JP4666569B2 - Manufacturing method of laser processed product and laser processing adhesive sheet used therefor - Google Patents

Manufacturing method of laser processed product and laser processing adhesive sheet used therefor Download PDF

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本発明は、例えば各種シート材料、回路基板、半導体ウエハ、ガラス基板、セラミック基板、金属基板、半導体レーザー等の発光あるいは受光素子基板、MEMS基板、半導体パッケージ、布、皮、紙などの被加工物を、レーザーを用いて例えば切断、孔あけなどの加工を行うレーザー加工品の製造方法、およびそれに用いるレーザー加工用粘着シートに関する。   The present invention includes workpieces such as various sheet materials, circuit substrates, semiconductor wafers, glass substrates, ceramic substrates, metal substrates, light emitting or receiving element substrates such as semiconductor lasers, MEMS substrates, semiconductor packages, cloth, leather, and paper. The present invention relates to a method for producing a laser-processed product in which, for example, cutting or drilling is performed using a laser, and a pressure-sensitive adhesive sheet for laser processing used therefor.

最近の電気・電子機器の小型化等に伴い、部品の小型化・高精細化が進み、各種材料の外形加工も、加工精度が±50μmあるいはそれ以下の高精細・高精度化が求められてきている。しかしながら、従来のプレス加工等の打ち抜き加工では精度がせいぜい±100μm程度で、そのような要求には対応できなくなってきているのが現状である。また、各種材料の孔あけも、高精細・高精度化が求められており、従来のドリルや金型による孔あけでは対応が不可能となってきている。   With the recent miniaturization of electrical and electronic equipment, the miniaturization of parts and high definition have progressed, and the outline processing of various materials has been required to have high precision and high accuracy with processing accuracy of ± 50 μm or less. ing. However, the conventional punching process such as press working has an accuracy of about ± 100 μm at the most, and is currently unable to meet such a requirement. Also, high-definition and high-precision are required for drilling various materials, and it has become impossible to perform drilling with conventional drills or dies.

近年、その解決方法としてレーザー光を用いた各種材料の加工方法が注目されている。特に、熱ダメージが少なく、高精細の加工が可能であるレーザー光の紫外吸収アブレーションによる加工方法は、精密な外形加工方法や微細孔あけ方法として注目されている。   In recent years, various methods for processing various materials using laser light have attracted attention as a solution. In particular, a processing method by ultraviolet absorption ablation of laser light, which has low thermal damage and enables high-definition processing, has attracted attention as a precise outer shape processing method and a fine drilling method.

ところがレーザー光を用いた場合、レーザー加工時に被加工物、粘着テープ、又は吸着板から発生するカーボン等の分解物が被加工物の表面に付着するという問題がある。この為、分解物を除去するデスミアと呼ばれる後処理が必要となる。しかし、例えば過マンガン酸カリウム水溶液等によるウェットデスミア等を行った場合には、その廃液処理などにより環境汚染の増大といった問題も発生する。   However, when laser light is used, there is a problem that decomposition products such as carbon generated from the workpiece, the adhesive tape, or the suction plate adhere to the surface of the workpiece during laser processing. For this reason, post-processing called desmear for removing decomposition products is required. However, when wet desmear or the like is performed using, for example, a potassium permanganate aqueous solution or the like, there is a problem that environmental pollution increases due to the waste liquid treatment or the like.

また、分解物の付着強度は、レーザー光のパワーに比例して強固となる。この為、レーザー光のパワーを高くしてレーザー加工を行った場合には、前記後処理での分解物の除去が困難な傾向にある。   Moreover, the adhesion strength of the decomposition product becomes stronger in proportion to the power of the laser beam. For this reason, when laser processing is performed with the laser beam power increased, it is difficult to remove decomposition products in the post-treatment.

また、被加工物の所定の領域を一度に切断加工してしまうと、加工直後に加工物(切断片)が脱落してしまうため、ハンドリング性に難がある。この為、加工時に未加工の部分を一部残すという手法が取られている。   In addition, if a predetermined region of the workpiece is cut at a time, the workpiece (cut piece) is dropped immediately after the processing, which is difficult to handle. For this reason, the technique of leaving a part of an unprocessed part at the time of a process is taken.

前記レーザー加工の具体例として、例えば下記特許文献1に記載されている半導体ウェハのダイシング方法が開示されている。当該方法は、被加工物をダイシングシートに支持固定して、レーザー光線により被加工物をダイシングするものである。この特許文献1の記載によれば、ダイシングシートは、支持シートを含む基材と、前記基材の片面表面に配置される粘着剤層とからなる。さらに、前記粘着剤層はレーザー光線により切断可能であり、前記支持シートはレーザー光線により切断不可能な構成となっている。   As a specific example of the laser processing, for example, a semiconductor wafer dicing method described in Patent Document 1 below is disclosed. In this method, a workpiece is supported and fixed on a dicing sheet, and the workpiece is diced with a laser beam. According to the description of Patent Document 1, the dicing sheet includes a base material including a support sheet and an adhesive layer disposed on one surface of the base material. Further, the pressure-sensitive adhesive layer can be cut by a laser beam, and the support sheet has a configuration that cannot be cut by a laser beam.

下記特許文献1に記載のダイシングシートを使用した場合、粘着剤層は使用されるYAGレーザーの基本波(波長1064nm)やルビーレーザー(波長694nm)のレーザー光により熱加工的に切断される。この為、ダイシングシートと被加工物との界面に粘着剤層の分解物が侵入してその界面部分で強固に付着する恐れがある。その結果、レーザー加工後に被加工物からダイシングシートを剥離することが困難になる。また、後処理をしても付着物を完全に除去することが困難となる。さらに、加工が熱加工プロセスを経由するので、エッジ部分の熱的なダメージが大きい。この為、加工精度の低下を招来し、それに伴い信頼性も低下する。   When the dicing sheet described in Patent Document 1 below is used, the pressure-sensitive adhesive layer is cut by thermal processing with the laser beam of the fundamental wave (wavelength 1064 nm) or ruby laser (wavelength 694 nm) of the YAG laser used. For this reason, the decomposition product of the pressure-sensitive adhesive layer may enter the interface between the dicing sheet and the workpiece and adhere firmly at the interface portion. As a result, it becomes difficult to peel the dicing sheet from the workpiece after laser processing. In addition, it is difficult to completely remove the deposits even after the post-treatment. Further, since the processing goes through the thermal processing process, the thermal damage of the edge portion is large. For this reason, the processing accuracy is lowered, and the reliability is also lowered accordingly.

また、YAGレーザーの基本波とウォーターマイクロジェットとを併用するレーザー加工の方法も提案されている(下記、特許文献2参照)。この特許文献2には、レーザーダイシング用粘着テープとして、基材の片面上に、非放射線硬化型粘着剤層及び放射線硬化型粘着剤層を有してなり、基材がウォータージェットのジェット水流を透過しうるものであり、かつ、非放射線硬化型粘着剤層が基材と放射線硬化型粘着剤層の間に設けられたものが開示されている。   In addition, a laser processing method using both a fundamental wave of a YAG laser and a water microjet has been proposed (see Patent Document 2 below). In this patent document 2, as a laser dicing adhesive tape, a non-radiation curable adhesive layer and a radiation curable adhesive layer are provided on one side of a substrate, and the substrate is a jet of water jet. It is disclosed that it is transmissive and a non-radiation curable pressure-sensitive adhesive layer is provided between the substrate and the radiation curable pressure-sensitive adhesive layer.

この粘着テープをウォーターマイクロジェットとレーザーを組み合わせて半導体ウエハをダイシングする方法に使用した場合には、粘着テープの熱的ダメージはウォータージェットの冷却効果により低減される。この為、レーザー照射による熱によって粘着剤層や基材が溶融や分解することを抑制できると考えられる。しかし、該粘着テープをレーザーのみを用いて半導体ウエハをダイシングする方法に使用した場合には、レーザー照射による熱によって粘着剤層や基材が溶融したり、粘着シートと半導体ウエハの界面に粘着剤層や基材の分解物が侵入してその界面部分で強固に付着し、前記と同様の問題が起こる恐れがある。また、ウォーターマイクロジェットを使用した場合、ダイシング時の切断幅を小さくするのには限界がある。切断幅がウォータージェットの径により規定されるからである。よって、半導体チップの製造効率は劣る。
特開2002−343747号公報 特開2003−34780号公報
When this adhesive tape is used in a method of dicing a semiconductor wafer by combining a water microjet and a laser, the thermal damage of the adhesive tape is reduced by the cooling effect of the water jet. For this reason, it is thought that it can suppress that an adhesive layer and a base material melt | dissolve and decompose by the heat | fever by laser irradiation. However, when the adhesive tape is used in a method of dicing a semiconductor wafer using only a laser, the adhesive layer or the substrate is melted by the heat of laser irradiation, or the adhesive is bonded to the interface between the adhesive sheet and the semiconductor wafer. The decomposition product of the layer or the base material may invade and adhere firmly at the interface portion, which may cause the same problem as described above. Further, when a water microjet is used, there is a limit to reducing the cutting width during dicing. This is because the cutting width is defined by the diameter of the water jet. Therefore, the manufacturing efficiency of the semiconductor chip is inferior.
JP 2002-343747 A JP 2003-34780 A

本発明は、前記従来の問題点に鑑みなされたものであり、その目的は、レーザー光のアブレーションにより被加工物を加工する場合に、分解物による被加工物表面の汚染を効果的に抑制して、生産効率よくかつ容易にレーザー加工品を製造する方法を提供することにある。また、前記レーザー加工品の製造方法に使用するレーザー加工用粘着シートを提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of the above-mentioned conventional problems, and its purpose is to effectively suppress contamination of the surface of the workpiece by the decomposition product when processing the workpiece by laser beam ablation. Thus, an object of the present invention is to provide a method for producing a laser processed product with high production efficiency and easily. Moreover, it aims at providing the adhesive sheet for laser processing used for the manufacturing method of the said laser processed product.

本願発明者等は、前記従来の問題点を解決すべく、レーザー加工品の製造方法、およびレーザー加工用粘着シートについて鋭意検討した。その結果、レーザー加工用粘着シートの密度という物理的性質に着目し、以下の構成とすることにより前記の目的を達成できることを見出して、本発明を完成させるに至った。   In order to solve the above-described conventional problems, the inventors of the present application have made extensive studies on a method for producing a laser-processed product and a pressure-sensitive adhesive sheet for laser processing. As a result, paying attention to the physical property of the density of the pressure-sensitive adhesive sheet for laser processing, it was found that the above-described object can be achieved by the following constitution, and the present invention has been completed.

即ち、本発明に係るレーザー加工品の製造方法は、被加工物のレーザー光出射面側にレーザー加工用粘着シートを貼り合わせ、波長が紫外域のレーザー光を被加工物に照射し、該被加工物をアブレーションにより加工するレーザー加工品の製造方法であって、前記レーザー加工用粘着シートとして、基材上に少なくとも粘着剤層が設けられたものであって、下記式で表される密度の比が0.8未満であるものを使用し、前記被加工物のレーザー光出射面側に該粘着剤層を介してレーザー加工用粘着シートを貼り合わせる工程と、前記被加工物がアブレーションを引き起こす閾値の照射強度以上であって、該被加工物に貫通孔が形成される照射強度の2倍以内のレーザー光を照射して、該被加工物を加工する工程と、前記レーザー加工用粘着シートを加工後の前記被加工物から剥離する工程とを含むことを特徴とする。尚、本発明に於ける密度とは、単位体積当たりの質量密度を意味する。 That is, in the method for producing a laser processed product according to the present invention, a laser processing pressure-sensitive adhesive sheet is bonded to the laser beam emitting surface side of the workpiece, and the workpiece is irradiated with laser light having a wavelength in the ultraviolet region. A method of manufacturing a laser processed product for processing a workpiece by ablation, wherein the pressure-sensitive adhesive sheet for laser processing is provided with at least an adhesive layer on a substrate, and has a density represented by the following formula: use a ratio is less than 0.8, the step of bonding the pressure-sensitive adhesive sheet for laser processing via a pressure-sensitive adhesive layer to the laser beam exit plane side of the workpiece, the workpiece causes ablation A process of processing the workpiece by irradiating the workpiece with a laser beam that is equal to or higher than a threshold irradiation intensity and within twice the irradiation intensity at which a through hole is formed on the workpiece; Wherein the door after processing, characterized in that it comprises a step of peeling from the workpiece. In addition, the density in this invention means the mass density per unit volume.

Figure 0004666569
前記被加工物としては、シート材料、回路基板、半導体ウエハ、ガラス基板、セラミック基板、金属基板、半導体レーザーの発光若しくは受光素子基板、MEMS基板、または半導体パッケージを使用することができる。
Figure 0004666569
As the workpiece, a sheet material, a circuit board, a semiconductor wafer, a glass substrate, a ceramic substrate, a metal substrate, a semiconductor laser light emitting or receiving element substrate, a MEMS substrate, or a semiconductor package can be used.

また、本発明に係るレーザー加工品の製造方法は、被加工物のレーザー光出射面側にレーザー加工用粘着シートを貼り合わせ、波長が紫外域のレーザー光を金属系材料からなる被加工物に照射し、該被加工物をアブレーションにより加工するレーザー加工品の製造方法であって、前記レーザー加工用粘着シートとして基材上に少なくとも粘着剤層が設けられたものであって、密度が1.1g/cm未満であり、かつ下記式で表される密度の比が0.8未満のものを使用し、前記被加工物のレーザー光出射面側に、該粘着剤層を介してレーザー加工用粘着シートを貼り合わせる工程と、前記被加工物がアブレーションを引き起こす閾値の照射強度以上であって、該被加工物に貫通孔が形成される照射強度の2倍以内のレーザー光を照射して、該被加工物を加工する工程と、前記レーザー加工用粘着シートを加工後の前記被加工物から剥離する工程とを含むことを特徴とする。 A method of manufacturing a laser processed product according to the present invention, attaching a pressure-sensitive adhesive sheet for laser processing to the laser beam exit plane side of the workpiece, the workpiece wavelength of the laser beam in the ultraviolet region of a metallic material A method for producing a laser-processed product, wherein the workpiece is irradiated and processed by ablation, wherein the pressure-sensitive adhesive sheet for laser processing is provided with at least a pressure-sensitive adhesive layer on a substrate, and the density is 1. A laser beam having a density ratio of less than 1 g / cm 3 and a density expressed by the following formula of less than 0.8 is used, and laser processing is performed on the laser beam emitting surface side of the workpiece through the adhesive layer. Irradiating a laser beam that is equal to or higher than the irradiation intensity of a threshold that causes the work piece to ablate, and is less than twice the irradiation intensity at which a through hole is formed in the work piece. , The method includes a step of processing the workpiece, and a step of peeling the laser processing pressure-sensitive adhesive sheet from the workpiece after processing.

Figure 0004666569
前記被加工物としては、半導体ウエハまたは金属基板を使用することができる。
Figure 0004666569
As the workpiece, a semiconductor wafer or a metal substrate can be used.

前記基材として、ポリオレフィン系樹脂を含有してなるものを使用するのが好ましい。   As the substrate, it is preferable to use a material containing a polyolefin resin.

前記被加工物を加工する工程としては、該被加工物を切断又は孔あけをする工程が例示できる。   Examples of the step of processing the workpiece include a step of cutting or punching the workpiece.

本発明に係るレーザー加工用粘着シートは、前記レーザー加工品の製造方法で使用されることを特徴とする。   The pressure-sensitive adhesive sheet for laser processing according to the present invention is used in the method for manufacturing a laser processed product.

本発明に係るレーザー加工品の製造方法は、基材上に少なくとも粘着剤層が設けられたレーザー加工用粘着シート(以下、「粘着シート」と言う)を使用する。この粘着シートは、下記式で表される密度の比が1未満であることを満たす。   The method for producing a laser processed product according to the present invention uses a laser processing pressure-sensitive adhesive sheet (hereinafter referred to as “pressure-sensitive adhesive sheet”) in which at least a pressure-sensitive adhesive layer is provided on a substrate. This pressure-sensitive adhesive sheet satisfies that the density ratio represented by the following formula is less than 1.

Figure 0004666569
密度の比が1未満の粘着シートを使用すると、被加工物と比較して、粘着シートに於けるレーザー光の照射面積当たりのレーザー光が原子に衝突する確率を小さくすることができる。密度が小さいと分子のパッキング性が低いからである。よって、レーザー光を照射しても、粘着シートに於けるレーザー光の光子吸収断面積を、被加工物よりも小さくできる。その結果、粘着シートは被加工物よりも難加工とすることができる。
Figure 0004666569
When the pressure-sensitive adhesive sheet having a density ratio of less than 1 is used, it is possible to reduce the probability that the laser light per the irradiation area of the laser light on the pressure-sensitive adhesive sheet collides with atoms. This is because when the density is low, the packing property of the molecules is low. Therefore, even if it irradiates with a laser beam, the photon absorption cross-sectional area of the laser beam in an adhesive sheet can be made smaller than a to-be-processed object. As a result, the pressure-sensitive adhesive sheet can be made more difficult to process than the workpiece.

よって、前記被加工物に、該被加工物がアブレーションを引き起こす閾値の照射強度以上であって、該被加工物に貫通孔が形成される照射強度の2倍以内のレーザー光を照射した場合、被加工物はレーザー加工されるが粘着シートは加工され難くなる。粘着シートが被加工物よりも難加工であると、粘着シートのアブレーションによる分解物残渣の発生を低減できる。これにより、被加工物と粘着シートの間に分解物残査が付着せず、いわゆる加工裏面が汚染されるのを抑制できる。その結果、生産効率よくかつ容易にレーザー加工品を製造する方法を提供することができる。   Therefore, when the workpiece is irradiated with a laser beam that is equal to or higher than the irradiation intensity of the threshold that causes the workpiece to ablate and is within twice the irradiation intensity at which a through hole is formed in the workpiece, The workpiece is laser processed, but the adhesive sheet is difficult to process. When the pressure-sensitive adhesive sheet is more difficult to process than the workpiece, the generation of decomposition residue due to the ablation of the pressure-sensitive adhesive sheet can be reduced. Thereby, the decomposition residue residue does not adhere between a workpiece and an adhesive sheet, and it can suppress that what is called a processing back surface is contaminated. As a result, it is possible to provide a method for manufacturing a laser-processed product easily and efficiently.

更に、分解物残査の除去の為、例えばウェットデスミアなどの後工程も省略できる。加えて、後工程で生じる廃液処理も不要となり、環境負荷の低減にも寄与できる。また、分解物の付着を低減できることからレーザー光の高パワー化が可能となり、スループットの向上が図れる。   Furthermore, post-process such as wet desmear, for example, can be omitted to remove the decomposition residue. In addition, there is no need for waste liquid treatment that occurs in the post-process, which can contribute to a reduction in environmental burden. In addition, since the adhesion of decomposition products can be reduced, it is possible to increase the power of the laser beam and improve the throughput.

また、波長が紫外域のレーザー光または多光子吸収過程を経由した紫外域の光吸収を可能とするレーザー光を用いるので、例えば被加工物が高分子材料からなる場合には、熱加工プロセスを経由せず、光化学的アブレーションにより加工が可能となる。これにより、エッジ部分の熱的なダメージが無く、切断部や開口部をよりシャープに加工することができ、加工精度及び信頼性の向上が図れる。さらに、赤外域のレーザー光と比較して局所的な集光が可能であり、切りしろを大きく取る必要がない。よって、従来よりも細い切りしろでのダイシング等が可能となる。   In addition, since laser light having a wavelength in the ultraviolet region or laser light that can absorb light in the ultraviolet region via a multiphoton absorption process is used, for example, when the workpiece is made of a polymer material, a thermal processing process is performed. Processing is possible by photochemical ablation without going through. Thereby, there is no thermal damage to the edge portion, the cut portion and the opening can be processed more sharply, and processing accuracy and reliability can be improved. Furthermore, local focusing is possible compared with laser light in the infrared region, and there is no need to make a large margin. Therefore, dicing or the like with a thinner margin than before is possible.

本発明に係るレーザー加工品の製造方法を金属系材料からなる被加工物に適用する場合には、粘着シートとして、その密度が1.1g/cm未満であり、かつ密度の比が1未満のものを使用する。この様な粘着シートを用いてレーザーアブレーションを行うと、該粘着シートは被加工物よりも難加工となる。これにより、粘着シートのアブレーションによる分解物残渣の発生を低減でき、加工裏面が汚染されるのを抑制できる。その結果、生産効率よくかつ容易にレーザー加工品を製造する方法を提供することができる。 When the method for producing a laser processed product according to the present invention is applied to a workpiece made of a metal material, the pressure-sensitive adhesive sheet has a density of less than 1.1 g / cm 3 and a density ratio of less than 1. Use one. When laser ablation is performed using such an adhesive sheet, the adhesive sheet is more difficult to process than the workpiece. Thereby, generation | occurrence | production of the decomposition product residue by ablation of an adhesive sheet can be reduced, and it can suppress that a process back surface is contaminated. As a result, it is possible to provide a method for manufacturing a laser-processed product easily and efficiently.

更に、分解物残査の除去の為の後工程も省略でき、後工程で必要な廃液処理も不要となる。その結果、環境負荷の低減にも寄与できる。また、分解物の付着を低減できることからレーザー光の高パワー化が可能となり、スループットの向上が図れる。   Furthermore, the post-process for removing the decomposition product residue can be omitted, and the waste liquid treatment required in the post-process is not required. As a result, it can contribute to the reduction of environmental load. In addition, since the adhesion of decomposition products can be reduced, it is possible to increase the power of the laser beam and improve the throughput.

また、波長が紫外域のレーザー光または多光子吸収過程を経由した紫外域の光吸収を可能とするレーザー光を用いるので、赤外域のレーザー光と比較して局所的な集光が可能であり、切りしろを大きく取る必要がない。よって、従来よりも細い切りしろでのダイシング等が可能となる。   In addition, since laser light with a wavelength in the ultraviolet region or laser light that can absorb light in the ultraviolet region through a multiphoton absorption process is used, local focusing is possible compared to laser light in the infrared region. It is not necessary to take a large margin. Therefore, dicing or the like with a thinner margin than before is possible.

尚、本発明に係るレーザー加工品の製造方法は、前述の通り、粘着シートとして被加工物を接着固定する粘着剤層を備えるものを使用する。従って、例えば被加工物の所定領域を一度に切断加工してしまう様な場合にも、加工物(切断片)は粘着剤層に接着・固定されている。この為、加工物の脱落を防止でき、ハンドリング性の向上が図れる。更に、一部未加工の部分を残すという脱落防止の手法を採用する必要もない。   In addition, the manufacturing method of the laser processed product which concerns on this invention uses what is equipped with the adhesive layer which adhere | attaches and fixes a to-be-processed object as an adhesive sheet as above-mentioned. Therefore, for example, even when a predetermined region of the workpiece is cut at a time, the workpiece (cut piece) is bonded and fixed to the pressure-sensitive adhesive layer. For this reason, it is possible to prevent the workpiece from falling off and to improve handling properties. Furthermore, it is not necessary to adopt a drop-off prevention method of leaving a partially unprocessed part.

(実施の形態1)
本発明の実施の形態1に係るレーザー加工品の製造方法について、図1〜図4を参照しながら説明する。但し、説明に不要な部分は省略し、また説明を容易にする為に拡大又は縮小等して図示した部分がある。
(Embodiment 1)
A method for manufacturing a laser processed product according to Embodiment 1 of the present invention will be described with reference to FIGS. However, parts that are not necessary for the description are omitted, and there are parts that are illustrated in an enlarged or reduced manner for ease of explanation.

本実施の形態に係るレーザー加工品の製造方法は、基材上に少なくとも粘着剤層が設けられたレーザー加工用粘着シート(以下、「粘着シート」と言う)を使用し、前記被加工物のレーザー光出射面側に該粘着剤層を介して粘着シートを貼り合わせる工程と、前記被加工物に、該被加工物がアブレーションを引き起こす閾値の照射強度以上であって、該被加工物に貫通孔が形成される照射強度の2倍以内のレーザー光を照射して、該被加工物を加工する工程と、前記レーザー加工用粘着シートを加工後の前記被加工物から剥離する工程とを含む。   The method for producing a laser processed product according to the present embodiment uses a laser processing pressure-sensitive adhesive sheet (hereinafter referred to as “pressure-sensitive adhesive sheet”) having at least a pressure-sensitive adhesive layer on a base material, A step of attaching an adhesive sheet to the laser light emitting surface side through the adhesive layer, and the workpiece has an irradiation intensity equal to or higher than a threshold that causes the workpiece to ablate, and penetrates the workpiece. A step of processing the workpiece by irradiating laser light within twice the irradiation intensity at which holes are formed, and a step of peeling the laser processing pressure-sensitive adhesive sheet from the workpiece after processing. .

先ず、本実施の形態で使用する粘着シートについて説明する。粘着シートは、波長が紫外域のレーザー光を用いたアブレーションにより被加工物を加工する際に用いる。その構成は、基材上に少なくとも粘着剤層が設けられたものである(基材及び粘着剤層の詳細については、後述する)。また、粘着シートは、被加工物がアブレーションを引き起こす閾値の照射強度以上であって、該被加工物に貫通孔が形成される照射強度の2倍以内のレーザー光を照射する場合に、下記式で得られる密度の比が1未満となるような物理的性質を有する。   First, the adhesive sheet used in the present embodiment will be described. The pressure-sensitive adhesive sheet is used when a workpiece is processed by ablation using laser light having a wavelength in the ultraviolet region. The configuration is such that at least a pressure-sensitive adhesive layer is provided on the base material (details of the base material and the pressure-sensitive adhesive layer will be described later). In addition, the pressure sensitive adhesive sheet is equal to or higher than the threshold irradiation intensity at which the work piece causes ablation, and is irradiated with a laser beam within twice the irradiation intensity at which the through hole is formed on the work piece. Has a physical property such that the density ratio obtained by 1 is less than 1.

Figure 0004666569
密度の比は、粘着シートと被加工物との両者の加工性の差にとって重要なパラメーターである。その理由は、次の通りである。即ち、一般に、ある固体の密度が小さい場合、分子のパッキング性(即ち、所定の体積当たりの充填率)は低いので、所定の照射面積当たりに於いてレーザー光が原子に衝突する確率は低いことを意味する。一方、例えば光化学的アブレーションの場合、該アブレーションは光子吸収による電子の励起により、分子結合が切断されるものである(例えば、被加工物が高分子材料の場合など)。よって、密度が小さいと光子の吸収断面積が小さくなり、その固体はレーザー光により加工され難いと言える。よって、前記の密度の比が1未満であると、粘着シートは被加工物よりも加工性が低いことを示す。この観点から、本実施の形態に係る粘着シートは、レーザー加工用として有用であると言える。
Figure 0004666569
The density ratio is an important parameter for the difference in processability between the pressure-sensitive adhesive sheet and the workpiece. The reason is as follows. That is, in general, when the density of a certain solid is small, the packing property of molecules (that is, the packing rate per predetermined volume) is low, so the probability that the laser beam will collide with atoms per predetermined irradiation area is low. Means. On the other hand, in the case of photochemical ablation, for example, the ablation is one in which molecular bonds are broken by excitation of electrons by photon absorption (for example, when the workpiece is a polymer material). Therefore, if the density is low, the absorption cross-sectional area of photons becomes small, and it can be said that the solid is difficult to be processed by laser light. Therefore, when the density ratio is less than 1, the pressure-sensitive adhesive sheet has lower workability than the workpiece. From this viewpoint, it can be said that the pressure-sensitive adhesive sheet according to the present embodiment is useful for laser processing.

ここで、密度の比は0.8未満であることがより好ましく、0.6未満であることがさらに好ましい。但し、密度の比が1以上であると、被加工物が加工される前に、粘着シートの切断や孔あけ等が進行する。これにより、粘着シートからの分解物が被加工物と粘着シートの間に発生し、加工裏面を汚染するという問題がある。しかし、本実施の形態に於いては、密度の比が1未満であるので、その様な問題が発生することがない。   Here, the density ratio is more preferably less than 0.8, and even more preferably less than 0.6. However, when the density ratio is 1 or more, cutting or punching of the adhesive sheet proceeds before the workpiece is processed. Thereby, the decomposition product from an adhesive sheet generate | occur | produces between a to-be-processed object and an adhesive sheet, and there exists a problem that the process back surface is contaminated. However, in this embodiment, since the density ratio is less than 1, such a problem does not occur.

次に、前記各工程について説明する。前記粘着シートと被加工物とを貼り合わせる工程は、ロールラミネーター等を用いた従来公知の方法により行うことができる。貼り合わせは、被加工物の加工表面とは反対側の面に粘着剤層を介して行う。   Next, each process will be described. The step of bonding the pressure-sensitive adhesive sheet and the workpiece can be performed by a conventionally known method using a roll laminator or the like. Bonding is performed via a pressure-sensitive adhesive layer on the surface opposite to the processed surface of the workpiece.

前記被加工物を加工する工程は、レーザー光を用いて被加工物をアブレーションによりレーザー加工を行う工程である。本工程では、前記レーザー光として、その波長が紫外域にあるものを使用するのが好ましい。特に、熱加工プロセスを経由しない光化学的アブレーションを引き起こすレーザー光を使用するのがより好ましい。さらに、20μm以下の細い幅に集光して、切断等の加工が可能なレーザー光を用いることが一層好ましい。この様なレーザー光を用いると、レーザー加工時の熱的なダメージによる孔のエッジや切断壁面の精度を向上させ、外見も良くなるからである。   The step of processing the workpiece is a step of performing laser processing on the workpiece by ablation using laser light. In this step, it is preferable to use the laser beam having a wavelength in the ultraviolet region. In particular, it is more preferable to use a laser beam that causes photochemical ablation without going through a thermal processing process. Furthermore, it is more preferable to use a laser beam that can be condensed into a narrow width of 20 μm or less and can be processed such as cutting. This is because the use of such a laser beam improves the accuracy of the edge of the hole and the cut wall surface due to thermal damage during laser processing and improves the appearance.

また、前記レーザー光は、被加工物がアブレーションを引き起こす閾値の照射強度以上であって、該被加工物に貫通孔が形成される照射強度の2倍以内のものを使用するのが好ましい。また、パルスレーザーにより行うのが好ましい。   Further, it is preferable to use a laser beam having a irradiation intensity equal to or higher than a threshold value that causes the workpiece to ablate and within twice the irradiation intensity at which a through hole is formed in the workpiece. Moreover, it is preferable to carry out by a pulse laser.

更に、前記の様なレーザー光としては、400nm以下の紫外吸収によるアブレーションが可能なものが好ましい。具体的には、例えばKrFエキシマレーザー(発振波長248nm)、XeClエキシマレーザー(同308nm)、YAGレーザーの第3高調波(同355nm)若しくは第4高調波(同266nm)、またはYLF(イットリウム・リチウム・フッ化物)若しくはYVO(イットリウム・バナジウム酸塩)等の固体レーザーの第3高調波若しくは第4高調波などの400nm以下に発振波長を持つレーザー光が例示できる。また、400nmを超える波長のレーザーであっても多光子吸収過程を経由した紫外線領域の光吸収が可能であり且つ多光子吸収アブレーションにより20μm以下の幅の切断加工が可能である波長が750nm〜800nm付近のチタンサファイヤレーザー等でパルス幅が1e−9秒(0.000000001秒)以下のレーザー等も好適である。 Further, the laser light as described above is preferably one that can be ablated by ultraviolet absorption of 400 nm or less. Specifically, for example, KrF excimer laser (oscillation wavelength 248 nm), XeCl excimer laser (308 nm), YAG laser third harmonic (355 nm) or fourth harmonic (266 nm), or YLF (yttrium lithium) A laser beam having an oscillation wavelength of 400 nm or less such as the third harmonic or the fourth harmonic of a solid-state laser such as fluoride) or YVO 4 (yttrium vanadate) can be exemplified. In addition, even a laser having a wavelength exceeding 400 nm can absorb light in the ultraviolet region via a multiphoton absorption process, and can be cut to a width of 20 μm or less by multiphoton absorption ablation. A laser having a pulse width of 1e- 9 seconds (0.000000001 seconds) or less, such as a nearby titanium sapphire laser, is also suitable.

尚、YAGレーザーの基本波(波長:1.06μm)やルビーレーザー(波長:694nm)等のレーザー光を使用した場合、これを集光しても、ビーム径は50μm程度までしか絞ることができない。しかし、本実施の形態の様に紫外域のレーザー光を使用した場合には、さらにビーム径を絞ることが可能となる(例えば、20μm程度)。従って、切断の際にも切りしろを大きく取る必要がない。   If a laser beam such as a fundamental wave of YAG laser (wavelength: 1.06 μm) or ruby laser (wavelength: 694 nm) is used, the beam diameter can only be reduced to about 50 μm even if it is condensed. . However, when ultraviolet laser light is used as in the present embodiment, the beam diameter can be further reduced (for example, about 20 μm). Therefore, it is not necessary to make a large margin for cutting.

本工程で行う加工は、例えば切断加工、孔あけ加工、マーキング、溝加工、スクライビング加工、又はトリミング加工などの形状加工である。切断加工の場合は、図1および図2に示す様にして行う。図1は、本実施の形態に係る被加工物の切断加工について説明するための概略図である。図2は、本実施の形態に係る切断加工を示す断面図である。   The processing performed in this step is shape processing such as cutting processing, drilling processing, marking, grooving processing, scribing processing, or trimming processing. In the case of cutting, it is performed as shown in FIGS. FIG. 1 is a schematic diagram for explaining a cutting process of a workpiece according to the present embodiment. FIG. 2 is a cross-sectional view showing a cutting process according to the present embodiment.

図1および図2に示す被加工体3は、被加工物1及び粘着シート2の積層体である。粘着シート2は、基材2b上に粘着剤層2aが設けられた構成である。被加工物1と粘着シート2との貼り合わせは、ロールラミネーター、プレス等の公知の方法で行うことができる。切断加工は、被加工体3を吸着ステージ4の吸着板5上に固定して行う。所定のレーザー発振器より出力されるレーザー光6をレンズにて集光し、被加工物上に照射する。照射と共に、レーザー照射位置を所定の加工ライン上に沿って移動させ、切断加工を行う。切断加工は、ガルバノスキャンまたはX−Yステージスキャンを用いたレーザー加工方法や、マスクイメージング方式レーザー加工等の公知のレーザー加工方法が用いられる。   A workpiece 3 shown in FIGS. 1 and 2 is a laminate of a workpiece 1 and an adhesive sheet 2. The pressure-sensitive adhesive sheet 2 has a configuration in which a pressure-sensitive adhesive layer 2a is provided on a substrate 2b. Bonding of the workpiece 1 and the pressure-sensitive adhesive sheet 2 can be performed by a known method such as a roll laminator or a press. The cutting process is performed by fixing the workpiece 3 on the suction plate 5 of the suction stage 4. Laser light 6 output from a predetermined laser oscillator is collected by a lens and irradiated onto a workpiece. Along with the irradiation, the laser irradiation position is moved along a predetermined processing line to perform cutting processing. For the cutting process, a known laser processing method such as a laser processing method using a galvano scan or an XY stage scan, or a mask imaging type laser processing is used.

レーザーの加工条件は、被加工物1が完全に切断される条件であれば特に限定はされない。即ち、被加工物材料のアブレーション閥値に基づき、その照射強度の最適値を決定すればよい。但し、粘着シート2が切断されるのを回避するため、被加工物1に貫通孔が形成される加工条件の2倍以内とすることが望ましい。また、切りしろはレーザー光の集光部のビーム経を絞ることにより細くできるが、切断端面の精度を出すために以下の関係を満たしていることが好ましい。   The laser processing conditions are not particularly limited as long as the workpiece 1 is completely cut. In other words, the optimum value of the irradiation intensity may be determined based on the ablation threshold value of the workpiece material. However, in order to avoid the adhesive sheet 2 from being cut, it is desirable that the pressure is not more than twice the processing conditions for forming the through hole in the workpiece 1. Further, the cutting margin can be reduced by narrowing the beam path of the laser beam condensing portion, but it is preferable that the following relationship is satisfied in order to obtain the accuracy of the cut end face.

Figure 0004666569
被加工物1の裏面に粘着シート2を貼らない場合には、被加工物1および吸着ステージ4に由来する分解飛散物10が、レーザー加工品のレーザー出射側の切断端面近傍に付着する。しかし、これらの汚染は、本実施の形態に係る粘着シート2を貼ることにより防ぐことができる。
Figure 0004666569
When the adhesive sheet 2 is not pasted on the back surface of the workpiece 1, the decomposed and scattered matter 10 derived from the workpiece 1 and the suction stage 4 adheres to the vicinity of the cut end surface on the laser emission side of the laser processed product. However, these contaminations can be prevented by sticking the pressure-sensitive adhesive sheet 2 according to the present embodiment.

孔あけ加工の場合は、図3に示す様にして行う。図3は、本実施の形態に係る被加工物の孔あけ加工について説明するための概略図である。孔あけ加工は、ガルバノスキャンまたはX−Yステージスキャンを用いたレーザー加工方法や、マスクイメージングによるパンチング加工等の公知のレーザー加工方法が用いられる。   In the case of drilling, it is performed as shown in FIG. FIG. 3 is a schematic diagram for explaining the drilling of the workpiece according to the present embodiment. For the drilling, a known laser processing method such as a laser processing method using a galvano scan or an XY stage scan, or a punching processing by mask imaging is used.

尚、本工程では、レーザー入射側にレーザー加工性の良好なシートや他の粘着シートを貼り合わせて行ってもよい。また、ヘリウム、窒素、酸素等のガスをレーザーによる加工部分に吹き付けて行ってもよい。これらを行うことにより、レーザー入射側の被加工物表面の残渣の除去を容易にできるからである。   In this step, a sheet having good laser processability or another adhesive sheet may be bonded to the laser incident side. Further, a gas such as helium, nitrogen, oxygen, or the like may be blown onto a laser processed portion. This is because the removal of the residue on the surface of the workpiece on the laser incident side can be facilitated by performing these steps.

前記粘着シートを剥離する工程は、加工後の被加工物(図2および図3に示すレーザー加工品9)から粘着シートを剥離する工程である。剥離の方法としては特に限定されず、従来公知の方法を採用することができる。但し、剥離時に被加工物が永久変形するような応力がかからない様にするのが好ましい。従って、かかる応力の排除という観点から、例えば放射線照射または加熱などにより粘着力が低下する粘着シートを用いてもよい。この様な粘着シートは、加工時の保持力と剥離時の容易さとを併せ持つからである。粘着シートの粘着剤層に放射線硬化型粘着剤を用いた場合には、粘着剤の種類に応じて放射線照射により粘着剤層を硬化させ粘着性を低下させる。放射線照射により、粘着剤層の粘着性が硬化により低下して剥離を容易化させることができる。放射線照射の手段は特に制限されないが、例えば、紫外線照射等により行われる。   The step of peeling the pressure-sensitive adhesive sheet is a step of peeling the pressure-sensitive adhesive sheet from the processed workpiece (laser processed product 9 shown in FIGS. 2 and 3). The peeling method is not particularly limited, and a conventionally known method can be employed. However, it is preferable not to apply a stress that causes the workpiece to be permanently deformed during peeling. Therefore, from the viewpoint of eliminating such stress, an adhesive sheet whose adhesive strength is reduced by, for example, radiation irradiation or heating may be used. This is because such a pressure-sensitive adhesive sheet has both the holding power during processing and the ease during peeling. When a radiation curable pressure-sensitive adhesive is used for the pressure-sensitive adhesive layer of the pressure-sensitive adhesive sheet, the pressure-sensitive adhesive layer is cured by irradiation with radiation according to the type of the pressure-sensitive adhesive, thereby reducing the adhesiveness. By the irradiation of radiation, the adhesiveness of the pressure-sensitive adhesive layer is reduced by curing, and peeling can be facilitated. The means for radiation irradiation is not particularly limited. For example, the irradiation is performed by ultraviolet irradiation.

また、半導体ウエハの切断加工(ダイシング加工)の場合は、図4の如く半導体ウエハ(被加工物)7の片面を吸着ステージ4上に設けられたレーザー加工用粘着シート2に貼り合わせ、これをダイシングフレーム8に固定する。さらに、所定のレーザー発振器より出力されるレーザー光6をレンズにて半導体ウエハ7上に集光・照射するとともに、そのレーザー照射位置を所定の加工ライン上に沿って移動させることにより切断加工を行う。レーザー光の移動手段としては、ガルバノスキャンあるいはX−Yステージスキャン、マスク、イメーソング加工といった公知のレーザー加工方法が用いられる。かかる半導体ウエハの加工条件は、半導体ウエハ7が切断されかつ粘着シート2が切断されない条件であれば特に限定されない。なお、半導体ウエハ7のレーザー光入射面側には保護シートが設けられていてもよい。   In the case of semiconductor wafer cutting (dicing), one side of the semiconductor wafer (workpiece) 7 is bonded to the laser processing adhesive sheet 2 provided on the suction stage 4 as shown in FIG. Fix to the dicing frame 8. Further, the laser beam 6 output from a predetermined laser oscillator is condensed and irradiated onto the semiconductor wafer 7 by a lens, and the laser irradiation position is moved along a predetermined processing line to perform cutting processing. . As the laser beam moving means, a known laser processing method such as galvano scan, XY stage scan, mask, or image song processing is used. The processing conditions for the semiconductor wafer are not particularly limited as long as the semiconductor wafer 7 is cut and the adhesive sheet 2 is not cut. A protective sheet may be provided on the laser light incident surface side of the semiconductor wafer 7.

このような半導体ウエハ7のダイシング加工においては、個々の半導体チップ(レーザー加工品)に切断後、従来より知られるダイボンダーなどの装置によりニードルと呼ばれる突き上げピンを用いてピックアップする方法、或いは、特開2001−118862号公報に示される方式など公知の方法で個々の半導体チップをピックアップして回収することができる。   In such dicing processing of the semiconductor wafer 7, after cutting into individual semiconductor chips (laser processed products), a method of picking up with a conventionally known device such as a die bonder using a push-up pin called a needle, or Individual semiconductor chips can be picked up and collected by a known method such as the method disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 2001-118862.

尚、本実施の形態に於いて、レーザー加工が可能な被加工物としては、前記レーザー光によるアブレーションによりレーザー加工できるものであれば特に限定されない。例えば、各種シート材料、回路基板、半導体ウエハ、ガラス基板、セラミック基板、金属基板、半導体レーザー等の発光あるいは受光素子基板、MEMS(Micro Electro Mechanical System)基板、半導体パッケージ、布、皮、紙などが挙げられる。各種シート材料としては、例えば、ポリイミド系樹脂、ポリエステル系樹脂、エポキシ系樹脂、ウレタン系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリエチレン系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、シリコーン系樹脂、フッ素系樹脂等の高分子フィルムや不織布、それらの樹脂を延伸加工、含浸加工等により物理的あるいは光学的な機能を付与したもの、銅、アルミ、ステンレス等の金属シートあるいは、上記ポリマーシートおよび/または金属シートを直接または接着剤等を介して積層したものなどが上げられる。また、回路基板としては、片面、両面あるいは多層フレキシブルプリント基板、ガラスエポキシやセラミック、金属コア基板等からなるリジッド基板、ガラスあるいはポリマー上に形成された光回路あるいは光−電気混成回路基板などが挙げられる。こうして準備された被加工物のレーザー照射面と反対面に、特定の粘着シートを貼り合わせる。   In the present embodiment, the workpiece that can be laser processed is not particularly limited as long as it can be laser processed by ablation with the laser beam. For example, various sheet materials, circuit substrates, semiconductor wafers, glass substrates, ceramic substrates, metal substrates, light emitting or receiving element substrates such as semiconductor lasers, MEMS (Micro Electro Mechanical System) substrates, semiconductor packages, cloth, leather, paper, etc. Can be mentioned. Various sheet materials include, for example, polyimide resins, polyester resins, epoxy resins, urethane resins, polystyrene resins, polyethylene resins, polyamide resins, polycarbonate resins, silicone resins, fluorine resins, etc. Molecular film or non-woven fabric, those obtained by imparting physical or optical functions to the resin by stretching, impregnation, etc., metal sheets such as copper, aluminum, and stainless steel, or the above polymer sheet and / or metal sheet directly or The one laminated with an adhesive or the like is raised. Examples of the circuit board include a single-sided, double-sided or multilayer flexible printed board, a rigid board made of glass epoxy, ceramic, metal core board, etc., an optical circuit formed on glass or polymer, or an opto-electric hybrid circuit board. It is done. A specific pressure-sensitive adhesive sheet is bonded to the surface opposite to the laser irradiation surface of the workpiece thus prepared.

また、本実施の形態に於いて、前記基材は、単層でもよく、また複層であってもよい。また、膜状又はメッシュ状など種々の形状のものを選択することができる。基材の厚さは、被加工物との貼り合わせ、被加工物の切断、切断片の剥離、回収などの各工程における操作性や作業性を損なわない範囲で適宜選択して設定することができる。通常は、500μm以下、好ましくは3〜300μm程度、さらに好ましくは5〜260μm程度に設定される。基材の表面には、例えば吸着ステージ等の隣接する層との密着性、保持性などを高めるため、慣用の表面処理を行うことができる。その様な表面処理としては、クロム酸処理、オゾン暴露、火炎暴露、高圧電撃暴露、イオン化放射線処理等の化学的または物理的処理、下塗剤(例えば、後述する粘着物質)によるコーティング処理等が例示できる。   In the present embodiment, the base material may be a single layer or a multilayer. Various shapes such as a film shape or a mesh shape can be selected. The thickness of the base material can be appropriately selected and set within a range that does not impair the operability and workability in each process such as bonding to the workpiece, cutting of the workpiece, peeling of the cut piece, and recovery. it can. Usually, it is set to 500 μm or less, preferably about 3 to 300 μm, more preferably about 5 to 260 μm. Conventional surface treatment can be performed on the surface of the base material in order to improve adhesion, retention, and the like with adjacent layers such as an adsorption stage. Examples of such surface treatments include chromic acid treatment, ozone exposure, flame exposure, high-voltage impact exposure, chemical or physical treatment such as ionizing radiation treatment, and coating treatment with a primer (for example, an adhesive substance described later). it can.

また、本実施の形態に於いて、前記粘着剤層としては、アクリル系やゴム系等の粘着剤により形成されたものを用いることができる。アクリル系粘着剤としては、例えば(メタ)アクリル酸アルキルエステルの重合体、必要に応じ粘着性、凝集力、耐熱性などの改質を目的として(メタ)アクリル酸アルキルエステルに共重合性モノマーを共重合した共重合体等のアクリル系ポリマーが例示できる。   In the present embodiment, the pressure-sensitive adhesive layer may be formed of an acrylic or rubber-based pressure-sensitive adhesive. Examples of the acrylic pressure-sensitive adhesive include a polymer of (meth) acrylic acid alkyl ester, and if necessary, a copolymerizable monomer is added to (meth) acrylic acid alkyl ester for the purpose of modification such as adhesiveness, cohesive strength, and heat resistance. Examples thereof include acrylic polymers such as copolymerized copolymers.

ここで、前記(メタ)アクリル酸アルキルエステルとは、アクリル酸エステル及び/またはメタアクリル酸エステルをいい、本発明の(メタ)とは全て同様の意味である。例えばメチル基やエチル基、プロピル基やイソプロピル基、n−ブチル基やt−ブチル基、イソブチル基やアミル基、イソアミル蔓やヘキシル基、ヘプチル基やシクロヘキシル基、2−エチルヘキシル基やオクチル基、イソオクチル基やノニル基、イソノニル基やデシル基、イソデシル基やウンデシル基、ラウリル基やトリデシル基、テトラデシル基やステアリル基、オクタデシル基やドデシル基の如き炭素数30以下、就中4〜18の直鏡又は分岐のアルキル基を有する(メタ)アクリル酸の1種又は2種以上を成分とする重合体などが挙げられる。   Here, the (meth) acrylic acid alkyl ester means an acrylic acid ester and / or a methacrylic acid ester, and (meth) in the present invention has the same meaning. For example, methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, n-butyl group, t-butyl group, isobutyl group, amyl group, isoamyl vine, hexyl group, heptyl group, cyclohexyl group, 2-ethylhexyl group, octyl group, isooctyl group A direct mirror having a carbon number of 30 or less, especially 4-18, such as a group, nonyl group, isononyl group, decyl group, isodecyl group, undecyl group, lauryl group, tridecyl group, tetradecyl group, stearyl group, octadecyl group, dodecyl group Examples thereof include polymers containing as a component one or more of (meth) acrylic acid having a branched alkyl group.

また前記重合体を形成することのある他のモノマーとしては、例えばアクリル酸やメタクリル酸、カルボキシエチルアクリレートやカルボキシペンチルアクリレート、イタコン酸やマレイン酸、フマール酸やクロトン酸の如きカルボキシル基含有モノマー、あるいは熱水マレイン酸や無水イタコン酸の如き酸無水物モノマー、(メタ)アクリル酸2−ヒドロキシエチルや(メタ)アクリル酸2−ヒドロキシプロピル、(メタ)アクリル酸4−ヒドロキシブチルや(メタ)アクリル酸6−ヒドロキシヘキシル、(メタ)アクリル酸8−ヒドロキシオクチルや(メタ)アクリル酸10−ヒドロキシデシル、(メタ)アクリル酸12−ヒドロキシラウリルや(4−ヒドロキシメチルシクロヘキシル)−メチルアクリレートの如きヒドロキシル基含有モノマー、スチレンスルホン酸やアクリルスルホン酸、2−(メタ)アクリルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸や(メタ)アクリルアミドプロパンスルホン酸、スルホプロピル(メタ)アクリレートや(メタ)アクリロイルオキシナフタレンスルホン酸の如きスルホン酸基含有モノマー、2−ヒドロキシエチルアクリロイルホスフェートの如き燐酸基含有モノマー、(メタ)アクリルアミド、(メタ)アクリル酸N−ヒドロキシメチルアミド、(メタ)アクリル酸アルキルアミノアルキルエステル(例えば、ジメチルアミノエチルメタクリレート、t−ブチルアミノエチルメタクリレート等)、N−ビニルピロリドン、アクリロイルモルフオリン、酢酸ビニル、スチレン、アクリロニトリル等が挙げられる。   Other monomers that may form the polymer include, for example, acrylic acid and methacrylic acid, carboxyethyl acrylate and carboxypentyl acrylate, itaconic acid and maleic acid, carboxyl group-containing monomers such as fumaric acid and crotonic acid, or Acid anhydride monomers such as hydrothermal maleic acid and itaconic anhydride, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 4-hydroxybutyl (meth) acrylate and (meth) acrylic acid Contains hydroxyl groups such as 6-hydroxyhexyl, 8-hydroxyoctyl (meth) acrylate, 10-hydroxydecyl (meth) acrylate, 12-hydroxylauryl (meth) acrylate and (4-hydroxymethylcyclohexyl) -methyl acrylate Sulfones such as nomers, styrene sulfonic acid and acrylic sulfonic acid, 2- (meth) acrylamide-2-methylpropane sulfonic acid, (meth) acrylamide propane sulfonic acid, sulfopropyl (meth) acrylate and (meth) acryloyloxynaphthalene sulfonic acid Acid group-containing monomers, phosphate group-containing monomers such as 2-hydroxyethylacryloyl phosphate, (meth) acrylamide, (meth) acrylic acid N-hydroxymethylamide, (meth) acrylic acid alkylaminoalkyl esters (for example, dimethylaminoethyl methacrylate) , T-butylaminoethyl methacrylate, etc.), N-vinylpyrrolidone, acryloylmorpholine, vinyl acetate, styrene, acrylonitrile and the like.

加えてアクリル系ポリマーの架橋処理等を目的に、多官能モノマーなども必要に応じて共重合用のモノマー成分として用いることができる。かかるモノマーの例としては、ヘキサンジオ−ルジ(メタ)アクリレートや(ポリ)エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、(ポリ)プロピレングリコールジ(メタ)アクリレートやネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールジ(メタ)アクリレートやトリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールヘキサ・トリ(メタ)アクリレートやジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、エポキシアクリレートやポリエステルアクリレート、ウレタンアクリレートなどが挙げられる。多官能モノマーも1種又は2種以上を用いることができ、その使用量は、粘着特性等の点より全モノマーの30重量%以下が好ましい。なお、上記のアクリル系ポリマーが分子内に光重合性炭素−炭素二重結合を持つものであってもよい。前記成分のほかに、従来公知の各種の粘着付与剤、老化防止剤、充頃剤、着色剤等の慣用の添加剤を含有させることが出来る。アクリル系ポリマーの調製は、例えば1種又は2種以上の成分モノマーの混合物に溶液重合方式や乳化重合方式、現状重合方式や懸濁重合方式等の適宜な方式を適用して行うことができる。   In addition, a polyfunctional monomer or the like can be used as a monomer component for copolymerization, if necessary, for the purpose of crosslinking the acrylic polymer. Examples of such monomers include hexanediol di (meth) acrylate, (poly) ethylene glycol di (meth) acrylate, (poly) propylene glycol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, pentaerythritol di ( Examples include (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, pentaerythritol hexa-tri (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, epoxy acrylate, polyester acrylate, urethane acrylate, and the like. One or more polyfunctional monomers can be used, and the amount used is preferably 30% by weight or less of the total monomers from the viewpoint of adhesive properties and the like. The acrylic polymer may have a photopolymerizable carbon-carbon double bond in the molecule. In addition to the above components, conventionally known various additives such as various tackifiers, anti-aging agents, filling agents, and coloring agents can be contained. The acrylic polymer can be prepared, for example, by applying an appropriate method such as a solution polymerization method, an emulsion polymerization method, a current polymerization method, or a suspension polymerization method to a mixture of one or more component monomers.

該アクリル系ポリマーは、被加工物への汚染防止等の点より低分子量物質の含有を抑制したものが好ましく、アクリル系ポリマーの数平均分子量は、好ましくは50万以上、更に好ましくは80〜300万程度である。   The acrylic polymer is preferably one that suppresses the inclusion of a low molecular weight substance from the viewpoint of preventing contamination of the workpiece, and the number average molecular weight of the acrylic polymer is preferably 500,000 or more, more preferably 80 to 300. It is about ten thousand.

切断時のチップの剥離を防止し、且つ剥離時にチップからの剥離性を向上させるため、粘着剤は、紫外線、電子線などにより硬化する放射線硬化型粘着剤とすることが好ましい。なお、粘着剤として放射線硬化型粘着剤を用いる場合には、切断工程の後に粘着剤層に放射線が照射されるため、前記基材シートは十分な放射線透過性を有するものが好ましい。放射線硬化型粘着剤としては、炭素−炭素二重結合等の放射線硬化性の官能基を有し、且つ粘着性を示すものを特に制限無く使用できる。   In order to prevent peeling of the chip at the time of cutting and to improve the peelability from the chip at the time of peeling, the pressure-sensitive adhesive is preferably a radiation curable pressure-sensitive adhesive that is cured by ultraviolet rays, electron beams or the like. In addition, when using a radiation curing type adhesive as an adhesive, since a radiation is irradiated to an adhesive layer after a cutting process, what has sufficient radiation transparency is preferable for the said base material sheet. As the radiation curable pressure-sensitive adhesive, those having a radiation curable functional group such as a carbon-carbon double bond and exhibiting adhesiveness can be used without particular limitation.

放射線硬化型粘着剤としては、例えば、前述のアクリル系ポリマーに、放射線硬化性のモノマー成分やオリゴマー成分を配合したものを例示できる。配合する放射線硬化性のモノマー成分やオリゴマー成分としては、例えば、ウレタン;(メタ)アクリレートオリゴマー、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、テトラメチロールメタンテトラ(メタ)アクリレート、テトラエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールモノヒドロキシペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、4−ブチレングリコールジ(メタ)アクリレート、1,6ヘキサンジオール(メタ)アクリレート等の(メタ)アクリル酸と多価アルコールとのエステル化物;2−プロペニル−3−ブテニルシアヌレート、トリス(2−メタクリロキシエチル)イソシアヌレート等のイソシアヌレート又はイソシアヌレート化合物等が挙げられる。オリゴマー成分の配合量は、主ポリマー(アクリル系ポリマー)100重量部に対して5〜500重量部が好ましく、特に70〜160重量部が好ましい。   Examples of the radiation curable pressure-sensitive adhesive include those obtained by blending the aforementioned acrylic polymer with a radiation curable monomer component or oligomer component. Examples of the radiation-curable monomer component and oligomer component to be blended include urethane; (meth) acrylate oligomer, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, tetramethylolmethane tetra (meth) acrylate, and tetraethylene glycol di (meth) acrylate. , Pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol monohydroxypenta (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, 4-butylene glycol di (meth) acrylate, 1,6 Esterified product of (meth) acrylic acid such as hexanediol (meth) acrylate and polyhydric alcohol; 2-propenyl-3-butenyl cyanurate, tris (2-meta Rirokishiechiru) isocyanurate or isocyanurate compounds such as isocyanurate. The blending amount of the oligomer component is preferably 5 to 500 parts by weight, particularly preferably 70 to 160 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the main polymer (acrylic polymer).

前記の放射線硬化性の成分モノマー混合物において、紫外線等による硬化方式を採る場合に配合されることのある光重合開始剤の例としては、4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニル(2−ヒドロキシ−2−プロピル)ケトンやα−ヒドロキシ−α,α−メチルアセトフェノン、メトキシアセトフェノンや 2,2−ジメトキシー2サフェニルアセトフェノン、2,2−ジエトキシアセトフェノンや −ヒドロキシシウロヘキシルフェニルケトン、2−メチル−1−〔4−(メチルチオ)−フェニルコー2−モルホリノプロパン−1の如きアセトフェノン系化合物、ベンゾインエチルエーテルやベンゾインイソプロピルエーテル、アニゾインメチルエーテルの如きベンゾインエーデル系化合物、2−メチル−2−ヒドロキシプロピオフェノンの如きα−ケトール系化合物、ベンジルジメチルケタールの如きケタール系化合物、2−ナフタレンスルホニルクロリドの如き芳香族スルホニルクロリド系化合物、1−フェノン−1,1−プロパンジオン−2−(Ο−エトキシカルボニル)オキシムの如き光活性オキシム系化合物、ベンゾフェノンやベンゾイル安息香酸、3,3,−ジメチルー4−メトキシベンゾフェノンの如きベンゾフェノン系化合物、チオキサンソンや2−クロロチオキサンソン、2−メチルチオキサンソンや2,4−ジメチルチオキサンソン、イソプロピルチオキサンソンや2,4−ジクロロチオキサンソン、2,4−ジエチルチオキサンソンや2,4−ジイソプロピルチオキサンソンの如きチオキサンソン系化合物、その他、カンファーキノンやハロゲン化ケトン、アシルホスフイノキシドやアシルホスフオナートなどが挙げられる。前記粘着剤層の架橋密度の制御は、例えば多官能イソシアネート系化合物やエポキシ系化合物、メラミン系化合物や金属塩系化合物、金属キレート系化合物やアミノ樹脂系化合物や過酸化物などの適宜な架橋剤を介して架橋処理する方式、炭素−炭素二重結合を2個以上有する低分子化合物を混合してエネルギー線の照射等により架橋処理する方式などの適宜な方式で行うことができる。   As an example of a photopolymerization initiator that may be blended in the case of adopting a curing method using ultraviolet rays or the like in the radiation curable component monomer mixture, 4- (2-hydroxyethoxy) phenyl (2-hydroxy-2) -Propyl) ketone, α-hydroxy-α, α-methylacetophenone, methoxyacetophenone, 2,2-dimethoxy-2-saphenylacetophenone, 2,2-diethoxyacetophenone, -hydroxycyclohexylphenylketone, 2-methyl-1 -[4- (methylthio) -phenylcoe acetophenone compounds such as 2-morpholinopropane-1, benzoin ether compounds such as benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether and anisoin methyl ether, 2-methyl-2-hydroxypro Piophenone Α-ketol compounds, ketal compounds such as benzyldimethyl ketal, aromatic sulfonyl chloride compounds such as 2-naphthalenesulfonyl chloride, 1-phenone-1,1-propanedione-2- (Ο-ethoxycarbonyl) oxime Photoactive oxime compounds such as benzophenone and benzoylbenzoic acid, benzophenone compounds such as 3,3, -dimethyl-4-methoxybenzophenone, thioxanthone, 2-chlorothioxanthone, 2-methylthioxanthone and 2,4-dimethyl Thioxanthone, isopropylthioxanthone, 2,4-dichlorothioxanthone, thioxanthone compounds such as 2,4-diethylthioxanthone and 2,4-diisopropylthioxanthone, camphorquinone and halogenated ketone, A Such as Le phosphine Inoki Sid and acyl phosphine Honor door, and the like. The crosslink density of the pressure-sensitive adhesive layer is controlled by, for example, a suitable cross-linking agent such as a polyfunctional isocyanate compound, an epoxy compound, a melamine compound, a metal salt compound, a metal chelate compound, an amino resin compound, or a peroxide. It is possible to carry out by an appropriate method such as a method of crosslinking via a method and a method of mixing a low molecular compound having two or more carbon-carbon double bonds and crosslinking by irradiation with energy rays.

粘着剤層を基材上に設ける方法としては、公知の手法を採用することができる。例えば、基材に直接塗布する方法や、雛型剤が塗布されたシート上に設けた粘着剤を転写する方法など、適宜な手法が用いられる。粘着剤層は、1層または2層以上が積層されていても良い。尚、粘着剤層の厚さは、被加工物および対象となる被着体から剥離しない範囲で適宜選択できる。通常は、5〜300μm程度、好ましくは10〜100μm程度、さらに好ましくは20〜60μm程度である。   As a method of providing the pressure-sensitive adhesive layer on the substrate, a known method can be employed. For example, an appropriate method such as a method of directly applying to a substrate or a method of transferring an adhesive provided on a sheet coated with a template is used. One or two or more pressure-sensitive adhesive layers may be laminated. The thickness of the pressure-sensitive adhesive layer can be appropriately selected within a range where it does not peel from the workpiece and the target adherend. Usually, it is about 5-300 micrometers, Preferably it is about 10-100 micrometers, More preferably, it is about 20-60 micrometers.

また粘着剤層の接着力は、20N/20mm 以下、就中0.001〜10N/20mm、特に0.01〜8N/20mmが好ましい。これらの値は、SUS304に対する常温(レーザー照射前)での接着力(90度ピール値、剥離速度 300mm/分)に基づく。   The adhesive strength of the pressure-sensitive adhesive layer is preferably 20 N / 20 mm or less, especially 0.001 to 10 N / 20 mm, and particularly preferably 0.01 to 8 N / 20 mm. These values are based on the adhesive strength (90-degree peel value, peeling speed 300 mm / min) at normal temperature (before laser irradiation) with respect to SUS304.

(実施の形態2)
本実施の形態2は、金属系材料からなる被加工物に対してレーザー加工を行う態様に関する。本実施の形態2に於いては、前記実施の形態1と比較して、密度が1.1g/cm未満であり、かつ密度の比が1未満の粘着シートを使用した点が異なる。
(Embodiment 2)
The second embodiment relates to an aspect in which laser processing is performed on a workpiece made of a metal material. The second embodiment is different from the first embodiment in that a pressure-sensitive adhesive sheet having a density of less than 1.1 g / cm 3 and a density ratio of less than 1 is used.

被加工物が金属系材料からなる場合、密度の比が1未満であっても、粘着シートと被加工物の間に分解物残渣が発生することがある。これは、高分子材料と金属系材料とでは、アブレーション機構が異なることによると考えられる。即ち、金属系材料の場合、レーザーエネルギーを注入する事により発生した熱起因の熱化学反応的プロセスを経由するからである。よって、高分子材料の場合の加工効率と、金属系材料の場合の加工効率とを単純比較することは難しい。   When the workpiece is made of a metal-based material, a decomposed residue may be generated between the pressure-sensitive adhesive sheet and the workpiece even if the density ratio is less than 1. This is considered to be due to the difference in the ablation mechanism between the polymer material and the metal-based material. That is, in the case of a metal material, it goes through a thermochemical reaction process caused by heat generated by injecting laser energy. Therefore, it is difficult to simply compare the processing efficiency in the case of a polymer material and the processing efficiency in the case of a metal-based material.

本願発明者等は、シリコン等の金属材料の加工レートと粘着シートの加工レートを比較した結果、粘着シートの密度が1.1g/cm未満であり、かつ密度の比が1未満である場合に、粘着シートが金属系材料からなる被加工物よりも難加工性を示すことを見出した。この様な粘着シートを用いることにより、粘着シートと金属材料の間に、金属系材料に起因する分解物残渣が発生することがない。 As a result of comparing the processing rate of a metal material such as silicon and the processing rate of an adhesive sheet, the inventors of the present application have a density of the adhesive sheet of less than 1.1 g / cm 3 and a density ratio of less than 1. Furthermore, the present inventors have found that the pressure-sensitive adhesive sheet is more difficult to process than a workpiece made of a metal-based material. By using such an adhesive sheet, a decomposition product residue resulting from the metal-based material does not occur between the adhesive sheet and the metal material.

ここで、粘着シートの密度は、0.9g/cm未満がより好ましく0.7g/cm未満が特に好ましい。 Here, the density of the adhesive sheet, 0.9 g / cm, more preferably less than 0.7 g / cm 3 less than 3 is particularly preferred.

前記金属系材料には類金属も含まれる。より具体的には、金、SUS、銅、鉄、アルミ、シリコン、チタン、ニッケル、タングステン、ジルコニアなどが挙げられる。   The metal-based material includes a similar metal. More specifically, gold, SUS, copper, iron, aluminum, silicon, titanium, nickel, tungsten, zirconia, and the like can be given.

尚、本実施の形態2に係るレーザー加工品の製造方法については、前記実施の形態1と同様にして行うことができる。   The method for manufacturing a laser processed product according to the second embodiment can be performed in the same manner as in the first embodiment.

以下、本発明について実施例を用いて詳細に説明するが、本発明はその要旨を超えない限り、以下の実施例に限定されるものではない。   EXAMPLES Hereinafter, although this invention is demonstrated in detail using an Example, this invention is not limited to a following example, unless the summary is exceeded.

(実施例1)
厚さが100μmのポリブタジエンフィルム(基材)上に、紫外線による硬化が可能なアクリル系粘着剤の溶液を塗布、乾燥し、厚さ10μmの粘着剤層を形成して粘着シートを得た。この粘着シートの密度を測定したところ、0.94g/cmであった。
Example 1
On a polybutadiene film (base material) having a thickness of 100 μm, an acrylic pressure-sensitive adhesive solution that can be cured by ultraviolet rays was applied and dried to form a pressure-sensitive adhesive layer having a thickness of 10 μm to obtain a pressure-sensitive adhesive sheet. When the density of this adhesive sheet was measured, it was 0.94 g / cm 3 .

アクリル系粘着剤の溶液は、次の通りに調製した。即ち、アクリル酸ブチルと、アクリル酸エチルと、2−ヒドロキシアクリレートと、アクリル酸とを重量比60/40/4/1で共重合させてなるアクリル系ポリマー(数平均分子量)約80万)100重量部に、光重合性化合物としてジペンタエリスリトルモノヒドロキシペンタアクリレートを90重量部、光重合開始剤としてベンジルジメチルケタール(イルガキュア651)を5重量部、ポリイソシアネート化合物(商品名「コロネートL」、日本ポリウレタン製)2重量部を配合した。更に、配合したものを有機溶剤としてのトルエンに均一に溶解させて、アクリル系粘着剤の溶液を調製した。   The acrylic adhesive solution was prepared as follows. That is, an acrylic polymer (number average molecular weight) of about 800,000) obtained by copolymerizing butyl acrylate, ethyl acrylate, 2-hydroxyacrylate, and acrylic acid at a weight ratio of 60/40/4/1) 100 In parts by weight, 90 parts by weight of dipentaerythritol monohydroxypentaacrylate as a photopolymerizable compound, 5 parts by weight of benzyldimethyl ketal (Irgacure 651) as a photopolymerization initiator, a polyisocyanate compound (trade name “Coronate L”, 2 parts by weight of Nippon Polyurethane) was blended. Further, the blended product was uniformly dissolved in toluene as an organic solvent to prepare an acrylic pressure-sensitive adhesive solution.

尚、合成したアクリル系ポリマーの数平均分子量は以下の方法で測定した。即ち、合成した(メタ)アクリル系ポリマーをTHFに0.1wt%で溶解させて、GPC(ゲルパーミエーションクロマトグラフィー)を用いてポリスチレン換算により数平均分子量を測定した。測定条件は、GPC装置:東ソー製、HLC−8120GPC、カラム:東ソー製、(GMHHR−H)+(GMHHR−H)+(G2000HHR)、流量:0.8ml/min、濃度:0.1wt%、注入量:100μl、カラム温度:40℃、溶離液:THFとした。   The number average molecular weight of the synthesized acrylic polymer was measured by the following method. That is, the synthesized (meth) acrylic polymer was dissolved in THF at 0.1 wt%, and the number average molecular weight was measured by polystyrene conversion using GPC (gel permeation chromatography). The measurement conditions are GPC apparatus: manufactured by Tosoh Corporation, HLC-8120GPC, column: manufactured by Tosoh Corporation, (GMHHR-H) + (GMHHR-H) + (G2000HHR), flow rate: 0.8 ml / min, concentration: 0.1 wt%, Injection volume: 100 μl, column temperature: 40 ° C., eluent: THF.

次に、被加工物として使用するポリウレタン(厚み100μm)の密度を測定したところ1.22g/cmであった。更に、密度の比(粘着シートの密度/ポリウレタンの密度)を求めたところ0.77であった。 Next, the density of polyurethane (thickness: 100 μm) used as a workpiece was measured and found to be 1.22 g / cm 3 . The density ratio (pressure-sensitive adhesive sheet density / polyurethane density) was 0.77.

続いて、ポリウレタンの一方の面と粘着シートとを、粘着剤層が接着面となる様にロールラミネーターにて貼り合わせた。これを、加工装置に於けるガラスエポキシ樹脂製吸着板をのせたX−Yステージ上に、被加工物が上側となる様にして載置した。さらに、平均出力5W、繰り返し周波数30kHzのYAGレーザーの第3高調波(355nm)をfθレンズによりポリウレタン表面に25μm径に集光して、ガルバノスキャナ−によりレーザー光を20mm/秒の速度でスキャンして切断した。このとき、粘着シートは切断されず、被加工物のみが切断されていることを確認した。その後、ポリウレタンから粘着シートを剥離して粘着シート貼り合わせ面(レーザー出射面)の加工孔周辺部を観察したところ、付着物は観察されなかった。粘着シートが切断されないので、吸着ステージからのコンタミネーションも確認されなかった。   Subsequently, one surface of the polyurethane and the pressure-sensitive adhesive sheet were bonded together with a roll laminator so that the pressure-sensitive adhesive layer became an adhesive surface. This was placed on an XY stage on which a glass epoxy resin suction plate in a processing apparatus was placed so that the workpiece was on the upper side. Furthermore, the third harmonic (355 nm) of a YAG laser with an average output of 5 W and a repetition frequency of 30 kHz is condensed to a 25 μm diameter on the polyurethane surface by an fθ lens, and the laser beam is scanned at a speed of 20 mm / sec by a galvano scanner. And cut. At this time, it was confirmed that the pressure-sensitive adhesive sheet was not cut and only the workpiece was cut. Then, when the adhesive sheet was peeled from the polyurethane and the periphery of the processed hole on the adhesive sheet bonding surface (laser emission surface) was observed, no deposit was observed. Since the adhesive sheet was not cut, no contamination from the adsorption stage was confirmed.

(比較例1)
本比較例1に於いては、粘着シートを貼ることなくレーザー加工した以外は、前記実施例1と同様にして被加工物の加工を行った。ポリウレタン(被加工物)のレーザー出射面側の切断部周辺を観察すると、ポリウレタンの分解物残渣およびガラスエポキシ樹脂製吸着板の分解物残渣が多量に付着していたことが確認された。
(Comparative Example 1)
In Comparative Example 1, the workpiece was processed in the same manner as in Example 1 except that laser processing was performed without attaching an adhesive sheet. When the periphery of the cut portion of the polyurethane (workpiece) on the laser emission surface side was observed, it was confirmed that a large amount of polyurethane decomposition product residue and glass epoxy resin adsorption plate decomposition product residue adhered.

(比較例2)
本比較例2に於いては、粘着シートの基材としてポリイミド(厚さ125μm)を使用した以外は、前記実施例1と同様にしてレーザー加工を行った。ここで、ポリイミドを基材とする粘着シートの密度は1.47g/cmであり、密度の比は1.20であった。
(Comparative Example 2)
In Comparative Example 2, laser processing was performed in the same manner as in Example 1 except that polyimide (thickness: 125 μm) was used as the base material of the pressure-sensitive adhesive sheet. Here, the density of the pressure-sensitive adhesive sheet based on polyimide was 1.47 g / cm 3 , and the density ratio was 1.20.

レーザー加工後、被加工物および粘着シートを観察すると、ポリウレタンは切断されていたが粘着シートのダメージも大きく、粘着シートとポリウレタンとの間に粘着シートの分解物残渣を含む気泡が発生していた。さらに、粘着シートを剥離してレーザー出射面側の切断部周辺を観察したところ、ポリイミドの分解物残渣が多量に付着していることが確認された。   After the laser processing, when the work piece and the adhesive sheet were observed, the polyurethane was cut, but the adhesive sheet was severely damaged, and bubbles containing the decomposition product residue of the adhesive sheet were generated between the adhesive sheet and the polyurethane. . Furthermore, when the adhesive sheet was peeled off and the periphery of the cut portion on the laser emission surface side was observed, it was confirmed that a large amount of polyimide residue was adhered.

(実施例2)
本実施例2に於いては、粘着シートの基材としてエチレン酢酸ビニル共重合体からなるフィルム(厚さ100μm)を使用し、被加工物としてシリコンウエハ(厚さ75μm)を使用した以外は、前記実施例1と同様にして被加工物のレーザー加工を行った。ここで、エチレン酢酸ビニル共重合体を含む粘着シートおよびシリコンウェハの密度を測定したところ、それぞれ0.9g/cm、2.35g/cmであった。更に、密度の比を求めたところ0.38であった。
(Example 2)
In Example 2, a film made of an ethylene vinyl acetate copolymer (thickness: 100 μm) was used as the base material of the pressure-sensitive adhesive sheet, and a silicon wafer (thickness: 75 μm) was used as a workpiece. The workpiece was laser processed in the same manner as in Example 1. Here, the measured density of the pressure-sensitive adhesive sheet and a silicon wafer containing ethylene vinyl acetate copolymer, respectively 0.9 g / cm 3, was 2.35 g / cm 3. Furthermore, when the density ratio was determined, it was 0.38.

レーザー加工後、被加工物および粘着シートを観察すると、粘着シートは切断されず、被加工物のみが切断されていることが確認された。その後、粘着シートを剥離して粘着シート貼り合わせ面(レーザー出射面)の切断面周辺部を観察したところ、付着物は観察されなかった。   When the workpiece and the adhesive sheet were observed after laser processing, it was confirmed that the adhesive sheet was not cut and only the workpiece was cut. Thereafter, the pressure-sensitive adhesive sheet was peeled off, and the periphery of the cut surface of the pressure-sensitive adhesive sheet bonding surface (laser emission surface) was observed, and no deposit was observed.

本発明の実施の形態に係る被加工物のレーザー加工について説明するための概略図である。It is the schematic for demonstrating the laser processing of the to-be-processed object which concerns on embodiment of this invention. 前記実施の形態に係るレーザー加工を説明する為の断面模式図である。It is a cross-sectional schematic diagram for demonstrating the laser processing which concerns on the said embodiment. 前記実施の形態に係る被加工物の他のレーザー加工について説明する為の概略図である。It is the schematic for demonstrating other laser processing of the to-be-processed object which concerns on the said embodiment. 半導体ウエハのダイシング方法の例を示す概略図である。It is the schematic which shows the example of the dicing method of a semiconductor wafer.

符号の説明Explanation of symbols

1 被加工物
2 レーザー加工用粘着シート
2a 粘着剤層
2b 基材
3 被加工体
4 吸着ステージ
5 吸着板
6 レーザー光
7 半導体ウェハ(被加工物)
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Workpiece 2 Laser processing adhesive sheet 2a Adhesive layer 2b Base material 3 Workpiece 4 Adsorption stage 5 Adsorption plate 6 Laser light 7 Semiconductor wafer (workpiece)

Claims (7)

被加工物のレーザー光出射面側にレーザー加工用粘着シートを貼り合わせ、波長が紫外域のレーザー光を被加工物に照射し、該被加工物をアブレーションにより加工するレーザー加工品の製造方法であって、
前記レーザー加工用粘着シートとして、基材上に少なくとも粘着剤層が設けられたものであって、下記式で表される密度の比が0.8未満であるものを使用し、前記被加工物のレーザー光出射面側に該粘着剤層を介してレーザー加工用粘着シートを貼り合わせる工程と、
前記被加工物がアブレーションを引き起こす閾値の照射強度以上であって、該被加工物に貫通孔が形成される照射強度の2倍以内のレーザー光を照射して、該被加工物を加工する工程と、
前記レーザー加工用粘着シートを加工後の前記被加工物から剥離する工程とを含むことを特徴とするレーザー加工品の製造方法。
Figure 0004666569
A laser processing product manufacturing method in which an adhesive sheet for laser processing is bonded to the laser beam emitting surface side of a workpiece, the workpiece is irradiated with laser light having an ultraviolet wavelength, and the workpiece is processed by ablation. There,
As the pressure-sensitive adhesive sheet for laser processing, a material having at least a pressure-sensitive adhesive layer provided on a substrate and having a density ratio represented by the following formula of less than 0.8 is used. Bonding the adhesive sheet for laser processing to the laser light emitting surface side of the adhesive layer through the adhesive layer,
A step of processing the workpiece by irradiating the workpiece with a laser beam that is equal to or higher than a threshold irradiation intensity that causes ablation and is within twice the irradiation intensity at which a through hole is formed on the workpiece. When,
And a step of peeling the laser processing pressure-sensitive adhesive sheet from the processed object after processing.
Figure 0004666569
被加工物のレーザー光出射面側にレーザー加工用粘着シートを貼り合わせ、波長が紫外域のレーザー光を金属系材料からなる被加工物に照射し、該被加工物をアブレーションにより加工するレーザー加工品の製造方法であって、
前記レーザー加工用粘着シートとして基材上に少なくとも粘着剤層が設けられたものであって、密度が1.1g/cm未満であり、かつ下記式で表される密度の比が0.8未満のものを使用し、前記被加工物のレーザー光出射面側に、該粘着剤層を介してレーザー加工用粘着シートを貼り合わせる工程と、
前記被加工物がアブレーションを引き起こす閾値の照射強度以上であって、該被加工物に貫通孔が形成される照射強度の2倍以内のレーザー光を照射して、該被加工物を加工する工程と、
前記レーザー加工用粘着シートを加工後の前記被加工物から剥離する工程とを含むことを特徴とするレーザー加工品の製造方法。
Figure 0004666569
Laser processing that bonds a laser processing adhesive sheet to the laser beam emitting surface side of the workpiece, irradiates the workpiece made of a metal material with laser light having an ultraviolet wavelength, and processes the workpiece by ablation A method for manufacturing a product,
As the pressure-sensitive adhesive sheet for laser processing, at least a pressure-sensitive adhesive layer is provided on a substrate, the density is less than 1.1 g / cm 3 , and the density ratio represented by the following formula is 0.8. A step of laminating a pressure-sensitive adhesive sheet for laser processing on the laser light emitting surface side of the workpiece through the pressure-sensitive adhesive layer,
A step of processing the workpiece by irradiating the workpiece with a laser beam that is equal to or higher than a threshold irradiation intensity that causes ablation and is within twice the irradiation intensity at which a through hole is formed on the workpiece. When,
And a step of peeling the laser processing pressure-sensitive adhesive sheet from the processed object after processing.
Figure 0004666569
前記基材として、ポリオレフィン系樹脂を含有してなるものを使用することを特徴とする請求項1または請求項2に記載のレーザー加工品の製造方法。   The method for producing a laser-processed product according to claim 1 or 2, wherein a material containing a polyolefin resin is used as the substrate. 前記被加工物としては、シート材料、回路基板、半導体ウエハ、ガラス基板、セラミック基板、金属基板、半導体レーザーの発光若しくは受光素子基板、MEMS基板、または半導体パッケージを使用することを特徴とする請求項1に記載のレーザー加工品の製造方法。   The sheet material, a circuit board, a semiconductor wafer, a glass substrate, a ceramic substrate, a metal substrate, a semiconductor laser light emitting or receiving element substrate, a MEMS substrate, or a semiconductor package is used as the workpiece. 2. A method for producing a laser-processed product according to 1. 前記被加工物としては、半導体ウエハまたは金属基板を使用することを特徴とする請求項2に記載のレーザー加工品の製造方法。   The method of manufacturing a laser processed product according to claim 2, wherein a semiconductor wafer or a metal substrate is used as the workpiece. 前記被加工物を加工する工程は、該被加工物を切断又は孔あけをする工程であることを特徴とする請求項1〜5の何れか1項に記載のレーザー加工品の製造方法。   The method for manufacturing a laser processed product according to any one of claims 1 to 5, wherein the step of processing the workpiece is a step of cutting or punching the workpiece. 請求項1〜6の何れか1項に記載のレーザー加工品の製造方法で使用されるレーザー加工用粘着シート。   A pressure-sensitive adhesive sheet for laser processing used in the method for producing a laser-processed product according to any one of claims 1 to 6.
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