivalents, there is a problem in the production (film formation) of the film. As the acid (D), hydrochloric acid is preferably used. Further, when a zinc compound is used as the polyvalent metal compound, from the viewpoint of producing a laminated film for a moisture-proof film in which the binding energy of the Auger electron spectrum analysis of zinc has at least one peak between 496 and 498 eV. Is preferably 2 to 120 moles of acid (D) per mole of zinc compound.

また、このような塗工液を得る際、原材料の混合順序には特別な順序はない。用いる溶媒の具体例としては、水、メチルアルコール、エチルアルコール、イソプロピルアルコール、n−プロピルアルコール、n−ブチルアルコール、n−ペンチルアルコール、ジメチルスルフォキシド、ジメチルフォルムアミド、ジメチルアセトアミド、トルエン、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、酢酸エチル、酢酸ブチル等を挙げることができる。塗工時の廃液処理や、溶媒がフィルムに残留する可能性が生じる等の問題から水を用いることが好ましい。例えば、溶媒として加えた水の中へ、ポリカルボン酸系重合体(A)としてポリアクリル酸(水溶液状で入手される)、揮発性塩基(C)としてアンモニア(水溶液状態)、多価金属化合物(B)として酸化亜鉛(粉末状)をこの順序で加え、超音波ホモジナイザーで混合し塗工液を得ることができる。溶媒としての水の量は、塗工装置の塗工適性に合うように、他の添加剤との組合せにより適宜調整する。溶媒は、単一の種類であっても、混合して用いても差しつかえない。   Moreover, when obtaining such a coating liquid, there is no special order in the mixing order of raw materials. Specific examples of the solvent used include water, methyl alcohol, ethyl alcohol, isopropyl alcohol, n-propyl alcohol, n-butyl alcohol, n-pentyl alcohol, dimethyl sulfoxide, dimethylformamide, dimethylacetamide, toluene, hexane, Examples include heptane, cyclohexane, acetone, methyl ethyl ketone, diethyl ether, dioxane, tetrahydrofuran, ethyl acetate and butyl acetate. It is preferable to use water in view of problems such as waste liquid treatment during coating and the possibility that the solvent may remain in the film. For example, in water added as a solvent, polyacrylic acid (obtained in the form of an aqueous solution) as a polycarboxylic acid polymer (A), ammonia (in an aqueous solution state) as a volatile base (C), a polyvalent metal compound Zinc oxide (powder) can be added in this order as (B) and mixed with an ultrasonic homogenizer to obtain a coating solution. The amount of water as a solvent is appropriately adjusted by a combination with other additives so as to suit the coating suitability of the coating apparatus. The solvent may be a single type or a mixture.

溶液又は分散液(塗工液)には、前記成分の他に樹脂、柔軟剤、安定剤、膜形成剤、アンチブロッキング剤、粘着剤等を適宜添加することができる。特に過剰に存在する多価金属化合物の分散性、塗工性を向上させる目的で、用いた溶媒系に可溶な樹脂を混合して用いることが好ましい。樹脂の好適な例としては、アルキッド樹脂、メラミン樹脂、アクリル樹脂、硝化綿、ウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、フェノール樹脂、アミノ樹脂、フッ素樹脂、エポキシ樹脂等の塗料用に用いる樹脂を挙げることができる。塗工液中のポリカルボン酸系重合体(A)の多価金属塩、多価金属化合物、樹脂、その他の添加剤の総量は、塗工適性の観点から、1重量%〜50重量%の範囲であることが好ましい。   In addition to the above components, a resin, a softener, a stabilizer, a film forming agent, an antiblocking agent, an adhesive, and the like can be appropriately added to the solution or dispersion (coating solution). In particular, it is preferable to mix and use a resin that is soluble in the solvent system used for the purpose of improving the dispersibility and coating properties of the polyvalent metal compound present in excess. Preferable examples of the resin include resins used for coating materials such as alkyd resin, melamine resin, acrylic resin, nitrified cotton, urethane resin, polyester resin, phenol resin, amino resin, fluorine resin, and epoxy resin. The total amount of polyvalent metal salt, polyvalent metal compound, resin, and other additives of the polycarboxylic acid polymer (A) in the coating solution is 1% to 50% by weight from the viewpoint of coating suitability. A range is preferable.

なお、このような溶液又は分散液としては、ポリカルボン酸系重合体(A)と多価金属化合物(B)と揮発性塩基(C)、炭酸アンモニウム(E)を溶媒の水と混合して得られる溶液又は分散液を用いることもできる。炭酸アンモニウム(E)は、多価金属化合物(B)を、炭酸多価金属アンモニウム錯体の状態にして、ポリカルボン酸系重合体(A)の全てのカルボキシ基に対して1化学当量以上の量の多価金属を含む均一な溶液を調製するために添加するものである。炭酸アンモニウム(E)の添加量は、多価金属化合物(B)に対して、モル比、即ち、炭酸アンモニウム(E)のモル数/多価金属化合物(B)のモル数が0.05〜10の範囲、好ましくは1〜5の範囲である。モル比が0.05未満では、ポリカルボン酸系重合体(A)の全てのカルボキシ基に対して1化学当量を越える量の多価金属塩を含む均一な溶液(塗工液)が得難く、10を超えると有機薄膜の製膜に問題が生じる。以後の説明では、ポリカルボン酸系重合体(A)と多価金属化合物(B)と揮発性塩基(C)又は酸(D)と溶媒として水を用いた塗工液を例として記述する。炭酸アンモニウム(E)を用いる場合も、特別に断りがない限り同様に考えて差しつかえない。   As such a solution or dispersion, a polycarboxylic acid polymer (A), a polyvalent metal compound (B), a volatile base (C), and ammonium carbonate (E) are mixed with water as a solvent. The resulting solution or dispersion can also be used. Ammonium carbonate (E) is an amount of 1 chemical equivalent or more with respect to all the carboxy groups of the polycarboxylic acid polymer (A) in the state where the polyvalent metal compound (B) is in the state of a polyvalent ammonium carbonate carbonate complex. It is added to prepare a uniform solution containing the polyvalent metal. The amount of ammonium carbonate (E) added to the polyvalent metal compound (B) is a molar ratio, that is, the number of moles of ammonium carbonate (E) / the number of moles of the polyvalent metal compound (B) is from 0.05 to 0.05. It is in the range of 10, preferably in the range of 1-5. When the molar ratio is less than 0.05, it is difficult to obtain a uniform solution (coating solution) containing a polyvalent metal salt in an amount exceeding 1 chemical equivalent with respect to all carboxy groups of the polycarboxylic acid polymer (A). If it exceeds 10, a problem occurs in the formation of an organic thin film. In the following description, a coating liquid using water as a solvent will be described as an example with a polycarboxylic acid polymer (A), a polyvalent metal compound (B), a volatile base (C) or an acid (D), and a solvent. When ammonium carbonate (E) is used, the same consideration can be made unless otherwise specified.

次に、本発明の防湿性カバーレイフィルムを製造するための好適な製造方法を説明するため、先ず、前記の防湿性カバーレイフィルム(ロ)を製造する一実施形態を説明する。   Next, in order to describe a suitable production method for producing the moisture-proof coverlay film of the present invention, first, an embodiment for producing the moisture-proof coverlay film (B) will be described.

〔防湿性カバーレイフィルム(ロ)の製造方法〕
防湿性カバーレイフィルム(ロ)の製造方法は、(1)基材フィルムの表面上に有機防湿膜を形成させたフィルムを2枚得る工程、(2)2枚の有機防湿膜を接着剤層を介して積層せしめる工程(防湿性カバーレイフィルム(ロ)を得る工程)を含む製造方法である。
[Method for producing moisture-proof coverlay film (b)]
The manufacturing method of the moisture-proof coverlay film (b) includes (1) a step of obtaining two films in which an organic moisture-proof film is formed on the surface of the base film, and (2) two organic moisture-proof films formed as an adhesive layer. It is a manufacturing method including the process (The process of obtaining a moisture-proof cover-lay film (b)) laminated | stacked through this.

(1)基材フィルムの表面上に有機防湿膜を形成させたフィルムを2枚得る工程、有機防湿膜を2枚得る工程では、2枚の基材フィルムの上に、前記溶液又は分散液(塗工液)を塗工して乾燥させることで、有機防湿膜(有機防湿膜積層体)を得る。   (1) In the step of obtaining two films in which an organic moisture-proof film is formed on the surface of a base film, and the step of obtaining two organic moisture-proof films, the solution or dispersion ( An organic moisture-proof film (organic moisture-proof film laminate) is obtained by applying and drying a coating solution.

塗工液を基材フィルムの上に塗工する方法は、公知の塗工方法が特に制限なく使用可能であり、浸漬(ディッピング)やスプレー、及びコーター、印刷機、或いは刷毛を用いて行う。コーター、印刷機の種類、塗工方式としては、ダイレクトグラビア方式、リバースグラビア方式、キスリバースグラビア方式、オフセットグラビア方式等のグラビアコーター、リバースロールコーター、マイクログラビアコーター、エアナイフコーター、デイップコーター、バーコーター、コンマコーター、ダイコーター等を用いることができる。   As a method for coating the coating liquid on the substrate film, a known coating method can be used without particular limitation, and it is performed by dipping or spraying, and using a coater, a printing machine, or a brush. Coaters, types of printing machines, and coating methods include direct gravure method, reverse gravure method, kiss reverse gravure method, offset gravure method, gravure coater, reverse roll coater, micro gravure coater, air knife coater, dip coater, bar coater A comma coater, a die coater, or the like can be used.

本発明においては、前記溶液又は分散液を基材フィルムの上に塗工した直後の状態(wet)における塗工厚み(wet)としては、0.02μm〜1mmであることが好ましく、0.5μm〜500μmであることがより好ましい。他方、前記塗工層を加熱下で乾燥した場合には、前記溶液又は分散液の塗工厚み(dry)としては、0.001μm〜1mmであることが好ましく、0.01μm〜100μmであることがより好ましい。このような乾燥厚さとなるように1〜4回繰り返して塗工と乾燥をすることで所望の厚さを得ることができる。   In the present invention, the coating thickness (wet) in a state (wet) immediately after coating the solution or dispersion on the substrate film is preferably 0.02 μm to 1 mm, and 0.5 μm. More preferably, it is -500 micrometers. On the other hand, when the coating layer is dried under heating, the coating thickness (dry) of the solution or dispersion is preferably 0.001 μm to 1 mm, and preferably 0.01 μm to 100 μm. Is more preferable. A desired thickness can be obtained by coating and drying repeatedly 1 to 4 times so as to obtain such a dry thickness.

他方、上記した塗工厚み(dry)は、厚みが5μmを越える場合には、オリンパス光学工業(株)製、透過ノルマルスキー微分干渉顕微鏡を用い、フィルム断面から実測した値を用いる。また、該厚みが5μm以下の場合には、大塚電子(株)製、瞬間マルチ測光システムMCPD−2000を用いて測定した値を用いる。   On the other hand, as the above-mentioned coating thickness (dry), when the thickness exceeds 5 μm, a value measured from a film cross section using a transmission normalsky differential interference microscope manufactured by Olympus Optical Co., Ltd. is used. Moreover, when this thickness is 5 micrometers or less, the value measured using Otsuka Electronics Co., Ltd. product and the instantaneous multiphotometry system MCPD-2000 is used.

本発明において、前記溶液又は分散液を基材フィルムの上に塗工する直前の状態における前記溶液又は分散液は、適宜粘度を調整することができる。   In the present invention, the viscosity of the solution or dispersion in a state immediately before the solution or dispersion is applied onto the substrate film can be adjusted as appropriate.

塗工液を基材フィルムの表面上に塗布後、溶媒を蒸発、乾燥させる方法は特に限定されない。自然乾燥による方法や、所定の温度に設定したオーブン中で乾燥させる方法、前記コーター付属の乾燥機、例えばアーチドライヤー、フローティングドライヤー、ドラムドライヤー、赤外線ドライヤー等を用いることができる。乾燥の条件は、基材、及びポリカルボン酸系重合体(A)の多価金属塩、その他の添加剤が熱による損傷を受けない範囲で任意に選択できる。   The method of evaporating and drying the solvent after applying the coating liquid on the surface of the substrate film is not particularly limited. A method using natural drying, a method of drying in an oven set to a predetermined temperature, or a dryer attached to the coater, such as an arch dryer, a floating dryer, a drum dryer, an infrared dryer, or the like can be used. The drying conditions can be arbitrarily selected as long as the base material, the polyvalent metal salt of the polycarboxylic acid polymer (A), and other additives are not damaged by heat.

基材フィルムの上のポリカルボン酸系重合体(A)、多価金属化合物(B)、揮発性塩基(C)又は酸(D)からなる層中で、多価金属化合物(B)は未反応分子状、ポリカルボン酸系重合体(A)との多価金属塩、及びポリカルボン酸との金属錯体塩として存在する。ここで金属錯体塩とは、コバルト、ニッケル、銅、亜鉛、ジルコニウム等と揮発性塩基との錯体を意味する。具体的な金属錯体塩としては、亜鉛や銅のテトラアンモニウム錯体塩を例示することができる。このようにして、前記溶液又は分散液を基材フィルムの上に塗布し、乾燥して有機防湿膜を形成せしめる。   In the layer composed of the polycarboxylic acid polymer (A), the polyvalent metal compound (B), the volatile base (C) or the acid (D) on the base film, the polyvalent metal compound (B) is not yet present. It exists as a reaction molecule, a polyvalent metal salt with the polycarboxylic acid polymer (A), and a metal complex salt with the polycarboxylic acid. Here, the metal complex salt means a complex of cobalt, nickel, copper, zinc, zirconium or the like and a volatile base. Specific examples of the metal complex salt include zinc and copper tetraammonium complex salts. Thus, the said solution or dispersion liquid is apply | coated on a base film, and it dries and forms an organic moisture-proof film | membrane.

そして、基材フィルムの表面上に積層されている有機防湿膜を60℃〜400℃、好ましくは100〜300℃、更に好ましくは150〜250℃の範囲の温度で熱処理を行い、基材フィルムの表面上に有機防湿膜を形成することができる。上記温度範囲内であれば、熱処理に際し、特別な制限はない。通常、好ましくは、不活性ガス雰囲気下、0.1〜600MPa、更に好ましくは0.1〜100MPaの加圧下で、好ましくは0.1〜3000分、更に好ましくは1〜2000分で熱処理が行われる。熱処理温度が400℃を超えるものや熱処理時間が3000分を超えるものでは、目的とする酸素ガスバリア性や防湿性を持つフィルムが得難く、また、生産上の観点からも問題がある。熱処理温度が60℃未満のものや、熱処理時間が0.1分未満のものでは、水分の除去が充分ではなく、特に防湿性の点から問題が生じる傾向にある。また、得られる有機防湿膜積層体中の有機防湿膜が、より確実に赤外線吸収スペクトルの面積比αを2.5以下(好ましくは0.01〜2.3、より好ましくは0.01〜2.0)とするという観点からは、0.1〜600MPa下、60〜400℃の条件で熱処理することが好ましい。熱処理温度が前記下限未満では、十分に水分を除去できない傾向にあり、熱処理温度が前記上限を超えると、有機防湿膜を構成する樹脂の熱分解による黒色乃至褐色の熱分解物を生じる傾向にある。   And the organic moisture-proof film laminated | stacked on the surface of a base film is heat-processed at the temperature of the range of 60 to 400 degreeC, Preferably 100 to 300 degreeC, More preferably, 150 to 250 degreeC, An organic moisture-proof film can be formed on the surface. If it is in the said temperature range, there will be no special restriction | limiting in the case of heat processing. Usually, the heat treatment is preferably performed in an inert gas atmosphere under a pressure of 0.1 to 600 MPa, more preferably 0.1 to 100 MPa, preferably 0.1 to 3000 minutes, more preferably 1 to 2000 minutes. Is called. When the heat treatment temperature exceeds 400 ° C. or the heat treatment time exceeds 3000 minutes, it is difficult to obtain a target film having oxygen gas barrier properties and moisture resistance, and there is a problem from the viewpoint of production. When the heat treatment temperature is less than 60 ° C. or when the heat treatment time is less than 0.1 minutes, moisture is not sufficiently removed, and there is a tendency for problems to occur particularly from the viewpoint of moisture resistance. Moreover, the organic moisture-proof film in the obtained organic moisture-proof film laminate more reliably has an area ratio α of the infrared absorption spectrum of 2.5 or less (preferably 0.01 to 2.3, more preferably 0.01 to 2). 0.0), heat treatment is preferably performed under conditions of 60 to 400 ° C. under 0.1 to 600 MPa. If the heat treatment temperature is less than the lower limit, moisture tends not to be sufficiently removed, and if the heat treatment temperature exceeds the upper limit, a black to brown pyrolyzate tends to be generated due to thermal decomposition of the resin constituting the organic moisture-proof film. .

なお、熱処理方法については、特別な制限はない。熱処理温度を複数回変えて、段階的に昇温し熱履歴を与えてもよい。熱処理装置についても、特に制限されない。例えば、常圧のオーブン、加圧下のオートクレーブ、プレス器、フローティング炉のような連続的加熱装置等で熱処理できる。また、熱処理の方法としては、例えば、熱風噴射、エアーフローティング、赤外線放射、マイクロ波照射、高周波誘電加熱等を挙げることができる。尚、熱処理が済んだ段階では、揮発性塩基(C)又は酸(D)或いは炭酸アンモニウム(E)は揮散しているか、或いは塩となりフィルム中に痕跡が残るがフィルムの性能には影響を与えない。   There are no particular restrictions on the heat treatment method. The heat treatment temperature may be changed a plurality of times, and the heat history may be given by raising the temperature stepwise. The heat treatment apparatus is not particularly limited. For example, the heat treatment can be performed by a continuous heating apparatus such as an atmospheric pressure oven, an autoclave under pressure, a press machine, or a floating furnace. Examples of the heat treatment method include hot air injection, air floating, infrared radiation, microwave irradiation, and high frequency dielectric heating. At the stage of heat treatment, the volatile base (C) or acid (D) or ammonium carbonate (E) is either volatilized or becomes a salt, leaving traces in the film, but affecting the performance of the film. Absent.

(2)2枚の有機防湿膜を接着剤層を介して積層せしめる工程
工程(2)においては、前記のようにして得られた2枚の有機防湿膜積層体の有機防湿膜面同士を接着剤層を介して積層せしめて防湿性カバーレイフィルム(ロ)を得る。
(2) Step of laminating two organic moisture-proof films through an adhesive layer In step (2), the organic moisture-proof film surfaces of the two organic moisture-proof film laminates obtained as described above are bonded together. A moisture-proof coverlay film (B) is obtained by laminating through the agent layer.

このような接着剤層を形成せしめるために用いられる接着剤は、前記接着材層を形成させるために用いられる接着剤と同様なものである。   The adhesive used for forming such an adhesive layer is the same as the adhesive used for forming the adhesive layer.

また、前記の有機防湿膜面に接着剤を塗工する方法としては特に制限されず、公知の塗工方法が使用可能であり、浸漬(ディッピング)やスプレー、及びコーター、印刷機、或いは刷毛を用いて行うことが可能である。コーター、印刷機の種類、塗工方式としては、ダイレクトグラビア方式、リバースグラビア方式、キスリバースグラビア方式、オフセットグラビア方式等のグラビアコーター、リバースロールコーター、マイクログラビアコーター、エアナイフコーター、デイップコーター、バーコーター、コンマコーター、ダイコーター等を用いることができる。また、接着剤を塗工する際には、前記2枚の有機防湿膜の両方の面に接着剤を塗工してもよく、前記2枚の有機防湿膜のうちの1枚の面にのみ接着剤を塗工してもよい。更に、有機防湿膜に接着剤を塗工する際の塗工厚みとしては、前述の接着剤層の好適な厚みを実現するために十分なものとすることが好ましい。   In addition, the method of applying the adhesive to the organic moisture-proof film surface is not particularly limited, and a known coating method can be used, and dipping, spraying, coater, printing machine, or brush can be used. Can be used. Coaters, types of printing machines, and coating methods include direct gravure method, reverse gravure method, kiss reverse gravure method, offset gravure method, gravure coater, reverse roll coater, micro gravure coater, air knife coater, dip coater, bar coater A comma coater, a die coater, or the like can be used. In addition, when applying the adhesive, the adhesive may be applied to both surfaces of the two organic moisture-proof films, and only on one surface of the two organic moisture-proof films. An adhesive may be applied. Furthermore, it is preferable that the coating thickness when the adhesive is applied to the organic moisture-proof film is sufficient to realize a suitable thickness of the above-described adhesive layer.

また、前記有機防湿膜面同士を接着せしめる方法としては特に制限されず、適宜公知の方法を用いることが可能であり、ドライラミネート法、エクストルージョンラミネート法、ホットメルトラミネート法等を用いることが可能である。   Further, the method for adhering the organic moisture-proof film surfaces is not particularly limited, and a known method can be used as appropriate, and a dry lamination method, an extrusion lamination method, a hot melt lamination method, or the like can be used. It is.

このようにして有機防湿膜面同士を接着層を介して積層せしめることで、基材フィルム/有機防湿膜/接着剤層/有機防湿膜/基材フィルムの順で積層された本発明の防湿性カバーレイフィルム(ロ)を得ることができる。   Thus, the moisture-proof property of this invention laminated | stacked in order of base film / organic moisture-proof film / adhesive layer / organic moisture-proof film / base film by laminating | stacking organic moisture-proof film surfaces through an adhesion layer in this way. A coverlay film (b) can be obtained.

次に、前述の防湿性カバーレイフィルム(ロ)の製造工程(1)及び(2)を実施するために好適な防湿性カバーレイフィルム(ロ)を製造するための装置の一実施形態について、図面を参照しながら詳細に説明する。なお、以下の説明及び図面中、同一又は相当する要素には同一の符号を付し、重複する説明は省略する。   Next, an embodiment of an apparatus for producing a moisture-proof coverlay film (b) suitable for carrying out the steps (1) and (2) for producing the moisture-proof coverlay film (b) described above, This will be described in detail with reference to the drawings. In the following description and drawings, the same or corresponding elements are denoted by the same reference numerals, and duplicate descriptions are omitted.

図1は、防湿性カバーレイフィルム(ロ)を製造するための装置の一実施形態を示す模式図である。   FIG. 1 is a schematic view showing an embodiment of an apparatus for producing a moisture-proof coverlay film (B).

図1に示す製造装置は、繰出し装置1を備え、かかる繰出し装置1には、前述の製造工程(1)に記載された基材フィルム3がロール状に巻かれた基材フィルムロール2が設置されている。   The manufacturing apparatus shown in FIG. 1 includes a feeding device 1, and a base film roll 2 in which the base film 3 described in the manufacturing process (1) is wound is installed in the feeding device 1. Has been.

また、図1に示す製造装置は、繰出し装置1から繰出された基材フィルム3が進行する方向にコロナ放電システム4及びグラビアロール5を備えており、かかるグラビアロール5の一部は、前述のようにして調整されたポリカルボン酸系重合体(A)と多価金属化合物(B)と揮発性塩基(C)と溶媒とを含む混合物の溶液6に接触している。さらに、図1に示す製造装置は、溶液6が塗工された基材フィルム3が進行する方向に第一の乾燥炉7を備えている。   Moreover, the manufacturing apparatus shown in FIG. 1 includes a corona discharge system 4 and a gravure roll 5 in a direction in which the base film 3 fed from the feeding apparatus 1 travels. It is in contact with the solution 6 of the mixture containing the polycarboxylic acid polymer (A), polyvalent metal compound (B), volatile base (C), and solvent prepared as described above. Furthermore, the manufacturing apparatus shown in FIG. 1 includes a first drying furnace 7 in the direction in which the base film 3 coated with the solution 6 travels.

また、図1に示す製造装置は、上述のような繰出し装置1、コロナ放電システム4、グラビアロール5、第一の乾燥炉7の順に構成されたラインを2つ備えており、一方のラインには、第一の乾燥炉7の後に更にラミネート装置8が配置されている。   Moreover, the manufacturing apparatus shown in FIG. 1 includes two lines configured in the order of the feeding apparatus 1, the corona discharge system 4, the gravure roll 5, and the first drying furnace 7 as described above. The laminating apparatus 8 is further arranged after the first drying furnace 7.

また、図1に示す製造装置は、第一の乾燥炉7を通過した有機防湿膜積層体及びラミネート装置8を通過して接着剤が塗工された有機防湿膜積層体(以下「接着層形成有機防湿膜積層体」という)の進行方向に、加熱ロール9、第二の乾燥炉10、アキュームレー11、及び巻取り装置12を備えている。   In addition, the manufacturing apparatus shown in FIG. 1 includes an organic moisture-proof film laminate that has passed through the first drying furnace 7 and an organic moisture-proof film laminate that has been applied with an adhesive after passing through the laminate device 8 (hereinafter referred to as “adhesion layer formation”). A heating roll 9, a second drying furnace 10, an accumulator 11, and a winding device 12 are provided in the traveling direction of the “organic moisture-proof film laminate”.

このような図1に示す製造装置を用いて有機防湿膜積層体を製造する際には、先ず、有機防湿膜積層体を得る工程として、繰出し装置1に基材フィルムロール2をセットして、基材フィルム3を繰出していく。そして、繰出されたフィルム3の表面は、コロナ放電システム4を通過することで、コロナ放電処理がなされる。このようなコロナ放電処理がなされた基材フィルム3はグラビアロール5に導かれ、前記放電処理された表面上に溶液6が塗工される。なお、基材フィルム3の表面は、上述のようなコロナ放電処理がなされていることから、溶液6を均一に塗工し易い。そして、溶液6が塗工された基材フィルム3は第一の乾燥炉7に導かれ、熱処理がなされる。このような操作は2つのラインで同時に行われ、有機防湿膜積層体が2枚得られる。   When producing an organic moisture-proof film laminate using such a production apparatus shown in FIG. 1, first, as a step of obtaining an organic moisture-proof film laminate, a base film roll 2 is set in the feeding device 1, The base film 3 is fed out. The surface of the fed film 3 passes through the corona discharge system 4 and is subjected to corona discharge treatment. The base film 3 subjected to such corona discharge treatment is guided to the gravure roll 5, and the solution 6 is applied on the surface subjected to the discharge treatment. In addition, since the surface of the base film 3 is subjected to the corona discharge treatment as described above, it is easy to apply the solution 6 uniformly. Then, the base film 3 coated with the solution 6 is guided to the first drying furnace 7 and subjected to heat treatment. Such an operation is performed simultaneously on two lines, and two organic moisture-proof film laminates are obtained.

次に、本実施形態において、防湿性カバーレイフィルム(ロ)を得る工程を説明する。先ず、前述のようにして得られた2枚の有機防湿膜積層体のうち、一方の有機防湿膜積層体の有機防湿膜面にラミネート装置8を用いて接着剤を塗工して接着層形成有機防湿膜積層体を得る。その後、もう一方の有機防湿膜積層体の有機防湿膜面と、接着層形成有機防湿膜積層体の接着層面とを加熱ロール9を用いて圧着する。このような圧着を行うことで、基材フィルム/有機防湿膜/接着層/有機防湿膜/基材フィルムの順に積層された防湿性カバーレイフィルム(ロ)を得ることができる。そして、加熱ロール9によって圧着がなされた防湿性カバーレイフィルム(ロ)は、第二の乾燥炉10に導かれて熱処理がなされる。なお、第一の乾燥炉7と加熱ロール9との間に、圧着の効果を高めるために必要に応じて、コロナ放電や常圧プラズマにより有機防湿膜積層体の有機防湿膜面の表面処理(図示せず)を行うことができる。更に、このような熱処理がなされた防湿性カバーレイフィルム(ロ)はアキュームレー11を通過し、巻取り装置12によってロール状に巻き取られる(防湿性カバーレイフィルムロール13)。このようにして、本実施形態においては、防湿性カバーレイフィルム(ロ)を得ることができる。   Next, in the present embodiment, a process for obtaining a moisture-proof coverlay film (B) will be described. First, of the two organic moisture-proof film laminates obtained as described above, an adhesive is applied to the organic moisture-proof film surface of one organic moisture-proof film laminate using the laminating device 8 to form an adhesive layer. An organic moisture-proof film laminate is obtained. Thereafter, the organic moisture-proof film surface of the other organic moisture-proof film laminate and the adhesive layer surface of the adhesive layer-forming organic moisture-proof film laminate are pressure-bonded using a heating roll 9. By performing such pressure bonding, it is possible to obtain a moisture-proof coverlay film (b) laminated in the order of base film / organic moisture-proof film / adhesive layer / organic moisture-proof film / base film. Then, the moisture-proof coverlay film (B) that has been pressure-bonded by the heating roll 9 is guided to the second drying furnace 10 and subjected to heat treatment. In addition, between the 1st drying furnace 7 and the heating roll 9, as needed, surface treatment of the organic moisture-proof film surface of an organic moisture-proof film laminated body by corona discharge or atmospheric pressure plasma (in order to raise the effect of pressure bonding ( (Not shown). Further, the moisture-proof coverlay film (b) subjected to such heat treatment passes through the accumulator 11 and is wound up into a roll by the winding device 12 (moisture-proof coverlay film roll 13). Thus, in this embodiment, a moisture-proof coverlay film (b) can be obtained.

以上、防湿性カバーレイフィルム(ロ)を製造するための装置の好適な実施形態について説明したが、防湿性カバーレイフィルム(ロ)を製造するための装置または方法は上記実施形態に限定されるものではない。   As mentioned above, although suitable embodiment of the apparatus for manufacturing a moisture-proof cover-lay film (b) was described, the apparatus or method for manufacturing a moisture-proof cover-lay film (b) is limited to the said embodiment. It is not a thing.

〔防湿性カバーレイフィルム(イ)の製造方法〕
防湿性カバーレイフィルム(イ)の製造方法は、基材フィルム3の表面上に有機防湿膜を形成する工程(防湿性カバーレイフィルム(イ)を得る工程)を含む製造方法である。
[Method for Producing Moisture-proof Coverlay Film (I)]
The method for producing the moisture-proof coverlay film (I) is a production method including a step of forming an organic moisture-proof film on the surface of the base film 3 (a step of obtaining the moisture-proof coverlay film (I)).

〔防湿性カバーレイフィルム(ロ)の製造方法〕
防湿性カバーレイフィルム(ロ)の製造方法は、(1a)基材フィルムの表面上に有機防湿膜を形成する工程(有機防湿膜積層体を得る工程)、(2a)基材フィルムの表面上に接着剤を塗工する工程(接着層形成有機防湿膜積層体を得る工程)、(3a)接着層形成有機防湿膜積層体の片方の表面に接着層を押出ラミネートする工程を含む製造方法である。このようにして基材フィルム/有機防湿膜/接着剤層/有機防湿膜/基材フィルム/接着層の順に積層された防湿性カバーレイフィルム(ロ)を得ることができる。
[Method for producing moisture-proof coverlay film (b)]
The manufacturing method of the moisture-proof coverlay film (b) includes (1a) a step of forming an organic moisture-proof film on the surface of the substrate film (a step of obtaining an organic moisture-proof film laminate), and (2a) on the surface of the substrate film. (A step of obtaining an adhesive layer-forming organic moisture-proof film laminate), (3a) a manufacturing method comprising a step of extruding and laminating an adhesive layer on one surface of the adhesive layer-forming organic moisture-proof film laminate is there. In this way, a moisture-proof coverlay film (b) laminated in the order of base film / organic moisture-proof film / adhesive layer / organic moisture-proof film / base film / adhesive layer can be obtained.

また、前記2枚の有機防湿膜積層体の有機防湿膜面同士を直接的に対向させて圧着させる際には、加熱ロール等を用いて、60〜500℃の温度条件下、0.5KPa〜1×106MPaの圧力で圧着させることが好ましく、100〜300℃の温度条件下、1KPa〜1MPaの圧力で圧着させることがより好ましい。   In addition, when the organic moisture-proof film surfaces of the two organic moisture-proof film laminates are directly opposed to each other and pressure-bonded, using a heating roll or the like, under a temperature condition of 60 to 500 ° C., 0.5 KPa to The pressure bonding is preferably performed at a pressure of 1 × 10 6 MPa, and more preferably performed at a pressure of 1 KPa to 1 MPa under a temperature condition of 100 to 300 ° C.

そして、得られた防湿性カバーレイフィルム(ロ)を60℃〜400℃、好ましくは100〜300℃、更に好ましくは150〜250℃の範囲の温度で熱処理を行う。上記温度範囲内であれば、熱処理に際し、特別な制限はない。通常、好ましくは、不活性ガス雰囲気下、0.1〜600MPa、更に好ましくは0.1〜100MPaの加圧下で、好ましくは0.1〜3000分、更に好ましくは1〜2000分で熱処理が行われる。熱処理温度が400℃を超えるものや熱処理時間が3000分を超えるものでは、目的とする酸素ガスバリア性や防湿性を持つフィルムが得難く、また、生産上の観点からも問題がある。熱処理温度が60℃未満のものや、熱処理時間が0.1分未満のものでは、水分の除去が充分ではなく、特に防湿性の点から問題が生じる傾向にある。また、得られる防湿性カバーレイフィルム(ロ)中の有機防湿膜が、より確実に赤外線吸収スペクトルの面積比αを2.5以下(好ましくは0.01〜2.3、より好ましくは0.01〜2.0)とするという観点からは、0.1〜600MPa下で、60〜400℃の条件で熱処理することが好ましい。熱処理温度が前記下限未満では、十分に水分を除去できない傾向にあり、熱処理温度が前記上限を超えると、有機層を構成する樹脂の熱分解による黒色乃至褐色の熱分解物を生じる傾向にある。   And the obtained moisture-proof cover-lay film (b) is heat-treated at a temperature in the range of 60 to 400 ° C, preferably 100 to 300 ° C, more preferably 150 to 250 ° C. If it is in the said temperature range, there will be no special restriction | limiting in the case of heat processing. Usually, the heat treatment is preferably performed in an inert gas atmosphere under a pressure of 0.1 to 600 MPa, more preferably 0.1 to 100 MPa, preferably 0.1 to 3000 minutes, more preferably 1 to 2000 minutes. Is called. When the heat treatment temperature exceeds 400 ° C. or the heat treatment time exceeds 3000 minutes, it is difficult to obtain a target film having oxygen gas barrier properties and moisture resistance, and there is a problem from the viewpoint of production. When the heat treatment temperature is less than 60 ° C. or when the heat treatment time is less than 0.1 minutes, moisture is not sufficiently removed, and there is a tendency for problems to occur particularly from the viewpoint of moisture resistance. In addition, the organic moisture-proof film in the obtained moisture-proof cover lay film (b) has an area ratio α of the infrared absorption spectrum of 2.5 or less (preferably 0.01 to 2.3, more preferably 0.8). From the viewpoint of setting to 01 to 2.0), it is preferable to perform heat treatment under conditions of 60 to 400 ° C. under 0.1 to 600 MPa. If the heat treatment temperature is less than the lower limit, moisture tends not to be removed sufficiently. If the heat treatment temperature exceeds the upper limit, black or brown pyrolyzate tends to be generated due to thermal decomposition of the resin constituting the organic layer.

熱処理方法については、特別な制限はない。熱処理温度を複数回変えて、段階的に昇温し熱履歴を与えてもよい。熱処理装置についても、特に制限されない。例えば、常圧のオーブン、加圧下のオートクレーブ、プレス器、フローティング炉のような連続的加熱装置等で熱処理できる。また、熱処理の方法としては、例えば、熱風噴射、エアーフローティング、赤外線放射、マイクロ波照射、高周波誘電加熱等を挙げることができる。尚、熱処理が済んだ段階では、揮発性塩基(C)又は酸(D)或いは炭酸アンモニウム(E)は、揮散しているか、或いは塩となりフィルム中に痕跡が残るがフィルムの性能には影響を与えない。   There is no special restriction on the heat treatment method. The heat treatment temperature may be changed a plurality of times, and the heat history may be given by raising the temperature stepwise. The heat treatment apparatus is not particularly limited. For example, the heat treatment can be performed by a continuous heating apparatus such as an atmospheric pressure oven, an autoclave under pressure, a press machine, or a floating furnace. Examples of the heat treatment method include hot air injection, air floating, infrared radiation, microwave irradiation, and high frequency dielectric heating. At the stage of heat treatment, the volatile base (C) or acid (D) or ammonium carbonate (E) is volatilized or becomes a salt, leaving traces in the film, but affecting the performance of the film. Don't give.

(本発明のフレキシブルプリント配線基板)
次に、本発明のフレキシブルプリント配線基板について説明する。すなわち、本発明のフレキシブルプリント配線基板は、前記本発明の防湿性カバーレイフィルムで被覆されていることを特徴とするものである。
(Flexible printed wiring board of the present invention)
Next, the flexible printed wiring board of the present invention will be described. That is, the flexible printed wiring board of the present invention is characterized by being covered with the moisture-proof coverlay film of the present invention.

このようなフレキシブルプリント配線基板の好適な一実施形態について図面を参照しながら、説明する。   A preferred embodiment of such a flexible printed wiring board will be described with reference to the drawings.

図2は、フレキシブルプリント配線基板の先端部付近を拡大して示す概略斜視図である。図2に示すフレキシブルプリント配線基板は、ポリイミドフィルムの細長い可撓性の基板本体(基材本体)20を備え、基板本体20の表面部分にスクリーン印刷法などの印刷法により塗布形成された複数本の配線の端部に接続された接続端子21を備えている。また、基板本体20の表面を被覆して積層されて本発明の防湿性カバーレイフィルム22が備えられている。   FIG. 2 is an enlarged schematic perspective view showing the vicinity of the tip of the flexible printed wiring board. The flexible printed wiring board shown in FIG. 2 includes an elongated flexible substrate main body (base material main body) 20 made of polyimide film, and a plurality of coatings formed on the surface portion of the substrate main body 20 by a printing method such as a screen printing method. The connection terminal 21 connected to the end of the wiring is provided. Moreover, the moisture-proof coverlay film 22 of the present invention is provided so as to cover and laminate the surface of the substrate body 20.

また、前記配線は複数の陽極配線23および複数の陰極配線24とから構成され、接続端子21は複数の陽極端子25及び複数の陰極端子26とから構成されている。また、陽極配線23及び陰極配線24は、基板本体20の先端部において陽極端子25及び陰極端子26にそれぞれ接続されている。複数の陽極端子25は、互いに隣接して纏まって配置され、陽極端子群を構成している。また、複数の陰極端子26は、互いに隣接して纏まって配置され、陰極端子群構成している。   The wiring is composed of a plurality of anode wirings 23 and a plurality of cathode wirings 24, and the connection terminal 21 is composed of a plurality of anode terminals 25 and a plurality of cathode terminals 26. In addition, the anode wiring 23 and the cathode wiring 24 are connected to the anode terminal 25 and the cathode terminal 26, respectively, at the distal end portion of the substrate body 20. The plurality of anode terminals 25 are arranged adjacent to each other and constitute an anode terminal group. The plurality of cathode terminals 26 are arranged adjacent to each other and constitute a cathode terminal group.

以上、本発明のフレキシブルプリント配線基板の好適な一実施形態を示したが、本発明のフレキシブルプリント配線基板はこのようなものに限定されるものではない。   As mentioned above, although one suitable embodiment of the flexible printed wiring board of the present invention was shown, the flexible printed wiring board of the present invention is not limited to such a thing.

例えば、本実施形態においては、基板本体(基材本体)7としてポリイミドフィルムを用いているが、基板本体(基材本体)7は、ポリイミドフィルム以外にも、例えば、PET(ポリエチレンテレフタレート)、フェノール樹脂、ポリエチレンナフタレートなどで構成することも可能である。また、図2に示す配線は便宜上のものであって、このような配線も図2に示す配線に限られるものではなく、種々のパターンの配線とすることが可能である。   For example, in the present embodiment, a polyimide film is used as the substrate main body (base material main body) 7, but the substrate main body (base material main body) 7 is, for example, PET (polyethylene terephthalate), phenol in addition to the polyimide film. It can also be composed of resin, polyethylene naphthalate, or the like. Further, the wiring shown in FIG. 2 is for convenience, and such wiring is not limited to the wiring shown in FIG. 2 and can be various patterns of wiring.

以上、本発明のフレキシブルプリント配線基板について説明したが、以下において、本発明のフレキシブルプリント配線基板の好適な製造方法を説明する。   Although the flexible printed wiring board of the present invention has been described above, a preferred method for manufacturing the flexible printed wiring board of the present invention will be described below.

本発明のフレキシブルプリント配線基板は、フレキシブルプリント配線基板を2枚の本発明の防湿性カバーレイフィルムで挟んで加熱ラミネ−トすることによりフレキシブルプリント配線基板に本発明の防湿性カバーレイフィルムを被覆せしめて製造することができる。すなわち、本発明の防湿性カバーレイフィルムと回路を形成したフレキシブル配線板を加熱下ラミネートすることにより、2枚の本発明の防湿性カバーレイフィルムで密着被覆されたフレキシブルプリント配線基板を製造することができる。   The flexible printed wiring board of the present invention covers the flexible printed wiring board of the present invention by sandwiching the flexible printed wiring board between the two moistureproof covering lay films of the present invention and heating lamination. At least it can be manufactured. That is, a flexible printed wiring board that is closely coated with the two moisture-proof coverlay films of the present invention is manufactured by laminating the moisture-proof coverlay film of the present invention and a flexible wiring board on which a circuit is formed under heating. Can do.

このような本発明のフレキシブルプリント配線基板を製造の際には、前記防湿性カバーレイフィルムの一方の面に接着剤層が積層されている防湿性カバーレイフィルムを用いることが好ましい。そして、前記防湿性カバーレイフィルムの前記接着剤層の表面がフレキシブルプリント配線基板に対向するようにして2枚の本発明の防湿性カバーレイフィルムでフレキシブルプリント配線基板を挟むようにして密着被覆せしめる。このようにして防湿性カバーレイフィルム/フレキシブルプリント配線基板/防湿性カバーレイフィルムの順に積層された状態となる。   When manufacturing such a flexible printed wiring board of the present invention, it is preferable to use a moisture-proof coverlay film in which an adhesive layer is laminated on one surface of the moisture-proof coverlay film. Then, the surface of the adhesive layer of the moisture-proof coverlay film is tightly coated so that the flexible printed wiring board is sandwiched between two moisture-proof coverlay films of the present invention so that the surface of the adhesive layer faces the flexible printed wiring board. In this manner, the moisture-proof coverlay film / flexible printed wiring board / moisture-proof coverlay film are laminated in this order.

以下、実施例及び比較例に基づいて本発明をより具体的に説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。   EXAMPLES Hereinafter, although this invention is demonstrated more concretely based on an Example and a comparative example, this invention is not limited to a following example.

先ず、予備試験で得られた積層フィルム、各実施例及び各比較例で得られた防湿性カバーレイフィルムの評価方法を説明する。 First, the evaluation method of the laminated film obtained by the preliminary test, the moisture-proof coverlay film obtained by each Example and each comparative example is demonstrated.

(i)赤外線吸収スペクトルの面積比α(フィルム中の水分量の測定法)
各実施例で得られた防湿性カバーレイフィルムに関して、前記の方法の内、ATR法を用いて、フィルムの赤外線吸収スペクトルの面積比α[ピーク面積S1(3700〜2500cm −1 )/ピーク面積S2(1800〜1500cm −1 )]を求めた。
(I) Area ratio α of infrared absorption spectrum (method for measuring water content in film)
Regarding the moisture-proof coverlay film obtained in each example, the area ratio α [peak area S1 (3700 to 2500 cm −1 ) / peak area of the infrared absorption spectrum of the film using the ATR method among the above methods. S2 (1800-1500 cm < -1 >)] was calculated | required.

ここでピーク面積S1(3700〜2500cm −1 )は、3700cm −1 の吸光度と2500cm −1 の吸光度2点を結んだ直線を基線として、3700〜2500cm −1 の範囲の面積積分により求めた。また、ピーク面積S2(1800〜1500cm −1 )は、1800cm −1 の吸光度と1500cm −1 の吸光度の2点を結んだ直線を基線として、1800〜1500cm −1 の範囲の面積積分により求めた。 Here the peak area S1 (3700~2500 cm -1) is a straight line connecting the absorbance two points 3700 cm -1 absorbance and 2500 cm -1 as a baseline, the area integration in the range of 3,700 to 2500 cm -1 Asked. The peak area S2 (1800~1500 cm -1) is, 1800 cm -1 of the straight line connecting two points of the absorbance of absorbance and 1500 cm -1 as a baseline, the area integral of the range of 1,800 to 1500 cm -1 Determined by

また、このような面積比αの測定は、各実施例で得られた防湿性カバーレイフィルムから有機防湿膜面を表面に出した検体を製造して、前記検体の有機防湿膜について前記ATR法を用いることで行った。このような有機防湿膜を表面に出した検体は、各実施例で得られた防湿性カバーレイフィルムを塩化メチレン液とその蒸気を満たしたガラス瓶に入れ、23℃の温度条件下で1日間保管して前記防湿性カバーレイフィルムの有機防湿膜と接着層とを剥離させて製造した。   In addition, the measurement of the area ratio α is performed by manufacturing a specimen in which the surface of the organic moisture-proof film is exposed from the moisture-proof cover lay film obtained in each example, and using the ATR method for the organic moisture-proof film of the specimen. It was performed by using. A specimen having such an organic moisture-proof film on the surface is placed in a glass bottle filled with a methylene chloride solution and its vapor in the moisture-proof cover lay film obtained in each example and stored for one day at a temperature of 23 ° C. The moisture-proof coverlay film was manufactured by peeling off the organic moisture-proof film and the adhesive layer.

(ii)赤外線吸収スペクトルのピーク比β(イオン化度の測定方法)
各実施例で得られた防湿性カバーレイフィルムに関して、前記した方法の内、ATR法でフィルムの赤外線吸収スペクトルの吸光度のピーク高さの比からピーク比β[ピークA1(1560cm −1 )/ピークA2(1700cm −1 )]を求めた。
(Ii) Infrared absorption spectrum peak ratio β (measurement method of ionization degree)
Regarding the moisture-proof coverlay film obtained in each example, the peak ratio β [peak A1 (1560 cm −1 ) / from the ratio of the peak height of the infrared absorption spectrum of the film by the ATR method among the methods described above. Peak A2 (1700 cm −1 )] was determined.

ここでピークA1(1600cm −1 )の吸光度とは、1600cm −1 の吸光度と1500cm −1 の吸光度の2点を結んだ直線を基線として、1600〜1500cm −1 の範囲の吸収極大の高さから求めた。またピークA2(1700cm −1 )は、1800cm −1 の吸光度と1600cm −1 の吸光度の2点を結んだ直線を基線として1800〜1600cm −1 の範囲の吸収極大の高さから求めた。 Here, the absorbance of the peak A1 (1600 cm -1), a straight line connecting two points of the absorbance at 1600 cm -1 absorbance and 1500 cm -1 as a baseline, the absorption maximum in the range of 1,600-1,500 cm -1 From the height of. The peak A2 (1700 cm -1) is, 1800 cm absorbance and 1600 height of the absorption maximum in the range of cm a straight line connecting two points of the absorbance of -1 as a baseline 1 800 to 1600 cm -1 -1 I asked for it.

また、このようなピーク比βの測定は、各実施例で得られた防湿性カバーレイフィルムから有機防湿膜面を表面に出した検体を製造して、前記検体の有機防湿膜について前記ATR法を用いることで行った。このような有機防湿膜を表面に出した検体は、各実施例で得られた防湿性カバーレイフィルムを塩化メチレン液とその蒸気を満たしたガラス瓶に入れ、23℃の温度条件下で1日間保管して前記防湿性カバーレイフィルムの有機防湿膜と接着層とを剥離させて製造した。   In addition, the peak ratio β is measured by manufacturing a specimen having an organic moisture-proof film surface on the surface from the moisture-proof coverlay film obtained in each example, and using the ATR method for the organic moisture-proof film of the specimen. It was performed by using. A specimen having such an organic moisture-proof film on the surface is placed in a glass bottle filled with a methylene chloride solution and its vapor in the moisture-proof cover lay film obtained in each example and stored for one day at a temperature of 23 ° C. The moisture-proof coverlay film was manufactured by peeling off the organic moisture-proof film and the adhesive layer.

(iii)水蒸気透過度(WVTR)の測定方法
各実施例及び各比較例で得られた防湿性カバーレイフィルムの防湿性の評価として、水蒸気透過度の測定をJIS K7129−1992プラスチックフィルム及びシートの水蒸気透過度試験方法(機器測定法)のB法(赤外センサー法)に則って行った。具体的には、温度60℃、相対湿度90%の条件で予備加湿を行い、加湿開始から250時間が経過した後のWVTRを温度40℃、相対湿度90%において測定した。測定機器は、Modern Control社製水蒸気透過試験機の商品名称PERMA TRANを用いて、水蒸気供給側の相対湿度90%RHで行った。測定値は、単位g/ ・dayで表記した。この方法によるWVTRの測定値の限界は0.005g/ ・dayであるが、測定値の揺れを考慮して、0.02g/ ・day以下の値は全て0.02以下g/ ・dayと記載した。
(Iii) Method for measuring water vapor transmission rate (WVTR) As an evaluation of the moisture resistance of the moisture-proof cover lay film obtained in each example and each comparative example, the measurement of water vapor transmission rate was conducted using JIS K7129-1992 plastic film and sheet. The test was performed according to the method B (infrared sensor method) of the water vapor permeability test method (instrument measurement method). Specifically, preliminary humidification was performed under conditions of a temperature of 60 ° C. and a relative humidity of 90%, and WVTR after 250 hours had elapsed from the start of humidification was measured at a temperature of 40 ° C. and a relative humidity of 90%. The measuring instrument was a relative humidity of 90% RH on the water vapor supply side, using the product name PERMA TRAN of a water vapor permeation tester manufactured by Modern Control. The measured value was expressed in the unit of g / m 2 · day. The limit of the measured value of WVTR by this method is 0.005 g / m 2 · day, but considering the fluctuation of the measured value, all values below 0.02 g / m 2 · day are 0.02 g / m 2 or less. It was described as m 2 · day.

次に、各実施例及び比較例で得られた防湿性カバーレイフィルムを被覆して得られたフレキシブルプリント配線基板の評価方法を説明する。   Next, the evaluation method of the flexible printed wiring board obtained by coat | covering the moisture-proof cover-lay film obtained by each Example and the comparative example is demonstrated.

(iv)負極端子の塩基性
先ず、60℃の温度条件下で相対湿度90%の雰囲気において、各実施例及び各比較例で得られたフレキシブルプリント配線基板に電圧5Vで電流50mAを連続30日間通電させる耐環境加速試験を行った。その後、フレキシブルプリント配線基板の配線における負極端子側で透過した水蒸気の電気分解由来の水酸基による塩基性の程度を、PH試験紙を用いて測定した。
(Iv) Basicity of negative electrode terminal First, in an atmosphere having a relative humidity of 90% under a temperature condition of 60 ° C., a flexible printed wiring board obtained in each Example and each Comparative Example was applied with a voltage of 5 V and a current of 50 mA for 30 days. An accelerated environmental resistance test was conducted. Then, the basicity by the hydroxyl group derived from the electrolysis of the water vapor | steam permeate | transmitted by the negative electrode terminal side in the wiring of a flexible printed wiring board was measured using PH test paper.

(v)基材フィルム等の状態
前記耐環境加速試験後、フレキシブルプリント配線基板及び積層されている基材フィルムの状態を測定した。
(V) State of base film and the like After the environmental resistance acceleration test, the state of the flexible printed wiring board and the base film laminated thereon was measured.

(vi)配線の剥離の測定方法
前記耐環境加速試験後のフレキシブルプリント配線基板の配線に剥離がないかを測定した。
(Vi) Measuring method of peeling of wiring The wiring of the flexible printed wiring board after the environmental resistance acceleration test was measured for peeling.

(予備試験)有機防湿膜のZnオージェ電子スペクトルの測定
サンプルとして基材フィルム(ポリイミドフィルム:米国デュポン社製の商品名称カプトンEN、厚さ38μm)の上に有機防湿膜を形成せしめた積層フィルムを製造し、前記有機防湿膜のZnオージェ電子スペクトルを測定した。かかる測定に際して、先ず、以下のような条件で、有機防湿膜を製造した。なお、積層フィルムから有機防湿膜の面を露出するように他の層を剥離して、この面を有機防湿膜の検体とすることも可能である。
(Preliminary test) Measurement of Zn Auger electron spectrum of organic moisture-proof film A laminated film in which an organic moisture-proof film is formed on a base film (polyimide film: product name Kapton EN, thickness 38 μm, manufactured by DuPont, USA) as a sample The Zn Auger electron spectrum of the organic moisture barrier film was measured. In the measurement, first, an organic moisture-proof film was produced under the following conditions. In addition, it is also possible to peel another layer from the laminated film so as to expose the surface of the organic moisture-proof film, and to use this surface as a specimen of the organic moisture-proof film.

〈塗工液〉
ポリアクリル酸固形分濃度:2.5wt%、ZnO添加量:2.0化学当量、アンモニア添加量:5.0(ZnOに対する質量比)、炭酸アンモニウム添加量:5.5(ZnOに対する質量比)となるように塗工液を調製した。具体的には、東亞合成(株)製ポリアクリル酸(PAA)の商品名称アロンA−10H:200g(2.74モル)、ZnO(和光純薬社製):55.7g(2.74モル)、28%アンモニア水溶液(和光純薬社製):223g(3.67モル)、炭酸アンモニア(和光純薬社製):306g(3.19モル)を配合して塗工液を調製した。
<Coating fluid>
Polyacrylic acid solid content concentration: 2.5 wt%, ZnO addition amount: 2.0 chemical equivalent, ammonia addition amount: 5.0 (mass ratio with respect to ZnO), ammonium carbonate addition amount: 5.5 (mass ratio with respect to ZnO) The coating liquid was prepared so that it might become. Specifically, trade names of polyacrylic acid (PAA) manufactured by Toagosei Co., Ltd. Aron A-10H: 200 g (2.74 mol), ZnO (manufactured by Wako Pure Chemical Industries): 55.7 g (2.74 mol) ), 28% ammonia aqueous solution (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.): 223 g (3.67 mol), ammonia carbonate (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.): 306 g (3.19 mol), to prepare a coating solution.

〈塗工方法〉
ダイレクトグラビア方式(グラビア版:45線、深度:800μ、wet塗布量:約22g・ 、平野テクシード社製マルチコーター商品名称TM−MC/5B、基材:ポリエチレンテレフタレート)。
<Coating method>
Direct gravure method (gravure plate: 45 lines, depth: 800 μm, wet coating amount: about 22 g · m 2 , multi-coater product name TM-MC / 5B manufactured by Hirano Techseed, base material: polyethylene terephthalate).

〈乾燥方法〉
インライン乾燥(乾燥炉設定:第一ゾーン 60℃ 15m/sec、第二ゾーン 60℃ 15m/sec、ライン速度:4m/min)。
<Drying method>
In-line drying (drying oven setting: first zone 60 ° C. 15 m / sec, second zone 60 ° C. 15 m / sec, line speed: 4 m / min).

〈熱処理〉
有機防湿膜をフェロ板に固定して、210℃のギヤオーブン中で15min熱処理した。
<Heat treatment>
The organic moisture-proof film was fixed to a ferro plate and heat-treated in a gear oven at 210 ° C. for 15 minutes.

次に、得られた前記有機防湿膜を研摩法により傾斜をつけて面出しを行った。その後、有機防湿膜の元素の分布状態及び表面側から0.2μmの点と0.4μmの点とにおけるZnのオージェ電子スペクトルにつき測定を行った。測定方法は以下の条件にしたがった。
測定装置:PHI社製の商品名称Quantera SXM
X線源:Al mono(1486.6eV)
検出領域20μmφ
検出深さ4〜5nm(取り出し角45°)
測定スペクトル:ワイド(0〜1500eV)、ナロー(Zn−LMNオージェ電子に対応する490〜505eV)。
Next, the obtained organic moisture-proof film was subjected to chamfering with an inclination by a polishing method. Thereafter, the state of element distribution of the organic moisture-proof film and the Auger electron spectrum of Zn at a point of 0.2 μm and a point of 0.4 μm from the surface side were measured. The measurement method was based on the following conditions.
Measuring device: Product name Quantera SXM manufactured by PHI
X-ray source: Al mono (1486.6 eV)
Detection area 20μmφ
Detection depth 4-5nm (take-off angle 45 °)
Measurement spectrum: Wide (0 to 1500 eV), narrow (490 to 505 eV corresponding to Zn-LMN Auger electrons).

測定により確認された元素の厚さ方向の分布状態を図3に示す。この厚さの単位はμm(マイクロメートル)である。また、測定により確認されたZnのオージェ電子スペクトル分析による測定結果を図4に示す。また、図4中、◇は有機薄膜の表面におけるオージェ電子スペクトル分析による亜鉛の結合エネルギーと強度との関係を示し、□は有機薄膜の表面から0.2μmの位置におけるオージェ電子スペクトル分析による亜鉛の結合エネルギーと強度との関係を示し、△は有機薄膜の表面から0.4μmの位置におけるオージェ電子スペクトル分析による亜鉛の結合エネルギーと強度との関係を示す。図3及び図4の関係から、Znのオージェ電子スペクトル分析による結合エネルギーは496〜498eVにピークを有し、かかるピークが主に亜鉛とアンモニアとの化学的結合に由来するものであると推測された。
The distribution state in the thickness direction of the element confirmed by the measurement is shown in FIG. The unit of thickness is μm ( micrometer ). Moreover, the measurement result by the Auger electron spectrum analysis of Zn confirmed by the measurement is shown in FIG. In FIG. 4, ◇ indicates the relationship between the binding energy and strength of zinc by Auger electron spectrum analysis on the surface of the organic thin film, and □ indicates the zinc content by Auger electron spectrum analysis at a position 0.2 μm from the surface of the organic thin film. The relationship between the binding energy and the strength is shown, and Δ shows the relationship between the binding energy and the strength of zinc by Auger electron spectrum analysis at a position of 0.4 μm from the surface of the organic thin film. From the relationship between FIG. 3 and FIG. 4, it is estimated that the binding energy of Zn by Auger electron spectrum analysis has a peak at 496 to 498 eV, and this peak is mainly derived from the chemical bond between zinc and ammonia. It was.

なお、前述のようにして得られた有機防湿膜の赤外線吸収スペクトルの面積比α、赤外線吸収スペクトルのピーク比β、酸素透過度及び水蒸気透過度を上記のようにして測定したところ、面積比αは1.3であり、ピーク比βは8であり、水蒸気透過度は1g/( ・day)であった。このような酸素透過度及び水蒸気透過度の測定結果から、上記のようにして製造された有機防湿膜は優れた防湿性を有することが確認された。 The area ratio α of the infrared absorption spectrum of the organic moisture-proof film obtained as described above, the peak ratio β of the infrared absorption spectrum, the oxygen permeability and the water vapor permeability were measured as described above. Was 1.3, the peak ratio β was 8, and the water vapor permeability was 1 g / ( m 2 · day). From the measurement results of such oxygen permeability and water vapor permeability, it was confirmed that the organic moisture barrier film produced as described above has excellent moisture resistance.

(製造例1[溶液A])
有機防湿膜の成膜用の溶液Aを下記のようにして製造した。ポリカルボン酸系重合体(A)として、東亞合成(株)製ポリアクリル酸(PAA)の商品名称アロンA−10H(数平均分子量200,000、25重量%水溶液)を用いた。前記PAA水溶液に対して、揮発性塩基としてアンモニア水(和光純薬工業(株)製試薬アンモニア28重量%水溶液)、酸化亜鉛(和光純薬工業(株)製試薬)、蒸留水を下記組成で順次添加し超音波ホモジナイザーで混合して溶液Aを得た。揮発性塩基(アンモニア)による亜鉛の錯体形成性を利用し、酸化亜鉛が完全に溶解した均一な透明溶液であった。
溶液Aの組成
PAA25重量%水溶液 250g
28重量%アンモニア水 210g
酸化亜鉛 35g
蒸留水 505g
合計 1000g。
(Production Example 1 [Solution A])
Solution A for forming an organic moisture barrier film was produced as follows. As the polycarboxylic acid polymer (A), the trade name Aron A-10H (number average molecular weight 200,000, 25 wt% aqueous solution) of polyacrylic acid (PAA) manufactured by Toagosei Co., Ltd. was used. With respect to the PAA aqueous solution, ammonia water (a 28% by weight aqueous solution of reagent ammonia manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.), zinc oxide (a reagent manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.), and distilled water as volatile bases have the following composition. The solution A was obtained by sequentially adding and mixing with an ultrasonic homogenizer. A homogeneous transparent solution in which zinc oxide was completely dissolved by utilizing the complexing ability of zinc with a volatile base (ammonia).
Composition of solution A 250 g PAA 25 wt% aqueous solution 250 g
210% 28% ammonia water
Zinc oxide 35g
505 g of distilled water
Total 1000g.

溶液Aの構成中、アンモニアはPAA中のカルボキシ基に対して400mol%(4.0化学当量)、酸化亜鉛は50mol%(1.0化学当量)、PAA濃度は6.25重量%であった。   In the composition of Solution A, ammonia was 400 mol% (4.0 chemical equivalents), 50 mol% (1.0 chemical equivalents) of zinc oxide, and PAA concentration was 6.25 wt% with respect to the carboxy group in PAA. .

(製造例2[フレキシブルプリント配線基板])
フレキシブルプリント配線基板(FPWB)を下記のようにして製造した。すなわち、厚さ38μmのポリイミドフィルム(基材(米国デュポン社製の商品名称カプトンEN))の片面にプラズマ処理を施した後、ニッケルクロムターゲット(ニッケル90質量%、クロム10質量%の合金)を用いて、前記ポリイミドフィルム上に厚さ約6nmのニッケルクロム蒸着層を常法の真空蒸着法を用いて形成し、更に純度99.99%の銅(Cu)を前記ニッケルクロム蒸着層の上に真空蒸着せしめて導電性金属層を形成した。次に、前記導電性金属層をエッチングして配線幅500μm、配線間隔300μm、長さ50mmの直線状配線パターンを作成した。その後、前記配線パターンに対して、無電解錫(Sn)メッキを施して、厚さ1μmの錫メッキ層を形成せしめ、フレキシブルプリント配線基板(FPWB)を製造した。
(Production Example 2 [Flexible Printed Circuit Board])
A flexible printed wiring board (FPWB) was manufactured as follows. That is, after a plasma treatment is performed on one side of a 38 μm-thick polyimide film (base material (product name: Kapton EN manufactured by DuPont, USA)), a nickel chromium target (alloy of 90 mass% nickel and 10 mass% chromium) is used. Then, a nickel chromium vapor deposition layer having a thickness of about 6 nm is formed on the polyimide film by using a conventional vacuum vapor deposition method, and copper (Cu) having a purity of 99.99% is further formed on the nickel chromium vapor deposition layer. A conductive metal layer was formed by vacuum deposition. Next, the conductive metal layer was etched to form a linear wiring pattern having a wiring width of 500 μm, a wiring interval of 300 μm, and a length of 50 mm. Thereafter, electroless tin (Sn) plating was applied to the wiring pattern to form a 1 μm thick tin plating layer, and a flexible printed wiring board (FPWB) was manufactured.

(実施例1)
ポリイミドフィルム(基材フィルム(厚さ38μm))/有機防湿膜(厚さ0.7μm)の順に積層された本発明の防湿性カバーレイフィルムを製造した。
Example 1
The moisture-proof cover-lay film of the present invention was produced by laminating polyimide film (base film (thickness 38 μm)) / organic moisture-proof film (thickness 0.7 μm) in this order.

前記2枚のポリイミドフィルムの表面上に、製造例1で得られた溶液Aを、それぞれバーコーター(RK PRINT−COAT IN STRUMENT社製の商品名称K303PROOFER)を用いて塗工し、その後、オーブン中、200℃の条件下で60分間熱処理して基材フィルムに有機防湿膜(厚さ0.7μm)とが積層された有機防湿膜積層体を2枚得た。   On the surface of the two polyimide films, the solution A obtained in Production Example 1 was applied using a bar coater (trade name K303PROFERR, manufactured by RK PRINT-COAT IN STRUMENT), and then in an oven. Two organic moisture-proof film laminates obtained by heat-treating at 200 ° C. for 60 minutes and having a base film and an organic moisture-proof film (thickness 0.7 μm) laminated thereon were obtained.

そして、1枚の前記有機防湿膜積層体の有機防湿膜の表面上にウレタン系接着剤(大日本インキ社製の商品名称ディックドライLX500(主剤)、KW75(硬化剤)の混合剤)を乾燥後の厚さが1.5μmとなるように塗工し、もう1枚の前記有機防湿膜積層体と前記ウレタン系接着剤を塗工後の有機防湿膜積層体とを有機防湿膜面が接着層を介して積層されるように200℃に保ったサーマルプレスローラを用いて圧着せしめ本発明の防湿性カバーレイフィルムを得た。   Then, a urethane-based adhesive (a product name Dick Dry LX500 (main agent), KW75 (curing agent) mixture manufactured by Dainippon Ink Co., Ltd.) is dried on the surface of the organic moisture-proof film of the organic moisture-proof film laminate. The film is coated so that the thickness after that becomes 1.5 μm, and the organic moisture-proof film laminate is bonded to another organic moisture-proof film laminate and the organic moisture-proof film laminate after applying the urethane adhesive. The moisture-proof coverlay film of the present invention was obtained by pressure bonding using a thermal press roller maintained at 200 ° C. so as to be laminated through the layers.

次いで、エチレンエチルアクリレート共重合体(エチルアクリレート含有率8%)を溶融せしめて押出ラミネート法により前記防湿性カバーレイフィルムの一方の基材フィルム面上にエチレンエチルアクリレート共重合体を積層せしめ接着剤層を更に積層せしめた本発明の防湿性カバーレイフィルムを得た。なお、このような接着剤層を有する防湿性カバーレイフィルムをBステージカバーレイフィルムと云う場合もある。   Next, an ethylene ethyl acrylate copolymer (ethyl acrylate content 8%) is melted and an ethylene ethyl acrylate copolymer is laminated on one substrate film surface of the moisture-proof coverlay film by an extrusion laminating method. A moisture-proof coverlay film of the present invention in which layers were further laminated was obtained. A moisture-proof coverlay film having such an adhesive layer may be referred to as a B stage coverlay film.

このようにして得られた防湿性カバーレイフィルム中の赤外線吸収スペクトルの面積比α[ピーク面積S1(3700〜2500cm −1 )/ピーク面積S2(1800〜1500cm −1 )]、ピーク比β[ピークA1(1560cm −1 )/ピークA2(1700cm −1 )]、及び水蒸気透過度(WVTR)をそれぞれ前述の方法で測定した。得られた結果を表1に示す。 The area ratio α [peak area S1 (3700 to 2500 cm −1 ) / peak area S2 (1800 to 1500 cm −1 )] of the infrared absorption spectrum in the moisture-proof coverlay film thus obtained, the peak ratio β [Peak A1 (1560 cm −1 ) / Peak A2 (1700 cm −1 )] and water vapor transmission rate (WVTR) were measured by the methods described above. The obtained results are shown in Table 1.

次に、このようにして得られた防湿性カバーレイフィルム2枚と、製造例2で得られたフレキシブルプリント配線基板(FPWB)とを用い、前記防湿性カバーレイフィルムの接着剤層の面が共にFPWB側となるようにFPWBの両面を挟んで積層せしめ、200℃に保ったサーマルプレスローラ間を通過させて本発明のフレキシブルプリント配線基板を得た。   Next, using the two moisture-proof coverlay films thus obtained and the flexible printed wiring board (FPWB) obtained in Production Example 2, the surface of the adhesive layer of the moisture-proof coverlay film is The both sides of the FPWB were laminated so as to be on the FPWB side, and passed between thermal press rollers maintained at 200 ° C. to obtain the flexible printed wiring board of the present invention.

このようにして得られた本発明のフレキシブルプリント配線基板について、負極端子の塩基性、基材フィルム等の状態、配線の剥離について、それぞれ前述のようにして測定した。結果は以下の通りである。   Thus, about the flexible printed wiring board of this invention obtained, the basicity of a negative electrode terminal, the state of a base film, etc., and peeling of wiring were measured as mentioned above, respectively. The results are as follows.

このような塩基性の測定においては、PH値が7であり通電前と同じ水準であることが確認された。また、前記基材フィルム等の状態の測定においては、基材フィルム及びフレキシブルプリント配線基板の基材に用いられているポリイミドフィルムは共に溶けたり、穴が開いたりすることも無かった。さらに、このようにして得られた本発明のフレキシブルプリント配線基板においては、配線の剥離も生じていなかった。   In such basic measurement, it was confirmed that the PH value was 7, which was the same level as before energization. Moreover, in the measurement of the state of the base film or the like, neither the base film nor the polyimide film used for the base of the flexible printed wiring board was melted or perforated. Furthermore, in the flexible printed wiring board of the present invention obtained in this way, no wiring peeling occurred.

(実施例2)
ポリイミドフィルム(基材フィルム(厚さ38μm))/有機防湿膜(厚さ0.7μm)/接着層(厚さ1.5μm)/有機防湿膜(厚さ0.7μm)/ポリイミドフィルム(基材フィルム(厚さ38μm))/接着剤層(厚さ25μm)の順に積層された本発明の防湿性カバーレイフィルムを製造した。
(Example 2)
Polyimide film (base film (thickness 38 μm)) / organic moisture barrier film (thickness 0.7 μm) / adhesive layer (thickness 1.5 μm) / organic moisture barrier film (thickness 0.7 μm) / polyimide film (base material) A moisture-proof cover lay film of the present invention was produced in the order of film (thickness 38 μm) / adhesive layer (thickness 25 μm).

すなわち、先ず、基材フィルムとして2枚のポリイミドフィルム(米国デュポン社製の商品名称カプトンEN)を用いた。
That is, first, had use two sheets of polyimide film (DuPont Co. Product name Kapton EN) as a substrate film.

次に、前記基材フィルムの表面上に、製造例1で得られた溶液Aをバーコーター(RK
PRINT−COAT IN STRUMENT社製の商品名称K303PROOFER)を用いて塗工し、その後、オーブン中、200℃の条件下で60分間熱処理して基材フィルムに有機防湿膜(厚さ0.7μm)とが積層された有機防湿膜積層体を2枚得た。そして、前記有機防湿膜積層体の有機防湿膜の表面上にウレタン系接着剤(大日本インキ社製の商品名称ディックドライLX500(主剤)、KW75(硬化剤)の混合剤)を乾燥後の厚さが1.5μmとなるように塗工し、もう1枚の有機防湿膜積層体が接着剤層を介して積層されるように200℃に保ったサーマルプレスローラを用いて圧着せしめ前記のような構成の本発明の防湿性カバーレイフィルムを得た。
Then, before the front surface on Kimoto material film, a bar coater (RK solution A obtained in Production Example 1
Application using PRINT-COAT IN STRUMENT (trade name K303PROFERR), and then heat-treating in an oven at 200 ° C. for 60 minutes to form an organic moisture-proof film (thickness 0.7 μm) on the base film Two organic moisture-proof film laminates were stacked. And the thickness after drying a urethane type adhesive (the product name Dick Dry LX500 (main agent), KW75 (curing agent) made by Dainippon Ink) on the surface of the organic moisture-proof film of the organic moisture-proof film laminate. Was applied by using a thermal press roller that was kept at 200 ° C. so that another organic moisture-proof film laminate was laminated via an adhesive layer. A moisture-proof coverlay film of the present invention having a simple structure was obtained.

次いで、エチレンエチルアクリレート共重合体(エチルアクリレート含有率8%)を溶融せしめて押出ラミネート法により前記防湿性カバーレイフィルムの一方の基材フィルム面上にエチレンエチルアクリレート共重合体を積層せしめた本発明の防湿性カバーレイフィルムを得た。   Then, an ethylene ethyl acrylate copolymer (ethyl acrylate content 8%) is melted and an ethylene ethyl acrylate copolymer is laminated on one base film surface of the moisture-proof coverlay film by an extrusion laminating method. An inventive moisture-proof coverlay film was obtained.

このようにして得られた防湿性カバーレイフィルム中の赤外線吸収スペクトルの面積比α[ピーク面積S1(3700〜2500cm −1 )/ピーク面積S2(1800〜1500cm −1 )]、ピーク比β[ピークA1(1560cm −1 )/ピークA2(1700cm −1 )]、及び水蒸気透過度(WVTR)をそれぞれ前述の方法で測定した。得られた結果を表1に示す。
The area ratio α [peak area S1 (3700 to 2500 cm −1 ) / peak area S2 (1800 to 1500 cm −1 )] of the infrared absorption spectrum in the moisture-proof coverlay film thus obtained, the peak ratio β [Peak A1 (1560 cm −1 ) / Peak A2 (1700 cm −1 )] and water vapor transmission rate (WVTR) were measured by the methods described above. The obtained results are shown in Table 1.

次に、このようにして得られた防湿性カバーレイフィルム2枚と、製造例2で得られたフレキシブルプリント配線基板(FPWB)とを用い、前記防湿性カバーレイフィルムの接着剤層の面が共にFPWB側となるようにFPWBの両面を挟んで積層せしめ、200℃に保ったサーマルプレスローラ間を通過させて本発明のフレキシブルプリント配線基板を得た。   Next, using the two moisture-proof coverlay films thus obtained and the flexible printed wiring board (FPWB) obtained in Production Example 2, the surface of the adhesive layer of the moisture-proof coverlay film is The both sides of the FPWB were laminated so as to be on the FPWB side, and passed between thermal press rollers maintained at 200 ° C. to obtain the flexible printed wiring board of the present invention.

このようにして得られたフレキシブルプリント配線基板について、負極端子の塩基性、基材フィルム等の状態、配線の剥離、及び配線の短絡について、それぞれ前述のようにして測定した。結果は以下の通りである。   With respect to the flexible printed wiring board thus obtained, the basicity of the negative electrode terminal, the state of the base film, the peeling of the wiring, and the short circuit of the wiring were measured as described above. The results are as follows.

このような塩基性の測定においては、PH値が7であり通電前と同じ水準であることが確認された。また、前記基材フィルム等の状態の測定においては、基材フィルム及びフレキシブルプリント配線基板の基材に用いられているポリイミドフィルムは共に溶けたり穴が開いたりすることも無く、パイ生地状の凹凸が生じることも無かった。さらに、このようにして得られた本発明のフレキシブルプリント配線基板においては、配線の剥離も生じていなかった。また、このようにして得られた本発明のフレキシブルプリント配線基板においては、ウィスカの成長が抑えられており配線の短絡も生じていなかった。   In such basic measurement, it was confirmed that the PH value was 7, which was the same level as before energization. In the measurement of the state of the base film and the like, the polyimide film used for the base film and the base of the flexible printed wiring board is not melted or perforated, and the pie dough-like unevenness Did not occur. Furthermore, in the flexible printed wiring board of the present invention obtained in this way, no wiring peeling occurred. Moreover, in the flexible printed wiring board of the present invention thus obtained, whisker growth was suppressed and no short circuit of the wiring occurred.

(比較例1)
ポリエステルテレフタレートフィルム(基材フィルム(厚さ50μm))/接着層(厚さ70μm)の順に積層された比較としての防湿性カバーレイフィルムを製造した。
(Comparative Example 1)
A moisture-proof cover lay film as a comparison was laminated in the order of polyester terephthalate film (base film (thickness 50 μm)) / adhesive layer (thickness 70 μm).

すなわち、基材フィルムとして延伸ポリエチレンテレフタレートフィルム(PETフィルム:東レ製の商品名称ルミラーS10、厚さ50μm)を用い、かかる基材フィルムの上に、エチレンエチルアクリレート共重合体(エチルアクリレート含有率8%)を溶融して押出ラミネート法により積層せしめて、基材フィルム面上にエチレンエチルアクリレート共重合体からなる接着層を積層させた比較としての防湿性カバーレイフィルムを得た。   That is, a stretched polyethylene terephthalate film (PET film: product name Lumirror S10 manufactured by Toray, thickness 50 μm) is used as a base film, and an ethylene ethyl acrylate copolymer (ethyl acrylate content 8%) is formed on the base film. ) Was melted and laminated by an extrusion laminating method to obtain a moisture-proof coverlay film as a comparison in which an adhesive layer made of an ethylene ethyl acrylate copolymer was laminated on the base film surface.

このようにして得られた防湿性カバーレイフィルムの水蒸気透過度(WVTR)を前述の方法で測定した。得られた結果を表1に示す。   The water vapor transmission rate (WVTR) of the moisture-proof coverlay film thus obtained was measured by the method described above. The obtained results are shown in Table 1.

このようにして得られた防湿性カバーレイフィルム2枚と、製造例2で得られたフレキシブルプリント配線基板(FPWB)とを用い、前記防湿性カバーレイフィルムの接着層の面が共にFPWB側となるようにFPWBの両面を挟んで積層せしめ、200℃に保ったサーマルプレスローラ間を通過させて比較としてのフレキシブルプリント配線基板を得た。   Using the two moisture-proof cover lay films thus obtained and the flexible printed wiring board (FPWB) obtained in Production Example 2, both the surfaces of the adhesive layer of the moisture-proof cover lay film are on the FPWB side. The FPWB was laminated so that both sides were sandwiched and passed between thermal press rollers maintained at 200 ° C. to obtain a flexible printed wiring board for comparison.

このようにして得られたフレキシブルプリント配線基板について、負極端子の塩基性、基材フィルム等の状態及び配線の剥離について、それぞれ前述のようにして測定した。結果は以下の通りである。   The flexible printed wiring board thus obtained was measured for the basicity of the negative electrode terminal, the state of the base film, etc. and the peeling of the wiring as described above. The results are as follows.

このような負極端子の塩基性の測定において、PH値が12であり通電前よりも塩基性となっていた。また、前記基材フィルム等の状態は、基材フィルムに用いられているPETフィルムが溶け、更には配線基板に用いられている基材にも穴が開いていた。さらに、配線の剥離を測定すると、配線の剥離が一部に生じていることが確認された。   In the measurement of the basicity of such a negative electrode terminal, the PH value was 12, which was more basic than before energization. Further, the state of the base film and the like was such that the PET film used for the base film was melted, and further, the base material used for the wiring board was perforated. Furthermore, when the peeling of the wiring was measured, it was confirmed that the peeling of the wiring occurred in part.

(比較例2)
ポリエステルテレフタレートフィルム(基材フィルム(厚さ50μm))/接着剤層(厚さ1.5μm)/ポリエステルテレフタレートフィルム(基材フィルム(厚さ50μm))/接着層の順に積層された比較としての防湿性カバーレイフィルムを製造した。
(Comparative Example 2)
Moisture resistance as a comparison, laminated in the order of polyester terephthalate film (base film (thickness 50 μm)) / adhesive layer (thickness 1.5 μm) / polyester terephthalate film (base film (thickness 50 μm)) / adhesive layer A protective coverlay film was produced.

すなわち、基材フィルムとして2枚の延伸ポリエチレンテレフタレートフィルム(PETフィルム:東レ製の商品名称ルミラーS10、厚さ50μm)を用い、1枚の基材フィルムの表面上にウレタン系接着剤(大日本インキ社製の商品名称ディックドライLX500(主剤)、KW75(硬化剤)の混合剤)を乾燥後の厚さが1.5μmとなるように塗工し、前記基材フィルムにもう1枚の基材フィルムが接着剤層を介して積層されるように200℃に保ったサーマルプレスローラを用いて圧着せしめ積層フィルムを得た。その後、エチレンエチルアクリレート共重合体(エチルアクリレート含有率8%)を溶融せしめて押出ラミネート法により前記積層フィルムの一方の基材フィルムの表面上にエチレンエチルアクリレート共重合体を積層せしめ接着層を更に積層せしめた比較としての防湿性カバーレイフィルムを得た。
That is, two stretched polyethylene terephthalate films (PET film: product name Lumirror S10 manufactured by Toray Industries Inc., thickness 50 μm) are used as a base film, and a urethane adhesive (Dainippon Ink Co., Ltd.) is used on the surface of one base film. The product name Dick Dry LX500 (main agent), KW75 (curing agent) mixture manufactured by the company was applied so that the thickness after drying was 1.5 μm, and another base material was applied to the base film. A laminated film was obtained by pressure bonding using a thermal press roller maintained at 200 ° C. so that the film was laminated through the adhesive layer. Thereafter, an ethylene ethyl acrylate copolymer (ethyl acrylate content 8%) is melted, and an ethylene ethyl acrylate copolymer is laminated on the surface of one of the base films of the laminated film by an extrusion laminating method. A comparative moisture-proof coverlay film was obtained.

このようにして得られた防湿性カバーレイフィルムの水蒸気透過度(WVTR)を前述の方法で測定した。得られた結果を表1に示す。   The water vapor transmission rate (WVTR) of the moisture-proof coverlay film thus obtained was measured by the method described above. The obtained results are shown in Table 1.

次に、このようにして得られた防湿性カバーレイフィルム2枚と、製造例2で得られたフレキシブルプリント配線基板(FPWB)とを用い、前記防湿性カバーレイフィルムの接着剤層の面が共にFPWB側となるようにFPWBの両面を挟んで積層せしめ、200℃に保ったサーマルプレスローラ間を通過させて比較としてのフレキシブルプリント配線基板を得た。   Next, using the two moisture-proof coverlay films thus obtained and the flexible printed wiring board (FPWB) obtained in Production Example 2, the surface of the adhesive layer of the moisture-proof coverlay film is The both sides of the FPWB were laminated so as to be on the FPWB side, and passed between thermal press rollers maintained at 200 ° C. to obtain a flexible printed wiring board for comparison.

このようにして得られたフレキシブルプリント配線基板について、負極端子の塩基性、基材フィルム等の状態、及び配線の剥離について、それぞれ前述のようにして測定した。結果は以下の通りである。   The flexible printed wiring board thus obtained was measured as described above for the basicity of the negative electrode terminal, the state of the base film, and the peeling of the wiring. The results are as follows.

このような負極端子の塩基性の測定において、PH値が12であり通電前よりも塩基性となっていた。また、前記基材フィルム等の状態は、基材フィルムに用いられているPETフィルムが溶け、更には配線基板に用いられている基材にも穴が開いていた。さらに、配線の剥離を測定すると、配線の剥離が一部に生じていることが確認された。   In the measurement of the basicity of such a negative electrode terminal, the PH value was 12, which was more basic than before energization. Further, the state of the base film and the like was such that the PET film used for the base film was melted, and further, the base material used for the wiring board was perforated. Furthermore, when the peeling of the wiring was measured, it was confirmed that the peeling of the wiring occurred in part.

Figure 0004690728
Figure 0004690728

このような表1に示す結果及び負極端子の塩基性、基材フィルム等の状態及び配線の剥離についての測定結果からも明らかなように、本発明の防湿性カバーレイフィルムは、水蒸気透過度が低く高い防湿性を有することが確認された。さらに、本発明のフレキシブルプリント配線基板は長期間に亘り、配線の剥離も無く安定して使用できることが確認された。   As is clear from the results shown in Table 1 and the measurement results of the basicity of the negative electrode terminal, the state of the base film, etc., and the peeling of the wiring, the moisture-proof coverlay film of the present invention has a water vapor permeability. It was confirmed to have a low and high moisture resistance. Furthermore, it was confirmed that the flexible printed wiring board of the present invention can be used stably for a long period of time without peeling of the wiring.

以上説明したように、本発明によれば、水蒸気透過度が非常に小さく高水準の防湿性を長期に亘り安定して発揮することが可能なカバーレイフィルムであって、フレキシブルプリント配線基板を被覆した場合に水蒸気によって配線基板上の負端子側が塩基性となること及び配線の剥離が生じることを防止することが可能な防湿性カバーレイフィルム、並びに、それを用いたフレキシブルプリント配線基板を提供することが可能となる。   As described above, according to the present invention, a coverlay film having a very low water vapor permeability and capable of stably exhibiting a high level of moisture resistance over a long period of time, which covers a flexible printed wiring board A moisture-proof coverlay film capable of preventing the negative terminal side on the wiring board from becoming basic due to water vapor and peeling of the wiring, and a flexible printed wiring board using the same are provided. It becomes possible.

したがって、本発明の防湿性カバーレイフィルムは、特に防湿性に優れるため、フレキシブルプリント配線基板を被覆して回路を保護する用途に有用な防湿性カバーレイフィルムである。   Therefore, since the moisture-proof coverlay film of the present invention is particularly excellent in moisture-proof properties, it is a moisture-proof coverlay film that is useful for applications that cover a flexible printed wiring board to protect a circuit.

防湿性カバーレイフィルム(ロ)を製造するための装置の一実施形態を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows one Embodiment of the apparatus for manufacturing a moisture-proof cover-lay film (b). 本発明のフレキシブルプリント配線基板の先端部付近の一実施形態を拡大して示す概略斜視図である。It is a schematic perspective view which expands and shows one Embodiment near the front-end | tip part of the flexible printed wiring board of this invention. 有機防湿膜の表面からの距離と有機防湿膜中の元素の組成分布の関係を示すグラフである。It is a graph which shows the relationship between the distance from the surface of an organic moisture-proof film, and the composition distribution of the element in an organic moisture-proof film. オージェ電子スペクトル分析による亜鉛の結合エネルギーとオージェ電子の放出量に正相関する強度との関係を示すグラフである。It is a graph which shows the relationship between the binding energy of zinc by Auger electron spectrum analysis, and the intensity | strength positively correlated with the emitted amount of Auger electrons.

符号の説明Explanation of symbols

1…繰出し装置、2…基材フィルムロール、3…基材フィルム、4…コロナ放電システム、5…グラビアロール、6…溶液、7…第一の乾燥炉、8…ラミネート装置、9…加熱ロール、10…第二の乾燥炉、11…アキュームレー、12…巻取り装置、13…防湿性カバーレイフィルムロール、20…基板本体、21…接続端子、22…防湿性カバーレイフィルム、23…陽極配線、24…陰極配線、25…陽極端子、26…陰極端子
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Feeding apparatus, 2 ... Base film roll, 3 ... Base film, 4 ... Corona discharge system, 5 ... Gravure roll, 6 ... Solution, 7 ... First drying furnace, 8 ... Laminating apparatus, 9 ... Heating roll DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 ... 2nd drying furnace, 11 ... Accumulation, 12 ... Winding device, 13 ... Moisture-proof coverlay film roll, 20 ... Substrate body, 21 ... Connection terminal, 22 ... Moisture-proof coverlay film, 23 ... Anode Wiring 24 ... Cathode wiring 25 ... Anode terminal 26 ... Cathode terminal

Claims (7)

ポリイミドフィルムからなる基材フィルムと、該基材フィルムの一方の面に積層されている有機防湿膜とを備える防湿性カバーレイフィルムであって、前記有機防湿膜が、
ポリカルボン酸系重合体(A)の多価金属塩を少なくとも含み、赤外線吸収スペクトルの面積比α[ピーク面積S1(3700〜2500cm −1 )/ピーク面積S2(1800〜1500cm −1 )]が2.5以下であり、且つ赤外線吸収スペクトルのピーク比β[ピークA1(1560cm −1 )/ピークA2(1700cm −1 )]が1.2以上としてなる、
ことを特徴とする防湿性カバーレイフィルム。
A moisture-proof coverlay film comprising a base film made of a polyimide film and an organic moisture-proof film laminated on one surface of the base film, wherein the organic moisture-proof film is
It contains at least a polyvalent metal salt of the polycarboxylic acid polymer (A) and has an infrared absorption spectrum area ratio α [peak area S1 (3700 to 2500 cm −1 ) / peak area S2 (1800 to 1500 cm −1 )]. Is 2.5 or less, and the peak ratio β [peak A1 (1560 cm −1 ) / peak A2 (1700 cm −1 )] of the infrared absorption spectrum is 1.2 or more.
A moisture-proof coverlay film.
前記基材フィルムの一方の面に更にもう1枚の前記有機防湿膜が積層されており、2枚の前記有機防湿膜同士が直接的に対向して密着されていることを特徴とする請求項1に記載の防湿性カバーレイフィルム。   The other organic moisture barrier film is further laminated on one surface of the base film, and the two organic moisture barrier films are directly opposed to each other and are in close contact with each other. 2. A moisture-proof cover lay film according to 1. 前記基材フィルムの一方の面に更にもう1枚の前記有機防湿膜が積層されており、2枚の前記有機防湿膜同士が接着層を介して積層されていることを特徴とする請求項1に記載の防湿性カバーレイフィルム。   2. The organic vapor barrier film of another sheet is further laminated on one surface of the base film, and the two organic vapor barrier films are laminated through an adhesive layer. The moisture-proof coverlay film as described in 1. 前記有機防湿膜中の前記ポリカルボン酸系重合体(A)の多価金属塩に構成成分として含有される多価金属が、亜鉛、ジルコニウム、銅及びニッケルからなる群から選択される少なくとも一種の金属であることを特徴とする請求項1〜3のうちのいずれか一項に記載の防湿性カバーレイフィルム。   The polyvalent metal contained as a constituent in the polyvalent metal salt of the polycarboxylic acid polymer (A) in the organic moisture-proof film is at least one selected from the group consisting of zinc, zirconium, copper and nickel. The moisture-proof coverlay film according to any one of claims 1 to 3, wherein the moisture-proof coverlay film is a metal. 前記有機防湿膜中の前記ポリカルボン酸系重合体(A)の多価金属塩に構成成分として含有される多価金属が亜鉛であり、且つ亜鉛のオージェ電子スペクトル分析による結合エネルギーが496〜498eVの間に少なくとも一つのピークを有することを特徴とする請求項1〜4のうちのいずれか一項に記載の防湿性カバーレイフィルム。   The polyvalent metal contained in the polyvalent metal salt of the polycarboxylic acid polymer (A) in the organic moisture-proof film is zinc, and the binding energy of zinc by Auger electron spectrum analysis is 496 to 498 eV. The moisture-proof coverlay film according to any one of claims 1 to 4, wherein the moisture-proof coverlay film has at least one peak. 前記基材フィルムの他方の面に積層されている接着剤層を更に備えることを特徴とする請求項1〜5のうちのいずれか一項に記載の防湿性カバーレイフィルム。   The moisture-proof coverlay film according to any one of claims 1 to 5, further comprising an adhesive layer laminated on the other surface of the base film. 請求項1〜6のうちのいずれか一項に記載の防湿性カバーレイフィルムで被覆されていることを特徴とするフレキシブルプリント配線基板。   A flexible printed wiring board, which is covered with the moisture-proof coverlay film according to any one of claims 1 to 6.
JP2005006994A 2005-01-14 2005-01-14 Moisture-proof coverlay film and flexible printed wiring board using the same Expired - Fee Related JP4690728B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005006994A JP4690728B2 (en) 2005-01-14 2005-01-14 Moisture-proof coverlay film and flexible printed wiring board using the same

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005006994A JP4690728B2 (en) 2005-01-14 2005-01-14 Moisture-proof coverlay film and flexible printed wiring board using the same

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2006196718A JP2006196718A (en) 2006-07-27
JP4690728B2 true JP4690728B2 (en) 2011-06-01

Family

ID=36802542

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2005006994A Expired - Fee Related JP4690728B2 (en) 2005-01-14 2005-01-14 Moisture-proof coverlay film and flexible printed wiring board using the same

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4690728B2 (en)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN112165788B (en) * 2020-09-28 2024-02-06 高德(苏州)电子有限公司 Manufacturing method of waterproof PCB

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH06504688A (en) * 1990-10-24 1994-06-02 ダンロップ スラゼンガー コーポレーション High performance one piece golf ball
JP2002069270A (en) * 2000-01-11 2002-03-08 Nippon Kayaku Co Ltd Flame-retardant halogen-free epoxy resin composition and use thereof
JP2002299802A (en) * 2001-04-03 2002-10-11 Matsushita Electric Ind Co Ltd Flexible printed wiring board and its manufacturing method
JP2003174247A (en) * 2001-09-28 2003-06-20 Ube Ind Ltd Cover-laid film, and circuit board using the film
WO2003091317A1 (en) * 2002-04-23 2003-11-06 Kureha Chemical Industry Company, Limited Film and process for producing the same
JP2004339279A (en) * 2003-05-13 2004-12-02 Mitsui Chemicals Inc Resin composition and flexible printed wiring board

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3805497B2 (en) * 1996-09-06 2006-08-02 株式会社クレハ Retort packaging container and package, and retort method
JP3801319B2 (en) * 1996-12-27 2006-07-26 株式会社クレハ Resin composition and gas barrier film comprising the same

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH06504688A (en) * 1990-10-24 1994-06-02 ダンロップ スラゼンガー コーポレーション High performance one piece golf ball
JP2002069270A (en) * 2000-01-11 2002-03-08 Nippon Kayaku Co Ltd Flame-retardant halogen-free epoxy resin composition and use thereof
JP2002299802A (en) * 2001-04-03 2002-10-11 Matsushita Electric Ind Co Ltd Flexible printed wiring board and its manufacturing method
JP2003174247A (en) * 2001-09-28 2003-06-20 Ube Ind Ltd Cover-laid film, and circuit board using the film
WO2003091317A1 (en) * 2002-04-23 2003-11-06 Kureha Chemical Industry Company, Limited Film and process for producing the same
JP2004339279A (en) * 2003-05-13 2004-12-02 Mitsui Chemicals Inc Resin composition and flexible printed wiring board

Also Published As

Publication number Publication date
JP2006196718A (en) 2006-07-27

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPWO2006057177A1 (en) Laminated film for moisture-proof film and method for producing the same
JP6048193B2 (en) Resin composition
KR101605449B1 (en) Copper foil with adhesive layer, copper-clad laminate and printed wiring board
JP5298446B2 (en) Gas barrier molded article, coating liquid and method for producing gas barrier molded article using coating liquid
JP4850309B2 (en) Protective film for electronic parts, its production method and use
JP6545924B2 (en) Roughened hardened body, laminate, printed wiring board and semiconductor device
JP6136330B2 (en) Thin film resin composition, thin film, laminated sheet and multilayer printed wiring board
JP2016084413A (en) Resin composition
JP6085919B2 (en) Film with ultra-thin copper layer, adhesive film with ultra-thin copper layer, manufacturing method thereof, copper-clad laminate, and wiring board
JPWO2020090607A1 (en) Dispersion
WO2020158604A1 (en) Laminate, method for producing same, method for producing composite laminate, and method for producing polymer film
JPWO2007020794A1 (en) Gas barrier film and method for producing the same
JP4619133B2 (en) Moisture-proof coverlay film and flexible printed wiring board using the same
JP4690728B2 (en) Moisture-proof coverlay film and flexible printed wiring board using the same
JP6398824B2 (en) Resin sheet
JP5797883B2 (en) PCB for printed wiring board
JP6217832B2 (en) Resin composition
JP2019073603A (en) Resin composition layer
JP4385693B2 (en) Laminated body and method for producing the same
WO2019181616A1 (en) Functional member
JP6225422B2 (en) Cured body, manufacturing method of cured body, laminate, printed wiring board, and semiconductor device
JP2011178031A (en) Film-like molding and laminate
JP6232747B2 (en) Manufacturing method of multilayer printed wiring board
JP5515212B2 (en) Wet etching resist ink, metal layer pattern forming method, and circuit board manufacturing method.
JP2020044732A (en) Gas barrier film and laminate

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20071128

RD02 Notification of acceptance of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422

Effective date: 20071128

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20100510

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20100701

RD02 Notification of acceptance of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422

Effective date: 20100701

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20101015

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20101126

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20110126

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20110218

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 4690728

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140225

Year of fee payment: 3

S111 Request for change of ownership or part of ownership

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313113

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140225

Year of fee payment: 3

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees