JP2004322157A - Working method for work and tacky adhesive sheet used for the same - Google Patents

Working method for work and tacky adhesive sheet used for the same Download PDF

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敦司 日野
Takeshi Matsumura
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for subjecting works, such as, for example, various kinds of sheet materials, circuit boards, semiconductor wafers, glass substrates, ceramic substrates, metallic substrates, light emitting or light receiving element substrates for semiconductor lasers etc., MEMS substrates, semiconductor packages, cloth, leather, and paper, to working such as, for example, cutting and perforating. <P>SOLUTION: The method of working the works by using UV absorption abrasion of a laser includes (1) a process of sticking a tacky adhesive sheet of ≥50% in transmittance in an absorption region of a laser beam to a surface of the work opposite to the surface to be irradiated with the laser, (2) a process of working the work by irradiating the work with the laser, and (3) a process of peeling off the tacky adhesive sheet. <P>COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI

Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、例えば各種シート材料、回路基板、半導体ウエハ、ガラス基板、セラミック基板、金属基板、半導体レーザー等の発光あるいは受光素子基板、MEMS基板、半導体パッケージ、布、皮、紙などの被加工物を、レーザーを用いて例えば切断、孔あけなどの加工をする方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
最近の電気・電子機器の小型化等に伴い、部品の小型化・高精細化が進み、各種材料の外形加工も、加工精度が±50μmあるいはそれ以下の高精細・高精度化が求められてきている。 しかしながら、従来のプレス加工等の打ち抜き加工では精度がせいぜい±100μm程度で、そのような要求には対応できなくなってきているのが現状である。 また、各種材料の孔あけも、高精細・高精度化が求められており、従来のドリルや金型による孔あけでは対応が不可能となってきている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】
その解決策としてレーザーを用いた加工方法が注目されてきており、特に、熱ダメージが少なく、高精細の加工が可能であるレーザーの紫外吸収を用いた加工方法は、精密な外形加工方法や微細孔あけ方法として注目されている。 ところが一方で、レーザーを用いた場合、レーザー加工時に発生するカーボン等の分解物残渣が表面に付着し、それを除去するデスミアといわれる後工程が必須となっている。
特に、被加工物の加工テーブルに接する面(レーザー出射面)は、被加工物の分解物のみならず加工テーブル表面のレーザー照射による分解物が表面に強固に付着する。この出射面側の付着物の付着強度はレーザーのパワーに比例して強固となり、レーザーパワーを高くすると、後工程での付着物除去が困難となってくるため、レーザーの高パワー化による加工のスループット向上を妨げたり、孔の信頼性を低下させてしまうという問題があった。 また、一挙に全周を加工してしまうと、加工後に、被加工物が脱落してしまうため、ハンドリング性に難があり、加工時に一部未加工部を残すというような手法が必要であった。
【0004】
また半導体ウエハのダイシング方法として、半導体ウエハをダイシングシートに支持固定して、レーザー光線によりダイシングする方法が提案されている(特許文献1参照)。
しかし、ここで使用されているレーザー光線は、その波長が赤外域にあるYAGレーザー基本波(波長1.06μm)やルビーレーザー(同694nm)などであり、これらを使用すると加工が熱加工プロセスを経由するためにエッジ部分の熱的なダメージが大きく精度や信頼性の低下を招く上に、光を集光しても50μm程度までしか集光できないため、切りしろを大きく取る必要がでてくる。 こうした問題を回避する方法として、YAG基本波とウォータージェットとを併用する方法も提案されているが、この方法によるとエッジ部分の熱的なダメージは、ウォータージェットの冷却効果により低減されるものの、ダイシング時の切りしろの幅がウォータージェットの径で規定されるため、細い切りしろでのダイシングに限界があるという問題があった。
【0005】
【特許文献1】
特開2002−343747号公報
【0006】
【課題を解決するための手段】
本発明は、そのような事情に鑑みてなされたものであり、被加工物を高精度且つ高速に加工でき、加工部分の信頼性を向上させ、かつ加工後の被加工物の回収を容易にできる加工方法を提供することを目的とする。
すなわち、本発明は、レーザーの紫外吸収アブレーションを用いて被加工物を加工する方法であって、
(1)被加工物のレーザー照射面と反対面に、該レーザー光の吸収領域における透過率が50%以上である粘着シートを貼り付ける工程、
(2)被加工物にレーザー照射して被加工物を加工する工程、
(3)粘着シートを剥離する工程
を含むことを特徴とする被加工物の加工方法に係るものである。
【0007】
【発明の実施の形態】
本発明で用いられるレーザーは、レーザー加工時の熱的なダメージにより孔のエッジや切断壁面の精度や外見を悪くしないようにする必要ある。 そのためには、熱加工プロセスを経由しない非熱的加工である紫外光吸収によるアブレーション加工が可能で、且つ20μm以下の細い幅に集光・切断できるようなレーザーを用いることが重要であり、使用されるレーザーとしては、400nm以下の紫外吸収によるアブレーションが可能なものであることが好ましい。 具体的には、400nm以下に発振波長を持つレーザー、例えば発振波長248nmのKrFエキシマレーザーや308nmのXeClエキシマレーザー、355nmのYAGレーザーの第三高調波、同じく266nmの第四高調波、あるいは400nm以上の波長を持つレーザーであっても多光子吸収過程を経由した紫外線領域の光吸収が可能であり且つ多光子吸収アブレーションにより20μm以下の幅の切断加工が可能である波長が750nm〜800nm付近のチタンサファイヤレーザー等でパルス幅が1e−9秒(0.000000001秒)以下のレーザー等が好適である。
【0008】
本発明で加工する被加工物は、上記レーザーにより出力されたレーザー光の紫外吸収アブレーションにより加工できるものであれば特に限定されるものではなく、例えば、各種シート材料、回路基板、半導体ウエハ、ガラス基板、セラミック基板、金属基板、半導体レーザー等の発光あるいは受光素子基板、MEMS(Micro Electro Mechanical System)基板、半導体パッケージ、布、皮、紙などが挙げられる。
各種シート材料としては、例えば、ポリイミド系樹脂、ポリエステル系樹脂、エポキシ系樹脂、ウレタン系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリエチレン系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、シリコーン系樹脂、フッ素系樹脂等の高分子フィルムや不織布、それらの樹脂を延伸加工、含浸加工等により物理的あるいは光学的な機能を付与したもの、銅、アルミ、ステンレス等の金属シートあるいは、上記ポリマーシートおよび/または金属シートを直接あるいは接着剤等を介して積層したものなどが上げられる。
また回路基板としては、片面、両面あるいは多層フレキシブルプリント基板、ガラスエポキシやセラミック、金属コア基板等からなるリジッド基板、ガラスあるいはポリマー上に形成された光回路あるいは光−電気混成回路基板などが挙げられる。
【0009】
こうして準備された被加工物のレーザー照射面と反対面に、特定の粘着シートを貼り合わせる。
本発明で使用される粘着シートは、レーザー光の吸収領域における透過率が50%以上、好ましくは70%以上、さらに好ましくは90%以上である。 かかる透過率が50%未満の場合は、レーザー照射により粘着シートまでも切断や孔あけなどの加工がされてしまい、吸着板から被加工物表面への分解物残渣の強固な付着、被切断物の落下という問題がある。
【0010】
かかる粘着シートは基材上に粘着剤層が設けられてなるもので、該基材としては、ポリエステル、オレフィン系樹脂などのプラスチックフィルムやシートが挙げられるが、これらに限定されるものではない。具体的には、低密度ポリエチレン、直鎖低密度ポリエチレン、高密度ポリエチレン、延伸ポリプロピレン、非延伸ポリプロピレン、エチレン−プロピレン共重合体、エチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−(メタ)アクリル酸共重合体、エチレン−(メタ)アクリル酸エステル共重合体、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリイミド、アイオノマー、又はフッ素樹脂等からなるシートを挙げることができる。基材シートは、単層であっても、あるいは全体として切断不可能である限り複層であってもよい。 また、膜状やメッシュ状など種々の形状のものを選択することができる。
基材は、被加工物の切断の際に用いるカッターなどの切断手段に対して、切断性を特に有していなくてもよい。基材は、所定以上のエネルギー線を透過しうる材料で構成される必要があり、その透過率はレーザー光線の出力やスポット照射時間により異なるが、通常50%以上、好ましくは85%以上であればよい。
基材の厚さは、被加工物の貼合せ、被加工物の切断、切断片の剥離、回収などの各工程における操作性や作業性を損なわない範囲で適宜選択できるが、通常500μm以下、好ましくは3〜300μm程度、さらに好ましくは5〜250μm程度である。基材の表面は、例えば吸着ステージ等の隣接する層との密着性、保持性などを高めるため、慣用の表面処理、例えば、クロム酸処理、オゾン暴露、火炎暴露、高圧電撃暴露、イオン化放射線処理等の化学的または物理的処理、下塗剤(例えば、後述する粘着物質)によるコーティング処理が施されていてもよい。
【0011】
また粘着剤層としては、アクリル系やゴム系等の適宣な粘着剤を用いることができる。
かかるアクリル系ポリマーとしては、例えばメチル基やエチル基、プルピル基やイソプルピル基、n−ブチル基やt−ブチル基、イソブチル基やアミル基、イソアミル基やヘキシル基、へプチル基やシクロヘキシル基、2−エチルヘキシル基やオクチル基、イソオクチル基やノニル基、イソノニル基やデシル基、イソデシル基やウンデシル基、ラウリル基やトリデシル基、テトラデシル基やステアリル基、オクタデシル基やドデシル基の如き炭素数30以下、就中4〜18の直鎖又は分岐のアルキル基を有するアクリル酸やメタクリル酸のエステルの1種又は2種以上を成分とする重合体などが挙げられる。 また前記重合体を形成することのある他のモノマーとしては、例えばアクリル酸やメタクリル酸、カルボキシエチルアクリレートやカルボキシペンチルアクリレート、イタコン酸やマレイン酸、フマール酸やクロトン酸の如きカルボキシル基含有モノマー、あるいは無水マレイン酸や無水イタコン酸の如き酸無水物モノマー、(メタ)アクリル酸2−ヒドロキシエチルや(メタ)アクリル酸2一ヒドロキシプロピル、(メタ)アクリル酸4−ヒドロキシブチルや(メタ)アクリル酸6−ヒドロキシヘキシル、(メタ)アクリル酸8−ヒドロキシオクチルや(メタ)アクリル酸l0−ヒドロキシデシル、(メタ)アクリル酸12−ヒドロキシラウリルや(4−ヒドロキシメチルシクロヘキシル)−メチルアクリレートの如きヒドロキシル基含有モノマー、スチレンスルホン酸やアリルスルホン酸、2−(メタ)アクリルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸や(メタ)アクリルアミドプロパンスルホン酸、スルホプロピル(メタ)アクリレートや(メタ)アクリロイルオキシナフタレンスルホン酸の如きスルホン酸基含有モノマー、2一ヒドロキシエチルアクリロイルホスフェートの如き燐酸基含有モノマーが挙げられる。
【0012】
加えてアクリル系ポリマーの架橋処理等を目的に多官能モノマーなども必要に応じて共重合用のモノマー成分として用いることができる。 かかるモノマーの例としては、ヘキサンジオ一ルジ(メタ)アクリレートや(ポリ)エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、(ボリ)プロピレングリコールジ(メタ)アクリレートやネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールジ(メタ)アクリレートやトリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトール.トリ(メタ)アクリレートやジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、エポキシアクリレートやポリエステルアクリレート、ウレタンアクリレートなどが挙げられる。 多官能モノマーもl種又は2種以上を用いることができ、その使用量は、粘着特性等の点より全モノマーの30重量%以下が好ましい。なお、上記のアクリル系ポリマーが分子内に光重合性炭素−炭素二重結合を持つものであってもよい。
アクリル系ポリマーの調製は、例えばl種又は2種以上の成分モノマーの混合物に溶液重合方式や乳化重合方式、塊状重合方式や懸濁重合方式等の適宜な方式を適用して行うことができる。
【0013】
粘着剤層は、被加工物への汚染防止等の点より低分子量物質の含有を抑制した組成が好ましく、かかる点より数平均分子量が30万以上、就中40万〜300万のアクリル系ポリマーを主成分とするものが好ましいことから粘着剤は、内部架橋方式や外部架橋方式等による適宜な架橋タイプとすることもできる。
架橋タイプに使用できるオリゴマーの例には、ウレタン、(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、テトラメチロールメタンテトラ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールモノヒドロキシペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、l,4一ブチレングリコールジ(メタ)アクリレートなどが挙げられる。 また、オリゴマーの配合量は主ポリマー100重量部に対して5〜500重量部が望ましく、特に70〜150重量部が望ましい。前記の放射線硬化型の成分モノマー混合物において、紫外線等による硬化方式を採る場合に配合されることのある光重合開始剤の例としては、4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニル(2−ヒドロキシー2一プロピル)ケトンやα一ヒドロキシーα,α−メチルアセトフェノン、メトキシアセトフェノンや2,2一ジメトキシー2一フェニルアセトフェノン、2,2−ジエトキシアセトフェノンや1一ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2−メチルーl−〔4−(メチルチオ)−フエニルコー2−モルホリノプロパンーlの如きアセトフェノン系化合物、ベンゾインエチルエーテルやベンゾインイソプロピルエーテル、アニゾインメチルエーテルの如きベンゾインエーテル系化合物、2−メチルー2−ヒドロキシプロピ才フェノンの如きα−ケトール系化合物、ベンジルジメチルケタールの如きケタール系化合物、2−ナフタレンスルホニルクロリドの如き芳香族スルホニルクロリド系化合物、1−フエノン−l,l一プロパンジ才ンー2−(oーエトキシカルボニル)オキシムの如き光活性オキシム系化合物、ベンゾフェノンやベンゾイル安息香酸、3,3’−ジメチル−4−メトキシベンゾフェノンの如きベンゾフェノン系化合物、チオキサンソンや2−クロロチオキサンソン、2一メチルチオキサンソンや2,4一ジメチルチオキサンソン、イソプロピルチオキサンソンや2,4−ジクロロチオキサンソン、2,4一ジエチルチオキサンソンや2,4一ジイソプロピルチオキサンソンの如きチオキサンソン系化合物、その他、カンファーキノンやハロゲン化ケトン、アシルホスフィノキシドやアシルホスフオナートなどが挙げられる。
【0014】
前記粘着剤層の架橋密度の制御は、例えば多官能イソシアネート系化合物やエポキシ系化合物、メラミン系化合物や金属塩系化合物、金属キレート系化合物やアミノ樹脂系化合物や過酸化物などの適宜な架橋剤を介して架橋処理する方式、炭素・炭素二重結合を2個以上有する低分子化合物を混合してエネルギー線の照射等により架橋処理する方式などの適宜な方式で行うことができる。
【0015】
なお粘着剤層の厚さは、被加工物および対象となる被着体から剥離しない範囲で適宜選択できるが、通常5〜300μm程度、好ましくは10〜100μm程度、さらに好ましくは20〜50μm程度である。
また粘着剤層の接着力は、SUS304に対する常温(レーザー照射前)での接着力(90度ピール値、剥離速度300mm/分)に基づいて、20N/20mm以下、就中0.001〜10N/20mm、特に0.01〜8N/20mmが好ましい
【0016】
本発明の加工方法においては、例えば切断加工の場合、図1に示した如く被加工物1と粘着シート2を、ロールラミネーターやプレスといった公知の手段で貼り合わせて得られた被加工物−粘着シート積層体上に、所定のレーザー発振器より出力されるレーザー光3をレンズにて被加工物上に集光・照射するとともに、そのレーザー照射位置を所定の加工ライン上に沿って移動させることにより切断加工を行う。 レーザー光の移動手段としては、ガルバノスキャンあるいはX−Yステージスキャン、マスクイメージング加工といった公知のレーザー加工方法が用いられる。 レーザーの加工条件は、被加工物が完全に切断される条件であれば特に限定はされないが、粘着シートまで切断されることを回避するため、被加工物が切断される条件の2倍以内とすることが好ましい。 また、切りしろはレーザー光の集光部のビーム径を絞ることにより細くできるが、切断端面の精度を出すために
ビーム径(μm)>2×(レーザー光移動速度(μm/sec)/レーザーの繰り返し周波数(Hz))
を満たしていることが好ましい。
【0017】
また孔あけ加工の場合、図2に示した如く被加工物1と粘着シート2を、ロールラミネーターやプレスといった公知の手段で貼り合わせて得られた被加工物−粘着シート積層体上に、所定のレーザー発振器より出力されるレーザー光3をレンズにて被加工物上に集光・照射して孔を形成する。 孔は、ガルバノスキャンあるいはX−Yステージスキャン、マスクイメージングによるパンチング加工といった公知のレーザー加工方法により形成する。 レーザーの加工条件は、被加工材料のアブレーション閾値を元に最適値を決定すればよいが、粘着シートまで切断されることを回避するため、被加工物に貫通口が形成される加工条件の2倍以内とすることが好ましい。
【0018】
また、レーザー入射側に、レーザー加工性の良好なシートあるいは粘着シートを貼り合わせたり、ヘリウム、窒素、酸素等のガスをレーザー加工部に吹き付けたりすることにより、レーザー入射側の被加工物表面の残渣の除去を容易にすることも可能となりさらに好ましい。
【0019】
本発明においては、加工終了後に粘着シート2を剥離する。剥離する方法は限定されないが、剥離時に被加工物が永久変形するような応力がかからないようにすることが肝要である。 例えば紫外線照射あるいは加熱などにより粘着力が低下するような粘着剤層を有する粘着シートを用いると、加工時の保持力と剥離時の容易さを併せ持ち好ましい。
【0020】
また、半導体ウエハの切断においては、例えば特開2002−343747号公報などに記載された公知の方法で、図4の如く半導体ウエハの片面に粘着シートを貼りあわせて得られる被加工物1―粘着シート2積層体上に、粘着シート2が貼られていない側から、所定のレーザー発振器より出力されるレーザー光3をレンズにて被加工物1上に集光・照射するとともに、そのレーザー照射位置を所定の加工ライン上に沿って移動させることにより切断加工を行う。 レーザー光の移動手段としては、ガルバノスキャンあるいはX−Yステージスキャン、マスク、イメージング加工といった公知のレーザー加工方法が用いられる。 このような半導体ウエハの切断においては、個々のチップに切断後、従来より知られるダイボンダーなどの装置によりニードルと呼ばれる突き上げピンを用いてピックアップする方法、或いは、特開2001−118862号公報に示される方式など公知の方法で個々のチップをピックアップすることができる。 よって、かかる半導体ウエハの加工条件は、半導体ウエハが切断されかつ粘着シート全体は切断されない条件であれば特に限定されない。
【0021】
【実施例】
つぎに、本発明の実施例を記載して、より具体的に説明する。
実施例1
厚さが100μmのポリエチレン/ポリプロピレン/ポリエチレンの3層からなる基材上に、紫外線硬化可能なアクリル系粘着剤の溶液を塗布、乾燥して、厚さが20μmの粘着剤層を形成して粘着シートを得た。この基材の光透過率(355nm)は、80.0%であった。
なお、光透過率の測定は、測定装置としてMPS−2000(島津製作所製)を使用し、測定範囲は190nm〜800nmの範囲で行なった。 また、サンプルサイズは、適当な大きさに切断し、基材は、粘着剤が塗布・存在する側から、また粘着シートの光透過率は、粘着剤側から測定を行った(以下、同様)。
なお、用いた紫外線硬化可能なアクリル系粘着剤の溶液は、アクリル酸ブチルとアクリル酸エチルと2−ヒドロキシアクリレートとアクリル酸とを重量比60/40/4/1で共重合させてなる重量平均分子量が800,000のアクリル系ポリマ―100重量部に、光重合性化合物としてジペンタエリスリト―ルモノヒドロキシペンタアクリレ―トを90重量部、光重合開始剤として, ベンジルジメチルケタール(イルガキュア651)を5重量部配合し、これらを有機溶剤としてのトルエンに均一に溶解させてなるものである。 この粘着シートの光透過率(355nm)は、78.9%であった。
この粘着シート上に、波長355nm、平均出力5W、繰り返し周波数30kHzのYAGレーザーの第三高調波をfθレンズにより集光して、10mm/秒の速度でレーザー光を移動させても、粘着シートは切断されなかった。
【0022】
25μm厚みのポリイミドフィルムに、上記粘着シートをロールラミネーターにて貼り合わせ、ステンレス製吸着板をのせたXYステージ上に粘着シート貼りあわせ面側を吸着板面にして置き、波長355nm、平均出力5W、繰り返し周波数30kHzのYAGレーザーの第三高調波をfθレンズによりポリイミドフィルム表面に25μm径に集光して、ガルバノスキャナ−によりレーザー光を20mm/秒の速度でスキャンして、ポリイミドフィルムの切断加工を行った。 このとき、ポリイミドフィルムは切断されているが、粘着シートは切断されていないことを確認した。
その後、粘着シートを剥離してポリイミドフィルムの粘着シート貼りあわせ面(レーザー出射面)の切断端面周辺部を観察したところ、吸着板に起因する付着物は観察されなかった。
【0023】
比較例1
実施例1において、粘着シートを貼ることを除いた以外は全く同じ工程を通して、レーザー出射面側の切断端面周辺を観察すると、吸着板として使用しているガラスエポキシ板からの分解物残渣が多量に付着していた。
その後、過マンガン酸カリウム水溶液によるデスミア処理により残渣除去を試みたが、分解物残渣を完全に除去するには至らなかった。さらに、周辺部よりニッケルが検出され、ステンレスからの残渣が存在することが確認された。
【0024】
比較例2
基材の透過率が35%である軟質塩化ビニルフィルム(厚さ70μm)を使用すること以外は、実施例1と同様に粘着シートを作成した。 この粘着シートの光透過率(355nm)は、34.4%であった。
この粘着シートに実施例1と同条件でレーザー照射を行ったところ、粘着シートは切断されてしまった。
実施例1において、上記の粘着シートを使用した以外は全く同じ工程を通したところ、ポリイミドフィルムだけでなく粘着シートまで切断された。
【0025】
実施例2
厚さが100μmのポリエチレンフィルムからなる基材上に、紫外線硬化可能なアクリル系粘着剤の溶液を塗布、乾燥して、厚さが30μmの粘着剤層を形成して粘着シートを得た。この基材の光透過率(355nm)は、85.5%であった。
なお、用いた紫外線硬化可能なアクリル系粘着剤の溶液は、アクリル酸エチル50重量部、アクリル酸ブチル50重量部、2−ヒドロキシエチルアクリレート16重量部からなる配合組成物をトルエン溶液中で共重合させて、重量平均分子量500000のアクリル系ポリマ―を得、この共重合ポリマー100重量に対し、20重量部の2−メタクリロイルオキシエチルイソシアネートを付加反応させ、ポリマー分子内側鎖に炭素 −炭素二重結合を導入し(この時の側鎖の長さは原子数で13個)、このポリマー100重量部に対して、さらにポリイソシアネート系架橋剤1重量部(コロネートL)、光重合開始剤としてα−ヒドロキシケトン(イルガキュア184)3重量部を配合し、これらを有機溶剤としてのトルエンに均一に溶解させてなるものである。 この粘着シートの光透過率(355nm)は、69.7%であった。
【0026】
一方、厚さ25μmのポリイミドフィルム上に厚さ18μmの銅層を形成した2層基材に、露光・現像・エッチング工程を通して回路形成し、13μm厚のポリイミドフィルム上に15μm厚のエポキシ系接着剤層を形成したカバレイフィルムを貼りあわせて、フレキシブルプリント基板を作製した。 このフレキシブルプリント基板と上記粘着シートをロールラミネーターを用いて貼りあわせ、アルミナ製のセラミック吸着板をのせたXYステージ上に粘着シート貼りあわせ面を吸着板面にして置き、波長355nm、平均出力5W、繰り返し周波数30kHzのYAGレーザーの第三高調波をfθレンズによりポリイミドフィルム表面に25μm径に集光して、ガルバノスキャナ−によりレーザー光を20mm/秒の速度でスキャンして切断加工を行った。 このとき、フレキシブルプリント基板は切断されているが、粘着シートは切断していないことを確認した。
その後、粘着シートを剥離してフレキシブルプリント基板の粘着シート貼りあわせ面(レーザー出射面)の切断端面周辺部を観察したところ、吸着板に起因する付着物は観察されなかった。
【0027】
比較例3
厚さが80μmのポリエチレンフィルムからなる基材上に、アクリル系粘着剤の溶液を塗布、乾燥して、厚さが10μmの粘着剤層を形成した粘着シートを作成した。この基材の光透過率(355nm)は、83.6%であった。
なお、用いた紫外線硬化可能なアクリル系粘着剤の溶液は、アクリル酸メチルと2−エチルヘキシルとアクリル酸とを重量比70/30/10で共重合させてなる重量平均分子量が800,000のアクリル系ポリマ―100重量部に、光重合性化合物としてジペンタエリスリト―ルモノヒドロキシペンタアクリレ―トを100重量部、光重合開始剤として, α−アミノケトン(イルガキュア369)を5重量部配合し、これらを有機溶剤としての酢酸エチルに均一に溶解させてなるものである。
この粘着シートの光透過率(355nm)は、49.6%であった。
この粘着シートとフレキシブルプリント基板をロールラミネーターで貼りあわせ、実施例2と同じ条件で切断加工したところ、フレキシブルプリント基板のみならず、粘着シートまで切断されてしまった。 また、切断面の周辺部からは、吸着板起因と見られるアルミが検出された。
【0028】
実施例3
厚さが80μmのポリエチレンフィルムからなる基材上に、アクリル系粘着剤の溶液を塗布、乾燥して、厚さが5μmの粘着剤層を形成した粘着シートを作成した。 この基材の光透過率(355nm)は、85.5%であった。
アクリル系粘着剤の溶液は、アクリル酸2−エチルヘキシルとNーアクリロイルモルホリンとアクリル酸が70/30/3で重合されてなる重合平均分子量が1000000のアクリル系ポリマー100重量部に対して、エポキシ系架橋剤(テトラッドC、三菱瓦斯化学製)を2重量部、イソシアネート系架橋剤(コロネートL、日本ポリウレタン製)を2重量部配合し、これらを有機溶剤としてのトルエンに均一に溶解させてなるものである。
この粘着シートの光透過率(355nm)は、84.7%であった。
この粘着シートと、厚さ18μmの銅箔を貼りあわせて、ジルコニアをステンレス板上に溶射した吸着板をのせたXYステージ上に粘着シート貼りあわせ面を吸着板面にして置き、波長355nm、平均出力5W、繰り返し周波数30kHzのYAGレーザーの第三高調波をfθレンズにより銅表面に25μm径に集光して、ガルバノスキャナ−によりレーザー光を10mm/秒の速度でスキャンして切断加工を行った。このとき、銅箔は切断されているが粘着シートは切断していないことを確認した。
その後、粘着シートを剥離して銅箔の粘着シート貼りあわせ面(レーザー出射面)の切断端面周辺部を観察したところ、吸着板に起因する付着物は観察されなかった。
【0029】
実施例4
実施例1で得た粘着シートをガラスエポキシ樹脂製吸着板をのせたXYステージ上に置き、波長355nm、平均出力5W、繰り返し周波数30kHzのYAGレーザーの第三高調波をfθレンズにより20μm径に集光して、ガルバノスキャナ−によりレーザー光をスキャンしても、粘着シートには開口が形成されなかった。
【0030】
25μm厚みのポリイミドフィルムの両面に9μmの銅箔を貼り合わせた両面銅貼り基板の片面に、実施例1の粘着シートをロールラミネーターにて貼り合わせ、ガラスエポキシ樹脂製吸着板をのせたXYステージ上に粘着シート貼りあわせ面を吸着板面にして置き、波長355nm、平均出力5W、繰り返し周波数30kHzのYAGレーザーの第三高調波(355nm)をfθレンズにより両面銅貼り板表面に20μm径の大きさに集光し、ガルバノスキャナ−によりレーザー光をスキャンして100μm径のスルーホールを形成した。このとき、粘着シートは貫通していないことを確認した。この時の孔あけ速度は300孔/秒であった。
その後、粘着シートを剥離して銅貼り両面板の粘着シート貼りあわせ面(レーザー出射面)の加工孔周辺部を観察したところ、付着物は観察されなかった。
【0031】
比較例4
実施例4において、粘着シートを貼ることを除く以外は全く同じ工程を通して、レーザー出射面側の開口部周辺を観察すると、吸着板として使用しているガラスエポキシ板からの分解物残渣が多量に付着していた。
その後、過マンガン酸カリウム水溶液によるデスミア処理により残渣除去を試みたが、分解物残渣を完全に除去するには至らなかった。
【0032】
比較例5
比較例2で得た粘着シートに、実施例4と同条件でレーザー照射を行ったところ、粘着シートには100μmφの開口が形成された。
実施例4において、比較例2の粘着シートを使用した以外は全く同じ工程を通したところ、両面銅貼り板だけでなく粘着シートまで貫通口が形成され、貫通口内部にはガラスエポキシ吸着板からの分解物が付着していた。
【0033】
実施例5
実施例2で得た粘着シートを、50μm厚みのポリイミドフィルムに貼りあわせた。このシートを、ステンレス製の吸着ステージ上に粘着シート側をステージ側にして固定し、波長355nm、平均出力5W、繰り返し周波数30kHzのYAGレーザーの第三高調波をポリイミドフィルム上に集光して入射側開口径30μm、出射側(粘着シート貼りあわせ側)開口径20μmの貫通孔を形成した。このとき、粘着シートは開口していなかった。
その後、粘着シートを剥離して開口部周辺を観察したところ、出射側開口部のエッジはシャープであり、付着物も観察されず、後工程でのデスミア処理も不要であった。
【0034】
比較例6
実施例5において粘着シートを貼る工程を除く以外は全く同じ工程を通した後にレーザー加工開口部周辺を観察したところ、開口部が熱影響で盛り上がり、実用に供することができなかった。
また、デスミア処理後に開口部周辺を分析したところ、ニッケルが検出され、ステンレスからの残渣物が後処理後も残っていることが確認された。
【0035】
実施例6
厚さが80μmのポリエチレンフィルムからなる基材上に、アクリル系粘着剤の溶液を塗布、乾燥して、厚さが10μmの粘着剤層を形成した粘着シートを作成した。 この基材の光透過率(355nm)は、81.9%であった。
用いたアクリル系粘着剤の溶液は、アクリル酸2−エチルへキシルとアクリル酸メチルとアクリル酸とを重量比50/50/2で共重合させてなる重量平均分子量が600,000のアクリル系ポリマ―100重量部に、イソシアネート系架橋剤(コロネートL、日本ウレタン製)を3.5重量部、反応触媒(OL−1、東京ファインケミカル製)0.05重量部、可塑剤(アジピン酸ジブトキシエトキシエチル)15重量部配合し、これらを有機溶剤としてのトルエンに均一に溶解させてなるものである。 この粘着シートの光透過率(355nm)は、74.1%であった。
こうして得られた粘着シートを厚さ25μmのポリカーボネートフィルムに貼りあわせ、粘着シート面を下にしてステージ上に固定して、上面より波長355nm、15kHzのYAGレーザーの第三高調波をマスクを通して照射、マスクイメージング法により25μm径の開口を形成した。 そのときの被加工物上でのレーザー光のエネルギー密度は600mJ/cm2であった。 その後粘着シートを剥離後にポリカーボネートフィルムのレーザー出射側開口部の周辺部を顕微鏡観察したところ、付着物は観察されなかった。
【0036】
【発明の効果】
以上のように、本発明を用いると、レーザーによる加工時の分解物残渣、特に、被加工物を固定するステージからの分解物残渣の付着を防ぐことができ、付着物除去という後工程を大幅に簡素化でき、環境負荷低減に寄与できる上に、切断部や開口部をよりシャープに加工可能となる。 また、加工終了後に被加工物が脱落することがないため、ハンドリングも容易となる。さらに、ステージからの分解物付着を回避できることからレーザーの高パワー化によるスループットの向上を達成できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の加工方法の例を示す概略図である。
【図2】本発明の加工方法の例を示す概略図である。
【図3】本発明の加工方法の概略を示す断面図である。
【図4】本発明の加工方法の例を示す概略図である。
【符号の説明】
1 被加工物
2 粘着シート
3 レーザー光
[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention includes workpieces such as various sheet materials, circuit substrates, semiconductor wafers, glass substrates, ceramic substrates, metal substrates, light emitting or receiving element substrates such as semiconductor lasers, MEMS substrates, semiconductor packages, cloth, leather, and paper. The present invention relates to a method of processing such as cutting and drilling using a laser.
[0002]
[Prior art]
With the recent miniaturization of electrical and electronic equipment, the miniaturization of parts and high definition have progressed, and the outline processing of various materials has been required to have high precision and high accuracy with processing accuracy of ± 50 μm or less. ing. However, the conventional punching process such as press working has an accuracy of about ± 100 μm at the most, and is currently unable to meet such a requirement. Also, high-definition and high-precision are required for drilling various materials, and it has become impossible to perform drilling with conventional drills or dies.
[0003]
[Problems to be solved by the invention]
As a solution, laser processing methods have attracted attention. In particular, processing methods that use ultraviolet absorption of lasers, which have low thermal damage and are capable of high-definition processing, are precise external processing methods and fine processing methods. It is attracting attention as a drilling method. On the other hand, when a laser is used, a post-process called desmear for removing a decomposition product residue such as carbon generated during laser processing on the surface is essential.
In particular, the surface (laser emitting surface) of the workpiece that is in contact with the processing table firmly adheres to the surface of the processing table as well as the decomposition product of the processing table surface by laser irradiation. The adhesion strength of the deposit on the emission surface side becomes stronger in proportion to the power of the laser. If the laser power is increased, it will be difficult to remove the deposit in the subsequent process. There was a problem that throughput improvement was hindered or the reliability of the hole was lowered. In addition, if the entire circumference is machined all at once, the work piece will fall off after machining, which is difficult to handle and requires a method that leaves some unmachined parts during machining. It was.
[0004]
As a semiconductor wafer dicing method, a method of supporting and fixing a semiconductor wafer on a dicing sheet and dicing with a laser beam has been proposed (see Patent Document 1).
However, the laser beam used here is a YAG laser fundamental wave (wavelength 1.06 μm) or a ruby laser (694 nm) whose wavelength is in the infrared region. Therefore, the thermal damage of the edge portion is large, leading to a decrease in accuracy and reliability, and even if the light is collected, it can be collected only up to about 50 μm, so it is necessary to make a large margin. As a method for avoiding such a problem, a method using both a YAG fundamental wave and a water jet has also been proposed. According to this method, although thermal damage of the edge portion is reduced by the cooling effect of the water jet, Since the width of the cutting margin at the time of dicing is defined by the diameter of the water jet, there is a problem that there is a limit to dicing at a thin cutting margin.
[0005]
[Patent Document 1]
JP 2002-343747 A
[0006]
[Means for Solving the Problems]
The present invention has been made in view of such circumstances, and can process a workpiece with high accuracy and high speed, improve the reliability of the processed portion, and easily collect the workpiece after processing. It aims at providing the processing method which can be performed.
That is, the present invention is a method of processing a workpiece using ultraviolet absorption ablation of a laser,
(1) A step of attaching an adhesive sheet having a transmittance of 50% or more in the laser light absorption region to the surface opposite to the laser irradiation surface of the workpiece;
(2) A process of processing a workpiece by irradiating the workpiece with a laser;
(3) Step of peeling the adhesive sheet
It concerns on the processing method of the workpiece characterized by including.
[0007]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
The laser used in the present invention is required not to deteriorate the accuracy and appearance of the hole edge and the cut wall surface due to thermal damage during laser processing. For that purpose, it is important to use a laser that can be ablated by absorption of ultraviolet light, which is a non-thermal process that does not go through a thermal process, and that can focus and cut to a narrow width of 20 μm or less. The laser to be used is preferably one that can be ablated by ultraviolet absorption of 400 nm or less. Specifically, a laser having an oscillation wavelength of 400 nm or less, for example, a KrF excimer laser having an oscillation wavelength of 248 nm, a 308 nm XeCl excimer laser, a third harmonic of a 355 nm YAG laser, a fourth harmonic of 266 nm, or 400 nm or more. Titanium with a wavelength in the vicinity of 750 nm to 800 nm is capable of absorbing light in the ultraviolet region through a multiphoton absorption process and capable of cutting with a width of 20 μm or less by multiphoton absorption ablation. A laser having a pulse width of 1e-9 seconds (0.000000001 seconds) or less, such as a sapphire laser, is suitable.
[0008]
The workpiece to be processed in the present invention is not particularly limited as long as it can be processed by ultraviolet absorption ablation of the laser beam output by the laser. For example, various sheet materials, circuit boards, semiconductor wafers, glass Examples include a substrate, a ceramic substrate, a metal substrate, a light emitting or receiving element substrate such as a semiconductor laser, a MEMS (Micro Electro Mechanical System) substrate, a semiconductor package, cloth, leather, and paper.
Various sheet materials include, for example, polyimide resins, polyester resins, epoxy resins, urethane resins, polystyrene resins, polyethylene resins, polyamide resins, polycarbonate resins, silicone resins, fluorine resins, etc. Molecular film or non-woven fabric, those obtained by drawing or impregnating those resins with physical or optical functions, metal sheets such as copper, aluminum, stainless steel, or the above polymer sheets and / or metal sheets directly or The one laminated with an adhesive or the like is raised.
Examples of the circuit board include single-sided, double-sided or multilayer flexible printed boards, rigid boards made of glass epoxy, ceramic, metal core boards, etc., optical circuits formed on glass or polymers, or opto-electric hybrid circuit boards. .
[0009]
A specific pressure-sensitive adhesive sheet is bonded to the surface opposite to the laser irradiation surface of the workpiece thus prepared.
The pressure-sensitive adhesive sheet used in the present invention has a transmittance in a laser light absorption region of 50% or more, preferably 70% or more, and more preferably 90% or more. If the transmittance is less than 50%, the adhesive sheet is cut or punched by laser irradiation, and the residue of the decomposition product is firmly attached from the suction plate to the workpiece surface. There is a problem of falling.
[0010]
Such a pressure-sensitive adhesive sheet is obtained by providing a pressure-sensitive adhesive layer on a substrate, and examples of the substrate include, but are not limited to, plastic films and sheets such as polyester and olefin resin. Specifically, low density polyethylene, linear low density polyethylene, high density polyethylene, stretched polypropylene, non-stretched polypropylene, ethylene-propylene copolymer, ethylene-vinyl acetate copolymer, ethylene- (meth) acrylic acid copolymer Examples thereof include a sheet made of a polymer, an ethylene- (meth) acrylic acid ester copolymer, polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polystyrene, polycarbonate, polyimide, ionomer, or a fluororesin. The substrate sheet may be a single layer or a multilayer as long as it cannot be cut as a whole. Various shapes such as a film shape and a mesh shape can be selected.
The base material may not particularly have a cutting property with respect to a cutting means such as a cutter used for cutting the workpiece. The base material needs to be made of a material that can transmit a predetermined amount or more of energy rays, and the transmittance varies depending on the output of the laser beam and the spot irradiation time, but is usually 50% or more, preferably 85% or more. Good.
The thickness of the substrate can be appropriately selected within a range that does not impair the operability and workability in each step such as pasting of workpieces, cutting of workpieces, peeling of cut pieces, and recovery, but is usually 500 μm or less, Preferably it is about 3-300 micrometers, More preferably, it is about 5-250 micrometers. For the surface of the substrate, for example, conventional surface treatments such as chromic acid treatment, ozone exposure, flame exposure, high-voltage bombardment exposure, ionizing radiation treatment are performed in order to improve adhesion and retention with adjacent layers such as an adsorption stage. A chemical or physical treatment such as a coating or a coating treatment with a primer (for example, an adhesive substance described later) may be applied.
[0011]
As the pressure-sensitive adhesive layer, an appropriate pressure-sensitive adhesive such as acrylic or rubber can be used.
Examples of the acrylic polymer include methyl group, ethyl group, purpyl group, isopropyl group, n-butyl group, t-butyl group, isobutyl group, amyl group, isoamyl group, hexyl group, heptyl group, cyclohexyl group, 2 -30 or less carbon atoms such as ethylhexyl, octyl, isooctyl and nonyl, isononyl and decyl, isodecyl and undecyl, lauryl and tridecyl, tetradecyl and stearyl, octadecyl and dodecyl Examples thereof include polymers composed of one or more esters of acrylic acid or methacrylic acid having 4-18 linear or branched alkyl groups. Other monomers that may form the polymer include, for example, acrylic acid and methacrylic acid, carboxyethyl acrylate and carboxypentyl acrylate, itaconic acid and maleic acid, carboxyl group-containing monomers such as fumaric acid and crotonic acid, or Acid anhydride monomers such as maleic anhydride and itaconic anhydride, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 4-hydroxybutyl (meth) acrylate and (meth) acrylic acid 6 -Hydroxyhexyl, 8-hydroxyoctyl (meth) acrylate, 10-hydroxydecyl (meth) acrylate, 12-hydroxylauryl (meth) acrylate and (4-hydroxymethylcyclohexyl) -methyl acrylate Sulfones such as monomers, styrene sulfonic acid, allyl sulfonic acid, 2- (meth) acrylamide-2-methylpropane sulfonic acid, (meth) acrylamide propane sulfonic acid, sulfopropyl (meth) acrylate and (meth) acryloyloxynaphthalene sulfonic acid Examples include acid group-containing monomers and phosphoric acid group-containing monomers such as 2-hydroxyethylacryloyl phosphate.
[0012]
In addition, a polyfunctional monomer or the like can be used as a monomer component for copolymerization, if necessary, for the purpose of crosslinking the acrylic polymer. Examples of such monomers include hexanediol di (meth) acrylate, (poly) ethylene glycol di (meth) acrylate, (poly) propylene glycol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, pentaerythritol di ( (Meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, pentaerythritol. Examples include tri (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, epoxy acrylate, polyester acrylate, and urethane acrylate. As the polyfunctional monomer, one type or two or more types can be used, and the use amount thereof is preferably 30% by weight or less of the total monomers from the viewpoint of adhesive properties and the like. The acrylic polymer may have a photopolymerizable carbon-carbon double bond in the molecule.
The acrylic polymer can be prepared by applying an appropriate method such as a solution polymerization method, an emulsion polymerization method, a bulk polymerization method or a suspension polymerization method to a mixture of one or two or more component monomers.
[0013]
The pressure-sensitive adhesive layer preferably has a composition that suppresses the inclusion of a low-molecular-weight substance from the viewpoint of preventing contamination of the workpiece. From this point, an acrylic polymer having a number average molecular weight of 300,000 or more, especially 400,000 to 3,000,000 Since the main component is preferable, the pressure-sensitive adhesive can be of an appropriate crosslinking type by an internal crosslinking method, an external crosslinking method, or the like.
Examples of oligomers that can be used for the crosslinking type include urethane, (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, tetramethylolmethane tetra (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) Examples thereof include acrylate, dipentaerythritol monohydroxypenta (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, and l, 4 monobutylene glycol di (meth) acrylate. Further, the blending amount of the oligomer is desirably 5 to 500 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the main polymer, and particularly desirably 70 to 150 parts by weight. Examples of the photopolymerization initiator that may be blended in the radiation curable component monomer mixture in the case where a curing method using ultraviolet rays or the like is adopted include 4- (2-hydroxyethoxy) phenyl (2-hydroxy-2) Propyl) ketone, α-hydroxy-α, α-methylacetophenone, methoxyacetophenone, 2,2-dimethoxy-21-phenylacetophenone, 2,2-diethoxyacetophenone, 11-hydroxycyclohexyl phenylketone, 2-methyl-1- [4- Acetophenone compounds such as (methylthio) -phenylco-2-morpholinopropane-1, benzoin ether compounds such as benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether and anisoin methyl ether, and 2-methyl-2-hydroxypropionic phenone Α-ketol compounds, ketal compounds such as benzyl dimethyl ketal, aromatic sulfonyl chloride compounds such as 2-naphthalenesulfonyl chloride, 1-phenone-1, l-propanediene-2- (o-ethoxycarbonyl) oxime Photoactive oxime compounds such as benzophenone and benzoylbenzoic acid, benzophenone compounds such as 3,3′-dimethyl-4-methoxybenzophenone, thioxanthone and 2-chlorothioxanthone, 2-methylthioxanthone and 2,4 Thioxanthone compounds such as dimethylthioxanthone, isopropylthioxanthone, 2,4-dichlorothioxanthone, 2,4-diethylthioxanthone and 2,4-diisopropylthioxanthone, camphorquinone and halogenated ketones A Such as Le phosphino sulfoxide or acyl phosphine Honor bets and the like.
[0014]
The crosslink density of the pressure-sensitive adhesive layer is controlled by, for example, a suitable cross-linking agent such as a polyfunctional isocyanate compound, an epoxy compound, a melamine compound, a metal salt compound, a metal chelate compound, an amino resin compound, or a peroxide. It is possible to carry out by an appropriate method such as a method of crosslinking via a method or a method of mixing a low molecular compound having two or more carbon / carbon double bonds and crosslinking by irradiation with energy rays.
[0015]
The thickness of the pressure-sensitive adhesive layer can be appropriately selected as long as it does not peel from the workpiece and the target adherend, but is usually about 5 to 300 μm, preferably about 10 to 100 μm, more preferably about 20 to 50 μm. is there.
The adhesive strength of the pressure-sensitive adhesive layer is 20 N / 20 mm or less based on the adhesive strength (90-degree peel value, peeling speed 300 mm / min) at normal temperature (before laser irradiation) to SUS304, and in particular 0.001 to 10 N / 20 mm, particularly 0.01 to 8 N / 20 mm is preferable.
[0016]
In the processing method of the present invention, for example, in the case of cutting, the workpiece-adhesive obtained by bonding the workpiece 1 and the pressure-sensitive adhesive sheet 2 together by a known means such as a roll laminator or a press as shown in FIG. By condensing and irradiating a laser beam 3 output from a predetermined laser oscillator onto a workpiece with a lens on the sheet laminate, and moving the laser irradiation position along a predetermined processing line Perform cutting. As the laser beam moving means, a known laser processing method such as a galvano scan, an XY stage scan, or a mask imaging process is used. The laser processing conditions are not particularly limited as long as the workpiece can be completely cut, but in order to avoid cutting up to the pressure-sensitive adhesive sheet, it is within two times the conditions under which the workpiece is cut. It is preferable to do. In addition, the cutting margin can be made narrower by narrowing the beam diameter of the laser beam condensing part.
Beam diameter (μm)> 2 × (laser beam moving speed (μm / sec) / laser repetition frequency (Hz))
Is preferably satisfied.
[0017]
In the case of drilling, as shown in FIG. 2, the workpiece 1 and the adhesive sheet 2 are bonded to each other on a workpiece-adhesive sheet laminate obtained by bonding the workpiece 1 and the adhesive sheet 2 by a known means such as a roll laminator or a press. A laser beam 3 output from the laser oscillator is condensed and irradiated onto a workpiece by a lens to form a hole. The hole is formed by a known laser processing method such as galvano scan, XY stage scan, or punching by mask imaging. The laser processing condition may be determined as an optimum value based on the ablation threshold of the material to be processed. However, in order to avoid cutting to the adhesive sheet, the processing condition 2 in which a through-hole is formed in the workpiece is used. It is preferable to make it within the range.
[0018]
In addition, by laminating a sheet with good laser processability or an adhesive sheet on the laser incident side, or by blowing a gas such as helium, nitrogen, or oxygen to the laser processing part, the surface of the workpiece on the laser incident side It is further preferable that the residue can be easily removed.
[0019]
In the present invention, the pressure-sensitive adhesive sheet 2 is peeled after the processing is completed. The method of peeling is not limited, but it is important that no stress is applied so that the workpiece is permanently deformed during peeling. For example, it is preferable to use a pressure-sensitive adhesive sheet having a pressure-sensitive adhesive layer in which the pressure-sensitive adhesive strength is reduced by ultraviolet irradiation or heating, because it has both a holding power during processing and ease of peeling.
[0020]
Further, in the cutting of the semiconductor wafer, a workpiece 1-adhesive obtained by bonding a pressure-sensitive adhesive sheet to one surface of the semiconductor wafer as shown in FIG. 4 by a known method described in, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2002-343747. The laser beam 3 output from a predetermined laser oscillator is condensed and irradiated onto the workpiece 1 from the side where the adhesive sheet 2 is not pasted on the sheet 2 laminate, and its laser irradiation position Is cut along a predetermined processing line. As a laser beam moving means, a known laser processing method such as galvano scan, XY stage scan, mask, or imaging processing is used. In such cutting of a semiconductor wafer, a method of picking up using a push-up pin called a needle by a conventionally known device such as a die bonder after cutting into individual chips, or disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 2001-118862. Individual chips can be picked up by a known method such as a method. Therefore, the processing conditions for the semiconductor wafer are not particularly limited as long as the semiconductor wafer is cut and the entire adhesive sheet is not cut.
[0021]
【Example】
Next, examples of the present invention will be described in more detail.
Example 1
A UV-curable acrylic pressure-sensitive adhesive solution is applied onto a substrate composed of three layers of polyethylene / polypropylene / polyethylene with a thickness of 100 μm and dried to form a pressure-sensitive adhesive layer with a thickness of 20 μm. A sheet was obtained. The light transmittance (355 nm) of this base material was 80.0%.
The light transmittance was measured using MPS-2000 (manufactured by Shimadzu Corporation) as a measuring device, and the measurement range was 190 nm to 800 nm. The sample size was cut to an appropriate size, the substrate was measured from the side where the adhesive was applied and present, and the light transmittance of the adhesive sheet was measured from the adhesive side (the same applies hereinafter). .
The UV curable acrylic pressure-sensitive adhesive solution used was a weight average obtained by copolymerizing butyl acrylate, ethyl acrylate, 2-hydroxy acrylate, and acrylic acid at a weight ratio of 60/40/4/1. 100 parts by weight of an acrylic polymer having a molecular weight of 800,000, 90 parts by weight of dipentaerythritol monohydroxypentaacrylate as a photopolymerizable compound, and benzyldimethyl ketal (Irgacure 651) as a photopolymerization initiator 5 parts by weight, and these are uniformly dissolved in toluene as an organic solvent. The light transmittance (355 nm) of this adhesive sheet was 78.9%.
Even if the third harmonic of a YAG laser having a wavelength of 355 nm, an average output of 5 W, and a repetition frequency of 30 kHz is condensed on the pressure-sensitive adhesive sheet by an fθ lens, and the laser beam is moved at a speed of 10 mm / second, the pressure-sensitive adhesive sheet It was not cut.
[0022]
The pressure-sensitive adhesive sheet is bonded to a 25 μm-thick polyimide film with a roll laminator, and the pressure-sensitive adhesive sheet bonding surface side is placed on the XY stage on which a stainless steel suction plate is placed, with a wavelength of 355 nm, an average output of 5 W, The third harmonic of a YAG laser with a repetition rate of 30 kHz is condensed on the surface of the polyimide film by an fθ lens to a diameter of 25 μm, and the galvano scanner scans the laser light at a speed of 20 mm / second to cut the polyimide film. went. At this time, it was confirmed that the polyimide film was cut but the adhesive sheet was not cut.
Then, when the adhesive sheet was peeled off and the periphery of the cut end face of the adhesive sheet bonding surface (laser emission surface) of the polyimide film was observed, no deposits due to the adsorption plate were observed.
[0023]
Comparative Example 1
In Example 1, except for sticking the adhesive sheet, through the same process, when the periphery of the cutting end surface on the laser emission surface side was observed, a large amount of decomposition product residue from the glass epoxy plate used as the adsorption plate It was attached.
Thereafter, removal of the residue was attempted by desmear treatment with an aqueous potassium permanganate solution, but the decomposition product residue was not completely removed. Furthermore, nickel was detected from the periphery, and it was confirmed that there was a residue from stainless steel.
[0024]
Comparative Example 2
An adhesive sheet was prepared in the same manner as in Example 1 except that a soft vinyl chloride film (thickness 70 μm) having a substrate transmittance of 35% was used. The light transmittance (355 nm) of this pressure-sensitive adhesive sheet was 34.4%.
When this adhesive sheet was irradiated with a laser under the same conditions as in Example 1, the adhesive sheet was cut.
In Example 1, when the same process was performed except using said adhesive sheet, not only a polyimide film but the adhesive sheet was cut | disconnected.
[0025]
Example 2
A UV curable acrylic pressure-sensitive adhesive solution was applied onto a substrate made of a polyethylene film having a thickness of 100 μm and dried to form a pressure-sensitive adhesive layer having a thickness of 30 μm, thereby obtaining a pressure-sensitive adhesive sheet. The light transmittance (355 nm) of this base material was 85.5%.
The UV curable acrylic pressure-sensitive adhesive solution used was a copolymer composition of 50 parts by weight of ethyl acrylate, 50 parts by weight of butyl acrylate, and 16 parts by weight of 2-hydroxyethyl acrylate in a toluene solution. Thus, an acrylic polymer having a weight average molecular weight of 500,000 is obtained, 20 parts by weight of 2-methacryloyloxyethyl isocyanate is added to 100 parts by weight of the copolymer, and a carbon-carbon double bond is added to the polymer molecule inner chain. (The length of the side chain at this time is 13 in terms of the number of atoms), and with respect to 100 parts by weight of this polymer, 1 part by weight of a polyisocyanate-based crosslinking agent (Coronate L) and α- Mix 3 parts by weight of hydroxyketone (Irgacure 184) and dissolve them uniformly in toluene as an organic solvent. It become one. The light transmittance (355 nm) of this pressure-sensitive adhesive sheet was 69.7%.
[0026]
On the other hand, a circuit is formed through a process of exposure, development and etching on a two-layer base material in which a copper layer having a thickness of 18 μm is formed on a polyimide film having a thickness of 25 μm, and an epoxy adhesive having a thickness of 15 μm is formed on the polyimide film having a thickness of 13 μm. The cover film having the layer formed thereon was bonded to prepare a flexible printed board. The flexible printed circuit board and the pressure-sensitive adhesive sheet are bonded together using a roll laminator, and the pressure-sensitive adhesive sheet bonding surface is placed on the XY stage on which an alumina ceramic suction plate is placed. The wavelength is 355 nm, the average output is 5 W, The third harmonic of a YAG laser having a repetition frequency of 30 kHz was condensed on the surface of the polyimide film by an fθ lens to a diameter of 25 μm, and was cut by scanning with a galvano scanner at a speed of 20 mm / second. At this time, it was confirmed that the flexible printed circuit board was cut but the adhesive sheet was not cut.
Then, when the adhesive sheet was peeled and the periphery part of the cut end surface of the adhesive sheet bonding surface (laser emission surface) of the flexible printed circuit board was observed, no deposit due to the suction plate was observed.
[0027]
Comparative Example 3
On the base material which consists of a 80-micrometer-thick polyethylene film, the acrylic adhesive solution was apply | coated and dried, and the adhesive sheet which formed the 10-micrometer-thick adhesive layer was created. The light transmittance (355 nm) of this base material was 83.6%.
The UV curable acrylic pressure-sensitive adhesive solution used was an acrylic having a weight average molecular weight of 800,000, which was obtained by copolymerizing methyl acrylate, 2-ethylhexyl, and acrylic acid at a weight ratio of 70/30/10. 100 parts by weight of a polymer, 100 parts by weight of dipentaerythritol monohydroxypentaacrylate as a photopolymerizable compound, and 5 parts by weight of α-aminoketone (Irgacure 369) as a photopolymerization initiator, These are uniformly dissolved in ethyl acetate as an organic solvent.
The light transmittance (355 nm) of this pressure-sensitive adhesive sheet was 49.6%.
When this adhesive sheet and a flexible printed circuit board were bonded together with a roll laminator and cut under the same conditions as in Example 2, not only the flexible printed circuit board but also the adhesive sheet had been cut. In addition, aluminum that was considered to be due to the suction plate was detected from the periphery of the cut surface.
[0028]
Example 3
On the base material which consists of a 80-micrometer-thick polyethylene film, the acrylic adhesive solution was apply | coated and dried, and the adhesive sheet which formed the 5-micrometer-thick adhesive layer was created. The light transmittance (355 nm) of this base material was 85.5%.
The acrylic pressure-sensitive adhesive solution is epoxy based on 100 parts by weight of an acrylic polymer having a polymerization average molecular weight of 1,000,000 obtained by polymerization of 2-ethylhexyl acrylate, N-acryloylmorpholine and acrylic acid at 70/30/3. 2 parts by weight of a cross-linking agent (Tetrad C, manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd.) and 2 parts by weight of an isocyanate-based cross-linking agent (Coronate L, manufactured by Nippon Polyurethane) are mixed uniformly in toluene as an organic solvent. It is.
The light transmittance (355 nm) of this adhesive sheet was 84.7%.
This pressure-sensitive adhesive sheet and a 18 μm-thick copper foil are bonded together, and the pressure-sensitive adhesive sheet bonding surface is placed on an XY stage on which a suction plate obtained by spraying zirconia on a stainless steel plate is placed. The third harmonic of a YAG laser having an output of 5 W and a repetition frequency of 30 kHz was condensed on a copper surface by an fθ lens to a diameter of 25 μm, and the laser beam was scanned at a speed of 10 mm / second by a galvano scanner to perform cutting processing. . At this time, it was confirmed that the copper foil was cut but the adhesive sheet was not cut.
Then, when the adhesive sheet was peeled off and the periphery of the cut end surface of the adhesive sheet bonding surface (laser emission surface) of the copper foil was observed, no deposits due to the adsorption plate were observed.
[0029]
Example 4
The pressure-sensitive adhesive sheet obtained in Example 1 was placed on an XY stage on which a glass epoxy resin adsorption plate was placed, and the third harmonic of a YAG laser having a wavelength of 355 nm, an average output of 5 W, and a repetition frequency of 30 kHz was collected to a diameter of 20 μm by an fθ lens. Even when the light was scanned and the laser light was scanned by a galvano scanner, no opening was formed in the adhesive sheet.
[0030]
On an XY stage on which a pressure-sensitive adhesive sheet of Example 1 was bonded with a roll laminator on one side of a double-sided copper-clad substrate in which 9 μm copper foil was bonded to both sides of a 25 μm-thick polyimide film, and a glass epoxy resin adsorption plate was placed The surface of the adhesive sheet is placed on the surface of the suction plate, and the third harmonic (355 nm) of a YAG laser with a wavelength of 355 nm, an average output of 5 W, and a repetition frequency of 30 kHz is applied to the surface of the double-sided copper-clad plate with an fθ lens. Then, a laser beam was scanned by a galvano scanner to form a through hole having a diameter of 100 μm. At this time, it was confirmed that the adhesive sheet did not penetrate. The drilling speed at this time was 300 holes / second.
Thereafter, the pressure-sensitive adhesive sheet was peeled off, and the periphery of the processed hole on the pressure-sensitive adhesive sheet bonding surface (laser emission surface) of the copper-coated double-sided plate was observed, and no deposit was observed.
[0031]
Comparative Example 4
In Example 4, when the periphery of the opening on the laser emission surface side is observed through exactly the same process except that an adhesive sheet is stuck, a large amount of decomposition product residue from the glass epoxy plate used as the adsorption plate adheres. Was.
Thereafter, removal of the residue was attempted by desmear treatment with an aqueous potassium permanganate solution, but the decomposition product residue was not completely removed.
[0032]
Comparative Example 5
When the pressure-sensitive adhesive sheet obtained in Comparative Example 2 was subjected to laser irradiation under the same conditions as in Example 4, an opening of 100 μmφ was formed in the pressure-sensitive adhesive sheet.
In Example 4, the same process was performed except that the pressure-sensitive adhesive sheet of Comparative Example 2 was used. Through holes were formed up to the pressure-sensitive adhesive sheet as well as the double-sided copper-clad plate. The decomposition product of was attached.
[0033]
Example 5
The pressure-sensitive adhesive sheet obtained in Example 2 was bonded to a polyimide film having a thickness of 50 μm. This sheet is fixed on a stainless steel adsorption stage with the adhesive sheet side as the stage side, and the third harmonic of a YAG laser having a wavelength of 355 nm, an average output of 5 W, and a repetition frequency of 30 kHz is condensed on the polyimide film and incident. A through hole having a side opening diameter of 30 μm and an emission side (adhesive sheet bonding side) opening diameter of 20 μm was formed. At this time, the adhesive sheet was not opened.
Thereafter, the adhesive sheet was peeled off and the periphery of the opening was observed. As a result, the edge of the exit side opening was sharp, no deposits were observed, and desmear treatment in the subsequent process was unnecessary.
[0034]
Comparative Example 6
Except for the step of sticking an adhesive sheet in Example 5, the periphery of the laser-processed opening was observed after passing through the exact same process. As a result, the opening swelled due to the influence of heat and could not be put to practical use.
Further, when the periphery of the opening was analyzed after the desmear treatment, nickel was detected, and it was confirmed that the residue from the stainless steel remained after the post-treatment.
[0035]
Example 6
On the base material which consists of a 80-micrometer-thick polyethylene film, the acrylic adhesive solution was apply | coated and dried, and the adhesive sheet which formed the 10-micrometer-thick adhesive layer was created. The light transmittance (355 nm) of this base material was 81.9%.
The acrylic adhesive solution used was an acrylic polymer having a weight average molecular weight of 600,000 obtained by copolymerizing 2-ethylhexyl acrylate, methyl acrylate and acrylic acid in a weight ratio of 50/50/2. -To 100 parts by weight, 3.5 parts by weight of isocyanate-based crosslinking agent (Coronate L, manufactured by Nippon Urethane), 0.05 parts by weight of reaction catalyst (OL-1, manufactured by Tokyo Fine Chemical), plasticizer (dibutoxyethoxy adipate) Ethyl) 15 parts by weight are blended, and these are uniformly dissolved in toluene as an organic solvent. The light transmittance (355 nm) of this pressure-sensitive adhesive sheet was 74.1%.
The pressure-sensitive adhesive sheet thus obtained was bonded to a polycarbonate film having a thickness of 25 μm, fixed on the stage with the pressure-sensitive adhesive sheet face down, and irradiated with a third harmonic of a YAG laser having a wavelength of 355 nm and 15 kHz from the upper surface through a mask. An opening having a diameter of 25 μm was formed by a mask imaging method. At that time, the energy density of the laser beam on the workpiece was 600 mJ / cm 2. Then, when the adhesive sheet was peeled off and the peripheral part of the opening part on the laser emission side of the polycarbonate film was observed with a microscope, no deposit was observed.
[0036]
【The invention's effect】
As described above, when the present invention is used, it is possible to prevent the decomposition product residue during processing by laser, particularly the decomposition product residue from the stage for fixing the workpiece, greatly reducing the subsequent process of removing the adhesion material. In addition to being able to simplify the process, it is possible to contribute to reducing the environmental load, and it is possible to process the cut part and the opening part more sharply. Further, since the workpiece does not fall off after the processing is completed, handling becomes easy. Furthermore, since it is possible to avoid adhesion of decomposition products from the stage, it is possible to achieve an increase in throughput by increasing the power of the laser.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a schematic view showing an example of a processing method of the present invention.
FIG. 2 is a schematic view showing an example of a processing method of the present invention.
FIG. 3 is a cross-sectional view schematically showing a processing method of the present invention.
FIG. 4 is a schematic view showing an example of the processing method of the present invention.
[Explanation of symbols]
1 Workpiece
2 Adhesive sheet
3 Laser light

Claims (4)

レーザーの紫外吸収アブレーションを用いて被加工物を加工する方法であって、
(1)被加工物のレーザー照射面と反対面に、該レーザー光の吸収領域における透過率が50%以上である粘着シートを貼り付ける工程、
(2)被加工物にレーザー照射して被加工物を加工する工程、
(3)粘着シートを剥離する工程
を含むことを特徴とする被加工物の加工方法。
A method of processing a workpiece using ultraviolet absorption ablation of a laser,
(1) A step of attaching an adhesive sheet having a transmittance of 50% or more in the laser light absorption region to the surface opposite to the laser irradiation surface of the workpiece;
(2) A process of processing a workpiece by irradiating the workpiece with a laser;
(3) A method for processing a workpiece, comprising a step of peeling the pressure-sensitive adhesive sheet.
被加工物が、シート材料、回路基板、半導体ウエハ、ガラス基板、セラミック基板、金属基板、半導体レーザー等の発光あるいは受光素子基板、MEMS基板、半導体パッケージ、布、皮、紙のいずれかであることを特徴とする請求項1記載の被加工物の加工方法。The workpiece is one of a sheet material, a circuit board, a semiconductor wafer, a glass substrate, a ceramic substrate, a metal substrate, a semiconductor laser or other light emitting or receiving element substrate, a MEMS substrate, a semiconductor package, cloth, leather, or paper. The processing method of the workpiece of Claim 1 characterized by these. 加工が、切断、孔あけのいずれかであることを特徴とする請求項1又は2記載の被加工物の加工方法。3. The processing method for a workpiece according to claim 1, wherein the processing is either cutting or drilling. 請求項1〜3記載の被加工物の加工方法に使用する粘着シートであって、該レーザー光の吸収領域における透過率が50%以上である粘着シート。It is an adhesive sheet used for the processing method of the to-be-processed object of Claims 1-3, Comprising: The adhesive sheet in the absorption area | region of this laser beam is 50% or more.
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